JP2002055225A - Optical filter, front plate and picture display device using the same - Google Patents
Optical filter, front plate and picture display device using the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、可視光を吸収する
可視フィルター層(以下、単に「フィルター層」ともい
う。)、ハードコートを施した透明支持体、および低屈
折率層を有し、フィルター自体の色が無彩色化された光
学フィルターに関する。本発明は、詳しくは、液晶表示
装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PD
P)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表示管、電界放
射型ディスプレイのような画像表示装置の表示に好まし
く用いられる、反射防止および色再現性改良のために取
り付け、優れた耐擦傷性、表面硬度を有し、フィルター
自体の色が無彩色化された光学フィルターに関する。さ
らに詳しくは、本発明は、反射防止および色再現性を改
良し、優れた耐擦傷性、表面硬度を有し、フィルター自
体の色が無彩色化された光学フィルターを備えたプラズ
マディスプレイパネル(PDP)前面板およびPDP本
体等の画像表示装置に関する。[0001] The present invention relates to a visible filter layer for absorbing visible light (hereinafter, also simply referred to as a "filter layer"), a transparent support provided with a hard coat, and a low refractive index layer. The present invention relates to an optical filter having an achromatic color. More specifically, the present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PD).
P), electroluminescence display (EL
D), which is preferably used for the display of an image display device such as a cathode ray tube display (CRT), a fluorescent display tube, and a field emission display, is mounted for antireflection and improved color reproducibility, and has excellent scratch resistance; The present invention relates to an optical filter having a surface hardness and an achromatic color of the filter itself. More specifically, the present invention relates to a plasma display panel (PDP) comprising an optical filter having improved antireflection and color reproducibility, excellent scratch resistance and surface hardness, and an achromatic color of the filter itself. The present invention relates to an image display device such as a front panel and a PDP body.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、多種の画像表示装置(ディスプレ
イ)、例えば、液晶表示装置(LCD)、プラズマディ
スプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイの開発とこれらを
組み込んだ機器が実用化されている。これらの画像表示
装置は、様々な問題、例えば、表示素子の色純度や色分
離が不十分な問題、ディスプレイ上に背景が映り込むこ
とでコントラストが低下する問題、表示素子に起因する
赤外線や電磁波の外部漏洩の問題等を抱えている。これ
らのそれぞれの問題に対しては、例えば、色分離のため
の可視フィルター、反射防止膜、赤外線遮蔽フィルタ
ー、電磁波遮蔽フィルター等をディスプレイの前面に用
いることが提案されている。しかしながら、これらの各
フィルターはそれぞれがディスプレイの種類により多様
な課題を要求される。例えば色分離のための可視フィル
ターは、表示素子の特性に応じたシャープな吸収体を形
成する必要があり、これ以外にもガラス練り込み等の耐
熱化、物理性強化が求められる。また反射防止膜は、可
視光の全領域で理想的な反射率を得るためには多層化が
必要となり、蒸着法や塗布法で多層膜を形成するには工
程上の困難さやコスト高の問題を伴う。さらに、反射防
止膜の支持体としてプラスチックフイルムを用いた場合
には、表面に傷を付きにくくするためにハードコート処
理を施すことが求められる。従って、ディスプレイの前
面に置く光学フィルターに多くの機能を持たせようとす
ると、それぞれの機能のフィルターに要求される特性の
ほかに、1つの機能が他の機能を妨げてはならないとい
う制約が生じる。そのため、多機能の光学フィルターは
未だ実用には到っていない。2. Description of the Related Art In recent years, various types of image display devices (displays) such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), a cathode ray tube display (CRT),
Fluorescent display tubes and field emission displays have been developed and devices incorporating them have been put into practical use. These image display devices have various problems, for example, a problem that the color purity and color separation of the display element are insufficient, a problem that the background is reflected on the display to reduce the contrast, and a problem that infrared and electromagnetic waves caused by the display element are present. Have the problem of external leakage. For each of these problems, it has been proposed to use, for example, a visible filter for color separation, an antireflection film, an infrared shielding filter, an electromagnetic wave shielding filter, etc. on the front surface of the display. However, each of these filters requires various problems depending on the type of display. For example, a visible filter for color separation needs to form a sharp absorber in accordance with the characteristics of the display element. In addition to this, heat resistance such as kneading glass or the like, and enhancement of physical properties are required. In addition, antireflection coatings need to be multilayered in order to obtain an ideal reflectance in the entire visible light range. Accompanied by Further, when a plastic film is used as a support of the antireflection film, it is required to perform a hard coat treatment so that the surface is hardly damaged. Therefore, if an optical filter placed in front of a display is to have many functions, in addition to the characteristics required for each function filter, there is a restriction that one function must not interfere with another function. . Therefore, multifunctional optical filters have not yet been put to practical use.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】多機能の光学フィルタ
ーを開発するにあたっては、組合わせる機能に応じた種
々の課題を解決する必要がある。1つの例として、反射
防止機能と、色補正のための可視フィルターを組合わせ
る場合を例として説明する。反射防止膜を構成している
部材、例えば透明支持体あるいはハードコート層を着色
することにより可視フィルターの機能をも持たせる試み
が以前より行われている。しかしながら、この場合には
透明支持体やハードコート層に添加できる染料や顔料
は、種類が非常に限られる。その理由としては、透明支
持体は、通常はプラスチックから製造されることが多
く、またはガラスからも製造される。そのため、透明支
持体に添加する染料や顔料には、支持体の製造時の温度
に耐えられる程度の非常に高い耐熱性が要求される。一
方ハードコート層は、一般に架橋しているポリマーを含
む層である。ポリマーの架橋反応は、層の塗布後に加熱
したり光等を照射したりして実施する。この架橋のため
の反応条件では退色してしまう染料や顔料が多いなどの
理由による。さらに色補正に使用する染料または顔料に
は、画像表示装置の種類に応じて、様々な吸収スペクト
ル特性が要求される。上記の理由で色補正に使用する染
料や顔料の種類が限られると、適切な補正を行うことが
難しくなる。また別の問題として、支持体にプラスチッ
クを用いた場合表面を傷つきにくくするためにハードコ
ート処理を施す必要があるが、従来のハードコートフイ
ルムは、そのハードコート層の硬度が不十分であったこ
と、また、その塗膜厚みが薄いことに起因して、下地の
プラスチック基材フイルムが変形した場合に、それに応
じてハードコート層も変形し、ハードコートフイルム全
体としての硬度は低下してしまうため、十分に満足でき
るものではなかった。例えば、プラスチック透明支持体
として広く利用されているポリエチレンテレフタレート
フイルム上に、紫外線硬化型塗料を3〜15μmの厚み
で塗工したハードコートフイルムにおいては、鉛筆硬度
で3Hレベルが一般的であり、ガラスの鉛筆硬度である
9Hには全く及ばないものである。In developing a multifunctional optical filter, it is necessary to solve various problems depending on the functions to be combined. As an example, a case will be described as an example in which an anti-reflection function is combined with a visible filter for color correction. Attempts have previously been made to impart the function of a visible filter by coloring a member constituting the antireflection film, for example, a transparent support or a hard coat layer. However, in this case, the types of dyes and pigments that can be added to the transparent support and the hard coat layer are very limited. The reason for this is that the transparent support is usually usually made of plastic, or even of glass. Therefore, dyes and pigments added to the transparent support are required to have extremely high heat resistance enough to withstand the temperature during the production of the support. On the other hand, the hard coat layer is generally a layer containing a crosslinked polymer. The crosslinking reaction of the polymer is performed by heating or irradiating light or the like after the application of the layer. This is because there are many dyes and pigments that fade under the reaction conditions for the crosslinking. Furthermore, dyes or pigments used for color correction are required to have various absorption spectrum characteristics depending on the type of image display device. If the types of dyes and pigments used for color correction are limited for the above reasons, it is difficult to perform appropriate correction. As another problem, when a plastic is used for the support, it is necessary to perform a hard coat treatment in order to make the surface hard to be damaged, but the hardness of the hard coat layer of the conventional hard coat film was insufficient. In addition, when the base plastic base film is deformed due to the thinness of the coating film, the hard coat layer is also deformed accordingly, and the hardness of the entire hard coat film is reduced. Therefore, it was not fully satisfactory. For example, in a hard coat film in which an ultraviolet curable paint is applied to a thickness of 3 to 15 μm on a polyethylene terephthalate film widely used as a plastic transparent support, a pencil hardness of 3H is generally used, and 9H, which is a pencil hardness of no.
【0004】一方、硬度が不充分であってもハードコー
ト層の厚みを単に厚くすれば、得られたハードコートフ
イルムの硬度は向上するが、ハードコート層の割れや剥
がれが生じやすくなると同時に硬化収縮によるハードコ
ートフイルムのカールが大きくなるという問題がある。
このため従来の技術では、実用上使用できる良好な特性
を有するハードコートフイルムを得ることは困難であっ
た。[0004] On the other hand, if the thickness of the hard coat layer is simply increased even if the hardness is insufficient, the hardness of the obtained hard coat film is improved. There is a problem that curling of the hard coat film due to shrinkage increases.
For this reason, it has been difficult to obtain a hard coat film having good characteristics that can be practically used by the conventional technique.
【0005】上記染料または顔料に関する制約を避ける
ため、着色層を透明支持体やハードコート層ではなく、
穏和な条件で形成できるポリマー層に染料や顔料を添加
し、独立の可視フィルター層として設けることが容易に
考えられる。しかしこの着色ポリマー層は、透明支持体
(プラスチックまたはガラス)や反射防止膜中の低屈折
率層との親和性が低く、剥離等の故障を起こしやすい欠
点がある。また、これとは別に画像表示装置を色補正す
るための可視フィルター層自身が着色して見え、画像の
視認性に劣る、色補正が十分でない、画像を表示してい
ない時の画面の色が好まれない等の問題があり無彩色化
した可視フィルターが望まれていた。このように、多機
能の光学フィルターは、その材料に制約があることと、
各機能のフィルター層の配列を工夫することが必要であ
る。従って、本発明の目的は、製造適性に優り、かさば
らず軽く、それ自身は無彩色で色補正機能に優れ、透明
支持体の変形による活性エネルギー線硬化フイルムの硬
度低下を抑制し、鉛筆硬度試験における硬度が4H以上
であるハードコート層を有し、表面が傷つきにくい、多
機能の光学フィルターおよびこれを用いた前面板ならび
に画像表示装置を提供することである。In order to avoid the above-mentioned restrictions on dyes or pigments, the colored layer is not made of a transparent support or a hard coat layer,
It is easily conceivable to add a dye or a pigment to the polymer layer that can be formed under mild conditions and provide it as an independent visible filter layer. However, this colored polymer layer has a low affinity with a transparent support (plastic or glass) or a low refractive index layer in an antireflection film, and has a disadvantage that it easily causes a failure such as peeling. Also, separately from this, the visible filter layer itself for color correction of the image display device appears to be colored, and the visibility of the image is poor, the color correction is not sufficient, and the color of the screen when no image is displayed is changed. An achromatic visible filter has been desired because of problems such as being unfavorable. In this way, the multifunctional optical filter is limited in its material,
It is necessary to devise the arrangement of the filter layers for each function. Accordingly, an object of the present invention is to provide excellent suitability for production, light weight without being bulky, itself to be achromatic and excellent in color correction function, to suppress a decrease in hardness of an active energy ray-cured film due to deformation of a transparent support, and to carry out a pencil hardness test. It is an object of the present invention to provide a multifunctional optical filter having a hard coat layer having a hardness of 4H or more and having a hardly damaged surface, a front plate using the same, and an image display device.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の上記の課題は、
下記の項1)ないし項13)に記載の光学フィルターお
よび項15)に記載の前面板ならびに項14)および項
16)に記載の画像表示装置により達成された。以下に
好ましい実施態様と共に列挙する。 1)1層又は2層以上から成る透明支持体と、染料また
は顔料およびバインダーからなる可視フィルター層、活
性エネルギー線重合性樹脂層からなるハードコート層を
有し、該ハードコート層を設けた面の透明支持体の表面
弾性率が4GPa以上15GPa以下であることを特徴
とする光学フィルター。 2)該ハードコート層を設けた面の透明支持体が1nm
以上400nm以下の無機微粒子を10質量%以上60
質量%以下含むポリエステルフイルムである項1)に記
載の光学フィルター。 3)該ハードコート層を設けた面の透明支持体が1nm
以上400nm以下の無機微粒子を10質量%以上60
質量%以下含む層(B層)をポリエステル支持体(A層)
の少なくとも片面に積層したフイルムである項1)又は
2)に記載の光学フィルター。 4)該ハードコート層を設けた透明支持体の全層厚み
(A層の厚みとB層の厚みの和)が50μm以上300
μm以下であり、かつB層の厚みが1μm以上100μm
以下である項3)に記載の光学フィルター。 5)該ポリエステルフイルムがポリエチレンテレフタレ
ート系樹脂またはポリエチレンナフタレート系樹脂から
なる項1)ないし4)いずれか1つに記載の光学フィル
ター。 6)該活性エネルギー線重合性樹脂層がモース硬度が6
以上、粒子サイズが1nm以上400nm以下の無機微
粒子を含有する項1)ないし5)いずれか1つに記載の
光学フィルター。 7)該活性エネルギー線重合性樹脂層が無機微粒子およ
び多官能アクリレート化合物の架橋によって得られたバ
インダーポリマーからなり、該無機微粒子が少なくとも
酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化
ジルコニウムのいずれか1つを含有する項1)ないし
6)いずれか1つに記載の光学フィルター。 8)該活性エネルギー線重合性樹脂層に含まれる無機微
粒子が表面処理されており、該表面処理が活性エネルギ
ー線硬化基とリン酸基、スルホン酸基、カルボン酸基の
いずれかのアニオン性官能基を有する有機化合物である
か、またはアルミニウム、チタニウム、ジルコニウムの
いずれか一種以上を含む有機金属化合物によるものであ
る項1)ないし7)いずれか1つに記載の光学フィルタ
ー。 9)該可視フィルター層が560ないし620nmの波
長範囲に透過率が0.01ないし50%の吸収極大を有
する項1)ないし8)いずれか1つに記載の光学フィル
ター。 10)該可視フィルター層が560ないし620nmの
波長範囲に透過率が0.01ないし50%の吸収極大を
有し、380ないし440nmの波長範囲における平均
透過率が70%以下である項1)ないし9)いずれか1
つに記載の光学フィルター。 11)該可視フィルター層が500ないし550nmの
波長範囲に透過率が20ないし85%の吸収極大を、5
60ないし620nmの波長範囲に透過率が0.01な
いし50%の吸収極大を有する項1)ないし10)いず
れか1つに記載の光学フィルター。 12)該可視フィルター層が500ないし550nmの
波長範囲に透過率が20ないし85%の吸収極大を、5
60ないし620nmの波長範囲に透過率が0.01な
いし50%の吸収極大を、それぞれ有し、380ないし
440nmの波長範囲における平均透過率が70%以下
である項1)ないし11)いずれか1つに記載の光学フ
ィルター。 13)該可視フィルター層が460ないし500nmの
波長範囲および500ないし550nmの波長範囲にい
ずれも透過率が20ないし85%の吸収極大を、560
ないし620nmの波長範囲に透過率が0.01ないし
50%の吸収極大をそれぞれ有し、380ないし440
nmの波長範囲における平均透過率が70%以下である
項1)ないし12)いずれか1つに記載の光学フィルタ
ー。 14)項1)ないし13)いずれか1つに記載の光学フ
ィルターを用いた画像表示装置。 15)項1)ないし13)いずれか1つに記載の光学フ
ィルターを用いたプラズマディスプレイパネルの前面
板。 16)プラズマディスプレイパネルである項14)記載
の画像表示装置。SUMMARY OF THE INVENTION The above-mentioned object of the present invention is as follows.
This has been achieved by the optical filter described in the following items 1) to 13), the front plate described in the item 15), and the image display device described in the items 14) and 16). Listed below are preferred embodiments. 1) A surface having a transparent support composed of one or two or more layers, a visible filter layer composed of a dye or pigment and a binder, and a hard coat layer composed of an active energy ray polymerizable resin layer, on which the hard coat layer is provided An optical filter, wherein the transparent support has a surface elastic modulus of 4 GPa or more and 15 GPa or less. 2) The transparent support on the surface provided with the hard coat layer has a thickness of 1 nm.
10% by mass or more of 60 to 400 nm or less of inorganic fine particles.
Item 1. The optical filter according to Item 1), which is a polyester film containing not more than mass%. 3) The transparent support on the surface provided with the hard coat layer has a thickness of 1 nm.
10% by mass or more of 60 to 400 nm or less of inorganic fine particles.
A polyester support (layer A) containing a layer (layer B) containing less than 10% by mass
Item 1. The optical filter according to item 1) or 2), wherein the film is a film laminated on at least one surface. 4) The total thickness of the transparent support provided with the hard coat layer (sum of the thickness of the layer A and the thickness of the layer B) is 50 μm or more and 300 or more.
μm or less, and the thickness of the B layer is 1 μm or more and 100 μm or more.
The optical filter according to item 3) below. 5) The optical filter according to any one of 1) to 4), wherein the polyester film is made of a polyethylene terephthalate resin or a polyethylene naphthalate resin. 6) The active energy ray polymerizable resin layer has a Mohs hardness of 6
As described above, the optical filter according to any one of Items 1) to 5), which contains inorganic fine particles having a particle size of 1 nm to 400 nm. 7) The active energy ray-polymerizable resin layer is composed of a binder polymer obtained by crosslinking inorganic fine particles and a polyfunctional acrylate compound, and the inorganic fine particles are at least one of aluminum oxide, silicon dioxide, titanium dioxide, and zirconium oxide. The optical filter according to any one of Items 1) to 6), comprising: 8) The inorganic fine particles contained in the active energy ray polymerizable resin layer are subjected to a surface treatment, and the surface treatment is performed by an active energy ray curing group and an anionic functional group selected from a phosphoric acid group, a sulfonic acid group and a carboxylic acid group. Item 1. The optical filter according to any one of Items 1) to 7), wherein the optical filter is an organic compound having a group or an organic metal compound containing at least one of aluminum, titanium, and zirconium. 9) The optical filter according to any one of items 1) to 8), wherein the visible filter layer has an absorption maximum having a transmittance of 0.01 to 50% in a wavelength range of 560 to 620 nm. 10) The visible filter layer has an absorption maximum of 0.01 to 50% in a wavelength range of 560 to 620 nm and an average transmittance of 70% or less in a wavelength range of 380 to 440 nm. 9) Any one
An optical filter according to any one of the above. 11) The visible filter layer has an absorption maximum having a transmittance of 20 to 85% in a wavelength range of 500 to 550 nm.
