JP2002048913A - Retardation film, circularly polarizing plate and reflective liquid crystal display device - Google Patents
Retardation film, circularly polarizing plate and reflective liquid crystal display deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学異方性層を有
する位相差板およびそれを用いた円偏光板、反射型液晶
表示装置に関する。特に本発明は、液晶表示装置におい
て使用されるλ/4板またはλ/2板、光ディスクの書
き込み用のピックアップに使用されるλ/4板、あるい
は反射防止膜として利用されるλ/4板として有効な位
相差板に関する。The present invention relates to a retardation plate having an optically anisotropic layer, a circularly polarizing plate using the retardation plate, and a reflection type liquid crystal display device. In particular, the present invention relates to a λ / 4 plate or a λ / 2 plate used in a liquid crystal display device, a λ / 4 plate used for a pickup for writing on an optical disk, or a λ / 4 plate used as an antireflection film. It relates to an effective retardation plate.
【0002】[0002]
【従来の技術】λ/4板およびλ/2板は、反射防止膜
や液晶表示装置に関連する多くの用途を有しており、既
に実際に使用されている。しかし、λ/4板あるいはλ
/2板と称していても、ある特定波長でλ/4やλ/2
を達成しているものが大部分であった。特開平5−27
118号および同5−27119号の各公報には、レタ
ーデーションが大きい複屈折性フイルムと、レターデー
ションが小さい複屈折率フイルムとを、それらの光軸が
直交するように積層させた位相差板が開示されている。
二枚のフイルムのレターデーションの差が可視光域の全
体にわたりλ/4またはλ/2であれば、位相差板は理
論的には、可視光域の全体にわたりλ/4板またはλ/
2板として機能する。特開平10−68816号公報
に、特定波長においてλ/2となっているポリマーフイ
ルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ/
2となっているポリマーフイルムとを積層させて、広い
波長領域でλ/4が得られる位相差板が開示されてい
る。特開平10−90521号公報にも、二枚のポリマ
ーフイルムを積層することにより広い波長領域でλ/4
を達成できる位相差板が開示されている。以上のポリマ
ーフイルムとしては、ポリカーボネートのような合成ポ
リマーの延伸フイルムが使用されていた。2. Description of the Related Art A λ / 4 plate and a λ / 2 plate have many uses related to an antireflection film and a liquid crystal display device, and have already been actually used. However, λ / 4 plate or λ
Λ / 4 or λ / 2 at a specific wavelength
Most of those who achieved were. JP-A-5-27
Nos. 118 and 5-27119 disclose a retardation plate in which a birefringent film having a large retardation and a birefringent film having a small retardation are laminated so that their optical axes are orthogonal to each other. Is disclosed.
If the difference in retardation between the two films is λ / 4 or λ / 2 over the entire visible light range, the retarder theoretically has a λ / 4 plate or λ /
Functions as two plates. JP-A-10-68816 discloses a polymer film having a wavelength of λ / 2 at a specific wavelength, a polymer film made of the same material as the polymer film, and a wavelength of λ /
There is disclosed a retardation plate capable of obtaining λ / 4 in a wide wavelength region by laminating a polymer film of No. 2 with a polymer film. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-90521 also discloses that laminating two polymer films makes it possible to obtain λ / 4 in a wide wavelength region.
Is disclosed. As the above polymer film, a stretched film of a synthetic polymer such as polycarbonate has been used.
【0003】特開2000−137116号公報には、
ポリマーフイルムを一枚用いた広帯域λ/4板が開示さ
れている。しかし、このλ/4板を反射型液晶表示装置
に用いた場合、若干のコントラスト改良が見られるもの
の、その効果は十分ではなかった。また、製膜後の巻き
取り工程、裁断工程、粘着剤塗工工程、また、偏光板と
の貼合工程などでゴミが付着しやすく、欠陥として見え
るという問題があった。[0003] JP-A-2000-137116 discloses that
A broadband λ / 4 plate using one polymer film is disclosed. However, when this λ / 4 plate was used in a reflection type liquid crystal display device, although the contrast was slightly improved, the effect was not sufficient. Further, there is a problem that dust easily adheres in a winding step, a cutting step, a pressure-sensitive adhesive coating step, a bonding step with a polarizing plate, and the like after the film is formed, and is seen as a defect.
【0004】反射型液晶表示装置については、バックラ
イトが不要で消費電力が小さいために、情報携帯末端、
携帯型ゲーム機や携帯電話のような携帯装置のディスプ
レイとして利用されている。反射型液晶表示装置は、反
射板、液晶セルおよび偏光膜がこの順に積層されている
基本構造を有する。液晶セルの表示モードについては、
TN(Twisted Nematic)、STN(Supper Twisted Ne
matic)、HAN(Hybrid Aligned Nematic)、HPD
LC(Holographic Polymer Dispersed Liquid Crysta
l)のような様々な表示モードが提案されている。TN
モードの反射型液晶表示装置は、既に実用化されてい
る。透過型液晶表示装置では二枚の偏光膜が必須である
が、反射型液晶表示装置ではλ/4板を使用すること
で、一枚の偏光膜でも画像を表示することができる。偏
光膜を一枚削減すると光が減衰せず、明るい画像の表示
が可能になる。λ/4板を備えた反射型液晶表示装置に
ついては、特開平10−186357号公報に記載があ
る。[0004] The reflection type liquid crystal display device does not require a backlight and has low power consumption.
It is used as a display for portable devices such as portable game machines and mobile phones. The reflection type liquid crystal display device has a basic structure in which a reflection plate, a liquid crystal cell and a polarizing film are laminated in this order. For the display mode of the liquid crystal cell,
TN (Twisted Nematic), STN (Supper Twisted Ne)
matic), HAN (Hybrid Aligned Nematic), HPD
LC (Holographic Polymer Dispersed Liquid Crysta
Various display modes such as l) have been proposed. TN
Mode reflective liquid crystal display devices have already been put to practical use. In a transmission type liquid crystal display device, two polarizing films are indispensable, but in a reflection type liquid crystal display device, an image can be displayed with a single polarizing film by using a λ / 4 plate. If one polarizing film is reduced, light is not attenuated, and a bright image can be displayed. A reflection type liquid crystal display device having a λ / 4 plate is described in JP-A-10-186357.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、一枚
のポリマーフイルムで、可視光域の全体にわたりλ/4
またはλ/2を達成し、帯電防止性能を改善して、ゴミ
が付着する問題を軽減した位相差板を提供することであ
る。また、本発明の目的は、光学的性能と取り扱い性が
優れた円偏光板を提供することでもある。さらに本発明
の目的は、表示品質が改善された反射型液晶表示装置を
提供することでもある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a single polymer film with λ / 4 over the entire visible light range.
Another object of the present invention is to provide a retardation plate that achieves λ / 2, improves antistatic performance, and reduces the problem of dust adhesion. Another object of the present invention is to provide a circularly polarizing plate having excellent optical performance and handleability. Still another object of the present invention is to provide a reflective liquid crystal display device with improved display quality.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(5)の位相差板(λ/4板)、下記(6)の
円偏光板、下記(7)〜(11)の位相差板(λ/2
板)および下記(12)〜(14)の反射型液晶表示装
置により達成された。 (1)波長450nmで測定したレターデーション値
(Re450)が100乃至125nmであり、かつ波
長590nmで測定したレターデーション値(Re59
0)が120乃至160nmであり、Re590−Re
450≧2nmの関係を満足する一枚のポリマーフイル
ムからなり、フイルムの少なくとも一方の面の表面抵抗
率が1012Ω/□以下であることを特徴とする位相差
板。The object of the present invention is to provide a retardation plate (λ / 4 plate) of the following (1) to (5), a circularly polarizing plate of the following (6), and a following (7) to (11). ) Retardation plate (λ / 2
Plate) and the reflection type liquid crystal display device of the following (12) to (14). (1) The retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is 100 to 125 nm, and the retardation value (Re59) measured at a wavelength of 590 nm.
0) is from 120 to 160 nm, and Re590-Re
A retardation plate comprising a single polymer film satisfying the relationship of 450 ≧ 2 nm, wherein at least one surface of the film has a surface resistivity of 10 12 Ω / □ or less.
【0007】(2)波長450nmで測定したレターデ
ーション値(Re450)が108乃至120nmであ
り、波長550nmで測定したレターデーション値(R
e550)が125乃至142nmであり、波長590
nmで測定したレターデーション値(Re590)が1
30乃至152nmであり、そして、Re590−Re
550≧2nmの関係を満足する(1)に記載の位相差
板。 (3)面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内の遅相軸に
垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈折率nz
が、1≦(nx−nz)/(nx−ny)≦2の関係を
満足する(1)に記載の位相差板。 (4)ポリマーフイルムがセルロースエステルフイルム
である(1)に記載の位相差板。 (5)ポリマーフイルムが、芳香族環を少なくとも二つ
有し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害しない分子
構造を有する化合物を含むセルロースエステルフイルム
である(1)に記載の位相差板。(2) The retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is from 108 to 120 nm, and the retardation value (R450) measured at a wavelength of 550 nm is
e550) is 125 to 142 nm and the wavelength is 590.
The retardation value (Re590) measured in nm is 1
30 to 152 nm, and Re590-Re
The retardation plate according to (1), which satisfies the relationship of 550 ≧ 2 nm. (3) Refractive index nx in the in-plane slow axis direction, refractive index ny in the direction perpendicular to the in-plane slow axis, and refractive index nz in the thickness direction
Satisfies the relationship of 1 ≦ (nx−nz) / (nx−ny) ≦ 2, the retardation plate according to (1). (4) The retardation plate according to (1), wherein the polymer film is a cellulose ester film. (5) The retardation according to (1), wherein the polymer film is a cellulose ester film containing a compound having at least two aromatic rings and having a molecular structure that does not hinder the conformation of the two aromatic rings. Board.
【0008】(6)位相差板と直線偏光膜とが、位相差
板の面内の遅相軸と直線偏光膜の偏光軸との角度が実質
的に45゜になるように積層されている円偏光板であっ
て、位相差板が、波長450nmで測定したレターデー
ション値(Re450)が100乃至125nmであ
り、波長590nmで測定したレターデーション値(R
e590)が120乃至160nmであり、そして、R
e590−Re450≧2nmの関係を満足する一枚の
ポリマーフイルムからなり、フイルムの少なくとも一方
の面の表面抵抗率が1012Ω/□以下であることを特徴
とする円偏光板。(6) The phase difference plate and the linear polarizing film are laminated so that the angle between the slow axis in the plane of the phase difference plate and the polarization axis of the linear polarizing film is substantially 45 °. The retardation plate is a circularly polarizing plate having a retardation value (Re450) of 100 to 125 nm measured at a wavelength of 450 nm and a retardation value (R450) measured at a wavelength of 590 nm.
e590) is from 120 to 160 nm, and R
e590-A circularly polarizing plate comprising a single polymer film satisfying the relationship of Re450 ≥ 2 nm, wherein at least one surface of the film has a surface resistivity of 10 12 Ω / □ or less.
【0009】(7)波長450nmで測定したレターデ
ーション値(Re450)が200乃至250nmであ
り、かつ波長590nmで測定したレターデーション値
(Re590)が240乃至320nmであり、Re5
90−Re450≧2nmの関係を満足する一枚のポリ
マーフイルムからなり、フイルムの少なくとも一方の面
の表面抵抗率が1012Ω/□以下であることを特徴とす
る位相差板。 (8)波長450nmで測定したレターデーション値
(Re450)が216乃至240nmであり、波長5
50nmで測定したレターデーション値(Re550)
が250乃至284nmであり、かつ波長590nmで
測定したレターデーション値(Re590)が260乃
至304nmであり、そして、Re590−Re550
≧2nmの関係を満足する(7)に記載の位相差板。 (9)面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内の遅相軸に
垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈折率nz
が、1≦(nx−nz)/(nx−ny)≦2の関係を
満足する(7)に記載の位相差板。 (10)ポリマーフイルムがセルロースエステルフイル
ムである(7)に記載の位相差板。 (11)ポリマーフイルムが、芳香族環を少なくとも二
つ有し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害しない分
子構造を有する化合物を含むセルロースエステルフイル
ムである(7)に記載の位相差板。(7) The retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is 200 to 250 nm, and the retardation value (Re590) measured at a wavelength of 590 nm is 240 to 320 nm.
A retardation plate comprising a single polymer film satisfying a relationship of 90-Re450 ≧ 2 nm, wherein at least one surface of the film has a surface resistivity of 10 12 Ω / □ or less. (8) The retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is from 216 to 240 nm, and the
Retardation value measured at 50 nm (Re550)
Is 250 to 284 nm, the retardation value (Re590) measured at a wavelength of 590 nm is 260 to 304 nm, and Re590-Re550
The retardation plate according to (7), which satisfies the relationship of ≧ 2 nm. (9) In-plane refractive index nx in the slow axis direction, in-plane refractive index ny in a direction perpendicular to the slow axis, and refractive index nz in the thickness direction.
Satisfies the relationship of 1 ≦ (nx−nz) / (nx−ny) ≦ 2, the retardation plate according to (7). (10) The retardation plate according to (7), wherein the polymer film is a cellulose ester film. (11) The retardation according to (7), wherein the polymer film is a cellulose ester film containing a compound having a molecular structure having at least two aromatic rings and having no steric hindrance to the conformation of the two aromatic rings. Board.
【0010】(12)(1)に記載の位相差板を用いる
ことを特徴とする反射型液晶表示装置。 (13)(6)に記載の円偏光板を用いることを特徴と
する反射型液晶表示装置。 (14)(7)に記載の位相差板を用いることを特徴と
する反射型液晶表示装置。(12) A reflection type liquid crystal display device using the retardation plate according to (1). (13) A reflective liquid crystal display device using the circularly polarizing plate according to (6). (14) A reflective liquid crystal display device using the retardation plate according to (7).
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】[位相差板]位相差板をλ/4板
として使用する場合は、波長450nmで測定したレタ
ーデーション値(Re450)が100乃至125nm
であり、かつ波長590nmで測定したレターデーショ
ン値(Re590)が120乃至160nmであり、そ
して、Re590−Re450≧2nmの関係を満足す
る。Re590−Re450≧5nmであることがさら
に好ましく、Re590−Re450≧10nmである
ことが最も好ましい。波長450nmで測定したレター
デーション値(Re450)が108乃至120nmで
あり、波長550nmで測定したレターデーション値
(Re550)が125乃至142nmであり、波長5
90nmで測定したレターデーション値(Re590)
が130乃至152nmであり、そして、Re590−
Re550≧2nmの関係を満足することが好ましい。
Re590−Re550≧5nmであることがさらに好
ましく、Re590−Re550≧10nmであること
が最も好ましい。また、Re550−Re450≧10
nmであることも好ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [Retardation Plate] When a retardation plate is used as a λ / 4 plate, the retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is 100 to 125 nm.
And the retardation value (Re590) measured at a wavelength of 590 nm is from 120 to 160 nm, and satisfies the relationship of Re590-Re450 ≧ 2 nm. More preferably, Re590-Re450 ≧ 5 nm, and most preferably, Re590-Re450 ≧ 10 nm. The retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is 108 to 120 nm, the retardation value (Re550) measured at a wavelength of 550 nm is 125 to 142 nm, and the
Retardation value measured at 90 nm (Re590)
Is 130 to 152 nm, and Re590-
It is preferable to satisfy the relationship of Re550 ≧ 2 nm.
More preferably, Re590-Re550 ≧ 5 nm, and most preferably, Re590-Re550 ≧ 10 nm. Also, Re550−Re450 ≧ 10
nm is also preferable.
【0012】位相差板をλ/2板として使用する場合
は、波長450nmで測定したレターデーション値(R
e450)が200乃至250nmであり、かつ波長5
90nmで測定したレターデーション値(Re590)
が240乃至320nmであり、そして、Re590−
Re450≧4nmの関係を満足する。Re590−R
e450≧10nmであることがさらに好ましく、Re
590−Re450≧20nmであることが最も好まし
い波長450nmで測定したレターデーション値(Re
450)が216乃至240nmであり、波長550n
mで測定したレターデーション値(Re550)が25
0乃至284nmであり、波長590nmで測定したレ
ターデーション値(Re590)が260乃至304n
mであり、そして、Re590−Re550≧4nmの
関係を満足することが好ましい。またRe590−Re
550≧10nmであることがさらに好ましく、Re5
90−Re550≧20nmであることが最も好まし
い。また、Re550−Re450≧20nmであるこ
とも好ましい。When a retardation plate is used as a λ / 2 plate, the retardation value (R
e450) is from 200 to 250 nm, and the wavelength 5
Retardation value measured at 90 nm (Re590)
Is 240 to 320 nm, and Re590-
The relationship of Re450 ≧ 4 nm is satisfied. Re590-R
e450 ≧ 10 nm, more preferably
590-Re450 ≧ 20 nm The retardation value (Re) measured at a wavelength of 450 nm is most preferable.
450) is 216 to 240 nm, and the wavelength is 550 n
The retardation value (Re550) measured in m is 25
0 to 284 nm, and the retardation value (Re590) measured at a wavelength of 590 nm is 260 to 304 n.
m, and preferably satisfy the relationship of Re590-Re550 ≧ 4 nm. Also, Re590-Re
More preferably, 550 ≧ 10 nm.
