JP2001319943A - 半導体装置 - Google Patents
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- Power Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外形サイズを大きくすることなく、外部への
引出しピン数を減少し、あるいは外部回路基板へのボン
ディングエリアを含めた実装面積を小さくする。 【解決手段】 集積回路基材11の表面及び裏面に第1
及び第2の半導体集積回路12,14が形成されてい
る。集積回路12は、パッド13及びワイヤ17を介し
て、外部の回路基板30に接続される。集積回路14
は、バンプ16を介して回路基板30に接続される。
引出しピン数を減少し、あるいは外部回路基板へのボン
ディングエリアを含めた実装面積を小さくする。 【解決手段】 集積回路基材11の表面及び裏面に第1
及び第2の半導体集積回路12,14が形成されてい
る。集積回路12は、パッド13及びワイヤ17を介し
て、外部の回路基板30に接続される。集積回路14
は、バンプ16を介して回路基板30に接続される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
構成及び回路基板への実装構造を改良した半導体装置、
特に外部への引出し端子数(即ち、ピン数)が多い多ピ
ン半導体装置に好適な半導体装置の構造に関するもので
ある。
構成及び回路基板への実装構造を改良した半導体装置、
特に外部への引出し端子数(即ち、ピン数)が多い多ピ
ン半導体装置に好適な半導体装置の構造に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体集積回路(以下単に「集
積回路」という。)を内蔵し、外部への引出しピンを有
する半導体装置の基板実装方法及びこの構造として、例
えば、次の〜等のようなものがある。 リードフレームを用いたもの(SOP/QFP) SOP(Smoll Outline Package )タイプは、LSI
(Large Scale Integration )の両側からリードが出て
いる面実装タイプである。QFP(Quad Flat Package
)タイプは、LSIの4方向からリードが出ている面
実装タイプである。 FPCを用いたもの(TAB) TAB(Tape Automated Bonding)タイプは、テープキ
ャリアと呼ばれるフレキシブル基板に半導体チップが搭
載されている形態のものである。
積回路」という。)を内蔵し、外部への引出しピンを有
する半導体装置の基板実装方法及びこの構造として、例
えば、次の〜等のようなものがある。 リードフレームを用いたもの(SOP/QFP) SOP(Smoll Outline Package )タイプは、LSI
(Large Scale Integration )の両側からリードが出て
いる面実装タイプである。QFP(Quad Flat Package
)タイプは、LSIの4方向からリードが出ている面
実装タイプである。 FPCを用いたもの(TAB) TAB(Tape Automated Bonding)タイプは、テープキ
ャリアと呼ばれるフレキシブル基板に半導体チップが搭
載されている形態のものである。
【0003】 ワイヤボンディングを用いたもの(C
OB) COB(Chip On Board )タイプは、半導体チップ自身
を直接基板に乗せ、ワイヤボンディングで基板と接続さ
せる構造のものである。 ボールグリッドを用いたもの(PGA/BGA/フ
リップチップ) PGA(Pin Grid Array Package)タイプは、半導体パ
ッケージ裏面から接続ピンが出ている形態のものであ
る。BGA(Ball Grid Array Package )タイプは、半
導体パッケージ裏面から接続用のボール端子(即ち、バ
ンプ)が出ている面実装形態のものである。
OB) COB(Chip On Board )タイプは、半導体チップ自身
を直接基板に乗せ、ワイヤボンディングで基板と接続さ
せる構造のものである。 ボールグリッドを用いたもの(PGA/BGA/フ
リップチップ) PGA(Pin Grid Array Package)タイプは、半導体パ
ッケージ裏面から接続ピンが出ている形態のものであ
る。BGA(Ball Grid Array Package )タイプは、半
導体パッケージ裏面から接続用のボール端子(即ち、バ
ンプ)が出ている面実装形態のものである。
【0004】ところが、これらの半導体装置の構成で
は、次の(a)〜(c)のような問題点があった。 (a) 複数個の半導体装置を回路基板に搭載する際
は、これらの半導体装置の数に応じた実装面積が必要と
なる。特に、ワイヤボンディングの場合は、半導体装置
周りのボンディングエリアを含めた実装面積を考慮しな
ければならなくなる。 (b) 複数個の半導体装置を回路基板上に並べた場
合、これらの半導体装置同士の配線が複雑になり、回路
基板層数を増やす等の対応をしなければ配線ができない
場合が生じる。 (c) 複数個の半導体装置を回路基板上で接続する場
合、これらの配線長が長くなり、電気的なロスが大きか
った。
は、次の(a)〜(c)のような問題点があった。 (a) 複数個の半導体装置を回路基板に搭載する際
は、これらの半導体装置の数に応じた実装面積が必要と
なる。特に、ワイヤボンディングの場合は、半導体装置
周りのボンディングエリアを含めた実装面積を考慮しな
ければならなくなる。 (b) 複数個の半導体装置を回路基板上に並べた場
合、これらの半導体装置同士の配線が複雑になり、回路
基板層数を増やす等の対応をしなければ配線ができない
場合が生じる。 (c) 複数個の半導体装置を回路基板上で接続する場
合、これらの配線長が長くなり、電気的なロスが大きか
った。
【0005】これらの問題点を解決するために、従来、
例えば、次のような文献等で種々の提案が行われてい
る。 文献1;特開平3−257839号公報 文献2;特開平7−169905号公報 文献3;特開平7−221135号公報
例えば、次のような文献等で種々の提案が行われてい
る。 文献1;特開平3−257839号公報 文献2;特開平7−169905号公報 文献3;特開平7−221135号公報
【0006】文献1の技術は、TAB技術を用いて製造
されるテープキャリアを用いた半導体装置において、半
導体素子の上下の両面に電気回路パターン及び突起電極
を設け、前記半導体素子の上下の両面をインナリードボ
ンディングすることにより、上下2枚のテープキャリア
に実装し、前記テープキャリアのアウタリード部を形成
することにより、回路基板に実装可能としている。これ
により、半導体装置の外形サイズを大きくすることな
く、外部引出しピンであるアウタリード部の数の増加を
可能にしている。
されるテープキャリアを用いた半導体装置において、半
導体素子の上下の両面に電気回路パターン及び突起電極
を設け、前記半導体素子の上下の両面をインナリードボ
ンディングすることにより、上下2枚のテープキャリア
に実装し、前記テープキャリアのアウタリード部を形成
することにより、回路基板に実装可能としている。これ
により、半導体装置の外形サイズを大きくすることな
く、外部引出しピンであるアウタリード部の数の増加を
可能にしている。
【0007】文献2の技術は、表裏から使用可能なパタ
ーンを形成した回路基板に1箇所以上の開口部を設け、
この開口部のサイズよりも大きな半導体素子を該開口部
上に固着し、前記半導体素子の裏面に他の半導体素子を
固着し、これら2つの半導体素子を前記回路基板上のパ
ターンとワイヤボンディングあるいはTABにより接続
し、全体を樹脂封止している。これにより、半導体素子
と回路基板の全体の厚みを薄くできる。
ーンを形成した回路基板に1箇所以上の開口部を設け、
この開口部のサイズよりも大きな半導体素子を該開口部
上に固着し、前記半導体素子の裏面に他の半導体素子を
固着し、これら2つの半導体素子を前記回路基板上のパ
ターンとワイヤボンディングあるいはTABにより接続
し、全体を樹脂封止している。これにより、半導体素子