Item 1. The optical filter according to any one of Items 1) to 10), having an absorption maximum having a transmittance of 0.01 to 50% in a wavelength range of 60 to 620 nm. 12) The visible filter layer has an absorption maximum having a transmittance of 20 to 85% in a wavelength range of 500 to 550 nm.
Item 1) to item 11), wherein each of them has an absorption maximum having a transmittance of 0.01 to 50% in a wavelength range of 60 to 620 nm and an average transmittance of 70% or less in a wavelength range of 380 to 440 nm. An optical filter according to any one of the above. 13) The visible filter layer has an absorption maximum having a transmittance of 20 to 85% in a wavelength range of 460 to 500 nm and a wavelength range of 500 to 550 nm, and has a maximum of 560.
Having an absorption maximum with a transmittance of 0.01 to 50% in a wavelength range of 380 to 620 nm, respectively.
Item 1. The optical filter according to any one of Items 1) to 12), wherein the average transmittance in a wavelength range of nm is 70% or less. 14) An image display device using the optical filter according to any one of 1) to 13). 15) A front panel of a plasma display panel using the optical filter according to any one of Items 1) to 13). 16) The image display device according to item 14), which is a plasma display panel.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】本発明の画像表示装置に用いられ
る光学フィルターの代表的な層構成を、図面を参照しな
がら説明する。以下、陰極管表示装置(CRT)および
プラズマディスプレイパネル(PDP)用の光学フィル
ターまたは光学フィルターを有した前面板として使用す
る場合の層構成について説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A typical layer structure of an optical filter used in an image display device according to the present invention will be described with reference to the drawings. Hereinafter, a layer configuration in the case of using as an optical filter for a cathode ray tube display (CRT) and a plasma display panel (PDP) or a front plate having an optical filter will be described.
【0008】図1は陰極管表示装置(CRT)またはプ
ラズマディスプレイパネル(PDP)の本体1の前面に
本発明の光学フィルター3または前面板4を用いた場合
の断面概念図である。図1(a)は本体1に、各種のフィ
ルター層やハードコート層、反射防止層等が光学フィル
ターの支持体の片側または両側に設けられているプラス
チック支持体を含む光学フィルター3を直貼りした場
合、図1(b)は本体1と前面板4との間に空間があり、
各種フィルター層やハードコート層、反射防止層からな
る光学フィルターまたはその一部3が前面板の支持体の
両面に設けられている場合の概念図である。なお、本発
明において、「前面板」とは、各種のフィルター層やハ
ードコート層、反射防止層からなる光学フィルターまた
はその一部を、別の支持体(プラスチックまたは透明ガ
ラス等)の片側または両側に積層したものであって、デ
ィスプレイ装置と観察者との間に、好ましくはディスプ
レイ装置の直前に設置されるものをいう。FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view when an optical filter 3 or a front plate 4 of the present invention is used on the front surface of a main body 1 of a cathode ray tube display (CRT) or a plasma display panel (PDP). FIG. 1A shows an optical filter 3 including a plastic support in which various filter layers, a hard coat layer, an anti-reflection layer, and the like are provided on one side or both sides of the support of the optical filter. In this case, FIG. 1 (b) shows a space between the main body 1 and the front plate 4,
It is a conceptual diagram in case the optical filter which consists of various filter layers, a hard coat layer, and an antireflection layer or its part 3 is provided in both surfaces of the support body of a front plate. In the present invention, the “front plate” refers to an optical filter comprising various filter layers, a hard coat layer, an antireflection layer or a part thereof, on one side or both sides of another support (eg, plastic or transparent glass). And is disposed between the display device and the observer, preferably immediately before the display device.
【0009】図2は光学フィルターおよび前面板の層構
成の断面模式図の例であるが、無論これらに限定される
のもではない。図2(a)および図2(b)は図1(a)の配置
に対応する光学フィルターの層構成の例であり、図2
(c)および図2(d)は図1(b)の配置に対応する前面板の
層構成の例である。図2(a)および(b)ではプラスチック
透明支持体とハードコート層およびプラスチック透明支
持体とフィルター層との間には、十分な接着強度を得る
ために下塗り層を設けることが好ましい。電磁波遮蔽層
とフィルター層の間は両者を境とした片側をそれぞれ別
々に製膜し、両者を粘着剤で貼り合わせることもでき
る。光学フィルターと画像表示装置本体との間は、例え
ば市販のアクリル系粘着剤を用いて容易に接着すること
ができる。図2(c)および図2(d)ではプラスチック透明
支持体とハードコート層、プラスチック透明支持体とフ
ィルター層およびプラスチック透明支持体と反射防止層
との間には、十分な接着強度を得るために下塗り層を設
けることが好ましい。図2(c)ではプラスチック透明支
持体とガラス透明支持体の間および可視フィルター層と
電磁波遮蔽層との間をそれぞれ粘着剤で貼り合わせる方
法をとることもできる。図2(d)ではフィルター層とガ
ラス透明支持体の間および電磁波遮蔽層とガラス透明支
持体の間をそれぞれ粘着剤で貼り合わせる方法をとるこ
ともできる。本発明の光学フィルターは図1および図2
のいずれの構成においても最終的な完成品としての画像
表示装置を前面側から見た場合、色味は無彩色に近いこ
とが好ましい。光学フィルターの無彩色の程度として
は、JIS Z 8722記載の反射物体の測定方法にのっとり
測色を行い、標準の光D65により照明した場合の色が下
記式(I)で表される範囲であることが好ましい。 0≦|a*|≦10、0≦|b*|≦10 (I) ここでa*,b*はCIE 1976 L*a*b*色空間におけるa*,b*値
を表し、JIS Z 8729に従い表示するものとする。より好
ましくは、−5≦a*≦5、−10≦b*≦0の範囲であ
る。FIG. 2 is an example of a schematic cross-sectional view of the layer structure of the optical filter and the front plate, but is not limited to these. FIGS. 2A and 2B are examples of the layer configuration of the optical filter corresponding to the arrangement of FIG.
(c) and FIG. 2 (d) are examples of the layer structure of the front plate corresponding to the arrangement of FIG. 1 (b). In FIGS. 2A and 2B, it is preferable to provide an undercoat layer between the plastic transparent support and the hard coat layer and between the plastic transparent support and the filter layer in order to obtain a sufficient adhesive strength. It is also possible to separately form a film on one side of the boundary between the electromagnetic wave shielding layer and the filter layer on both sides, and to bond the two with an adhesive. The optical filter and the image display device main body can be easily bonded to each other using, for example, a commercially available acrylic adhesive. In FIG. 2 (c) and FIG. 2 (d), in order to obtain a sufficient adhesive strength between the plastic transparent support and the hard coat layer, between the plastic transparent support and the filter layer, and between the plastic transparent support and the antireflection layer. It is preferable to provide an undercoat layer on the undercoat layer. In FIG. 2 (c), a method can be used in which the adhesive is applied between the transparent plastic support and the transparent glass support and between the visible filter layer and the electromagnetic wave shielding layer. In FIG. 2 (d), a method may be adopted in which the filter layer and the glass transparent support and the electromagnetic wave shielding layer and the glass transparent support are each bonded with an adhesive. The optical filter of the present invention is shown in FIGS.
In any of the configurations, when the image display device as the final finished product is viewed from the front side, the color is preferably close to achromatic. The degree of the achromatic color of the optical filter is in the range represented by the following formula (I) when the color is measured according to the measuring method of a reflecting object described in JIS Z 8722 and illuminated with standard light D65. Is preferred. 0 ≦ | a * | ≦ 10, 0 ≦ | b * | ≦ 10 (I) Here, a * and b * represent a * and b * values in the CIE 1976 L * a * b * color space, and JIS Z It shall be displayed according to 8729. More preferably, it is in the range of −5 ≦ a * ≦ 5 and −10 ≦ b * ≦ 0.
【0010】以下本発明の光学フィルターおよびそれを
用いた前面板を構成する各材料とその構成について説明
するが無論これらに限定されるものではない。 (プラスチック透明支持体)プラスチック透明支持体を
形成する材料の例には、セルロースエステル(例、ジア
セチルセルロース、トリアセチルセルロース(TA
C)、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、
アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4
−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチ
レン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカル
ボキシレート)、ポリアリレート(例、ビスフェノール
Aとフタル酸の縮合物)、ポリスチレン(例、シンジオ
タクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ア
クリル(ポリメチルメタクリレート)、ポリスルホン、
ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエー
テルイミドおよびポリオキシエチレンが含まれる。ポリ
エステル、ポリカーボネート、ポリアリレートが好まし
い。ポリエチレンテレフタレートおよびポリエチレンナ
フタレートが最も好ましい。支持体の厚みは5μm以上
5cm以下であることが好ましく、25μm以上1cm
以下であることがさらに好ましく、80μm以上1.2
mm以下であることが最も好ましい。透明支持体の透過
率は80%以上であることが好ましく、86%以上であ
ることがさらに好ましい。ヘイズは、2%以下であるこ
とが好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。
屈折率は、1.45ないし1.70であることが好まし
い。The materials constituting the optical filter of the present invention and the front plate using the same and the structure thereof will be described below, but the present invention is not limited thereto. (Plastic transparent support) Examples of materials for forming the plastic transparent support include cellulose esters (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TA).
C), propionyl cellulose, butyryl cellulose,
Acetylpropionyl cellulose, nitrocellulose), polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4)
-Cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate), polyarylate (eg, bisphenol
A and phthalic acid condensate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, polyethylene, polypropylene, polymethylpentene), acryl (polymethylmethacrylate), polysulfone,
Includes polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene. Polyester, polycarbonate and polyarylate are preferred. Polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are most preferred. The thickness of the support is preferably 5 μm or more and 5 cm or less, and 25 μm or more and 1 cm or less.
And more preferably 80 μm or more and 1.2 μm or less.
Most preferably, it is not more than mm. The transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, more preferably 86% or more. The haze is preferably at most 2%, more preferably at most 1%.
The refractive index is preferably from 1.45 to 1.70.
【0011】透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは紫外
線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、
透明支持体の0.01ないし20質量%であることが好
ましく、0.05ないし10質量%であることがさらに
好ましい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒
子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例に
は、SiO2 、TiO2 、BaSO4 、CaCO3 、タ
ルクおよびカオリンが含まれる。An infrared absorber or an ultraviolet absorber may be added to the transparent support. The amount of infrared absorber added
It is preferably 0.01 to 20% by mass of the transparent support, more preferably 0.05 to 10% by mass. Further, as a slipping agent, particles of an inert inorganic compound may be added to the transparent support. Examples of the inorganic compound, SiO 2, TiO 2, BaSO 4, CaCO 3, talc and kaolin.
【0012】透明支持体には下塗り層との接着性をより
強固にするために表面処理を施すことが好ましい。表面
処理の例には、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処
理、火炎処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放
電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、
およびオゾン酸化処理が含まれる。グロー放電処理、紫
外線照射処理、コロナ放電処理および火炎処理が好まし
く、コロナ放電処理がさらに好ましい。 (ハードコート層)図3に、本発明のハードコート部分
を構成する好ましい1実施形態であるハードコート層を
プラスチック透明支持体に設けた部分の層構成の例を示
す。表面弾性率の大きな透明支持体表面に、活性エネル
ギー線重合性樹脂層を設けることからなる。The transparent support is preferably subjected to a surface treatment in order to further enhance the adhesiveness with the undercoat layer. Examples of surface treatment include chemical treatment, mechanical treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment,
And ozone oxidation treatment. Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona discharge treatment and flame treatment are preferred, and corona discharge treatment is more preferred. (Hard Coat Layer) FIG. 3 shows an example of a layer structure of a portion in which a hard coat layer, which is a preferred embodiment of the hard coat portion of the present invention, is provided on a plastic transparent support. It consists of providing an active energy ray polymerizable resin layer on the surface of a transparent support having a large surface elastic modulus.
【0013】表面弾性率の大きな透明支持体は、表面弾
性率が4GPa以上15GPa以下、より好ましくは
4.5GPa以上12GPa以下、さらに好ましくは5
GPa以上10GPa以下であるポリエステルフイルム
が好ましい。表面弾性率は微小表面硬度計を用いて求め
た値である。具体的な方法は以下のとおりである。微小
表面硬度計((株)フィッシャー・インスツルメンツ社
製:フィッシャースコープH100VP-HCU)を用い、試料表
面にビッカース圧子を接触させた後、10秒間に加重を
1mNにまで増加させ、この状態で5秒保持する。この
時のビッカース圧子の侵入深さをDv0とする。この後、
加重を0mNとした時にビッカース圧子を押し戻す力
(Fv)と侵入深さ(Dv)を測定し、その傾きを表面弾性
率とする。即ちDvを横軸にとり、縦軸にFvをとったと
き、DvがDv0から0.9×Dv0の間の傾きの絶対値を
表面弾性率とした。この測定は25℃60%RH下で行
い、10点の平均値で表した。The transparent support having a large surface elastic modulus has a surface elastic modulus of 4 GPa or more and 15 GPa or less, preferably 4.5 GPa or more and 12 GPa or less, and more preferably 5 GPa or less.
A polyester film having a GPa of 10 GPa or more is preferable. The surface elastic modulus is a value obtained by using a micro surface hardness tester. The specific method is as follows. Using a micro surface hardness meter (Fisher Instruments Co., Ltd .: Fisherscope H100VP-HCU), contact the sample surface with a Vickers indenter, then increase the load to 1 mN in 10 seconds, and 5 seconds in this state Hold. The penetration depth of the Vickers indenter at this time is defined as Dv0. After this,
When the load is set to 0 mN, the force (Fv) for pushing back the Vickers indenter and the penetration depth (Dv) are measured, and the inclination is defined as the surface elastic modulus. That is, when Dv is plotted on the horizontal axis and Fv is plotted on the vertical axis, the absolute value of the slope between Dv and 0.9 × Dv0 is defined as the surface elastic modulus. This measurement was performed at 25 ° C. and 60% RH, and represented by an average value of 10 points.
【0014】本発明では、極めて小さな微粒子を高濃度
で均一に分散することを特徴としており、ポリエステル
中に1nm以上400nm以下、より好ましくは5nm
以上200nm以下、さらに好ましくは10nm以上1
00nm以下の微粒子を10質量%以上60質量%以
下、より好ましくは15質量%以上50質量%以下、よ
り好ましくは20質量%以上45質量%以下添加させ
る。1nm以下では分散が難しく凝集粒子ができ、40
0nm以上ではヘイズが大きくなり、どちらも透明性を
落としてしまう。The present invention is characterized in that extremely small fine particles are uniformly dispersed at a high concentration, and is contained in the polyester in a range of 1 nm to 400 nm, more preferably 5 nm.
Or more and 200 nm or less, more preferably 10 nm or more and 1
Fine particles having a size of 00 nm or less are added in an amount of 10% by mass to 60% by mass, more preferably 15% by mass to 50% by mass, and more preferably 20% by mass to 45% by mass. If it is less than 1 nm, dispersion is difficult, and aggregated particles are formed.
If it is 0 nm or more, the haze increases, and in both cases, the transparency decreases.
【0015】好ましい微粒子として、シリカ、アルミ
ナ、チタニア、ジルコニア、雲母、タルク、炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、硫
酸カルシウム、カオリンのような無機微粒子、架橋ポリ
スチレンのような有機微粒子が挙げられる。より好まし
くはシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、雲母、
タルク、炭酸カルシウムである。形状は、不定形、板
状、球状、針状のいずれでもよく、また、2種類以上の
微粒子を混合使用してもよい。Preferred fine particles include inorganic fine particles such as silica, alumina, titania, zirconia, mica, talc, calcium carbonate, barium sulfate, zinc oxide, magnesium oxide, calcium sulfate, kaolin, and organic fine particles such as cross-linked polystyrene. Can be More preferably silica, alumina, titania, zirconia, mica,
Talc, calcium carbonate. The shape may be any of an irregular shape, a plate shape, a spherical shape, and a needle shape, and two or more kinds of fine particles may be mixed and used.
【0016】これらの微粒子は、ポリエステル重合前に
モノマーと一緒に添加してもよく、ポリエステル重合後
に添加しても良いが、前者は重合中に粘度上昇が発生し
重合を制御しにくいことがあるため、後者の方が均一に
分散し易く、より好ましい。これらの微粒子は、ポリエ
ステルとの濡れ性を改良するため、表面修飾されている
ことが好ましい。表面修飾剤としては、高級脂肪酸、高
級脂肪酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸ア
ミド、シリケート、チタネート、アルミネート等のカッ
プリング剤が挙げられる。These fine particles may be added together with the monomer prior to the polymerization of the polyester, or may be added after the polymerization of the polyester. Therefore, the latter is more preferable because it is easy to be uniformly dispersed. These fine particles are preferably surface-modified in order to improve the wettability with the polyester. Examples of the surface modifier include coupling agents such as higher fatty acids, metal salts of higher fatty acids, higher fatty acid esters, higher fatty acid amides, silicates, titanates, and aluminates.
【0017】微粒子の分散に先立ち、ポリエステルのオ
リゴマーを熔融した中にこれらの微粒子を添加し、予め
微粒子の表面をポリエステルで被覆することが好まし
い。オリゴマーの好ましい固有粘度は0.05以上0.
4以下、より好ましくは0.1以上0.3以下、さらに
好ましくは0.1以上0.2以下である。オリゴマー
(O)と微粒子(P)の好ましい比(P/O)は1以上1
00以下、より好ましくは3以上50以下、より好まし
くは5以上20以下である。Prior to the dispersion of the fine particles, it is preferable to add these fine particles to the melt of the oligomer of the polyester and coat the surfaces of the fine particles with the polyester in advance. The preferred intrinsic viscosity of the oligomer is 0.05 or more and 0.1.
4 or less, more preferably 0.1 or more and 0.3 or less, further preferably 0.1 or more and 0.2 or less. The preferred ratio (P / O) of the oligomer (O) to the fine particles (P) is 1 or more and 1 or more.
00 or less, more preferably 3 or more and 50 or less, more preferably 5 or more and 20 or less.
【0018】オリゴマーと微粒子の混合はバンバリーミ
キサー、ニーダー、ロールミル、単軸あるいは2軸の押
出し機を用いることができる。混合温度は100℃以上
350℃以下、より好ましくは120℃以上300℃以
下、さらに好ましくは150℃以上250℃以下が好ま
しい。混合時間は1分以上200分以下、より好ましく
は2分以上100分以下、さらに好ましくは3分以上3
0分以下が好ましい。For mixing the oligomer and the fine particles, a Banbury mixer, a kneader, a roll mill, a single-screw or twin-screw extruder can be used. The mixing temperature is preferably from 100 ° C to 350 ° C, more preferably from 120 ° C to 300 ° C, and still more preferably from 150 ° C to 250 ° C. The mixing time is from 1 minute to 200 minutes, more preferably from 2 minutes to 100 minutes, and still more preferably from 3 minutes to 3 minutes.