Most preferably, 90-Re550 ≧ 20 nm. Further, it is also preferable that Re550−Re450 ≧ 20 nm.
【0013】レターデーション値(Re)は、下記式に
従って算出する。 レターデーション値(Re)=(nx−ny)×d 式中、nxは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率
(面内の最大屈折率)であり;nyは、位相差板の面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり;そして、dは、
位相差板の厚さ(nm)である。The retardation value (Re) is calculated according to the following equation. Retardation value (Re) = (nx−ny) × d where nx is the in-plane refractive index of the retardation plate in the slow axis direction (in-plane maximum refractive index); ny is the retardation The index of refraction in the direction perpendicular to the slow axis in the plane of the plate; and d is
This is the thickness (nm) of the phase difference plate.
【0014】さらに、本発明の位相差板は、下記式を満
足することが好ましい。 1≦(nx−nz)/(nx−ny)≦2 式中、nxは、位相差板の面内の遅相軸方向の屈折率で
あり;nyは、位相差板の面内の遅相軸に垂直な方向の
屈折率であり;そして、nzは、厚み方向の屈折率であ
る。Further, the retardation plate of the present invention preferably satisfies the following expression. 1 ≦ (nx−nz) / (nx−ny) ≦ 2 where nx is the in-plane refractive index in the plane of the retardation plate; ny is the in-plane retardation of the retardation plate Is the refractive index in the direction perpendicular to the axis; and nz is the refractive index in the thickness direction.
【0015】位相差板を構成する一枚のポリマーフイル
ムの厚さは、5乃至1000μmであることが好まし
く、10乃至500μmであることがさらに好ましく、
40乃至200μmであることがさらに好ましく、70
乃至120μmであることが最も好ましい。The thickness of one polymer film constituting the retardation plate is preferably from 5 to 1000 μm, more preferably from 10 to 500 μm,
More preferably, it is 40 to 200 μm.
Most preferably, it is from 120 to 120 μm.
【0016】[ポリマー]ポリマーフイルムのポリマー
としては、セルロースエステルが好ましく、セルロース
の低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸と
は、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。炭素原子
数は、2(セルロースアセテート)、3(セルロースプ
ロピオネート)または4(セルロースブチレート)であ
ることが好ましい。セルロースアセテートが特に好まし
い。セルロースアセテートプロピオネートやセルロース
アセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用
いてもよい。セルロースアセテートの平均酢化度(アセ
チル化度)は、45.0乃至62.5%であることが好
ましく、55.0乃至61.0%であることがさらに好
ましく、56.0乃至60.5%であることが最も好ま
しい。[Polymer] The polymer of the polymer film is preferably a cellulose ester, more preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. The number of carbon atoms is preferably 2 (cellulose acetate), 3 (cellulose propionate) or 4 (cellulose butyrate). Cellulose acetate is particularly preferred. Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate may be used. The average acetylation degree (acetylation degree) of cellulose acetate is preferably 45.0 to 62.5%, more preferably 55.0 to 61.0%, and more preferably 56.0 to 60.5%. % Is most preferred.
【0017】[レターデーション上昇剤]各波長におけ
るレターデーション値を調整するため、レターデーショ
ン上昇剤をポリマーフイルムに添加することができる。
レターデーション上昇剤は、ポリマー100重量部に対
して、0.05乃至20重量部の範囲で使用することが
好ましく、0.1乃至10重量部の範囲で使用すること
がより好ましく、0.2乃至5重量部の範囲で使用する
ことがさらに好ましく、0.5乃至2重量部の範囲で使
用することが最も好ましい。二種類以上のレターデーシ
ョン上昇剤を併用してもよい。レターデーション上昇剤
は、250乃至400nmの波長領域に最大吸収を有す
ることが好ましい。レターデーション上昇剤は、可視領
域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。[Retardation increasing agent] In order to adjust the retardation value at each wavelength, a retardation increasing agent can be added to the polymer film.
The retardation increasing agent is preferably used in an amount of 0.05 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight, and more preferably 0.2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer. It is more preferably used in the range of from 5 to 5 parts by weight, and most preferably used in the range of from 0.5 to 2 parts by weight. Two or more retardation increasing agents may be used in combination. The retardation increasing agent preferably has a maximum absorption in a wavelength region of 250 to 400 nm. It is preferable that the retardation increasing agent has substantially no absorption in the visible region.
【0018】レターデーション上昇剤としては、少なく
とも二つの芳香族環を有する化合物を用いることが好ま
しい。本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化
水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族炭化
水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であること
が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘ
テロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環ま
たは7員環であることが好ましく、5員環または6員環
であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般
に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒
素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子
が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン
環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソ
オキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イ
ミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾー
ル環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジ
ン環、ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が含
まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チ
オフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール
環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピ
リミジン環、ピラジン環および1,3,5−トリアジン
環が好ましい。As the retardation increasing agent, a compound having at least two aromatic rings is preferably used. In the present specification, the “aromatic ring” includes an aromatic hetero ring in addition to an aromatic hydrocarbon ring. The aromatic hydrocarbon ring is particularly preferably a 6-membered ring (that is, a benzene ring). Aromatic heterocycles are generally unsaturated heterocycles. The aromatic hetero ring is preferably a 5-, 6-, or 7-membered ring, more preferably a 5- or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As the hetero atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and a nitrogen atom is particularly preferable. Examples of the aromatic hetero ring include a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, an isoxazole ring, a thiazole ring, an isothiazole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a furazane ring, a triazole ring, a pyran ring, and a pyridine ring. , Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring and 1,3,5-triazine ring. As the aromatic ring, a benzene ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, an imidazole ring, a triazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring and a 1,3,5-triazine ring are preferable.
【0019】レターデーション上昇剤が有する芳香族環
の数は、2乃至20であることが好ましく、2乃至12
であることがより好ましく、2乃至8であることがさら
に好ましく、2乃至6であることが最も好ましい。二つ
の芳香族環の結合関係は、(a)縮合環を形成する場
合、(b)単結合で直結する場合および(c)連結基を
介して結合する場合に分類できる(芳香族環のため、ス
ピロ結合は形成できない)。結合関係は、(a)〜
(c)のいずれでもよい。The number of aromatic rings possessed by the retardation increasing agent is preferably from 2 to 20, preferably from 2 to 12.
Is more preferably, 2 to 8 is more preferable, and 2 to 6 is most preferable. The bonding relationship between two aromatic rings can be classified into (a) a case where a condensed ring is formed, (b) a case where they are directly connected by a single bond, and (c) a case where they are bonded via a linking group. , A spiro bond cannot be formed). The connection relationship is (a)-
Any of (c) may be used.
【0020】(a)の縮合環(二つ以上の芳香族環の縮
合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン
環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベン
ゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベ
ンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダ
ゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、
キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサ
リン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール
環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン
環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイ
ン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれ
る。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾ
オキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾ
ール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ま
しい。(b)の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間
の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの
芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環ま
たは非芳香族性複素環を形成してもよい。Examples of the condensed ring of (a) (condensed ring of two or more aromatic rings) include an indene ring, a naphthalene ring, an azulene ring, a fluorene ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring, an acenaphthylene ring, a biphenylene ring, Naphthacene ring, pyrene ring, indole ring, isoindole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, indolizine ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, purine ring, indazole ring, chromene ring, quinoline Ring, isoquinoline ring,
A quinolidine ring, a quinazoline ring, a cinnoline ring, a quinoxaline ring, a phthalazine ring, a pteridine ring, a carbazole ring, an acridine ring, a phenanthridine ring, a xanthene ring, a phenazine ring, a phenothiazine ring, a phenoxatiin ring, a phenoxazine ring and a thianthrene ring; included. Preferred are a naphthalene ring, an azulene ring, an indole ring, a benzoxazole ring, a benzothiazole ring, a benzimidazole ring, a benzotriazole ring and a quinoline ring. The single bond in (b) is preferably a bond between carbon atoms of two aromatic rings. Two aromatic rings may be linked by two or more single bonds to form an aliphatic ring or a non-aromatic heterocyclic ring between the two aromatic rings.
【0021】(c)の連結基も、二つの芳香族環の炭素
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O
−、−NH−、−S−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。 c1:−CO−O− c2:−CO−NH− c3:−アルキレン−O− c4:−NH−CO−NH− c5:−NH−CO−O− c6:−O−CO−O− c7:−O−アルキレン−O− c8:−CO−アルケニレン− c9:−CO−アルケニレン−NH− c10:−CO−アルケニレン−O− c11:−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO
−アルキレン− c12:−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−
CO−アルキレン−O− c13:−O−CO−アルキレン−CO−O− c14:−NH−CO−アルケニレン− c15:−O−CO−アルケニレン−The connecting group (c) is also preferably bonded to carbon atoms of two aromatic rings. The linking group is an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, -CO-, -O
-, -NH-, -S- or a combination thereof is preferred. Examples of the linking group consisting of a combination are shown below. Note that the left and right relationships in the following examples of the linking group may be reversed. c1: -CO-O-c2: -CO-NH-c3: -alkylene-O-c4: -NH-CO-NH-c5: -NH-CO-O-c6: -O-CO-O-c7: -O-alkylene-O-c8: -CO-alkenylene-c9: -CO-alkenylene-NH-c10: -CO-alkenylene-O-c11: -alkylene-CO-O-alkylene-O-CO
-Alkylene-c12: -O-alkylene-CO-O-alkylene-O-
CO-alkylene-O-c13: -O-CO-alkylene-CO-O-c14: -NH-CO-alkenylene- c15: -O-CO-alkenylene-
【0022】芳香族環および連結基は、置換基を有して
いてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子(F、C
l、Br、I)、ヒドロキシル、カルボキシル、シア
ノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファ
モイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アル
コキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル
基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族
置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換
スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香
族性複素環基が含まれる。The aromatic ring and the linking group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (F, C
l, Br, I), hydroxyl, carboxyl, cyano, amino, nitro, sulfo, carbamoyl, sulfamoyl, ureido, alkyl, alkenyl, alkynyl, aliphatic acyl, aliphatic acyloxy, alkoxy, alkoxycarbonyl , Alkoxycarbonylamino group, alkylthio group, alkylsulfonyl group, aliphatic amide group, aliphatic sulfonamide group, aliphatic substituted amino group, aliphatic substituted carbamoyl group, aliphatic substituted sulfamoyl group, aliphatic substituted ureido group and non-aromatic Group heterocyclic groups.
【0023】アルキル基の炭素原子数は、1乃至8であ
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基(例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有して
いてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む)例
には、メチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、2
−ヒドロキシエチル、4−カルボキシブチル、2−メト
キシエチルおよび2−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、2乃至8であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび1−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、2乃至
8であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、1−ブ
チニルおよび1−ヘキシニルが含まれる。The alkyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. A chain alkyl group is preferable to a cyclic alkyl group, and a linear alkyl group is particularly preferable.
The alkyl group may further have a substituent (eg, hydroxy, carboxy, alkoxy group, alkyl-substituted amino group). Examples of alkyl groups (including substituted alkyl groups) include methyl, ethyl, n-butyl, n-hexyl,
-Hydroxyethyl, 4-carboxybutyl, 2-methoxyethyl and 2-diethylaminoethyl. The alkenyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkenyl group is preferable to a cyclic alkenyl group, and a linear alkenyl group is particularly preferable.
The alkenyl group may further have a substituent. Examples of the alkenyl group include vinyl, allyl and 1-hexenyl. The alkynyl group preferably has 2 to 8 carbon atoms. A chain alkynyl group is preferable to a cyclic alkynyl group, and a linear alkynyl group is particularly preferable. The alkynyl group may further have a substituent. Examples of the alkynyl group include ethynyl, 1-butynyl and 1-hexynyl.
【0024】脂肪族アシル基の炭素原子数は、1乃至1
0であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1乃至10である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、1乃
至8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基(例、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコ
キシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2乃至
10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の
例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニル
が含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子
数は、2乃至10であることが好ましい。アルコキシカ
ルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ
およびエトキシカルボニルアミノが含まれる。The number of carbon atoms of the aliphatic acyl group is 1 to 1
It is preferably 0. Examples of the aliphatic acyl group include acetyl, propanoyl and butanoyl. The aliphatic acyloxy group preferably has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic acyloxy group include acetoxy. The alkoxy group preferably has 1 to 8 carbon atoms. The alkoxy group may further have a substituent (eg, an alkoxy group). Examples of alkoxy groups (including substituted alkoxy groups) include methoxy, ethoxy, butoxy and methoxyethoxy. The alkoxycarbonyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl. The alkoxycarbonylamino group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkoxycarbonylamino group include methoxycarbonylamino and ethoxycarbonylamino.
【0025】アルキルチオ基の炭素原子数は、1乃至1
2であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1乃至8である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。脂肪
族アミド基の炭素原子数は、1乃至10であることが好
ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含ま
れる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1乃至
8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例
には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミドお
よびn−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族置
換アミノ基の炭素原子数は、1乃至10であることが好
ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび2−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、2乃至10であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、2乃至10であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。レターデーション
上昇剤の分子量は、300乃至800であることが好ま
しいThe number of carbon atoms of the alkylthio group is 1 to 1
It is preferably 2. Examples of the alkylthio group include methylthio, ethylthio and octylthio.
The alkylsulfonyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkylsulfonyl group include methanesulfonyl and ethanesulfonyl. The aliphatic amide group preferably has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic amide group include acetamide. The aliphatic sulfonamide group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the aliphatic sulfonamide group include methanesulfonamide, butanesulfonamide and n-octanesulfonamide. The aliphatic substituted amino group preferably has 1 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic substituted amino group include dimethylamino, diethylamino and 2-carboxyethylamino. The aliphatic substituted carbamoyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic substituted carbamoyl group include methylcarbamoyl and diethylcarbamoyl. The aliphatic substituted sulfamoyl group preferably has 1 to 8 carbon atoms. Examples of the aliphatic substituted sulfamoyl group include methylsulfamoyl and diethylsulfamoyl. The aliphatic substituted ureido group preferably has 2 to 10 carbon atoms. Examples of the aliphatic substituted ureido group include methyl ureide. Examples of the non-aromatic heterocyclic group include piperidino and morpholino. The molecular weight of the retardation increasing agent is preferably from 300 to 800.
【0026】[赤外線吸収剤]各波長におけるレターデ
ーション値を調整するため、赤外線吸収剤をポリマーフ
イルムに添加することができる。赤外線吸収剤は、ポリ
マー100重量部に対して、0.01乃至5重量部の範
囲で使用することが好ましく、0.02乃至2重量部の
範囲で使用することがより好ましく、0.05乃至1重
量部の範囲で使用することがさらに好ましく、0.1乃
至0.5重量部の範囲で使用することが最も好ましい。
二種類以上の赤外線吸収剤を併用してもよい。赤外線吸
収剤は、750乃至1100nmの波長領域に最大吸収
を有することが好ましく、800乃至1000nmの波
長領域に最大吸収を有することがさらに好ましい。赤外
線吸収剤は、可視領域に実質的に吸収を有していないこ
とが好ましい。[Infrared absorber] In order to adjust the retardation value at each wavelength, an infrared absorber can be added to the polymer film. The infrared absorber is preferably used in an amount of 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.02 to 2 parts by weight, and more preferably 0.05 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer. It is more preferably used in the range of 1 part by weight, and most preferably used in the range of 0.1 to 0.5 part by weight.
Two or more infrared absorbers may be used in combination. The infrared absorber preferably has a maximum absorption in a wavelength range of 750 to 1100 nm, and more preferably has a maximum absorption in a wavelength range of 800 to 1000 nm. It is preferred that the infrared absorber has substantially no absorption in the visible region.
【0027】赤外線吸収剤としては、赤外線吸収染料ま
たは赤外線吸収顔料を用いることが好ましく、赤外線吸
収染料を用いることが特に好ましい。赤外線吸収染料に
は、有機化合物と無機化合物が含まれる。有機化合物で
ある赤外線吸収染料を用いることが好ましい。有機赤外
線吸収染料には、シアニン化合物、金属キレート化合
物、アミニウム化合物、ジイモニウム化合物、キノン化
合物、スクアリリウム化合物およびメチン化合物が含ま
れる。赤外線吸収染料については、色材、61〔4〕2
15−226(1988)、および化学工業、43−5
3(1986、5月)に記載がある。It is preferable to use an infrared absorbing dye or an infrared absorbing pigment as the infrared absorbing agent, and it is particularly preferable to use an infrared absorbing dye. The infrared absorbing dye includes an organic compound and an inorganic compound. It is preferable to use an infrared absorbing dye which is an organic compound. Organic infrared absorbing dyes include cyanine compounds, metal chelate compounds, aminium compounds, diimonium compounds, quinone compounds, squarylium compounds and methine compounds. For the infrared absorbing dye, coloring material, 61 [4] 2
15-226 (1988), and Chemical Industry, 43-5.
3 (1986, May).
