JP2001322220A - 二軸延伸共押出しシール性ポリエステルフィルム - Google Patents
二軸延伸共押出しシール性ポリエステルフィルムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 シール性、加工性、光学的特性に優れた透明
二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 【解決手段】 ベース層とシール性外層と他の外層との
少なくとも3層から成る二軸延伸共押出しシール性ポリ
エステルフィルムであって、シール性外層のシール最低
シール温度は110℃以下で且つシールシーム強度は
1.3N/15mm以上であり;シール性外層の表面に
おける表面粗度Raは40nm以下で且つガス流量が3
00〜4000秒であり;他の外層の摩擦係数(CO
F)は0.5以下、表面粗度Raは40〜150nmで
且つガス流量が140秒以下であり;および、他の外層
の表面の1mm2当りの突起数Nc及び突起高さhが特
定の関係を有することを特徴とするフィルム。
二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 【解決手段】 ベース層とシール性外層と他の外層との
少なくとも3層から成る二軸延伸共押出しシール性ポリ
エステルフィルムであって、シール性外層のシール最低
シール温度は110℃以下で且つシールシーム強度は
1.3N/15mm以上であり;シール性外層の表面に
おける表面粗度Raは40nm以下で且つガス流量が3
00〜4000秒であり;他の外層の摩擦係数(CO
F)は0.5以下、表面粗度Raは40〜150nmで
且つガス流量が140秒以下であり;および、他の外層
の表面の1mm2当りの突起数Nc及び突起高さhが特
定の関係を有することを特徴とするフィルム。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は二軸延伸共押出しシ
ール性ポリエステルフィルムに関する。詳しくは、本発
明は、シール性を有し、滑り性良好な、ベース層と2つ
の外層から成る透明ポリエステルフィルムに関する。本
発明はさらに、上記フィルムの製造方法ならびに使用に
も関する。
ール性ポリエステルフィルムに関する。詳しくは、本発
明は、シール性を有し、滑り性良好な、ベース層と2つ
の外層から成る透明ポリエステルフィルムに関する。本
発明はさらに、上記フィルムの製造方法ならびに使用に
も関する。
【0002】
【従来の技術】シール性を有する二軸延伸フィルムは公
知である。さらに、紫外線安定剤を含有するシール性二
軸延伸フィルムも公知である。これらのフィルムは良好
なシール性、良好な光学的性質および良好な加工特性を
有する。
知である。さらに、紫外線安定剤を含有するシール性二
軸延伸フィルムも公知である。これらのフィルムは良好
なシール性、良好な光学的性質および良好な加工特性を
有する。
【0003】英国特許第1465973号公開公報に
は、イソフタル酸とテレフフタル酸から成る共重合ポリ
エステル層と、ポリエチレンテレフタレートから成る層
の2層から成る共押出しポリエステルフィルムを開示し
ている。しかしながら、この公開公報には、フィルムの
シール性に関する記載が無い。さらに、粒子を添加する
ことに関する記載も無く、フィルム製造プロセスは安定
性を欠き(巻取りができない)、更なるフィルムの加工
性も制限される。
は、イソフタル酸とテレフフタル酸から成る共重合ポリ
エステル層と、ポリエチレンテレフタレートから成る層
の2層から成る共押出しポリエステルフィルムを開示し
ている。しかしながら、この公開公報には、フィルムの
シール性に関する記載が無い。さらに、粒子を添加する
ことに関する記載も無く、フィルム製造プロセスは安定
性を欠き(巻取りができない)、更なるフィルムの加工
性も制限される。
【0004】欧州特許第0035835号公開公報に
は、シール層を有し、当該シール層には巻取り性、加工
特性を改善するためにシール層の厚さを超える平均粒径
を有する粒子が添加されてなる、共押出しシール性ポリ
エステルフィルムが開示されている。添加粒子は表面に
特記を形成し、フィルムがロールやガイドに対してブロ
ッキングや固着するのを防ぐ。しかしながら、この公開
公報には、シール層以外の層について、耐ブロッキング
剤を含有させているかどうか不明である。シール層の厚
さよりも大きい粒径を有する粒子を添加することによ
り、シール性が悪化する。また、シール温度についての
記載が無い。140℃におけるシール強度は63〜12
0N/m(0.97〜1.8N/15mm(フィルム
幅))である。
は、シール層を有し、当該シール層には巻取り性、加工
特性を改善するためにシール層の厚さを超える平均粒径
を有する粒子が添加されてなる、共押出しシール性ポリ
エステルフィルムが開示されている。添加粒子は表面に
特記を形成し、フィルムがロールやガイドに対してブロ
ッキングや固着するのを防ぐ。しかしながら、この公開
公報には、シール層以外の層について、耐ブロッキング
剤を含有させているかどうか不明である。シール層の厚
さよりも大きい粒径を有する粒子を添加することによ
り、シール性が悪化する。また、シール温度についての
記載が無い。140℃におけるシール強度は63〜12
0N/m(0.97〜1.8N/15mm(フィルム
幅))である。
【0005】欧州特許第0432886号公開公報に
は、第1の表面がシール層で、第2の表面がアクリレー
ト層を有する共押出し多層ポリエステルフィルムを開示
している。シール性の外層はイソフタル酸とテレフフタ
ル酸から成る共重合ポリエステル層から成る。シール層
と反対側には塗布層が形成され、加工特性が改良されて
いる。しかしながら、この公開公報にはシール温度に関
する記載が無い。140℃におけるシール強度は、シー
ル層の厚さが11μmの場合761.5N/m(11.
4N/15mm)である。反対側の塗布層はアクリレー
トから成り、シール性は無く、このフィルムの利用は制
限される。
は、第1の表面がシール層で、第2の表面がアクリレー
ト層を有する共押出し多層ポリエステルフィルムを開示
している。シール性の外層はイソフタル酸とテレフフタ
ル酸から成る共重合ポリエステル層から成る。シール層
と反対側には塗布層が形成され、加工特性が改良されて
いる。しかしながら、この公開公報にはシール温度に関
する記載が無い。140℃におけるシール強度は、シー
ル層の厚さが11μmの場合761.5N/m(11.
4N/15mm)である。反対側の塗布層はアクリレー
トから成り、シール性は無く、このフィルムの利用は制
限される。
【0006】欧州特許第0515096号公開公報に
は、シール層に更なる添加物を含有させた、共押出し多
層ポリエステルフィルムが開示されている。添加物は無
機粒子であり、フィルム製造中にフィルムの水性層に分
散させられる。この方法によると、フィルムのシール性
も加工特性も良好である。シール層と反対側の表面の粒
子の含有量は非常に少ない。この公開公報にはシール温
度に関する記載が無い。140℃におけるシール強度
は、200N/m(3N/15mm)より大きく、シー
ル層の厚さが3μmの場合275N/m(4.125N
/15mm)である。
は、シール層に更なる添加物を含有させた、共押出し多
層ポリエステルフィルムが開示されている。添加物は無
機粒子であり、フィルム製造中にフィルムの水性層に分
散させられる。この方法によると、フィルムのシール性
も加工特性も良好である。シール層と反対側の表面の粒
子の含有量は非常に少ない。この公開公報にはシール温
度に関する記載が無い。140℃におけるシール強度
は、200N/m(3N/15mm)より大きく、シー
ル層の厚さが3μmの場合275N/m(4.125N
/15mm)である。
【0007】国際特許出願WO98/06575号公開
公報には、シール層と非シール層の外層を有する共押出
し多層ポリエステルフィルムを開示している。ベース層
は1層以上から成る。内層はシール層と接しており、他
の層は非シール層を形成している。シール層はイソフタ
ル酸とテレフフタル酸から成る共重合ポリエステル層か
ら成るが、耐ブロッキング剤を含有していない。フィル
ムはさらに、ベース層中に少なくとも1種の紫外線安定
剤を0.1〜10重量%含有する。紫外線安定剤として
はトリアジン類、例えばTinuvin 1577(登
録商標、チバ−ガイギ(Ciba−Geigy)社製
)Basle、スイス)が使用される。ベース層には
公知の耐ブロッキング剤が含有されている。このフィル
ムのシール性は良好であるが、加工特性が良好ではな
く、また、グロスやヘーズ等の光学的特性も良好ではな
い。
公報には、シール層と非シール層の外層を有する共押出
し多層ポリエステルフィルムを開示している。ベース層
は1層以上から成る。内層はシール層と接しており、他
の層は非シール層を形成している。シール層はイソフタ
ル酸とテレフフタル酸から成る共重合ポリエステル層か
ら成るが、耐ブロッキング剤を含有していない。フィル
ムはさらに、ベース層中に少なくとも1種の紫外線安定
剤を0.1〜10重量%含有する。紫外線安定剤として
はトリアジン類、例えばTinuvin 1577(登
録商標、チバ−ガイギ(Ciba−Geigy)社製
)Basle、スイス)が使用される。ベース層には
公知の耐ブロッキング剤が含有されている。このフィル
ムのシール性は良好であるが、加工特性が良好ではな
く、また、グロスやヘーズ等の光学的特性も良好ではな
い。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、、シール性にすぐれ、上記のフィルムにおける問題