と回路基板の全体の厚みを薄くできる。
【0008】文献3の技術は、2つの集積回路に、面対
称の位置に電極パッドを設け、これらを対向させてバン
プによって接着し、一方の集積回路を、回路基板等にダ
イボンディングし、さらにこの集積回路の電極パッドを
ワイヤボンディングによって基板のパッドと接続してい
る。これにより、実装密度を向上している。
称の位置に電極パッドを設け、これらを対向させてバン
プによって接着し、一方の集積回路を、回路基板等にダ
イボンディングし、さらにこの集積回路の電極パッドを
ワイヤボンディングによって基板のパッドと接続してい
る。これにより、実装密度を向上している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
文献1、2、3等の半導体装置では、外部に引出すピン
数が増えると、外形サイズが大きくなったり、あるいは
回路基板へのボンディングエリアを含めた実装面積が大
きくなる等、未だ技術的に十分満足のゆく半導体装置を
提供することが困難であった。本発明は、前記従来技術
が持っていた課題を解決し、外部引出しのピン数が多く
なっても、外形サイズあるいは回路基板への実装面積を
小さくできる半導体装置を提供することを目的とする。
文献1、2、3等の半導体装置では、外部に引出すピン
数が増えると、外形サイズが大きくなったり、あるいは
回路基板へのボンディングエリアを含めた実装面積が大
きくなる等、未だ技術的に十分満足のゆく半導体装置を
提供することが困難であった。本発明は、前記従来技術
が持っていた課題を解決し、外部引出しのピン数が多く
なっても、外形サイズあるいは回路基板への実装面積を
小さくできる半導体装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明のうちの第1の発明は、半導体装置におい
て、表面に第1の集積回路及び裏面に第2の集積回路が
それぞれ形成された集積回路基材と、前記集積回路基材
の表面に形成されて前記第1の集積回路に接続され、外
部の回路基板のパッドにワイヤで接続される複数の第1
のパッドと、前記集積回路基材の裏面に形成されて前記
第2の集積回路に接続された複数の第2のパッドと、前
記複数の第2のパッドに固着され、前記外部の回路基板
のパッドに溶着される複数のバンプと、を有している。
これにより、第1のパッドをワイヤにて外部の回路基板
のパッドに接続し、バンプをその外部の回路基板の他の
パッドに溶着すれば、外部の回路基板上への実装が行え
る。
に、本発明のうちの第1の発明は、半導体装置におい
て、表面に第1の集積回路及び裏面に第2の集積回路が
それぞれ形成された集積回路基材と、前記集積回路基材
の表面に形成されて前記第1の集積回路に接続され、外
部の回路基板のパッドにワイヤで接続される複数の第1
のパッドと、前記集積回路基材の裏面に形成されて前記
第2の集積回路に接続された複数の第2のパッドと、前
記複数の第2のパッドに固着され、前記外部の回路基板
のパッドに溶着される複数のバンプと、を有している。
これにより、第1のパッドをワイヤにて外部の回路基板
のパッドに接続し、バンプをその外部の回路基板の他の
パッドに溶着すれば、外部の回路基板上への実装が行え
る。
【0011】第2の発明は、半導体装置において、表面
に第1の集積回路及び裏面に第2の集積回路がそれぞれ
形成された集積回路基材と、前記集積回路基材の表面に
形成されて前記第1の集積回路に接続された複数の第1
のパッドと、内側がワイヤによって前記第1のパッドに
接続され、外側が外部の回路基板のパッドに接続される
複数のリードフレームと、前記集積回路基材の裏面に形
成されて前記第2の集積回路に接続された複数の第2の
パッドと、前記複数の第2のパッドに固着され、前記外
部の回路基板のパッドに溶着される複数のバンプとを有
し、前記第1の集積回路、前記複数の第1のパッド、前
記ワイヤ、及び前記複数のリードフレームの内側が樹脂
封止されている。これにより、リードフレームを外部の
回路基板のパッドに接続し、その外部の回路基板の他の
パッドにバンプを溶着すれば、外部の回路基板上への実
装が行える。
に第1の集積回路及び裏面に第2の集積回路がそれぞれ
形成された集積回路基材と、前記集積回路基材の表面に
形成されて前記第1の集積回路に接続された複数の第1
のパッドと、内側がワイヤによって前記第1のパッドに
接続され、外側が外部の回路基板のパッドに接続される
複数のリードフレームと、前記集積回路基材の裏面に形
成されて前記第2の集積回路に接続された複数の第2の
パッドと、前記複数の第2のパッドに固着され、前記外
部の回路基板のパッドに溶着される複数のバンプとを有
し、前記第1の集積回路、前記複数の第1のパッド、前
記ワイヤ、及び前記複数のリードフレームの内側が樹脂
封止されている。これにより、リードフレームを外部の
回路基板のパッドに接続し、その外部の回路基板の他の
パッドにバンプを溶着すれば、外部の回路基板上への実
装が行える。
【0012】第3の発明は、第1又は第2の発明の半導
体装置において、前記集積回路基材は、表面に前記第1
の集積回路及び前記複数の第1のパッドが形成された第
1の集積回路基材と、表面が前記第1の集積回路基材の
裏面に接着され、裏面に前記第2の集積回路及び前記複
数の第2のパッドが形成されると共にこの複数の第2の
パッドに前記複数のバンプが固着された第2の集積回路
基材と、で構成している。これにより、第1のパッドを
ワイヤにて外部の回路基板のパッドに接続し、その外部
の回路基板の他のパッドにバンプを溶着すれば、外部の
回路基板上への実装が行える。
体装置において、前記集積回路基材は、表面に前記第1
の集積回路及び前記複数の第1のパッドが形成された第
1の集積回路基材と、表面が前記第1の集積回路基材の
裏面に接着され、裏面に前記第2の集積回路及び前記複
数の第2のパッドが形成されると共にこの複数の第2の
パッドに前記複数のバンプが固着された第2の集積回路
基材と、で構成している。これにより、第1のパッドを
ワイヤにて外部の回路基板のパッドに接続し、その外部
の回路基板の他のパッドにバンプを溶着すれば、外部の
回路基板上への実装が行える。
【0013】第4の発明は、半導体装置において、表面
に第1の集積回路及びこの第1の集積回路に接続された
複数の第1のパッドが形成された第1の集積回路基材
と、裏面が前記第1の集積回路基材の表面に接着され、
表面に第2の集積回路及びこの第2の集積回路に接続さ
れた複数の第2のパッドが形成された第2の集積回路基
材と、前記複数の第1のパッドと前記複数の第2のパッ
ドを接続する複数の第1のワイヤと、内側が複数の第2
のワイヤによって前記第1のパッド及び前記第2のパッ
ドに接続され、外側が外部の回路基板のパッドに接続さ
れる複数のリードフレームとを有し、前記第1の集積回
路、前記複数の第1のパッド、前記第2の集積回路、前
記複数の第2のパッド、前記複数の第1のワイヤ、前記
複数の第2のワイヤ、及び前記複数のリードフレームの
内側が樹脂封止されている。これにより、第1の集積回
路と第2の集積回路が第1のワイヤによって電気的に接
続される。そして、リードフレームを外部の回路基板の
パッドに接続すれば、外部の回路基板上への実装が行え
る。
に第1の集積回路及びこの第1の集積回路に接続された
複数の第1のパッドが形成された第1の集積回路基材
と、裏面が前記第1の集積回路基材の表面に接着され、
表面に第2の集積回路及びこの第2の集積回路に接続さ
れた複数の第2のパッドが形成された第2の集積回路基
材と、前記複数の第1のパッドと前記複数の第2のパッ
ドを接続する複数の第1のワイヤと、内側が複数の第2
のワイヤによって前記第1のパッド及び前記第2のパッ
ドに接続され、外側が外部の回路基板のパッドに接続さ
れる複数のリードフレームとを有し、前記第1の集積回
路、前記複数の第1のパッド、前記第2の集積回路、前
記複数の第2のパッド、前記複数の第1のワイヤ、前記
複数の第2のワイヤ、及び前記複数のリードフレームの
内側が樹脂封止されている。これにより、第1の集積回
路と第2の集積回路が第1のワイヤによって電気的に接
