JP2002069492A - 微粒子除去用洗浄剤組成物 - Google Patents
微粒子除去用洗浄剤組成物Info
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- JP2002069492A JP2002069492A JP2000304162A JP2000304162A JP2002069492A JP 2002069492 A JP2002069492 A JP 2002069492A JP 2000304162 A JP2000304162 A JP 2000304162A JP 2000304162 A JP2000304162 A JP 2000304162A JP 2002069492 A JP2002069492 A JP 2002069492A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被洗浄物表面に付着している微粒子に対する
洗浄性が良好な洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 ａ）有機系金属イオン封止剤：０．５〜
１５重量％ ｂ）ノニオン系界面活性剤又は／及びアニ
オン系界面活性剤：０．１〜２０重量％ ｃ）水：残部
からなる洗浄剤組成物を用いる。
洗浄性が良好な洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 ａ）有機系金属イオン封止剤：０．５〜
１５重量％ ｂ）ノニオン系界面活性剤又は／及びアニ
オン系界面活性剤：０．１〜２０重量％ ｃ）水：残部
からなる洗浄剤組成物を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明の洗浄剤は、精密部品
の固体表面に付着した微粒子の除去性に優れた効果を発
揮する。本発明において精密部品とは、磁気記録部品、
シリコンやセラミックスのウエハ等の半導体材料、水晶
振動子等の電歪用部品、ＣＤ・複写機器・光記録機器等
に用いられる光電変換部品、カメラ・メガネ・光学機器
等に用いられるレンズ等が例示される。
の固体表面に付着した微粒子の除去性に優れた効果を発
揮する。本発明において精密部品とは、磁気記録部品、
シリコンやセラミックスのウエハ等の半導体材料、水晶
振動子等の電歪用部品、ＣＤ・複写機器・光記録機器等
に用いられる光電変換部品、カメラ・メガネ・光学機器
等に用いられるレンズ等が例示される。
【０００２】
【従来の技術】従来、精密部品の固体表面に付着した微
粒子の除去には脱脂洗浄を目的としたアルカリ洗浄剤が
用いられていた。アルカリ洗浄剤はノニオン系界面活性
剤・アニオン系界面活性剤・炭酸ナトリウム・珪酸ナト
リウム・ホウ酸ナトリウム・リン酸ナトリウム・水酸化
ナトリウム・水酸化カリウム・キレート剤・防錆剤等を
適宜配合した物である。しかしながら、従来のアルカリ
洗浄剤は精密部品の固体表面に付着した微粒子をある程
度は除去できるが、精密部品の高精度化が進み、従来で
は要求されなかったレベルの微粒子の除去までは困難と
なっている。
粒子の除去には脱脂洗浄を目的としたアルカリ洗浄剤が
用いられていた。アルカリ洗浄剤はノニオン系界面活性
剤・アニオン系界面活性剤・炭酸ナトリウム・珪酸ナト
リウム・ホウ酸ナトリウム・リン酸ナトリウム・水酸化
ナトリウム・水酸化カリウム・キレート剤・防錆剤等を
適宜配合した物である。しかしながら、従来のアルカリ
洗浄剤は精密部品の固体表面に付着した微粒子をある程
度は除去できるが、精密部品の高精度化が進み、従来で
は要求されなかったレベルの微粒子の除去までは困難と
なっている。
【０００３】
【課題を解決する為の手段】本発明者らは鋭意研究を行
った結果、有機系金属イオン封止剤とノニオン系界面活
性剤又は／及びアニオン系界面活性剤を組み合わせる事
によって、精密部品の固体表面の微粒子の除去性に優れ
た洗浄剤組成物が得られる事を見出し、本発明を完成し
た。
った結果、有機系金属イオン封止剤とノニオン系界面活
性剤又は／及びアニオン系界面活性剤を組み合わせる事
によって、精密部品の固体表面の微粒子の除去性に優れ
た洗浄剤組成物が得られる事を見出し、本発明を完成し
た。
【０００４】すなわち本発明は、ａ）有機系金属イオン
封止剤：０．５〜１５重量％ ｂ）ノニオン系界面活性
剤又は／及びアニオン系界面活性剤：０．１〜２０重量
％ｃ）水：残部からなる事を特徴とする精密部品の固体
表面の微粒子の除去性に優れた洗浄剤組成物を提供する
ものである。
封止剤：０．５〜１５重量％ ｂ）ノニオン系界面活性