点、すなわち、シール性、加工性、光学的特性における
問題点を解決した透明二軸延伸ポリエステルフィルムを
提供することである。
は、、シール性にすぐれ、上記のフィルムにおける問題
点、すなわち、シール性、加工性、光学的特性における
問題点を解決した透明二軸延伸ポリエステルフィルムを
提供することである。
【0009】本発明の他の目的は、公知のシール性フィ
ルムと比較して、より低いシール温度およびより強いシ
ール強度を有し、取扱い性が容易で、フィルムの加工性
に優れ、高速フィルム製造機おいても製造可能であり、
60重量%まで再生品を混入させてもフィルムの性能に
影響を及ぼさないシール性ポリエステルフィルムを提供
することである。
ルムと比較して、より低いシール温度およびより強いシ
ール強度を有し、取扱い性が容易で、フィルムの加工性
に優れ、高速フィルム製造機おいても製造可能であり、
60重量%まで再生品を混入させてもフィルムの性能に
影響を及ぼさないシール性ポリエステルフィルムを提供
することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の事情を鑑み、本発
明者は鋭意検討した結果、2つの外層がそれぞれ特定の
表面粗度およびガス流量特性を有することにより上記課
題を解決できることを見いだし、本発明を完成するに至
った。
明者は鋭意検討した結果、2つの外層がそれぞれ特定の
表面粗度およびガス流量特性を有することにより上記課
題を解決できることを見いだし、本発明を完成するに至
った。
【0011】本発明の第1の要旨は、ベース層(B)
と、シール性外層(A)と、他の外層(C)との少なく
とも3層から成る二軸延伸共押出しシール性ポリエステ
ルフィルムであって、シール性外層(A)のシール最低
シール温度は110℃以下で且つシールシーム強度は
1.3N/15mm以上であり;シール性外層(A)の
表面における表面粗度Raは40nm以下で且つガス流
量が300〜4000秒であり;他の外層(C)の摩擦
係数(COF)は0.5以下、表面粗度Raは40〜1
50nmで且つガス流量が140秒以下であり;およ
び、外層(C)の表面の1mm2当りの突起数Nc及び
突起高さhが以下の式を満足することを特徴とするポリ
エステルフィルムに存する。
と、シール性外層(A)と、他の外層(C)との少なく
とも3層から成る二軸延伸共押出しシール性ポリエステ
ルフィルムであって、シール性外層(A)のシール最低
シール温度は110℃以下で且つシールシーム強度は
1.3N/15mm以上であり;シール性外層(A)の
表面における表面粗度Raは40nm以下で且つガス流
量が300〜4000秒であり;他の外層(C)の摩擦
係数(COF)は0.5以下、表面粗度Raは40〜1
50nmで且つガス流量が140秒以下であり;およ
び、外層(C)の表面の1mm2当りの突起数Nc及び
突起高さhが以下の式を満足することを特徴とするポリ
エステルフィルムに存する。
【0012】
【数2】 0.29-3.30×log(h/μm) < log(N/mm2) < 1.84-2.70×log(h/μm)(1) 0.01μm < h < 10μm (2)
【0013】本発明の第2の要旨は、ベース層(B)、
シール性外層(A)、他の外層(C)の原料ポリマーを
それぞれの押出し機に供給する工程と;押出しに先立っ
て不純物をフィルターで取り除く工程と;共押出しダイ
を介して共押出しし、ポリエステルシートを形成する工
程と;得られたポリエステルシートを冷却ロール上で冷
却固化する工程と;得られたポリエステルシートを二軸
延伸してポリエステルフィルムを得る工程と;ポリエス
テルフィルムを熱固定する工程および必要であれば化学
処理、コロナ処理または火炎処理をフィルムの少なくと
も片面に行う工程とから成ることを特徴とする第1の要
旨に記載のポリエステルフィルムの製造方法に存する。
シール性外層(A)、他の外層(C)の原料ポリマーを
それぞれの押出し機に供給する工程と;押出しに先立っ
て不純物をフィルターで取り除く工程と;共押出しダイ
を介して共押出しし、ポリエステルシートを形成する工
程と;得られたポリエステルシートを冷却ロール上で冷
却固化する工程と;得られたポリエステルシートを二軸
延伸してポリエステルフィルムを得る工程と;ポリエス
テルフィルムを熱固定する工程および必要であれば化学
処理、コロナ処理または火炎処理をフィルムの少なくと
も片面に行う工程とから成ることを特徴とする第1の要
旨に記載のポリエステルフィルムの製造方法に存する。
【0014】本発明の第3の要旨は、第1の要旨に記載
のポリエステルフィルムを使用して、高速包装機械で包
装する方法に存する。
のポリエステルフィルムを使用して、高速包装機械で包
装する方法に存する。
【0015】
【発明の実施の態様】以下、本発明を詳しく説明する。
本発明のフィルムはベース層(B)、シール性能を有す
る外層(A)、シール性能を有しない外層(C)の少な
くとも3層から成る積層フィルムである。フィルムの構
成は、ベース層(B)の片側にシール性外層(A)が、
その反対側に非シール性外層(C)が積層しているAB
C型フィルムである。さらに、ベース層と外層の間に中
間層を設けてもよい。
本発明のフィルムはベース層(B)、シール性能を有す
る外層(A)、シール性能を有しない外層(C)の少な
くとも3層から成る積層フィルムである。フィルムの構
成は、ベース層(B)の片側にシール性外層(A)が、
その反対側に非シール性外層(C)が積層しているAB
C型フィルムである。さらに、ベース層と外層の間に中
間層を設けてもよい。
【0016】ベース層は、好ましくは90%重量以上の
熱可塑性ポリエステルから成る。熱可塑性ポリエステル
としては、具体的には、エチレングリコールとテレフタ
ル酸から製造されるポリエチレンテレフタレート(PE
T)、エチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカ
ルボン酸から製造されるポリエチレン−2,6−ナフタ
レート(PEN)、1,4−ビスヒドロキシメチルシク
ロヘキサンとテレフタル酸から製造されるポリ(1,4
−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)(PCD
T)、エチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカ
ルボン酸とビフェニル−4,4’−ジカルボン酸から製
造されるポリ(エチレン2,6−ナフタレートビベンゾ
エート)(PENBB)が好ましい。特にエチレングリ
コールとテレフタル酸から成る単位またはエチレングリ
コールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸から成る単
位が90%以上、好ましくは95%以上のポリエステル
が好ましい。
熱可塑性ポリエステルから成る。熱可塑性ポリエステル
としては、具体的には、エチレングリコールとテレフタ
ル酸から製造されるポリエチレンテレフタレート(PE
T)、エチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカ
ルボン酸から製造されるポリエチレン−2,6−ナフタ
レート(PEN)、1,4−ビスヒドロキシメチルシク
ロヘキサンとテレフタル酸から製造されるポリ(1,4
−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)(PCD
T)、エチレングリコールとナフタレン−2,6−ジカ
ルボン酸とビフェニル−4,4’−ジカルボン酸から製
造されるポリ(エチレン2,6−ナフタレートビベンゾ
エート)(PENBB)が好ましい。特にエチレングリ
コールとテレフタル酸から成る単位またはエチレングリ
コールとナフタレン−2,6−ジカルボン酸から成る単
位が90%以上、好ましくは95%以上のポリエステル
が好ましい。
【0017】上記のモノマー以外の残余のモノマー単位
は、他のジオールおよび/またはジカルボン酸から誘導
されたモノマーである。
は、他のジオールおよび/またはジカルボン酸から誘導
されたモノマーである。
【0018】共重合ジオールとしては、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、HO−(CH2)n−
OHの式で示される脂肪族グリコール(nは3〜6の整
数を表す、具体的には、1,3−プロパンジオール、
1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
1,6−ヘキサンジオールが挙げられる)、炭素数6ま
での分岐型脂肪族グリコール、HO−C6H4−X−C6
H4−OHで示される芳香族ジオール(式中Xは−CH2
−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−O−、−
S−、−SO2−を表す)、式:HO−C6H4−C6H4
−OHで表されるビスフェノールが好ましい。
コール、トリエチレングリコール、HO−(CH2)n−
OHの式で示される脂肪族グリコール(nは3〜6の整
数を表す、具体的には、1,3−プロパンジオール、
1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
1,6−ヘキサンジオールが挙げられる)、炭素数6ま
での分岐型脂肪族グリコール、HO−C6H4−X−C6
H4−OHで示される芳香族ジオール(式中Xは−CH2
−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−O−、−
S−、−SO2−を表す)、式:HO−C6H4−C6H4
−OHで表されるビスフェノールが好ましい。
