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JP2001323383A - Method for imparting catalyst for electroless plating - Google Patents

Method for imparting catalyst for electroless plating

Info

Publication number
JP2001323383A
JP2001323383A JP2000139765A JP2000139765A JP2001323383A JP 2001323383 A JP2001323383 A JP 2001323383A JP 2000139765 A JP2000139765 A JP 2000139765A JP 2000139765 A JP2000139765 A JP 2000139765A JP 2001323383 A JP2001323383 A JP 2001323383A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
electroless plating
solution
aqueous solution
applying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000139765A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Katayama
順一 片山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Okuno Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Okuno Chemical Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Okuno Chemical Industries Co Ltd filed Critical Okuno Chemical Industries Co Ltd
Priority to JP2000139765A priority Critical patent/JP2001323383A/en
Publication of JP2001323383A publication Critical patent/JP2001323383A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for imparting a catalyst for electroless plating by using a catalyst imparting solution containing a palladium compound and a stannous compound, in which a good electroless plating film having less defects nonplated can be formed, and to provide a treating solution usable therefor. SOLUTION: In this method for imparting a catalyst for electroless plating, the object to be plated is brought into contact with a catalyst imparting solution composed of a solution containing a palladium compound, a stannous compound and acid and water as a medium, is thereafter, if required, brought into contact with an acidic aqueous solution of pH <=2 or an alkaline aqueous solution of pH >=13 and is then brought into contact with an aqueous solution of pH 3 to 11 containing an oxidizer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、無電解めっきのた
めの触媒付与方法に関する。
[0001] The present invention relates to a method for applying a catalyst for electroless plating.

【0002】[0002]

【従来の技術】非導電体材料、特にプラスチック類に無
電解めっきを行い、引き続いて電気めっきを行うことに
よって、非導電性材料に金属皮膜を形成する方法が広く
行われている。この様にして金属被覆されたプラスチッ
ク類は、軽量であり、かつ金属的美感を有するものであ
ることから、自動車部品、電気器具部品として数多く使
用されている。
2. Description of the Related Art A method of forming a metal film on a nonconductive material by performing electroless plating on a nonconductive material, particularly plastics, and subsequently performing electroplating, has been widely used. Plastics coated with metal in this way are lightweight and have a metallic appearance, so that they are widely used as automobile parts and electric appliance parts.

【0003】プラスチックスへの金属被覆方法として
は、プラスチック表面の親水化と粗化(凹凸化)を目的
としてクロム酸−硫酸水溶液によるエッチング処理を行
った後、貴金属化合物、特にパラジウム化合物を含有す
る水溶液を用いて無電解めっきを誘起するための触媒を
付与し、その後、無電解めっきを行い、引き続いて電気
めっきを行う方法が広く採用されている。
As a method for coating plastics with a metal, an etching treatment with a chromic acid-sulfuric acid aqueous solution for the purpose of hydrophilizing and roughening (roughening) the plastic surface is performed, and then a noble metal compound, particularly a palladium compound is contained. A method of applying a catalyst for inducing electroless plating using an aqueous solution, performing electroless plating, and subsequently performing electroplating has been widely adopted.

【0004】この様な金属被覆方法において、触媒を付
与する方法としては、当初は、塩化第一スズの塩酸水溶
液による表面処理(センシタイザー処理)と塩化パラジ
ウムの塩酸水溶液による表面処理(アクチベーター処
理)の二段階の処理が行われていた。しかしながら、こ
の触媒付与方法では、形成される無電解めっき皮膜の表
面に細かい突起物が形成されることが多く、めっき外観
が損なわれるのために、しばしば無電解めっき皮膜上を
スポンジ等でブラッシング処理した後、次の電気めっき
に移行する必要があり、処理工程が煩雑であった。
In such a metal coating method, as a method for applying a catalyst, at first, a surface treatment with a stannous chloride aqueous solution of hydrochloric acid (sensitizer treatment) and a surface treatment with palladium chloride aqueous solution of hydrochloric acid (activator treatment) ) Two-stage processing was performed. However, in this method of applying a catalyst, fine projections are often formed on the surface of the formed electroless plating film, and the plating appearance is impaired. Therefore, a brushing treatment is often performed on the electroless plating film with a sponge or the like. After that, it was necessary to shift to the next electroplating, and the processing steps were complicated.