続される。そして、リードフレームを外部の回路基板の
パッドに接続すれば、外部の回路基板上への実装が行え
る。
【0014】第5の発明は、半導体装置において、裏面
に第1の集積回路が形成された第1の集積回路基材と、
前記第1の集積回路基材に形成されて前記第1の集積回
路に接続され、外部の回路基板の開口部周辺に形成され
たパッドに導体によって接続される複数の第1のパッド
と、表面に第2の集積回路が形成され、前記外部の回路
基板の開口部内に収容されかつ該第2の集積回路が導電
性接着材によって前記第1の集積回路に接続された第2
の集積回路基材とを有し、前記外部の回路基板の開口部
内、前記第1の集積回路基材の裏面側、及び前記第2の
集積回路基材が樹脂封止されている。
に第1の集積回路が形成された第1の集積回路基材と、
前記第1の集積回路基材に形成されて前記第1の集積回
路に接続され、外部の回路基板の開口部周辺に形成され
たパッドに導体によって接続される複数の第1のパッド
と、表面に第2の集積回路が形成され、前記外部の回路
基板の開口部内に収容されかつ該第2の集積回路が導電
性接着材によって前記第1の集積回路に接続された第2
の集積回路基材とを有し、前記外部の回路基板の開口部
内、前記第1の集積回路基材の裏面側、及び前記第2の
集積回路基材が樹脂封止されている。
【0015】第6の発明は、第5の発明の半導体装置に
おいて、前記導体はバンプで構成し、前記導電性接着材
は異方性導電シートで構成している。このように第5及
び第6の発明を構成したことにより、導電性接着材によ
って第1の集積回路と第2の集積回路が電気的に接続さ
れる。また、第1のパッドと外部の回路基板のパッドと
が導体によって接続され、該外部の回路基板上に実装さ
れる。
おいて、前記導体はバンプで構成し、前記導電性接着材
は異方性導電シートで構成している。このように第5及
び第6の発明を構成したことにより、導電性接着材によ
って第1の集積回路と第2の集積回路が電気的に接続さ
れる。また、第1のパッドと外部の回路基板のパッドと
が導体によって接続され、該外部の回路基板上に実装さ
れる。
【0016】
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)図1は、本発
明の第1の実施形態を示す半導体装置の概略の縦断面図
である。この半導体装置10は、回路基板30の表面に
形成された複数のCu等のパッド31に搭載されて接続
されるものであり、シリコン等の集積回路基材11を有
している。集積回路基材11の表面には、電子回路から
なる第1の集積回路12が形成されると共に、この集積
回路12に接続された複数のCu等の第1のパッド13
が形成されている。集積回路基材11の裏面には、電子
回路からなる第2の集積回路14が形成されると共に、
この集積回路14に接続された複数のCu等の第2のパ
ッド15が形成されている。各パッド15上には、ほぼ
半円球形の半田、Au等のバンプ16が固着されてい
る。複数のパッド13は、ワイヤ17によって外部の回
路基板30のパッド31に接続されるようになってい
る。
明の第1の実施形態を示す半導体装置の概略の縦断面図
である。この半導体装置10は、回路基板30の表面に
形成された複数のCu等のパッド31に搭載されて接続
されるものであり、シリコン等の集積回路基材11を有
している。集積回路基材11の表面には、電子回路から
なる第1の集積回路12が形成されると共に、この集積
回路12に接続された複数のCu等の第1のパッド13
が形成されている。集積回路基材11の裏面には、電子
回路からなる第2の集積回路14が形成されると共に、
この集積回路14に接続された複数のCu等の第2のパ
ッド15が形成されている。各パッド15上には、ほぼ
半円球形の半田、Au等のバンプ16が固着されてい
る。複数のパッド13は、ワイヤ17によって外部の回
路基板30のパッド31に接続されるようになってい
る。
【0017】このような構成の半導体装置10を回路基
板30上に実装するには、まず、半導体装置10の裏面
に突出したバンプ16を位置決めして回路基板30のパ
ッド31上に載置する。そして、加熱処理等を施して、
バンプ16を回路基板30のパッド31に溶着する。次
に、半導体装置10の表面のパッド13と回路基板30
の他のパッド31とを、ワイヤボンディング技術によっ
てワイヤ17で接続する。これにより、半導体装置10
が回路基板30上に実装される。
板30上に実装するには、まず、半導体装置10の裏面
に突出したバンプ16を位置決めして回路基板30のパ
ッド31上に載置する。そして、加熱処理等を施して、
バンプ16を回路基板30のパッド31に溶着する。次
に、半導体装置10の表面のパッド13と回路基板30
の他のパッド31とを、ワイヤボンディング技術によっ
てワイヤ17で接続する。これにより、半導体装置10
が回路基板30上に実装される。
【0018】このようにして回路基板30上に実装され
た半導体装置10では、表面側の集積回路12が、パッ
ド13及びワイヤ17を介して回路基板30のパッド3
1に電気的に接続され、さらに裏面側の集積回路14
が、パッド15及びバンプ16を介して回路基板30の
他のパッド31に電気的に接続される。集積回路12と
集積回路14との信号接続は、回路基板30を介して電
気的に接続される。
た半導体装置10では、表面側の集積回路12が、パッ
ド13及びワイヤ17を介して回路基板30のパッド3
1に電気的に接続され、さらに裏面側の集積回路14
が、パッド15及びバンプ16を介して回路基板30の
他のパッド31に電気的に接続される。集積回路12と
集積回路14との信号接続は、回路基板30を介して電
気的に接続される。
【0019】この第1の実施形態では、次の(1)、
(2)のような効果がある。 (1) 半導体装置10の表面及び裏面に2種類の集積
回路12,14が形成されているので、これを回路基板
30上に実装する場合、従来のような個別の2種類の集
積回路を実装する場合に比べて、実装面積を1/2に削
減することができる。
(2)のような効果がある。 (1) 半導体装置10の表面及び裏面に2種類の集積
回路12,14が形成されているので、これを回路基板
30上に実装する場合、従来のような個別の2種類の集
積回路を実装する場合に比べて、実装面積を1/2に削
減することができる。
【0020】(2) 半導体装置10の表面及び裏面に
2つの集積回路12,14が形成され、この2つの集積
回路12及び14間の接続は、回路基板30を介して接
続される。このため、集積回路12及び14間の配線距
離を短くでき、特性改善が可能になると共に、高密度実
装が可能になる。さらに、回路基板30上に実装した複
数の半導体装置10同士を配線する場合、これらの配線
を簡素化して最適化することができる。また、予め外部
の回路基板30側の配線を考慮してから2つの集積回路
12,14を設計すれば、より一層の効果を得ることが
可能となる。
2つの集積回路12,14が形成され、この2つの集積
回路12及び14間の接続は、回路基板30を介して接
続される。このため、集積回路12及び14間の配線距
離を短くでき、特性改善が可能になると共に、高密度実
装が可能になる。さらに、回路基板30上に実装した複
数の半導体装置10同士を配線する場合、これらの配線
を簡素化して最適化することができる。また、予め外部
の回路基板30側の配線を考慮してから2つの集積回路
12,14を設計すれば、より一層の効果を得ることが
可能となる。
【0021】(第2の実施形態)図2は、本発明の第2
の実施形態を示す半導体装置の概略の縦断面図であり、
第1の実施形態を示す図1中の要素と共通の要素には共
通の符号が付されている。この半導体装置10Aでは、
図1の1枚の集積回路基材11に代えて、シリコン等の
第1の集積回路基材11−1とシリコン等の第2の集積
回路基材11−2とを接着剤18によって貼り合わせた
構成になっている。即ち、第1の集積回路基材11−1
の表面には、電子回路からなる第1の集積回路12が形
成されると共に、この集積回路12に接続された複数の
Cu等のパッド13が形成されている。第1の集積回路