剤又は／及びアニオン系界面活性剤：０．１〜２０重量
％ｃ）水：残部からなる事を特徴とする精密部品の固体
表面の微粒子の除去性に優れた洗浄剤組成物を提供する
ものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明において有機系金属イオン
封止剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸（Ｅ
ＤＴＡ）、ニトリロ三酢酸（ＮＴＡ）、ヒドロキシエチ
ルエチレンジアミン三酢酸（ＨＥＤＴＡ）、ジエチレン
トリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、トリエチレンテトラミ
ン六酢酸（ＴＴＨＡ）、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸
（ＨＩＤＡ）、ジヒドロキシエチルグリシン（ＤＨＥ
Ｇ）等の塩（ナトリウム、カリウム、アミン等）が挙げ
られ、その中でもｐＨが中性〜アルカリとなるものが特
に優れた効果を発揮する。有機系金属イオン封止剤の添
加量として０．５〜１５は重量％程度、特に１〜１０重
量％が望ましい。０．５以上未満では微粒子の除去性に
効果が発現せず、一方１５％を超えると洗浄剤組成物自
身の安定性が低下するとともに１５重量％以上使用して
も効果の向上は期待できない。
封止剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸（Ｅ
ＤＴＡ）、ニトリロ三酢酸（ＮＴＡ）、ヒドロキシエチ
ルエチレンジアミン三酢酸（ＨＥＤＴＡ）、ジエチレン
トリアミン五酢酸（ＤＴＰＡ）、トリエチレンテトラミ
ン六酢酸（ＴＴＨＡ）、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸
（ＨＩＤＡ）、ジヒドロキシエチルグリシン（ＤＨＥ
Ｇ）等の塩（ナトリウム、カリウム、アミン等）が挙げ
られ、その中でもｐＨが中性〜アルカリとなるものが特
に優れた効果を発揮する。有機系金属イオン封止剤の添
加量として０．５〜１５は重量％程度、特に１〜１０重
量％が望ましい。０．５以上未満では微粒子の除去性に
効果が発現せず、一方１５％を超えると洗浄剤組成物自
身の安定性が低下するとともに１５重量％以上使用して
も効果の向上は期待できない。
【０００６】本発明においてノニオン系界面活性剤とし
ては、例えばポリオキシアルキレンアルキルエーテル、
ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシ
アルキレンアセチレングリコール、ポリオキシアルキレ
ンアルキルアミン、アルキロールアマイド等が挙げら
れ、アニオン系界面活性剤としてはスルホコハク酸塩、
スルホン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル
硫酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸
塩等が挙げられる。上記界面活性剤は１種又は２種以上
の組み合わせで使用する。
ては、例えばポリオキシアルキレンアルキルエーテル、
ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシ
アルキレンアセチレングリコール、ポリオキシアルキレ
ンアルキルアミン、アルキロールアマイド等が挙げら
れ、アニオン系界面活性剤としてはスルホコハク酸塩、
スルホン酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル
硫酸塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸
塩等が挙げられる。上記界面活性剤は１種又は２種以上
の組み合わせで使用する。
【０００７】界面活性剤の添加量としては、０．１〜２
０重量％程度、特に１〜１０重量％が望ましい。０．１
％未満では特別の効果が発現せず、一方２０重量％以上
では界面活性剤がリンス後に洗浄表面に残存して洗浄さ
れた部品特性に影響を及ぼす事がある。
０重量％程度、特に１〜１０重量％が望ましい。０．１
％未満では特別の効果が発現せず、一方２０重量％以上
では界面活性剤がリンス後に洗浄表面に残存して洗浄さ
れた部品特性に影響を及ぼす事がある。
【０００８】又、本発明洗浄剤組成物には、その効果を
損なわない範囲で必要に応じて無機ビルダー、グリコー
ルエーテル等を配合しても良い。
損なわない範囲で必要に応じて無機ビルダー、グリコー
ルエーテル等を配合しても良い。