【0019】共重合ジカルボン酸としては、芳香族ジカ
ルボン酸、脂環式ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸が
好ましい。
ルボン酸、脂環式ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸が
好ましい。
【0020】脂肪族ジカルボン酸の好ましい例として
は、ベンゼンジカルボン酸、ナフタレン−1,4−又は
−1,6−ジカルボン酸などのナフタレンジカルボン
酸、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸などのビフェ
ニル−x,x’−ジカルボン酸、ジフェニルアセチレン
−4,4’−ジカルボン酸などのジフェニルアセチレン
−x,x−ジカルボン酸、スチルベン−x,x−ジカル
ボン酸などが挙げられる。
は、ベンゼンジカルボン酸、ナフタレン−1,4−又は
−1,6−ジカルボン酸などのナフタレンジカルボン
酸、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸などのビフェ
ニル−x,x’−ジカルボン酸、ジフェニルアセチレン
−4,4’−ジカルボン酸などのジフェニルアセチレン
−x,x−ジカルボン酸、スチルベン−x,x−ジカル
ボン酸などが挙げられる。
【0021】脂環式ジカルボン酸の好ましい例として
は、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸などのシク
ロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸の好ましい例としては、C3−C19のアルカンジカ
ルボン酸が挙げられ、当該アルカンは直鎖状であっても
分岐状であってもよい。
は、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸などのシク
ロヘキサンジカルボン酸が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸の好ましい例としては、C3−C19のアルカンジカ
ルボン酸が挙げられ、当該アルカンは直鎖状であっても
分岐状であってもよい。
【0022】上記のベース層および外層に使用するポリ
エステルは、エステル交換反応により製造される。その
出発原料は、ジカルボン酸エステルとジオール及び亜鉛
塩、カルシウム塩、リチウム塩、マグネシウム、マンガ
ン塩などの公知のエステル交換反応用触媒である。生成
した中間体は、更に、三酸化アンチモンやチタニウム塩
などの重縮合触媒の存在下で重縮合に供される。また、
ポリエステルの製造は、出発原料のジカルボン酸とジオ
ールに重縮合触媒を存在させて直接または連続的にエス
テル化反応を行う方法であってもよい。
エステルは、エステル交換反応により製造される。その
出発原料は、ジカルボン酸エステルとジオール及び亜鉛
塩、カルシウム塩、リチウム塩、マグネシウム、マンガ
ン塩などの公知のエステル交換反応用触媒である。生成
した中間体は、更に、三酸化アンチモンやチタニウム塩
などの重縮合触媒の存在下で重縮合に供される。また、
ポリエステルの製造は、出発原料のジカルボン酸とジオ
ールに重縮合触媒を存在させて直接または連続的にエス
テル化反応を行う方法であってもよい。
【0023】シール性外層(A)は共押出し法によりベ
ース層(B)上に積層される。外層(A)は、イソフタ
ル酸単位テレフタル酸単位およびエチレングリコール単
位から成る共重合ポリエステルから成る。共重合ポリエ
ステルとしては、エチレンテレフタレート単位が40〜
95モル%、より好ましくは50〜90モル%、特に好
ましくは60〜85モル%で、エチレンイソフタレート
単位が60〜5モル%、より好ましくは50〜10モル
%、特に好ましくは40〜15モル%から成るが好まし
い。
ース層(B)上に積層される。外層(A)は、イソフタ
ル酸単位テレフタル酸単位およびエチレングリコール単
位から成る共重合ポリエステルから成る。共重合ポリエ
ステルとしては、エチレンテレフタレート単位が40〜
95モル%、より好ましくは50〜90モル%、特に好
ましくは60〜85モル%で、エチレンイソフタレート
単位が60〜5モル%、より好ましくは50〜10モル
%、特に好ましくは40〜15モル%から成るが好まし
い。
【0024】シール性を有しない外層(C)及び中間層
は、基本的にベース層(B)において記載したポリマー
から構成される。
は、基本的にベース層(B)において記載したポリマー
から構成される。
【0025】本発明のフィルムのシール性と加工性はシ
ール性外層(A)と非シール性外層(C)の表面形状に
より達成される。本発明の最低シール温度は好ましくは
110℃未満であり、シールシーム強度は好ましくは
1.3N/15mmであり、上記の共重合ポリエステル
を使用することにより達成できる。通常、シール層に無
機また有機粒子を含有しない方が、最低シール温度を最
小にし、シールシーム強度を最大にすることができる。
しかしながら、粒子を添加しないと、シール層がブロッ
キングを起し、操作取扱い性が悪化し、フィルムの高速
巻取りが行えず、応用範囲が極めて制限される。フィル
ムの取扱い性および加工性を改良するために、シール性
外層(A)に粒径を限定した耐ブロッキング剤を特定量
含有させる。これにより、ブロッキングの発生を最小に
しながら、シール性が悪化するのを防ぐ。
ール性外層(A)と非シール性外層(C)の表面形状に
より達成される。本発明の最低シール温度は好ましくは
110℃未満であり、シールシーム強度は好ましくは
1.3N/15mmであり、上記の共重合ポリエステル
を使用することにより達成できる。通常、シール層に無
機また有機粒子を含有しない方が、最低シール温度を最
小にし、シールシーム強度を最大にすることができる。
しかしながら、粒子を添加しないと、シール層がブロッ
キングを起し、操作取扱い性が悪化し、フィルムの高速
巻取りが行えず、応用範囲が極めて制限される。フィル
ムの取扱い性および加工性を改良するために、シール性
外層(A)に粒径を限定した耐ブロッキング剤を特定量
含有させる。これにより、ブロッキングの発生を最小に
しながら、シール性が悪化するのを防ぐ。
【0026】上記の目的を達成するために、外層(A)
が以下の表面形状を有することが好ましい。(1)外層
(A)のRa値が40nm未満である(シール性に悪影
響を及ぼさない)。(2)ガス流量測定値が300〜4
000/秒である。ガス流量値が300/秒未満である
とシール性に影響が出、4000/秒を越えると操作お
よび加工性が悪化する。
が以下の表面形状を有することが好ましい。(1)外層
(A)のRa値が40nm未満である(シール性に悪影
響を及ぼさない)。(2)ガス流量測定値が300〜4
000/秒である。ガス流量値が300/秒未満である
とシール性に影響が出、4000/秒を越えると操作お
よび加工性が悪化する。
【0027】さらに、非シール性外層(C)が以下の表
面形状を有することが好ましい。(1)摩擦係数(CO
F)が0.5以下である(0.5を越える場合、巻取性
や後加工性が悪化する。);(2)外層(C)のRa値
が40〜150nmである(Ra値が40nm未満の場
合、巻取り性や加工性が悪化し、100nmを越えると
フィルムの光学的性質(グロスやヘーズ)が悪化す
る。);(3)ガス流量測定値が140/秒以下であ
る。ガス流量値が140/秒を越えると操作および加工
性が悪化する。(4)1mm2当りのフィルム表面の突
起数Nと突起の高さhは以下の式で示される関係を有す
る。
面形状を有することが好ましい。(1)摩擦係数(CO
F)が0.5以下である(0.5を越える場合、巻取性
や後加工性が悪化する。);(2)外層(C)のRa値
が40〜150nmである(Ra値が40nm未満の場
合、巻取り性や加工性が悪化し、100nmを越えると
フィルムの光学的性質(グロスやヘーズ)が悪化す
る。);(3)ガス流量測定値が140/秒以下であ
る。ガス流量値が140/秒を越えると操作および加工
性が悪化する。(4)1mm2当りのフィルム表面の突
起数Nと突起の高さhは以下の式で示される関係を有す
る。
【0028】
【数3】 0.29-3.30×log(h/μm) < log(N/mm2) < 1.84-2.70×log(h/μm)(1) 0.01μm < h < 10μm (2)
【0029】式(1)のNが左辺以下の場合、巻取り性
や加工性が悪化し、右辺以上の場合、グロスやヘーズが
悪化する。
や加工性が悪化し、右辺以上の場合、グロスやヘーズが
悪化する。
【0030】本発明のフィルムのベース層(B)及び2
つの外層(A)及び(C)には、安定剤および/または
耐ブロッキング剤等の公知の添加剤を添加してもよい。
例えば、ポリマー又はポリマーの混合物に、溶融に先立
ってリン酸やリン酸エステル等のリン化合物の安定剤を
添加してもよい。
つの外層(A)及び(C)には、安定剤および/または
耐ブロッキング剤等の公知の添加剤を添加してもよい。
例えば、ポリマー又はポリマーの混合物に、溶融に先立
ってリン酸やリン酸エステル等のリン化合物の安定剤を
添加してもよい。
【0031】耐ブロッキング剤(顔料粒子も含まれる)
としては、無機および/または有機粒子が好ましく、具
体的には、炭酸カルシウム、非晶シリカ、タルク、炭酸
マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バ
リウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マ
グネシウム、アルミナ、LiF、ジカルボン酸のカルシ