【0028】赤外線吸収機能あるいは吸収スペクトルの
観点で染料の種類を検討すると、ハロゲン化銀写真感光
材料の技術分野で開発された赤外線吸収染料が優れてい
る。ハロゲン化銀写真感光材料の技術分野で開発された
赤外線吸収染料には、ジヒドロペリミジンスクアリリウ
ム染料(米国特許5380635号明細書および特願平
8−189817号明細書記載)、シアニン染料(特開
昭62−123454号、同3−138640号、同3
−211542号、同3−226736号、同5−31
3305号、同6−43583号の各公報、特願平7−
269097号明細書および欧州特許0430244号
明細書記載)、ピリリウム染料(特開平3−13864
0号、同3−211542号の各公報記載)、ジイモニ
ウム染料(特開平3−138640号、同3−2115
42号の各公報記載)、ピラゾロピリドン染料(特開平
2−282244号記載)、インドアニリン染料(特開
平5−323500号、同5−323501号の各公報
記載)、ポリメチン染料(特開平3−26765号、同
4−190343号の各公報および欧州特許37796
1号明細書記載)、オキソノール染料(特開平3−93
46号明細書記載)、アントラキノン染料(特開平4−
13654号明細書記載)、ナフタロシアニン色素(米
国特許5009989号明細書記載)およびナフトラク
タム染料(欧州特許568267号明細書記載)が含ま
れる。When examining the types of dyes from the viewpoint of infrared absorption function or absorption spectrum, infrared absorption dyes developed in the technical field of silver halide photographic materials are excellent. Infrared absorbing dyes developed in the technical field of silver halide photographic light-sensitive materials include dihydroperimidine squarylium dyes (described in US Pat. No. 5,380,635 and Japanese Patent Application No. 8-189817) and cyanine dyes (JP-A No. No. 62-123454, No. 3-138640, No. 3
-21542, 3-226736, 5-31
Nos. 3305 and 6-43583, Japanese Patent Application No. 7-435.
269097 and EP 0430244), pyrylium dyes (JP-A-3-13864).
Nos. 0 and 3-21542) and diimmonium dyes (JP-A-3-138640 and JP-A-3-2115).
No. 42), pyrazolopyridone dyes (described in JP-A-2-282244), indoaniline dyes (described in JP-A-5-323500 and JP-A-5-323501), polymethine dyes (described in JP-A-3-26765). Nos. 4,190,343 and EP 37796.
No. 1), oxonol dyes (JP-A-3-93)
No. 46), anthraquinone dyes (Japanese Unexamined Patent Publication No.
13654), a naphthalocyanine dye (described in US Pat. No. 5,099,899) and a naphtholactam dye (described in European Patent 568,267).
【0029】[ポリマーフイルムの製造]ソルベントキ
ャスト法によりポリマーフイルムを製造することが好ま
しい。ソルベントキャスト法では、ポリマーを有機溶媒
に溶解した溶液(ドープ)を用いてフイルムを製造す
る。有機溶媒は、炭素原子数が3乃至12のエーテル、
炭素原子数が3乃至12のケトン、炭素原子数が3乃至
12のエステルおよび炭素原子数が1乃至6のハロゲン
化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エ
ーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有してい
てもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基
(すなわち、−O−、−CO−および−COO−)のい
ずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用い
ることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のよ
うな他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能
基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれ
かの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。[Production of polymer film] It is preferable to produce a polymer film by a solvent casting method. In the solvent casting method, a film is manufactured using a solution (dope) in which a polymer is dissolved in an organic solvent. The organic solvent is an ether having 3 to 12 carbon atoms,
It is preferable to include a solvent selected from ketones having 3 to 12 carbon atoms, esters having 3 to 12 carbon atoms, and halogenated hydrocarbons having 1 to 6 carbon atoms. Ethers, ketones and esters may have a cyclic structure. A compound having two or more functional groups of ether, ketone and ester (that is, -O-, -CO- and -COO-) can also be used as the organic solvent. The organic solvent may have another functional group such as an alcoholic hydroxyl group. In the case of an organic solvent having two or more types of functional groups, the number of carbon atoms may be within the specified range of the compound having any one of the functional groups.
【0030】炭素原子数が3乃至12のエーテル類の例
には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジ
メトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキ
ソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネ
トールが含まれる。炭素原子数が3乃至12のケトン類
の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメ
チルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が3乃至
12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピ
ルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテー
ト、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含ま
れる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、
2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノー
ルおよび2−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン
化炭化水素の炭素原子数は、1または2であることが好
ましく、1であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化
水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲ
ン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている
割合は、25乃至75モル%であることが好ましく、3
0乃至70モル%であることがより好ましく、35乃至
65モル%であることがさらに好ましく、40乃至60
モル%であることが最も好ましい。メチレンクロリド
が、代表的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の
有機溶媒を混合して用いてもよい。Examples of the ethers having 3 to 12 carbon atoms include diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolan, tetrahydrofuran, anisole and phenetole. Examples of the ketones having 3 to 12 carbon atoms include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone. Examples of the esters having 3 to 12 carbon atoms include ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and pentyl acetate. Examples of the organic solvent having two or more types of functional groups include
Includes 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol. The number of carbon atoms of the halogenated hydrocarbon is preferably 1 or 2, and most preferably 1. The halogen of the halogenated hydrocarbon is preferably chlorine. The proportion of halogen atoms substituted by halogen atoms in halogenated hydrocarbons is preferably 25 to 75 mol%, and preferably 3 to 75 mol%.
The content is more preferably 0 to 70 mol%, still more preferably 35 to 65 mol%, and 40 to 60 mol%.
Most preferably, it is mol%. Methylene chloride is a typical halogenated hydrocarbon. Two or more organic solvents may be used as a mixture.
【0031】一般的な方法でポリマー溶液を調製でき
る。一般的な方法とは、0℃以上の温度(常温または高
温)で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常
のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法およ
び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な
方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素(特
にメチレンクロリド)を用いることが好ましい。ポリマ
ーの量は、得られる溶液中に10乃至40重量%含まれ
るように調整する。ポリマーの量は、10乃至30重量
%であることがさらに好ましい。有機溶媒(主溶媒)中
には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温(0乃至40℃)でポリマーと有機溶媒と
を攪拌することにより調製することができる。高濃度の
溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体
的には、ポリマーと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉
し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が
沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温
度は、通常は40℃以上であり、好ましくは60乃至2
00℃であり、さらに好ましくは80乃至110℃であ
る。The polymer solution can be prepared by a general method. The general method means that the treatment is performed at a temperature of 0 ° C. or higher (normal temperature or high temperature). The solution can be prepared using a dope preparation method and apparatus in a usual solvent casting method. In the case of a general method, it is preferable to use a halogenated hydrocarbon (particularly, methylene chloride) as the organic solvent. The amount of the polymer is adjusted so that the obtained solution contains 10 to 40% by weight. More preferably, the amount of polymer is from 10 to 30% by weight. In the organic solvent (main solvent), any additives described below may be added.
The solution can be prepared by stirring the polymer and the organic solvent at room temperature (0 to 40 ° C.). The highly concentrated solution may be stirred under pressure and heating conditions. Specifically, the polymer and the organic solvent are placed in a pressurized container and hermetically sealed, and the mixture is stirred while being heated under pressure to a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal temperature and in a range where the solvent does not boil. The heating temperature is usually 40 ° C. or higher, preferably 60 to 2
It is 00 ° C, more preferably 80 to 110 ° C.
【0032】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。The components may be roughly mixed in advance and then placed in a container. Moreover, you may put in a container sequentially. The container must be configured to be able to stir. The container can be pressurized by injecting an inert gas such as nitrogen gas. Further, an increase in the vapor pressure of the solvent due to heating may be used.
Alternatively, each component may be added under pressure after the container is sealed. When heating, it is preferable to heat from outside the container. For example, a jacket-type heating device can be used. Alternatively, a plate heater may be provided outside the container, and the entire container may be heated by circulating the liquid through piping. It is preferable to provide a stirring blade inside the container and stir using the stirring blade. The stirring blade preferably has a length reaching the vicinity of the container wall. At the end of the stirring blade, a scraping blade is preferably provided to renew the liquid film on the container wall. Instruments such as a pressure gauge and a thermometer may be installed in the container. Dissolve each component in the solvent in the container.
The prepared dope is taken out of the vessel after cooling, or is taken out and then cooled using a heat exchanger or the like.
【0033】冷却溶解法により、溶液を調製することも
できる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させ
ることが困難な有機溶媒中にもポリマーを溶解させるこ
とができる。なお、通常の溶解方法でポリマーを溶解で
きる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な
溶液が得られるとの効果がある。冷却溶解法では最初
に、室温で有機溶媒中にポリマーを撹拌しながら徐々に
添加する。ポリマーの量は、この混合物中に10乃至4
0重量%含まれるように調整することが好ましい。ポリ
マーの量は、10乃至30重量%であることがさらに好
ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を
添加しておいてもよい。A solution can be prepared by a cooling dissolution method. In the cooling dissolution method, the polymer can be dissolved even in an organic solvent that is difficult to dissolve by a normal dissolution method. In addition, even if it is a solvent which can dissolve a polymer by a usual dissolution method, the cooling dissolution method has an effect that a uniform solution can be obtained quickly. In the cooling dissolution method, first, a polymer is gradually added to an organic solvent with stirring at room temperature. The amount of polymer is between 10 and 4 in this mixture.
It is preferable to adjust so as to contain 0% by weight. More preferably, the amount of polymer is from 10 to 30% by weight. Further, an optional additive described below may be added to the mixture.
【0034】次に、混合物を−100乃至−10℃(好
ましくは−80乃至−10℃、さらに好ましくは−50
乃至−20℃、最も好ましくは−50乃至−30℃)に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液
(−30乃至−20℃)中で実施できる。このように冷
却すると、ポリマーと有機溶媒の混合物は固化する。冷
却速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/
分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上で
あることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好まし
いが、10000℃/秒が理論的な上限であり、100
0℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が
実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始す
る時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始して
から最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値で
ある。Next, the mixture is heated to -100 to -10 ° C (preferably -80 to -10 ° C, more preferably -50 to -10 ° C).
To -20 ° C, most preferably -50 to -30 ° C). The cooling can be performed, for example, in a dry ice / methanol bath (−75 ° C.) or a cooled diethylene glycol solution (−30 to −20 ° C.). Upon such cooling, the mixture of polymer and organic solvent solidifies. The cooling rate is preferably 4 ° C./min or more, and 8 ° C./min.
Minutes or more, and most preferably 12 ° C./minute or more. The higher the cooling rate, the better, but the theoretical upper limit is 10,000 ° C./sec.
0 ° C./sec is a technical upper limit, and 100 ° C./sec is a practical upper limit. The cooling rate is a value obtained by dividing the difference between the temperature at which the cooling is started and the final cooling temperature by the time from when the cooling is started to when the temperature reaches the final cooling temperature.
【0035】さらに、これを0乃至200℃(好ましく
は0乃至150℃、さらに好ましくは0乃至120℃、
最も好ましくは0乃至50℃)に加温すると、有機溶媒
中にポリマーが溶解する。昇温は、室温中に放置するだ
けでもよし、温浴中で加温してもよい。加温速度は、4
℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上である
ことがさらに好ましく、12℃/分以上であることが最
も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、100
00℃/秒が理論的な上限であり、1000℃/秒が技
術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限
である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と
最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な
加温温度に達するまでの時間で割った値である。以上の
ようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充
分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。
溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を
観察するだけで判断することができる。Further, the temperature is raised to 0 to 200 ° C. (preferably 0 to 150 ° C., more preferably 0 to 120 ° C.,
Upon heating to (most preferably 0 to 50 ° C.), the polymer dissolves in the organic solvent. The temperature may be raised only by leaving it at room temperature or may be heated in a warm bath. Heating rate is 4
C./min or more, more preferably 8 ° C./min or more, and most preferably 12 ° C./min or more. The heating rate is preferably as fast as possible.
00 ° C / sec is the theoretical upper limit, 1000 ° C / sec is the technical upper limit, and 100 ° C / sec is the practical upper limit. Note that the heating rate is a value obtained by dividing the difference between the temperature at which heating is started and the final heating temperature by the time from when the heating is started until the final heating temperature is reached. . As described above, a uniform solution is obtained. If the dissolution is insufficient, the operation of cooling and heating may be repeated.
Whether or not the dissolution is sufficient can be determined only by visually observing the appearance of the solution.
【0036】冷却溶解法においては、冷却時の結露によ
る水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ま
しい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、
加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができ
る。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を
用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート
(酢化度:60.9%、粘度平均重合度:299)を冷
却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した20重量
%の溶液は、示差走査熱量測定(DSC)によると、3
3℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在
し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、
この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移
温度プラス10℃程度の温度で保存する必要がある。た
だし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの
平均酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機
溶媒により異なる。In the cooling dissolution method, it is desirable to use a closed container in order to avoid water contamination due to dew condensation during cooling. Also, in the cooling and heating operation, pressurization during cooling,
By reducing the pressure during the heating, the dissolution time can be shortened. In order to perform pressurization and decompression, it is desirable to use a pressure-resistant container. According to the differential scanning calorimetry (DSC), a 20% by weight solution of cellulose acetate (acetylation degree: 60.9%, viscosity average polymerization degree: 299) dissolved in methyl acetate by a cooling dissolution method was 3%.
A pseudo phase transition point between the sol state and the gel state exists near 3 ° C., and below this temperature, the gel state becomes uniform. Therefore,
This solution must be stored at a temperature equal to or higher than the quasi phase transition temperature, preferably at a temperature of about 10 ° C. plus the gel phase transition temperature. However, the pseudo phase transition temperature varies depending on the average acetylation degree of cellulose acetate, the average degree of viscosity polymerization, the solution concentration, and the organic solvent used.
【0037】調製したポリマー溶液(ドープ)から、ソ
ルベントキャスト法によりポリマーフイルムを製造す
る。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を
蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固
形分量が18乃至35%となるように濃度を調整するこ
とが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態
に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法
における流延および乾燥方法については、米国特許23
36310号、同2367603号、同2492078
号、同2492977号、同2492978号、同26
07704号、同2739069号、同2739070
号、英国特許640731号、同736892号の各明
細書、特公昭45−4554号、同49−5614号、
特開昭60−176834号、同60−203430
号、同62−115035号の各公報に記載がある。ド
ープは、表面温度が10℃以下のドラムまたはバンド上
に流延することが好ましい。流延した2秒以上風に当て
て乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラム
またはバンドから剥ぎ取り、さらに100から160℃
まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発
させることもできる。以上の方法は、特公平5−178
44号公報に記載がある。この方法によると、流延から
剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この
方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンド
の表面温度においてドープがゲル化することが必要であ
る。本発明に従い調製した溶液(ドープ)は、この条件
を満足する。製造するフイルムの厚さは、40乃至12
0μmであることが好ましく、70乃至100μmであ
ることがさらに好ましい。From the prepared polymer solution (dope), a polymer film is produced by a solvent casting method. The dope is cast on a drum or band and the solvent is evaporated to form a film. The concentration of the dope before casting is preferably adjusted so that the solid content is 18 to 35%. It is preferable that the surface of the drum or the band is finished in a mirror state. The casting and drying methods in the solvent casting method are described in US Pat.
No. 36310, No. 2367603, No. 2492078
Nos. 2492977, 2492978, 26
No. 07704, No. 2739069, No. 2739070
Nos., British Patent Nos. 640731 and 736892, Japanese Patent Publication Nos. 45-4554 and 49-5614,
JP-A-60-176834 and JP-A-60-203430
And JP-A-62-115035. The dope is preferably cast on a drum or band having a surface temperature of 10 ° C. or less. It is preferable to dry the film by blowing it for 2 seconds or more. The obtained film is peeled off from the drum or band, and further heated at 100 to 160 ° C.
It is also possible to evaporate the residual solvent by drying with a high-temperature air having a temperature which is sequentially changed up to the above. The above method is described in Tokuhei 5-178.
No. 44 discloses this. According to this method, the time from casting to stripping can be reduced. In order to carry out this method, it is necessary that the dope gels at the surface temperature of the drum or band during casting. The solution (dope) prepared according to the present invention satisfies this condition. The thickness of the film to be manufactured is 40 to 12
The thickness is preferably 0 μm, more preferably 70 to 100 μm.
【0038】[可塑剤]ポリマーフイルムには、機械的
物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート(TPP)およびトリクレジルホスフェート(TC
P)が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DM
P)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレ
ート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ジ
フェニルフタレート(DPP)およびジエチルヘキシル
フタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸エステル
の例には、O−アセチルクエン酸トリエチル(OACT
E)およびO−アセチルクエン酸トリブチル(OACT
B)が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤(DMP、DE
P、DBP、DOP、DPP、DEHP)が好ましく用
いられる。DEPおよびDPPが特に好ましい。可塑剤
の添加量は、ポリマーの量の0.1乃至25重量%であ
ることが好ましく、1乃至20重量%であることがさら
に好ましく、3乃至15重量%であることが最も好まし
い。[Plasticizer] A plasticizer can be added to the polymer film in order to improve mechanical properties or to increase the drying speed. As a plasticizer,
Phosphate or carboxylate esters are used. Examples of phosphate esters include triphenyl phosphate (TPP) and tricresyl phosphate (TCC).
