JP2001316589A - 相互貫入ポリマーネットワークを含んでなる組成物 - Google Patents
相互貫入ポリマーネットワークを含んでなる組成物Info
- Publication number
- JP2001316589A JP2001316589A JP2001092474A JP2001092474A JP2001316589A JP 2001316589 A JP2001316589 A JP 2001316589A JP 2001092474 A JP2001092474 A JP 2001092474A JP 2001092474 A JP2001092474 A JP 2001092474A JP 2001316589 A JP2001316589 A JP 2001316589A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- network
- dendrimer
- ipn
- pamamos
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G83/00—Macromolecular compounds not provided for in groups C08G2/00 - C08G81/00
- C08G83/002—Dendritic macromolecules
- C08G83/003—Dendrimers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08B—POLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
- C08B3/00—Preparation of cellulose esters of organic acids
- C08B3/22—Post-esterification treatments, including purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polycarbonates or saturated polyesters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polycarbonamides, polyesteramides or polyimides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/12—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L1/00—Compositions of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
- C08L1/08—Cellulose derivatives
- C08L1/10—Esters of organic acids, i.e. acylates
- C08L1/14—Mixed esters, e.g. cellulose acetate-butyrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
- C08L101/005—Dendritic macromolecules
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規な巨大分子構造体を提供すること。
【解決手段】 2種以上のポリマー成分を含む相互貫入
ポリマーネットワークを含んでなる組成物であって、少
なくとも1種のポリマー成分がデンドリマーまたは樹枝
状ポリマーの形態にあるネットワークであり、他のポリ
マー成分がデンドリマー、樹枝状ポリマー、多重分岐ポ
リマー、くし形の形状を有する非架橋多分岐ポリマー、
規則的に分岐したポリマー、ランダムに分岐したポリマ
ー、および線状ポリマーからなる群から選ばれるもので
あり、前記ネットワークポリマー成分が前記他のポリマ
ー成分の存在下に合成または架橋されたものである組成
物。
ポリマーネットワークを含んでなる組成物であって、少
なくとも1種のポリマー成分がデンドリマーまたは樹枝
状ポリマーの形態にあるネットワークであり、他のポリ
マー成分がデンドリマー、樹枝状ポリマー、多重分岐ポ
リマー、くし形の形状を有する非架橋多分岐ポリマー、
規則的に分岐したポリマー、ランダムに分岐したポリマ
ー、および線状ポリマーからなる群から選ばれるもので
あり、前記ネットワークポリマー成分が前記他のポリマ
ー成分の存在下に合成または架橋されたものである組成
物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な部類の巨大
分子構造体と、少なくとも2種のネットワーク成分の永
久的に相互に貫入し合う系である組成物に関する。少な
くとも2種のネットワーク成分のうち少なくとも1種の
ネットワーク成分はデンドリマーをベースとしたもので
あるかまたは樹枝状ポリマーをベースとしたものであ
る。その他のネットワーク成分は、同じ、類似の、また
は異なるタイプの巨大分子構造を有することができ、こ
のその他のネットワーク成分としては、他のデンドリマ
ー、多重分岐ポリマー(hyperbranched polymer)、Com
b-burst(商標)ポリマー、規則的またはランダムに分
岐したポリマー、および線状ポリマーが挙げられるが、
これらに限定されない。
分子構造体と、少なくとも2種のネットワーク成分の永
久的に相互に貫入し合う系である組成物に関する。少な
くとも2種のネットワーク成分のうち少なくとも1種の
ネットワーク成分はデンドリマーをベースとしたもので
あるかまたは樹枝状ポリマーをベースとしたものであ
る。その他のネットワーク成分は、同じ、類似の、また
は異なるタイプの巨大分子構造を有することができ、こ
のその他のネットワーク成分としては、他のデンドリマ
ー、多重分岐ポリマー(hyperbranched polymer)、Com
b-burst(商標)ポリマー、規則的またはランダムに分
岐したポリマー、および線状ポリマーが挙げられるが、
これらに限定されない。
【0002】本発明には、デンドリマーネットワーク成
分と相互に貫入し合う1つの成分がネットワークを構成
していなくてもよいが非架橋ポリマーからなっていても
よい巨大分子構造体も含まれ、この巨大分子は、デンド
リマーネットワークと十分に絡み合うように十分に長
く、自己分離する傾向を示さない系を生じる。
分と相互に貫入し合う1つの成分がネットワークを構成
していなくてもよいが非架橋ポリマーからなっていても
よい巨大分子構造体も含まれ、この巨大分子は、デンド
リマーネットワークと十分に絡み合うように十分に長
く、自己分離する傾向を示さない系を生じる。
【0003】
【従来の技術】相互貫入ポリマーネットワーク(interp
enetrating polymer network, IPN)は、共にネットワ
ークの形態にある少なくとも2種のポリマーの緊密な組
み合わせであり、少なくとも1つのポリマーネットワー
クは他のポリマーネットワークがその場に存在している
状態で合成または架橋される。概して、これら2つのポ
リマー間に共有結合は生じない。すなわち、モノマーA
は、モノマーAの他の分子のみと反応し、そしてモノマ
ーBはモノマーBの他の分子のみと反応する。
enetrating polymer network, IPN)は、共にネットワ
ークの形態にある少なくとも2種のポリマーの緊密な組
み合わせであり、少なくとも1つのポリマーネットワー
クは他のポリマーネットワークがその場に存在している
状態で合成または架橋される。概して、これら2つのポ
リマー間に共有結合は生じない。すなわち、モノマーA
は、モノマーAの他の分子のみと反応し、そしてモノマ
ーBはモノマーBの他の分子のみと反応する。
【0004】従って、「逐次合成(sequential synthes
is)」なる用語は、架橋したポリマーAをモノマーBお
よび架橋剤の存在下に膨潤させ、そしてBを重合させる
ことを意味する。「同時合成(simultaneous synthesi
s)」なる用語は、互いに妨害しない方式でモノマーA
およびBを架橋および重合させることを意味する。
is)」なる用語は、架橋したポリマーAをモノマーBお
よび架橋剤の存在下に膨潤させ、そしてBを重合させる
ことを意味する。「同時合成(simultaneous synthesi
s)」なる用語は、互いに妨害しない方式でモノマーA
およびBを架橋および重合させることを意味する。
【0005】機械的ブレンディングおよび共重合に加え
て、IPNは、異なるポリマーを物理的に組み合わせら
れる第3の機構を代表する。この種の組成物は、完全I
PN(full IPN)、逐次IPN(sequential IPN,SIP
N)、同時IPN(simultaneous IPN, SIN)、熱可塑性
IPN、セミIPN(semi-IPN)、および擬似IPN
(pseudo-IPN)に分類されてきた。完全IPNは、個々
のポリマーネットワークの間に架橋を有しない2種以上
のポリマーネットワークを含む物質であると定義されて
いる。逐次IPNは、架橋したポリマーAを、モノマー
B、モノマーBのための架橋剤および開始剤中で膨潤さ