基材11−1の裏面には、樹脂等の絶縁性の接着剤18
によって第2の集積回路基材11−2の表面が貼着され
ている。第2の集積回路基材11−2の裏面には、電子
回路からなる第2の集積回路14が形成されると共に、
この集積回路14に接続された複数のCu等の第2のパ
ッド15が形成されている。
の実施形態を示す半導体装置の概略の縦断面図であり、
第1の実施形態を示す図1中の要素と共通の要素には共
通の符号が付されている。この半導体装置10Aでは、
図1の1枚の集積回路基材11に代えて、シリコン等の
第1の集積回路基材11−1とシリコン等の第2の集積
回路基材11−2とを接着剤18によって貼り合わせた
構成になっている。即ち、第1の集積回路基材11−1
の表面には、電子回路からなる第1の集積回路12が形
成されると共に、この集積回路12に接続された複数の
Cu等のパッド13が形成されている。第1の集積回路
基材11−1の裏面には、樹脂等の絶縁性の接着剤18
によって第2の集積回路基材11−2の表面が貼着され
ている。第2の集積回路基材11−2の裏面には、電子
回路からなる第2の集積回路14が形成されると共に、
この集積回路14に接続された複数のCu等の第2のパ
ッド15が形成されている。
【0022】第1の集積回路基材11−1の表面の複数
のパッド13は、図1に示すように、ワイヤ17によっ
て回路基板30のパッド31に接続されるようになって
いる。第2の集積回路基材11−2の裏面の複数のパッ
ド15には、複数の半田、Au等のバンプ16が固着さ
れ、このバンプ16が回路基板30のパッド31上に溶
着されるようになっている。その他の構成は、第1の実
施形態と同様である。このような半導体装置10Aは、
第1の実施形態と同様にして回路基板30上に実装され
る。
のパッド13は、図1に示すように、ワイヤ17によっ
て回路基板30のパッド31に接続されるようになって
いる。第2の集積回路基材11−2の裏面の複数のパッ
ド15には、複数の半田、Au等のバンプ16が固着さ
れ、このバンプ16が回路基板30のパッド31上に溶
着されるようになっている。その他の構成は、第1の実
施形態と同様である。このような半導体装置10Aは、
第1の実施形態と同様にして回路基板30上に実装され
る。
【0023】この第2の実施形態では、第1の実施形態
の効果(1)、(2)と同様の効果が得られる。さら
に、この第2の実施形態では、集積回路12及びパッド
13が形成された集積回路基材11−1と、集積回路1
4及びパッド15が形成された集積回路基材11−2と
を、接着剤18によって貼り合わせた構成であるため、
集積回路基材11−1と11−2を別々に製造でき、第
1の実施形態の半導体装置10に比べて製造工程を簡略
化できるという効果がある。
の効果(1)、(2)と同様の効果が得られる。さら
に、この第2の実施形態では、集積回路12及びパッド
13が形成された集積回路基材11−1と、集積回路1
4及びパッド15が形成された集積回路基材11−2と
を、接着剤18によって貼り合わせた構成であるため、
集積回路基材11−1と11−2を別々に製造でき、第
1の実施形態の半導体装置10に比べて製造工程を簡略
化できるという効果がある。
【0024】(第3の実施形態)図3は、本発明の第3
の実施形態を示すSOP形状あるいはQFP形状の半導
体装置の概略の縦断面図であり、第1の実施形態を示す
図1中の要素と共通の要素には共通の符号が付されてい
る。この半導体装置10Bでは、図1のワイヤ17に代
えて、ワイヤ17A及びリードフレーム19が設けられ
ると共に、表面側が樹脂部材20で覆われている。即
ち、1枚の集積回路基材11の表面には、第1の集積回
路12が形成されると共に、この集積回路12に接続さ
れた複数のパッド13が形成されている。集積回路基材
11の底面には、第2の集積回路14が形成されると共
に、この集積回路14に接続された複数のパッド15が
形成され、さらにこの各パッド15上にバンプ16が固
着されている。集積回路基材11の側面側には、複数の
Cu等のリードフレーム19が配設され、これらのリー
ドフレーム19の内側と集積回路基材11の表面の複数
のパッド13とが、ワイヤボンディング技術によってワ
イヤ17Aで接続されている。
の実施形態を示すSOP形状あるいはQFP形状の半導
体装置の概略の縦断面図であり、第1の実施形態を示す
図1中の要素と共通の要素には共通の符号が付されてい
る。この半導体装置10Bでは、図1のワイヤ17に代
えて、ワイヤ17A及びリードフレーム19が設けられ
ると共に、表面側が樹脂部材20で覆われている。即
ち、1枚の集積回路基材11の表面には、第1の集積回
路12が形成されると共に、この集積回路12に接続さ
れた複数のパッド13が形成されている。集積回路基材
11の底面には、第2の集積回路14が形成されると共
に、この集積回路14に接続された複数のパッド15が
形成され、さらにこの各パッド15上にバンプ16が固
着されている。集積回路基材11の側面側には、複数の
Cu等のリードフレーム19が配設され、これらのリー
ドフレーム19の内側と集積回路基材11の表面の複数
のパッド13とが、ワイヤボンディング技術によってワ
イヤ17Aで接続されている。
【0025】集積回路基材11の表面の第1の集積回路
12、複数のパッド13、複数のワイヤ17A、及び複
数のリードフレーム19の内側には、合成樹脂等の樹脂
部材20が充填されて樹脂封止されている。そして、集
積回路基材11の裏面の集積回路14、バンプ16、及
びリードフレーム19の外側のみが、樹脂部材20から
突出して外部に露出している。その他の構成は、第1の
実施形態と同様である。
12、複数のパッド13、複数のワイヤ17A、及び複
数のリードフレーム19の内側には、合成樹脂等の樹脂
部材20が充填されて樹脂封止されている。そして、集
積回路基材11の裏面の集積回路14、バンプ16、及
びリードフレーム19の外側のみが、樹脂部材20から
突出して外部に露出している。その他の構成は、第1の
実施形態と同様である。
【0026】このようなSOP形状あるいはQFP形状
の半導体装置10Bを製造するには、例えば、集積回路
12,14、パッド13,15、及びバンプ16が形成
された集積回路基材11を用意し、この集積回路基材1
1とリードフレーム19とを金型等にセットする。そし
て、ワイヤボンディング技術によって集積回路基材11
の表面のパッド13とリードフレーム19の内側とをワ
イヤ17Aで接続する。その後、集積回路基材11及び
リードフレーム19の接続箇所を覆うように、樹脂部材
20を充填して樹脂封止すれば、図3の半導体装置10
Bが得られる。
の半導体装置10Bを製造するには、例えば、集積回路
12,14、パッド13,15、及びバンプ16が形成
された集積回路基材11を用意し、この集積回路基材1
1とリードフレーム19とを金型等にセットする。そし
て、ワイヤボンディング技術によって集積回路基材11
の表面のパッド13とリードフレーム19の内側とをワ
イヤ17Aで接続する。その後、集積回路基材11及び
リードフレーム19の接続箇所を覆うように、樹脂部材
20を充填して樹脂封止すれば、図3の半導体装置10
Bが得られる。
【0027】製造された半導体装置10Bを、例えば図
1の外部の回路基板30上に実装するには、バンプ16
及びリードフレーム19の外側を位置決めして回路基板
30のパッド31上に載置する。そして、半田リフロー
等により、バンプ16及びリードフレーム19の外側と
回路基板30のパッド31とを接続すれば、該回路基板
30上に半導体装置10Bが実装される。
1の外部の回路基板30上に実装するには、バンプ16
及びリードフレーム19の外側を位置決めして回路基板
30のパッド31上に載置する。そして、半田リフロー
等により、バンプ16及びリードフレーム19の外側と
回路基板30のパッド31とを接続すれば、該回路基板
30上に半導体装置10Bが実装される。
【0028】このようにして実装された半導体装置10
Bでは、集積回路基材11の表面の集積回路12が、パ
ッド13、ワイヤ17A及びリードフレーム19を介し