【０００９】本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のう
ち、精密研磨後の部品に対して好適な性能を発揮する
が、本発明の対象となる精密部品は磁気記録部品、シリ
コンやセラミックスのウエハ等の半導体材料、水晶振動
子等の電歪用部品、ＣＤ・複写機器・光記録機器等に用
いられる光電変換部品、カメラ・メガネ・光学機器等に
用いられるレンズ等の例に限られるものではなく、製品
の特性を低下させる汚染成分が付着している一定形状の
固体表面を持つ精密部品であれば、本発明の洗浄剤組成
物が適用できる。これらの汚染物質が固体砥粒、例え
ば、ダイヤモンド・窒化ホウ素・炭化珪素・アルミナ・
酸化ジルコニウム・酸化セリウム・酸化クロム・酸化マ
グネシウム・炭酸カルシウム・炭酸バリウム・コロイダ
ルシリカ・二酸化チタン等である場合、本発明の洗浄剤
組成物が特に有効である。又、汚染物質として油脂・切
削油・機械油・グリース等が存在していても本発明の洗
浄剤組成物を適用する事が出来る。
ち、精密研磨後の部品に対して好適な性能を発揮する
が、本発明の対象となる精密部品は磁気記録部品、シリ
コンやセラミックスのウエハ等の半導体材料、水晶振動
子等の電歪用部品、ＣＤ・複写機器・光記録機器等に用
いられる光電変換部品、カメラ・メガネ・光学機器等に
用いられるレンズ等の例に限られるものではなく、製品
の特性を低下させる汚染成分が付着している一定形状の
固体表面を持つ精密部品であれば、本発明の洗浄剤組成
物が適用できる。これらの汚染物質が固体砥粒、例え
ば、ダイヤモンド・窒化ホウ素・炭化珪素・アルミナ・
酸化ジルコニウム・酸化セリウム・酸化クロム・酸化マ
グネシウム・炭酸カルシウム・炭酸バリウム・コロイダ
ルシリカ・二酸化チタン等である場合、本発明の洗浄剤
組成物が特に有効である。又、汚染物質として油脂・切
削油・機械油・グリース等が存在していても本発明の洗
浄剤組成物を適用する事が出来る。
【００１０】本発明の洗浄剤組成物は浸漬法、超音波洗
浄法、揺動法、スクラブ洗浄法等の各種洗浄方式におい
て使用できる。以下に実施例を挙げて本発明を更に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
浄法、揺動法、スクラブ洗浄法等の各種洗浄方式におい
て使用できる。以下に実施例を挙げて本発明を更に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
【００１１】
【実施例】実施例１ ＥＤＴＡ・４Ｎａ・４Ｈ２Ｏ：１０ｇ、（ＥＯ）１０ノ
ニルフェニルエーテル：３ｇ、（ＥＯ）３ラウリルエー
テル硫酸ナトリウム：３ｇを水８４ｇ中に添加し、室温
にて攪拌し洗浄剤組成物を配合し、以下の試験を行なっ
た。その結果を表１に示す。ＥＯはオキシエチレンを表
わす。 （）の後ろの数字はモル数を表わす。
ニルフェニルエーテル：３ｇ、（ＥＯ）３ラウリルエー
テル硫酸ナトリウム：３ｇを水８４ｇ中に添加し、室温
にて攪拌し洗浄剤組成物を配合し、以下の試験を行なっ
た。その結果を表１に示す。ＥＯはオキシエチレンを表
わす。 （）の後ろの数字はモル数を表わす。
【００１２】実施例２ ＮＴＡ・３Ｎａ・３Ｈ２Ｏ：１０ｇ、 （ＥＯ）８ラウ
リルエーテル：５ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム：２ｇを
水８３ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄剤組成物を配
合し、実施例１同様の評価を行った。その結果を表１に
示す。 実施例３ ＥＤＴＡ・Ｈ・３Ｎａ・３Ｈ２Ｏ：５ｇ、 （ＥＯ）
１０ノニルフェニルエーテル：３ｇ、 （ＥＯ）１５ラ
ウリルアミン：３ｇ、 （ＥＯ）３ラウリルエーテル硫
酸ナトリウム：３ｇ、メタケイ酸ナトリウム：２ｇを水
８４ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄剤組成物を配合
し、実施例１同様の評価を行った。その結果を表１に示
す。 実施例４ ＴＴＨＡ・６Ｎａ・６Ｈ２Ｏ：５ｇ、 （ＥＯ）８ラウ
リルエーテル：３ｇ、（ＥＯ）３ラウリルエーテル硫酸
ナトリウム：３ｇ、 ピロリン酸カリウム：３ｇを水８
６ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄剤組成物を配合
し、実施例１同様の評価を行った。その結果を表１に示
す。 実施例５ ＮＴＡ・３Ｎａ・３Ｈ２Ｏ：５ｇ、 （ＥＯ）８ラウリ
ルエーテル：５ｇ、メタケイ酸ナトリウム：５ｇ、ＫＯ