せ、そしてその場でモノマーBを重合および架橋させる
方法により調製される物質と定義されている。同時IP
Nは、モノマーAおよびBとそれらの各々のための架橋
剤および開始剤を、互いに妨害しない方式で同時に重合
および架橋させる方法により調製される物質として定義
されている。熱可塑性IPNは、個々のポリマーネット
ワークが熱可塑性である2種のポリマーからなるIPN
である。このポリマーは、物理的架橋、例えば2つ以上
の鎖を連結するアイオノマーを含んでいても、相分離し
た単一のポリマー系として存在しても良い。セミIPN
および逐次IPNでは、1つのポリマー成分は架橋した
ものであり、その他のポリマー成分は線状である。擬似
IPNは、1つのポリマーがネットワーク、すなわち架
橋したものであり、その他のポリマーは線状である同時
IPNである。
て、IPNは、異なるポリマーを物理的に組み合わせら
れる第3の機構を代表する。この種の組成物は、完全I
PN(full IPN)、逐次IPN(sequential IPN,SIP
N)、同時IPN(simultaneous IPN, SIN)、熱可塑性
IPN、セミIPN(semi-IPN)、および擬似IPN
(pseudo-IPN)に分類されてきた。完全IPNは、個々
のポリマーネットワークの間に架橋を有しない2種以上
のポリマーネットワークを含む物質であると定義されて
いる。逐次IPNは、架橋したポリマーAを、モノマー
B、モノマーBのための架橋剤および開始剤中で膨潤さ
せ、そしてその場でモノマーBを重合および架橋させる
方法により調製される物質と定義されている。同時IP
Nは、モノマーAおよびBとそれらの各々のための架橋
剤および開始剤を、互いに妨害しない方式で同時に重合
および架橋させる方法により調製される物質として定義
されている。熱可塑性IPNは、個々のポリマーネット
ワークが熱可塑性である2種のポリマーからなるIPN
である。このポリマーは、物理的架橋、例えば2つ以上
の鎖を連結するアイオノマーを含んでいても、相分離し
た単一のポリマー系として存在しても良い。セミIPN
および逐次IPNでは、1つのポリマー成分は架橋した
ものであり、その他のポリマー成分は線状である。擬似
IPNは、1つのポリマーがネットワーク、すなわち架
橋したものであり、その他のポリマーは線状である同時
IPNである。
【0006】IPN含有有機ケイ素組成物は当該技術分
野で知られており、例えば米国特許第5,173,29
0号(1992年12月22日)明細書に記載されてい
るが、そのようなIPNはデンドリマーも含まないしケ
イ素原子を有するデンドリマーも含まない。実際に、真
のデンドリマーをベースとするIPNは文献に報告され
ていない。
野で知られており、例えば米国特許第5,173,29
0号(1992年12月22日)明細書に記載されてい
るが、そのようなIPNはデンドリマーも含まないしケ
イ素原子を有するデンドリマーも含まない。実際に、真
のデンドリマーをベースとするIPNは文献に報告され
ていない。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明は、少なくとも1種の樹枝
状ポリマーネットワーク成分と、別の樹枝状又は非樹枝
状ポリマーネットワーク成分とを含む構造上新規な相互
貫入ポリマーネットワーク(IPN)に関する。樹枝状
ポリマーは好ましくはデンドリマーであるが、樹枝状ポ
リマーは多重分岐型またはComb-burst(商標)型のポリ
マーから成っていても良い。非樹枝状成分は、例えば線
状のポリマー前駆体、環状のポリマー前駆体、規則的も
しくはランダムに分岐したポリマー前駆体等から得られ
たネットワーク等のネットワークから成っていても良
い。
状ポリマーネットワーク成分と、別の樹枝状又は非樹枝
状ポリマーネットワーク成分とを含む構造上新規な相互
貫入ポリマーネットワーク(IPN)に関する。樹枝状
ポリマーは好ましくはデンドリマーであるが、樹枝状ポ
リマーは多重分岐型またはComb-burst(商標)型のポリ
マーから成っていても良い。非樹枝状成分は、例えば線
状のポリマー前駆体、環状のポリマー前駆体、規則的も
しくはランダムに分岐したポリマー前駆体等から得られ
たネットワーク等のネットワークから成っていても良
い。
【0008】特に、本発明は、架橋したポリ(メチルメ
タクリレート)(PMMA)ネットワークおよびセルロ
ースアセトブチレート(CAB)ネットワークと相互に
貫入し合った半径方向に層状のコポリ(アミドアミン−
有機ケイ素)(PAMAMOS)デンドリマーをベース
とするネットワークの組み合わせに関する。
タクリレート)(PMMA)ネットワークおよびセルロ
ースアセトブチレート(CAB)ネットワークと相互に
貫入し合った半径方向に層状のコポリ(アミドアミン−
有機ケイ素)(PAMAMOS)デンドリマーをベース
とするネットワークの組み合わせに関する。
【0009】さらに、本発明には、線状セルロースアセ
トブチレート鎖と物理的に絡み合った架橋したPAMA
MOSデンドリマーをベースとするネットワークのセミ
IPNが含まれる。これらの組成物が樹枝状ポリマーを
含む最初の真の相互貫入ネットワークであり、また、こ
れらの組成物が、樹枝状成分と非樹枝状成分が超分子レ
ベルで緊密かつ永久的に組み合わさった全く新規な部類
の巨大分子構造体に相当するものと考えられる。
トブチレート鎖と物理的に絡み合った架橋したPAMA
MOSデンドリマーをベースとするネットワークのセミ
IPNが含まれる。これらの組成物が樹枝状ポリマーを
含む最初の真の相互貫入ネットワークであり、また、こ
れらの組成物が、樹枝状成分と非樹枝状成分が超分子レ
ベルで緊密かつ永久的に組み合わさった全く新規な部類
の巨大分子構造体に相当するものと考えられる。
【0010】IPN系にデンドリマーをベースとするネ
ットワークを組み込むことによって、それらの寸法安定
性および機械的特性を有効に制御できるとともにそれら
の特性がかなり改良される。さらに、本明細書で述べる
ようなIPN系に非デンドリマー成分を含めることによ
るデンドリマーネットワークの稀釈によって、そのよう
な物質の単位量当たりの費用が減少し、デンドリマーの
他に類のない特性および望ましい特性を保持したまま経
済性を高めることができる。
ットワークを組み込むことによって、それらの寸法安定
性および機械的特性を有効に制御できるとともにそれら
の特性がかなり改良される。さらに、本明細書で述べる
ようなIPN系に非デンドリマー成分を含めることによ
るデンドリマーネットワークの稀釈によって、そのよう
な物質の単位量当たりの費用が減少し、デンドリマーの
他に類のない特性および望ましい特性を保持したまま経
済性を高めることができる。
【0011】従って、これらの有益な特性の幾つかの例
として、人および環境の保護における活性化学種の捕
捉、すなわち吸着および制御放出、触媒、膜反応器、ド
ラッグデリバリー、遺伝子治療、農業、エレクトロニク
ス、オプトエレクトロニクス、金属含有ナノコンポジッ
トの形成、希少で価値の高い金属の採取、核反応器排水
の処理等の浄水、液体および気体の分離が挙げられる。
として、人および環境の保護における活性化学種の捕
捉、すなわち吸着および制御放出、触媒、膜反応器、ド
ラッグデリバリー、遺伝子治療、農業、エレクトロニク
ス、オプトエレクトロニクス、金属含有ナノコンポジッ
トの形成、希少で価値の高い金属の採取、核反応器排水
の処理等の浄水、液体および気体の分離が挙げられる。
【0012】図1から、両方の成分が連続的なネットワ
ークを与えることが分かる。このデンドリマーをベース
とするネットワークはデンドリマーからなるが、このネ
ットワークはデンドリマー間連結部分を含んでいても含
んでいなくてもよい。デンドリマー間連結部分は架橋性
補助剤の残基に相当する。線状ポリマーをベースとする
ネットワークは、線状セグメントと架橋点からなる。こ
れらのネットワークは、それらの化学結合を切断せずに
は分離できない。
ークを与えることが分かる。このデンドリマーをベース
とするネットワークはデンドリマーからなるが、このネ
ットワークはデンドリマー間連結部分を含んでいても含
んでいなくてもよい。デンドリマー間連結部分は架橋性
補助剤の残基に相当する。線状ポリマーをベースとする
ネットワークは、線状セグメントと架橋点からなる。こ
れらのネットワークは、それらの化学結合を切断せずに
は分離できない。
【0013】前述の通り、本発明は、真のデンドリマー
をベースとする相互貫入ポリマーネットワークの最初に
成功した調製法であると考えられるものに関する。本発
明により得られる組成物は、様々な異なる組成物を包含
する新規な部類の巨大分子構造体に相当する。
をベースとする相互貫入ポリマーネットワークの最初に
成功した調製法であると考えられるものに関する。本発
明により得られる組成物は、様々な異なる組成物を包含
する新規な部類の巨大分子構造体に相当する。
【0014】従って、最も一般的な意味において、これ
らの樹枝状ポリマーをベースとするIPNは、少なくと
も2種のネットワーク成分を含み、そのうち1種のネッ
トワーク成分は様々な種類の樹枝状ポリマー前駆体、例
えば多重分岐ポリマー、Combburst(商標)ポリマー、
デンドロンおよびデンドリマー等を架橋させることによ
り得られる樹枝状ポリマーネットワークである。このI