It is preferably 0 minutes or less.
【0019】この後、さらにポリエステルと混練する。
混練はバンバリーミキサー、ニーダー、ロールミル、単
軸あるいは2軸の押出し機を用いることができる。混合
温度は200℃以上350℃以下、より好ましくは24
0℃以上340℃以下、さらに好ましくは260℃以上
330℃以下、混合時間は1分以上200分以下、より
好ましくは2分以上100分以下、さらに好ましくは3
分以上30分以下が好ましい。Thereafter, the mixture is further kneaded with the polyester.
For kneading, a Banbury mixer, a kneader, a roll mill, a single-screw or twin-screw extruder can be used. The mixing temperature is 200 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, more preferably 24 ° C.
0 ° C or more and 340 ° C or less, more preferably 260 ° C or more and 330 ° C or less, and the mixing time is 1 minute or more and 200 minutes or less, more preferably 2 minutes or more and 100 minutes or less, and still more preferably 3 minutes or more.
The time is preferably from 30 minutes to 30 minutes.
【0020】このような微粒子を含むポリエステルは単
層でフイルムを形成しても良いが、積層フイルムで用い
ることがより好ましい。これにより表裏の表面弾性率の
差を0.5GPa以上10GPa以下、より好ましくは
0.8GPa以上7GPa、さらに好ましくは1.0G
Pa以上5GPa以下にすることが好ましい。両面とも
表面硬度が高いと、搬送ロールとの保持力が低下し製膜
中にスリップによる擦り傷を発生し易いためである。こ
のような積層フイルムは、微粒子を含むポリエステル層
(B層)を、B層より微粒子含量の少ないポリエステル
層(A層)の片面に積層(B/A)してもよく、B層より
微粒子含量の少ないポリエステル層(B’層)をB層の反
対側のA層に積層(B/A/B’)しても良い。The polyester containing such fine particles may form a film with a single layer, but is more preferably used in a laminated film. As a result, the difference between the surface elastic modulus of the front and back surfaces is 0.5 GPa or more and 10 GPa or less, more preferably 0.8 GPa or more and 7 GPa, and still more preferably 1.0 GPa.
It is preferable to set it to Pa or more and 5 GPa or less. If the surface hardness is high on both sides, the holding force with the transport roll is reduced, and abrasion due to slip is likely to occur during film formation. In such a laminated film, a polyester layer (B layer) containing fine particles may be laminated (B / A) on one side of a polyester layer (A layer) having a smaller fine particle content than the B layer, May be laminated (B / A / B ') on the A layer on the opposite side of the B layer.
【0021】本発明に用いるポリエステルフイルムの全
層厚みは50μm以上300μm以下が好ましく、より好
ましくは80μm以上260μm以下であり、さらに好ま
しくは80μm以上250μm以下である。B層、B’層
の厚みは1μm以上100μm以下が好ましく、より好ま
しくは5μm以上80μm以下、さらに好ましくは10μ
m以上50μm以下である。The total thickness of the polyester film used in the present invention is preferably 50 μm or more and 300 μm or less, more preferably 80 μm or more and 260 μm or less, and still more preferably 80 μm or more and 250 μm or less. The thickness of the B layer and the B ′ layer is preferably 1 μm or more and 100 μm or less, more preferably 5 μm or more and 80 μm or less, and still more preferably 10 μm or less.
m or more and 50 μm or less.
【0022】微粒子の粒径(D)とB層、B’層の厚み
(Tb)の比(D/Tb)は1×10- 2未満1×10-5以上
が好ましく、より好ましくは5×10- 3以下1×10- 4
以上、さらに好ましくは1×10-3以下1×10- 4以上
である。Particle size (D) of fine particles and thickness of B layer and B 'layer
The ratio of (Tb) (D / Tb) is 1 × 10 - 1 × 10 -5 or more preferably less than 2, more preferably 5 × 10 - 3 below 1 × 10 - 4
Or more, more preferably 1 × 10 -3 or less 1 × 10 - 4 or more.
【0023】本発明に用いるポリエステルフイルムは以
下のように製膜することができる。 (1)ポリエステル樹脂の乾燥 ポリエステルペレットを100℃以上250℃以下、よ
り好ましくは130℃以上200℃以下で、5分以上5
時間以下、より好ましくは10分以上1時間以下乾燥さ
せる。 (2)熔融押出し A層、B層、B'層用のペレットを各々1軸あるいは多
軸の混練押し出し機に入れ熔融する。この時、初めから
所望の量の微粒子を添加したペレットを用いても良く、
予め高濃度に微粒子を添加したペレット(マスターペレ
ット)に微粒子を添加していないペレットで希釈し所望
の濃度に調整しても良い。ポリエステルの押出し温度は
250℃以上350℃以下、より好ましくは260度以
上340℃以下で、1分以上30分以下、より好ましく
は3分以上15分以下滞留させて溶融させる。この後、
フィルターを用いて溶融ポリマーをあらかじめろ過して
おくことが好ましい。フィルターとしては、金網、焼結
金網、焼結金属、サンド、グラスファイバーなどが挙げ
られる。好ましいフィルターサイズは1μm以上30μ
m以下である。この溶融ポリエステルをTダイから押し
出しす。積層フイルムを作る場合は積層構造を有するT
ダイ(マルチマニホールドダイなど)を用いて各成分を
押し出す。これを40℃〜100℃キャスティングドラ
ムの上で固化させ未延伸フイルムを作成する。このと
き、静電印加法、水膜形成法(水等の流体をキャスティ
ングドラム上に塗布しメルトとドラムの密着をよくす
る)などを用いて、キャスティングドラムへの密着を上
げることで、フイルムの平面性を改良でき好ましい。こ
れを剥取り未延伸シートを形成する。 (3)MD延伸 未延伸シートを長手方向(MD)に延伸する。好ましい延
伸倍率は2.5倍以上4倍以下、より好ましくは3倍以
上4倍以下である。延伸温度は70℃以上160℃以下
が好ましく、より好ましくは80℃以上150℃以下、
より好ましくは80℃以上140℃以下である。好まし
い延伸速度は10%/秒以上300%/秒以下、より好
ましくは30%/秒以上250%/秒以下、さらに好ま
しくは50%/秒以上200%/秒以下である。このよ
うなMD延伸は周速の異なる一対のロール間を搬送する
ことで実施できる。 (4)TD延伸 延伸倍率は2.5倍以上5倍以下が好ましく、より好ま
しくは3倍以上4.5倍以下、さらに好ましくは3.3
倍以上4.3倍以下である。延伸温度は75℃以上16
5℃以下が好ましく、より好ましくは80℃以上160
℃以下、より好ましくは85℃以上155℃以下であ
る。好ましい延伸速度は10%/秒以上300%/秒以
下、より好ましくは30%/秒以上250%/秒以下、
さらに好ましくは50%/秒以上200%/秒以下であ
る。TD延伸は、フイルムを両端をチャックしテンター
内に搬送し、この幅を広げることで達成できる。 (5)熱固定 好ましい熱固定温度は190℃以上275℃以下、より
好ましくは210℃以上270℃以下、さらに好ましく
は230℃以上270℃以下であり、好ましい処理時間
は5秒以上180秒以下、より好ましくは10秒以上1
20秒以下、さらに好ましくは15秒以上60秒以下で
ある。熱固定中に幅方向に0%以上10%以下弛緩させ
るのが好ましい。より好ましくは0%以上8%以下、さ
らに好ましくは0%以上6%以下である。このような熱
固定および弛緩は、フイルムを両端をチャックし熱固定
ゾーンに搬送し、この幅を狭めることで達成できる。 (6)巻取り 熱固定後、冷却、トリミングを行いロールに巻き取る。
このとき、支持体端部に厚みだし加工(ナーリング)を
付与することも好ましい。好ましい製膜幅は0.5m以
上10m以下、より好ましくは0.8m以上8m以下、
さらに好ましくは1m以上6m以下である。The polyester film used in the present invention can be formed as follows. (1) Drying of polyester resin The polyester pellets are heated at 100 ° C to 250 ° C, more preferably at 130 ° C to 200 ° C for 5 minutes to 5 minutes.
The drying is performed for not more than an hour, more preferably for not less than 10 minutes and not more than 1 hour. (2) Melt Extrusion The pellets for the A layer, the B layer, and the B 'layer are each melted in a uniaxial or multiaxial kneading extruder. At this time, a pellet to which a desired amount of fine particles is added from the beginning may be used,
A pellet (master pellet) to which fine particles have been added in advance at a high concentration may be diluted with a pellet to which fine particles have not been added to adjust to a desired concentration. The polyester is extruded at a temperature of from 250 ° C. to 350 ° C., preferably from 260 ° C. to 340 ° C., for 1 minute to 30 minutes, more preferably from 3 minutes to 15 minutes to melt. After this,
It is preferable to previously filter the molten polymer using a filter. Examples of the filter include wire mesh, sintered wire mesh, sintered metal, sand, glass fiber, and the like. Preferred filter size is 1 μm or more and 30 μm
m or less. The molten polyester is extruded from a T-die. When making a laminated film, T
Each component is extruded using a die (such as a multi-manifold die). This is solidified on a casting drum of 40 ° C to 100 ° C to prepare an unstretched film. At this time, the adhesion of the film to the casting drum is increased by using an electrostatic application method, a water film formation method (applying a fluid such as water on the casting drum to improve the adhesion between the melt and the drum), and the like. It is preferable because the flatness can be improved. This is peeled off to form an unstretched sheet. (3) MD stretching The unstretched sheet is stretched in the longitudinal direction (MD). The preferred stretching ratio is 2.5 times or more and 4 times or less, more preferably 3 times or more and 4 times or less. The stretching temperature is preferably from 70 ° C to 160 ° C, more preferably from 80 ° C to 150 ° C,
More preferably, the temperature is from 80 ° C to 140 ° C. The preferred stretching speed is from 10% / sec to 300% / sec, more preferably from 30% / sec to 250% / sec, even more preferably from 50% / sec to 200% / sec. Such MD stretching can be performed by transporting between a pair of rolls having different peripheral speeds. (4) TD stretching The stretching ratio is preferably 2.5 times or more and 5 times or less, more preferably 3 times or more and 4.5 times or less, and even more preferably 3.3 times or less.
It is not less than twice and not more than 4.3 times. Stretching temperature is 75 ° C or higher and 16
5 ° C. or less, more preferably 80 ° C. or more and 160 ° C.
° C or lower, more preferably 85 ° C or higher and 155 ° C or lower. Preferred stretching speed is 10% / sec or more and 300% / sec or less, more preferably 30% / sec or more and 250% / sec or less,
More preferably, it is 50% / second or more and 200% / second or less. TD stretching can be achieved by chucking the film at both ends, transporting the film into a tenter, and widening the film. (5) Heat setting A preferable heat setting temperature is 190 ° C or more and 275 ° C or less, more preferably 210 ° C or more and 270 ° C or less, further preferably 230 ° C or more and 270 ° C or less, and a preferable treatment time is 5 seconds or more and 180 seconds or less. More preferably 10 seconds or more 1
It is 20 seconds or less, more preferably 15 seconds or more and 60 seconds or less. It is preferable to relax in the width direction between 0% and 10% during heat setting. It is more preferably 0% or more and 8% or less, and further preferably 0% or more and 6% or less. Such heat setting and relaxation can be achieved by chucking the film at both ends, transporting the film to the heat setting zone, and reducing the width thereof. (6) Winding After heat fixation, cooling and trimming are performed and wound up on a roll.
At this time, it is also preferable to apply a knurling process to the end of the support. Preferred film forming width is 0.5 m or more and 10 m or less, more preferably 0.8 m or more and 8 m or less,
More preferably, it is 1 m or more and 6 m or less.
【0024】このようにして調製したポリエステル支持
体に表面処理を施すことが好ましい。表面処理の中でも
コロナ処理、紫外線処理、グロー処理、火焔処理が特に
効果である。これらについては「発明協会公開技法 公
技番号94−6023号」に記載の方法に従って実施す
ることができる。It is preferred that the polyester support thus prepared is subjected to a surface treatment. Among the surface treatments, corona treatment, ultraviolet treatment, glow treatment, and flame treatment are particularly effective. These can be carried out in accordance with the method described in "Invention Association Disclosure Technique, Official Technique No. 94-6023".
【0025】また帯電防止層を付与することが好まし
い。帯電防止剤としては、金属酸化物、導電性金属、炭
素繊維、π共役系高分子(ポリアリーレンビニレン等)
イオン性化合物などを挙げることができ、体積抵抗率が
107Ωcm以下、より好ましくは106Ωcm以下、さ
らに好ましくは105Ωcm以下のものである。導電性
金属酸化物及びその誘導体、などであり、この中でも特
に好ましく用いられる導電性材料は結晶性の金属酸化物
粒子であり、 ZnO 、 TiO2 、 SnO2 、Al2
O3 、In2 O3 、SiO2 、MgO、BaO、MoO
3、V2O5 が挙げられ、特に好ましい物は、SnO2を
主成分とし酸化アンチモン約5〜20%含有させ及び/
又はさらに他成分(例えば酸化珪素、ホウ素、リンな
ど)を含有させたものである。これらの導電性素材およ
び塗設方法の詳細は「発明協会公開技法 公技番号94
−6023号」に記載されており、これに従って実施す
ることができる。It is preferable to provide an antistatic layer. Antistatic agents include metal oxides, conductive metals, carbon fibers, and π-conjugated polymers (polyarylene vinylene, etc.)
Examples thereof include ionic compounds, and have a volume resistivity of 10 7 Ωcm or less, more preferably 10 6 Ωcm or less, and still more preferably 10 5 Ωcm or less. Conductive metal oxides and derivatives thereof, and the like, a conductive material particularly preferably used among this is a crystalline metal oxide particles, ZnO, TiO 2, SnO 2 , Al 2
O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO
3 , V 2 O 5 , and particularly preferred are those containing SnO 2 as a main component and containing about 5 to 20% of antimony oxide, and / or
Alternatively, another component (for example, silicon oxide, boron, phosphorus, or the like) is contained. For details of these conductive materials and coating methods, refer to “Invention Association's published technique
-6023 "and can be carried out in accordance with the description.
【0026】更に、透明支持体の上に積層する層との密
着を向上させるため、一層以上の下塗り層を設けること
ができる。下塗り層の素材としては塩化ビニル、塩化ビ
ニリデン、ブタジエン、(メタ)アクリル酸エステル、
ビニルエステル等の共重合体或いはラテックス、ゼラチ
ン等の水溶性ポリマーなどが挙げられる。Further, one or more undercoat layers can be provided to improve the adhesion to the layer laminated on the transparent support. Materials for the undercoat layer include vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, (meth) acrylate,
Examples include copolymers such as vinyl esters or water-soluble polymers such as latex and gelatin.
【0027】本発明に用いるハードコートは公知の硬化
性樹脂を用いることができ、熱硬化性樹脂、活性エネル
ギー線重合性樹脂等があるが、活性エネルギー線硬化樹
脂が好ましい。熱硬化性樹脂としてはメラミン樹脂、ウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂等のプレポリマーの架橋反応
を利用するものがある。As the hard coat used in the present invention, a known curable resin can be used, and there are a thermosetting resin, an active energy ray polymerizable resin and the like, and an active energy ray curable resin is preferable. As the thermosetting resin, there is a resin utilizing a crosslinking reaction of a prepolymer such as a melamine resin, a urethane resin, and an epoxy resin.
【0028】活性エネルギー線としては、放射線、ガン
マー線、アルファー線、電子線、紫外線等が挙げられる
が、紫外線が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂層
は、架橋しているポリマーを含む。架橋しているポリマ
ーを含む活性エネルギー線硬化層は、多官能モノマーと
重合開始剤を含む塗布液を上記の透明基材フイルム上に
塗布し、多官能モノマーを重合させることにより形成で
きる。これらのモノマーの官能基としては、エチレン性
不飽和二重結合基が好ましい。Examples of the active energy ray include radiation, gamma ray, alpha ray, electron beam and ultraviolet ray, and ultraviolet ray is preferred. The active energy ray-curable resin layer contains a crosslinked polymer. The active energy ray-curable layer containing a crosslinked polymer can be formed by applying a coating solution containing a polyfunctional monomer and a polymerization initiator on the above-mentioned transparent base film and polymerizing the polyfunctional monomer. The functional group of these monomers is preferably an ethylenically unsaturated double bond group.
【0029】多官能モノマーは、多価アルコールとアク
リル酸またはメタクリル酸とのエステルであることが好
ましい。多価アルコールの例には、エチレングリコー
ル、1,4−シクロヘキサノール、ペンタエリスリトー
ル、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロ
ールエタン、ジペンタエリスリトール、1,2,4−シ
クロヘキサノール、ポリウレタンポリオールおよびポリ
エステルポリオールが含まれる。これらの中では、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタ
エリスリトールおよびポリウレタンポリオールが好まし
い。二種類以上の多官能モノマーを併用してもよい。The polyfunctional monomer is preferably an ester of a polyhydric alcohol and acrylic acid or methacrylic acid. Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, 1,4-cyclohexanol, pentaerythritol, glycerin, trimethylolpropane, trimethylolethane, dipentaerythritol, 1,2,4-cyclohexanol, polyurethane polyol and polyester polyol. included. Of these, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and polyurethane polyol are preferred. Two or more polyfunctional monomers may be used in combination.
【0030】これらの活性エネルギー線硬化層に、無機
微粒子を添加することで膜としての架橋収縮率を改良
し、塗膜の硬度を上げることができる。無機微粒子とし
ては硬度が高いものが好ましく、モース硬度が6以上の
無機粒子が好ましい。例えば、二酸化ケイ素粒子、二酸
化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウ
ム粒子が含まれる。By adding inorganic fine particles to these active energy ray-cured layers, the crosslinking shrinkage as a film can be improved and the hardness of the coating film can be increased. As the inorganic fine particles, those having high hardness are preferable, and inorganic particles having Mohs hardness of 6 or more are preferable. For example, silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, and aluminum oxide particles are included.