【0005】これに代わる触媒付与方法として、塩化第
一スズの塩酸水溶液を加温、攪拌し、これに塩化パラジ
ウム水溶液を添加して作製されるキャタリスト液と称さ
れるパラジウムコロイド溶液を用い、被めっき物である
プラスチックスをこのキャタリスト液に接触させ、次い
で、促進化液(アクセレーター液)と称される強酸水溶
液又は強アルカリ水溶液に接触させて促進化処理(アク
セレーター処理)を行なう方法が提案され、現在では広
く一般に採用されている。この方法は、消耗するパラジ
ウム量が少なく経済的な方法であり、しかも形成される
無電解めっき皮膜は、平滑で、比較的ピンホールが少な
いことから優れた触媒付与方法とされている。
[0005] As an alternative method of providing a catalyst, a palladium colloid solution called a catalyst solution prepared by heating and stirring an aqueous solution of stannous chloride in hydrochloric acid and adding an aqueous solution of palladium chloride thereto is used. The plastics to be plated is brought into contact with this catalyst solution, and then brought into contact with a strong acid aqueous solution or a strong alkaline aqueous solution called an accelerating solution (accelerator solution) to perform an accelerating process (accelerator process). A method has been proposed and is now widely adopted. This method is an economical method in which the amount of consumed palladium is small and the electroless plating film to be formed is smooth and has relatively few pinholes.

【0006】しかしながら、この方法で触媒を付与する
場合には、実際の作業工程では、しばしば、皮膜に黒色
部分が形成されることがある。このような部分は、微視
的に見ると無めっき部分であり、後の電気めっき工程に
おいて、ピット発生の原因となり、製品の歩留まりを著
しく低下させるため、その解決が望まれている。
However, when a catalyst is applied by this method, a black portion is often formed on a film in an actual working process. Such a portion is a non-plated portion when viewed microscopically, and causes pits in the subsequent electroplating process, and significantly reduces the yield of products.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の主な目的は、
パラジウム化合物と第一スズ化合物を含有する触媒付与
液を用いて無電解めっき用触媒を付与する方法におい
て、無めっき部分の殆どない良好な無電解めっき皮膜を
形成することが可能な触媒付与方法、及びそのために使
用できる処理液を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The main object of the present invention is to:
In a method of applying a catalyst for electroless plating using a catalyst applying solution containing a palladium compound and a stannous compound, a catalyst applying method capable of forming a good electroless plating film having almost no non-plated portion, And to provide a processing solution that can be used therefor.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記した問
題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、パラジウム化合
物、第一スズ化合物及び酸を含む触媒付与液を用いて触
媒を付与した後、従来用いられている促進化液に代えて
酸化剤を含有するpH3〜11の水溶液を促進化液とし
て用い、これに被めっき物を接触させることによって、
被めっき物に高い触媒活性を付与でき、無めっき部分を
殆ど生じること無く良好な無電解めっき皮膜を形成する
ことが可能となることを見出し、ここに本発明を完成す
るに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in view of the above problems, and as a result, have found that after applying a catalyst using a catalyst application liquid containing a palladium compound, a stannous compound and an acid. By using an aqueous solution having a pH of 3 to 11 containing an oxidizing agent instead of the conventionally used accelerating solution as the accelerating solution and bringing the object to be plated into contact therewith,
It has been found that a high catalytic activity can be imparted to the object to be plated, and a good electroless plating film can be formed with almost no non-plated portions, and the present invention has been completed.

【0009】即ち、本発明は、下記の無電解めっき用触
媒付与方法、無電解めっき方法、及び促進化溶液を提供
するものである。 1.パラジウム化合物、第一スズ化合物及び酸を含む水
を媒体とする溶液からなる触媒付与液に被めっき物を接
触させた後、酸化剤を含有するpH3〜11の水溶液に
接触させることを特徴とする無電解めっき用触媒付与方
法。 2.パラジウム化合物、第一スズ化合物及び酸を含む水
を媒体とする溶液からなる触媒付与液に被めっき物を接
触させた後、pH2以下の酸性水溶液又はpH13以上
のアルカリ性水溶液に接触させ、次いで、酸化剤を含有
するpH3〜11の水溶液に接触させることを特徴とす
る無電解めっき用触媒付与方法。 3.酸化剤が、過酸化水素、過炭酸ナトリウム、過硼酸
ナトリウム、過硫酸ナトリウム及び過硫酸アンモニウム
から選ばれた少なくとも1種である上記項1又2に記載
の無電解めっき用触媒付与方法。 4.上記項1〜3のいずれかに記載の方法で被めっき物
に無電解めっき用触媒を付与した後、無電解めっき液に
接触させることを特徴とする無電解めっき方法。 5.酸化剤を含有するpH3〜11の水溶液からなる、
上記項1〜3のいずれかに記載の無電解めっき用触媒付
与方法で用いる促進化溶液。
That is, the present invention provides the following method for applying a catalyst for electroless plating, a method for electroless plating, and an accelerating solution. 1. After the object to be plated is brought into contact with a plating solution comprising a solution containing water as a medium containing a palladium compound, a stannous compound and an acid, it is brought into contact with an aqueous solution having a pH of 3 to 11 containing an oxidizing agent. A method for applying a catalyst for electroless plating. 2. After the object to be plated is brought into contact with a catalyst-imparting solution comprising a solution containing water containing a palladium compound, a stannous compound and an acid, the object is brought into contact with an acidic aqueous solution of pH 2 or lower or an alkaline aqueous solution of pH 13 or higher, and A method for applying a catalyst for electroless plating, which comprises contacting an aqueous solution having a pH of 3 to 11 containing an agent. 3. Item 3. The method for applying a catalyst for electroless plating according to Item 1 or 2, wherein the oxidizing agent is at least one selected from hydrogen peroxide, sodium percarbonate, sodium perborate, sodium persulfate, and ammonium persulfate. 4. 4. An electroless plating method, comprising: applying an electroless plating catalyst to an object to be plated by the method according to any one of the above items 1 to 3; 5. Consisting of an aqueous solution of pH 3 to 11 containing an oxidizing agent,
Item 5. An accelerating solution used in the method for applying a catalyst for electroless plating according to any one of Items 1 to 3 above.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の触媒付与方法では、被め
っき物を触媒付与液に接触させた後、酸化剤を含有する
水溶液に接触させることによって、無電解めっき用触媒
を被めっき物に付与することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the method for applying a catalyst according to the present invention, an object for plating is brought into contact with an aqueous solution containing an oxidizing agent after the object to be plated is brought into contact with a catalyst applying solution. Can be granted.