ウム、バリウム、亜鉛またはマンガン塩、カーボンブラ
ック、二酸化チタン、カオリン、架橋ポリスチレン粒
子、架橋アクリレート粒子などが例示される。
としては、無機および/または有機粒子が好ましく、具
体的には、炭酸カルシウム、非晶シリカ、タルク、炭酸
マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バ
リウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マ
グネシウム、アルミナ、LiF、ジカルボン酸のカルシ
ウム、バリウム、亜鉛またはマンガン塩、カーボンブラ
ック、二酸化チタン、カオリン、架橋ポリスチレン粒
子、架橋アクリレート粒子などが例示される。
【0032】添加剤として、2種以上の異なる耐ブロッ
キング剤を添加してもよく、また、同じ種類で且つ粒径
が異なる粒子の混合物を添加してもよい。重縮合中のグ
リコール分散系または押出し中マスターバッチを介して
個々の層に添加する粒子を通常量添加する。
キング剤を添加してもよく、また、同じ種類で且つ粒径
が異なる粒子の混合物を添加してもよい。重縮合中のグ
リコール分散系または押出し中マスターバッチを介して
個々の層に添加する粒子を通常量添加する。
【0033】好ましい不活性粒子としては、コロイド状
および鎖状のSiO2が挙げられる。これらの粒子はポ
リマーマトリックス中に効率よく混合され、空胞をほと
んど作らない。空胞はヘーズを生じさせるため、空胞を
ほとんど作らないことは低いヘーズを得るためには好都
合である。不活性粒子の粒径は、基本的には制限はな
い。しかしながら、1次粒径が通常100nm未満、好
ましくは60nm未満、更に好ましくは50nm未満の
粒子、及び/又は、粒径が通常1μmより大きい、好ま
しくは1.5μmより大きい、更に好ましくは2μmよ
り大きい粒子を使用することが好ましい。しかしながら
5μmを越えないようにする。
および鎖状のSiO2が挙げられる。これらの粒子はポ
リマーマトリックス中に効率よく混合され、空胞をほと
んど作らない。空胞はヘーズを生じさせるため、空胞を
ほとんど作らないことは低いヘーズを得るためには好都
合である。不活性粒子の粒径は、基本的には制限はな
い。しかしながら、1次粒径が通常100nm未満、好
ましくは60nm未満、更に好ましくは50nm未満の
粒子、及び/又は、粒径が通常1μmより大きい、好ま
しくは1.5μmより大きい、更に好ましくは2μmよ
り大きい粒子を使用することが好ましい。しかしながら
5μmを越えないようにする。
【0034】本発明のフィルムにおいて、粒子濃度を各
層によって変化させることが好ましい。ベース層(B)
の粒子濃度は外層(A)及び外層(C)の粒子濃度より
低くすることが好ましく、通常0〜0.15重量%、好
ましくは0〜0.12重量%、より好ましく0〜0.1
0重量%である。ベース層(B)に含有される粒子の粒
径は特に制限が無いが、1μmを越えることが好まし
い。
層によって変化させることが好ましい。ベース層(B)
の粒子濃度は外層(A)及び外層(C)の粒子濃度より
低くすることが好ましく、通常0〜0.15重量%、好
ましくは0〜0.12重量%、より好ましく0〜0.1
0重量%である。ベース層(B)に含有される粒子の粒
径は特に制限が無いが、1μmを越えることが好まし
い。
【0035】外層(C)の粒子濃度は、外層(A)の粒
子濃度よりも大きいことが好ましく、通常0.1〜1.
0重量%、好ましくは0.12〜0.8重量%、より好
ましくは0.15〜0.6重量%である。一方、シール
性層である外層(A)の粒子(不活性粒子)濃度は、通
常0.01〜0.2重量%、好ましくは0.015〜
0.15重量%、より好ましくは0.02〜0.1重量
%である。
子濃度よりも大きいことが好ましく、通常0.1〜1.
0重量%、好ましくは0.12〜0.8重量%、より好
ましくは0.15〜0.6重量%である。一方、シール
性層である外層(A)の粒子(不活性粒子)濃度は、通
常0.01〜0.2重量%、好ましくは0.015〜
0.15重量%、より好ましくは0.02〜0.1重量
%である。
【0036】ベース層(B)と外層との間には、必要で
あれば中間層を好ましくは1層設ける。中間層はベース
層の説明において記載したポリマーから成り、ベース層
と同じポリマーからなることが好ましい。中間層も、上
記の添加剤を含有してもよい。中間層の厚さは、通常
0.3μを越え、好ましくは0.5〜15μm、より好
ましくは1.0〜10μm、特に好ましくは1.0〜5
μmである。
あれば中間層を好ましくは1層設ける。中間層はベース
層の説明において記載したポリマーから成り、ベース層
と同じポリマーからなることが好ましい。中間層も、上
記の添加剤を含有してもよい。中間層の厚さは、通常
0.3μを越え、好ましくは0.5〜15μm、より好
ましくは1.0〜10μm、特に好ましくは1.0〜5
μmである。
【0037】外層(A)及びCの厚さは、通常0.1μ
を越え、好ましくは0.2〜4μm、より好ましくは
0.2〜3.5μm、更に好ましくは0.3〜3μm、
特に好ましくは0.3〜2.5μmである。外層(A)
及びCの厚さは同一でも異なっていてもよい。
を越え、好ましくは0.2〜4μm、より好ましくは
0.2〜3.5μm、更に好ましくは0.3〜3μm、
特に好ましくは0.3〜2.5μmである。外層(A)
及びCの厚さは同一でも異なっていてもよい。
【0038】本発明のポリエステルフィルムの厚さは、
広い範囲をとることができ、通常3〜80μm、好まし
くは4〜50μm、より好ましくは5〜30μmであ
る。ベース層(B)の厚さがフィルム全体の厚さの5〜
90%を占めることが好ましい。
広い範囲をとることができ、通常3〜80μm、好まし
くは4〜50μm、より好ましくは5〜30μmであ
る。ベース層(B)の厚さがフィルム全体の厚さの5〜
90%を占めることが好ましい。
【0039】本発明のフィルムは公知の共押出し法によ
り製造できる。すなわち、ベース層(B)及び2つの外
層(A)及びCを独立の押出し機から形成することが好
ましい。押出しを行う前に、溶融ポリマーから不純物な
どを濾過する。溶融物を共押出しダイを介して押出し、
平坦なフィルムを得た後、ベース層に外層が積層され
る。共押出しフィルムは、冷却ロールや必要であれば他
のロールを使用して引き出され、固化させられる。
り製造できる。すなわち、ベース層(B)及び2つの外
層(A)及びCを独立の押出し機から形成することが好
ましい。押出しを行う前に、溶融ポリマーから不純物な
どを濾過する。溶融物を共押出しダイを介して押出し、
平坦なフィルムを得た後、ベース層に外層が積層され
る。共押出しフィルムは、冷却ロールや必要であれば他
のロールを使用して引き出され、固化させられる。
【0040】具体的には、フィルムの各層(A)、
(B)、(C)に対応した溶融物をフラット−フィルム
−ダイより共押出しし、溶融フィルムを引出した後1つ
以上のロールによって冷却固化させ、二軸延伸した後、
熱固定を行う。必要であれば、さらにフィルム表面にコ
ロナまたは火炎処理を施してもよい。
(B)、(C)に対応した溶融物をフラット−フィルム
−ダイより共押出しし、溶融フィルムを引出した後1つ
以上のロールによって冷却固化させ、二軸延伸した後、
熱固定を行う。必要であれば、さらにフィルム表面にコ
ロナまたは火炎処理を施してもよい。
【0041】通常、二軸延伸は連続的に行われる。この
ため、初めに長手方向(機械方向)に延伸し、次いで横
方向に延伸するのが好ましい(何れも加熱下で行われ
る)。これにより分子鎖が配向する。通常、長手方向の
延伸は、延伸比に対応する異なる回転速度を有するロー
ルを使用して行われ、横手方向の延伸はフィルムの端部
を保持してテンターフレームを使用して行われる。
ため、初めに長手方向(機械方向)に延伸し、次いで横
方向に延伸するのが好ましい(何れも加熱下で行われ
る)。これにより分子鎖が配向する。通常、長手方向の
延伸は、延伸比に対応する異なる回転速度を有するロー
ルを使用して行われ、横手方向の延伸はフィルムの端部
を保持してテンターフレームを使用して行われる。
【0042】延伸時の温度は、所望とするフィルムの物
性によって決定され、広い範囲で選択できる。フィルム
のガラス転移温度(Tg)とすると、通常、長手方向の
延伸は80〜130℃の温度で、横方向の延伸は80〜
150℃温度で行われる。長手方向の延伸比は、通常
2.5:1〜6:1、好ましくは3:1〜5.5:1で
ある。横方向の延伸比は、通常3.0:1〜5.0:
1、好ましくは3.5:1〜4.5:1である。
性によって決定され、広い範囲で選択できる。フィルム
のガラス転移温度(Tg)とすると、通常、長手方向の
延伸は80〜130℃の温度で、横方向の延伸は80〜
150℃温度で行われる。長手方向の延伸比は、通常
2.5:1〜6:1、好ましくは3:1〜5.5:1で
ある。横方向の延伸比は、通常3.0:1〜5.0:
1、好ましくは3.5:1〜4.5:1である。
【0043】本発明のフィルムには、さらに他の機能を
付与するために、金属層や印刷層との接着性を改良する
接着促進層や、帯電防止性層や、滑り性や離型性を改良
する層や加工性を改良するための機能層を、横方向延伸
前にインラインコーティングにより形成してもよい。塗
布溶液としては水分散体を使用することが好ましい。
付与するために、金属層や印刷層との接着性を改良する
接着促進層や、帯電防止性層や、滑り性や離型性を改良
する層や加工性を改良するための機能層を、横方向延伸
前にインラインコーティングにより形成してもよい。塗
布溶液としては水分散体を使用することが好ましい。
【0044】本発明のフィルムは、面配向度Δpが0.