PNのその他のネットワーク成分は、架橋した非樹枝状
ポリマー前駆体、例えば線状ポリマー、環状ポリマー、
規則的に分岐したポリマーおよびランダムに分岐したポ
リマー等を包含する樹枝状または非樹枝状ポリマーネッ
トワークである。
らの樹枝状ポリマーをベースとするIPNは、少なくと
も2種のネットワーク成分を含み、そのうち1種のネッ
トワーク成分は様々な種類の樹枝状ポリマー前駆体、例
えば多重分岐ポリマー、Combburst(商標)ポリマー、
デンドロンおよびデンドリマー等を架橋させることによ
り得られる樹枝状ポリマーネットワークである。このI
PNのその他のネットワーク成分は、架橋した非樹枝状
ポリマー前駆体、例えば線状ポリマー、環状ポリマー、
規則的に分岐したポリマーおよびランダムに分岐したポ
リマー等を包含する樹枝状または非樹枝状ポリマーネッ
トワークである。
【0015】使用できる好適な多重分岐ポリマーを代表
する幾つかの例には、米国特許第6,001,945号
(1999年12月14日)明細書に記載されているも
ののような組成物があり、一方、本発明において使用す
るのに好適な代表的Combburst(商標)ポリマー組成物
の幾つかの例には米国特許第5,773,527号(1
998年6月30日)明細書に記載されているような組
成物がある。これらの特許明細書の開示は、引用により
ここに含まれていることにする。米国特許第5,77
3,527号明細書に記載されているように、Combburs
t(商標)ポリマー組成物は、くし形形状を有する実質
的に架橋されていない多分岐ポリマー(poly-branched
polymer)である。
する幾つかの例には、米国特許第6,001,945号
(1999年12月14日)明細書に記載されているも
ののような組成物があり、一方、本発明において使用す
るのに好適な代表的Combburst(商標)ポリマー組成物
の幾つかの例には米国特許第5,773,527号(1
998年6月30日)明細書に記載されているような組
成物がある。これらの特許明細書の開示は、引用により
ここに含まれていることにする。米国特許第5,77
3,527号明細書に記載されているように、Combburs
t(商標)ポリマー組成物は、くし形形状を有する実質
的に架橋されていない多分岐ポリマー(poly-branched
polymer)である。
【0016】相互貫入ポリマーネットワークは、2つ以
上の架橋したポリマーネットワークを、それら相互の相
溶性に関わらず、永久的な互いに組み合った絡み合いに
より結合および団結する他に類のない超分子構造体に相
当する。生成する組み合った構造のために、真のIPN
の成分を、それらの共有結合を切断せずに分離すること
はできない。さらに、互いに非相溶性の共存するネット
ワークの場合におけるそれらの潜在的な相分離のサイズ
スケールは、通常非常に小さく、凍結されるため、IP
Nは良好な経時的寸法安定性と、共存するネットワーク
の特性の相乗作用を概して示す。
上の架橋したポリマーネットワークを、それら相互の相
溶性に関わらず、永久的な互いに組み合った絡み合いに
より結合および団結する他に類のない超分子構造体に相
当する。生成する組み合った構造のために、真のIPN
の成分を、それらの共有結合を切断せずに分離すること
はできない。さらに、互いに非相溶性の共存するネット
ワークの場合におけるそれらの潜在的な相分離のサイズ
スケールは、通常非常に小さく、凍結されるため、IP
Nは良好な経時的寸法安定性と、共存するネットワーク
の特性の相乗作用を概して示す。
【0017】その結果、本発明に係るデンドリマーをベ
ースとするIPNによって、デンドリマー分子構造体の
望ましい特性、例えば米国特許第5,938,934号
(1999年8月17日)明細書に記載されているよう
な小さな分子ゲストを包み込むその能力と、他のIPN
成分に特徴的な特性、例えばデンドリマーをベースとす
るネットワークが有するまたは有しない有益な機械的お
よび電気的特性とが組み合わさる。さらに、デンドリマ
ーをベースとするネットワークに他の成分を含めること
で、得られるIPN生成物の単位質量または容量当たり
のより高価なデンドリマーの量が少なくなるため、それ
らの経済性に多大な影響を及ぼす。
ースとするIPNによって、デンドリマー分子構造体の
望ましい特性、例えば米国特許第5,938,934号
(1999年8月17日)明細書に記載されているよう
な小さな分子ゲストを包み込むその能力と、他のIPN
成分に特徴的な特性、例えばデンドリマーをベースとす
るネットワークが有するまたは有しない有益な機械的お
よび電気的特性とが組み合わさる。さらに、デンドリマ
ーをベースとするネットワークに他の成分を含めること
で、得られるIPN生成物の単位質量または容量当たり
のより高価なデンドリマーの量が少なくなるため、それ
らの経済性に多大な影響を及ぼす。
【0018】本明細書において、1つが合成ポリマーを
使用し、もう1つが天然由来のポリマーを使用するPA
MAMOSデンドリマーをベースとするIPNの製法を
開示する。これら2種のIPNはともに、デンドリマー
ネットワークが線状ポリマーセグメントの他のネットワ
ークと永久的に組み合った新規な部類の巨大分子構造体
に相当する。本発明に係るIPNは、半径方向に層状の
コポリ(プロピレンアミン−有機ケイ素)(PPIO
S)デンドリマーをベースとするネットワークから製造
することもできる。
使用し、もう1つが天然由来のポリマーを使用するPA
MAMOSデンドリマーをベースとするIPNの製法を
開示する。これら2種のIPNはともに、デンドリマー
ネットワークが線状ポリマーセグメントの他のネットワ
ークと永久的に組み合った新規な部類の巨大分子構造体
に相当する。本発明に係るIPNは、半径方向に層状の
コポリ(プロピレンアミン−有機ケイ素)(PPIO
S)デンドリマーをベースとするネットワークから製造
することもできる。
【0019】これらのIPNを製造するための1つの方
法は、全ての成分をまず混合し、次に別々の架橋温度で
互いに独立にネットワークを形成する現場逐次法を伴
う。後述の実施例においては、より低い温度でデンドリ
マーネットワークをまず形成し、一方、得られた系をよ
り高い温度に加熱することにより線状ポリマーネットワ
ークを生成させる。
法は、全ての成分をまず混合し、次に別々の架橋温度で
互いに独立にネットワークを形成する現場逐次法を伴
う。後述の実施例においては、より低い温度でデンドリ
マーネットワークをまず形成し、一方、得られた系をよ
り高い温度に加熱することにより線状ポリマーネットワ
ークを生成させる。
【0020】この現場逐次法の最初の段階で、第2のネ
ットワークのための前駆体の存在下に室温でPAMAM
OSデンドリマーネットワークを基本的に2段階で合成
する。まず、大気湿分を使用してまたは水を添加するこ
とによってジメトキシメチルシリル末端PAMAMOS
デンドリマーのメトキシシリル末端基を加水分解してシ
ラノール基にする。加水分解したPAMAMOSデンド
リマーを次に触媒を使用してまたは使用せずに自己縮合
させる。触媒が使用される場合に、その触媒は、縮合反
応を促進することのできるいかなる化合物であっても良
い。触媒の例には、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物;アルカリ金属シラノラート;アルカリ金属アル
コキシド;水酸化第4級アンモニウム;ジブチル錫ジラ
ウレート、酢酸第一錫およびオクタン酸第一錫等の有機
酸の金属塩;硫酸および塩酸等の無機酸;酢酸等の有機
酸;オルガノスルホン酸;水酸化アンモニウム等のアン
モニウム化合物がある。最も好ましい触媒はジブチル錫
ジラウレートである。
ットワークのための前駆体の存在下に室温でPAMAM
OSデンドリマーネットワークを基本的に2段階で合成
する。まず、大気湿分を使用してまたは水を添加するこ
とによってジメトキシメチルシリル末端PAMAMOS
デンドリマーのメトキシシリル末端基を加水分解してシ
ラノール基にする。加水分解したPAMAMOSデンド
リマーを次に触媒を使用してまたは使用せずに自己縮合
させる。触媒が使用される場合に、その触媒は、縮合反
応を促進することのできるいかなる化合物であっても良
い。触媒の例には、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物;アルカリ金属シラノラート;アルカリ金属アル
コキシド;水酸化第4級アンモニウム;ジブチル錫ジラ
ウレート、酢酸第一錫およびオクタン酸第一錫等の有機
酸の金属塩;硫酸および塩酸等の無機酸;酢酸等の有機
酸;オルガノスルホン酸;水酸化アンモニウム等のアン
モニウム化合物がある。最も好ましい触媒はジブチル錫
ジラウレートである。
【0021】純粋なPAMAMOSデンドリマーをベー
スとするネットワークを製造するためのこの技術は米国
特許第5,902,863号(1999年5月11日)
明細書に詳細に記載されている。所望であれば、架橋
は、小さな分子またはオリゴマーの(i)二官能性試薬
A 2、(ii)三官能性試薬A3、または(iii)多官能性
試薬Ax(xは4以上)である補助剤を含むことができ
る。代表的なA2、A3およびAx試薬は、例えばオルガ
ノハロシラン;テトラハロシラン;オルガノシラノー
ル;ジアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、テト