【0011】触媒付与液としては、一般にキャタリスト
液と称されているパラジウム化合物、第一スズ化合物及
び酸を含む水を媒体とする溶液を用いる。該触媒付与液
では、パラジウム化合物と第一スズ化合物は、水中でコ
ロイド粒子又は水溶性錯体として存在するものと考えら
れる。この様な触媒付与液としては、通常用いられてい
る公知のキャタリスト液を使用できる。
As the catalyst-providing liquid, a solution containing water as a medium containing a palladium compound, a stannous compound and an acid, which is generally called a catalyst liquid, is used. In the catalyst application liquid, the palladium compound and the stannous compound are considered to exist as colloid particles or a water-soluble complex in water. As such a catalyst-providing liquid, a commonly used well-known catalyst liquid can be used.

【0012】該触媒付与液で使用できるパラジウム化合
物としては、水中で容易に解離してパラジウムイオンを
放出し得るものが好ましく、塩化パラジウム(PdCl
2)、硫酸パラジウム(PdSO4)等を例示できる。第
一スズ化合物としても、水中で容易に解離して第一スズ
イオンを放出し得るものが好ましく、塩化第一スズ、硫
酸第一スズ等を例示できる。酸としては、例えば、塩
酸、硫酸などを使用できる。
The palladium compound which can be used in the catalyst-providing liquid is preferably a compound which can easily dissociate in water to release palladium ions, and palladium chloride (PdCl 2)
2 ) and palladium sulfate (PdSO 4 ). As the stannous compound, those capable of easily dissociating in water to release stannous ions are preferable, and examples thereof include stannous chloride and stannous sulfate. As the acid, for example, hydrochloric acid, sulfuric acid and the like can be used.

【0013】該触媒付与液において、パラジウム化合物
の濃度は、0.01〜10ミリモル/リットル程度とす
ることが好ましく、0.1〜8ミリモル/リットル程度
とすることがより好ましい。第一スズ化合物の濃度は、
0.5〜500ミリモル/リットル程度とすることが好
ましく、1〜300ミリモル/リットル程度とすること
がより好ましい。パラジウム化合物と第一スズ化合物と
の割合は、パラジウム化合物/第一スズ化合物(モル
比)=1/1〜1/100程度とすることが好ましく、
1/20〜1/100程度とすることがより好ましい。
In the catalyst-providing liquid, the concentration of the palladium compound is preferably about 0.01 to 10 mmol / L, more preferably about 0.1 to 8 mmol / L. The concentration of the stannous compound is
The concentration is preferably about 0.5 to 500 mmol / L, more preferably about 1 to 300 mmol / L. The ratio of the palladium compound and the stannous compound is preferably set to about palladium compound / stannic compound (molar ratio) = 1/1 to 1/100,
More preferably, it is set to be about 1/20 to 1/100.

【0014】該触媒付与液における酸濃度については、
特に限定的ではないが、通常、0.5〜3モル/リット
ル程度とすればよい。
Regarding the acid concentration in the catalyst-providing liquid,
Although not particularly limited, usually, it may be about 0.5 to 3 mol / liter.

【0015】該触媒付与液には、更に、液の安定化等を
目的として、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硫酸ナト
リウム、硫酸カリウムなどを添加することもできる。こ
れらの化合物の添加量については、特に限定的ではな
く、溶解可能な濃度範囲から適宜添加量を決めればよい
が、添加による効果を十分に発揮させるためには、10
ミリモル/リットル程度以上とすればよい。
Further, sodium chloride, potassium chloride, sodium sulfate, potassium sulfate and the like can be added to the catalyst-providing liquid for the purpose of stabilizing the liquid. The amount of these compounds to be added is not particularly limited, and may be appropriately determined from the concentration range in which the compounds can be dissolved.
The amount may be about mmol / liter or more.