168未満、好ましくは0.165未満とすることが好
ましい。これにより、フィルムの厚さ方向の強度が高く
なり、シール強度が高くなり、耐引裂き強度が増大す
る。面配向度Δpは長手方向および横方向の延伸条件な
らびに原料ポリマーのSV値に影響を受ける。フィルム
加工におけるパラメーターとしては、長手方向および横
方向延伸比(λMDおよびλTD)並びに延伸温度(TMDお
よびTTD)、およびフィルムの延伸速度があり、特に長
手方向のパラメーターが重要である。
168未満、好ましくは0.165未満とすることが好
ましい。これにより、フィルムの厚さ方向の強度が高く
なり、シール強度が高くなり、耐引裂き強度が増大す
る。面配向度Δpは長手方向および横方向の延伸条件な
らびに原料ポリマーのSV値に影響を受ける。フィルム
加工におけるパラメーターとしては、長手方向および横
方向延伸比(λMDおよびλTD)並びに延伸温度(TMDお
よびTTD)、およびフィルムの延伸速度があり、特に長
手方向のパラメーターが重要である。
【0045】例えば、延伸速度=340m/分、原材料
のSV値が730、延伸条件がλMD=4.8およびλTD
=4.0、TMD=80〜118℃、TTD=80〜125
℃において、面配向度Δpが0.169である場合、長
手方向延伸温度TMDを80〜125℃に上げるか、横方
向延伸温度TTDを80〜135℃に上げるか、長手方向
延伸比λMDを4.3に減じるか、横方向延伸比λTDを
3.7に減じることにより、このましい範囲内の面配向
度を達成することが出来る。上記の延伸条件はN−TE
P法として知られており、低延伸工程(LOE:Low
Orientation Elongation)と
高延伸工程(REP:Rapid Elongatio
n Process)とが組合わされたものである。他
の延伸法においては、延伸比が同じで、他のパラメータ
ーが若干異なるだけである。なお、長手方向の延伸温度
は延伸ロールの温度とし、横方向の延伸温度は赤外線測
定により測定されたフィルムの温度とする。
のSV値が730、延伸条件がλMD=4.8およびλTD
=4.0、TMD=80〜118℃、TTD=80〜125
℃において、面配向度Δpが0.169である場合、長
手方向延伸温度TMDを80〜125℃に上げるか、横方
向延伸温度TTDを80〜135℃に上げるか、長手方向
延伸比λMDを4.3に減じるか、横方向延伸比λTDを
3.7に減じることにより、このましい範囲内の面配向
度を達成することが出来る。上記の延伸条件はN−TE
P法として知られており、低延伸工程(LOE:Low
Orientation Elongation)と
高延伸工程(REP:Rapid Elongatio
n Process)とが組合わされたものである。他
の延伸法においては、延伸比が同じで、他のパラメータ
ーが若干異なるだけである。なお、長手方向の延伸温度
は延伸ロールの温度とし、横方向の延伸温度は赤外線測
定により測定されたフィルムの温度とする。
【0046】続いてフィルムの熱固定が150〜250
℃の温度において0.1〜10秒間行われる。フィルム
は通常の方法で巻き取られる。
℃の温度において0.1〜10秒間行われる。フィルム
は通常の方法で巻き取られる。
【0047】磁性層を塗布により形成する前に、熱固定
した2軸延伸ポリエステルフィルムの片面または両面に
コロナまたは火炎処理を施してもよい。これらの処理
は、フィルムの表面張力によって異なるが、通常、45
mN/mの強度で行われる。
した2軸延伸ポリエステルフィルムの片面または両面に
コロナまたは火炎処理を施してもよい。これらの処理
は、フィルムの表面張力によって異なるが、通常、45
mN/mの強度で行われる。
【0048】本発明のフィルムは優れたシール性、操作
性および加工性を有する。シール性外層(A)は、外層
(A)に対してシールできるだけでなく(フィン(fi
n)シーリング)、非シール性外層(C)に対してもシ
ールできる(ラップ(lap)シーリング)。ラップシ
ーリングにおける最低シール温度はフィンシーリングの
最低シール温度よりも約10℃高いだけであり、シール
シーム強度は0.3N/15mmである。
性および加工性を有する。シール性外層(A)は、外層
(A)に対してシールできるだけでなく(フィン(fi
n)シーリング)、非シール性外層(C)に対してもシ
ールできる(ラップ(lap)シーリング)。ラップシ
ーリングにおける最低シール温度はフィンシーリングの
最低シール温度よりも約10℃高いだけであり、シール
シーム強度は0.3N/15mmである。
【0049】本発明のフィルムのグロス及びヘーズは、
従来のフィルムに比較して改良されている。また、フィ
ルム製造工程において、フィルムの物性に影響を及ぼす
ことなく20〜60重量%の割合で再生品を押出し機に
供給することができる。
従来のフィルムに比較して改良されている。また、フィ
ルム製造工程において、フィルムの物性に影響を及ぼす
ことなく20〜60重量%の割合で再生品を押出し機に
供給することができる。
【0050】本発明のフィルムは、シール性、取扱い
性、加工性が特に優れているため、可撓性の包装に好適
であり、特に高速包装機械で包装するためのフィルムと
して好適である。
性、加工性が特に優れているため、可撓性の包装に好適
であり、特に高速包装機械で包装するためのフィルムと
して好適である。
【0051】本発明のフィルムの性質を以下の表1に纏
めて示す。
めて示す。
【0052】
【表1】
【0053】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳述するが、以
下の実施例は本発明の単なる例示であって、本発明は以
下の実施例に限定されない。なお、フィルムの物性値の
測定方法は以下のとおりである。
下の実施例は本発明の単なる例示であって、本発明は以
下の実施例に限定されない。なお、フィルムの物性値の
測定方法は以下のとおりである。
【0054】標準粘度および固有粘度:ポリエステルの
標準粘度SV(DCA)はジクロロ酢酸中でDIN 5
3726に従って測定した。ポリエステルの固有粘度I
Vは、標準粘度SV値を使用して以下の式より算出し
た。
標準粘度SV(DCA)はジクロロ酢酸中でDIN 5
3726に従って測定した。ポリエステルの固有粘度I
Vは、標準粘度SV値を使用して以下の式より算出し
た。
【0055】
【数4】IV(DCA)=6.907×10-4SV(D
CA)+0.063096
CA)+0.063096
【0056】最低シール温度の決定:Brugger
HSG/ETシール装置を使用して熱シールした試料
(シール合わせ目=20mm×100mm)を作成し
た。シールは、異なる温度で、2つの加熱したシール挟
みを使用し、10N/cm2のシール圧で、シール時間
0.5秒で行った。シールした試料から幅15mmの試
験切片を切り取り、T−シール力を測定し、シール力と
した。シール力が0.5N/15mmに達した際の温度
を最低シール温度とした。
HSG/ETシール装置を使用して熱シールした試料
(シール合わせ目=20mm×100mm)を作成し
た。シールは、異なる温度で、2つの加熱したシール挟
みを使用し、10N/cm2のシール圧で、シール時間
0.5秒で行った。シールした試料から幅15mmの試
験切片を切り取り、T−シール力を測定し、シール力と
した。シール力が0.5N/15mmに達した際の温度
を最低シール温度とした。
【0057】シールシーム強度:15mm幅の2つのフ
ィルムを重ね合わせてシール温度130℃、シール時間
0.5秒、シール圧1.5N/mm2でシールした(使
用装置:ブラガーNDS、シールジョーは片側加熱で行
った)。シールシーム強度は、T−剥離法によって求め
た。
ィルムを重ね合わせてシール温度130℃、シール時間
0.5秒、シール圧1.5N/mm2でシールした(使
用装置:ブラガーNDS、シールジョーは片側加熱で行
った)。シールシーム強度は、T−剥離法によって求め
た。
【0058】摩擦係数:摩擦係数は、製造後14日後
に、DIN53 375に準じて測定した。
に、DIN53 375に準じて測定した。
【0059】表面張力:表面張力は、“インク法”によ
りDIN53 364に準じて測定した。
りDIN53 364に準じて測定した。
【0060】ヘーズ:フィルムのヘーズは、ASTM−
D 1003−52に準じて測定した。ヘルツヘーズ
は、ASTM−D 1003−52を基にして決定し
た。しかしながら、もっとも効果的な測定範囲を使用す
るために、4枚のフィルムを重ね、1°の隔壁スリット
を4°のピンホールの代りに使用して測定を行った。