ラアルコキシシラン等のオルガノ(オルガノオキシシラ
ン);オルガノ−H−シラン;オルガノアミノシラン;
アセトキシシラン等のオルガノアシロキシシラン;オル
ガノシルセスキオキサン;ウレイド置換シラン;ビニル
置換シラン;およびアリル置換シランがある。使用でき
る補助剤の幾つかの具体例としては、トリメトキシシラ
ン(CH3O)3SiH、テトラメトキシシランSi(O
CH3)4、トリエトキシシラン(C2H5O)3SiH、
テトラエトキシシランSi(OC2H5)4、α,ω−テ
レケリックシロキサンジシラノールオリゴマー、および
様々な分子量のα,ω−テレケリックポリシロキサンジ
シラノールが挙げられる。そのような補助剤の機能は、
ネットワーク架橋の密度を増加させること、または隣接
するデンドリマーを分けることである。本明細書で使用
する場合に、「テレケリック」なる用語は、選択的に反
応して他の分子との結合を生じることのできる末端基を
含むポリマーを意味する。
スとするネットワークを製造するためのこの技術は米国
特許第5,902,863号(1999年5月11日)
明細書に詳細に記載されている。所望であれば、架橋
は、小さな分子またはオリゴマーの(i)二官能性試薬
A 2、(ii)三官能性試薬A3、または(iii)多官能性
試薬Ax(xは4以上)である補助剤を含むことができ
る。代表的なA2、A3およびAx試薬は、例えばオルガ
ノハロシラン;テトラハロシラン;オルガノシラノー
ル;ジアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、テト
ラアルコキシシラン等のオルガノ(オルガノオキシシラ
ン);オルガノ−H−シラン;オルガノアミノシラン;
アセトキシシラン等のオルガノアシロキシシラン;オル
ガノシルセスキオキサン;ウレイド置換シラン;ビニル
置換シラン;およびアリル置換シランがある。使用でき
る補助剤の幾つかの具体例としては、トリメトキシシラ
ン(CH3O)3SiH、テトラメトキシシランSi(O
CH3)4、トリエトキシシラン(C2H5O)3SiH、
テトラエトキシシランSi(OC2H5)4、α,ω−テ
レケリックシロキサンジシラノールオリゴマー、および
様々な分子量のα,ω−テレケリックポリシロキサンジ
シラノールが挙げられる。そのような補助剤の機能は、
ネットワーク架橋の密度を増加させること、または隣接
するデンドリマーを分けることである。本明細書で使用
する場合に、「テレケリック」なる用語は、選択的に反
応して他の分子との結合を生じることのできる末端基を
含むポリマーを意味する。
【0022】IPNの製造における第1段階の最後に、
第2のネットワークを形成することにその後使用される
成分によりデンドリマーネットワークを膨潤させる。第
2のネットワークを生成させるために使用できるモノマ
ーの幾つかの例には、ポリ(メチルメタクリレート)
(PMMA)をもたらすメチルメタクリレート(MM
A)と、セルロースアセトブチレート(CAB)があ
る。前者のモノマーを使用する場合に、MMAモノマ
ー、遊離基開始剤としての2,2’−アゾビスイソブチ
ロニトリル(AIBN)および架橋剤としてのエチレン
グリコールジメタクリレート(EGDMA)から、それ
らの混合物を窒素中で60℃で加熱することによって線
状セグメントネットワークを形成することができる。
第2のネットワークを形成することにその後使用される
成分によりデンドリマーネットワークを膨潤させる。第
2のネットワークを生成させるために使用できるモノマ
ーの幾つかの例には、ポリ(メチルメタクリレート)
(PMMA)をもたらすメチルメタクリレート(MM
A)と、セルロースアセトブチレート(CAB)があ
る。前者のモノマーを使用する場合に、MMAモノマ
ー、遊離基開始剤としての2,2’−アゾビスイソブチ
ロニトリル(AIBN)および架橋剤としてのエチレン
グリコールジメタクリレート(EGDMA)から、それ
らの混合物を窒素中で60℃で加熱することによって線
状セグメントネットワークを形成することができる。
【0023】必要な遊離基開始剤の量は、MMAモノマ
ーの量に対して典型的には0.5〜2質量%である。A
IBN以外の遊離基開始剤を使用でき、例えば、4,
4’−アゾ−4−シアノペンタン酸(ACPA)等の他
のアゾ化合物、過酸化水素および過酸化アルキル等の過
酸化物、過硫酸塩、過酸エステルおよび過酸を使用でき
る。
ーの量に対して典型的には0.5〜2質量%である。A
IBN以外の遊離基開始剤を使用でき、例えば、4,
4’−アゾ−4−シアノペンタン酸(ACPA)等の他
のアゾ化合物、過酸化水素および過酸化アルキル等の過
酸化物、過硫酸塩、過酸エステルおよび過酸を使用でき
る。
【0024】PAMAMOSデンドリマー、MMA、E
GDMAおよびAIBNは全て、PAMAMOSデンド
リマーが供給されるメタノールに可溶なため、このIP
N合成を実施するのに他の溶剤は必要でない。さらに、
MMAの遊離基重合は概して室温で起こらないため、こ
れらのネットワーク形成反応の一方が他方を妨害するこ
となく、両方のネットワークの形成が独立に起こる。
GDMAおよびAIBNは全て、PAMAMOSデンド
リマーが供給されるメタノールに可溶なため、このIP
N合成を実施するのに他の溶剤は必要でない。さらに、
MMAの遊離基重合は概して室温で起こらないため、こ
れらのネットワーク形成反応の一方が他方を妨害するこ
となく、両方のネットワークの形成が独立に起こる。
【0025】これに対し、セルロースアセトブチレート
(CAB)を使用する技術は、先の手法で使用されるよ
うな重合性モノマーの代わりに予備形成された架橋性ポ
リマーの使用を伴う。この場合に、前記成分に対してク
ロロホルム等の常用の溶剤を使用することができる。デ
ンドリマーおよびセルロース誘導体は典型的には固体の
乾燥した形態で使用される。これらの種類のIPNの1
つの利点は、(i)両成分がテトラメトキシシラン(T
MOS)等の補助剤と反応できることと、および(ii)
典型的に使用されるセルロース誘導体が予備形成された
ポリマーであることから、簡便なワンポット反応で製造
できることにある。従って、TMOS等の補助剤は、デ
ンドリマーおよび線状ポリマーネットワークの両方を同
時に架橋させるのに適切である。
(CAB)を使用する技術は、先の手法で使用されるよ
うな重合性モノマーの代わりに予備形成された架橋性ポ
リマーの使用を伴う。この場合に、前記成分に対してク
ロロホルム等の常用の溶剤を使用することができる。デ
ンドリマーおよびセルロース誘導体は典型的には固体の
乾燥した形態で使用される。これらの種類のIPNの1
つの利点は、(i)両成分がテトラメトキシシラン(T
MOS)等の補助剤と反応できることと、および(ii)
典型的に使用されるセルロース誘導体が予備形成された
ポリマーであることから、簡便なワンポット反応で製造
できることにある。従って、TMOS等の補助剤は、デ
ンドリマーおよび線状ポリマーネットワークの両方を同
時に架橋させるのに適切である。
【0026】この後者の種類のIPNのさらなる利点
は、特にPAMAMOSデンドリマーを、非架橋ポリマ
ーマトリックスとしての線状セルロースアセトブチレー
ト中で架橋できることと、これによりセミIPNおよび
新規な巨大分子組成物が得られることにある。
は、特にPAMAMOSデンドリマーを、非架橋ポリマ
ーマトリックスとしての線状セルロースアセトブチレー
ト中で架橋できることと、これによりセミIPNおよび
新規な巨大分子組成物が得られることにある。
【0027】従って、本発明によると、1:1、1:2
および1:3等の様々な相対質量比のPAMAMOSデ
ンドリマーネットワークとPMMAまたはセルロースア
セトブチレートネットワークからなるIPNを製造する
ことができる。これらのIPNは概して溶剤に影響され
ず、すなわち溶剤に不溶性である。このことは、これら
のIPNが真に架橋した特徴を有することを示してい
る。また、これらのIPNは完全に透明である。このこ
とは、これらのIPNの特徴とナノスケールの相溶性を
示している。さらに、これらのIPNは、個々のネット
ワーク成分のガラス転移温度間の値を有する1つのガラ
ス転移温度を示す。この特徴は、ネットワークの相互貫
入に該当すると一般的に受け入れられている。
および1:3等の様々な相対質量比のPAMAMOSデ
ンドリマーネットワークとPMMAまたはセルロースア
セトブチレートネットワークからなるIPNを製造する
ことができる。これらのIPNは概して溶剤に影響され
ず、すなわち溶剤に不溶性である。このことは、これら
のIPNが真に架橋した特徴を有することを示してい
る。また、これらのIPNは完全に透明である。このこ
とは、これらのIPNの特徴とナノスケールの相溶性を
示している。さらに、これらのIPNは、個々のネット
ワーク成分のガラス転移温度間の値を有する1つのガラ
ス転移温度を示す。この特徴は、ネットワークの相互貫
入に該当すると一般的に受け入れられている。
【0028】下記実施例において、PMMAおよびセル
ロースアセトブチレートを使用するデンドリマーをベー
スとするIPNの一般的な製造方法を述べる。セミIP
Nの形成を例8において述べる。各例において、使用し
たPAMAMOSデンドリマーは、第3世代のポリ(ア
ミドアミン)(PAMAM)デンドリマー前駆体から得