【0016】該触媒付与液の調製方法の一例として、塩
化第一スズを溶解した濃塩酸水溶液を100℃程度に加
熱し、撹拌しながら塩化パラジウム水溶液を添加する方
法を挙げることができるが、この様な調製方法に限定さ
れるものではない。該触媒付与液は、通常は、塩化第一
錫と塩化パラジウムを溶解した濃厚溶液として市販され
ているので、使用時に適当な濃度に希釈して用いればよ
い。
As an example of a method for preparing the catalyst-providing liquid, a method in which a concentrated aqueous hydrochloric acid solution in which stannous chloride is dissolved is heated to about 100 ° C. and an aqueous palladium chloride solution is added with stirring can be mentioned. It is not limited to such a preparation method. The catalyst-providing liquid is usually commercially available as a concentrated solution in which stannous chloride and palladium chloride are dissolved, and may be used after being diluted to an appropriate concentration when used.

【0017】触媒付与方法としては、該触媒付与液に被
めっき物を接触させれば良く、通常は、20〜40℃程
度の液温の触媒付与液中に被めっき物を1〜5分間程度
浸漬すればよい。
The method for applying the catalyst may be such that the object to be plated is brought into contact with the solution for applying the catalyst. Usually, the object to be plated is placed in the solution for applying the catalyst at a temperature of about 20 to 40 ° C. for about 1 to 5 minutes. What is necessary is just to soak.

【0018】本発明の方法では、上記した方法で被めっ
き物を触媒付与液に接触させた後、酸化剤を含有する水
溶液に接触させる。
In the method of the present invention, after the object to be plated is brought into contact with the catalyst-providing liquid by the above-mentioned method, it is brought into contact with an aqueous solution containing an oxidizing agent.

【0019】酸化剤としては、硝酸カリウム、硝酸ナト
リウム、硝酸アンモニウム等の硝酸塩;過酸化水素、過
酸化ナトリウム、過炭酸ナトリウム、過硼酸ナトリウム
等の過酸化物又はその塩;過硫酸ナトリウム、過硫酸カ
リウム、過硫酸アンモニウム等のペルオクソ酸又はその
塩;塩素酸カリウム、過塩素酸カリウム、沃素酸カリウ
ム、過沃素酸カリウム等の酸素酸又はその塩等を例示で
きる。これらの酸化剤は、一種単独又は二種以上混合し
て用いることができる。これらの内で、水に対する溶解
性が良好で、水溶液が中性に近く、ハロゲンガスなどの
ガスの発生がない化合物が好ましく、過酸化水素、過炭
酸ナトリウム、過硼酸ナトリウム、過硫酸ナトリウム、
過硫酸アンモニウム等が特に好ましい。
As the oxidizing agent, nitrates such as potassium nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate; peroxides and salts thereof such as hydrogen peroxide, sodium peroxide, sodium percarbonate and sodium perborate; sodium persulfate and potassium persulfate; Examples thereof include peroxo acids such as ammonium persulfate and salts thereof; oxygen acids such as potassium chlorate, potassium perchlorate, potassium iodate and potassium periodate, and salts thereof. These oxidizing agents can be used alone or in combination of two or more. Among these, a compound having good solubility in water, an aqueous solution being nearly neutral and generating no gas such as a halogen gas is preferable, and hydrogen peroxide, sodium percarbonate, sodium perborate, sodium persulfate,
Ammonium persulfate and the like are particularly preferred.

【0020】水溶液中における酸化剤の濃度は、酸化剤
の酸化力、触媒の吸着量、触媒の吸着状態等によって異
なるが、通常、5〜200g/l程度が好ましく、10
〜100g/l程度がより好ましい。酸化剤の濃度が低
すぎると触媒活性が不足して、良好な無電解めっきを形
成することが困難となる。一方、酸化剤の濃度を必要以
上に高くしてもより効果が向上しないために不経済であ
る。
The concentration of the oxidizing agent in the aqueous solution varies depending on the oxidizing power of the oxidizing agent, the amount of the catalyst adsorbed, the state of the catalyst adsorbed, and the like.
About 100 g / l is more preferable. If the concentration of the oxidizing agent is too low, the catalytic activity becomes insufficient, and it becomes difficult to form good electroless plating. On the other hand, increasing the concentration of the oxidizing agent more than necessary is uneconomical because the effect is not improved.

【0021】酸化剤を含有する水溶液は、pH3〜11
程度、好ましくは5〜11程度の範囲で用いる。pHが
上記範囲内にあることによって、無電解めっきに対する
触媒効果を大きく向上させることができる。
The aqueous solution containing the oxidizing agent has a pH of 3 to 11.
Degree, preferably in the range of about 5 to 11. When the pH is within the above range, the catalytic effect on electroless plating can be greatly improved.