て回路基板30のパッド31に接続され、該集積回路基
材11の裏面の集積回路14が、バンプ16を介して該
回路基板30のパッド31に接続される。集積回路基材
11の表面の集積回路12と裏面の集積回路14とは、
外部の回路基板30を介して電気的に接続されることに
なる。
Bでは、集積回路基材11の表面の集積回路12が、パ
ッド13、ワイヤ17A及びリードフレーム19を介し
て回路基板30のパッド31に接続され、該集積回路基
材11の裏面の集積回路14が、バンプ16を介して該
回路基板30のパッド31に接続される。集積回路基材
11の表面の集積回路12と裏面の集積回路14とは、
外部の回路基板30を介して電気的に接続されることに
なる。
【0029】この第3の実施形態では、第1の実施形態
の効果(1)、(2)が得られる他に、次の(a)、
(b)のような効果もある。 (a) 外部の回路基板30のパッド31にワイヤボン
ディングすることなく、他のデュアルインパッケージ
(DIP)タイプ等の半導体装置と同様に、半田リフロ
ー等により、バンプ16及びリードフレーム19の外側
を外部の回路基板30のパッド31に接続することがで
きる。このため、従来のボンディング装置をそのまま使
用することができる。
の効果(1)、(2)が得られる他に、次の(a)、
(b)のような効果もある。 (a) 外部の回路基板30のパッド31にワイヤボン
ディングすることなく、他のデュアルインパッケージ
(DIP)タイプ等の半導体装置と同様に、半田リフロ
ー等により、バンプ16及びリードフレーム19の外側
を外部の回路基板30のパッド31に接続することがで
きる。このため、従来のボンディング装置をそのまま使
用することができる。
【0030】(b) 集積回路基材11の表面の集積回
路12、ワイヤ17A、及びリードフレーム19の内側
が樹脂部材20で覆われているため、強度的に信頼性の
ある半導体装置部品とすることができる。また、集積回
路基材11の裏面側の集積回路14を樹脂部材20で覆
い、この樹脂部材20からバンプ16を突出させるよう
にすれば、より信頼性の高い半導体装置部品が得られ
る。
路12、ワイヤ17A、及びリードフレーム19の内側
が樹脂部材20で覆われているため、強度的に信頼性の
ある半導体装置部品とすることができる。また、集積回
路基材11の裏面側の集積回路14を樹脂部材20で覆
い、この樹脂部材20からバンプ16を突出させるよう
にすれば、より信頼性の高い半導体装置部品が得られ
る。
【0031】(第4の実施形態)図4は、本発明の第4
の実施形態を示す半導体装置の概略の縦断面図であり、
第2の実施形態を示す図2及び第3の実施形態を示す図
3中の要素と共通の要素には共通の符号が付されてい
る。この半導体装置10Cでは、図3の半導体装置10
Bにおいて、この1枚の集積回路基材11に代えて、図
2に示す2枚の集積回路基材11−1,11−2を設け
た構成になっている。
の実施形態を示す半導体装置の概略の縦断面図であり、
第2の実施形態を示す図2及び第3の実施形態を示す図
3中の要素と共通の要素には共通の符号が付されてい
る。この半導体装置10Cでは、図3の半導体装置10
Bにおいて、この1枚の集積回路基材11に代えて、図
2に示す2枚の集積回路基材11−1,11−2を設け
た構成になっている。
【0032】即ち、第1の集積回路基材11−1の表面
には、第1の集積回路12が形成されると共に、この集
積回路12に接続された複数の第1のパッド13が形成
されている。第1の集積回路基材11−1の表面には、
接着剤18によって第2の集積回路基材11−2の裏面
が接着されている。第2の集積回路基材11−2の表面
には、第2の集積回路14が形成されると共に、この集
積回路14に接続された複数の第2のパッド15が形成
されている。接着剤18によって2段重ねに接着された
集積回路基材11−1及び11−2の側面側には、複数
のリードフレーム19が配設されている。上側の集積回
路14と下側の集積回路12とは、パッド15及び13
に接続されたワイヤ17Bによって電気的に接続されて
いる。さらに、上側のパッド15はワイヤ17Cによっ
てリードフレーム19の内側に接続され、下側のパッド
13がワイヤ17Dによって他のリードフレーム19の
内側に接続されている。2段の集積回路基材11−1,
11−2の側面と表面、ワイヤ17B,17C,17
D、及びリードフレーム19の内側には、合成樹脂等の
樹脂部材20Aが充填されて樹脂封止されている。
には、第1の集積回路12が形成されると共に、この集
積回路12に接続された複数の第1のパッド13が形成
されている。第1の集積回路基材11−1の表面には、
接着剤18によって第2の集積回路基材11−2の裏面
が接着されている。第2の集積回路基材11−2の表面
には、第2の集積回路14が形成されると共に、この集
積回路14に接続された複数の第2のパッド15が形成
されている。接着剤18によって2段重ねに接着された
集積回路基材11−1及び11−2の側面側には、複数
のリードフレーム19が配設されている。上側の集積回
路14と下側の集積回路12とは、パッド15及び13
に接続されたワイヤ17Bによって電気的に接続されて
いる。さらに、上側のパッド15はワイヤ17Cによっ
てリードフレーム19の内側に接続され、下側のパッド
13がワイヤ17Dによって他のリードフレーム19の
内側に接続されている。2段の集積回路基材11−1,
11−2の側面と表面、ワイヤ17B,17C,17
D、及びリードフレーム19の内側には、合成樹脂等の
樹脂部材20Aが充填されて樹脂封止されている。
【0033】このような構成の半導体装置10Cを製造
するには、例えば、集積回路基材11−1及び11−2
を接着剤18によって接着しておき、この2段の集積回
路基板11−1,11−2と複数のリードフレーム19
とを金型等にセットする。そして、上側の集積回路14
のパッド15と下側の集積回路12のパッド13とをワ
イヤ17Bで電気的に接続すると共に、上側のパッド1
5とリードフレーム19の内側とをワイヤ17Cで接続
し、さらに下側のパッド13と他のリードフレーム19
の内側とをワイヤ17Dで接続する。その後、2段の集
積回路基材11−1,11−2の表面と側面、及びリー
ドフレーム19の内側の接続箇所に樹脂部材20Aを充
填して樹脂封止すれば、図4の半導体装置10Cが得ら
れる。
するには、例えば、集積回路基材11−1及び11−2
を接着剤18によって接着しておき、この2段の集積回
路基板11−1,11−2と複数のリードフレーム19
とを金型等にセットする。そして、上側の集積回路14
のパッド15と下側の集積回路12のパッド13とをワ
イヤ17Bで電気的に接続すると共に、上側のパッド1
5とリードフレーム19の内側とをワイヤ17Cで接続
し、さらに下側のパッド13と他のリードフレーム19
の内側とをワイヤ17Dで接続する。その後、2段の集
積回路基材11−1,11−2の表面と側面、及びリー
ドフレーム19の内側の接続箇所に樹脂部材20Aを充
填して樹脂封止すれば、図4の半導体装置10Cが得ら
れる。
【0034】製造された半導体装置10Cを図1の回路
基板30上に実装するには、例えば、樹脂部材20Aか
ら突出したリードフレーム19の外側を位置決めして回
路基板30のパッド31上に載置する。そして、半田リ
フロー等により、リードフレーム19の外側と回路基板
30のパッド31とを接続すれば、半導体装置10Cを
回路基板30上に実装できる。
基板30上に実装するには、例えば、樹脂部材20Aか
ら突出したリードフレーム19の外側を位置決めして回
路基板30のパッド31上に載置する。そして、半田リ
フロー等により、リードフレーム19の外側と回路基板
30のパッド31とを接続すれば、半導体装置10Cを
回路基板30上に実装できる。
【0035】この第4の実施形態では、第1〜第3の実
施形態とほぼ同様の効果が得られる上に、次の(i)〜
(iii)のような効果もある。 (i) 異なる2つの集積回路12及び14間を、半導
体装置10C内のワイヤ17Bによって接続するため、