D 1003−52に準じて測定した。ヘルツヘーズ
は、ASTM−D 1003−52を基にして決定し
た。しかしながら、もっとも効果的な測定範囲を使用す
るために、4枚のフィルムを重ね、1°の隔壁スリット
を4°のピンホールの代りに使用して測定を行った。
【0061】表面グロス値:グロス値はDIN 675
30に準じて測定した。反射率を、フィルム表面の光学
的特性として測定した。ASTM−D 523−78及
びISO 2813を基準とし、入射角を20°とし
た。所定の入射角で試料の平坦な表面に光線を照射する
と、反射および/または散乱が起こる。光電検知器に当
った光が電気的な比率変数として表示される。得られた
無次元値は入射角と共に表示される。
30に準じて測定した。反射率を、フィルム表面の光学
的特性として測定した。ASTM−D 523−78及
びISO 2813を基準とし、入射角を20°とし
た。所定の入射角で試料の平坦な表面に光線を照射する
と、反射および/または散乱が起こる。光電検知器に当
った光が電気的な比率変数として表示される。得られた
無次元値は入射角と共に表示される。
【0062】(3)フィルム表面の突起の大きさ及び分
布:フィルム表面の突起の大きさ及び分布は走査型電子
顕微鏡(SEM)及びその画像解析によって決定した。
SEMとしては、積分式画像解析プログラム(Soft
−Imaging System)が付随したフィリッ
プス社製走査型電子顕微鏡XL30CPを使用した。
布:フィルム表面の突起の大きさ及び分布は走査型電子
顕微鏡(SEM)及びその画像解析によって決定した。
SEMとしては、積分式画像解析プログラム(Soft
−Imaging System)が付随したフィリッ
プス社製走査型電子顕微鏡XL30CPを使用した。
【0063】まず、試料ホルダーに試料フィルムを設置
する。水平面から角度αの方向から金属蒸着(例えば
銀)を行い金属層を蒸着する。金属蒸着の方向から見て
突起の背後に影が生じる。影の部分には金属層が無いの
で導電性が無い。次に第2のスパッタリング(例えば
金)を試料に対して垂直方向から行う。第2のスパッタ
リングに於ては影が生じない。
する。水平面から角度αの方向から金属蒸着(例えば
銀)を行い金属層を蒸着する。金属蒸着の方向から見て
突起の背後に影が生じる。影の部分には金属層が無いの
で導電性が無い。次に第2のスパッタリング(例えば
金)を試料に対して垂直方向から行う。第2のスパッタ
リングに於ては影が生じない。
【0064】SEM画像は以下の様にして得る。金属蒸
着を2段階で行っているため、突起の影を肉眼で認める
ことが出来る。影が像の一つの端に対して平行になるよ
うににSEM中の試料を配置する。SEMの測定条件
は、第2電子検知器を使用し、操作距離は10mm、加
速電圧は10kV、スポットは4.5の条件で行った。
輝度およびコントラストは以下の様に設定した。バック
グランドノイズを影として検知しないようにすべての情
報をグレー値として表した。影の長さを画像によって測
定した。影として認識されるしきい値は、原点を通る画
像のグレー値分布に由来する点である。影として認識す
る前に、画像をN×Nフィルターを透過させる(サイズ
3、1繰り返し)。画像中に完全に再現されていない突
起を含まない様にするために枠(フレーム)を設ける。
フィルムの表面の0.36mm2の面積の範囲内につい
て評価する様にフレームを設け、この範囲内で突起の数
等について評価した。
着を2段階で行っているため、突起の影を肉眼で認める
ことが出来る。影が像の一つの端に対して平行になるよ
うににSEM中の試料を配置する。SEMの測定条件
は、第2電子検知器を使用し、操作距離は10mm、加
速電圧は10kV、スポットは4.5の条件で行った。
輝度およびコントラストは以下の様に設定した。バック
グランドノイズを影として検知しないようにすべての情
報をグレー値として表した。影の長さを画像によって測
定した。影として認識されるしきい値は、原点を通る画
像のグレー値分布に由来する点である。影として認識す
る前に、画像をN×Nフィルターを透過させる(サイズ
3、1繰り返し)。画像中に完全に再現されていない突
起を含まない様にするために枠(フレーム)を設ける。
フィルムの表面の0.36mm2の面積の範囲内につい
て評価する様にフレームを設け、この範囲内で突起の数
等について評価した。
【0065】突起の高さh(μm)は影の長さL(μ
m)と第1のスパッタリングの角度αを使用して以下の
式より算出できる。
m)と第1のスパッタリングの角度αを使用して以下の
式より算出できる。
【0066】
【数5】h=L×tanα
【0067】0〜1μmの範囲で0.05μm刻みで突
起の高さを分類し、突起の高さ分布(頻度分布)を作成
した。但し、1番小さい突起の高さの分類(0〜0.0
5μm)については計算に使用しなかった。
起の高さを分類し、突起の高さ分布(頻度分布)を作成
した。但し、1番小さい突起の高さの分類(0〜0.0
5μm)については計算に使用しなかった。
【0068】表面ガス流量特性:試験法として、フィル
ムの一方の面とシリコンウェハーの平滑シート間に空気
流を供給する方法を使用した。空気を周囲から真空域に
流通させる。この場合、フィルムとシリコンウェハーシ
ートとの境界面が流れ抵抗として作用する。
ムの一方の面とシリコンウェハーの平滑シート間に空気
流を供給する方法を使用した。空気を周囲から真空域に
流通させる。この場合、フィルムとシリコンウェハーシ
ートとの境界面が流れ抵抗として作用する。
【0069】シリコンウェハーシート上にフィルムの円
形試験片を置き、シートの中央にレシーバーに通じる開
口を設ける。0.1ミリバール以下の低圧にレシーバー
を真空吸引する。空気流供給によってレシーバー内が5
6ミリバール昇圧されるのに要する時間を求める。試験
条件を以下の表2に示す。
形試験片を置き、シートの中央にレシーバーに通じる開
口を設ける。0.1ミリバール以下の低圧にレシーバー
を真空吸引する。空気流供給によってレシーバー内が5
6ミリバール昇圧されるのに要する時間を求める。試験
条件を以下の表2に示す。
【0070】
【表2】 テスト面積: 45.1cm2 加重量: 1276g 空気温度: 23℃ 相対湿度: 50% 総ガス体積: 1.2cm3 圧力差: 56mbar
【0071】表面配向度Δpの決定:表面配向度はAb
beの屈折計を使用して、以下の手順で屈折率を測定
し、決定した。
beの屈折計を使用して、以下の手順で屈折率を測定
し、決定した。
【0072】先ず試料の調製を行った。試料のサイズ
は、長さが60〜100mm、幅が測定プリズムに対応
して10mmであった。
は、長さが60〜100mm、幅が測定プリズムに対応
して10mmであった。
【0073】nMD:長手方向の屈折率およびnα(=
nz)の測定では、正確に横方向に走行している走行エ
ッジ付近のフィルムを切取って試料とし、nTD:長手
方向の屈折率およびnα(=nz)の測定では、正確に
長手方向に走行している走行エッジ付近のフィルムを切
取って試料とした。試料はフィルムのウエブの中央部分
から採取した。温度23℃にて、Abbeの屈折計を使
用して屈折率を測定した。
nz)の測定では、正確に横方向に走行している走行エ
ッジ付近のフィルムを切取って試料とし、nTD:長手
方向の屈折率およびnα(=nz)の測定では、正確に
長手方向に走行している走行エッジ付近のフィルムを切
取って試料とした。試料はフィルムのウエブの中央部分
から採取した。温度23℃にて、Abbeの屈折計を使
用して屈折率を測定した。
【0074】先ず、ガラス棒を使用し、使用前に完全に
洗浄したプリズムに、少量のジヨードメタン(n=1.
745)又はジヨードメタンブロモナフタリン混合物を
塗布した。混合物の屈折率は1.685より大きい。横
方向に切取った試料は、先ず、プリズムの全ての表面が
覆われる様にプリズムの上に配置した。拭取り紙を使用
してフィルムを押付け、プリズム上に平らにしっかりと
固定した。余剰の液体は吸引して除去した。フィルム上
に少量のテスト試薬を滴下する。第2のプリズムを上に
乗せ、確実に接する様に押付けた。明るさを明から暗に
変化させた際、屈折率が1.62〜1.68の範囲にな
るように調節した。明暗が明確でない場合は、明暗のそ
れぞれ一つの領域のみ可視にする様に色付けした。接眼
レンズ中の2本の対角線の交点により明確な転移線がも
たらされる。測定スケール上に示された値をテストレコ
ードに記録し、長手方向の屈折率nMDとした。接眼レ
ンズの可視領域が1.49〜1.50になるまで測定を
行った。
洗浄したプリズムに、少量のジヨードメタン(n=1.