【0031】これらの無機微粒子の平均粒子径は、1n
m以上400nm以下、より好ましくは5nm以上20
0nm以下、さらに好ましくは10nm以上100nm
以下の微粒子を10質量%以上60質量%以下、より好
ましくは15質量%以上50質量%以下、より好ましく
は20質量%以上45質量%以下添加させる。1nm以
下では分散が難しく凝集粒子ができ、400nm以上で
はヘイズが大きくなり、どちらも透明性を落としてしま
い好ましくない。The average particle diameter of these inorganic fine particles is 1n
m to 400 nm, more preferably 5 nm to 20
0 nm or less, more preferably 10 nm or more and 100 nm
The following fine particles are added in an amount of 10% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 45% by mass or less. If it is less than 1 nm, it is difficult to disperse, and agglomerated particles are formed.
【0032】一般に無機微粒子はバインダーポリマーと
の親和性が悪いため単に両者を混合するだけでは界面が
破壊しやすく、膜として割れ、耐傷性を改善することは
困難である。無機微粒子とポリマーバインダーとの親和
性は改良するため、無機微粒子表面を有機セグメントを
含む表面修飾剤で処理することができる。表面修飾剤
は、一方で無機微粒子と結合を形成し、他方でバインダ
ーポリマーと高い親和性を有することが必要であり、金
属と結合を生成し得る官能基としては、シラン、アルミ
ニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシ
ド化合物や、リン酸、スルホン酸、カルボン酸基等のア
ニオン性基を有する化合物が好ましい。またバインダー
ポリマーとは化学的に結合させることが好ましく、末端
にビニル性重合基等を導入したものが好適である。例え
ば、エチレン性不飽和基を重合性基および架橋性基とし
て有するモノマーからバインダーポリマーを合成する場
合は、金属アルコキシド化合物またはアニオン性化合物
の末端にエチレン性不飽和基を有していることが好まし
い。本発明のハードコート層処方によればハードコート
層の割れやプラスチック支持体とのはがれなどの弊害を
発生することなく、優れた表面硬度を得ることができ
る。例えば鉛筆硬度試験で4H以上の硬度を容易に達成
することができる。試験はJIS−S−6006が規定
する試験用鉛筆を用い、JIS−K−5400が規定す
る鉛筆硬度評価方法に従い実施する。評価結果の値は
9.8Nの加重にて傷が全く認められない鉛筆硬度の値
である。In general, inorganic fine particles have a poor affinity for a binder polymer, so that the interface is easily broken simply by mixing the two, and it is difficult to improve the scratch resistance and crack as a film. In order to improve the affinity between the inorganic fine particles and the polymer binder, the surface of the inorganic fine particles can be treated with a surface modifier containing an organic segment. The surface modifier is required to form a bond with the inorganic fine particles on the one hand and to have a high affinity for the binder polymer on the other hand, and as a functional group capable of forming a bond with a metal, silane, aluminum, titanium, zirconium And a compound having an anionic group such as phosphoric acid, sulfonic acid, and carboxylic acid group. Further, it is preferable that the polymer is chemically bonded to the binder polymer, and that a vinyl polymer group or the like is introduced into a terminal is preferable. For example, when a binder polymer is synthesized from a monomer having an ethylenically unsaturated group as a polymerizable group and a crosslinkable group, it is preferable that the metal alkoxide compound or the anionic compound has an ethylenically unsaturated group at a terminal. . According to the hard coat layer formulation of the present invention, excellent surface hardness can be obtained without causing adverse effects such as cracking of the hard coat layer and peeling off from the plastic support. For example, a hardness of 4H or more can be easily achieved in a pencil hardness test. The test is carried out using a test pencil specified by JIS-S-6006 and according to a pencil hardness evaluation method specified by JIS-K-5400. The value of the evaluation result is a value of pencil hardness at which no flaw is observed at a load of 9.8 N.
【0033】有機金属化合物の表面処理剤例 a)シラン含有有機化合物 a−1 H2C=CHCOOC4H8OSi(OC4H9)3 a−2 (H2C=CHCOOC4H8O)2Si(OC4
H9)2 a−3 (H2C=CHCOOC4H8O)3SiOC4H9 a−4 H2C=CHCOOC3H6OSi(OC4H9)3 a−5 (H2C=CHCOOC3H6O)2Si(OC4
H9)2 a−6 (H2C=CHCOOC3H6O)3SiOC4H9 The surface treatment agent of organometallic compound Example a) a silane-containing organic compound a-1 H 2 C = CHCOOC 4 H 8 OSi (OC 4 H 9) 3 a-2 (H 2 C = CHCOOC 4 H 8 O) 2 Si (OC 4
H 9) 2 a-3 ( H 2 C = CHCOOC 4 H 8 O) 3 SiOC 4 H 9 a-4 H 2 C = CHCOOC 3 H 6 OSi (OC 4 H 9) 3 a-5 (H 2 C = CHCOOC 3 H 6 O) 2 Si (OC 4
H 9) 2 a-6 ( H 2 C = CHCOOC 3 H 6 O) 3 SiOC 4 H 9
【0034】b)アルミニウム含有有機化合物例 b−1 H2C=CHCOOC4H8OAl(OC4H9)2 b−2 H2C=CHCOOC3H6OAl(OC3H7)2 b−3 H2C=CHCOOC2H4OAl(OC2H5)2 b−4 H2C=CHCOOC2H4OC2H4OAl(O
C2H4OC2H5)2 b−5 H2C=C(CH3)COOC4H8OAl(OC
4H9)2 b−6 H2C=CHCOOC4H8OAl(OC4H9)
OC4H8COOCH=CH2 b−7 H2C=CHCOOC2H4OAl{O(1,4-p
h)}2 B) Example of aluminum-containing organic compound b-1 H 2 C = CHCOOC 4 H 8 OAl (OC 4 H 9 ) 2 b-2 H 2 C = CHCOOC 3 H 6 OAl (OC 3 H 7 ) 2 b- 3 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OAl (OC 2 H 5) 2 b-4 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OC 2 H 4 OAl (O
C 2 H 4 OC 2 H 5 ) 2 b-5 H 2 C = C (CH 3) COOC 4 H 8 OAl (OC
4 H 9) 2 b-6 H 2 C = CHCOOC 4 H 8 OAl (OC 4 H 9)
OC 4 H 8 COOCH = CH 2 b-7 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OAl {O (1,4-p
h)} 2
【0035】c)ジルコニウム含有有機化合物 c−1 H2C=CHCOOC4H8OZr(OC4H9)3 c−2 H2C=CHCOOC3H7OZr(OC3H7)3 c−3 H2C=CHCOOC2H4OZr(OC2H5)3 c−4 H2C=C(CH3)COOC4H8OZr(OC
4H9)3 c−5 {CH2=C(CH3)COO}2Zr(OC4H
9)2 [0035] c) a zirconium-containing organic compound c-1 H 2 C = CHCOOC 4 H 8 OZr (OC 4 H 9) 3 c-2 H 2 C = CHCOOC 3 H 7 OZr (OC 3 H 7) 3 c-3 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OZr (OC 2 H 5) 3 c-4 H 2 C = C (CH 3) COOC 4 H 8 OZr (OC
4 H 9) 3 c-5 {CH 2 = C (CH 3) COO} 2 Zr (OC 4 H
9 ) 2
【0036】d)チタニウム含有有機化合物 d−1 {H2C=C(CH3)COO}3TiOC2H4
OC2H4OCH3 d−2 Ti{OCH2C(CH2OC2H4CH=C
H2)2C2H5}4 d−3 H2C=CHCOOC4H8OTi(OC4H9)3 d−4 H2C=CHCOOC3H7OTi(OC3H7)3 d−5 H2C=CHCOOC2H4OTi(OC2H5)3 d−6 H2C=CHCOOSiOTi(OSiCH3)
3 d−7 H2C=C(CH3)COOC4H8OTi(OC
4H9)3 D) Titanium-containing organic compound d-1 {H 2 C = C (CH 3 ) COO} 3 TiOC 2 H 4
OC 2 H 4 OCH 3 d-2 Ti {OCH 2 C (CH 2 OC 2 H 4 CH = C
H 2) 2 C 2 H 5 } 4 d-3 H 2 C = CHCOOC 4 H 8 OTi (OC 4 H 9) 3 d-4 H 2 C = CHCOOC 3 H 7 OTi (OC 3 H 7) 3 d- 5 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OTi (OC 2 H 5) 3 d-6 H 2 C = CHCOOSiOTi (OSiCH 3)
3 d-7 H 2 C = C (CH 3) COOC 4 H 8 OTi (OC
4 H 9) 3
【0037】アニオン性官能基含有表面処理剤例 e)リン酸基含有有機化合物例 e−1 H2C=C(CH3)COOC2H4OPO(O
H)2 e−2 H2C=C(CH3)COOC2H4OCOC5H
10OPO(OH)2 e−3 H2C=CHCOOC2H4OCOC5H10OPO
(OH)2 e−4 H2C=C(CH3)COOC2H4OCOC5H
10OPO(OH)2 e−5 H2C=C(CH3)COOC2H4OCOC5H
10OPOC12 e−6 H2C=C(CH3)COOC2H4CH{OPO
(OH)2)2 e−7 H2C=C(CH3)COOC2H4OCOC5H
10OPO(ONa)2 e−8 H2C=CHCOOC2H4OCO(1,4-ph)
C5H10OPO(OH)2 e−9 (H2C=C(CH3)COO)2CHC2H4O
COC5H10OPO(OH)2 Examples of Surface Treatment Agent Containing Anionic Functional Group e) Examples of Organic Compound Containing Phosphate Group e-1 H 2 C = C (CH 3 ) COOC 2 H 4 OPO (O
H) 2 e-2 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OCOC 5 H
10 OPO (OH) 2 e- 3 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 OPO
(OH) 2 e-4 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OCOC 5 H
10 OPO (OH) 2 e- 5 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OCOC 5 H
10 OPOC 12 e-6 H 2 C = C (CH 3 ) COOC 2 H 4 CH {OPO
(OH) 2) 2 e- 7 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OCOC 5 H
10 OPO (ONa) 2 e-8 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OCO (1,4-ph)
C 5 H 10 OPO (OH) 2 e-9 (H 2 C = C (CH 3) COO) 2 CHC 2 H 4 O
COC 5 H 10 OPO (OH) 2
【0038】f)スルホン酸基含有有機化合物例 f−1 H2C=C(CH3)COOC2H4OSO3H f−2 H2C=C(CH3)COOC3H6SO3H f−3 H2C=C(CH3)COOC2H4OCOC5H
10OSO3H f−4 H2C=CHCOOC2H4OCOC5H10OSO
3H f−5 H2C=CHCOOC12H24(1,4-ph)SO3
H f−6 H2C=C(CH3)COOC2H4OCOC5H
10OSO3Na[0038] f) sulfonic acid group-containing organic compound Example f-1 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OSO 3 H f-2 H 2 C = C (CH 3) COOC 3 H 6 SO 3 H f-3 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OCOC 5 H
10 OSO 3 Hf-4 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OCOC 5 H 10 OSO
3 H f-5 H 2 C = CHCOOC 12 H 24 (1,4-ph) SO 3
H f-6 H 2 C = C (CH 3) COOC 2 H 4 OCOC 5 H
10 OSO 3 Na
【0039】g)カルボン酸基含有有機化合物例 g−1 H2C=CHCOO(C5H10COO)2H g−2 H2C=CHCOOC5H10COOH g−3 H2C=CHCOOC2H4OCO(1,2-ph)
COOH g−4 H2C=CHCOO(C2H4COO)2H g−5 H2C=C(CH)COOC5H10COOH g−6 H2C=CHCOOC2H4COOH ここでphはフェニル基を示す。G) Example of carboxylic acid group-containing organic compound g-1 H 2 C = CHCOO (C 5 H 10 COO) 2 H g-2 H 2 C = CHCOOC 5 H 10 COOH g-3 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 OCO (1,2-ph)
COOH g-4 H 2 C = CHCOO (C 2 H 4 COO) 2 H g-5 H 2 C = C (CH) COOC 5 H 10 COOH g-6 H 2 C = CHCOOC 2 H 4 COOH wherein ph is Indicates a phenyl group.
【0040】これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中
でなされることが好ましい。表面修飾剤を溶解した溶液
に無機微粒子を添加し、超音波、スターラー、ホモジナ
イザー、ディゾルバー、サンドグラインダーを用いて、
撹拌、分散することが好ましい。The surface modification of the inorganic fine particles is preferably performed in a solution. Add inorganic fine particles to the solution in which the surface modifier is dissolved, using ultrasonic waves, a stirrer, a homogenizer, a dissolver, a sand grinder,
It is preferable to stir and disperse.
【0041】表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性
の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコー
ル、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。As a solution for dissolving the surface modifier, a highly polar organic solvent is preferable. Specific examples include known solvents such as alcohols, ketones, and esters.
【0042】表面修飾した無機微粒子溶液に、上記の多
官能モノマーと重合開始剤を加え活性エネルギー線硬化
塗布液とする。The above-mentioned polyfunctional monomer and polymerization initiator are added to the surface-modified inorganic fine particle solution to obtain an active energy ray-curable coating solution.
【0043】光重合開始剤の例としては、アセトフェノ
ン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイ
ルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アミロキシムエス
テル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチ
オキサントン類が含まれる。光重合開始剤に加えて、光
増感剤を用いてもよい。光増感剤の例には、n−ブチル
アミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィ
ン、およびチオキサントンが含まれる。Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzophenones, Michler's ketone, benzoylbenzoate, benzoins, α-amyloxime esters, tetramethylthiuram monosulfide and thioxanthones. A photosensitizer may be used in addition to the photopolymerization initiator. Examples of photosensitizers include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone.
【0044】光重合開始剤は、多官能モノマー100重
量部に対して、0.1ないし15重量部の範囲で使用す
ることが好ましく、1ないし10重量部の範囲で使用す
ることがさらに好ましい。光重合反応は、活性エネルギ
ー線硬化層の塗布および乾燥後、紫外線照射により実施
することが好ましい。The photopolymerization initiator is preferably used in an amount of 0.1 to 15 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyfunctional monomer. The photopolymerization reaction is preferably performed by ultraviolet irradiation after application and drying of the active energy ray cured layer.
【0045】本発明のハードコートフイルムの作製は、
透明支持体上に活性エネルギー線硬化塗料をディッピン
グ法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、グ
ラビア法、ワイヤーバー法等の公知の薄膜形成方法で形
成、乾燥、活性エネルギー線照射して作製することがで
きる。The production of the hard coat film of the present invention is as follows.
Active energy ray-curable paint is formed on a transparent support by a known thin film forming method such as dipping method, spinner method, spray method, roll coater method, gravure method, wire bar method, etc., dried and irradiated with active energy rays. be able to.
【0046】(可視フィルター層)可視フィルター層と
は、可視光(波長範囲380〜780nm)を選択的に
吸収する層をいう。フィルター層の厚さは0.1μmな
いし5cmであることが好ましく、0.5μmないし1
cmであることがさらに好ましく、1μmないし7mm
であることが最も好ましい。フィルター層は560ない
し620nm(560nm以上620nm以下、以下同
じ。)の波長範囲に吸収極大を持つことが好ましく、よ
り好ましくは580ないし600nmの波長範囲に吸収
極大をもつことである。また、500ないし550nm
の波長範囲に吸収極大を持っていてもよい。500ない
し550nmの波長範囲の透過率は20ないし85%の
範囲であることが好ましく、より好ましくは40ないし
85%の範囲である。500ないし550nmの波長範
囲の吸収極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を
調整するために設定される。緑の蛍光体の発光域は、な
だらかにカットすることが好ましい。500ないし55
0nmの波長範囲の吸収極大での半値幅(吸収極大での
吸光度の半分の吸光度を示す波長領域の幅)は、30な
いし300nmであることが望ましく、40ないし30
0nmであることがより好ましく、50ないし150n
mであることがさらに好ましく、60ないし150nm
であることが最も好ましい。(Visible Filter Layer) The visible filter layer is a layer that selectively absorbs visible light (wavelength range from 380 to 780 nm). The thickness of the filter layer is preferably from 0.1 μm to 5 cm, and from 0.5 μm to 1 cm.
cm, more preferably 1 μm to 7 mm
Is most preferred. The filter layer preferably has an absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm (560 nm to 620 nm, the same applies hereinafter), and more preferably has an absorption maximum in the wavelength range of 580 to 600 nm. Also, 500 to 550 nm
May have an absorption maximum in the above wavelength range. The transmittance in the wavelength range of 500 to 550 nm is preferably in the range of 20 to 85%, more preferably in the range of 40 to 85%. The absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm is set to adjust the emission intensity of the green phosphor having high visibility. It is preferable that the emission region of the green phosphor be cut smoothly. 500 to 55
The half width at the absorption maximum in the wavelength range of 0 nm (the width of the wavelength region showing half the absorbance at the absorption maximum) is preferably 30 to 300 nm, and 40 to 30 nm.
0 nm is more preferable, and 50 to 150 n
m, more preferably 60 to 150 nm
Is most preferred.
【0047】560ないし620nmの波長範囲の吸収
極大での透過率は、0.01ないし50%の範囲である
ことが望ましく、より好ましくは0.01ないし40%
の範囲である。560ないし620nmの波長範囲の吸
収極大は、赤色蛍光体の色純度を低下させているサブバ
ンドを選択的にカットするために設定される。PDPに
おいては、ネオンの励起によって放出される585nm
付近の不要な発光をカットすると同時に赤色蛍光体から
の短波側の光をカットする。本発明により吸収極大を分
離したことで、緑の蛍光体の色調に悪影響を与えること
無く、選択的に光をカットできる。緑の蛍光体の色調へ
の影響をさらに低下させるため、吸収スペクトルのピー
クをシャープにすることが好ましい。具体的には、56
0ないし620nmの波長範囲の吸収極大での半値幅
は、5ないし200nmであることが望ましく、10な
いし100nmであることがより好ましく、12ないし
50nmであることが最も好ましい。460ないし50
0nmの波長範囲の吸収極大での透過率は、20ないし
85%の範囲であることが望ましく、より好ましくは4
0ないし85%の範囲である。460ないし500nm
の波長範囲の吸収極大は、可視フィルターの着色を抑
え、無彩色化するために設定される。輝度や色補正機能
への悪影響を低下させるため、吸収スペクトルのピーク
をシャープにすることが好ましい。具体的には、460
ないし500nmの波長範囲の吸収極大での半値幅は、
5ないし200nmであることが望ましく、10ないし
150nmであることがより好ましく、15ないし10
0nmであることが最も好ましい。The transmittance at the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm is preferably in the range of 0.01 to 50%, more preferably 0.01 to 40%.