P) is included. Representative carboxylic esters include phthalic esters and citric esters. Examples of phthalate esters include dimethyl phthalate (DM
P), diethyl phthalate (DEP), dibutyl phthalate (DBP), dioctyl phthalate (DOP), diphenyl phthalate (DPP) and diethylhexyl phthalate (DEHP). Examples of citrate esters include O-acetyl triethyl citrate (OACT
E) and tributyl O-acetylcitrate (OACT
B) is included. Examples of other carboxylic esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate,
It includes dibutyl sebacate and various trimellitate esters. Phthalate ester plasticizers (DMP, DE
P, DBP, DOP, DPP, DEHP) are preferably used. DEP and DPP are particularly preferred. The amount of the plasticizer added is preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 1 to 20% by weight, and most preferably 3 to 15% by weight of the amount of the polymer.
【0039】[劣化防止剤]ポリマーフイルムには、劣
化防止剤(例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル
禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン)を添加し
てもよい。劣化防止剤については、特開平3−1992
01号、同5−1907073号、同5−194789
号、同5−271471号、同6−107854号の各
公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶
液(ドープ)の0.01乃至1重量%であることが好ま
しく、0.01乃至0.2重量%であることがさらに好
ましい。添加量が0.01重量%未満であると、劣化防
止剤の効果がほとんど認められない。添加量が1重量%
を越えると、フイルム表面への劣化防止剤のブリードア
ウト(滲み出し)が認められる場合がある。特に好まし
い劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエ
ン(BHT)、トリベンジルアミン(TBA)を挙げる
ことができる。[Deterioration inhibitor] The polymer film may be added with a degradation inhibitor (eg, antioxidant, peroxide decomposer, radical inhibitor, metal deactivator, acid scavenger, amine). Good. Regarding the deterioration inhibitor, see JP-A-3-1992
No. 01, 5-1907073, 5-194789
And JP-A-5-271471 and JP-A-6-107854. The amount of the deterioration inhibitor added is preferably 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.01 to 0.2% by weight of the solution (dope) to be prepared. If the amount is less than 0.01% by weight, the effect of the deterioration inhibitor is hardly recognized. 1% by weight
Exceeding the limit may cause bleed-out (bleeding-out) of the deterioration inhibitor to the film surface. Particularly preferred examples of the deterioration inhibitor include butylated hydroxytoluene (BHT) and tribenzylamine (TBA).
【0040】[延伸処理]ポリマーフイルムは、さらに
延伸処理により屈折率(面内の遅相軸方向の屈折率n
x、面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み
方向の屈折率nz)を調整することが好ましい。固有複
屈折率が正であると、ポリマー鎖が配向した方向に屈折
率が高くなる。このような固有複屈折率が正のポリマー
を延伸すると、通常、屈折率は、nx>ny≧nzとな
る。これは、面内の方向に配向したポリマー鎖が、延伸
によってx成分が多くなり、z成分が最も小さくなるた
めである。これにより、1≦(nx−nz)/(nx−
ny)の関係を満足することができる。さらに、(nx
−nz)/(nx−ny)≦2の関係を満足するために
は、一軸延伸の延伸倍率を制御するか、あるいはアンバ
ランスな二軸延伸を実施して屈折率を調整すればよい。
具体的には、最大の延伸倍率SAと、その延伸方向に垂
直な方向の延伸倍率SBとが、1<SA/SB≦3の関
係を満足するように、一軸延伸またはアンバランス二軸
延伸を実施すればよい。延伸倍率は、延伸する前の長さ
を1とする場合の相対的な値である。SBは、1未満の
値となる(言い換えると収縮する)場合もある。上記式
の関係を満足すれば、SBは1未満の値であってもよ
い。さらに、延伸倍率は、正面レターデーションがλ/
4またはλ/2となるように調整する。延伸処理は、同
時処理であっても、逐次処理であってもよい。[Stretching Treatment] The polymer film is further subjected to a stretching treatment to obtain a refractive index (refractive index n in the in-plane slow axis direction).
It is preferable to adjust x, the refractive index ny in the direction perpendicular to the in-plane slow axis, and the refractive index nz in the thickness direction. When the intrinsic birefringence is positive, the refractive index increases in the direction in which the polymer chains are oriented. When such a polymer having a positive intrinsic birefringence is stretched, the refractive index usually becomes nx> ny ≧ nz. This is because the x-component of the polymer chain oriented in the in-plane direction is increased by stretching, and the z-component is minimized. Thus, 1 ≦ (nx−nz) / (nx−
ny) can be satisfied. Further, (nx
In order to satisfy the relationship of −nz) / (nx−ny) ≦ 2, the refractive index may be adjusted by controlling the stretching ratio of uniaxial stretching or by performing unbalanced biaxial stretching.
Specifically, uniaxial stretching or unbalanced biaxial stretching is performed so that the maximum stretching ratio SA and the stretching ratio SB in the direction perpendicular to the stretching direction satisfy the relationship of 1 <SA / SB ≦ 3. What is necessary is just to implement. The stretching ratio is a relative value when the length before stretching is set to 1. SB may be a value less than 1 (in other words, contract). If the relationship of the above expression is satisfied, SB may be a value less than 1. Further, the stretching ratio is such that the front retardation is λ /
4 or λ / 2. The stretching process may be a simultaneous process or a sequential process.
【0041】[円偏光板]λ/4板と偏光膜とを、λ/
4板の面内の遅相軸と偏光膜の偏光軸との角度が実質的
に45゜になるように積層すると円偏光板が得られる。
実質的に45゜とは、40乃至50゜であることを意味
する。λ/4板の面内の遅相軸と偏光膜の偏光軸との角
度は、41乃至49゜であることが好ましく、42乃至
48゜であることがより好ましく、43乃至47゜であ
ることがさらに好ましく、44乃至46゜であることが
最も好ましい。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染
料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨ
ウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニル
アルコール系フイルムを用いて製造する。偏光膜の偏光
軸は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。偏
光膜のλ/4板とは反対側の面には、透明保護膜を設け
ることが好ましい。最外層には反射防止層を設けること
が好ましい。[Circularly Polarizing Plate] The λ / 4 plate and the polarizing film are
A circularly polarizing plate is obtained by laminating such that the angle between the in-plane slow axis of the four plates and the polarizing axis of the polarizing film is substantially 45 °.
Substantially 45 ° means 40 to 50 °. The angle between the in-plane slow axis of the λ / 4 plate and the polarization axis of the polarizing film is preferably 41 to 49 °, more preferably 42 to 48 °, and 43 to 47 °. Is more preferable, and most preferably 44 to 46 °. The polarizing film includes an iodine-based polarizing film, a dye-based polarizing film using a dichroic dye, and a polyene-based polarizing film. The iodine-based polarizing film and the dye-based polarizing film are generally manufactured using a polyvinyl alcohol-based film. The polarization axis of the polarizing film corresponds to a direction perpendicular to the stretching direction of the film. It is preferable to provide a transparent protective film on the surface of the polarizing film opposite to the λ / 4 plate. It is preferable to provide an anti-reflection layer as the outermost layer.
【0042】[透明導電膜]ポリマーフイルムの表面抵
抗率は、帯電防止用としては1012Ω/□以下であるこ
とが好ましく、1011Ω/□以下であることがさらに好
ましく、1010Ω/□以下であることが特に好ましい。
ポリマーフイルムの少なくとも一方の面が上記の表面抵
抗率を有していればよい。[Transparent Conductive Film] The surface resistivity of the polymer film for antistatic purposes is preferably 10 12 Ω / □ or less, more preferably 10 11 Ω / □ or less, and more preferably 10 10 Ω / □. □ It is particularly preferred that it is not more than.
It is sufficient that at least one surface of the polymer film has the above surface resistivity.
【0043】ポリマーフイルムの表面抵抗率を上記のよ
うな値にするためには、界面活性剤や導電性微粒子分散
物などを用いて、透明導電膜を設けても構わないし、ポ
リマーフイルム全体または一部分に導電性が付与されて
いても構わないが、透明導電膜を設ける方がより好まし
い。透明導電膜は、塗布によって設けても構わないし、
フイルム流延時に共流延することによって設けても構わ
ない。また、スパッタリング、真空蒸着法、イオンプレ
ーティング法などの真空成膜法によって透明導電膜を成
膜しても構わない。フイルムの片面に透明導電膜を設け
ても構わないし、両面に設けても構わない。また、これ
らの方法を併用することも可能である。In order to set the surface resistivity of the polymer film to the above value, a transparent conductive film may be provided using a surfactant or a dispersion of conductive fine particles, or the whole or a part of the polymer film may be provided. Although conductivity may be imparted to the substrate, it is more preferable to provide a transparent conductive film. The transparent conductive film may be provided by coating,
It may be provided by co-casting at the time of film casting. Further, a transparent conductive film may be formed by a vacuum film forming method such as sputtering, vacuum evaporation, or ion plating. A transparent conductive film may be provided on one side of the film, or may be provided on both sides. Also, these methods can be used in combination.
【0044】透明導電膜として使用される界面活性剤と
しては、ノニオン性、イオン性(アニオン、カチオン、
ベタイン)いずれも使用できる。さらにフッ素系界面活
性剤も有機溶媒中での塗布剤としたり、帯電防止剤とし
て好ましく用いられる。Surfactants used as the transparent conductive film include nonionic and ionic (anions, cations,
Betaine) can be used. Further, a fluorine-based surfactant is also preferably used as a coating agent in an organic solvent or as an antistatic agent.
【0045】好ましいノニオン系界面活性剤としては、
ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキ
シブチレン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性
親水性基とする界面活性剤であり、具体的には、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンア
ルキルフェニールエーテル、ポリオキシエチレン−ポリ
オキシプロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部
分エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸
部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポ
リグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミ
ド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルを挙げる
ことができる。Preferred nonionic surfactants include:
Polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, a surfactant having a nonionic hydrophilic group of polyglycidyl and sorbitan, specifically, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene Ethylene-polyoxypropylene glycol, polyhydric alcohol fatty acid partial ester, polyoxyethylene polyhydric alcohol fatty acid partial ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyglycerin fatty acid ester, fatty acid diethanolamide, triethanolamine fatty acid partial ester can be exemplified. .
【0046】アニオン系界面活性剤としてはカルボン酸
塩、硫酸塩、スルフォン酸塩、リン酸エステル塩であ
り、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキルベンゼン
スルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、
アルキルスルフォン酸塩、α―オレフィンスルフォン酸
塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α―スルフォン化
脂肪酸塩、N−メチルーNオレイルタウリン、石油スル
フォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレン
アルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレ
ンスチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン
酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、
ナフタレンスルフォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物など
である。The anionic surfactants include carboxylate, sulfate, sulfonate and phosphate ester salts. Representative examples are fatty acid salt, alkylbenzene sulfonate, alkylnaphthalene sulfonate,
Alkyl sulfonate, α-olefin sulfonate, dialkyl sulfosuccinate, α-sulfonated fatty acid salt, N-methyl-N-oleyltaurine, petroleum sulfonate, alkyl sulfate, sulfated oil, polyoxyethylene alkyl Ether sulfate, polyoxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate, alkyl phosphate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate,
And naphthalene sulfonate formaldehyde condensate.
【0047】カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、
4級アンモニウム塩、ピリジュム塩などを挙げることが
でき、第一〜第3脂肪アミン塩、第4級アンモニウム塩
(テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジ
ルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキルイ
ミダゾリウム塩など)を挙げることが出来る。As the cationic surfactant, an amine salt,
Examples thereof include quaternary ammonium salts, pyridum salts and the like, and primary to tertiary fatty amine salts, quaternary ammonium salts (tetraalkylammonium salts, trialkylbenzylammonium salts, alkylpyridium salts, alkylimidazolium salts and the like) ).
【0048】両性系界面活性剤としてはカルボキシベタ
イン、スルフォベタインなどであり、N−トリアルキル
−N−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、N−ト
リアルキル−N−スルフォアルキレンアンモニウムベタ
インなどである。Examples of the amphoteric surfactant include carboxybetaine and sulfobetaine, such as N-trialkyl-N-carboxymethylammonium betaine and N-trialkyl-N-sulfoalkyleneammonium betaine.
【0049】これらの界面活性剤は、界面活性剤の応用
(幸書房、刈米孝夫著、昭和55年9月1日発行)に記載さ
れている。本発明においては、好ましい界面活性剤はそ
の使用量において特に限定されず、目的とする界面活性
特性が得られる量であればよい。なお、これらな界面活
性剤の塗設量は、1m2 当り0.02〜1000mgが
好ましく、0.05〜200mgが好ましい。These surfactants are described in Application of Surfactants (Koshobo, Takao Karimei, published on September 1, 1980). In the present invention, a preferred surfactant is not particularly limited in its use amount, and any surfactant may be used as long as desired surfactant properties can be obtained. The amount of the surfactant to be applied is preferably 0.02 to 1000 mg, preferably 0.05 to 200 mg per 1 m 2 .
【0050】以下に界面活性剤の具体例を記す。ここ
で、‐C6 H4 ‐はフェニレン基を表わす。 WA−1:C12H25(OCH2 CH2 )10OH WA−2:C9 H19−C6 H4 −(OCH2 CH2 )12
OH WA−3:ポリ(重合度20)オキシエチレンソルビタ
ンモノラウリン酸エステル WA−4:ドデシルベンゼンスルフォン酸ソーダ WA−5:トリ(イソプロピル)ナフタレンスルフォン
酸ソーダ WA−6:ドデシル硫酸ソーダ WA−7:α−スルファコハク酸ジ(2−エチルヘキシ
ル)エステル ナトリウム塩 WA−8:セチルトリメチルアンモニウム・クロライド WA−9:C11H23CONHCH2 CH2 N+ (C
H3 )2 −CH2 COO- Specific examples of the surfactant will be described below. Here, -C 6 H 4- represents a phenylene group. WA-1: C 12 H 25 (OCH 2 CH 2) 10 OH WA-2: C 9 H 19 -C 6 H 4 - (OCH 2 CH 2) 12
OH WA-3: poly (degree of polymerization 20) oxyethylene sorbitan monolaurate WA-4: sodium dodecylbenzenesulfonate WA-5: sodium tri (isopropyl) naphthalene sulfonate WA-6: sodium dodecyl sulfate WA-7: α -Sulfasuccinic acid di (2-ethylhexyl) ester sodium salt WA-8: Cetyltrimethylammonium chloride WA-9: C 11 H 23 CONHCH 2 CH 2 N + (C
H 3) 2 -CH 2 COO -
【0051】WA−10:C8 F17SO2 N(C
3 H7 )(CH2 CH2 O)16H WA−11:C8 F17SO2 N(C3 H7 )CH2 CO
OK WA−12:C7 F15COONH4 WA−13:C8 F17SO3 K WA−14:C8F17SO2N(C3H7)(CH2CH2O)4(CH2)4SO3Na WA−15:C8F17SO2N(C3H7)-(CH2)3 -N(+)(CH3)3・I
(-) WA−16:C8F17SO2N(C3H7)CH2CH2CH2-N(+)(CH3)2-CH
2COO(-) WA−17:C8F17CH2CH2O(CH2CH2O)16H WA−18:C8F17CH2CH2O(CH2)3-N(+)(CH3)3・I(-) WA−19:H(CF2)8CH2CH2OCOCH2CH(SO3)COOCH2CH2CH2
CH2(CF)8H WA−20:H(CF2)6CH2CH2O(CH2CH2O)16H WA−21:H(CF2)8CH2CH2O(CH2)3-N(+)(CH3)3・I(-) WA−22:H(CF2)8CH2CH2OCOCH2CH(SO3)COOCH2CH2CH2
CH2C8F17 WA−23:C9F17-C6H4-SO2N(C3H7)(CH2CH2O)16H WA−24:C9F17-C6H4-SO2N(C3H7)-(CH2)3-N(+)(CH3)
3・I(-)WA-10: C 8 F 17 SO 2 N (C
3 H 7) (CH 2 CH 2 O) 16 H WA-11: C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7) CH 2 CO
OK WA-12: C 7 F 15 COONH4 WA-13: C 8 F 17 SO 3 K WA-14: C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7) (CH 2 CH 2 O) 4 (CH 2) 4 SO 3 Na WA-15: C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7 )-(CH 2 ) 3 -N (+) (CH 3 ) 3 .I
(-) WA-16: C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7) CH 2 CH 2 CH 2 -N (+) (CH 3) 2 -CH
2 COO (-) WA-17: C 8 F 17 CH 2 CH 2 O (CH 2 CH 2 O) 16 H WA-18: C 8 F 17 CH 2 CH 2 O (CH 2 ) 3 -N (+) (CH 3 ) 3 · I (-) WA-19: H (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 OCOCH 2 CH (SO 3 ) COOCH 2 CH 2 CH 2
CH 2 (CF) 8 H WA-20: H (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 O (CH 2 CH 2 O) 16 H WA-21: H (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 O (CH 2 ) 3 -N (+) (CH 3 ) 3 · I (-) WA-22: H (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 OCOCH 2 CH (SO 3 ) COOCH 2 CH 2 CH 2
CH 2 C 8 F 17 WA- 23: C 9 F 17 -C 6 H 4 -SO 2 N (C 3 H 7) (CH 2 CH 2 O) 16 H WA-24: C 9 F 17 -C 6 H 4 -SO 2 N (C 3 H 7 )-(CH 2 ) 3 -N (+) (CH 3 )
3・ I (-)
【0052】導電性微粒子分散物を塗布する方法として
は、基本的には少なくとも1種以上の金属および、また
は金属酸化物、金属窒化物からなる微粒子を含有する層
からなる。1種以上の金属からなる微粒子としては、
金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、パラジウ
ム、プラチナ等の金属あるいはこれらの合金が挙げられ
る。特に銀が好ましく、さらに耐候性の観点からパラジ
ウムと銀の合金が好ましい。パラジウムの含有量として
は5〜30wt%が好ましく、パラジウムが少ないと耐
候性が悪く、パラジウムが多くなると導電性が低下す
る。金属微粒子の作成方法としては、低真空蒸発法によ
る微粒子の作製方法や金属塩の水溶液を鉄(II)、ヒド
ラジン、ボロンハイドライド、ヒドロキシエチルアミン
等のアミン等の還元剤で還元する金属コロイド作製方法
が挙げられる。金属酸化物としてはIn2O3系(Snな
どドープ品含む)、SnO2系(F、Sbなどドープ品
含む)、ZnO系(Al、Gaなどのドープ品含む)、
TiO 2、Al2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO
3、V2O5、またはこれらの複合品などが挙げられる。
金属窒化物としてはTiNなどが挙げられる。As a method of applying the conductive fine particle dispersion,
Is basically at least one or more metals and
Is a layer containing fine particles consisting of metal oxides and metal nitrides
Consists of As fine particles composed of one or more metals,
Gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, palladium
Metal, platinum, etc., or their alloys.