745)又はジヨードメタンブロモナフタリン混合物を
塗布した。混合物の屈折率は1.685より大きい。横
方向に切取った試料は、先ず、プリズムの全ての表面が
覆われる様にプリズムの上に配置した。拭取り紙を使用
してフィルムを押付け、プリズム上に平らにしっかりと
固定した。余剰の液体は吸引して除去した。フィルム上
に少量のテスト試薬を滴下する。第2のプリズムを上に
乗せ、確実に接する様に押付けた。明るさを明から暗に
変化させた際、屈折率が1.62〜1.68の範囲にな
るように調節した。明暗が明確でない場合は、明暗のそ
れぞれ一つの領域のみ可視にする様に色付けした。接眼
レンズ中の2本の対角線の交点により明確な転移線がも
たらされる。測定スケール上に示された値をテストレコ
ードに記録し、長手方向の屈折率nMDとした。接眼レ
ンズの可視領域が1.49〜1.50になるまで測定を
行った。
【0075】屈折率nαまたはnz(フィルムの厚さ方
向の屈折率)は以下の方法で決定した。転移点の識別性
を改良するため、ほんのわずか可視化し、ポーラリティ
ーを有するフィルムを接眼レンズの上に置き転移がはっ
きりとわかるまでnMDの測定と同様に行った。明暗の
変化がはっきりしない場合は、上述の様に色付けを行っ
て測定した。同様に、接眼レンズ中の2本の対角線の交
点により明確な転移線がもたらされ、測定スケール上に
示された値をテストレコードに記録し、屈折率nαとし
た。 試料を裏返しにして同様の測定を行い、反対面の
nMD及びnα(=nz)を測定した。
向の屈折率)は以下の方法で決定した。転移点の識別性
を改良するため、ほんのわずか可視化し、ポーラリティ
ーを有するフィルムを接眼レンズの上に置き転移がはっ
きりとわかるまでnMDの測定と同様に行った。明暗の
変化がはっきりしない場合は、上述の様に色付けを行っ
て測定した。同様に、接眼レンズ中の2本の対角線の交
点により明確な転移線がもたらされ、測定スケール上に
示された値をテストレコードに記録し、屈折率nαとし
た。 試料を裏返しにして同様の測定を行い、反対面の
nMD及びnα(=nz)を測定した。
【0076】それぞれの測定が終了した後に、MD及び
厚み方向にMD方向に切取られた試料を設置し、先ず、
A側面のnTD及びnα(=nz)を同様の方法で測定
した。次いで、試料切片を裏返しにして、B側面を測定
し、A、B各面の測定値を平均し、屈折率とした。表面
配向度は下記式で表される。
厚み方向にMD方向に切取られた試料を設置し、先ず、
A側面のnTD及びnα(=nz)を同様の方法で測定
した。次いで、試料切片を裏返しにして、B側面を測定
し、A、B各面の測定値を平均し、屈折率とした。表面
配向度は下記式で表される。
【0077】
【数6】 Δn = nMD − nTD Δp = (nMD + nTD)/2 − nZ nav = (nMD + nTD + nZ )/3
【0078】実施例1:ポリエチレンテレフタレートチ
ップ(マンガンをエステル交換反応の触媒として使用
し、エステル交換反応にて得た。マンガン濃度:100
ppm)を150℃で乾燥し、含有水分量を100pp
m未満にした後、マスターバッチとしてベース層(B)
用の押出し機に供給した。同様に、外層(C)用の押出
し機にマスターバッチとしてポリエチレンテレフタレー
トを供給した。
ップ(マンガンをエステル交換反応の触媒として使用
し、エステル交換反応にて得た。マンガン濃度:100
ppm)を150℃で乾燥し、含有水分量を100pp
m未満にした後、マスターバッチとしてベース層(B)
用の押出し機に供給した。同様に、外層(C)用の押出
し機にマスターバッチとしてポリエチレンテレフタレー
トを供給した。
【0079】別に、78モル%のエチレンテレフタレー
ト単位と22モル%のエチレンイソフタレート単位から
成る(マンガンをエステル交換反応の触媒として使用
し、エステル交換反応にて得た。マンガン濃度:100
ppm)非晶性直鎖共重合ポリエステルチップを製造し
た。共重合ポリエステルを100℃で乾燥し、含有水分
量を200ppm未満にした後、マスターバッチとして
外層(A)用の押出し機に供給した。
ト単位と22モル%のエチレンイソフタレート単位から
成る(マンガンをエステル交換反応の触媒として使用
し、エステル交換反応にて得た。マンガン濃度:100
ppm)非晶性直鎖共重合ポリエステルチップを製造し
た。共重合ポリエステルを100℃で乾燥し、含有水分
量を200ppm未満にした後、マスターバッチとして
外層(A)用の押出し機に供給した。
【0080】共押出しを行った後、長手方向および横方
向に延伸を行い、厚さ12μmの透明ABC型3層フィ
ルムを製造した。各層の構成を以下の表3に示す。
向に延伸を行い、厚さ12μmの透明ABC型3層フィ
ルムを製造した。各層の構成を以下の表3に示す。
【0081】
【表3】
【0082】フィルムの製造条件を表4に示す。
【0083】
【表4】
【0084】フィルムの構成および性質について表5に
纏めて示す(以下の実施例、比較例についても同様)。
得られたフィルムのシール性能、取扱い性、加工性とも
良好であった。フィルムの物性評価結果を表6に示す
(以下の実施例、比較例についても同様)。
纏めて示す(以下の実施例、比較例についても同様)。
得られたフィルムのシール性能、取扱い性、加工性とも
良好であった。フィルムの物性評価結果を表6に示す
(以下の実施例、比較例についても同様)。
【0085】実施例2:シール性外層(A)の厚さを
2.0μmに変更した以外は実施例1と同様の操作でフ
ィルムを作成した。シール性能が向上し、特にシールシ
ーム強度が増加した。
2.0μmに変更した以外は実施例1と同様の操作でフ
ィルムを作成した。シール性能が向上し、特にシールシ
ーム強度が増加した。
【0086】実施例3:シール性外層(A)の厚さを
2.5μmに、非シール性外層(C)の厚さを2.0μ
mに、フィルム総厚さを20μmに変更した以外は実施
例1と同様の操作でフィルムを作成した。シール性能が
向上し、特にシールシーム強度が増加した。またフィル
ムの取扱い性も若干向上した。
2.5μmに、非シール性外層(C)の厚さを2.0μ
mに、フィルム総厚さを20μmに変更した以外は実施
例1と同様の操作でフィルムを作成した。シール性能が
向上し、特にシールシーム強度が増加した。またフィル
ムの取扱い性も若干向上した。
【0087】実施例4:エチレンテレフタレート単位が
70モル%、エチレンイソフタレート単位が30モル%
から成る共重合ポリエステルを使用し、予備乾燥を行わ
ずに2軸ベント式押出し機を使用して押出し、添加粒子
濃度を若干増加させた以外は実施例3と同様の操作でフ
ィルムを作成した。シール性能が向上し、特にシールシ
ーム強度が増加した。またフィルムの取扱い性および加
工性も向上した。
70モル%、エチレンイソフタレート単位が30モル%
から成る共重合ポリエステルを使用し、予備乾燥を行わ
ずに2軸ベント式押出し機を使用して押出し、添加粒子
濃度を若干増加させた以外は実施例3と同様の操作でフ
ィルムを作成した。シール性能が向上し、特にシールシ
ーム強度が増加した。またフィルムの取扱い性および加
工性も向上した。
【0088】比較例1:シール性外層(A)に粒子を添
加しなかった以外は実施例1と同様の操作でフィルムを
作成した。フィルムは良好なシール性を示したものの、
取扱い性および加工性が極めて悪かった。
加しなかった以外は実施例1と同様の操作でフィルムを
作成した。フィルムは良好なシール性を示したものの、
取扱い性および加工性が極めて悪かった。
【0089】比較例2:シール性外層(A)の粒子濃度
を非シール性外層(C)の粒子濃度よりも高くした以外
は比較例1と同様の操作でフィルムを作成した。フィル
ムの取扱い性および加工性は良好であるが、シール性が
極めて悪かった。
を非シール性外層(C)の粒子濃度よりも高くした以外
は比較例1と同様の操作でフィルムを作成した。フィル
ムの取扱い性および加工性は良好であるが、シール性が
極めて悪かった。
【0090】比較例3:非シール性外層(C)の粒子濃
度を極端に低くした以外は実施例1と同様の操作でフィ
ルムを作成した。フィルムの取扱い性および加工性は極
めて悪かった。
度を極端に低くした以外は実施例1と同様の操作でフィ
ルムを作成した。フィルムの取扱い性および加工性は極
めて悪かった。
【0091】比較例4:欧州特許公開第0035835
号公報に記載の実施例1と追試した。シール性、取扱い
性および加工性が悪かった。
号公報に記載の実施例1と追試した。シール性、取扱い
性および加工性が悪かった。
【0092】
【表5】
【0093】
【表6】
【0094】
【発明の効果】本発明のシール性フィルムは、公知のシ
ール性フィルムと比較して、より低いシール温度および
より強いシール強度を有し、取扱い性が容易で、フィル
ムの加工性に優れ、高速フィルム製造機おいても製造可
能であり、再生品の混入が可能な利点を有し、その工業
的価値は高い。
ール性フィルムと比較して、より低いシール温度および
より強いシール強度を有し、取扱い性が容易で、フィル
ムの加工性に優れ、高速フィルム製造機おいても製造可
能であり、再生品の混入が可能な利点を有し、その工業
的価値は高い。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 67/00 C08L 67/00 // B29K 67:00 B29K 67:00 B29L 9:00 B29L 9:00 (72)発明者 リチャード リー デーヴィス ドイツ連邦共和国、ヴィースバーデン、デ ィー−65187、ホルスタインストラッセ 11 (72)発明者 ゴットフリート ヒルケルト ドイツ連邦共和国、ザウルハイム、ディー −55291、シュエッツェンストラッセ 12