第1〜第3の実施形態のように、これらの集積回路12
と14を外部の回路基板30を介して接続する必要がな
く、接続の効率化を図ることができる。しかも、集積回
路12と14間の配線距離も短くできることで、特性改
善が可能になる。例えば、集積回路12のパッド13の
数が300ピン、集積回路14のパッド15の数が20
0ピンで、これらの集積回路12と14の接続パッド数
が100ピンの場合、半導体装置10C内での接続が1
00本となり、外部へは300ピン引出せばよいことに
なる。従来のように集積回路12と14を個別に分けて
回路基板30上に実装すると、パッド13の数及びパッ
ド15の数を合わせて500ピン分引出す必要がある。
本実施形態では、200ピン分、回路基板30側の負担
が少なくなり、高密度実装が可能になる。従って、2つ
の集積回路12と14間の配線を最適化することができ
る。また、予め回路基板30側の配線を考慮してから重
ねる集積回路12と14を設計すると、より一層の効果
を得ることが可能となる。
施形態とほぼ同様の効果が得られる上に、次の(i)〜
(iii)のような効果もある。 (i) 異なる2つの集積回路12及び14間を、半導
体装置10C内のワイヤ17Bによって接続するため、
第1〜第3の実施形態のように、これらの集積回路12
と14を外部の回路基板30を介して接続する必要がな
く、接続の効率化を図ることができる。しかも、集積回
路12と14間の配線距離も短くできることで、特性改
善が可能になる。例えば、集積回路12のパッド13の
数が300ピン、集積回路14のパッド15の数が20
0ピンで、これらの集積回路12と14の接続パッド数
が100ピンの場合、半導体装置10C内での接続が1
00本となり、外部へは300ピン引出せばよいことに
なる。従来のように集積回路12と14を個別に分けて
回路基板30上に実装すると、パッド13の数及びパッ
ド15の数を合わせて500ピン分引出す必要がある。
本実施形態では、200ピン分、回路基板30側の負担
が少なくなり、高密度実装が可能になる。従って、2つ
の集積回路12と14間の配線を最適化することができ
る。また、予め回路基板30側の配線を考慮してから重
ねる集積回路12と14を設計すると、より一層の効果
を得ることが可能となる。
【0036】(ii) 半導体装置10Cを回路基板30
上に実装する場合、リードフレーム19のみを接続すれ
ばよいので、該リードフレーム19の接続本数を削減で
き、さらにこの削減によってリードフレーム間のピッチ
を広くすることができるため、接続信頼性をより向上で
きる。 (iii) 集積回路12及び14間の接続を最短にできる
ため、低消費電力化が可能になる。
上に実装する場合、リードフレーム19のみを接続すれ
ばよいので、該リードフレーム19の接続本数を削減で
き、さらにこの削減によってリードフレーム間のピッチ
を広くすることができるため、接続信頼性をより向上で
きる。 (iii) 集積回路12及び14間の接続を最短にできる
ため、低消費電力化が可能になる。
【0037】(第5の実施形態)図5は、本発明の第5
の実施形態を示す半導体装置の概略の縦断面図である。
この半導体装置10Dは、外部の回路基板30に形成さ
れた開口部32に実装されるものであり、第1の集積回
路基材11−1を有している。集積回路基材11−1の
裏面には、電子回路からなる第1の集積回路12が形成
されると共に、この集積回路12に接続された複数の第
1のパッド13が形成されている。各パッド13上に
は、導体(例えば、半田、Au等のバンプ)16Aが固
着され、このバンプ16Aが、外部の回路基板30の開
口部32周辺に形成された複数のパッド31上に載置さ
れて接続されるようになっている。第1の集積回路基材
11−1の裏面には、導電性接着材(例えば、異方性導
電シート)21によって第2の集積回路基材11−2の
表面が接着されている。第2の集積回路基材11−2
は、開口部32内に収容され、表面に電子回路からなる
第2の集積回路14が形成されている。
の実施形態を示す半導体装置の概略の縦断面図である。
この半導体装置10Dは、外部の回路基板30に形成さ
れた開口部32に実装されるものであり、第1の集積回
路基材11−1を有している。集積回路基材11−1の
裏面には、電子回路からなる第1の集積回路12が形成
されると共に、この集積回路12に接続された複数の第
1のパッド13が形成されている。各パッド13上に
は、導体(例えば、半田、Au等のバンプ)16Aが固
着され、このバンプ16Aが、外部の回路基板30の開
口部32周辺に形成された複数のパッド31上に載置さ
れて接続されるようになっている。第1の集積回路基材
11−1の裏面には、導電性接着材(例えば、異方性導
電シート)21によって第2の集積回路基材11−2の
表面が接着されている。第2の集積回路基材11−2
は、開口部32内に収容され、表面に電子回路からなる
第2の集積回路14が形成されている。
【0038】異方性導電シート21は、シリコンゴムベ
ースシート等の絶縁部21aの表裏に複数の金属線21
bが埋められた構造をしており、シート上下方向の接続
のみ可能で、左右方向は絶縁されており、LSIソケッ
ト等でも使用されている。集積回路基材11−1と11
−2を異方性導電シート21で接着することにより、第
1の集積回路12と第2の集積回路14とがこの異方性
導電シート21を介して電気的に接続されている。回路
基板30の開口部32内には、合成樹脂等の樹脂部材2
0Bが充填され、この樹脂部材20Bによって第1の集
積回路12、異方性導電シート21、及び第2の集積回
路基材11−2が樹脂封止されている。
ースシート等の絶縁部21aの表裏に複数の金属線21
bが埋められた構造をしており、シート上下方向の接続
のみ可能で、左右方向は絶縁されており、LSIソケッ
ト等でも使用されている。集積回路基材11−1と11
−2を異方性導電シート21で接着することにより、第
1の集積回路12と第2の集積回路14とがこの異方性
導電シート21を介して電気的に接続されている。回路
基板30の開口部32内には、合成樹脂等の樹脂部材2
0Bが充填され、この樹脂部材20Bによって第1の集
積回路12、異方性導電シート21、及び第2の集積回
路基材11−2が樹脂封止されている。
【0039】このような構成の半導体装置10Dを製造
するには、例えば、集積回路12、複数のパッド13、
及び複数のバンプ16Aが形成された集積回路基材11
−1の裏面に、異方性導電シート21によって集積回路
基材11−2を接着しておく。そして、集積回路基材1
1−1側のバンプ16Aを位置決めして回路基板30の
パッド31上に載置し、半田付け等によって該バンプ1
6Aをパッド31に接続する。その後、回路基板30の
開口部32内に樹脂部材20Bを充填して集積回路基材
11−2等を樹脂封止すれば、図5の半導体装置10D
が得られる。製造された半導体装置10Dでは、第1の
集積回路12と第2の集積回路14とが、該半導体装置
10D内の異方性導電シート21によって接続される。
そして、第1の集積回路12は、パッド13及びバンプ
16Aを介して外部の回路基板30のパッド31と接続
されることとなる。
するには、例えば、集積回路12、複数のパッド13、
及び複数のバンプ16Aが形成された集積回路基材11
−1の裏面に、異方性導電シート21によって集積回路
基材11−2を接着しておく。そして、集積回路基材1
1−1側のバンプ16Aを位置決めして回路基板30の
パッド31上に載置し、半田付け等によって該バンプ1
6Aをパッド31に接続する。その後、回路基板30の
開口部32内に樹脂部材20Bを充填して集積回路基材
11−2等を樹脂封止すれば、図5の半導体装置10D
が得られる。製造された半導体装置10Dでは、第1の
集積回路12と第2の集積回路14とが、該半導体装置
10D内の異方性導電シート21によって接続される。
そして、第1の集積回路12は、パッド13及びバンプ
16Aを介して外部の回路基板30のパッド31と接続
されることとなる。
【0040】この第5の実施形態では、第1〜第4の実
施形態とほぼ同様の効果が得られる上に、次の(イ)〜