You. Particularly preferred is silver, and furthermore, palladium is preferable from the viewpoint of weather resistance.
Platinum and silver alloys are preferred. As the content of palladium
Is preferably 5 to 30% by weight.
Poor weather, conductivity decreases as palladium increases
You. As a method for producing metal fine particles, a low vacuum evaporation method is used.
The method of preparing fine particles and the aqueous solution of metal salt
Lazine, boron hydride, hydroxyethylamine
Of metal colloid to be reduced by reducing agent such as amine
Is mentioned. As a metal oxide, InTwoOThreeSystem (Sn
Dope), SnOTwo(Dope products such as F and Sb
), ZnO-based (including doped products such as Al and Ga),
TiO Two, AlTwoOThree, SiOTwo, MgO, BaO, MoO
Three, VTwoOFiveOr a composite thereof.
Examples of the metal nitride include TiN.
【0053】これら導電性微粒子の平均粒径は1.0〜
700nmが好ましく、2.0〜300nmが更に好ま
しく、5.0〜100nmが最も好ましい。粒径が大き
すぎると、導電性微粒子による光の吸収が大きくなり、
このために粒子層の光透過率が低下すると同時にヘイズ
が大きくなり、また、これら導電性微粒子の平均粒径が
1nm未満の場合には微粒子の分散が困難になること、
微粒子層の表面抵抗が急激に大きくなるため、本発明の
目的を達成しうる程度の低抵抗値を有する被膜を得るこ
とができない。The average particle size of these conductive fine particles is 1.0 to 1.0.
700 nm is preferred, 2.0 to 300 nm is more preferred, and 5.0 to 100 nm is most preferred. If the particle size is too large, light absorption by the conductive fine particles increases,
For this reason, the haze increases at the same time as the light transmittance of the particle layer decreases, and when the average particle diameter of these conductive fine particles is less than 1 nm, dispersion of the fine particles becomes difficult,
Since the surface resistance of the fine particle layer rapidly increases, it is not possible to obtain a coating having a low resistance enough to achieve the object of the present invention.
【0054】導電性微粒子層の形成は、導電性微粒子を
水を主体とする溶液あるいは有機溶剤等に分散した塗料
を塗布して作製することができる。塗布する前に、表面
処理や下塗りを施すことができる。表面処理としては、
例えばコロナ放電処理、グロー放電処理、クロム酸処理
(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処
理などが挙げられる。下塗り層の素材としては塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、ブタジエン、(メタ)アクリル酸
エステル、ビニルエステル等の共重合体或いはラテック
ス、ゼラチン等の水溶性ポリマーなどが挙げられるが特
に限定はされない。導電性微粒子の分散安定化のために
は水を主体とする溶液が好ましく、水と混合出来る溶剤
としてはエチルアルコール、n−プロピルアルコール、
i−プロピルアルコール、ブチルアルコール、メチルセ
ルソルブ、ブチルセルソルブ等のアルコールが好まし
い。導電性微粒子の塗布量としては、10乃至1000
mg/m2が好ましく、20乃至500mg/m2がさら
に好ましく、50〜150mg/m2が最も好ましい。
塗布量が少ないと導電性が取れず、塗布量が多いと透過
性が劣る。The conductive fine particle layer can be formed by applying a coating solution in which conductive fine particles are dispersed in a solution mainly composed of water or an organic solvent. Before application, surface treatment or undercoating can be applied. As the surface treatment,
For example, a corona discharge treatment, a glow discharge treatment, a chromic acid treatment (wet method), a flame treatment, a hot air treatment, an ozone / ultraviolet irradiation treatment and the like can be mentioned. Examples of the material of the undercoat layer include, but are not particularly limited to, copolymers such as vinyl chloride, vinylidene chloride, butadiene, (meth) acrylate, and vinyl ester, and water-soluble polymers such as latex and gelatin. For stabilizing the dispersion of the conductive fine particles, a solution mainly composed of water is preferable, and as a solvent that can be mixed with water, ethyl alcohol, n-propyl alcohol,
Alcohols such as i-propyl alcohol, butyl alcohol, methyl cellosolve and butyl cellosolve are preferred. The application amount of the conductive fine particles is 10 to 1000
mg / m 2 is preferable, 20 to 500 mg / m 2 is more preferable, and 50 to 150 mg / m 2 is most preferable.
If the coating amount is small, the conductivity cannot be obtained, and if the coating amount is large, the transmittance is poor.
【0055】透明導電層はバインダーを含有していて
も、バインダーを含有せず、実質的に導電性微粒子のみ
から形成されていてもどちらでも構わない。バインダー
を用いる場合、素材は特に限定されないが、親水性バイ
ンダー、疎水性バインダー、あるいは、ラテックスを用
いることができる。親水性バインダーとしては、ゼラチ
ン、ゼラチン誘導体、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷ
ん、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、
無水マレイン酸共重合体、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース、ヒドロキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロースなどである。疎
水性バインダーとしては、セルロースエステル(例え
ば、ニトロセルロース、ジアセチルセルロース、トリア
セチルセルロース、メチルセルロース)、塩化ビニル、
塩化ビニリデン、ビニルアクリレートなどを含むビニル
系ポリマー、ポリアミド、ポリエステルなどのポリマー
である。The transparent conductive layer may contain a binder or may not contain a binder and may be formed substantially only of conductive fine particles. When a binder is used, the material is not particularly limited, but a hydrophilic binder, a hydrophobic binder, or latex can be used. As the hydrophilic binder, gelatin, gelatin derivatives, agar, sodium alginate, starch, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid copolymer,
Maleic anhydride copolymer, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose and the like. As the hydrophobic binder, cellulose esters (for example, nitrocellulose, diacetylcellulose, triacetylcellulose, methylcellulose), vinyl chloride,
Vinyl-based polymers including vinylidene chloride and vinyl acrylate, and polymers such as polyamide and polyester.
【0056】透明導電性層の導電性や透過性の向上のた
め、熱処理や水処理することができる。熱処理は、ポリ
マーフイルムの耐熱性によるが、150℃以下が好まし
い。100℃から150℃が好ましい。150℃以上で
はポリマーフイルムの熱による変形が起こりやすく、1
00℃以下では熱処理の効果が出難く、長時間の処理時
間が必要になってしまう。Heat treatment or water treatment can be performed to improve the conductivity and the transparency of the transparent conductive layer. The heat treatment depends on the heat resistance of the polymer film, but is preferably 150 ° C. or lower. 100 ° C to 150 ° C is preferred. At 150 ° C or higher, the polymer film is likely to be deformed by heat.
When the temperature is lower than 00 ° C., the effect of the heat treatment is hardly obtained, and a long processing time is required.
【0057】熱処理の方法は、ウェッブ状態で加熱ゾー
ンを通しながら処理することが均一な処理が出来て好ま
しい。加熱ゾーンの長さと搬送速度で滞在時間を調節す
ることが出来る。またロール状のフイルムを恒温槽中で
加熱することも可能であるが、熱伝導のバラツキを考慮
した時間設定が必要になる。The heat treatment is preferably carried out while passing through a heating zone in a web state, since a uniform treatment can be achieved. The stay time can be adjusted by the length of the heating zone and the transport speed. It is also possible to heat the rolled film in a thermostat, but it is necessary to set the time in consideration of the variation in heat conduction.
【0058】また、熱処理に先立ち、透明導電性層を水
洗等の水処理をする事で熱処理をさらに効率良くするこ
とが出来る。水洗等の水処理は、通常の塗布方式による
水だけの塗布、具体的にはディップコート塗布、ワイヤ
ーバーによる水の塗布等があり、他にはスプレーやシャ
ワーで水を透明導電性層に掛ける方法がある。透明導電
性層に水をかけた後、過剰の水は必要に応じて、ワイヤ
ーバー、ロッドバーで掻き取ったり、エアーナイフで掻
き取ることが出来る。Further, prior to the heat treatment, the heat treatment can be further efficiently performed by subjecting the transparent conductive layer to a water treatment such as washing with water. Water treatment such as water washing includes application of only water by a normal application method, specifically, dip coating, application of water by a wire bar, and the like. In addition, water is applied to the transparent conductive layer by spraying or showering. There is a way. After water is applied to the transparent conductive layer, excess water can be scraped off with a wire bar or a rod bar or with an air knife as necessary.
【0059】これらの水処理により、熱処理後の透明導
電性槽の表面抵抗をさらに低下させることが出来、加え
て透過率の増加、透過スペクトルの平坦化、反射防止層
を積層した後の反射率の低下に対する効果が顕著にな
る。By these water treatments, the surface resistance of the transparent conductive tank after the heat treatment can be further reduced, and in addition, the transmittance is increased, the transmission spectrum is flattened, and the reflectance after the anti-reflection layer is laminated. The effect on the reduction of the amount becomes significant.
【0060】真空成膜法にとしては「透明導電膜の新展
開」シーエムシー、澤田 豊監修、「月刊ディスプレ
イ」1999年9月号に記載の方法を用いることができ
る。製膜する金属酸化物としてはIn2O3系(Snなど
ドープ品、ITO含む)、SnO2系(F、Sbなどド
ープ品含む)、ZnO系(Al、Gaなどのドープ品含
む)またはこれらの複合品In2O3−ZnO系などが挙
げられる。金属窒化物としてはTiNなどが挙げられ
る。また、銀などと共に製膜しても良い。As a vacuum film forming method, a method described in “New Development of Transparent Conductive Film”, supervised by CMC and Yutaka Sawada, “Monthly Display”, September 1999, can be used. As the metal oxide to be formed, In 2 O 3 (including doped products such as Sn and ITO), SnO 2 (including doped products such as F and Sb), ZnO (including doped products such as Al and Ga) or these And a composite product of In 2 O 3 -ZnO. Examples of the metal nitride include TiN. Further, a film may be formed together with silver or the like.
【0061】スパッタなどでポリマーフイルム上に成膜
する際にはその表面をフッ素系樹脂、アクリル系樹脂、
シリコン系樹脂、プロピレン系樹脂、ビニル系樹脂など
の高分子や、SiO2,TiO2,ZrO2,SnO2など
の無機物でコートすることが好ましい。コートする膜厚
としては10nm以上100μm以下が好ましく、さら
に好ましくは10nm以上50μm以下であり、特に好
ましくは10nm以上10μm以下である。スパッタな
どの際には基板を冷却することが好ましい。好ましくは
−30℃以上30℃以下であり、さらに好ましくは−3
0℃以上20℃以下であり、特に好ましくは−30℃以
上10℃以下である。スパッタ法により酸化インジウム
を主として含む膜を成膜する方法としては、インジウム
を主成分とする金属ターゲット、または酸化シンジウム
を主成分とする焼結体であるターゲットを用いた反応性
スパッタリングを行うことができる。反応の制御上、後
者が好ましい。反応性スパッタリング法においてはスパ
ッタリングガスとしては、アルゴンなどの不活性ガスを
用い、反応性ガスとしては酸素を用いる。放電形式とし
てはDCマグネトロンスパッタ、RFマグネトロンスパ
ッタなどが利用できる。また、酸素の流量を制御する方
法としてはプラズマエミッションモニター法で行うこと
が好ましい。When a film is formed on a polymer film by sputtering or the like, the surface thereof is made of a fluororesin, an acrylic resin,
It is preferable to coat with a polymer such as a silicon-based resin, a propylene-based resin, or a vinyl-based resin, or with an inorganic substance such as SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , and SnO 2 . The coating thickness is preferably from 10 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 50 μm, and particularly preferably from 10 nm to 10 μm. It is preferable to cool the substrate during sputtering or the like. It is preferably −30 ° C. or more and 30 ° C. or less, and more preferably −3 ° C.
The temperature is from 0 ° C to 20 ° C, particularly preferably from -30 ° C to 10 ° C. As a method for forming a film mainly containing indium oxide by a sputtering method, reactive sputtering using a metal target containing indium as a main component or a target that is a sintered body mainly containing syndium oxide is used. it can. The latter is preferred for controlling the reaction. In the reactive sputtering method, an inert gas such as argon is used as a sputtering gas, and oxygen is used as a reactive gas. As a discharge type, DC magnetron sputtering, RF magnetron sputtering, or the like can be used. As a method for controlling the flow rate of oxygen, it is preferable to use a plasma emission monitor method.
【0062】透明導電層を付与したポリマーフイルムの
光の透過率は、50%以上であることが好ましく、60
%以上であることがさらに好ましく、70%以上である
ことが特に好ましく、80%以上であることが最も好ま
しい。The light transmittance of the polymer film provided with the transparent conductive layer is preferably 50% or more.
%, More preferably 70% or more, and most preferably 80% or more.
【0063】[反射型液晶表示装置]本発明の位相差
板、円偏光板、及び、タッチパネルは、様々な表示装置
と組合せて用いることができる。例えば、カソードレイ
チューブ(CRT)、プラズマディスプレイ(PD
P)、フィールド・エミッション・ディスプレイ(FE
D)、無機ELデバイス、有機ELデバイス、液晶表示
装置などである。本発明の位相差板、円偏光板を用いる
ことで、これらの表示装置の外光の反射を低減すること
ができる。この表示装置の中では、液晶表示装置と組合
せて用いるのが好ましく、特に反射型液晶表示装置に用
いるのが好ましい。図1は、反射型液晶表示装置の基本
的な構成を示す模式図である。図1に示す反射型液晶表
示装置は、下から順に、下基板(1)、反射電極
(2)、下配向膜(3)、液晶層(4)、上配向膜
(5)、透明電極(6)、上基板(7)、λ/4板
(8)、そして偏光膜(9)からなる。下基板(1)と
反射電極(2)が反射板を構成する。下配向膜(3)〜
上配向膜(5)が液晶セルを構成する。λ/4板(8)
は、反射板と偏光膜(9)との間の任意の位置に配置す
ることができる。カラー表示の場合には、さらにカラー
フィルター層を設ける。カラーフィルター層は、反射電
極(2)と下配向膜(3)との間、または上配向膜
(5)と透明電極(6)との間に設けることが好まし
い。図1に示す反射電極(2)の代わりに透明電極を用
いて、別に反射板を取り付けてもよい。透明電極と組み
合わせて用いる反射板としては、金属板が好ましい。反
射板の表面が平滑であると、正反射成分のみが反射され
て視野角が狭くなる場合がある。そのため、反射板の表
面に凹凸構造(特許275620号公報記載)を導入す
ることが好ましい。反射板の表面が平坦である場合は
(表面に凹凸構造を導入する代わりに)、偏光膜の片側
(セル側あるいは外側)に光拡散フイルムを取り付けて
もよい。[Reflective Liquid Crystal Display Device] The retardation plate, circularly polarizing plate, and touch panel of the present invention can be used in combination with various display devices. For example, a cathode ray tube (CRT), a plasma display (PD)
P), Field Emission Display (FE)
D), inorganic EL devices, organic EL devices, liquid crystal display devices, and the like. By using the retardation plate and the circularly polarizing plate of the invention, reflection of external light from these display devices can be reduced. Among these display devices, it is preferable to use them in combination with a liquid crystal display device, and it is particularly preferable to use them in a reflection type liquid crystal display device. FIG. 1 is a schematic diagram showing a basic configuration of a reflection type liquid crystal display device. The reflective liquid crystal display device shown in FIG. 1 includes, in order from the bottom, a lower substrate (1), a reflective electrode (2), a lower alignment film (3), a liquid crystal layer (4), an upper alignment film (5), and a transparent electrode ( 6), an upper substrate (7), a λ / 4 plate (8), and a polarizing film (9). The lower substrate (1) and the reflection electrode (2) constitute a reflection plate. Lower alignment film (3)-
The upper alignment film (5) forms a liquid crystal cell. λ / 4 plate (8)
Can be arranged at any position between the reflector and the polarizing film (9). In the case of color display, a color filter layer is further provided. The color filter layer is preferably provided between the reflective electrode (2) and the lower alignment film (3) or between the upper alignment film (5) and the transparent electrode (6). A reflective plate may be separately attached using a transparent electrode instead of the reflective electrode (2) shown in FIG. A metal plate is preferable as the reflector used in combination with the transparent electrode. If the surface of the reflector is smooth, only the specular reflection component may be reflected and the viewing angle may be narrowed. Therefore, it is preferable to introduce an uneven structure (described in Japanese Patent No. 275620) on the surface of the reflector. When the surface of the reflection plate is flat (instead of introducing an uneven structure on the surface), a light diffusion film may be attached to one side (cell side or outside) of the polarizing film.