られた100%ジメトキシメチルシリル(DMOMS)
末端誘導体であるか、またはDMOMS末端基60モル
%と−NH2表面基を有する未変性PAMAMデンドリ
マーとを含むその対応する誘導体であった。これらのデ
ンドリマーは、24〜26質量%メタノール溶液として
存在させ、使用前に凍結乾燥させた。例に記載の反応混
合物は、乾燥PAMAMOSデンドリマー固形物を原料
として調製した。
ロースアセトブチレートを使用するデンドリマーをベー
スとするIPNの一般的な製造方法を述べる。セミIP
Nの形成を例8において述べる。各例において、使用し
たPAMAMOSデンドリマーは、第3世代のポリ(ア
ミドアミン)(PAMAM)デンドリマー前駆体から得
られた100%ジメトキシメチルシリル(DMOMS)
末端誘導体であるか、またはDMOMS末端基60モル
%と−NH2表面基を有する未変性PAMAMデンドリ
マーとを含むその対応する誘導体であった。これらのデ
ンドリマーは、24〜26質量%メタノール溶液として
存在させ、使用前に凍結乾燥させた。例に記載の反応混
合物は、乾燥PAMAMOSデンドリマー固形物を原料
として調製した。
【0029】PAMAMOS−DMOMSデンドリマー
は、米国特許第5,739,218号(1998年4月
14日)明細書に詳細に記載されている手法に従って調
製し、一方、PAMAMOSデンドリマーをベースとす
るネットワークは、米国特許第5,902,863号
(1999年5月11日)明細書に記載されているよう
な前駆体から調製した。下記の例における全てのDSC
走査、すなわち示差走査熱量測定は、10℃/分の昇温
速度で行った。
は、米国特許第5,739,218号(1998年4月
14日)明細書に詳細に記載されている手法に従って調
製し、一方、PAMAMOSデンドリマーをベースとす
るネットワークは、米国特許第5,902,863号
(1999年5月11日)明細書に記載されているよう
な前駆体から調製した。下記の例における全てのDSC
走査、すなわち示差走査熱量測定は、10℃/分の昇温
速度で行った。
【0030】
【実施例】例1:相対質量比1:1のPAMAMOSデ
ンドリマーおよびポリメチルメタクリレート(PMM
A)からのIPNの調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gのメチルメタクリレ
ート(MMA)、1gの凍結乾燥されたPAMAMOS
デンドリマー、MMAの遊離基重合のための開始剤であ
る0.02gのアゾビスイソブチロニトリル(AIB
N)、MMAに対して2.1質量%である20μlのエ
チレングリコールジメタクリレート(EGDMA)(こ
のEGDMAは、PMMAネットワークのための架橋剤
である)および前記デンドリマーに対して4.2質量%
である40μlのジブチル錫ジラウレート(ジブチル錫
ジラウレートはPAMAMOSデンドリマーを架橋する
ための触媒である)を、窒素気流下、Teflon(商標)被
覆磁気攪拌棒を用いて攪拌することにより反応混合物を
調製した。この混合物を、攪拌棒の停止により示される
PAMAMOSネットワークがまず形成されるまで、最
初に室温で攪拌した。次に、フラスコを恒温油浴中に入
れ、反応混合物を60℃に加熱した。反応混合物をこの
温度にさらに6時間保ち、PMMAネットワークを形成
させた。得られた組成物は、光学的に澄んでいて透明で
あり、示差走査熱量測定(DSC)により求めた場合
に、19℃に1つのガラス転移温度(Tg)を示した。
同じDSC条件で、純粋なPAMAMOSネットワーク
およびPMMAネットワークはそれぞれ−22℃および
110℃にガラス転移温度を示した。
ンドリマーおよびポリメチルメタクリレート(PMM
A)からのIPNの調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gのメチルメタクリレ
ート(MMA)、1gの凍結乾燥されたPAMAMOS
デンドリマー、MMAの遊離基重合のための開始剤であ
る0.02gのアゾビスイソブチロニトリル(AIB
N)、MMAに対して2.1質量%である20μlのエ
チレングリコールジメタクリレート(EGDMA)(こ
のEGDMAは、PMMAネットワークのための架橋剤
である)および前記デンドリマーに対して4.2質量%
である40μlのジブチル錫ジラウレート(ジブチル錫
ジラウレートはPAMAMOSデンドリマーを架橋する
ための触媒である)を、窒素気流下、Teflon(商標)被
覆磁気攪拌棒を用いて攪拌することにより反応混合物を
調製した。この混合物を、攪拌棒の停止により示される
PAMAMOSネットワークがまず形成されるまで、最
初に室温で攪拌した。次に、フラスコを恒温油浴中に入
れ、反応混合物を60℃に加熱した。反応混合物をこの
温度にさらに6時間保ち、PMMAネットワークを形成
させた。得られた組成物は、光学的に澄んでいて透明で
あり、示差走査熱量測定(DSC)により求めた場合
に、19℃に1つのガラス転移温度(Tg)を示した。
同じDSC条件で、純粋なPAMAMOSネットワーク
およびPMMAネットワークはそれぞれ−22℃および
110℃にガラス転移温度を示した。
【0031】例2:分子量(MW)400〜700の
α,ω−テレケリックポリジメチルシロキサンジシラノ
ール9.6質量%を使用する相対質量比1:1のPAM
AMOSデンドリマーおよびPMMAからのIPNの調
製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gのMMA、1gの凍
結乾燥されたPAMAMOSデンドリマー、MWが40
0〜700であり、かつ、PAMAMOSデンドリマー
のSiOCH3基に対して12.6モル%のSi−OH
基を含むα,ω−ジシラノールポリジメチルシロキサ
ン、0.02gのAIBN、20μlのEGDMAおよ
び40μlのジブチル錫ジラウレートを、窒素気流下、
Teflon(商標)被覆磁気攪拌棒を用いて攪拌することに
より反応混合物を調製した。この混合物を、クランプで
締め合わされる厚さ250μmのTeflon(商標)ガスケ
ットを隔てて分かれている2枚のシリル化ガラス板から
なる金型にシリンジを通して移し入れた。ゲルが形成さ
れるまで(3時間後、目視観察によりその存在を確
認)、金型を室温に保ち、次に金型をオーブンに入れ、
60℃でさらに10時間加熱した。得られた組成物は澄
んでいて透明なフィルムであり、このフィルムは金型か
ら容易に剥がれた。このフィルムはDSCにより求めた
場合に−13℃に1つのTgを有していた。
α,ω−テレケリックポリジメチルシロキサンジシラノ
ール9.6質量%を使用する相対質量比1:1のPAM
AMOSデンドリマーおよびPMMAからのIPNの調
製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gのMMA、1gの凍
結乾燥されたPAMAMOSデンドリマー、MWが40
0〜700であり、かつ、PAMAMOSデンドリマー
のSiOCH3基に対して12.6モル%のSi−OH
基を含むα,ω−ジシラノールポリジメチルシロキサ
ン、0.02gのAIBN、20μlのEGDMAおよ
び40μlのジブチル錫ジラウレートを、窒素気流下、
Teflon(商標)被覆磁気攪拌棒を用いて攪拌することに
より反応混合物を調製した。この混合物を、クランプで
締め合わされる厚さ250μmのTeflon(商標)ガスケ
ットを隔てて分かれている2枚のシリル化ガラス板から
なる金型にシリンジを通して移し入れた。ゲルが形成さ
れるまで(3時間後、目視観察によりその存在を確
認)、金型を室温に保ち、次に金型をオーブンに入れ、
60℃でさらに10時間加熱した。得られた組成物は澄
んでいて透明なフィルムであり、このフィルムは金型か
ら容易に剥がれた。このフィルムはDSCにより求めた
場合に−13℃に1つのTgを有していた。
【0032】例3:(a)6.6質量%および(b)
5.3質量%のα,ω−テレケリックポリジメチルシロ
キサンジシラノール(MW400〜700)を使用する
(a)相対質量比1:2および(b)相対質量比1:3
のPAMAMOSデンドリマーおよびPMMAからのI
PN(a)および(b)の調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、MWが400〜700であ
り、かつ、PAMAMOSデンドリマーのSiOCH3
基に対して12.6モル%のSi−OH基を含むα,ω
−テレケリックポリジメチルシロキサンジシラノール、
(a)2gまたは(b)3gのMMA、0.02gのA
IBN、40μlのEGDMAおよび40μlのジブチ
ル錫ジラウレートを、窒素気流下、Teflon(商標)被覆
磁気攪拌棒を用いて攪拌することにより反応混合物を調
製した。このフラスコをゴム隔膜で密閉し、そしてデン
ドリマーネットワークが形成されるまで、混合物を恒温
浴中25℃で攪拌した。デンドリマーネットワークの形
成は、磁気攪拌機の停止により示された。これは、IP
N(a)の場合に4.5時間で、そしてIPN(b)の
場合に20時間で起きた。次に温度を60℃に上げ、そ
して各場合に混合物をその温度にさらに10時間保ち、
PMMAネットワークを形成させた。2つの組成物は、
それぞれ完全に透明であり澄んでいた。IPA(a)
は、DSCにより求めた場合に−5℃のTgを有してお