【0022】酸化剤を含有する水溶液による処理方法と
しては、該水溶液に被めっき物を接触させれば良く、通
常は、10〜50℃程度の液温の水溶液中に被めっき物
を1〜15分間程度浸漬すればよい。液温が低すぎる場
合には、触媒効果が充分に発揮されないので好ましくな
い。一方、液温が高すぎると、触媒効果を発揮すること
はできるが、酸化剤が自己分解して液寿命が短くなるの
で好ましくない。
As a treatment method using an aqueous solution containing an oxidizing agent, the object to be plated may be brought into contact with the aqueous solution. Usually, the object to be plated is placed in an aqueous solution having a liquid temperature of about 10 to 50 ° C. It may be immersed for about a minute. If the liquid temperature is too low, the catalytic effect is not sufficiently exerted, which is not preferable. On the other hand, if the liquid temperature is too high, a catalytic effect can be exerted, but the oxidizing agent self-decomposes and the liquid life is shortened, which is not preferable.

【0023】この様な方法で酸化剤を含有する水溶液に
被めっき物を接触させることによって、無電解めっきに
対する高い触媒活性を付与できる。
By contacting an object to be plated with an aqueous solution containing an oxidizing agent in such a manner, a high catalytic activity for electroless plating can be imparted.

【0024】本発明の方法によってこの様な高い触媒活
性を付与できる理由については、必ずしも明確ではない
が、コロイド状粒子として被めっき物に吸着しているも
のと思われるパラジウム化合物が2価又は4価の状態ま
で酸化され、この状態のパラジウム化合物が、無電解め
っきの析出に対して高い触媒活性を示すものと思われ
る。
The reason why such a high catalytic activity can be imparted by the method of the present invention is not necessarily clear, but a palladium compound which is considered to be adsorbed on the object to be plated as colloidal particles is divalent or tetravalent. It is oxidized to a valence state, and the palladium compound in this state is considered to exhibit high catalytic activity for the deposition of electroless plating.

【0025】本発明の触媒付与方法では、上記した方法
で被めっき物を触媒付与液に接触させた後、酸化剤を含
有する水溶液に接触させる前に、必要に応じて、pH2
以下の酸性水溶液又はpH13以上のアルカリ性水溶液
に接触させることができる。この処理を行うことによっ
て、無電解めっきに対する触媒活性をより一層向上させ
ることが可能である。この処理によれば、被めっき物に
付着しているスズ化合物とパラジウム化合物を含有する
触媒成分の内で、両性金属であるスズが溶解除去され、
その結果、触媒成分であるPdの比率が高くなることに
よって、触媒活性がより向上するものと思われる。この
処理に用いる酸性水溶液としては、例えば、硫酸、塩酸
等の酸性化合物を含む水溶液を用いることができる。こ
れらの水溶液中の酸性化合物の濃度については特に限定
的ではなく、pH2以下となる濃度であればよいが、通
常、酸性化合物の濃度として10〜200g/l程度と
することが好ましく、50〜150g/l程度とするこ
とがより好ましい。酸性化合物の濃度が低すぎる場合に
は、触媒活性を向上させる効果が充分には得られず、一
方、酸性化合物の濃度が高すぎると、触媒成分であるP
dが溶解するものと思われ、かえって触媒活性が低下す
る傾向がある。又、アルカリ性水溶液としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等のアルカリ
性化合物を含む水溶液を用いることができる。この水溶
液中のアルカリ性化合物の濃度については特に限定的で
はなく、pH13以上となる濃度であればよいが、通
常、アルカリ性化合物の濃度として2〜100g/l程
度とすることが好ましく、5〜50g/l程度とするこ
とがより好ましい。アルカリ性化合物の濃度が低すぎる
場合には、触媒活性を向上させる効果が充分には得られ
ず、一方、濃度が高すぎると、かえって触媒活性が低下
する傾向がある。
In the catalyst application method of the present invention, after the object to be plated is brought into contact with the catalyst application solution by the above-mentioned method, and before contact with an aqueous solution containing an oxidizing agent, if necessary, pH 2
It can be brought into contact with the following acidic aqueous solution or an alkaline aqueous solution having a pH of 13 or more. By performing this treatment, the catalytic activity for electroless plating can be further improved. According to this treatment, tin, which is an amphoteric metal, is dissolved and removed from the catalyst component containing the tin compound and the palladium compound attached to the object to be plated,
As a result, it is considered that the catalyst activity is further improved by increasing the ratio of Pd as a catalyst component. As the acidic aqueous solution used in this treatment, for example, an aqueous solution containing an acidic compound such as sulfuric acid or hydrochloric acid can be used. The concentration of the acidic compound in these aqueous solutions is not particularly limited, and may be any concentration as long as the pH becomes 2 or less. Usually, the concentration of the acidic compound is preferably about 10 to 200 g / l, and 50 to 150 g. / L is more preferable. If the concentration of the acidic compound is too low, the effect of improving the catalytic activity cannot be sufficiently obtained, while if the concentration of the acidic compound is too high, the catalyst component P
d seems to dissolve, and the catalytic activity tends to decrease. Further, as the alkaline aqueous solution, an aqueous solution containing an alkaline compound such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, and ammonia can be used. The concentration of the alkaline compound in the aqueous solution is not particularly limited, and may be a concentration at which the pH becomes 13 or more. Usually, the concentration of the alkaline compound is preferably about 2 to 100 g / l, and 5 to 50 g / l. More preferably, it is about l. If the concentration of the alkaline compound is too low, the effect of improving the catalytic activity cannot be sufficiently obtained, while if the concentration is too high, the catalytic activity tends to decrease.