Range. The absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm is set in order to selectively cut the sub-band that reduces the color purity of the red phosphor. In PDP, 585 nm emitted by the excitation of neon
The unnecessary light emission in the vicinity is cut, and at the same time, the light on the short wavelength side from the red phosphor is cut. By separating the absorption maximum according to the present invention, light can be selectively cut without adversely affecting the color tone of the green phosphor. In order to further reduce the effect on the color tone of the green phosphor, it is preferable to sharpen the peak of the absorption spectrum. Specifically, 56
The half width at the absorption maximum in the wavelength range of 0 to 620 nm is preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, and most preferably 12 to 50 nm. 460 to 50
The transmittance at the absorption maximum in the wavelength range of 0 nm is preferably in the range of 20 to 85%, more preferably 4 to 85%.
It is in the range of 0 to 85%. 460 to 500 nm
Is set in order to suppress coloring of the visible filter and to make it achromatic. It is preferable to sharpen the peak of the absorption spectrum in order to reduce the adverse effect on the brightness and the color correction function. Specifically, 460
The half width at the absorption maximum in the wavelength range of
Preferably it is 5 to 200 nm, more preferably 10 to 150 nm, and 15 to 10 nm.
Most preferably, it is 0 nm.
【0048】380ないし440nmの波長範囲におけ
る平均透過率T1は次の式により定義される。The average transmittance T 1 in the wavelength range from 380 to 440 nm is defined by the following equation.
【数1】 式中、T(375+5n)は波長(375+5n)nm
における透過率(%)を示す。(Equation 1) Where T (375 + 5n) is the wavelength (375 + 5n) nm
Shows the transmittance (%) of the sample.
【0049】380ないし440nmの波長範囲におけ
る平均透過率は70%以下であることが好ましく、より
好ましくは60%以下である。更に詳しくは、380な
いし440nmの波長範囲における平均透過率は、1な
いし70%(「1%以上70%以下」の意味であり、本
出願において同じ。)が好ましく、より好ましくは5な
いし60%であり、最も好ましくは10ないし50%で
ある。380ないし440nmの波長範囲の吸収は、可
視フィルター自体の青みの着色を抑え、無彩色化するた
めに設定される。The average transmittance in the wavelength range of 380 to 440 nm is preferably 70% or less, more preferably 60% or less. More specifically, the average transmittance in the wavelength range of 380 to 440 nm is preferably 1 to 70% (meaning “1% or more and 70% or less, the same in the present application”), and more preferably 5 to 60%. And most preferably 10 to 50%. Absorption in the wavelength range of 380 to 440 nm is set in order to suppress the bluish coloring of the visible filter itself and to make it achromatic.
【0050】640ないし780nmの波長範囲におけ
る平均透過率は次の式により定義される。The average transmittance in the wavelength range of 640 to 780 nm is defined by the following equation.
【数2】 式中、T(635+5n)は波長(635+5n)nm
における透過率(%)を表す。(Equation 2) In the formula, T (635 + 5n) is a wavelength (635 + 5n) nm.
Represents transmittance (%).
【0051】640ないし780nmの波長範囲におけ
る平均透過率は70%以下であることが好ましく、より
好ましくは60%以下である。さらに詳しくは、この平
均透過率は1ないし70%が好ましく、さらに好ましく
は5ないし60%であり、最も好ましくは10ないし5
0%である。波長が640ないし780nmの範囲の吸
収は、可視フィルター自体の赤みの着色を抑え、無彩色
化するために設定する。The average transmittance in the wavelength range of 640 to 780 nm is preferably 70% or less, more preferably 60% or less. More specifically, the average transmittance is preferably 1 to 70%, more preferably 5 to 60%, and most preferably 10 to 5%.
0%. Absorption in the wavelength range of 640 to 780 nm is set to suppress reddish coloring of the visible filter itself and to make it achromatic.
【0052】380ないし440nmの波長範囲と64
0ないし780nmの波長範囲における平均透過率の調
整は、フィルター自体の色味ができるだけ無彩色に近づ
くようにいずれかの範囲または両方の範囲を上記範囲に
調整する。560ないし620nmの波長範囲における
吸収極大の位置およびその透過率、500ないし550
nmの波長範囲における吸収極大の位置およびその透過
率ならびに両吸収の位置関係や吸収強度の強度比によっ
てフィルター自体の色味は微妙に変化する。したがっ
て、380ないし440nmの波長範囲と640ないし
780nmの波長範囲における透過率の調整はフィルタ
ー設計仕様ごと実施する必要がある。輝度を低下させた
り色補正機能への悪影響を最小限に抑えるために透過率
を調整する場合、440nm前後の透過率の変化はでき
るだけ急峻であることが望ましく、445nmでの透過
率は好ましくは75%以上、さらに好ましくは80%以
上である。同様に640nm前後の透過率の変化はでき
るだけ急峻であることが望ましく、635nmでの透過
率は好ましくは75%以上、さらに好ましくは80%以
上である。The wavelength range from 380 to 440 nm and 64
In the adjustment of the average transmittance in the wavelength range of 0 to 780 nm, one or both of the ranges are adjusted to the above range so that the color of the filter itself approaches an achromatic color as much as possible. Position of the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm and its transmittance, 500 to 550
The color of the filter itself slightly changes depending on the position of the absorption maximum and its transmittance in the wavelength range of nm, the positional relationship between the two absorptions, and the intensity ratio of the absorption intensity. Therefore, it is necessary to adjust the transmittance in the wavelength range of 380 to 440 nm and the wavelength range of 640 to 780 nm according to the filter design specifications. When adjusting the transmittance to reduce the luminance or minimize the adverse effect on the color correction function, the change in the transmittance around 440 nm is desirably as steep as possible, and the transmittance at 445 nm is preferably 75. %, More preferably 80% or more. Similarly, the change in transmittance around 640 nm is desirably as steep as possible, and the transmittance at 635 nm is preferably at least 75%, more preferably at least 80%.
【0053】上記の吸収スペクトルを付与するために、
色素(染料または顔料)を用いて、フィルター層を形成
することができる。500ないし550nmの波長範囲
に吸収極大を持つ染料としては、スクアリリウム系、ア
ゾメチン系、シアニン系、オキソノール系、アントラキ
ノン系、アゾ系またはベンジリデン系の化合物が好まし
く用いられる。アゾ染料としては、GB539703
号、同575691号、US2,956,879号およ
び堀口博著「総説合成染料」三共出版などに記載の多く
のアゾ染料を使用することができる。波長が500ない
し550nmの範囲に吸収極大を持つ色素の例を以下に
示す。In order to provide the above absorption spectrum,
A filter layer can be formed using a coloring matter (dye or pigment). As the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm, a squarylium-based, azomethine-based, cyanine-based, oxonol-based, anthraquinone-based, azo- or benzylidene-based compound is preferably used. As azo dyes, GB539703
Many azo dyes described in No. 5,756,91, US Pat. No. 2,956,879 and Hiroshi Horiguchi, “Review Synthetic Dyes”, published by Sankyo Publishing Co., Ltd. can be used. Examples of the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm are shown below.
【0054】[0054]
【化1】 Embedded image
【0055】[0055]
【化2】 Embedded image
【0056】[0056]
【化3】 Embedded image
【0057】560ないし620nmの波長範囲に吸収
極大を持つ染料としては、シアニン系、スクアリリウム
系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系また
はアゾ系の化合物が好ましく用いられる。560ないし
620nmの波長範囲に吸収極大を持つ色素の例を以下
に示す。As the dye having an absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm, cyanine, squarylium, azomethine, xanthene, oxonol and azo compounds are preferably used. Examples of the dye having the absorption maximum in the wavelength range of 560 to 620 nm are shown below.
【0058】[0058]
【化4】 Embedded image
【0059】[0059]
【化5】 Embedded image
【0060】[0060]
【化6】 Embedded image
【0061】また、500ないし550nmの波長範囲
と560ないし620nmの波長範囲の両方に吸収極大
を持つ染料をフィルター層に用いることもできる。例え
ば、染料を微粒子分散物のような会合体の状態にする
と、一般に波長が長波長側にシフトして、ピークがシャ
ープになる。そのため、500ないし550nmの波長
範囲に吸収極大を持つ染料には、その会合体が560な
いし620nmの範囲に吸収極大を持つものもある。そ
のような染料が部分的に会合体を形成した状態で使用す
ると、500ないし550nmの波長範囲と560ない
し620nmの波長範囲の両方に吸収極大を得ることが
できる。そのような色素の例を以下に示す。A dye having an absorption maximum in both the wavelength range of 500 to 550 nm and the wavelength range of 560 to 620 nm can be used for the filter layer. For example, when the dye is in an aggregated state such as a fine particle dispersion, the wavelength generally shifts to the longer wavelength side, and the peak becomes sharp. For this reason, some dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 500 to 550 nm have an aggregate having an absorption maximum in the range of 560 to 620 nm. When such a dye is used in a partially associated state, an absorption maximum can be obtained in both the wavelength range of 500 to 550 nm and the wavelength range of 560 to 620 nm. Examples of such dyes are shown below.
【0062】[0062]
【化7】 Embedded image
【0063】460ないし500nmの波長範囲に吸収
を持つ染料としては、メチン系、アントラキノン系、キ
ノン系、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染
料、キサンテン染料、アゾ系、アゾメチン系の化合物が
好ましく用いられる。メチン系としてはシアニン系、メ
ロシアニン系、オキソノール系、アリーリデン系、スチ
リル系などを挙げることができる。460ないし500
nmの波長範囲に吸収を持つ色素の例を以下に示す。As the dye having an absorption in the wavelength range of 460 to 500 nm, methine, anthraquinone, quinone, diphenylmethane dye, triphenylmethane dye, xanthene dye, azo and azomethine compounds are preferably used. Examples of the methine series include cyanine series, merocyanine series, oxonol series, arylidene series, and styryl series. 460 to 500
Examples of dyes having absorption in the wavelength range of nm are shown below.
【0064】[0064]
【化8】 Embedded image
【0065】380ないし440nmの波長範囲に吸収
を持つ染料としては、メチン系、アントラキノン系、キ
ノン系、ジフェニルメタン染料、トリフェニルメタン染
料、キサンテン染料、アゾ系、アゾメチン系の化合物が
好ましく用いられる。メチン系としてはシアニン系、メ
ロシアニン系、オキソノール系、アリーリデン系、スチ
リル系などを挙げることができる。380ないし440
nmの波長範囲に吸収を持つ色素の例を以下に示す。As the dye having absorption in the wavelength range of 380 to 440 nm, methine, anthraquinone, quinone, diphenylmethane dye, triphenylmethane dye, xanthene dye, azo and azomethine compounds are preferably used. Examples of the methine series include cyanine series, merocyanine series, oxonol series, arylidene series, and styryl series. 380 to 440
Examples of dyes having absorption in the wavelength range of nm are shown below.
【0066】[0066]
【化9】 Embedded image
【化10】 Embedded image
【0067】640ないし780nmの波長範囲に吸収
を持つ染料としては、シアニン系、スクアリリウム系、
アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ
系、アントラキノン系、トリフェニルメタン系、キサン
テン系、Cu-フタロシアニン系、フェノチアジン系また
はフェノキサジン系などの化合物が好ましく用いられ
る。640ないし780nmの波長範囲に吸収を持つ色
素の例を以下に示す。Dyes having an absorption in the wavelength range of 640 to 780 nm include cyanine-based dyes, squarylium-based dyes, and the like.
Azomethine, xanthene, oxonol, azo, anthraquinone, triphenylmethane, xanthene, Cu-phthalocyanine, phenothiazine or phenoxazine compounds are preferably used. Examples of dyes having absorption in the wavelength range of 640 to 780 nm are shown below.
【0068】[0068]
【化11】 Embedded image
【0069】フィルター層には、以上に記載した、波長
吸収範囲がほぼ同一である、または異なる、2種または
3種類以上の染料を組み合わせて用いることができる。For the filter layer, two or three or more dyes having the same or different wavelength absorption ranges as described above can be used in combination.
【0070】(バインダー)フィルター層は、染料のほ
かに適当なバインダーを含むことが好ましく、特に好ま
しくはポリマーバインダーを含む。天然ポリマー(例、
ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸)または合成
ポリマー(例、ポリメチルメタクリレート、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコー
ル、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマ
ー、ポリスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミ
ド)をポリマーバインダーとして用いることができる。
親水性ポリマー(上記天然ポリマー、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコール、水
溶性ポリアミド)が特に好ましい。(Binder) The filter layer preferably contains a suitable binder in addition to the dye, and particularly preferably contains a polymer binder. Natural polymers (eg,
Use of gelatin, cellulose derivatives, alginic acid) or synthetic polymers (eg, polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride, styrene-butadiene copolymer, polystyrene, polycarbonate, water-soluble polyamide) as the polymer binder Can be.
Particularly preferred are hydrophilic polymers (the above-mentioned natural polymers, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl alcohol, and water-soluble polyamide).
【0071】(下塗り層)本発明では、前述の、又は、
後述の、ハードコート層、反射防止層、フィルター層、
赤外遮断層、電磁波遮断層を支持体上に設けることがで
き、この場合には支持体とこれらの機能層との間に、1
層又は2層以上の下塗り層を設けることができる。この
下塗り層としては、25℃における弾性率が1000MP
a以下1MPa以上、好ましくは800MPa以下5MPa以上、
さらに好ましくは500MPa以下10MPa以上の柔らかい
ポリマーが好ましい。またその厚みとしては好ましくは
2nm以上20μm以下、さらに好ましくは5nm以上
5μm以下、最も好ましくは50nm以上1μm以下で
ある。本発明の下塗り層に使用される好ましいポリマー
は、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジ
エン、ネオプレン(登録商標)、スチレン、クロロプレ
ン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アク
リロニトリルまたはメチルビニルエーテルいずれかの単
独重合またはこれらのビニルモノマーよりなる群より選
ばれた2種以上のモノマーを共重合したコポリマー(共
重合体)である。(Undercoat layer) In the present invention,
The hard coat layer, antireflection layer, filter layer,
An infrared shielding layer and an electromagnetic wave shielding layer can be provided on the support. In this case, between the support and these functional layers, 1
One or more subbing layers can be provided. The undercoat layer has an elastic modulus at 25 ° C. of 1000 MP
a 1 MPa or more, preferably 800 MPa or less, 5 MPa or more,
More preferably, a soft polymer of 500 MPa or less and 10 MPa or more is preferred. The thickness is preferably 2 nm or more and 20 μm or less, more preferably 5 nm or more and 5 μm or less, and most preferably 50 nm or more and 1 μm or less. Preferred polymers used in the subbing layer of the invention are vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl acetate, butadiene, neoprene, styrene, chloroprene, acrylates, methacrylates, acrylonitrile or methyl vinyl ether alone. It is a copolymer obtained by polymerization or copolymerization of two or more monomers selected from the group consisting of these vinyl monomers.
【0072】(反射防止層)反射防止層とは、正反射率
が3.0%以下の層を意味し、好ましくは1.8%以下
の正反射率を有する層である。反射防止層としては通常
低屈折率層を設けることが有用である。低屈折率層の屈
折率は、上記透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率
層の屈折率は、1.20以上1.55以下であることが
好ましく、1.30以上1.50以下であることがさら
に好ましい。低屈折率層の厚さは、50以上400nm
以下であることが好ましく、50以上200nm以下で
あることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の低
い含フッ素ポリマーからなる層(特開昭57−3452
6号、特開平3−130103号、同6−115023
号、同8−313702号、同7−168004号の各
公報記載)、ゾルゲル法により得られる層(特開平5−
208811号、同6−299091号、同7−168
003号の各公報記載)、あるいは微粒子を含む層(特
公昭60−59250号、特開平5−13021号、同
6−56478号、同7−92306号、同9−288
201号の各公報に記載)として形成することができ
る。微粒子を含む層では、微粒子間または微粒子内のミ
クロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することが
できる。微粒子を含む層は、3ないし50体積%の空隙
率を有することが好ましく、5ないし35体積%の空隙
率を有することがさらに好ましい。(Anti-reflection layer) The anti-reflection layer means a layer having a regular reflectance of 3.0% or less, and preferably a layer having a regular reflectance of 1.8% or less. It is usually useful to provide a low refractive index layer as the antireflection layer. The refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the transparent support. The refractive index of the low refractive index layer is preferably from 1.20 to 1.55, more preferably from 1.30 to 1.50. The thickness of the low refractive index layer is 50 to 400 nm.
Or less, more preferably 50 to 200 nm. The low refractive index layer is a layer made of a fluorine-containing polymer having a low refractive index (JP-A-57-3452).
No. 6, JP-A-3-130103 and 6-115023
And JP-A-8-313702 and JP-A-7-168004), and a layer obtained by a sol-gel method (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 208811, No. 6-299091, No. 7-168
No. 003) or a layer containing fine particles (JP-B-60-59250, JP-A-5-13021, JP-A-6-56478, JP-A-7-92306, and 9-288).
No. 201). In the layer containing fine particles, voids can be formed in the low refractive index layer as microvoids between the fine particles or in the fine particles. The layer containing fine particles preferably has a porosity of 3 to 50% by volume, more preferably 5 to 35% by volume.
【0073】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。中・高屈折率層は、本
発明の下塗り層よりも高い屈折率を持つ層であり、中・
高屈折率層を併用することにより、低屈折率層のみを用
いた場合よりも広い範囲で、高い反射防止効果を有す
る。高屈折率層の屈折率は、1.65ないし2.40で
あることが好ましく、1.70ないし2.20であるこ
とがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率
層の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるよ
うに調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50ないし
1.90であることが好ましい。中・高屈折率層の厚さ
は、5nmないし100μmであることが好ましく、1
0nmないし10μmであることがさらに好ましく、3
0nmないし1μmであることが最も好ましい。中・高
屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、
3%以下であることがさらに好ましく、1%以下である
ことが最も好ましい。中・高屈折率層は、比較的高い屈
折率を有するポリマーを用いて形成することができる。
屈折率が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレ
ン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂および環状(脂環式または芳香
族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポ
リウレタンが含まれる。その他の環状(芳香族、複素環
式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロ
ゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高
い。二重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノ
マーの重合反応によりポリマーを形成してもよい。To prevent reflection in a wide wavelength range,
It is preferable to laminate a layer having a high refractive index (middle / high refractive index layer) in addition to the low refractive index layer. The middle / high refractive index layer is a layer having a higher refractive index than the undercoat layer of the present invention.
By using the high refractive index layer together, a high antireflection effect can be obtained in a wider range than when only the low refractive index layer is used. The refractive index of the high refractive index layer is preferably from 1.65 to 2.40, and more preferably from 1.70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.50 to 1.90. The thickness of the middle / high refractive index layer is preferably 5 nm to 100 μm,
More preferably, the thickness is 0 nm to 10 μm.