Ｈ：３ｇを水８２ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄剤
組成物を配合し、実施例１同様の評価を行った。その結
果を表１に示す。
リルエーテル：５ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム：２ｇを
水８３ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄剤組成物を配
合し、実施例１同様の評価を行った。その結果を表１に
示す。 実施例３ ＥＤＴＡ・Ｈ・３Ｎａ・３Ｈ２Ｏ：５ｇ、 （ＥＯ）
１０ノニルフェニルエーテル：３ｇ、 （ＥＯ）１５ラ
ウリルアミン：３ｇ、 （ＥＯ）３ラウリルエーテル硫
酸ナトリウム：３ｇ、メタケイ酸ナトリウム：２ｇを水
８４ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄剤組成物を配合
し、実施例１同様の評価を行った。その結果を表１に示
す。 実施例４ ＴＴＨＡ・６Ｎａ・６Ｈ２Ｏ：５ｇ、 （ＥＯ）８ラウ
リルエーテル：３ｇ、（ＥＯ）３ラウリルエーテル硫酸
ナトリウム：３ｇ、 ピロリン酸カリウム：３ｇを水８
６ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄剤組成物を配合
し、実施例１同様の評価を行った。その結果を表１に示
す。 実施例５ ＮＴＡ・３Ｎａ・３Ｈ２Ｏ：５ｇ、 （ＥＯ）８ラウリ
ルエーテル：５ｇ、メタケイ酸ナトリウム：５ｇ、ＫＯ
Ｈ：３ｇを水８２ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄剤
組成物を配合し、実施例１同様の評価を行った。その結
果を表１に示す。
【００１３】比較例１ （ＥＯ）１０ノニルフェニルエーテル：５ｇ、 （Ｅ
Ｏ）３ラウリルエーテル硫酸ナトリウム：５ｇ、メタケ
イ酸ナトリウム：５ｇを水８５ｇ中に添加し、室温にて
攪拌し洗浄剤組成物を配合し、実施例１同様の評価を行
った。その結果を表１に示す。 比較例２ ＮＴＡ・３Ｎａ・３Ｈ２Ｏ：１０ｇ、メタケイ酸ナトリ
ウム：５ｇを水８５ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄
剤組成物を配合し、実施例１同様の評価を行った。その
結果を表１に示す。 比較例３ ＥＤＴＡ・４Ｎａ・４Ｈ２Ｏ：２０ｇ、 （ＥＯ）８ラ
ウリルエーテル：５ｇを水７５ｇ中に添加し、室温にて
攪拌し洗浄剤組成物を配合し、実施例１同様の評価を行
った。その結果を表１に示す。
Ｏ）３ラウリルエーテル硫酸ナトリウム：５ｇ、メタケ
イ酸ナトリウム：５ｇを水８５ｇ中に添加し、室温にて
攪拌し洗浄剤組成物を配合し、実施例１同様の評価を行
った。その結果を表１に示す。 比較例２ ＮＴＡ・３Ｎａ・３Ｈ２Ｏ：１０ｇ、メタケイ酸ナトリ
ウム：５ｇを水８５ｇ中に添加し、室温にて攪拌し洗浄
剤組成物を配合し、実施例１同様の評価を行った。その
結果を表１に示す。 比較例３ ＥＤＴＡ・４Ｎａ・４Ｈ２Ｏ：２０ｇ、 （ＥＯ）８ラ
ウリルエーテル：５ｇを水７５ｇ中に添加し、室温にて
攪拌し洗浄剤組成物を配合し、実施例１同様の評価を行
った。その結果を表１に示す。
【００１４】評価方法 （１）洗浄性 ３．５インチのＮｉ−Ｐメッキアルミハードディスク基
板にアルミナスラリーを全体に塗布する。このテストピ
ースを３０℃に保った３％ａｑの洗浄剤に浸漬し、超音
波で３分間洗浄した。洗浄後、３０℃の純水に浸漬し、
超音波で１分間リンスした。洗浄・リンス後、顕微鏡に
よりそのアルミナ砥粒の除去性を評価した。 （評価基準） ◎：完全除去 ○：９０％以上除去 △：５０％以上除去 ×：５０％以下
板にアルミナスラリーを全体に塗布する。このテストピ
ースを３０℃に保った３％ａｑの洗浄剤に浸漬し、超音
波で３分間洗浄した。洗浄後、３０℃の純水に浸漬し、
超音波で１分間リンスした。洗浄・リンス後、顕微鏡に
よりそのアルミナ砥粒の除去性を評価した。 （評価基準） ◎：完全除去 ○：９０％以上除去 △：５０％以上除去 ×：５０％以下
【００１５】（２）原液安定性 調製した洗浄剤組成物を室温にて１ケ月放置し、外観を
評価した。 （評価基準） ○：安定 ×：分離
評価した。 （評価基準） ○：安定 ×：分離
【００１６】
【表１】
【００１７】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、精密部品固体
表面の微粒子の除去性に優れた洗浄剤として有用なもの
である。
表面の微粒子の除去性に優れた洗浄剤として有用なもの
である。
Claims (1)