(ハ)のような効果もある。 (イ) 外部の回路基板30の開口部32内に集積回路
基材11−2を収容するようにしたので、該回路基板3
0に対し、半導体装置10Dの実装高さを大幅に抑える
ことができる。 (ロ) 開口部32内に充填した樹脂部材20Bによっ
て集積回路基材11−2等が樹脂封止されているので、
強度信頼性が向上する。 (ハ) 第1の集積回路12と第2の集積回路14は、
異方性導電シート21によって接続されているので、こ
れらの間の接続をさらに短縮でき、これによって消費電
力をより減少できる。
施形態とほぼ同様の効果が得られる上に、次の(イ)〜
(ハ)のような効果もある。 (イ) 外部の回路基板30の開口部32内に集積回路
基材11−2を収容するようにしたので、該回路基板3
0に対し、半導体装置10Dの実装高さを大幅に抑える
ことができる。 (ロ) 開口部32内に充填した樹脂部材20Bによっ
て集積回路基材11−2等が樹脂封止されているので、
強度信頼性が向上する。 (ハ) 第1の集積回路12と第2の集積回路14は、
異方性導電シート21によって接続されているので、こ
れらの間の接続をさらに短縮でき、これによって消費電
力をより減少できる。
【0041】(変形例)なお、本発明は上記実施形態に
限定されず、種々の変形が可能である。この変形例とし
ては、例えば、次の(1)、(2)のようなものがあ
る。 (1) 図3において、1枚の集積回路基材11に代え
て、図2の2枚の集積回路基材11−1,11−2を設
けてもよい。これにより、図3の第3の実施形態とほぼ
同様の効果が得られる。
限定されず、種々の変形が可能である。この変形例とし
ては、例えば、次の(1)、(2)のようなものがあ
る。 (1) 図3において、1枚の集積回路基材11に代え
て、図2の2枚の集積回路基材11−1,11−2を設
けてもよい。これにより、図3の第3の実施形態とほぼ
同様の効果が得られる。
【0042】(2) 図5において、集積回路基材11
−1の裏面に接着された集積回路基材11−2を予め樹
脂部材20Bで樹脂封止しておき、この樹脂部材20B
を回路基板30の開口部32内に挿入して実装するよう
にしてもよい。これにより、実装作業を簡略化できる。
また、バンプ16Aは、リードフレーム、TAB導体等
の他の導体を用いて回路基板30のパッド31に接続し
たり、あるいは異方性導電シート21を他の導電性接着
材で置き換えてもよい。
−1の裏面に接着された集積回路基材11−2を予め樹
脂部材20Bで樹脂封止しておき、この樹脂部材20B
を回路基板30の開口部32内に挿入して実装するよう
にしてもよい。これにより、実装作業を簡略化できる。
また、バンプ16Aは、リードフレーム、TAB導体等
の他の導体を用いて回路基板30のパッド31に接続し
たり、あるいは異方性導電シート21を他の導電性接着
材で置き換えてもよい。
【0043】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1の発明
によれば、集積回路基材の表面及び裏面に第1及び第2
の集積回路を形成し、これらの第1の集積回路をワイヤ
によって外部の回路基板のパッドに接続すると共に、第
2の集積回路をバンプによって該回路基板の他のパッド
に接続するようにしたので、外部への接続のためのパッ
ド数が多い多ピン半導体装置においても、外形サイズを
大きくすることなく、外部の回路基板へのボンディング
エリアを含めた実装面積を小さくすることができる。
によれば、集積回路基材の表面及び裏面に第1及び第2
の集積回路を形成し、これらの第1の集積回路をワイヤ
によって外部の回路基板のパッドに接続すると共に、第
2の集積回路をバンプによって該回路基板の他のパッド
に接続するようにしたので、外部への接続のためのパッ
ド数が多い多ピン半導体装置においても、外形サイズを
大きくすることなく、外部の回路基板へのボンディング
エリアを含めた実装面積を小さくすることができる。
【0044】第2の発明によれば、集積回路基材の表面
及び裏面に第1及び第2の集積回路を形成し、これらの
第1の集積回路にリードフレームを接続すると共に、第
2の集積回路にパッドを接続し、さらにこれらの集積回
路基材、及びリードフレームとの接続箇所を樹脂封止す
るようにしたので、第1の発明とほぼ同様の効果が得ら
れる上に、リードフレームを用いて外部の回路基板と簡
単に接続して実装することができる。さらに、集積回路
基材及びリードフレームとの接続箇所が樹脂封止されて
いるので、強度的信頼性を向上できる。
及び裏面に第1及び第2の集積回路を形成し、これらの
第1の集積回路にリードフレームを接続すると共に、第
2の集積回路にパッドを接続し、さらにこれらの集積回
路基材、及びリードフレームとの接続箇所を樹脂封止す
るようにしたので、第1の発明とほぼ同様の効果が得ら
れる上に、リードフレームを用いて外部の回路基板と簡
単に接続して実装することができる。さらに、集積回路
基材及びリードフレームとの接続箇所が樹脂封止されて
いるので、強度的信頼性を向上できる。
【0045】第3の発明によれば、第1の集積回路基材
と第2の集積回路基材とを接着したので、第1及び第2
の発明とほぼ同様の効果が得られる上に、第1と第2の
集積回路基材を別個に製造しておき、これらを接着すれ
ばよいので、第1及び第2の発明のような1枚の集積回
路基材を用いたものよりも、製造の簡略化が可能にな
る。
と第2の集積回路基材とを接着したので、第1及び第2
の発明とほぼ同様の効果が得られる上に、第1と第2の
集積回路基材を別個に製造しておき、これらを接着すれ
ばよいので、第1及び第2の発明のような1枚の集積回
路基材を用いたものよりも、製造の簡略化が可能にな
る。
【0046】第4の発明によれば、第1と第2の集積回
路を半導体装置内のワイヤによって接続するようにした
ので、第1〜第3の発明とほぼ同様の効果が得られる上
に、第1と第2の集積回路が内部のワイヤで接続されて
いるため、該第1と第2の集積回路間の配線を最適化で
きる。さらに、リードフレームによって外部の回路基板
と接続するだけで実装できるので、このリードフレーム
の数を削減でき、この削減によってリードフレームのピ
ッチを広くすることができるため、接続信頼性を向上で
きる。さらに、予め外部の回路基板側の配線を考慮して
から重ねる第1と第2の集積回路を設計すると、より一
層の効果を得ることができる。
路を半導体装置内のワイヤによって接続するようにした
ので、第1〜第3の発明とほぼ同様の効果が得られる上
に、第1と第2の集積回路が内部のワイヤで接続されて
いるため、該第1と第2の集積回路間の配線を最適化で
きる。さらに、リードフレームによって外部の回路基板
と接続するだけで実装できるので、このリードフレーム
の数を削減でき、この削減によってリードフレームのピ
ッチを広くすることができるため、接続信頼性を向上で
きる。さらに、予め外部の回路基板側の配線を考慮して
から重ねる第1と第2の集積回路を設計すると、より一
層の効果を得ることができる。
【0047】第5の発明によれば、第1と第2の集積回
路を導電性接着材によって接着し、第2の集積回路基材
を外部の回路基板の開口部内に収容し、この開口部内を
樹脂封止するようにしたので、外部の回路基板に対し、
半導体装置の実装高さを大幅に抑えることができ、さら
に開口部内が樹脂封止されているので、強度信頼性が向
上する。しかも、第1と第2の集積回路が導電性接着材
によって電気的に接続されているので、この第1と第2
の集積回路間の接続をさらに短縮でき、これによってさ
らなる低消費電力化が可能になる。第6の発明によれ
ば、導体をバンプで構成したので、外部の回路基板への
実装時の接続が簡単になる。さらに、導電性接着材を異
方性導電シートで構成したので、第1と第2の集積回路
を簡単かつ的確に接続できる。
路を導電性接着材によって接着し、第2の集積回路基材
を外部の回路基板の開口部内に収容し、この開口部内を
樹脂封止するようにしたので、外部の回路基板に対し、
半導体装置の実装高さを大幅に抑えることができ、さら
に開口部内が樹脂封止されているので、強度信頼性が向