Most preferably, it is 0 nm to 1 μm. The haze of the middle / high refractive index layer is preferably 5% or less,
It is more preferably at most 3%, most preferably at most 1%. The middle / high refractive index layer can be formed using a polymer having a relatively high refractive index.
Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. . Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.
【0074】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80ないし2.80であることが好ま
しい。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形
成することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例
には、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼ
の混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸
化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化
亜鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジ
ウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸
化物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含む
ことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で
最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素
の例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、M
n、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、M
g、Si、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に
分散し得るか、それ自身が液状である無機材料、例え
ば、各種元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合
物と結合した配位化合物(例、キレート化合物)、活性
無機ポリマーを用いて、中・高屈折率層を形成すること
もできる。In order to obtain a higher refractive index, inorganic fine particles may be dispersed in a polymer binder. The refractive index of the inorganic fine particles is preferably from 1.80 to 2.80. The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystals, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium oxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by mass) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, M
n, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, M
g, Si, P and S are included. Inorganic materials that are film-forming and can be dispersed in solvents or are themselves liquid, such as alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) combined with coordination compounds, activity The middle / high refractive index layer can be formed using an inorganic polymer.
【0075】(電磁波遮蔽層および赤外線遮蔽層)本発
明において電磁波遮断効果を有する層の表面抵抗は0.
01ないし500Ω/□、より好ましくは0.01ない
し10Ω/□である。電磁波遮蔽効果を付与するには、
前面板の可視光透過率を低下させないため透明導電層を
用いることが好ましい。透明導電層としては、金属層、
金属酸化物層、導電性ポリマー層等を挙げるこができ
る。透明導電層を形成する金属としては、例えば銀、パ
ラジウム、金、白金、ロジウム、アルミニウム、鉄、コ
バルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、錫、タング
ステン、イリジウム、鉛単独もしくはこれらの合金を挙
げることができるが、好ましくは銀、パラジウム、金、
白金、ロジウム単独もしくはこれらの合金である。ここ
で銀とパラジウムの合金が好ましく、このとき銀の含有
率は60%ないし99%が好ましく、80%ないし98
%が更に好ましい。金属層の膜厚は1〜100nmが好
ましく、5〜40nmが更に好ましく、10〜30nm
が最も好ましい。膜厚が1nm未満では電磁波遮蔽効果
が乏しく、100nmを超えると可視光線の透過率が低
下する。透明導電層を形成する金属酸化物としては、例
えば酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜
鉛、ITO、ATOなどを挙げることができる。この膜
厚は20〜1000nmが好ましい。さらに好ましくは
40〜100nmである。これら金属透明導電層と酸化
物透明導電層を合わせて用いるのも好ましい。また、同
一層内に金属と導電性金属酸化物が共存することも好ま
しい。金属層の保護、酸化劣化防止および可視光線の透
過率を高めるために透明酸化物層を積層することができ
る。この透明酸化物層は導電性があってもなくてもかま
わない。透明酸化物層としては例えば2〜4価金属の酸
化物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウ
ム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび金属アルコキ
サイド化合物等の薄膜が挙げられる。透明導電層、透明
酸化物層を形成する方法としては特に制限はなく、任意
の加工処理方法を選択することが可能である。例えばス
パッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング
法、プラズマCVD法あるいはPVD法、該当する金属
あるいは金属酸化物の超微粒子の塗布等いずれの公知技
術も用いることが可能である。電磁波遮蔽効果を付与す
る別の方法として金属メッシュを用いる方法がある。こ
れは支持体全面に細く金属を格子状に配置させたもので
あり、透明導電性層に比べて透明性にやや劣るものの導
電性に優れ、優れた電磁波遮蔽能力をもつ。この方法を
単独で、あるいは透明導電層と併用し、目的に応じて電
磁波遮蔽能力を調整して用いることもできる。(Electromagnetic Wave Shielding Layer and Infrared Shielding Layer) In the present invention, the layer having an electromagnetic wave shielding effect has a surface resistance of 0.5.
It is 0.01 to 500 Ω / □, more preferably 0.01 to 10 Ω / □. To provide an electromagnetic wave shielding effect,
It is preferable to use a transparent conductive layer so as not to lower the visible light transmittance of the front plate. As the transparent conductive layer, a metal layer,
Examples include a metal oxide layer and a conductive polymer layer. Examples of the metal forming the transparent conductive layer include silver, palladium, gold, platinum, rhodium, aluminum, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, ruthenium, tin, tungsten, iridium, lead alone and alloys thereof. But preferably silver, palladium, gold,
Platinum, rhodium alone or an alloy thereof. Here, an alloy of silver and palladium is preferable, and the content of silver is preferably 60% to 99%, and more preferably 80% to 98%.
% Is more preferred. The thickness of the metal layer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 40 nm, and more preferably 10 to 30 nm.
Is most preferred. If the film thickness is less than 1 nm, the electromagnetic wave shielding effect is poor, and if it exceeds 100 nm, the transmittance of visible light decreases. Examples of the metal oxide forming the transparent conductive layer include tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO, and ATO. This film thickness is preferably from 20 to 1000 nm. More preferably, it is 40 to 100 nm. It is also preferable to use the metal transparent conductive layer and the oxide transparent conductive layer together. It is also preferable that a metal and a conductive metal oxide coexist in the same layer. A transparent oxide layer can be laminated to protect the metal layer, prevent oxidative deterioration, and increase visible light transmittance. This transparent oxide layer may or may not be conductive. Examples of the transparent oxide layer include thin films of oxides of divalent to tetravalent metals, zirconium oxide, titanium oxide, magnesium oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and metal alkoxide compounds. The method for forming the transparent conductive layer and the transparent oxide layer is not particularly limited, and any processing method can be selected. For example, any known technique such as a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a plasma CVD method or a PVD method, and application of ultrafine particles of a corresponding metal or metal oxide can be used. As another method for providing an electromagnetic wave shielding effect, there is a method using a metal mesh. This is a metal in which a thin metal is arranged in a grid pattern on the entire surface of the support, and is slightly inferior in transparency to the transparent conductive layer, but has excellent conductivity and excellent electromagnetic wave shielding ability. This method can be used alone or in combination with the transparent conductive layer, and the electromagnetic wave shielding ability can be adjusted according to the purpose.
【0076】本発明における赤外線遮蔽効果とは、80
0ないし1200nmの近赤外領域の線スペクトルを遮
蔽する機能をいう。この近赤外領域の線スペクトル遮蔽
特性は800nmの透過率が15%以下、850nmで
は5%以下であることが好ましい。この赤外線遮蔽効果
を付与するには透明プラスチック支持体に近赤外吸収性
化合物を混合する方法を用いることができる。例えば銅
原子を含有する樹脂組成物(特開平6−118228号
公報)、銅化合物、リン化合物を含有する樹脂組成物
(特開昭62−5190号公報)、銅化合物、チオ尿素
誘導体を含有する樹脂組成物(特開平6−73197号
公報)、タングステン系化合物を含有する樹脂組成物
(US3,647,729号公報)などを形成すること
によって容易に製造できる。別の方法として可視フィル
ター層と同様に、色素(染料または顔料)を用いて赤外
線遮蔽フィルター層を形成する方法もある。近赤外領域
に吸収を持つ染料としてはシアニン系の化合物が好まし
く用いられる。約800nm〜1200nmの波長範囲
に吸収極大を持つ色素の例を以下に示す。The infrared shielding effect in the present invention is 80%.
It refers to the function of blocking a line spectrum in the near infrared region from 0 to 1200 nm. As for the line spectrum shielding characteristics in the near infrared region, the transmittance at 800 nm is preferably 15% or less, and the transmittance at 850 nm is preferably 5% or less. To impart this infrared shielding effect, a method of mixing a near infrared absorbing compound with a transparent plastic support can be used. For example, a resin composition containing a copper atom (JP-A-6-118228), a resin composition containing a copper compound and a phosphorus compound (JP-A-62-5190), a copper compound, and a thiourea derivative are contained. It can be easily produced by forming a resin composition (JP-A-6-73197) and a resin composition containing a tungsten-based compound (US Pat. No. 3,647,729). As another method, similarly to the visible filter layer, there is a method of forming an infrared shielding filter layer using a dye (dye or pigment). As the dye having absorption in the near infrared region, a cyanine compound is preferably used. Examples of dyes having an absorption maximum in a wavelength range of about 800 nm to 1200 nm are shown below.
【0077】[0077]
【化12】 Embedded image
【0078】銀を透明状に成膜する方法が電磁波遮蔽に
加えて赤外線遮蔽効果を持たせる方法として安価であり
好ましい。近赤外線遮蔽層には、以上に記載した、波長
吸収範囲がほぼ同一である、または異なる、2種または
3種類以上の手段を組み合わせて用いることができる。The method of forming silver in a transparent state is inexpensive and preferable as a method of providing an infrared ray shielding effect in addition to the electromagnetic wave shielding. The near-infrared shielding layer can be used in combination of two or three or more means having the same or different wavelength absorption ranges described above.
【0079】(無機ガラス基板)本発明の前面板に用い
る無機ガラス基板の厚みは1mmないし5mmが好まし
く、1.5mmないし4.5mmがより好ましく、2m
mないし4mmが最も好ましい。材質としてはパネル本
体を保護する観点および安全性の観点から強化ガラスが
好ましい。 (その他の層)本発明には、潤滑層、防汚層、帯電防止
層あるいは中間層を設けることもできる。反射防止膜の
最表面には潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反射防
止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有
する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン(例、シリコ
ンオイル)、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸
金属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成
することができる。潤滑層の厚さは、2ないし20nm
であることが好ましい。または反射防止膜の最表面に防
汚層を設けることもできる。防汚層は反射防止層の表面
エネルギーを下げ、親水性、親油性の汚れを付きにくく
するものである。そのほか防汚層は含フッ素ポリマーを
用いて形成することができる。防汚層の厚さは2nmな
いし100nm、好ましくは5nmないし30nmであ
る。(Inorganic Glass Substrate) The thickness of the inorganic glass substrate used for the front plate of the present invention is preferably 1 mm to 5 mm, more preferably 1.5 mm to 4.5 mm, and preferably 2 mm.
Most preferably, m to 4 mm. As a material, tempered glass is preferable from the viewpoint of protecting the panel body and the viewpoint of safety. (Other layers) In the present invention, a lubricating layer, an antifouling layer, an antistatic layer or an intermediate layer may be provided. A lubrication layer may be formed on the outermost surface of the antireflection film. The lubricating layer has a function of imparting lubricity to the surface of the antireflection film and improving scratch resistance. The lubricating layer can be formed using polyorganosiloxane (eg, silicone oil), natural wax, petroleum wax, higher fatty acid metal salt, fluorine-based lubricant or a derivative thereof. The thickness of the lubricating layer is 2 to 20 nm
It is preferred that Alternatively, an antifouling layer can be provided on the outermost surface of the antireflection film. The antifouling layer lowers the surface energy of the antireflection layer and makes it difficult to adhere to hydrophilic and lipophilic stains. In addition, the antifouling layer can be formed using a fluorine-containing polymer. The thickness of the antifouling layer is 2 nm to 100 nm, preferably 5 nm to 30 nm.
【0080】本発明においては、表面にアンチグレア機
能(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面
に映るのを防止する機能)を付与することができる。例
えば、透明フイルムの表面に微細な凹凸を形成し、そし
てその表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防
止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成
することにより、アンチグレア機能を得ることができ
る。アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3
ないし30%のヘイズを有する。In the present invention, the surface can be provided with an anti-glare function (a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from being reflected on the film surface). For example, an anti-glare function is obtained by forming fine irregularities on the surface of a transparent film, and forming an anti-reflection layer on the surface, or forming an anti-reflection layer, and then forming the irregularities on the surface with an embossing roll. be able to. An anti-reflection layer having an anti-glare function is generally 3
It has a haze of -30%.
【0081】反射防止層(低屈折率層)、フィルター
層、赤外線や電磁波の遮蔽層、下塗り層、ハードコート
層、潤滑層、防汚層、その他の層は、一般的な塗布方法
により形成することができる。塗布方法の例には、ディ
ップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法およびホッパーを使用するエクストルージョ
ンコート法(米国特許2,681,294号明細書記
載)が含まれる。二以上の層を同時塗布により形成して
もよい。同時塗布法については、米国特許2,761,
791号、同2,941,898号、同3,508,9
47号、同3,526,528号の各明細書および原崎
勇次著「コーティング工学」253頁(1973年朝倉
書店発行)に記載がある。また、本発明における反射防
止層および赤外や電磁波の遮蔽層の成膜方法には、スパ
ッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、
プラズマCVD法あるいはPVD法も透明支持体の耐熱
性等の改良に合わせて適宜選択することができる。The antireflection layer (low refractive index layer), filter layer, infrared ray or electromagnetic wave shielding layer, undercoat layer, hard coat layer, lubricating layer, antifouling layer, and other layers are formed by a general coating method. be able to. Examples of the coating method include dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and extrusion coating using a hopper (US Pat. No. 2,681,294). (Described in the specification). Two or more layers may be formed by simultaneous coating. No. 2,761, U.S. Pat.
No. 791, No. 2, 941, 898, No. 3, 508, 9
No. 47, 3,526, 528, and in Yuji Harazaki, "Coating Engineering", p. 253 (published by Asakura Shoten in 1973). The method for forming the antireflection layer and the infrared or electromagnetic wave shielding layer in the present invention includes a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method,
The plasma CVD method or the PVD method can be appropriately selected according to the improvement of the heat resistance of the transparent support.
【0082】本発明において、発明の構成素材(例え
ば、支持体の材料の種類、染料の種類、下塗り層の素
材、赤外や電磁波の遮蔽層の素材、反射防止層用の低屈
折率ポリマーの種類等)及び、諸特性(例えば、可視フ
ィルターの透過率、電磁波遮蔽層の表面抵抗値、赤外遮
蔽層の赤外透過率、下塗り層の弾性率範囲等)から選ば
れた2つ以上の好ましい構成素材又は特性の組み合わせ
をも又本発明の好ましい実施態様として使用することが
できる。In the present invention, the constituent materials of the invention (for example, the type of the material of the support, the type of the dye, the material of the undercoat layer, the material of the infrared or electromagnetic wave shielding layer, and the low refractive index polymer for the antireflection layer) And two or more selected from various characteristics (e.g., transmittance of a visible filter, surface resistance of an electromagnetic wave shielding layer, infrared transmittance of an infrared shielding layer, elastic modulus range of an undercoat layer, etc.). Preferred construction materials or combinations of properties can also be used as preferred embodiments of the present invention.
【0083】(本発明の光学フィルターおよび前面板の
用途)本発明の光学フィルターおよび前面板は、液晶表
示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PD
P)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(EL
D)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置
に用いられる。本発明の光学フィルターおよび前面板は
特に、プラズマディスプレイパネル(PDP)および陰
極管表示装置(CRT)の光学フィルターおよび前面板
として使用すると、顕著な効果が得られる。プラズマデ
ィスプレイパネル(PDP)は、ガス、ガラス基板、電
極、電極リード材料、厚膜印刷材料および蛍光体により
構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板と後面ガラ
ス基板の二枚である。二枚のガラス基板には電極と絶縁
層を形成する。後面ガラス基板には、さらに蛍光体層を
形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、その間にガ
スを封入する。光学フィルターおよび前面板はこれらプ
ラズマディスプレイ本体を保護するように、本体前面に
位置する。光学フィルターおよび前面板は本体を保護す
るために充分な強度を備えていることが好ましい。本発
明の光学フィルターおよび前面板は、プラズマディスプ
レイ本体と隙間をおいて使用することもできるし、プラ
ズマディスプレイ本体に直貼りして使用することもでき
る。プラズマディスプレイパネル(PDP)は、既に市
販されている。プラズマディスプレイパネルについて
は、特開平5−205643号、同9−306366号
の各公報に記載がある。(Applications of Optical Filter and Front Plate of the Present Invention) The optical filter and front plate of the present invention can be used for a liquid crystal display (LCD) and a plasma display panel (PD).
P), electroluminescent display (EL)
D) or an image display device such as a cathode ray tube display device (CRT). Particularly when the optical filter and the front plate of the present invention are used as an optical filter and a front plate of a plasma display panel (PDP) and a cathode ray tube display (CRT), a remarkable effect is obtained. A plasma display panel (PDP) includes a gas, a glass substrate, an electrode, an electrode lead material, a thick film printing material, and a phosphor. There are two glass substrates, a front glass substrate and a rear glass substrate. An electrode and an insulating layer are formed on two glass substrates. A phosphor layer is further formed on the rear glass substrate. Two glass substrates are assembled, and gas is sealed between them. The optical filter and the front plate are located on the front of the main body of the plasma display so as to protect the main body. It is preferable that the optical filter and the front plate have sufficient strength to protect the main body. The optical filter and the front plate of the present invention can be used with a gap from the plasma display main body, or can be used by directly attaching to the plasma display main body. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. The plasma display panel is described in JP-A-5-205643 and JP-A-9-306366.
【0084】以下に実施例を挙げて本発明をさらに説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。Hereinafter, the present invention will be further described with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
【0085】[0085]
【実施例】1.ハードコートおよび反射防止を施した透
明支持体の作製 1−1.ポリエステルの重合 (a)ポリエチレンテレフタレート(PET) テレフタル酸ジメチルエステル80部、エチレングリコ
−ル58部、酢酸マンガン4水和物0.029部、三酸
化アンチモン0.028部を加え、撹拌しながら200
℃に加熱した。副生するメタノ−ルを除去しつつ235
℃まで昇温した。メタノ−ルの副生が終了後トリメチル
リン酸0.03部を添加し、285℃に昇温しながら
0.3Torrに減圧し固有粘度0.62のPETを重
合した。なお、これらの固有粘度は以下の方法で測定し
た。 フェノール/1,1,2,2-テトラクロロエタン混合溶媒
(重量比:60/40)にポリエステルを溶解し、0.2
g/dl、0.6g/dl、1.0g/dlの溶液を作成する。 これを20℃において、ウベローデ粘度計を用いて測
定する。 濃度に対し粘度をプロットし、濃度=0に外挿した粘
度を固有粘度とした。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS 1. Production of Hard Coat and Antireflective Transparent Support 1-1. Polymerization of polyester (a) Polyethylene terephthalate (PET) 80 parts of dimethyl terephthalate, 58 parts of ethylene glycol, 0.029 part of manganese acetate tetrahydrate, and 0.028 part of antimony trioxide were added, and stirred.