- 【請求項１】 ａ）有機系金属イオン封止剤：０．５〜
１５重量％ ｂ）ノニオン系界面活性剤又は／及びアニ
オン系界面活性剤：０．１〜２０重量％ ｃ）水：残部
からなる洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000304162A JP2002069492A (ja) | 2000-08-30 | 2000-08-30 | 微粒子除去用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000304162A JP2002069492A (ja) | 2000-08-30 | 2000-08-30 | 微粒子除去用洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002069492A true JP2002069492A (ja) | 2002-03-08 |
Family
ID=18785248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000304162A Pending JP2002069492A (ja) | 2000-08-30 | 2000-08-30 | 微粒子除去用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002069492A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009040828A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | ウエハ又は板状物の洗浄剤組成物 |
| JP2012177055A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Sanyo Chem Ind Ltd | 電子材料用洗浄剤 |
| JP2015117276A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 第一工業製薬株式会社 | 洗浄剤組成物 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04252299A (ja) * | 1991-01-29 | 1992-09-08 | Lion Corp | 液晶セル用水系液体洗浄剤組成物 |
| JPH05230499A (ja) * | 1992-02-19 | 1993-09-07 | Yokohama Yushi Kogyo Kk | 車輛塗装面の水垢洗浄剤 |
| JPH11116984A (ja) * | 1997-10-21 | 1999-04-27 | Kao Corp | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
| JP2001217215A (ja) * | 2000-02-03 | 2001-08-10 | Nec Corp | 半導体基板の表面処理用組成物および表面処理方法 |
-
2000
- 2000-08-30 JP JP2000304162A patent/JP2002069492A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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| JPH04252299A (ja) * | 1991-01-29 | 1992-09-08 | Lion Corp | 液晶セル用水系液体洗浄剤組成物 |
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| JP2012177055A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Sanyo Chem Ind Ltd | 電子材料用洗浄剤 |
| JP2015117276A (ja) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 第一工業製薬株式会社 | 洗浄剤組成物 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070824 |
|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101116 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110405 |