【0064】用いられる液晶モードは特に限定されない
が、TN(twisted nematic )型、STN(Supper Twi
sted Nematic)型、HAN(Hybrid Aligned Nematic)
型またはGH(Guest-Host)型であることが好ましい。
TN型液晶セルのツイスト角は、40乃至100゜であ
ることが好ましく、50乃至90゜であることがさらに
好ましく、60乃至80゜であることが最も好ましい。
液晶層の屈折率異方性(Δn)と液晶層の厚み(d)と
の積(Δnd)の値は、0.1乃至0.5μmであるこ
とが好ましく、0.2乃至0.4μmであることがさら
に好ましい。STN型液晶セルのツイスト角は、180
乃至360゜であることが好ましく、220乃至270
゜であることがさらに好ましい。液晶層の屈折率異方性
(Δn)と液晶層の厚み(d)との積(Δnd)の値
は、0.3乃至1.2μmであることが好ましく、0.
5乃至1.0μmであることがさらに好ましい。HAN
型液晶セルは、片方の基板上では液晶が実質的に垂直に
配向しており、他方の基板上のプレチルト角が0乃至4
5゜であることが好ましい。液晶層の屈折率異方性(Δ
n)と液晶層の厚み(d)との積(Δnd)の値は、
0.1乃至1.0μmであることが好ましく、0.3乃
至0.8μmであることがさらに好ましい。液晶を垂直
配向させる側の基板は、反射板側の基板であってもよい
し、透明電極側の基板であってもよい。The liquid crystal mode to be used is not particularly limited.
sted Nematic) type, HAN (Hybrid Aligned Nematic)
It is preferably of a type or a GH (Guest-Host) type.
The twist angle of the TN type liquid crystal cell is preferably from 40 to 100 °, more preferably from 50 to 90 °, and most preferably from 60 to 80 °.
The value of the product (Δnd) of the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal layer and the thickness (d) of the liquid crystal layer is preferably 0.1 to 0.5 μm, and 0.2 to 0.4 μm. It is more preferred that there be. The twist angle of the STN type liquid crystal cell is 180
To 360 °, preferably 220 to 270 °
゜ is more preferable. The value of the product (Δnd) of the refractive index anisotropy (Δn) of the liquid crystal layer and the thickness (d) of the liquid crystal layer is preferably 0.3 to 1.2 μm.
More preferably, it is 5 to 1.0 μm. HAN
In the type liquid crystal cell, the liquid crystal is substantially vertically aligned on one substrate, and the pretilt angle on the other substrate is 0 to 4.
It is preferably 5 °. The refractive index anisotropy of the liquid crystal layer (Δ
The value of the product (Δnd) of (n) and the thickness (d) of the liquid crystal layer is
The thickness is preferably from 0.1 to 1.0 μm, and more preferably from 0.3 to 0.8 μm. The substrate on which the liquid crystal is vertically aligned may be a substrate on the reflection plate side or a substrate on the transparent electrode side.
【0065】GH型液晶セルは、液晶層が液晶と二色性
色素との混合物からなる。液晶、二色性色素共に棒状の
化合物の場合、液晶のディレクタと二色性色素の長軸方
向とが平行になる。電圧の印加によって液晶の配向状態
が変化すると、二色性色素も液晶と同様に長軸方向が変
化する。GH型液晶セルには、Heilmoir型、コレステリ
ック液晶を用いたWhite-Taylor型、二層型やλ/4板を
用いる方式が知られている。本発明は、λ/4板を用い
る方式に特に有利に適用できる。λ/4板を備えたゲス
トホスト反射型液晶表示装置については、特開平6−2
22350号、同8−36174号、同10−2683
00号、同10−292175号、同10−29330
1号、同10−311976号、同10−319442
号、同10−325953号、同10−333138
号、同11−38410号の各公報に記載がある。λ/
4板は、液晶層と反射板との間に設けられる。液晶の配
向状態には、水平配向と垂直配向とがある。水平配向よ
りも垂直配向の方が好ましい。液晶の誘電率異方性は負
であることが好ましい。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、
二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が
ある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポ
リビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。偏光
膜の偏光軸は、フイルムの延伸方向に垂直な方向に相当
する。反射型液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表
示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードで
も、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示である
ノーマリーブラックモードでも用いることができる。ノ
ーマリーホワイトモードの方が好ましい。In the GH type liquid crystal cell, the liquid crystal layer is composed of a mixture of a liquid crystal and a dichroic dye. When both the liquid crystal and the dichroic dye are rod-shaped compounds, the director of the liquid crystal and the major axis direction of the dichroic dye are parallel. When the orientation state of the liquid crystal changes due to the application of a voltage, the long axis direction of the dichroic dye changes similarly to the liquid crystal. As the GH type liquid crystal cell, a Heilmoir type, a White-Taylor type using cholesteric liquid crystal, a two-layer type, and a type using a λ / 4 plate are known. The present invention is particularly advantageously applicable to a system using a λ / 4 plate. A guest-host reflection type liquid crystal display device having a λ / 4 plate is disclosed in JP-A-6-2.
No. 22350, No. 8-36174, No. 10-2683
No. 00, No. 10-292175, No. 10-29330
No. 1, No. 10-319776, No. 10-319442
No., No. 10-325595, No. 10-333138
And JP-A-11-38410. λ /
The four plates are provided between the liquid crystal layer and the reflector. The alignment state of the liquid crystal includes horizontal alignment and vertical alignment. Vertical alignment is preferred over horizontal alignment. The dielectric anisotropy of the liquid crystal is preferably negative. For the polarizing film, an iodine-based polarizing film,
There are a dye-based polarizing film using a dichroic dye and a polyene-based polarizing film. The iodine-based polarizing film and the dye-based polarizing film are generally manufactured using a polyvinyl alcohol-based film. The polarization axis of the polarizing film corresponds to a direction perpendicular to the stretching direction of the film. The reflection type liquid crystal display device can be used in a normally white mode in which a bright display is performed when the applied voltage is low and a dark display is performed when the applied voltage is high. . Normally white mode is preferred.
【0066】[実施例1] (位相差板の作製)室温において、平均酢化度59.7
%のセルロースアセテート120重量部、下記のレタ−
デ−ション上昇剤1.2重量部、トリフェニレンホスフ
ェート9.36重量部、ビフェニルジフェニルホスフェ
ート4.68重量部、トリベンジルアミン2.0重量
部、メチレンクロリド538.2重量部、メタノール4
6.8重量部を混合して溶液(ドープ)を調整した。Example 1 (Preparation of Retardation Plate) At room temperature, average acetylation degree was 59.7.
% Cellulose acetate 120 parts by weight, the following letter
1.2 parts by weight of a phase raising agent, 9.36 parts by weight of triphenylene phosphate, 4.68 parts by weight of biphenyldiphenyl phosphate, 2.0 parts by weight of tribenzylamine, 538.2 parts by weight of methylene chloride, 4 parts by weight of methanol
A solution (dope) was prepared by mixing 6.8 parts by weight.
【0067】[0067]
【化1】 Embedded image
【0068】得られたドープを、ステンレス製バンド上
に流延し、自己支持性を持つまでフイルムを乾燥した後
バンドから剥ぎ取った。その時の残留揮発分は30重量
%であった。その後、フイルムを120℃で15分乾燥
し、残留揮発分を2重量%以下にした後、130℃で流
延方向と平行な方向に延伸した。延伸方向と垂直な方向
は、自由に収縮できるようにした。延伸後、そのままの
状態で120℃で30分間乾燥した後、延伸フイルムを
取り出した。延伸後の溶剤残留量は0.1重量%であっ
た。The obtained dope was cast on a stainless steel band, and the film was dried until it had self-supporting property, and then was peeled off from the band. The residual volatile matter at that time was 30% by weight. Thereafter, the film was dried at 120 ° C. for 15 minutes to reduce the residual volatile content to 2% by weight or less, and then stretched at 130 ° C. in a direction parallel to the casting direction. The direction perpendicular to the stretching direction was allowed to shrink freely. After stretching, the film was dried at 120 ° C. for 30 minutes as it was, and then the stretched film was taken out. The residual solvent amount after stretching was 0.1% by weight.
【0069】(透明導電膜の塗設)得られたフイルムの
片面にコロナ処理を施した後、下記組成の透明導電膜を
塗設した。(Coating of Transparent Conductive Film) After one surface of the obtained film was subjected to corona treatment, a transparent conductive film having the following composition was coated.
【0070】1)導電性微粒子分散液(酸化スズ−酸化
アンチモン複合物分散液)の調製 塩化第2スズ水和物230重量部と三塩化アンチモン2
3重量部をエタノール3000重量部に溶解し均一溶液
を得た。この溶液に1N水酸化ナトリウム水溶液を前記
溶液がpH3になるまで滴下し、コロイド状酸化第2ス
ズと酸化アンチモンの共沈殿物を得た。得られた共沈殿
物を50℃に24時間放置し、赤褐色のコロイド状沈殿
物を得た。平均粒径は0.05μmであった。赤褐色コ
ロイド状沈殿物を遠心分離により分離した。過剰なイオ
ンを除くため沈殿物に水を加え、遠心分離によって水洗
した。この操作を3回繰り返し、過剰イオンを除去し
た。過剰イオンを除去したコロイド状沈殿物200重量
部を水1500重量部に再分散し、500℃に加熱した
焼成炉に噴霧し、青みがかった平均粒径0.005μm
の酸化第2スズ/酸化アンチモン複合物の微粒子を得
た。この微粒子粉末の抵抗率は25Ω・cmであった。
上記微粒子粉末40重量部と水60重量部の混合液をp
H7.0に調製し、攪拌機で粗分散の後、横型サンドミ
ル(ダイノミル、Willy A.BackfenAG
製)で、滞留時間が30分になるまで分散して調整し
た。二次粒凝集体としての平均粒径は0.05μmであ
った。1) Preparation of conductive fine particle dispersion (tin oxide-antimony oxide composite dispersion) 230 parts by weight of stannic chloride hydrate and antimony trichloride 2
3 parts by weight were dissolved in 3000 parts by weight of ethanol to obtain a homogeneous solution. To this solution, a 1N aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise until the solution reached pH 3, thereby obtaining a coprecipitate of colloidal stannic oxide and antimony oxide. The obtained coprecipitate was left at 50 ° C. for 24 hours to obtain a red-brown colloidal precipitate. The average particle size was 0.05 μm. The reddish brown colloidal precipitate was separated by centrifugation. Water was added to the precipitate to remove excess ions, and the precipitate was washed with water by centrifugation. This operation was repeated three times to remove excess ions. 200 parts by weight of the colloidal precipitate from which excess ions have been removed are redispersed in 1500 parts by weight of water and sprayed into a baking furnace heated to 500 ° C. to give a bluish average particle diameter of 0.005 μm
To obtain fine particles of a stannic oxide / antimony oxide composite. The resistivity of the fine particle powder was 25 Ω · cm.
A mixture of 40 parts by weight of the fine particle powder and 60 parts by weight of water is p
H7.0, and after coarse dispersion with a stirrer, a horizontal sand mill (Dynomill, Willy A. Backfen AG)
The dispersion was adjusted until the residence time became 30 minutes. The average particle size as a secondary particle aggregate was 0.05 μm.
【0071】2)バック第1層(透明導電膜)の塗設 下記処方を乾燥膜厚が0.2μmになるように塗布し、
115℃で30秒間乾燥した。なお、下記重量部は固形
分重量を示す。2) Coating of Back First Layer (Transparent Conductive Film) The following formulation was applied so that the dry film thickness was 0.2 μm.
Dry at 115 ° C. for 30 seconds. In addition, the following weight part shows solid content weight.
【0072】 ──────────────────────────────────── 透明導電膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── 導電性微粒子分散液(SnO2 /Sb2 O3 、0.05μm) 7重量部 ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート(オキシエチレンの数;20) 0.3重量部 水 89重量部 ゼラチン 1重量部 ソルビトール・ポリグリシジルエーテル 1重量部 ────────────────────────────────────<< Transparent Conductive Conductive Film Coating Composition >>分散 Conductive fine particle dispersion (SnO 2 / Sb 2 O 3 , 0.05 μm) 7 Parts by weight polyoxyethylene sorbitan monolaurate (the number of oxyethylenes: 20) 0.3 part by weight water 89 parts by weight gelatin 1 part by weight sorbitol polyglycidyl ether 1 part by weight ──────────── ────────────────────────
【0073】このようにして得られたフイルムの厚さは
108μmであった。また、透明導電膜側の表面抵抗率
を25℃、20%RHの環境で測定した結果、5×10
9Ω/□であった。表面抵抗率は、1cm×5cmの平
行電極法にて測定した。得られたフイルムの光の透過率
は91%であった。得られたセルロースアセテートフイ
ルム(位相差板)について、エリプソメーター(M−1
50、日本分光(株)製)を用いて、波長450nm、
550nm、および590nmにおけるレターデーショ
ン値(Re)を測定したところ、それぞれ、121.2
nm、137.5nm、142.7nmであった。した
がって、このセルロースアセテートフイルムは広い波長
領域でλ/4を達成していた。The thickness of the film thus obtained was 108 μm. The surface resistivity of the transparent conductive film was measured in an environment of 25 ° C. and 20% RH.
It was 9 Ω / □. The surface resistivity was measured by a 1 cm × 5 cm parallel electrode method. The light transmittance of the obtained film was 91%. The obtained cellulose acetate film (retardation plate) was subjected to an ellipsometer (M-1).
50, manufactured by JASCO Corporation) at a wavelength of 450 nm,
The retardation values (Re) at 550 nm and 590 nm were measured.
nm, 137.5 nm, and 142.7 nm. Therefore, this cellulose acetate film achieved λ / 4 in a wide wavelength range.
【0074】また、アッベ屈折率計による屈折率測定
と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長5
50nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈
折率nzを求め、(nx−nz)/(nx−ny)の値
を計算したところ、1.50であった。さらに、温度2
5℃、相対湿度10%の条件下で、20cm×20cm
に裁断した位相差板をナイロン布で良く擦り、タバコの
灰の付着性を調べた。目視により次の4段階で評価した
ところ、Aランクであった。 A:ゴミ付きは全く認められない B:ゴミ付きが少し認められた C:ゴミ付きが相当みとめられた D:ゴミ付きが顕著にみとめれたFrom the measurement of the refractive index by the Abbe refractometer and the measurement of the angle dependence of the retardation,
The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction at 50 nm are determined, and (nx-nz) / (nx-ny) is obtained. The calculated value was 1.50. In addition, temperature 2
Under conditions of 5 ° C. and 10% relative humidity, 20 cm × 20 cm
The retardation plate cut into pieces was rubbed well with a nylon cloth, and the adhesion of ash to cigarettes was examined. When visually evaluated in the following four grades, it was ranked A. A: No dust was observed. B: Some dust was observed. C: Dust was observed considerably. D: Dust was noticeably observed.
【0075】[実施例2] (位相差板の作製)実施例1と同様にして延伸フイルム
を作製し、以下のようにして透明導電膜を塗設した。Example 2 (Preparation of Retardation Plate) A stretched film was prepared in the same manner as in Example 1, and a transparent conductive film was applied as follows.
【0076】(透明導電膜の塗設) 1)銀パラジウムコロイド分散液の調整 30%硫酸鉄(II)FeSO4・7H2O、40%のク
エン酸を調整、混合し、20℃に保持、攪拌しながらこ
れに10%の硝酸銀と硝酸パラジウム(モル比9/1に
混合したもの)溶液を200ml/minの速度で添加
混合し、その後生成した遠心分離により水洗を繰り返
し、最終的に3重量%になるように純水を加え、銀パラ
ジウムコロイド分散液を調整した。得られた銀コロイド
粒子の粒径はTEM観察の結果、粒径は約9〜12nm
であった。ICPによる測定の結果、銀とパラジウムの
比は9/1の仕込み比と同一であった。[0076] 1) Preparation of silver adjustment 30% iron sulfate palladium colloidal dispersion (II) FeSO4 · 7H 2 O , 40% citric acid (Coating of the transparent conductive film), mixed, held at 20 ° C., stirred While adding a 10% solution of silver nitrate and palladium nitrate (mixed at a molar ratio of 9/1) at a rate of 200 ml / min, the mixture was centrifuged and washed repeatedly with water. Pure water was added so as to obtain a silver palladium colloidal dispersion. As a result of TEM observation, the particle diameter of the obtained silver colloid particles was about 9 to 12 nm.