Heated to ° C. 235 while removing by-product methanol
The temperature was raised to ° C. After the by-product of methanol was completed, 0.03 part of trimethylphosphoric acid was added, and the pressure was reduced to 0.3 Torr while the temperature was raised to 285 ° C. to polymerize PET having an intrinsic viscosity of 0.62. In addition, these intrinsic viscosities were measured by the following method. Phenol / 1,1,2,2-tetrachloroethane mixed solvent
(Weight ratio: 60/40)
Make solutions of g / dl, 0.6g / dl and 1.0g / dl. This is measured at 20 ° C. using an Ubbelohde viscometer. The viscosity was plotted against the concentration, and the viscosity extrapolated to the concentration = 0 was defined as the intrinsic viscosity.
【0086】1−2.微粒子の混練 上記方法で重合時間を短くすることで、表1に記載の固
有粘度のPETのオリゴマーを調製した。これを表1に
記載のような微粒子に、オリゴマー対微粒子の重量比が
1:10となるように添加し、これをバンバリーミキサ
ーを用い230℃で5分間混練した。こうして得たオリ
ゴマーと微粒子の混合物を、上記固有粘度0.62のP
ET(ペレット4)を150℃で30分乾燥したものに
微粒子含量が表1に記載した値になるように添加した
後、1軸混練押出し機を用い、280℃から320℃に
昇温しながら5分間混練した。これをヌードル状に押出
した後、水冷、裁断しペレットを形成した(ペレット1
〜3)。1-2. Kneading of Fine Particles An oligomer of PET having an intrinsic viscosity shown in Table 1 was prepared by shortening the polymerization time by the above method. This was added to the fine particles as shown in Table 1 so that the weight ratio of oligomer to fine particles was 1:10, and the mixture was kneaded at 230 ° C. for 5 minutes using a Banbury mixer. The mixture of the oligomer and the fine particles thus obtained was mixed with a P2 having an intrinsic viscosity of 0.62.
ET (pellet 4) was dried at 150 ° C. for 30 minutes, and added so that the content of fine particles became the value shown in Table 1. Then, the temperature was increased from 280 ° C. to 320 ° C. using a single screw kneading extruder. Kneaded for 5 minutes. This was extruded into noodles, then cooled with water and cut to form pellets (pellet 1).
~ 3).
【0087】[0087]
【表1】微粒子の分散 [Table 1] Dispersion of fine particles
【0088】1−3.ポリエステルフイルムの製膜 上記方法で調製したポリエステルペレットを160℃で
3時間乾燥した。これを表2に示した構成になるよう
に、各組成のペレットを押出し機で310℃で熔融、5
μmのメッシュフィルタ−で濾過した後、Tダイ(マル
チマニホールドダイ)から50℃の静電印加したキャス
ティングドラム上に押し出し未延伸フイルムを調製し
た。1-3. Polyester film formation The polyester pellets prepared by the above method were dried at 160 ° C for 3 hours. The pellets of each composition were melted at 310 ° C. with an extruder so that the composition shown in Table 2 was obtained.
After filtering through a μm mesh filter, an unstretched film was extruded from a T-die (multi-manifold die) onto a casting drum to which static electricity at 50 ° C. was applied.
【0089】これを表2に示す構成になるようにMD延
伸(倍率3.5倍、105℃)、TD延伸(4.0倍、
110℃)、熱固定(245℃)、熱緩和(3%)を行
った。なお、全水準製膜幅は1.8mであり、これを両
端トリミングし1.5mとした後、両端に高さ30μ
m、幅10mmのナール加工をした後、3000mずつ
直径30cmの巻芯に巻き取った。[0097] The resulting film was stretched in the MD (3.5 times, 105 ° C) and TD stretched (4.0 times,
110 ° C.), heat setting (245 ° C.), and thermal relaxation (3%). The width of the film was 1.8 m, which was trimmed to 1.5 m at both ends.
After a knurling process with a width of 10 mm and a width of 10 mm, it was wound up into a core having a diameter of 30 cm by 3000 m.
【0090】[0090]
【表2】製膜条件及び表面弾性率 [Table 2] Film forming conditions and surface elastic modulus
【0091】1−4.無機粒子分散液(M−1)の調製 セラミックコートのベッセルに各試薬を以下の量計量し
た。 シクロヘキサノン 337 g PM−2(日本化薬(株)製リン酸基含有メタアクリレート) 31 g AKP−G015(住友化学工業(株)製アルミナ:粒径15nm) 92 g 上記混合液をサンドミル(1/4Gのサンドミル)にて
1600rpm、10時間微細分散した。メディアは1
mmΦのジルコニアビーズを1400g用いた。分散
後、ビーズを分離し、表面修飾したアルミナ(M−1)
を得た。1-4. Preparation of Inorganic Particle Dispersion (M-1) The following amounts of each reagent were weighed in a ceramic-coated vessel. Cyclohexanone 337 g PM-2 (phosphate group-containing methacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 31 g AKP-G015 (Alumina manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd .: particle size: 15 nm) 92 g The above mixture was sand-milled (1 / (4G sand mill) at 1600 rpm for 10 hours. Media is 1
1400 g of zirconia beads having a diameter of mmΦ was used. After dispersion, the beads were separated and the surface-modified alumina (M-1)
I got
【0092】1−5.活性エネルギー線硬化層用塗布液
の調製 表面処理したアルミナ微粒子の43質量%シクロヘキサ
ノン分散液(M−1)116gに、メタノール97g、
イソプロパノール163gおよびメチルイソブチルケト
ン163gを加えた。混合液に、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)
200gを加えて溶解した。さらに、光重合開始剤(イ
ルガキュア907、チバガイギー社製)7.5gおよび
光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)
5.0gを加えて溶解した。混合物を30分間攪拌した
後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで濾過し
て活性エネルギー線硬化層用塗布液を調製した。1-5. Preparation of Coating Liquid for Active Energy Beam Cured Layer To 116 g of a 43% by mass cyclohexanone dispersion liquid (M-1) of surface-treated alumina fine particles, 97 g of methanol was added.
163 g of isopropanol and 163 g of methyl isobutyl ketone were added. A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
200 g was added and dissolved. Further, 7.5 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
5.0 g was added and dissolved. After stirring the mixture for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating liquid for an active energy ray-curable layer.
【0093】1−6.ハードコートフイルムの作製 表3に記載の基材フイルムをグロー放電処理した後、ア
ルミナを充填した活性エネルギー線硬化層用塗布液を乾
燥膜厚が8μmになるようにワイヤーバーで塗布・乾燥
し、紫外線照射し硬化層を積層した。1-6. Preparation of Hard Coat Film After subjecting the base films described in Table 3 to glow discharge treatment, a coating liquid for an active energy ray-cured layer filled with alumina was applied and dried with a wire bar so that the dry film thickness became 8 μm. The cured layer was laminated by irradiation with ultraviolet rays.
【0094】1−7.反射防止層としての低屈折率層の
形成 反応性フッ素ポリマー(JN−7219、日本合成ゴム
(株)製)2.50gにt-ブタノール1.3gを加え、
室温で10分間攪拌し、1μmのポリプロピレンフィル
ターでろ過した。得られた低屈折率層用塗布液を、上記
ハードコート層上に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が
96nmとなるように塗布した。120℃で15分間乾
燥して硬化させ低屈折率層を形成し、上面に反射防止を
施したハードコート透明支持体を作製した。1-7. Formation of low refractive index layer as anti-reflection layer 1.3 g of t-butanol was added to 2.50 g of a reactive fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.)
The mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and filtered with a 1 μm polypropylene filter. The obtained coating liquid for a low refractive index layer was applied on the hard coat layer using a bar coater so that the dry film thickness became 96 nm. The coating was dried and cured at 120 ° C. for 15 minutes to form a low-refractive-index layer, and a hard-coated transparent support having an upper surface provided with antireflection was prepared.
【0095】1−8.鉛筆引掻き硬度試験 鉛筆引っ掻き試験の硬度を調べた。試験は、作製した反
射防止を施したハードコート透明支持体を温度25℃、
相対湿度60%の条件下で2時間調湿した後、JIS−
S−6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS−
K−5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い実施し
た。評価結果の鉛筆硬度は9.8Nの加重にて傷が全く
認められない鉛筆の硬度の値である。結果を表3に示し
た。1-8. Pencil scratch hardness test The hardness of the pencil scratch test was examined. In the test, the prepared anti-reflection hard-coated transparent support was heated to
After humidifying for 2 hours under the condition of 60% relative humidity, JIS-
Using a test pencil specified by S-6006, JIS-
The measurement was performed according to the pencil hardness evaluation method specified by K-5400. The pencil hardness of the evaluation result is a value of a pencil hardness at which no scratch is recognized at a load of 9.8 N. The results are shown in Table 3.
【0096】[0096]
【表3】ハードコートフイルムの構成と表面硬度 [Table 3] Composition and surface hardness of hard coat film
【0097】2.反射防止層およびフィルター層を塗布
した透明支持体の作製 2−1.下塗り層の形成 厚さ120μmの透明な2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レートフイルムの両面をコロナ処理した後、両面に屈折
率1.55、25℃における弾性率100MPa、ガラ
ス転移温度37℃のスチレン−ブタジエンコポリマーか
らなるラテックス(日本ゼオン(株)製、LX407C
5)を塗布し、下塗り層を形成した。乾燥後の膜厚さと
して、フィルター層を設ける面には厚さ300nm、低
屈折率層を設ける面には厚さ150nmとなるように塗
布した。2. Preparation of transparent support coated with antireflection layer and filter layer 2-1. Formation of Undercoat Layer After corona treatment on both sides of a transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 120 μm, a styrene-butadiene copolymer having a refractive index of 1.55, an elastic modulus of 100 MPa at 25 ° C., and a glass transition temperature of 37 ° C. Naru latex (LX407C, manufactured by Zeon Corporation)
5) was applied to form an undercoat layer. The film was dried so as to have a thickness of 300 nm on the surface on which the filter layer was to be provided and to have a thickness of 150 nm on the surface on which the low refractive index layer was to be provided.
【0098】2−2.第2下塗り層の形成 フィルター層を設ける面の下塗り層の上に、酢酸とグル
タルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、乾燥後の厚さ
110nmとなるように塗布し、反射防止層を設ける面
の下塗り層の上には屈折率1.50、25℃における弾
性率120MPa、ガラス転移温度50℃のアクリル系
ラテックス(HA16、日本アクリル(株)製)を乾燥
後の厚さ20nmとなるように塗布し、第2下塗り層を
形成した。2-2. Formation of a second undercoat layer On the undercoat layer on which the filter layer is to be provided, an aqueous gelatin solution containing acetic acid and glutaraldehyde is applied so as to have a thickness of 110 nm after drying, and the undercoat layer on which the antireflection layer is to be provided Acrylic latex (HA16, manufactured by Nippon Acrylic Co., Ltd.) having a refractive index of 1.50, an elastic modulus of 120 MPa at 25 ° C., and a glass transition temperature of 50 ° C. was applied on the top so as to have a dry thickness of 20 nm. A second undercoat layer was formed.
【0099】2−3.反射防止層としての低屈折率層の
形成 反応性フッ素ポリマー(JN−7219、日本合成ゴム
(株)製)2.50gにt-ブタノール1.3gを加え、
室温で10分間攪拌し、1μmのポリプロピレンフィル
ターでろ過した。得られた低屈折率層用塗布液を、透明
支持体の片面(スチレン−ブタジエンコポリマーラテッ
クス150nm、アクリルラテックス20nmを下塗り
層とする面)に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が96
nmとなるように塗布し、120℃で15分間乾燥して
硬化させ低屈折率層を形成した。2-3. Formation of low refractive index layer as anti-reflection layer 1.3 g of t-butanol was added to 2.50 g of a reactive fluoropolymer (JN-7219, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.)
The mixture was stirred at room temperature for 10 minutes and filtered with a 1 μm polypropylene filter. The obtained coating liquid for a low refractive index layer was coated on one surface of a transparent support (a surface having a styrene-butadiene copolymer latex of 150 nm and an acrylic latex of 20 nm as an undercoating layer) with a dry film thickness of 96 using a bar coater.
and dried and cured at 120 ° C. for 15 minutes to form a low refractive index layer.
【0100】2−4.可視および近赤外フィルター層の
形成 ゼラチンの10質量%水溶液180gに、染料(b7)
0.05g、染料(a2)0.15g、染料(d1)
0.06gおよび染料(f2)0.05gを溶解させ、
40℃で30分間攪拌した後、2μmのポリプロピレン
フィルターでろ過した。得られたフィルター層用塗布液
を透明支持体の低屈折率層を塗布した側とは反対側の第
2下塗り層上に、乾燥膜厚が3.5μmとなるように塗
布し、120℃で10分間乾燥して可視および、近赤外
フィルター層を形成し、反射防止層と可視および近赤外
フィルター層を付与した支持体を作製した。2-4. Formation of Visible and Near Infrared Filter Layer To 180 g of a 10% by mass aqueous solution of gelatin, dye (b7) was added.
0.05 g, dye (a2) 0.15 g, dye (d1)
Dissolve 0.06 g and 0.05 g of dye (f2),
After stirring at 40 ° C. for 30 minutes, the mixture was filtered through a 2 μm polypropylene filter. The obtained coating solution for a filter layer is applied on the second undercoat layer of the transparent support opposite to the side on which the low-refractive-index layer is applied, so that the dry film thickness becomes 3.5 μm. After drying for 10 minutes, a visible and near-infrared filter layer was formed, and a support provided with an antireflection layer and a visible and near-infrared filter layer was produced.
【0101】上記支持体の可視光分光透過率を調べたと
ころ、535nmと595nmに吸収極大を有し、吸収
極大での透過率は、535nmの吸収極大が70%、5
95nmの吸収極大が25%であった。吸収極大の半値
幅は、535nmの吸収極大が71nm、595nmの
吸収極大が29nmであった。また、440nm前後の
透過率の変化は急峻で、445nmでの透過率が75
%、435nmでは約27%、430nmでは約11%
であった。T1は約33%であった。When the visible light spectral transmittance of the above support was examined, it had an absorption maximum at 535 nm and 595 nm, and the transmittance at the absorption maximum was 70% at 535 nm.
The absorption maximum at 95 nm was 25%. As for the half width of the absorption maximum, the absorption maximum at 535 nm was 71 nm, and the absorption maximum at 595 nm was 29 nm. The change in transmittance around 440 nm is sharp, and the transmittance at 445 nm is 75%.
% At 435 nm, about 11% at 430 nm
Met. T 1 is about 33%.
【0102】3.ガラス透明支持体上への電磁波および
赤外線遮蔽層、反射防止層の塗設 厚さ3mmの無色透明強化ガラス板の表面にTiO2と
銀をTiO2/銀/TiO2/銀/TiO2の順序(膜厚
21/13/50/13/21nm)で5層の膜をスパ
ッター製膜した。表面抵抗は2.0Ω/□であった。こ
の反射防止膜(および電磁波および赤外線遮蔽層)の反
射率を測定したところ、500〜600nm波長範囲で
の平均反射率は1.1%であった。3. Electromagnetic waves and infrared shielding layer on a transparent glass substrate, Coating of 3mm thick on the surface of the colorless transparent tempered glass plate of TiO 2 and silver TiO 2 / silver / TiO 2 / silver / TiO 2 sequence of the anti-reflection layer (Film thickness: 21/13/50/13/21 nm) and five layers were formed by sputtering. The surface resistance was 2.0Ω / □. When the reflectance of the antireflection film (and the electromagnetic wave and infrared shielding layer) was measured, the average reflectance in the wavelength range of 500 to 600 nm was 1.1%.
【0103】4.ハードコートおよび反射防止を施した
透明支持体への電磁波および赤外線遮蔽層、反射防止層
の塗設 1で作製した5種類(本発明1〜4、比較例1)の反射
防止を施したハードコート透明支持体の裏面(ハードコ
ート層側と反対面)に3と同様にTiO2と銀をTiO2
/銀/TiO2/銀/TiO2の順序(膜厚20/14/
49/14/21nm)で5層の膜をスパッター製膜し
た。表面抵抗は2.1Ω/□であった。このスパッター
製膜により作成した反射防止膜の反射率を測定したとこ
ろ、500〜600nm波長範囲での平均反射率は1.
0%であった。4. Coating of Hard Coat and Anti-Reflection Transparent Support on Electromagnetic Wave and Infrared Shielding Layer, Anti-Reflection Layer Five types of anti-reflection hard coats prepared in 1 (Invention 1-4, Comparative Example 1) the underside of a transparent support (hard coat layer side surface opposite) in the same manner as in 3 TiO 2 and silver of TiO 2
/ Silver / TiO 2 / silver / TiO 2 sequence (thickness 20/14 /
(49/14/21 nm) to form a five-layer film by sputtering. The surface resistance was 2.1Ω / □. When the reflectance of the antireflection film formed by this sputter film was measured, the average reflectance in the wavelength range of 500 to 600 nm was 1.
It was 0%.
【0104】5.前面板の作製 2で作製した反射防止層付きフィルター層のフィルター
層面にアクリル系の粘着剤を厚さ30μmの厚さで塗布
し、3で作製したガラス透明支持体の反射防止層をスパ
ッター製膜した面に貼りつけた。これを5枚作製した。
次に1で作製した5種類(本発明1〜4、比較例1)の
反射防止を施したハードコート透明支持体の裏面(反射
防止層の反対面)にアクリル系の粘着剤を厚さ30μm
の厚さで塗布し、上記でフィルター層を貼りつけた面と
は反対側のガラス面上に貼りつけ、反射防止層、可視フ
ィルター層、電磁波および赤外線遮蔽層、ハードコート
層を備えた5種類の前面板を作製した。5. Preparation of front plate An acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to a thickness of 30 μm on the filter layer surface of the filter layer having an antireflection layer prepared in 2, and the antireflection layer of the glass transparent support prepared in 3 was formed by sputtering. Stuck on the surface. Five of these were produced.
Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive having a thickness of 30 μm was applied to the back surface (opposite the antireflection layer) of the five types of antireflection hard-coated transparent supports (the surfaces opposite to the antireflection layer) prepared in 1 above (the inventions 1 to 4 and Comparative Example 1).
5 layers with anti-reflection layer, visible filter layer, electromagnetic wave and infrared ray shielding layer, and hard coat layer attached on the glass surface opposite to the surface on which the filter layer was attached. Was produced.