【0026】pH2以下の酸性水溶液又はpH13以上
のアルカリ性水溶液による処理方法としては、該水溶液
に被めっき物を接触させれば良く、通常は、10〜50
℃程度の液温の水溶液中に被めっき物を1〜30分間程
度浸漬すればよい。
As a treatment method using an acidic aqueous solution having a pH of 2 or less or an alkaline aqueous solution having a pH of 13 or more, an object to be plated may be brought into contact with the aqueous solution.
What is necessary is just to immerse the object to be plated in an aqueous solution at a liquid temperature of about ° C for about 1 to 30 minutes.

【0027】本発明の方法によって、触媒を付与した
後、常法に従って無電解めっきを行うことによって、無
めっき部分が殆ど形成されることなく、良好な無電解め
っき皮膜を形成することができる。無電解めっき液とし
ては、還元剤を含有する自己触媒型無電解めっき液であ
れば特に限定無く使用できる。この様な無電解めっき液
の具体例としては、次亜リン酸ナトリウムを還元剤とす
る酸性無電解ニッケルめっき液、次亜リン酸ナトリウム
を還元剤とするアンモニアアルカリ性無電解ニッケルめ
っき液、ジメチルアミンボラン等硼素系化合物を還元剤
とする酸性又はアルカリ性無電解ニッケルめっき液、ホ
ルマリンを還元剤とするアルカリ性銅めっき液、次亜リ
ン酸ナトリウムを還元剤とする酸性無電解銅めっき等を
例示できる。無電解めっき方法も常法に従えば良く、使
用するめっき液の種類に応じて適宜決定すればよい。
According to the method of the present invention, a good electroless plating film can be formed with almost no non-plated portions by performing electroless plating according to a conventional method after applying a catalyst. As the electroless plating solution, any autocatalytic electroless plating solution containing a reducing agent can be used without particular limitation. Specific examples of such an electroless plating solution include an acidic electroless nickel plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent, an ammonia alkaline electroless nickel plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent, and dimethylamine. Examples thereof include an acidic or alkaline electroless nickel plating solution using a boron compound such as borane as a reducing agent, an alkaline copper plating solution using formalin as a reducing agent, and an acidic electroless copper plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent. The electroless plating method may be a conventional method, and may be appropriately determined depending on the type of the plating solution to be used.

【0028】本発明の触媒付与方法は、そのままでは無
電解めっきの析出反応に対して触媒活性を有しないあら
ゆる材料に対して適用できる。本発明の触媒付与方法が
適用できる被めっき物の例としては、プラスチック類、
セラミック類、ガラス類等の非導電性材料の他、銅、真
鍮等の触媒活性を示さない金属類も挙げることができ
る。特に、本発明の触媒付与方法は、良好な外観のめっ
き皮膜を形成できる方法であることから、ABC樹脂、
ポリカーボネート(PC)樹脂、PC/ABSアロイ樹
脂、PC/アクリルゴム(ASA)アロイ樹脂、ナイロ
ン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ノリル樹脂等のプラスチ
ック類を被めっき物とする装飾めっき方法における触媒
付与方法として有用性が高い方法である。
The catalyst application method of the present invention can be applied to any material which does not have catalytic activity for the deposition reaction of electroless plating as it is. Examples of the object to be plated to which the catalyst applying method of the present invention can be applied include plastics,
In addition to non-conductive materials such as ceramics and glasses, metals such as copper and brass that do not exhibit catalytic activity can also be mentioned. In particular, the method for applying a catalyst of the present invention is a method capable of forming a plating film having a good appearance.
Usefulness as a catalyst application method in a decorative plating method using plastics such as polycarbonate (PC) resin, PC / ABS alloy resin, PC / acrylic rubber (ASA) alloy resin, nylon resin, polyolefin resin, and noryl resin as objects to be plated. Is a high method.

【0029】本発明方法によって触媒を付与する際に
は、触媒付与工程に先だって、被めっき物の種類に応じ
て常法に従って前処理を行えばよい。
When applying a catalyst according to the method of the present invention, prior to the catalyst applying step, pretreatment may be performed according to a conventional method according to the type of the object to be plated.