り、そしてIPN(b)はDSCにより求めた場合に1
7℃のTgを有していた。
5.3質量%のα,ω−テレケリックポリジメチルシロ
キサンジシラノール(MW400〜700)を使用する
(a)相対質量比1:2および(b)相対質量比1:3
のPAMAMOSデンドリマーおよびPMMAからのI
PN(a)および(b)の調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、MWが400〜700であ
り、かつ、PAMAMOSデンドリマーのSiOCH3
基に対して12.6モル%のSi−OH基を含むα,ω
−テレケリックポリジメチルシロキサンジシラノール、
(a)2gまたは(b)3gのMMA、0.02gのA
IBN、40μlのEGDMAおよび40μlのジブチ
ル錫ジラウレートを、窒素気流下、Teflon(商標)被覆
磁気攪拌棒を用いて攪拌することにより反応混合物を調
製した。このフラスコをゴム隔膜で密閉し、そしてデン
ドリマーネットワークが形成されるまで、混合物を恒温
浴中25℃で攪拌した。デンドリマーネットワークの形
成は、磁気攪拌機の停止により示された。これは、IP
N(a)の場合に4.5時間で、そしてIPN(b)の
場合に20時間で起きた。次に温度を60℃に上げ、そ
して各場合に混合物をその温度にさらに10時間保ち、
PMMAネットワークを形成させた。2つの組成物は、
それぞれ完全に透明であり澄んでいた。IPA(a)
は、DSCにより求めた場合に−5℃のTgを有してお
り、そしてIPN(b)はDSCにより求めた場合に1
7℃のTgを有していた。
【0033】例4:38.1質量%のα,ω−ジシラノ
ールポリジメチルシロキサン(MW400〜700)を
使用する相対質量比1:1のPAMAMOSデンドリマ
ーおよびPMMAからのIPNの調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、MWが400〜700であ
り、かつ、PAMAMOSデンドリマーのSiOCH3
基に対して72.9モル%のSi−OH基を含むα,ω
−テレケリックポリジメチルシロキサンジシラノール、
1gのMMA、0.02gのAIBN、20μlのEG
DMAおよび40μlのジブチル錫ジラウレートを、窒
素気流下、Teflon(商標)被覆磁気攪拌棒を用いて攪拌
することにより反応混合物を調製した。このフラスコを
ゴム隔膜で密閉し、そしてデンドリマーネットワークが
形成されるまで、混合物を恒温浴中25℃で攪拌した。
デンドリマーネットワークの形成は、磁気攪拌機の停止
により示された。次に温度を60℃に上げ、そして混合
物をその温度にさらに6時間保ち、PMMAネットワー
クを形成させた。得られた組成物は、それぞれ光学的に
半透明であり、DSCにより求めた場合に−18℃のT
gを有していた。
ールポリジメチルシロキサン(MW400〜700)を
使用する相対質量比1:1のPAMAMOSデンドリマ
ーおよびPMMAからのIPNの調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、MWが400〜700であ
り、かつ、PAMAMOSデンドリマーのSiOCH3
基に対して72.9モル%のSi−OH基を含むα,ω
−テレケリックポリジメチルシロキサンジシラノール、
1gのMMA、0.02gのAIBN、20μlのEG
DMAおよび40μlのジブチル錫ジラウレートを、窒
素気流下、Teflon(商標)被覆磁気攪拌棒を用いて攪拌
することにより反応混合物を調製した。このフラスコを
ゴム隔膜で密閉し、そしてデンドリマーネットワークが
形成されるまで、混合物を恒温浴中25℃で攪拌した。
デンドリマーネットワークの形成は、磁気攪拌機の停止
により示された。次に温度を60℃に上げ、そして混合
物をその温度にさらに6時間保ち、PMMAネットワー
クを形成させた。得られた組成物は、それぞれ光学的に
半透明であり、DSCにより求めた場合に−18℃のT
gを有していた。
【0034】例5:5.5質量%のテトラエトキシシラ
ン(TEOS)を使用する相対質量比1:1のPAMA
MOSデンドリマーおよびPMMAからのIPNの調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、PAMAMOSデンドリマ
ーのSiOCH3基に対して36.4モル%のSiOC2
H5基に相当するテトラエトキシシラン、1gのMM
A、0.02gのAIBN、20μlのEGDMAおよ
び40μlのジブチル錫ジラウレートを、窒素気流下、
Teflon(商標)被覆磁気攪拌棒を用いて攪拌することに
より反応混合物を調製した。このフラスコをゴム隔膜で
密閉し、そしてデンドリマーネットワークが形成される
まで、混合物を恒温浴中25℃で攪拌した。デンドリマ
ーネットワークの形成は、磁気攪拌機の停止により示さ
れた。次に温度を60℃に上げ、そして反応混合物をそ
の温度にさらに6時間保ち、PMMAネットワークを形
成させた。得られた組成物は、完全に澄んでいて透明で
あり、12℃のTgを有していた。
ン(TEOS)を使用する相対質量比1:1のPAMA
MOSデンドリマーおよびPMMAからのIPNの調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、PAMAMOSデンドリマ
ーのSiOCH3基に対して36.4モル%のSiOC2
H5基に相当するテトラエトキシシラン、1gのMM
A、0.02gのAIBN、20μlのEGDMAおよ
び40μlのジブチル錫ジラウレートを、窒素気流下、
Teflon(商標)被覆磁気攪拌棒を用いて攪拌することに
より反応混合物を調製した。このフラスコをゴム隔膜で
密閉し、そしてデンドリマーネットワークが形成される
まで、混合物を恒温浴中25℃で攪拌した。デンドリマ
ーネットワークの形成は、磁気攪拌機の停止により示さ
れた。次に温度を60℃に上げ、そして反応混合物をそ
の温度にさらに6時間保ち、PMMAネットワークを形
成させた。得られた組成物は、完全に澄んでいて透明で
あり、12℃のTgを有していた。
【0035】例6:3.8質量%のテトラメトキシシラ
ンを使用する相対質量比1:1のPAMAMOSデンド
リマーおよびセルロースアセトブチレートからのIPN
の調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、56モル%の変性OH基を
含むセルロースアセトブチレート1g、セルロースアセ
トブチレートの遊離OH基に対して47モル%のSiO
CH3基に相当するテトラメトキシシラン0.08g
(このTMOSはセルロースアセトブチレートおよびP
AMAMOSデンドリマーの双方に対して架橋剤として
作用する)、および28μlのジブチル錫ジラウレート
を、窒素気流下、反応混合物の全質量の1.5質量%で
ある12mlのクロロホルム中でTeflon(商標)被覆磁
気攪拌棒を用いて攪拌することにより反応混合物を調製
した。ジブチル錫ジラウレートは、セルロースアセトブ
チレートおよびPAMAMOSデンドリマーの双方を架
橋させるための触媒である。均質混合物をシリル化ガラ
ス板上に流延し、そしてこのガラス板を、覆いをかけず
に、窒素フラッシュされたオーブンに入れ、55℃に2
5時間保った。部分真空のもとでの1時間の乾燥後、透
明フィルムが得られた。このフィルムはガラス基板から
容易に剥がれた。このフィルムはDSCにより求めた場
合に33℃のTgを有していた。
ンを使用する相対質量比1:1のPAMAMOSデンド
リマーおよびセルロースアセトブチレートからのIPN
の調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、56モル%の変性OH基を
含むセルロースアセトブチレート1g、セルロースアセ
トブチレートの遊離OH基に対して47モル%のSiO
CH3基に相当するテトラメトキシシラン0.08g
(このTMOSはセルロースアセトブチレートおよびP
AMAMOSデンドリマーの双方に対して架橋剤として
作用する)、および28μlのジブチル錫ジラウレート
を、窒素気流下、反応混合物の全質量の1.5質量%で
ある12mlのクロロホルム中でTeflon(商標)被覆磁
気攪拌棒を用いて攪拌することにより反応混合物を調製
した。ジブチル錫ジラウレートは、セルロースアセトブ
チレートおよびPAMAMOSデンドリマーの双方を架
橋させるための触媒である。均質混合物をシリル化ガラ
ス板上に流延し、そしてこのガラス板を、覆いをかけず
に、窒素フラッシュされたオーブンに入れ、55℃に2
5時間保った。部分真空のもとでの1時間の乾燥後、透
明フィルムが得られた。このフィルムはガラス基板から
容易に剥がれた。このフィルムはDSCにより求めた場
合に33℃のTgを有していた。
【0036】例7:5.0質量%のテトラメトキシシラ
ン(TMOS)を使用する(a)相対質量比1:2およ
び(b)相対質量比1:3のPAMAMOSデンドリマ
ーおよびセルロースアセトブチレートからのIPNの調
製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、56モル%の変性OH基を
含むセルロースアセトブチレート(a)2gおよび
(b)3g、セルロースアセトブチレートの遊離OH基
に対して47モル%のSiOCH3に相当するTMOS