上する。しかも、第1と第2の集積回路が導電性接着材
によって電気的に接続されているので、この第1と第2
の集積回路間の接続をさらに短縮でき、これによってさ
らなる低消費電力化が可能になる。第6の発明によれ
ば、導体をバンプで構成したので、外部の回路基板への
実装時の接続が簡単になる。さらに、導電性接着材を異
方性導電シートで構成したので、第1と第2の集積回路
を簡単かつ的確に接続できる。
【図1】本発明の第1の実施形態を示す半導体装置の概
略の縦断面図である。
略の縦断面図である。
【図2】本発明の第2の実施形態を示す半導体装置の概
略の縦断面図である。
略の縦断面図である。
【図3】本発明の第3の実施形態を示す半導体装置の概
略の縦断面図である。
略の縦断面図である。
【図4】本発明の第4の実施形態を示す半導体装置の概
略の縦断面図である。
略の縦断面図である。
【図5】本発明の第5の実施形態を示す半導体装置の概
略の縦断面図である。
略の縦断面図である。
10,10A,10B,10C,10D 半導体装置 11,11−1,11−2 集積回路基材 12,14 集積回路 13,15,31 パッド 16,16A バンプ 17,17A,17B,17C,17D ワイヤ 18 接着剤 20,20A,20B 樹脂部材 21 異方性導電シート 30 回路基板 32 開口部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 25/18
Claims (6)
- 【請求項1】 表面に第1の半導体集積回路及び裏面に
第2の半導体集積回路がそれぞれ形成された集積回路基
材と、 前記集積回路基材の表面に形成されて前記第1の半導体
集積回路に接続され、外部の回路基板のパッドにワイヤ
で接続される複数の第1のパッドと、 前記集積回路基材の裏面に形成されて前記第2の半導体
集積回路に接続された複数の第2のパッドと、 前記複数の第2のパッドに固着され、前記外部の回路基
板のパッドに溶着される複数のバンプと、 を有することを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 表面に第1の半導体集積回路及び裏面に
第2の半導体集積回路がそれぞれ形成された集積回路基
材と、 前記集積回路基材の表面に形成されて前記第1の半導体
集積回路に接続された複数の第1のパッドと、 内側がワイヤによって前記第1のパッドに接続され、外
側が外部の回路基板のパッドに接続される複数のリード
フレームと、 前記集積回路基材の裏面に形成されて前記第2の半導体
集積回路に接続された複数の第2のパッドと、 前記複数の第2のパッドに固着され、前記外部の回路基
板のパッドに溶着される複数のバンプとを有し、 前記第1の半導体集積回路、前記複数の第1のパッド、
前記ワイヤ、及び前記複数のリードフレームの内側が樹
脂封止されたことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項3】 前記集積回路基材は、 表面に前記第1の半導体集積回路及び前記複数の第1の
パッドが形成された第1の集積回路基材と、 表面が前記第1の集積回路基材の裏面に接着され、裏面
に前記第2の半導体集積回路及び前記複数の第2のパッ
ドが形成されると共にこの複数の第2のパッドに前記複
数のバンプが固着された第2の集積回路基材と、 で構成したことを特徴とする請求項1又は2記載の半導
体装置。 - 【請求項4】 表面に第1の半導体集積回路及びこの第
1の半導体集積回路に接続された複数の第1のパッドが
形成された第1の集積回路基材と、 裏面が前記第1の集積回路基材の表面に接着され、表面
に第2の半導体集積回路及びこの第2の半導体集積回路
に接続された複数の第2のパッドが形成された第2の集
積回路基材と、 前記複数の第1のパッドと前記複数の第2のパッドを接
続する複数の第1のワイヤと、 内側が複数の第2のワイヤによって前記第1のパッド及
び前記第2のパッドに接続され、外側が外部の回路基板
のパッドに接続される複数のリードフレームとを有し、 前記第1の半導体集積回路、前記複数の第1のパッド、
前記第2の半導体集積回路、前記複数の第2のパッド、
前記複数の第1のワイヤ、前記複数の第2のワイヤ、及
び前記複数のリードフレームの内側が樹脂封止されたこ
とを特徴とする半導体装置。 - 【請求項5】 裏面に第1の半導体集積回路が形成され
た第1の集積回路基材と、 前記第1の集積回路基材に形成されて前記第1の半導体
集積回路に接続され、外部の回路基板の開口部周辺に形
成されたパッドに導体によって接続される複数の第1の
パッドと、 表面に第2の半導体集積回路が形成され、前記外部の回
路基板の開口部内に収容されかつ該第2の半導体集積回
路が導電性接着材によって前記第1の半導体集積回路に
接続された第2の集積回路基材とを有し、 前記外部の回路基板の開口部内、前記第1の集積回路基
材の裏面側、及び前記第2の集積回路基材が樹脂封止さ
れたことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項6】 前記導体はバンプで構成し、前記導電性
接着材は異方性導電シートで構成したことを特徴とする
請求項5記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2000138262A JP2001319943A (ja) | 2000-05-11 | 2000-05-11 | 半導体装置 |
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JP2000138262A JP2001319943A (ja) | 2000-05-11 | 2000-05-11 | 半導体装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2001319943A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003332549A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 実装構造および撮像装置 |
JP2010141110A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Sharp Corp | 半導体装置 |
JP2011176049A (ja) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 半導体素子の実装構造 |
-
2000
- 2000-05-11 JP JP2000138262A patent/JP2001319943A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003332549A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 実装構造および撮像装置 |
JP2010141110A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Sharp Corp | 半導体装置 |
CN101752340B (zh) * | 2008-12-11 | 2012-04-18 | 夏普株式会社 | 半导体装置 |
US8269353B2 (en) | 2008-12-11 | 2012-09-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor device having a plurality of adhesion area patterns and one or more non-adhesion area patterns |
JP2011176049A (ja) * | 2010-02-23 | 2011-09-08 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 半導体素子の実装構造 |
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