Claims (36)
- 【請求項1】 ベース層(B)と、シール性外層(A)
と、他の外層(C)との少なくとも3層から成る二軸延
伸共押出しシール性ポリエステルフィルムであって、シ
ール性外層(A)のシール最低シール温度は110℃以
下で且つシールシーム強度は1.3N/15mm以上で
あり;シール性外層(A)の表面における表面粗度Ra
は40nm以下で且つガス流量が300〜4000秒で
あり;他の外層(C)の摩擦係数(COF)は0.5以
下、表面粗度Raは40〜150nmで且つガス流量が
140秒以下であり;および、外層(C)の表面の1m
m2当りの突起数Nc及び突起高さhが以下の式を満足
することを特徴とするポリエステルフィルム。 【数1】 0.29-3.30×log(h/μm) < log(N/mm2) < 1.84-2.70×log(h/μm)(1) 0.01μm < h < 10μm (2) - 【請求項2】 シール性外層(A)が、エチレンテレフ
タレート単位およびエチレンイソフタレート単位から成
る共重合ポリエステルから成る請求項1に記載のポリエ
ステルフィルム。 - 【請求項3】 共重合ポリエステル中のエチレンテレフ
タレート単位の含有率が40〜95モル%、エチレンイ
ソフタレート単位の含有率が5〜60モル%である請求
項2に記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項4】 共重合ポリエステル中のエチレンテレフ
タレート単位の含有率が50〜90モル%、エチレンイ
ソフタレート単位の含有率が10〜50モル%である請
求項2に記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項5】 共重合ポリエステル中のエチレンテレフ
タレート単位の含有率が60〜85モル%、エチレンイ
ソフタレート単位の含有率が15〜40モル%である請
求項2に記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項6】 シール性外層(A)の厚さが0.2〜3
μmである請求項1〜5の何れかに記載のポリエステル
フィルム。 - 【請求項7】 さらに、無機および/または有機粒子か
ら成る耐ブロッキング剤を含有する請求項1〜6の何れ
かに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項8】 無機粒子が炭酸カルシウム、非晶シリ
カ、タルク、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カ
ルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カル
シウム、リン酸マグネシウム、酸化アルミニウム、フッ
化リチウム、ジカルボン酸のカルシウム、バリウム、亜
鉛またはマンガン塩、カーボンブラック、二酸化チタン
およびカオリンから成る群より選択される少なくとも一
つの無機粒子である請求項7に記載のポリエステルフィ
ルム。 - 【請求項9】 有機粒子が架橋ポリスチレン及び/又は
架橋アクリレート粒子である請求項7に記載のポリエス
テルフィルム。 - 【請求項10】 耐ブロッキング剤として使用する粒子
の一次平均粒径が沈降法による測定において100nm
未満および/または1μm以上である請求項7〜9の何
れかに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項11】 耐ブロッキング剤として使用する粒子
の一次平均粒径が沈降法による測定において60nm未
満および/または1.5μm以上である請求項7〜9の
何れかに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項12】 耐ブロッキング剤として使用する粒子
の一次平均粒径が沈降法による測定において50nm未
満および/または2μm以上である請求項7〜9の何れ
かに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項13】 ベース層(B)中の粒子含有量が0〜
0.15重量%である請求項7〜12の何れかに記載の
ポリエステルフィルム。 - 【請求項14】 ベース層(B)中の粒子含有量が0〜
0.12重量%である請求項7〜12の何れかに記載の
ポリエステルフィルム。 - 【請求項15】 ベース層(B)中の粒子含有量が0〜
0.10重量%である請求項7〜12の何れかに記載の
ポリエステルフィルム。 - 【請求項16】 他の外層(C)中の粒子含有量が0.
1〜1.0重量%である請求項7〜15の何れかに記載
のポリエステルフィルム。 - 【請求項17】 他の外層(C)中の粒子含有量が0.
12〜0.8重量%である請求項7〜15の何れかに記
載のポリエステルフィルム。 - 【請求項18】 他の外層(C)中の粒子含有量が0.
15〜0.6重量%である請求項7〜15の何れかに記
載のポリエステルフィルム。 - 【請求項19】 シール性外層(A)中の粒子含有量が
0.01〜0.2重量%である請求項7〜18の何れか
に記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項20】 シール性外層(A)中の粒子含有量が
0.015〜0.15重量%である請求項7〜18の何
れかに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項21】 シール性外層(A)中の粒子含有量が
0.02〜0.1重量%である請求項7〜18の何れか
に記載のポリエステルフィルム。 【請求項21】 シール性外層(A)と他の外層(C)
の厚さが同一である請求項1〜20の何れかに記載のポ
リエステルフィルム。 - 【請求項22】 シール性外層(A)と他の外層(C)
の厚さが異なる請求項1〜20の何れかに記載のポリエ
ステルフィルム。 - 【請求項23】 シール性外層(A)と他の外層(C)
の厚さが0.1μmを超える請求項1〜22の何れかに
記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項24】 シール性外層(A)と他の外層(C)
の厚さが0.2〜4.0μmである請求項1〜22の何
れかに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項25】 シール性外層(A)と他の外層(C)
の厚さが0.2〜3.5μmである請求項1〜22の何
れかに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項26】 シール性外層(A)と他の外層(C)
の厚さが0.3〜3.0μmである請求項1〜22の何
れかに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項27】 シール性外層(A)と他の外層(C)
の厚さが0.3〜2.5μmである請求項1〜22の何
れかに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項28】 ポリエステルフィルムの全厚さが3〜
80μmである請求項1〜27の何れかに記載のポリエ
ステルフィルム。 - 【請求項29】 ポリエステルフィルムの全厚さが4〜
50μmである請求項1〜27の何れかに記載のポリエ
ステルフィルム。 - 【請求項30】 ポリエステルフィルムの全厚さが5〜
30μmである請求項1〜27の何れかに記載のポリエ
ステルフィルム。 - 【請求項31】 ベース層(B)の厚さがポリエステル
フィルムの全厚さに対して5〜90%である請求項1〜
27の何れかに記載のポリエステルフィルム。 - 【請求項32】 ベース層(B)、シール性外層
(A)、他の外層(C)の原料ポリマーをそれぞれの押
出し機に供給する工程と;押出しに先立って不純物をフ
ィルターで取り除く工程と;共押出しダイを介して共押
出しし、ポリエステルシートを形成する工程と;得られ
たポリエステルシートを冷却ロール上で冷却固化する工
程と;得られたポリエステルシートを二軸延伸してポリ
エステルフィルムを得る工程と;ポリエステルフィルム
を熱固定する工程および必要であれば化学処理、コロナ
処理または火炎処理をフィルムの少なくとも片面に行う
工程とから成ることを特徴とする請求項1〜31に記載
のポリエステルフィルムの製造方法。 - 【請求項33】 二軸延伸工程が、長手方向、横方向の
順に行われる逐次二軸延伸工程であって、長手方向の延
伸温度が80〜130℃、横方向の延伸温度が90〜1
50℃、長手方向の延伸比が2.5:1〜6:1、横方
向の延伸比が3:1〜5:1である請求項32に記載の
製造方法。 - 【請求項34】 長手方向の延伸比が3:1〜5.5:
1、横方向の延伸比が3.5:1〜4.5:1である請
求項33に記載の製造方法。 - 【請求項35】 さらに、ポリエステルフィルムの片面
または両面に、長手方向延伸後で横方向延伸前にインラ
インコーティングする工程を有する請求項32〜34の
何れかに記載の製造方法。 - 【請求項36】 請求項1〜31に記載のポリエステル
フィルムを使用して、高速包装機械で包装する方法。
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