(a)0.16gおよび(b)0.24g、(a)56
μlおよび(b)84μlのジブチル錫ジラウレート
を、窒素気流下、反応混合物の全質量の(a)2質量%
および(b)2.2質量%である12mlのクロロホル
ム中で、Teflon(商標)被覆磁気攪拌棒を用いて攪拌す
ることにより反応混合物を調製した。均質混合物をシリ
ル化ガラス板上に流延し、そしてこのガラス板を、覆い
をかけずに、窒素フラッシュされたオーブンに入れ、5
5℃に20時間保った。部分真空のもとでの1時間の乾
燥後、透明フィルムが得られた。このフィルムはガラス
基板に強く接着していた。IPN(a)はDSCにより
求めた場合に60℃のTgを有し、そしてIPN(b)
はDSCにより求めた場合に93℃のTgを有してい
た。
ン(TMOS)を使用する(a)相対質量比1:2およ
び(b)相対質量比1:3のPAMAMOSデンドリマ
ーおよびセルロースアセトブチレートからのIPNの調
製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、56モル%の変性OH基を
含むセルロースアセトブチレート(a)2gおよび
(b)3g、セルロースアセトブチレートの遊離OH基
に対して47モル%のSiOCH3に相当するTMOS
(a)0.16gおよび(b)0.24g、(a)56
μlおよび(b)84μlのジブチル錫ジラウレート
を、窒素気流下、反応混合物の全質量の(a)2質量%
および(b)2.2質量%である12mlのクロロホル
ム中で、Teflon(商標)被覆磁気攪拌棒を用いて攪拌す
ることにより反応混合物を調製した。均質混合物をシリ
ル化ガラス板上に流延し、そしてこのガラス板を、覆い
をかけずに、窒素フラッシュされたオーブンに入れ、5
5℃に20時間保った。部分真空のもとでの1時間の乾
燥後、透明フィルムが得られた。このフィルムはガラス
基板に強く接着していた。IPN(a)はDSCにより
求めた場合に60℃のTgを有し、そしてIPN(b)
はDSCにより求めた場合に93℃のTgを有してい
た。
【0037】例8:相対質量比1:1のPAMAMOS
デンドリマーおよびセルロースアセトブチレートからの
セミIPNの調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、54モル%の変性OH基を
含むセルロースアセトブチレート1g、および5mlの
ジクロロメタンを、窒素気流下、Teflon(商標)被覆磁
気攪拌棒を用いて攪拌することにより反応混合物を調製
した。均質混合物をシリル化ガラス板上に流延し、そし
てこのガラス板を、覆いをかけずに、窒素フラッシュさ
れたオーブンに入れ、25℃に4時間保った。60℃で
さらに3時間後、得られたフィルムは透明であり、ガラ
ス基板から容易に剥がれた。このフィルムはDSCによ
り求めた場合に27℃のTgを有していた。
デンドリマーおよびセルロースアセトブチレートからの
セミIPNの調製 二口丸底ガラスフラスコ内で、1gの凍結乾燥されたP
AMAMOSデンドリマー、54モル%の変性OH基を
含むセルロースアセトブチレート1g、および5mlの
ジクロロメタンを、窒素気流下、Teflon(商標)被覆磁
気攪拌棒を用いて攪拌することにより反応混合物を調製
した。均質混合物をシリル化ガラス板上に流延し、そし
てこのガラス板を、覆いをかけずに、窒素フラッシュさ
れたオーブンに入れ、25℃に4時間保った。60℃で
さらに3時間後、得られたフィルムは透明であり、ガラ
ス基板から容易に剥がれた。このフィルムはDSCによ
り求めた場合に27℃のTgを有していた。
【0038】例9:IPNによる硫酸銅の錯化 例1〜8で調製されたIPNの0.01gの試料を、
0.01g/mlの(a)CuSO4水溶液および
(b)CuSO4メタノール溶液に12時間浸した。
(a)水溶液に浸された全ての試料についてCuSO4
の無視できるほどの吸収が確認されたが、(b)メタノ
ール溶液に浸されたものは無色透明フィルムから透明な
青緑色に着色したフィルムに変化した。このことは、C
u2+錯体の吸収を示唆している。CuSO4の吸収は、
PAMAMOS/PMMAのIPNよりもPAMAMO
S/セルロースアセトブチレートのIPNのほうが速か
った。
0.01g/mlの(a)CuSO4水溶液および
(b)CuSO4メタノール溶液に12時間浸した。
(a)水溶液に浸された全ての試料についてCuSO4
の無視できるほどの吸収が確認されたが、(b)メタノ
ール溶液に浸されたものは無色透明フィルムから透明な
青緑色に着色したフィルムに変化した。このことは、C
u2+錯体の吸収を示唆している。CuSO4の吸収は、
PAMAMOS/PMMAのIPNよりもPAMAMO
S/セルロースアセトブチレートのIPNのほうが速か
った。
【0039】例9から、これらのデンドリマー含有IP
Nが小さな分子ゲストを包みこむことができることが分
かる。特に、例9は、様々な求電子性の有機、無機また
は有機金属化学種、例えば金属カチオン、金属塩、金属
酸化物、元素状の金属、水溶性有機分子および水溶性の
有機金属分子を吸着、吸収または包み込むことへのこれ
らのデンドリマー含有IPNの利用を例示するものであ
る。
Nが小さな分子ゲストを包みこむことができることが分
かる。特に、例9は、様々な求電子性の有機、無機また
は有機金属化学種、例えば金属カチオン、金属塩、金属
酸化物、元素状の金属、水溶性有機分子および水溶性の
有機金属分子を吸着、吸収または包み込むことへのこれ
らのデンドリマー含有IPNの利用を例示するものであ
る。
【0040】すなわち、本発明に係るIPNは、(i)
永久的に結合できる構造体、(ii)第2のまたは非デン
ドリマーである相手により与えられる目的に合った機械
的特性を有する構造体、および(iii)光学的に完全に
澄んでいて透明な構造体において有用である。従って、
代表的な用途としては、軽量コンピューターおよびスク
リーンを製造するための電子機器、光学機器、ならびに
光学レンズ、補正レンズおよび治療用レンズ等の産業分
野でのこれらのIPNの使用が挙げられる。
永久的に結合できる構造体、(ii)第2のまたは非デン
ドリマーである相手により与えられる目的に合った機械
的特性を有する構造体、および(iii)光学的に完全に
澄んでいて透明な構造体において有用である。従って、
代表的な用途としては、軽量コンピューターおよびスク
リーンを製造するための電子機器、光学機器、ならびに
光学レンズ、補正レンズおよび治療用レンズ等の産業分
野でのこれらのIPNの使用が挙げられる。
【図1】図1は、デンドリマーをベースとした成分1種
と線状ポリマーをベースとした成分1種を含む本発明に
係るIPNの略図である。
と線状ポリマーをベースとした成分1種を含む本発明に
係るIPNの略図である。
フロントページの続き (71)出願人 591184459 ミシガン モルキュラー インスティテュ ト アメリカ合衆国,ミシガン 48640,ミッ ドランド,ウエスト セント アンドリュ ース ロード 1910 (72)発明者 シルビー ボワロー フランス国,75013 パリ,リュ デ コ ーデリエール 38 (72)発明者 ピーター ラディボイ ドボーニック アメリカ合衆国,ミシガン 48640,ミッ ドランド,セント メアリーズ ドライブ 2806 (72)発明者 イサベル エモニック フランス国,アシュル 78260,リュ ド ゥシャンプ ゲラン 11 (72)発明者 マイケル ジェームズ オーエン アメリカ合衆国,ミシガン 48640,ミッ ドランド,ウエスト セント アンドリュ ース 1505 (72)発明者 ポール レーン パーハム アメリカ合衆国,ミシガン 48642,ミッ ドランド,イーストローン ドライブ 2215,アパートメント ナンバー2 (72)発明者 デール マーティン ピッケルマン アメリカ合衆国,ミシガン 48611,オー バーン,プライス ストリート 319 (72)発明者 スコット ダニエル リーブス アメリカ合衆国,ミシガン 48640,ミッ ドランド,ウィスパー リッジ 5001,ア パートメント ナンバー7 (72)発明者 ドミニク テイジー フランス国,78230 ル ペック,リュ デ プレーリー 11 (72)発明者 フレデリック ビダル フランス国,78280 ギュイアンコール, リュ エンリ マティス 10 Fターム(参考) 4J002 AA00W AA00X AB02X BG05X CP00W GP00 GQ00
Claims (3)
- 【請求項1】 2種以上のポリマー成分を含む相互貫入
ポリマーネットワークを含んでなる組成物であって、少
なくとも1種のポリマー成分がデンドリマーまたは樹枝
状ポリマーの形態にあるネットワークであり、他のポリ
マー成分がデンドリマー、樹枝状ポリマー、多重分岐ポ
リマー、くし形の形状を有する非架橋多分岐ポリマー、
規則的に分岐したポリマー、ランダムに分岐したポリマ
ー、および線状ポリマーからなる群から選ばれるもので
あり、前記ネットワークポリマー成分が前記他のポリマ
ー成分の存在下に合成または架橋されたものである組成
物。 - 【請求項2】 前記相互貫入ポリマーネットワークの前
記ポリマーネットワーク成分が半径方向に層状のコポリ
(アミドアミン−有機ケイ素)デンドリマーをベースと
したネットワークまたは半径方向に層状のコポリ(プロ