【0105】6.直貼り用光学フィルターの作製 4で作製した、表面にハードコートおよび反射防止を、
裏面に反射防止層(電磁波および赤外線遮蔽層を兼ね
る)を設けた透明支持体の裏面にアクリル系の粘着剤を
厚さ30μmの厚さで塗布し、2で作製した、フィルタ
ー層を塗布した透明支持体のフィルター層側と貼り合せ
た。ただしフィルター層を塗布した透明支持体はフィル
ター層の反対側に低屈折率層を設けないものを用いた。6. Production of optical filter for direct application
An acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to a thickness of 30 μm on the back surface of a transparent support provided with an anti-reflection layer (also used as an electromagnetic wave and infrared ray shielding layer) on the back surface, and a filter layer coated transparent prepared in 2 was prepared. The support was bonded to the filter layer side. However, the transparent support coated with the filter layer used was not provided with a low refractive index layer on the opposite side of the filter layer.
【0106】7.前面板の色味およびフィルター機能の
評価 7−1.色味の評価 プラズマディスプレイ(PDS4202J−H、富士通
ゼネラル(株)製)の前面板を取り外し、5で作製した
前面板を、反射防止層付きフィルター層を貼りつけた面
をプラズマディスプレイ本体側に向けて取り付けた。こ
うして前面板を取り付けたプラズマディスプレイの前面
の色味を分光放射計(トプコン社製 SR−2A)にて
測定した。いずれの前面板もa*が−1.1〜4.7の、
b*が−7.0〜−2.8の範囲に有り目視評価でも無彩
色に見えた。7. Evaluation of color of front panel and filter function 7-1. Evaluation of tint Remove the front panel of the plasma display (PDS4202J-H, manufactured by Fujitsu General Co., Ltd.), and turn the front panel prepared in step 5 with the filter layer with the anti-reflection layer attached to the plasma display body side Attached. Thus, the color of the front surface of the plasma display having the front plate was measured with a spectroradiometer (SR-2A, manufactured by Topcon Corporation). Both front plates have a * of -1.1 to 4.7,
b * was in the range of -7.0 to -2.8, and it appeared achromatic even by visual evaluation.
【0107】7−2.フィルター機能の評価 電磁波および近赤外線遮蔽層をプラズマディスプレイパ
ネルの背面の金属部アースに接続し、プラズマディスプ
レイパネルより放射される電磁波により電磁波および近
赤外線遮蔽層に誘起される電圧をアースに導通し、機能
の評価を実施した。評価項目として、電磁波および赤外
線遮蔽能、表示される画像のコントラストの測定および
目視による色再現性の評価を行った。いずれの前面板も
電磁波遮蔽能は、周波数10MHz〜200MHzの範
囲で最低9デシベル以上が得られ、情報処理装置等で規
制されている電磁波の外部漏洩レベルを達成した。ま
た、近赤外線領域の線スペクトル遮蔽能は、800nm
で約8%、850nmでは3%以下となり、周辺に設置
される赤外線リモートコントロール装置に対する妨害を
防止できた。また、コントラストおよび目視による色再
現性も著しく改善された。コントラストは前面板を交換
する前は10:1であったが評価した前面板ではいずれ
も15:1であった。いずれも前面板の交換前にくらべ
て、オレンジ色の入った赤が純赤に、緑がかった青が鮮
やかな青に、また黄ばんだ感じの白が純白に改良されて
いることを確認した。7-2. Evaluation of filter function The electromagnetic wave and near-infrared shielding layer are connected to the metal ground on the back of the plasma display panel, and the voltage induced in the electromagnetic wave and near-infrared shielding layer by the electromagnetic wave radiated from the plasma display panel is conducted to the ground. Functional evaluation was performed. As evaluation items, measurement of electromagnetic wave and infrared ray shielding ability, contrast of a displayed image, and evaluation of color reproducibility by visual observation were performed. Each of the front plates has an electromagnetic wave shielding ability of at least 9 dB or more in a frequency range of 10 MHz to 200 MHz, and has achieved an external leakage level of electromagnetic waves regulated by an information processing device or the like. Further, the line spectrum shielding ability in the near infrared region is 800 nm.
At about 850 nm, and 3% or less at 850 nm, and it was possible to prevent interference with infrared remote control devices installed in the vicinity. In addition, the contrast and the visual color reproducibility were also significantly improved. The contrast was 10: 1 before exchanging the front panel, but was 15: 1 in each of the evaluated front panels. In each case, it was confirmed that the orange-containing red was improved to pure red, the greenish blue to vivid blue, and the yellowish white to pure white compared to before replacing the front panel.
【0108】8.直貼り用光学フィルターの色味および
フィルター機能の評価 8−1.パネル本体への直貼り 6で作製した5種類の直貼り用光学フィルターの反射防
止層とは反対側の透明支持体上にアクリル系の粘着剤を
厚さ30μmの厚さで塗布した。次にプラズマディスプ
レイ(PDS4202J−H、富士通ゼネラル(株)
製)の前面板を取り外し、粘着剤を介してプラズマディ
スプレイパネル本体に直貼りした。8. Evaluation of color and filter function of optical filter for direct application 8-1. Attaching Directly to Panel Main Body An acrylic pressure-sensitive adhesive was applied to a thickness of 30 μm on the transparent support opposite to the antireflection layer of the five types of optical filters for direct attachment prepared in 6. Next, a plasma display (PDS4202J-H, Fujitsu General Limited)
Was removed and directly attached to the plasma display panel body via an adhesive.
【0109】8−2.色味の評価 こうして光学フィルターを直貼りしたプラズマディスプ
レイの前面の色味を分光放射計(トプコン社製 SR−
2A)にて測定した。いずれの光学フィルター面もa*が
−1.0〜4.5の、b*が−7.4〜−2.2の範囲に
有り目視評価でも無彩色に見えた。8-2. Evaluation of color The color of the front of the plasma display on which the optical filter was directly attached in this manner was measured using a spectroradiometer (Topcon SR-
2A). In each optical filter surface, a * was in the range of -1.0 to 4.5 and b * was in the range of -7.4 to -2.2.
【0110】8−3.フィルター機能の評価 電磁波および近赤外線遮蔽層をプラズマディスプレイパ
ネルの背面の金属部アースに接続し、プラズマディスプ
レイパネルより放射される電磁波により電磁波および近
赤外線遮蔽層に誘起される電圧をアースに導通し、機能
の評価を実施した。評価項目として、電磁波および赤外
線遮蔽能、表示される画像のコントラストの測定および
目視による色再現性の評価を行った。いずれの光学フィ
ルターも電磁波遮蔽能は、周波数10MHz〜200M
Hzの範囲で最低9デシベル以上が得られ、情報処理装
置等で規制されている電磁波の外部漏洩レベルを達成し
た。また、近赤外線領域の線スペクトル遮蔽能は、80
0nmで約9%、850nmでは4%以下となり、周辺
に設置される赤外線リモートコントロール装置に対する
妨害を防止できた。また、コントラストおよび目視によ
る色再現性も著しく改善された。コントラストは前面板
を取り外した状態で、光学フィルターを直貼りする前は
6:1であったが実施例ではいずれも12:1であっ
た。光学フィルターを直貼りする前にくらべて、オレン
ジ色の入った赤が純赤に、緑がかった青が鮮やかな青
に、また黄ばんだ感じの白が純白に改良されていること
を確認した。8-3. Evaluation of filter function The electromagnetic wave and near-infrared shielding layer are connected to the metal ground on the back of the plasma display panel, and the voltage induced in the electromagnetic wave and near-infrared shielding layer by the electromagnetic wave radiated from the plasma display panel is conducted to the ground. Functional evaluation was performed. As evaluation items, measurement of electromagnetic wave and infrared ray shielding ability, contrast of a displayed image, and evaluation of color reproducibility by visual observation were performed. Each optical filter has an electromagnetic wave shielding ability at a frequency of 10 MHz to 200 M.
A minimum of 9 dB or more was obtained in the range of Hz, and the external leakage level of electromagnetic waves regulated by information processing devices and the like was achieved. The line spectrum shielding ability in the near infrared region is 80%.
It was about 9% at 0 nm and 4% or less at 850 nm, and it was possible to prevent interference with infrared remote control devices installed in the vicinity. In addition, the contrast and the visual color reproducibility were also significantly improved. The contrast was 6: 1 before the optical filter was directly attached with the front plate removed, but in each of the examples, the contrast was 12: 1. Before applying the optical filter directly, it was confirmed that red with orange was improved to pure red, greenish blue to vivid blue, and yellowish white to pure white.
【図1】陰極管表示装置(CRT)またはプラズマディ
スプレイパネル(PDP)の本体1の前面に本発明の前
面板を用いた場合の断面概念図である。図1(a)は本体
1に光学フィルターを直貼りした場合、図1(b)は本体
1の前面に本発明の前面板を用い、本体1と前面板4の
間に空間がある場合の概念図である。FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view when a front plate of the present invention is used on the front surface of a main body 1 of a cathode ray tube display (CRT) or a plasma display panel (PDP). FIG. 1A shows a case where an optical filter is directly attached to the main body 1, and FIG. It is a conceptual diagram.
【図2】前面板の層構成の断面模式図である。図2(a)
および図2(b)は図1(a)の、図2(c)および図2(d)
は図1(b)の配置に対応する層構成の例である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a layer configuration of a front plate. Fig. 2 (a)
2 (b) is the same as FIG. 1 (a), FIG. 2 (c) and FIG.
Is an example of a layer configuration corresponding to the arrangement of FIG.
【図3】本発明に係るハードコート部分の1実施態様の
断面概念図である。FIG. 3 is a conceptual sectional view of an embodiment of a hard coat portion according to the present invention.
1 CRTまたはPDP 2 支持体 3 各種フィルター層および反射防止層からなる光学フ
ィルター又はその一部 4 前面板 11 反射防止層 12 電磁波および赤外線遮蔽層 13 ハードコート層 14 プラスチック透明支持体 15 フィルター層 16 ガラス透明支持体 21 透明基材(A層) 22 透明基材(B層) 23 活性エネルギー線硬化樹脂層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 CRT or PDP 2 Support 3 Optical filter consisting of various filter layers and antireflection layer or its part 4 Front plate 11 Antireflection layer 12 Electromagnetic wave and infrared ray shielding layer 13 Hard coat layer 14 Plastic transparent support 15 Filter layer 16 Glass Transparent support 21 Transparent substrate (layer A) 22 Transparent substrate (layer B) 23 Active energy ray-curable resin layer
フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 CA04 CA05 CA12 CA14 CA15 CA19 CA24 CA29 2K009 AA15 BB02 BB24 CC02 CC03 CC09 CC21 CC42 DD02 DD05 EE03 FF02 4F100 AA00C AA00D AA00H AA19C AA19H AA20C AA20H AA21C AA21H AA27C AA27H AK01B AK01C AK25C AK41D AK41E AK42D AK42E AR00A AR00B AR00D AS00B BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D CA13B CA23C CA23D DE01C DE01D DE01H EJ64C EJ64H GB41 JB14C JD08 JK12C JK12H JL10 JN01A JN01D JN08B YY00C YY00D 5C058 AA01 AA06 AA11 AA12 BA08 BA30 DA01 DA03 DA08 Continued on the front page F term (reference) 2H048 CA04 CA05 CA12 CA14 CA15 CA19 CA24 CA29 2K009 AA15 BB02 BB24 CC02 CC03 CC09 CC21 CC42 DD02 DD05 EE03 FF02 4F100 AA00C AA00D AA00H AA19C AA19H AA20C AA20AAAAAAAAAAAAAAAAC AR00A AR00B AR00D AS00B BA04 BA05 BA07 BA10A BA10D CA13B CA23C CA23D DE01C DE01D DE01H EJ64C EJ64H GB41 JB14C JD08 JK12C JK12H JL10 JN01A JN01D JN08B YY00C YY00D 5C058 AA DAA
Claims (16)
と、染料または顔料およびバインダーからなる可視フィ
ルター層、活性エネルギー線重合性樹脂層からなるハー
ドコート層を有し、該ハードコート層を設けた面の透明
支持体の表面弾性率が4GPa以上15GPa以下であ
ることを特徴とする光学フィルター。1. A transparent support comprising one or more layers, a visible filter layer comprising a dye or pigment and a binder, and a hard coat layer comprising an active energy ray polymerizable resin layer. An optical filter, wherein the surface elastic modulus of the transparent support on the surface provided is 4 GPa or more and 15 GPa or less.
体が1nm以上400nm以下の無機微粒子を10質量
%以上60質量%以下含むポリエステルフイルムである
請求項1に記載の光学フィルター。2. The optical filter according to claim 1, wherein the transparent support on the surface provided with the hard coat layer is a polyester film containing 10% by mass to 60% by mass of inorganic fine particles of 1 nm to 400 nm.
体が1nm以上400nm以下の無機微粒子を10質量
%以上60質量%以下含む層(B層)をポリエステル支
持体(A層)の少なくとも片面に積層したフイルムである
請求項1又は2に記載の光学フィルター。3. The polyester support (A layer) comprising a layer (B layer) in which the transparent support on the surface provided with the hard coat layer contains 10% by mass to 60% by mass of inorganic fine particles having a thickness of 1 nm to 400 nm. 3. The optical filter according to claim 1, which is a film laminated on one side.
全層厚み(A層の厚みとB層の厚みの和)が50μm以
上300μm以下であり、かつB層の厚みが1μm以上1
00μm以下である請求項3に記載の光学フィルター。4. The transparent support provided with the hard coat layer has a total layer thickness (the sum of the thickness of the layer A and the thickness of the layer B) of 50 μm to 300 μm, and the thickness of the layer B is 1 μm to 1 μm.
The optical filter according to claim 3, which has a thickness of not more than 00 µm.
テレフタレート系樹脂またはポリエチレンナフタレート
系樹脂からなる請求項1ないし4いずれか1つに記載の
光学フィルター。5. The optical filter according to claim 1, wherein the polyester film is made of a polyethylene terephthalate resin or a polyethylene naphthalate resin.
ス硬度が6以上、粒子サイズが1nm以上400nm以
下の無機微粒子を含有する請求項1ないし5いずれか1
つに記載の光学フィルター。6. The active energy ray-polymerizable resin layer contains inorganic fine particles having a Mohs hardness of 6 or more and a particle size of 1 nm or more and 400 nm or less.
The optical filter according to any one of the above.
微粒子および多官能アクリレート化合物の架橋によって
得られたバインダーポリマーからなり、該無機微粒子が
少なくとも酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、二酸化チ
タン、酸化ジルコニウムのいずれか1つを含有する請求
項1ないし6いずれか1つに記載の光学フィルター。7. The active energy ray-polymerizable resin layer comprises a binder polymer obtained by crosslinking inorganic fine particles and a polyfunctional acrylate compound, wherein the inorganic fine particles are at least one of aluminum oxide, silicon dioxide, titanium dioxide and zirconium oxide. The optical filter according to any one of claims 1 to 6, further comprising:
れる無機微粒子が表面処理されており、該表面処理が活
性エネルギー線硬化基とリン酸基、スルホン酸基、カル
ボン酸基のいずれかのアニオン性官能基を有する有機化
合物であるか、またはアルミニウム、チタニウム、ジル
コニウムのいずれか一種以上を含む有機金属化合物によ
るものである請求項1ないし7いずれか1つに記載の光
学フィルター。8. The inorganic fine particles contained in the active energy ray polymerizable resin layer are subjected to a surface treatment, and the surface treatment is performed by using an active energy ray curable group and any one of a phosphoric acid group, a sulfonic acid group and a carboxylic acid group. The optical filter according to any one of claims 1 to 7, wherein the optical filter is an organic compound having an anionic functional group or an organic metal compound containing at least one of aluminum, titanium, and zirconium.
0nmの波長範囲に透過率が0.01ないし50%の吸
収極大を有する請求項1ないし8いずれか1つに記載の
光学フィルター。9. The method according to claim 8, wherein the visible filter layer is 560 to 62.
9. The optical filter according to claim 1, which has an absorption maximum having a transmittance of 0.01 to 50% in a wavelength range of 0 nm.
20nmの波長範囲に透過率が0.01ないし50%の
吸収極大を有し、380ないし440nmの波長範囲に
おける平均透過率が70%以下である請求項1ないし9
いずれか1つに記載の光学フィルター。10. The method according to claim 10, wherein the visible filter layer is 560 to 6
10. An absorption maximum having a transmittance of 0.01 to 50% in a wavelength range of 20 nm and having an average transmittance of 70% or less in a wavelength range of 380 to 440 nm.
The optical filter according to any one of the above.
50nmの波長範囲に透過率が20ないし85%の吸収
極大を、560ないし620nmの波長範囲に透過率が
0.01ないし50%の吸収極大を有する請求項1ない
し10いずれか1つに記載の光学フィルター。11. The method according to claim 11, wherein said visible filter layer is 500 to 5
11. The method according to claim 1, wherein the absorption maximum has a transmittance of 20 to 85% in a wavelength range of 50 nm and the absorption maximum has a transmittance of 0.01 to 50% in a wavelength range of 560 to 620 nm. Optical filter.
50nmの波長範囲に透過率が20ないし85%の吸収
極大を、560ないし620nmの波長範囲に透過率が
0.01ないし50%の吸収極大を、それぞれ有し、3
80ないし440nmの波長範囲における平均透過率が
70%以下である請求項1ないし11いずれか1つに記
載の光学フィルター。12. The visible filter layer according to claim 5, wherein
It has an absorption maximum having a transmittance of 20 to 85% in a wavelength range of 50 nm and an absorption maximum of 0.01 to 50% in a wavelength range of 560 to 620 nm.
The optical filter according to any one of claims 1 to 11, wherein an average transmittance in a wavelength range of 80 to 440 nm is 70% or less.
00nmの波長範囲および500ないし550nmの波
長範囲にいずれも透過率が20ないし85%の吸収極大
を、560ないし620nmの波長範囲に透過率が0.
01ないし50%の吸収極大をそれぞれ有し、380な
いし440nmの波長範囲における平均透過率が70%
以下である請求項1ないし12いずれか1つに記載の光
学フィルター。13. The visible filter layer may be 460 to 5
In both the wavelength range of 00 nm and the wavelength range of 500 to 550 nm, the absorption maximum has a transmittance of 20 to 85%, and the transmittance is 0.2 in the wavelength range of 560 to 620 nm.
Having an absorption maximum of 01 to 50%, and having an average transmittance of 70% in a wavelength range of 380 to 440 nm.
The optical filter according to any one of claims 1 to 12, wherein:
載の光学フィルターを用いた画像表示装置。14. An image display device using the optical filter according to claim 1.
載の光学フィルターを用いたプラズマディスプレイパネ
ルの前面板。15. A front plate of a plasma display panel using the optical filter according to any one of claims 1 to 13.
求項14記載の画像表示装置。16. The image display device according to claim 14, which is a plasma display panel.
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