Met. As a result of measurement by ICP, the ratio of silver to palladium was the same as the charging ratio of 9/1.
【0077】2)銀コロイド塗布液の調整 前記銀コロイド分散液100gにi−プロピルアルコー
ルを加え、超音波分散し孔径1μmのポリプロピレン製
フィルターで濾過して塗布液を調整した。2) Preparation of Silver Colloid Coating Solution To 100 g of the silver colloid dispersion solution, i-propyl alcohol was added, ultrasonically dispersed, and filtered with a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution.
【0078】3)オーバーコート用塗布液L−1の調整 ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPH
A、日本化薬(株)製)2gと光重合開始剤(イルガキ
ュア907、チバガイギー社製)80mgおよび光増感
剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)30m
gをメチルイソプロピルケトン38g、2−ブタノール
38g、メタノール19gの混合液に加えて溶解した。
混合物を30分間撹拌した後、孔径1μmのポリプロピ
レン製フィルターで濾過してオーバーコート用塗布液を
調製した3) Preparation of Coating Solution L-1 for Overcoating A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPH
A, 2 g of Nippon Kayaku Co., Ltd., 80 mg of photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba-Geigy) and 30 m of photosensitizer (Kayacure DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd.)
g was added to and dissolved in a mixed solution of 38 g of methyl isopropyl ketone, 38 g of 2-butanol and 19 g of methanol.
After stirring the mixture for 30 minutes, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for overcoating.
【0079】4)透明導電性積層の形成 延伸フイルムにコロナ処理を施した後、上記銀コロイド
塗布液をワイヤーバーで塗布量が70mg/m2 になる
ように塗布し、40℃で乾燥した。この銀コロイド塗布
面に、ポンプで送液した水をスプレーでかけ、エアーナ
イフで過剰の水を除去した後、120℃の加熱ゾーンで
搬送しながら、5分の処理を行った。次いで、オーバー
コート用塗布液L−1を膜厚80nmになるように塗
布、乾燥し、120℃で2時間熱処理した後、紫外線を
照射し、塗布膜を硬化させた。4) Formation of Transparent Conductive Laminate After applying a corona treatment to the stretched film, the above-mentioned silver colloid coating solution was applied using a wire bar so as to have an application amount of 70 mg / m 2 , and dried at 40 ° C. Water fed by a pump was sprayed on the silver colloid-coated surface, excess water was removed with an air knife, and a treatment was carried out for 5 minutes while being conveyed in a heating zone at 120 ° C. Next, the overcoat coating liquid L-1 was applied to a thickness of 80 nm, dried, and heat-treated at 120 ° C. for 2 hours, and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating film.
【0080】このようにして得られたフイルムの厚さは
102μmであった。また、また、透明導電膜側の表面
抵抗率を、4端子法にて25℃、20%RHの環境で測
定した結果、400Ω/□であり、光の透過率は、71
%であった。得られたセルロースアセテートフイルム
(位相差板)について、エリプソメーター(M−15
0、日本分光(株)製)を用いて、波長450nm、5
50nm、および590nmにおけるレターデーション
値(Re)を測定したところ、それぞれ、116.4n
m、132.0nm、137.0nmであった。したが
って、このセルロースアセテートフイルムは広い波長領
域でλ/4を達成していた。The thickness of the film thus obtained was 102 μm. The surface resistivity of the transparent conductive film was measured by a four-terminal method at 25 ° C. and 20% RH. As a result, it was 400 Ω / □, and the light transmittance was 71%.
%Met. The obtained cellulose acetate film (retardation film) was analyzed using an ellipsometer (M-15).
0, manufactured by JASCO Corporation, wavelength 450 nm, 5
When the retardation values (Re) at 50 nm and 590 nm were measured, each was 116.4 n.
m, 132.0 nm and 137.0 nm. Therefore, this cellulose acetate film achieved λ / 4 in a wide wavelength range.
【0081】また、アッベ屈折率計による屈折率測定
と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長5
50nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈
折率nzを求め、(nx−nz)/(nx−ny)の値
を計算したところ、1.52であった。さらに、実施例
1と同様に、ゴミ付きテストを行ったところ、Aランク
であった。From the measurement of the refractive index by the Abbe refractometer and the measurement of the angle dependence of the retardation,
The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction at 50 nm are determined. The calculated value was 1.52. Further, a test with dust was performed in the same manner as in Example 1, and it was ranked A.
【0082】[実施例3] (位相差板の作製)実施例1と同様にして延伸フイルム
を作製し、以下のようにして透明導電膜を塗設した。 (透明導電膜の付与) 1)セルローストリアセテート上へのITOスパッタ 延伸フイルム上にUV硬化型多官能メタクリル酸樹脂
(JSR製Z7503)を3μmの厚みとなるよう塗布
した。次にDCマグネトロンスパッタ法にてITOを1
5nmの厚みで製膜した。Example 3 (Preparation of Retardation Plate) A stretched film was prepared in the same manner as in Example 1, and a transparent conductive film was applied as follows. (Application of Transparent Conductive Film) 1) ITO Sputtering on Cellulose Triacetate A UV-curable polyfunctional methacrylic resin (Z7503 manufactured by JSR) was applied on a stretched film so as to have a thickness of 3 μm. Next, ITO was removed by DC magnetron sputtering.
A film was formed with a thickness of 5 nm.
【0083】このようにして得られたフイルムの厚さは
103μmであった。また、透明導電膜側の表面抵抗率
を、4端子法にて25℃、20%RHの環境で測定した
結果、230Ω/□であり、光の透過率は、89%であ
った。得られたセルロースアセテートフイルム(位相差
板)について、エリプソメーター(M−150、日本分
光(株)製)を用いて、波長450nm、550nm、
および590nmにおけるレターデーション値(Re)
を測定したところ、それぞれ、119.0nm、13
5.1nm、140.1nmであった。したがって、こ
のセルロースアセテートフイルムは広い波長領域でλ/
4を達成していた。The thickness of the film thus obtained was 103 μm. The surface resistivity of the transparent conductive film was measured by a four-terminal method in an environment of 25 ° C. and 20% RH. As a result, it was 230 Ω / □, and the light transmittance was 89%. Using an ellipsometer (M-150, manufactured by JASCO Corporation), the wavelength of the obtained cellulose acetate film (retardation film) was 450 nm, 550 nm,
Values at 590 and 590 nm (Re)
Were measured, 119.0 nm, 13
It was 5.1 nm and 140.1 nm. Therefore, this cellulose acetate film has a λ /
4 had been achieved.
【0084】また、アッベ屈折率計による屈折率測定
と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長5
50nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈
折率nzを求め、(nx−nz)/(nx−ny)の値
を計算したところ、1.51であった。さらに、実施例
1と同様に、ゴミ付きテストを行ったところ、Aランク
であった。From the measurement of the refractive index by the Abbe refractometer and the measurement of the angle dependence of the retardation,
The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction at 50 nm are determined. The calculated value was 1.51. Further, a test with dust was performed in the same manner as in Example 1, and it was ranked A.
【0085】[実施例4] (位相差板の作製)フイルム全体の乾燥膜厚が200μ
mとなるように、ドープの塗布量を変更した以外は、実
施例1と同様にしてセルロースアセテートフイルムを作
製した。Example 4 (Preparation of Retardation Plate) The dry film thickness of the entire film was 200 μm.
m, a cellulose acetate film was produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of the dope applied was changed.
【0086】(透明導電膜の塗設)実施例1と全く同様
にして、透明導電膜を塗設した。得られたフイルムの透
明導電膜側の表面抵抗率を、実施例1と同じ平行電極法
にて25℃、20%RHの環境で測定した結果、5×1
09Ω/□であった。フイルムの光の透過率は91%で
あった。得られたセルロースアセテートフイルム(位相
差板)について、エリプソメーター(M-150、日本
分光(株)製)を用いて、波長450nm、550nm
および590nmにおけるレターデーション値(Re)
を測定したところ、それぞれ、225.6nm、27
5.1nmおよび290.2nmであった。従って、こ
のセルロースアセテートフイルムは広い波長領域でλ/
2を達成していた。(Application of Transparent Conductive Film) A transparent conductive film was applied in exactly the same manner as in Example 1. The surface resistivity of the obtained film on the transparent conductive film side was measured by the same parallel electrode method as in Example 1 in an environment of 25 ° C. and 20% RH. As a result, 5 × 1
It was 9 Ω / □. The light transmittance of the film was 91%. About the obtained cellulose acetate film (retardation plate), the wavelength was 450 nm and 550 nm using an ellipsometer (M-150, manufactured by JASCO Corporation).
Values at 590 and 590 nm (Re)
Were measured, 225.6 nm and 27, respectively.
It was 5.1 nm and 290.2 nm. Therefore, this cellulose acetate film has a λ /
2 had been achieved.
【0087】また、アッベ屈折率計による屈折率測定
と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長5
50nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈
折率nzを求め、(nx−nz)/(nx−ny)の値
を計算したところ、1.54であった。さらに、実施例
1と同様に、ゴミ付きテストを行ったところ、Aランク
であった。From the measurement of the refractive index by the Abbe refractometer and the measurement of the angle dependence of the retardation,
The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction at 50 nm are determined. The calculated value was 1.54. Further, a test with dust was performed in the same manner as in Example 1, and it was ranked A.
【0088】[実施例5] (位相差板の作製)実施例1と同様にしてセルロースア
セテートフイルムを作製した。Example 5 (Preparation of Retardation Plate) A cellulose acetate film was prepared in the same manner as in Example 1.
【0089】(透明導電膜の塗設)セルロースアセテー
トフイルムに、下記の組成の塗布液を、28ml/m2
塗布、乾燥して、厚さ1μmのゼラチン層(透明導電
膜)を塗設した。(Coating of Transparent Conductive Film) A coating solution having the following composition was applied to a cellulose acetate film at 28 ml / m 2.
After coating and drying, a gelatin layer (transparent conductive film) having a thickness of 1 μm was provided.
【0090】 ──────────────────────────────────── 透明導電膜塗布液組成 ──────────────────────────────────── ゼラチン 0.542重量部 ホルムアルデヒド 0.136重量部 サリチル酸 0.160重量部 アセトン 39.1重量部 メタノール 15.8重量部 メチレンクロライド 40.6重量部 水 1.2重量部 C8F17SO2N(C3H7)(CH2CH2O)4(CH2)4SO3Na(フッ素系界面活性剤:WA−14) 2.0重量部 ────────────────────────────────────組成 Transparent conductive film coating liquid composition 組成ゼ ラ チ ン Gelatin 0.542 parts by weight Formaldehyde 0.136 parts by weight Salicylic acid 0.160 parts by weight Acetone 39.1 parts by weight Methanol 15.8 parts by weight Methylene chloride 40.6 parts by weight Water 1.2 parts by weight C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7 ) (CH 2 CH 2 O) 4 (CH 2 ) 4 SO 3 Na (fluorinated surfactant: WA-14) 2.0 parts by weight ─────────────────────────────── ─────
【0091】得られたフイルムの厚さは80μmであっ
た。また、透明導電膜側の表面抵抗率を、25℃、20
%RHの環境で測定した結果、3×109Ω/□であっ
た。表面抵抗率は、1cm×5cmの平行電極法にて測
定した。フイルムの光の透過率は91%であった。得ら
れたセルロースアセテートフイルム(位相差板)につい
て、エリプソメーター(M-150、日本分光(株)
製)を用いて、波長450nm、550nmおよび59
0nmにおけるレターデーション値(Re)を測定した
ところ、それぞれ、110.2nm、125.0nmお
よび130.0nmであった。したがって、このセルロ
ースアセテートフイルムは広い波長領域でλ/4を達成
していた。The thickness of the obtained film was 80 μm. Further, the surface resistivity of the transparent conductive film side is set to 25 ° C., 20
As a result of measurement in an environment of% RH, it was 3 × 10 9 Ω / □. The surface resistivity was measured by a 1 cm × 5 cm parallel electrode method. The light transmittance of the film was 91%. About the obtained cellulose acetate film (retardation plate), an ellipsometer (M-150, JASCO Corporation)
Wavelengths of 450 nm, 550 nm and 59
When the retardation values (Re) at 0 nm were measured, they were 110.2 nm, 125.0 nm, and 130.0 nm, respectively. Therefore, this cellulose acetate film achieved λ / 4 in a wide wavelength range.
【0092】また、アッベ屈折率計による屈折率測定
と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長5
50nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈
折率nzを求め、(nx−nz)/(nx−ny)の値
を計算したところ、1.50であった。さらに、実施例
1と同様に、ゴミ付きテストを行ったところ、Aランク
であった。From the measurement of the refractive index by the Abbe refractometer and the measurement of the angle dependence of the retardation,
The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction at 50 nm are determined, and (nx-nz) / (nx-ny) is obtained. The calculated value was 1.50. Further, a test with dust was performed in the same manner as in Example 1, and it was ranked A.
【0093】[実施例6]C8F17SO2N(C3H7)(CH2CH2O)
4(CH2)4SO3Na(フッ素系界面活性剤:WA−14)に代
えて、C8F17CH2CH2O(CH2CH2O)16H(フッ素系界面活性
剤:WA−17)を同量用いた以外は、実施例5と同様
に位相差板を作製した。Example 6 C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7 ) (CH 2 CH 2 O)
Instead of 4 (CH 2 ) 4 SO 3 Na (fluorinated surfactant: WA-14), C 8 F 17 CH 2 CH 2 O (CH 2 CH 2 O) 16 H (fluorinated surfactant: WA) A retardation plate was produced in the same manner as in Example 5, except that the same amount of -17) was used.
【0094】得られたフイルムの厚さは80μmであっ
た。また、透明導電膜側の表面抵抗率を、25℃、20
%RHの環境で測定した結果、2×109Ω/□であっ
た。表面抵抗率は、1cm×5cmの平行電極法にて測
定した。フイルムの光の透過率は91%であった。得ら
れたセルロースアセテートフイルム(位相差板)につい
て、エリプソメーター(M-150、日本分光(株)
製)を用いて、波長450nm、550nmおよび59
0nmにおけるレターデーション値(Re)を測定した
ところ、それぞれ、111.9nm、127.0nmお
よび131.8nmであった。したがって、このセルロ
ースアセテートフイルムは広い波長領域でλ/4を達成
していた。The thickness of the obtained film was 80 μm. Further, the surface resistivity of the transparent conductive film side is set to 25 ° C., 20
As a result of measurement in an environment of% RH, it was 2 × 10 9 Ω / □. The surface resistivity was measured by a 1 cm × 5 cm parallel electrode method. The light transmittance of the film was 91%. About the obtained cellulose acetate film (retardation plate), an ellipsometer (M-150, JASCO Corporation)
Wavelengths of 450 nm, 550 nm and 59
When the retardation values (Re) at 0 nm were measured, they were 111.9 nm, 127.0 nm, and 131.8 nm, respectively. Therefore, this cellulose acetate film achieved λ / 4 in a wide wavelength range.
【0095】また、アッベ屈折率計による屈折率測定
と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長5
50nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈
折率nzを求め、(nx−nz)/(nx−ny)の値
を計算したところ、1.51であった。さらに、実施例
1と同様に、ゴミ付きテストを行ったところ、Aランク
であった。From the measurement of the refractive index by the Abbe refractometer and the measurement of the angle dependence of the retardation,
The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction at 50 nm are determined. The calculated value was 1.51. Further, a test with dust was performed in the same manner as in Example 1, and it was ranked A.
【0096】[実施例7]C8F17SO2N(C3H7)(CH2CH2O)
4(CH2)4SO3Na(フッ素系界面活性剤:WA−14)に代
えて、H(CF2)8CH2CH2O(CH2)3-N(+)(CH3)3・I(-)(フッ素
系界面活性剤:WA−21)を同量用いた以外は、実施
例5と同様に位相差板を作製した。Example 7 C 8 F 17 SO 2 N (C 3 H 7 ) (CH 2 CH 2 O)
4 (CH 2) 4 SO 3 Na ( fluorinated surfactant: WA-14) in place, H (CF 2) 8 CH 2 CH 2 O (CH 2) 3 -N (+) (CH 3) 3 A retardation plate was produced in the same manner as in Example 5, except that the same amount of I (-) (fluorinated surfactant: WA-21) was used.