ピレンアミン−有機ケイ素)デンドリマーをベースとし
たネットワークである請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 前記相互貫入ポリマーネットワークの前
記他のポリマー成分が架橋ポリ(メチルメタクリレー
ト)またはセルロースアセトブチレートネットワークで
ある請求項1記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US56217100A | 2000-05-02 | 2000-05-02 | |
US09/562171 | 2000-05-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001316589A true JP2001316589A (ja) | 2001-11-16 |
Family
ID=24245101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001092474A Pending JP2001316589A (ja) | 2000-05-02 | 2001-03-28 | 相互貫入ポリマーネットワークを含んでなる組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1167405A3 (ja) |
JP (1) | JP2001316589A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2776077A4 (en) * | 2011-11-11 | 2014-12-17 | Miba Medical Inc | INJECTABLE FILLING MATERIAL |
CN104815357A (zh) * | 2015-04-27 | 2015-08-05 | 复旦大学 | 一种无机有机杂化的三维互穿网络水凝胶材料及其制备方法和应用 |
CN113583164B (zh) * | 2021-06-30 | 2022-09-09 | 上海交通大学 | 一种量子点-超支化聚合物复合物的制备方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4569964A (en) * | 1983-10-27 | 1986-02-11 | The Dow Chemical Company | Heat/light stable interpenetrating polymer network latexes |
US4686260A (en) * | 1985-07-10 | 1987-08-11 | Sun Chemical Corporation | Printing ink composition |
US5190997A (en) * | 1985-07-10 | 1993-03-02 | Sequa Chemicals, Inc. | Adhesive composition |
US5902863A (en) * | 1997-07-21 | 1999-05-11 | Dow Corning Corporation | Dendrimer-based networks containing lyophilic organosilicon and hydrophilic polyamidoamine nanoscopic domains |
US5938934A (en) * | 1998-01-13 | 1999-08-17 | Dow Corning Corporation | Dendrimer-based nanoscopic sponges and metal composites |
FI980528A (fi) * | 1998-03-09 | 1999-09-10 | Bioxid Oy | Uusi prepreg |
JP4383555B2 (ja) * | 1998-05-29 | 2009-12-16 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | カルボシロキサンデンドリマー |
JP2000007916A (ja) * | 1998-06-25 | 2000-01-11 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | 加熱硬化性シリコーンゴム組成物 |
DE1095076T1 (de) * | 1998-07-08 | 2002-04-04 | Sunsoft Corp., Albuquerque | Ineinandergreifendes polymernetzwerk aus hydrophilen hydrogelen für kontaktlinsen |
JP4236342B2 (ja) * | 1999-07-30 | 2009-03-11 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | カルボシロキサンデンドリマーおよびデンドリマー含有有機重合体 |
-
2001
- 2001-03-28 JP JP2001092474A patent/JP2001316589A/ja active Pending
- 2001-04-26 EP EP01303803A patent/EP1167405A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1167405A2 (en) | 2002-01-02 |
EP1167405A3 (en) | 2002-03-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6995215B2 (en) | Cross-linked networks from multifunctional hyperbranched polymers | |
Lichtenhan | Polyhedral oligomeric silsesquioxanes: building blocks for silsesquioxane-based polymers and hybrid materials | |
JP2002212294A (ja) | 多重分岐ポリカルボシラン、ポリカルボシロキサン、ポリカルボシラゼンおよびそれらの共重合体 | |
EP0893482B1 (en) | Dendrimer-based networks having lyophilic organosilicon and hydrophilic polyamidoamine nanoscopic domains | |
US8501893B2 (en) | Synthetic method for preparing dual curable silicone compositions | |
JPH10212410A (ja) | ゴム変性硬質シリコーン樹脂 | |
US6005051A (en) | Multi-component polymeric networks containing polyisobutylene | |
JPH0292933A (ja) | 片方の末端に重合性官能基を有するオルガノポリシロキサンの製造方法 | |
JP2574049B2 (ja) | 有機・無機複合透明均質体及びその製法 | |
JPH03179028A (ja) | ポリシロキサンコアを有する混成アクリル性スターポリマーを製造する方法 | |
JP4321686B2 (ja) | 有機−無機複合体および多孔質ケイ素酸化物の製造方法 | |
JP4500811B2 (ja) | 貯蔵安定性を有するシラン変性水性分散ポリマー | |
Li et al. | Polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) polymers, copolymers, and resin nanocomposites | |
JP2693394B2 (ja) | ラジカル形成基を有する、部分架橋されたオルガノポリシロキサン、その製法及びグラフト共重合体の製法 | |
JP2001316589A (ja) | 相互貫入ポリマーネットワークを含んでなる組成物 | |
JPH0848879A (ja) | 加水分解性のシランから生成した官能性で非架橋性のポリジオルガノシロキサン組成物 | |
FR2757528A1 (fr) | Reseaux de polymeres a interpenetration | |
JPH02294314A (ja) | 紫外線硬化性フェニル含有アクリルアミド組成物 | |
WO2021172468A1 (ja) | ホスト基及び/又はゲスト基を有するシロキサン結合含有高分子化合物を含む樹脂材料 | |
US5360869A (en) | Method of making fluorinated copolymers | |
JPH0198609A (ja) | アクリルグラフトシリコーン粒子ならびにその製法 | |
JPH02294333A (ja) | 架橋ポリシロキサン | |
JP2000264968A (ja) | ポリオルガノシロキサン系ラテックスの製造方法。 | |
JPH0320124B2 (ja) | ||
JPS5930121B2 (ja) | 気体透過膜 |