【0030】例えば、プラスチック類を被めっき物とす
る場合には、クロム酸−硫酸の混合水溶液等を用いてエ
ッチング処理を行うことによって、無電解めっき皮膜の
密着性を向上させることができる。例えば、ABS樹脂
を被めっき物とする場合には、クロム酸−硫酸の混合水
溶液からなるエッチング液(クロム酸350〜450g
/lと硫酸380〜420g/l程度の混合水溶液、好
ましくはクロム酸380〜420g/lと硫酸380〜
420g/l程度の混合水溶液)に60〜70℃程度で
5〜15分程度被めっき物を浸漬して被めっき物の表面
を酸化、粗化した後、本発明の触媒付与方法を適用する
ことによって、形成される無電解めっき皮膜の密着性を
向上させることができる。
For example, when plastics are to be plated, the adhesion of the electroless plating film can be improved by performing an etching treatment using a mixed aqueous solution of chromic acid and sulfuric acid. For example, when an ABS resin is used as an object to be plated, an etching solution (350 to 450 g of chromic acid) composed of a mixed aqueous solution of chromic acid and sulfuric acid is used.
/ L and about 380 to 420 g / l of sulfuric acid, preferably 380 to 420 g / l of chromic acid and 380 to 400 g of sulfuric acid
Immersing the object to be plated in a mixed aqueous solution of about 420 g / l at about 60 to 70 ° C. for about 5 to 15 minutes to oxidize and roughen the surface of the object to be plated, and then applying the catalyst application method of the present invention. Thereby, the adhesion of the formed electroless plating film can be improved.

【0031】本発明の触媒付与方法によれば、従来の触
媒付与方法と比べて高い触媒活性を付与できるため、無
電解めっきの析出反応が確実に、しかも迅速に進行し、
被めっき物の全面に亘って微視的な無めっき部分の発生
が防止され、この様な欠陥部分のほとんどない良好な無
電解めっき皮膜を形成できる。
According to the catalyst applying method of the present invention, a higher catalytic activity can be imparted as compared with the conventional catalyst applying method, so that the deposition reaction of the electroless plating proceeds reliably and quickly,
The occurrence of microscopically non-plated portions is prevented over the entire surface of the object to be plated, and a good electroless plating film having almost no such defective portions can be formed.

【0032】上記した方法で無電解めっきを行った後、
常法に従って各種の電気めっきを行うことができる。こ
の場合には、形成される電気めっき皮膜にはピンホール
等の欠陥部分が殆ど生じることが無く、優れた外観を有
するめっき皮膜が形成される。
After performing the electroless plating by the method described above,
Various types of electroplating can be performed according to a conventional method. In this case, the formed electroplating film hardly has a defective portion such as a pinhole, and a plating film having an excellent appearance is formed.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明の触媒付与方法によれば、被めっ
き物に対して優れた触媒活性を付与でき、無めっき部分
を殆ど含まない良好な無電解めっき皮膜を形成できる。
According to the method for applying a catalyst of the present invention, excellent catalytic activity can be imparted to an object to be plated, and a good electroless plating film containing almost no unplated portion can be formed.

【0034】また、従来の触媒付与方法と比べて、より
敏感に無電解めっき反応を誘起できるため、使用する無
電解めっき液をより安定化することができ、無電解めっ
き液の液寿命を大きく延長することができる。
In addition, since the electroless plating reaction can be induced more sensitively than the conventional method of applying a catalyst, the electroless plating solution to be used can be more stabilized, and the life of the electroless plating solution can be extended. Can be extended.

【0035】[0035]