【0097】得られたフイルムの厚さは80μmであっ
た。また、透明導電膜側の表面抵抗率を、25℃、20
%RHの環境で測定した結果、3.5×109Ω/□で
あった。表面抵抗率は、1cm×5cmの平行電極法に
て測定した。フイルムの光の透過率は91%であった。
得られたセルロースアセテートフイルム(位相差板)に
ついて、エリプソメーター(M-150、日本分光
(株)製)を用いて、波長450nm、550nmおよ
び590nmにおけるレターデーション値(Re)を測
定したところ、それぞれ、111.5nm、126.5
nmおよび131.2nmであった。したがって、この
セルロースアセテートフイルムは広い波長領域でλ/4
を達成していた。The thickness of the obtained film was 80 μm. Further, the surface resistivity of the transparent conductive film side is set to 25 ° C., 20
As a result of measurement in an environment of% RH, it was 3.5 × 10 9 Ω / □. The surface resistivity was measured by a 1 cm × 5 cm parallel electrode method. The light transmittance of the film was 91%.
The obtained cellulose acetate film (retardation film) was measured for retardation values (Re) at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 590 nm using an ellipsometer (M-150, manufactured by JASCO Corporation). , 111.5 nm, 126.5
nm and 131.2 nm. Therefore, this cellulose acetate film has a wavelength of λ / 4 in a wide wavelength range.
Had been achieved.
【0098】また、アッベ屈折率計による屈折率測定
と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長5
50nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈
折率nzを求め、(nx−nz)/(nx−ny)の値
を計算したところ、1.50であった。さらに、実施例
1と同様に、ゴミ付きテストを行ったところ、Aランク
であった。From the measurement of the refractive index by the Abbe refractometer and the measurement of the angle dependence of the retardation,
The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction at 50 nm are determined, and (nx-nz) / (nx-ny) is obtained. The calculated value was 1.50. Further, a test with dust was performed in the same manner as in Example 1, and it was ranked A.
【0099】[比較例1] (位相差板の作製)実施例1と全く同様にして延伸フイ
ルムを作製した。導電膜は付与しなかった。このように
して得られたフイルムの厚さは105μmであった。ま
た、透明導電膜側の表面抵抗率を、1cm×5cmの平
行電極法にて25℃20%RHの環境で測定した結果、
1015Ω/□以上であった。光の透過率は92%であっ
た。得られたセルロースアセテートフイルム(位相差
板)について、エリプソメーター(M−150、日本分
光(株)製)を用いて、波長450nm、550nm、
および590nmにおけるレターデーション値(Re)
を測定したところ、それぞれ、120.8nm、13
7.1nm、142.3nmであった。したがって、こ
のセルロースアセテートフイルムは広い波長領域でλ/
4を達成していた。Comparative Example 1 (Preparation of Retardation Plate) A stretched film was prepared in exactly the same manner as in Example 1. No conductive film was applied. The thickness of the film thus obtained was 105 μm. Further, the surface resistivity of the transparent conductive film side was measured by a parallel electrode method of 1 cm × 5 cm in an environment of 25 ° C. and 20% RH.
It was 10 15 Ω / □ or more. The light transmittance was 92%. Using an ellipsometer (M-150, manufactured by JASCO Corporation), the wavelength of the obtained cellulose acetate film (retardation film) was 450 nm, 550 nm,
Values at 590 and 590 nm (Re)
Were measured, 120.8 nm and 13 respectively.
It was 7.1 nm and 142.3 nm. Therefore, this cellulose acetate film has a λ /
4 had been achieved.
【0100】また、アッベ屈折率計による屈折率測定
と、レターデーションの角度依存性の測定から、波長5
50nmにおける面内の遅相軸方向の屈折率nx、面内
の遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈
折率nzを求め、(nx−nz)/(nx−ny)の値
を計算したところ、1.50であった。さらに、実施例
1と同様に、ゴミ付きテストを行ったところ、Dランク
であった。From the measurement of the refractive index by the Abbe refractometer and the measurement of the angle dependence of the retardation,
The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction at 50 nm are determined, and (nx-nz) / (nx-ny) is obtained. The calculated value was 1.50. Further, when a test with dust was performed in the same manner as in Example 1, it was ranked D.
【0101】[実施例8] (円偏光板の作製)透明保護膜、偏光膜および実施例1
で作製した位相差板を、この順に積層して円偏光板を得
た。位相差板の遅相軸と偏光膜の偏光軸との角度は、4
5゜に調整した。得られた円偏光板の光学的性質を調べ
たところ、広い波長領域(450〜590nm)におい
て、ほぼ完全な円偏光が達成されていた。Example 8 (Production of Circularly Polarizing Plate) Transparent protective film, polarizing film and Example 1
Were laminated in this order to obtain a circularly polarizing plate. The angle between the slow axis of the retardation plate and the polarizing axis of the polarizing film is 4
Adjusted to 5 ゜. When the optical properties of the obtained circularly polarizing plate were examined, almost perfect circularly polarized light was achieved in a wide wavelength range (450 to 590 nm).
【0102】[実施例9〜13] (円偏光板の作製)実施例1で作製した位相差板に代え
て、実施例2、3、5〜7で作製した位相差板を用いた
以外は、実施例8と同様にして、それぞれ、円偏光板を
作製した。得られた円偏光板の光学的性質を調べたとこ
ろ、いずれも、広い波長領域(450〜590nm)に
おいて、ほぼ完全な円偏光が達成されていた。[Examples 9 to 13] (Production of Circularly Polarizing Plate) Except that the retardation plates produced in Examples 2, 3, 5 to 7 were used in place of the retardation plate produced in Example 1, In the same manner as in Example 8, a circularly polarizing plate was produced. When the optical properties of the obtained circularly polarizing plates were examined, almost perfect circularly polarized light was achieved in a wide wavelength range (450 to 590 nm).
【0103】[実施例14] (反射型液晶表示装置の作製)ITO透明電極を設けた
ガラス基板と、微細な凹凸が形成されたアルミニウム反
射電極を設けたガラス基板とを用意した。二枚のガラス
基板の電極側に、それぞれポリイミド配向膜(SE−7
992、日産化学(株)製)を形成し、ラビング処理を
行った。3.4μmのスペーサーを介して、二枚の基板
を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラ
ビング方向は、110゜の角度で交差するように、基板
の向きを調節した。基板の間隙に、液晶(MLC−62
52、メルク社製)を注入し、液晶層を形成した。この
ようにして、ツイスト角が70゜、Δndの値が269
nmのTN型液晶セルを作製した。ITO透明電極を設
けたガラス基板の側に実施例1で作製した位相差板を粘
着剤を介して貼り付けた。その上に、偏光板(表面がA
R処理された保護膜を積層した偏光膜)を貼り付けた。
作製した反射型液晶表示装置に、1kHzの矩形波電圧
を印加した。白表示1.5V、黒表示4.5Vとして目
視で評価を行ったところ、白表示においても、黒表示に
おいても、色味がなく、ニュートラルグレイが表示され
ていることが確認できた。次に、測定機(EZcontrast
160D、Eldim社製)を用いて反射輝度のコントラス
ト比を測定したところ、正面からのコントラスト比が2
5であり、コントラスト比3となる視野角は、上下12
0゜以上、左右120゜以上であった。Example 14 (Production of Reflective Liquid Crystal Display) A glass substrate provided with an ITO transparent electrode and a glass substrate provided with an aluminum reflective electrode having fine irregularities were prepared. A polyimide alignment film (SE-7) is provided on the electrode side of the two glass substrates, respectively.
992, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and rubbed. Two substrates were stacked via a 3.4 μm spacer so that the alignment films faced each other. The directions of the substrates were adjusted so that the rubbing directions of the two alignment films intersect at an angle of 110 °. In the gap between the substrates, a liquid crystal (MLC-62
52, manufactured by Merck & Co., Inc.) to form a liquid crystal layer. Thus, the twist angle is 70 ° and the value of Δnd is 269.
nm TN type liquid crystal cell was produced. The retardation plate produced in Example 1 was adhered to the side of the glass substrate provided with the ITO transparent electrode via an adhesive. On top of that, a polarizing plate (surface is A
(A polarizing film in which an R-processed protective film is laminated).
A 1 kHz rectangular wave voltage was applied to the manufactured reflective liquid crystal display device. Visual evaluation was performed with a white display of 1.5 V and a black display of 4.5 V. As a result, it was confirmed that neither white display nor black display had a hue and neutral gray was displayed. Next, a measuring machine (EZcontrast
160D, manufactured by Eldim), the contrast ratio of the reflected luminance was measured.
5 and the viewing angle at which the contrast ratio is 3 is 12
0 ° or more, 120 ° or more on both sides.
【0104】[実施例15〜19] (反射型液晶表示装置の作製)実施例1で作製した位相
差板に代えて、実施例2、3、5〜7で作製した位相差
板を用いた以外は、実施例14と同様にして、それぞ
れ、反射型液晶表示装置を作製した。作製した反射型液
晶表示装置に、1kHzの矩形波電圧を印加した。白表
示1.5V、黒表示4.5Vとして目視で評価を行った
ところ、反射型液晶表示装置は、いずれも、白表示にお
いても、黒表示においても、色味がなく、ニュートラル
グレイが表示されていることが確認できた。次に、測定
機(EZcontrast160D、Eldim社製)を用いて反射
輝度のコントラスト比を測定したところ、いずれの反射
型液晶表示装置も、正面からのコントラスト比が25で
あり、コントラスト比3となる視野角は、上下120゜
以上、左右120゜以上であった。[Examples 15 to 19] (Production of reflection type liquid crystal display device) Instead of the retardation plate produced in Example 1, the retardation plates produced in Examples 2, 3, 5 to 7 were used. Except for the above, a reflective liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 14. A 1 kHz rectangular wave voltage was applied to the manufactured reflective liquid crystal display device. When a visual evaluation was performed with a white display of 1.5 V and a black display of 4.5 V, the reflection-type liquid crystal display devices displayed no neutral color and neutral gray in both white display and black display. Was confirmed. Next, when the contrast ratio of the reflection luminance was measured using a measuring device (EZcontrast 160D, manufactured by Eldim), the contrast ratio of all the reflection type liquid crystal display devices was 25 from the front, and the visual field having a contrast ratio of 3 was obtained. The angle was 120 ° or more up and down and 120 ° or more left and right.
【図1】反射型液晶表示装置の基本的な構成を示す模式
図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a basic configuration of a reflection type liquid crystal display device.
1 下基板 2 反射電極 3 下配向膜 4 液晶層 5 上配向膜 6 透明電極 7 上基板 8 λ/4板 9 偏光膜 Reference Signs List 1 lower substrate 2 reflective electrode 3 lower alignment film 4 liquid crystal layer 5 upper alignment film 6 transparent electrode 7 upper substrate 8 λ / 4 plate 9 polarizing film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/13363 C08L 1:02 // C08L 1:02 G02B 1/10 Z Fターム(参考) 2H049 BA03 BA06 BA07 BA25 BA27 BA47 BB03 BB43 BB49 BB67 BC04 BC09 BC14 BC22 2H091 FA08X FA11X FA14Z FB02 FB12 GA03 GA06 KA10 2K009 AA04 BB28 CC03 CC09 CC14 CC21 CC42 DD02 DD03 DD04 DD06 DD07 EE03 4F071 AA09 AC01 AE22 AF31 AF35 AF38 AH12 BA02 BB02 BC01 BC10 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/13363 C08L 1:02 // C08L 1:02 G02B 1/10 Z F-term (Reference) 2H049 BA03 BA06 BA07 BA25 BA27 BA47 BB03 BB43 BB49 BB67 BC04 BC09 BC14 BC22 2H091 FA08X FA11X FA14Z FB02 FB12 GA03 GA06 KA10 2K009 AA04 BB28 CC03 CC09 CC14 CC21 CC42 DD02 DD03 DD04 DD06 DD07 EE03 4F071 AA09 AF01 AFA13AF01 BC01
Claims (14)
ョン値(Re450)が100乃至125nmであり、
かつ波長590nmで測定したレターデーション値(R
e590)が120乃至160nmであり、Re590
−Re450≧2nmの関係を満足する一枚のポリマー
フイルムからなり、フイルムの少なくとも一方の面の表
面抵抗率が1012Ω/□以下であることを特徴とする位
相差板。A retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm of 100 to 125 nm;
And a retardation value (R
e590) is from 120 to 160 nm, and Re590
-A retardation plate comprising a single polymer film satisfying a relationship of Re450 ≥ 2 nm, wherein at least one surface of the film has a surface resistivity of 10 12 Ω / □ or less.
ョン値(Re450)が108乃至120nmであり、
波長550nmで測定したレターデーション値(Re5
50)が125乃至142nmであり、波長590nm
で測定したレターデーション値(Re590)が130
乃至152nmであり、そして、Re590−Re55
0≧2nmの関係を満足する請求項1に記載の位相差
板。2. A retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is from 108 to 120 nm,
The retardation value (Re5) measured at a wavelength of 550 nm
50) is 125 to 142 nm, and the wavelength is 590 nm.
Retardation value (Re590) measured at 130
To 152 nm and Re590-Re55
The retardation plate according to claim 1, wherein a relationship of 0 ≧ 2 nm is satisfied.
遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈折
率nzが、1≦(nx−nz)/(nx−ny)≦2の
関係を満足する請求項1に記載の位相差板。3. The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction are 1 ≦ (nx−nz) / (nx The retardation plate according to claim 1, wherein a relationship of -ny) ≤2 is satisfied.
フイルムである請求項1に記載の位相差板。4. The retardation film according to claim 1, wherein the polymer film is a cellulose ester film.
とも二つ有し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害し
ない分子構造を有する化合物を含むセルロースエステル
フイルムである請求項1に記載の位相差板。5. The cellulose ester film according to claim 1, wherein the polymer film is a cellulose ester film containing a compound having at least two aromatic rings and having a molecular structure that does not hinder the conformation of the two aromatic rings. Phase difference plate.
面内の遅相軸と直線偏光膜の偏光軸との角度が実質的に
45゜になるように積層されている円偏光板であって、
位相差板が、波長450nmで測定したレターデーショ
ン値(Re450)が100乃至125nmであり、波
長590nmで測定したレターデーション値(Re59
0)が120乃至160nmであり、そして、Re59
0−Re450≧2nmの関係を満足する一枚のポリマ
ーフイルムからなり、フイルムの少なくとも一方の面の
表面抵抗率が1012Ω/□以下であることを特徴とする
円偏光板。6. A circle in which a retardation plate and a linear polarizing film are laminated such that the angle between the in-plane slow axis of the retardation plate and the polarization axis of the linear polarizing film is substantially 45 °. A polarizing plate,
The retardation plate has a retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm of 100 to 125 nm, and a retardation value (Re59) measured at a wavelength of 590 nm.
0) is from 120 to 160 nm, and Re59
A circularly polarizing plate comprising a single polymer film satisfying a relationship of 0-Re450 ≧ 2 nm, wherein the surface resistivity of at least one surface of the film is 10 12 Ω / □ or less.
ョン値(Re450)が200乃至250nmであり、
かつ波長590nmで測定したレターデーション値(R
e590)が240乃至320nmであり、Re590
−Re450≧2nmの関係を満足する一枚のポリマー
フイルムからなり、フイルムの少なくとも一方の面の表
面抵抗率が1012Ω/□以下であることを特徴とする位
相差板。7. A retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is from 200 to 250 nm,
And a retardation value (R
e590) is 240 to 320 nm, and Re590
-A retardation plate comprising a single polymer film satisfying a relationship of Re450 ≥ 2 nm, wherein at least one surface of the film has a surface resistivity of 10 12 Ω / □ or less.
ョン値(Re450)が216乃至240nmであり、
波長550nmで測定したレターデーション値(Re5
50)が250乃至284nmであり、かつ波長590
nmで測定したレターデーション値(Re590)が2
60乃至304nmであり、そして、Re590−Re
550≧2nmの関係を満足する請求項7に記載の位相
差板。8. A retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is from 216 to 240 nm,
The retardation value (Re5) measured at a wavelength of 550 nm
50) is from 250 to 284 nm and the wavelength is 590
The retardation value (Re590) measured in nm is 2
60-304 nm, and Re590-Re
The retardation plate according to claim 7, which satisfies a relationship of 550 ≧ 2 nm.
遅相軸に垂直な方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈折
率nzが、1≦(nx−nz)/(nx−ny)≦2の
関係を満足する請求項7に記載の位相差板。9. The refractive index nx in the in-plane slow axis direction, the refractive index ny in the direction perpendicular to the slow axis in the plane, and the refractive index nz in the thickness direction are 1 ≦ (nx−nz) / (nx The retardation plate according to claim 7, which satisfies a relationship of -ny) ≤2.
ルフイルムである請求項7に記載の位相差板。10. The retardation film according to claim 7, wherein the polymer film is a cellulose ester film.
くとも二つ有し、二つの芳香族環の立体配座を立体障害
しない分子構造を有する化合物を含むセルロースエステ
ルフイルムである請求項7に記載の位相差板。11. The cellulose ester film according to claim 7, wherein the polymer film is a cellulose ester film containing a compound having at least two aromatic rings and having a molecular structure that does not hinder the conformation of the two aromatic rings. Phase difference plate.
とを特徴とする反射型液晶表示装置。12. A reflection type liquid crystal display device using the phase difference plate according to claim 1.
とを特徴とする反射型液晶表示装置。13. A reflective liquid crystal display device using the circularly polarizing plate according to claim 6.
とを特徴とする反射型液晶表示装置。14. A reflection type liquid crystal display device using the retardation plate according to claim 7.
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