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明
する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0036】実施例1 三菱レーヨン(株)製のABS樹脂板(120×120
×3mm)を被めっき物として用いて、下記のA〜Cの工
程で触媒を付与した後、表1又は表2に示す条件で促進
化処理を行い、次いで、次亜リン酸ナトリウムを還元剤
とする液温35℃のアンモニアアルカリ性無電解ニッケ
ルめっき液(奥野製薬工業(株)製TMP化学ニッケル
A 160ml/l、B 160ml/l)に浸漬する
ことによって、無電解ニッケルめっき皮膜を形成した。
各処理の間には、水洗を行った。尚、表1及び表2に示
した全ての処理方法において、無電解ニッケルめっき時
間は2分間の同一時間として促進化処理の影響を明確に
した。 脱脂処理 アルカリ性脱脂剤(奥野製薬工業(株)製エースクリー
ンA−220 50g/l)中に50℃で5分浸漬。 エッチング処理 無水クロム酸400g/l、98%硫酸400g/lを
含有する水溶液に70℃で10分浸漬。 触媒付与処理(キャタリスト処理) パラジウムの塩化第一スズ保護コロイド溶液からなる触
媒液(奥野製薬工業(株)製キャタリストC 40ml
/l及び35% 塩酸180ml/lを含有する水溶
液)中に30℃で30分浸漬。処理前の塩化パラジウム
濃度は0.1g/l、塩化第一スズ濃度は8g/lであ
った。 上記した方法で形成された無電解ニッケルめっき皮膜に
ついて、ABS樹脂板全面にニッケルめっき液が析出し
た場合を100%として、めっき析出部分の比率を求め
た。結果を下記表1に示す。
Example 1 An ABS resin plate (120 × 120) manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
× 3 mm) as a material to be plated, and after applying a catalyst in the following steps A to C, an accelerating treatment is performed under the conditions shown in Table 1 or Table 2, and then sodium hypophosphite is reduced with a reducing agent. An electroless nickel plating film was formed by immersion in a 35 ° C. ammonia alkaline electroless nickel plating solution (TMP Chemical Nickel A 160 ml / l, B 160 ml / l, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.).
Water washing was performed between each treatment. In all the treatment methods shown in Tables 1 and 2, the electroless nickel plating time was set to the same time of 2 minutes to clarify the effect of the accelerating treatment. Degreasing treatment Immersion in an alkaline degreasing agent (Ascreen A-220 50 g / l manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) at 50 ° C. for 5 minutes. Etching Immersion at 70 ° C. for 10 minutes in an aqueous solution containing 400 g / l of chromic anhydride and 400 g / l of 98% sulfuric acid. Catalyst application treatment (Catalyst treatment) Catalyst solution composed of a protective colloidal solution of palladium with stannous chloride (Catalyst C 40 ml manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.)
/ L and an aqueous solution containing 180 ml / l of 35% hydrochloric acid) at 30 ° C for 30 minutes. Before the treatment, the palladium chloride concentration was 0.1 g / l and the stannous chloride concentration was 8 g / l. With respect to the electroless nickel plating film formed by the above-described method, the ratio of the plating deposition portion was determined, taking the case where the nickel plating solution was deposited on the entire surface of the ABS resin plate as 100%. The results are shown in Table 1 below.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】以上の結果から明らかなように、本発明の
触媒付与方法によれば、優れた触媒活性を付与できるこ
とが判る。
As is clear from the above results, it is understood that the catalyst application method of the present invention can provide excellent catalytic activity.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】パラジウム化合物、第一スズ化合物及び酸
を含む水を媒体とする溶液からなる触媒付与液に被めっ
き物を接触させた後、酸化剤を含有するpH3〜11の
水溶液に接触させることを特徴とする無電解めっき用触
媒付与方法。
An object to be plated is brought into contact with a catalyst-imparting solution comprising a solution containing water as a medium containing a palladium compound, a stannous compound and an acid, and then brought into contact with an aqueous solution containing an oxidizing agent and having a pH of 3 to 11. A method for applying a catalyst for electroless plating, comprising:
【請求項2】パラジウム化合物、第一スズ化合物及び酸
を含む水を媒体とする溶液からなる触媒付与液に被めっ
き物を接触させた後、pH2以下の酸性水溶液又はpH
13以上のアルカリ性水溶液に接触させ、次いで、酸化
剤を含有するpH3〜11の水溶液に接触させることを
特徴とする無電解めっき用触媒付与方法。
2. An object to be plated is brought into contact with a plating solution comprising a solution containing water containing a palladium compound, a stannous compound and an acid as a medium, and then an acidic aqueous solution having a pH of 2 or less or a pH of 2 or less.
A method for applying a catalyst for electroless plating, comprising contacting with an aqueous alkaline solution of at least 13 and then contacting with an aqueous solution containing an oxidizing agent and having a pH of 3 to 11.
【請求項3】酸化剤が、過酸化水素、過炭酸ナトリウ
ム、過硼酸ナトリウム、過硫酸ナトリウム及び過硫酸ア
ンモニウムから選ばれた少なくとも1種である請求項1
又2に記載の無電解めっき用触媒付与方法。
3. The method according to claim 1, wherein the oxidizing agent is at least one selected from hydrogen peroxide, sodium percarbonate, sodium perborate, sodium persulfate and ammonium persulfate.
3. The method for applying a catalyst for electroless plating according to item 2.
【請求項4】請求項1〜3のいずれかに記載の方法で被
めっき物に無電解めっき用触媒を付与した後、無電解め
っき液に接触させることを特徴とする無電解めっき方
法。
4. An electroless plating method, comprising: applying an electroless plating catalyst to an object to be plated by the method according to claim 1;
【請求項5】酸化剤を含有するpH3〜11の水溶液か
らなる、請求項1〜3のいずれかに記載の無電解めっき
用触媒付与方法で用いる促進化溶液。
5. The accelerating solution used in the method for applying a catalyst for electroless plating according to claim 1, comprising an aqueous solution containing an oxidizing agent and having a pH of 3 to 11.
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