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JP2001316355A - Sulfur-containing unsaturated carboxylic ester compound and use thereof - Google Patents

Sulfur-containing unsaturated carboxylic ester compound and use thereof

Info

Publication number
JP2001316355A
JP2001316355A JP2000176971A JP2000176971A JP2001316355A JP 2001316355 A JP2001316355 A JP 2001316355A JP 2000176971 A JP2000176971 A JP 2000176971A JP 2000176971 A JP2000176971 A JP 2000176971A JP 2001316355 A JP2001316355 A JP 2001316355A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
sulfur
atom
formula
represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000176971A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masao Imai
雅夫 今井
Kenichi Sugimoto
賢一 杉本
Atsuo Otsuji
淳夫 大辻
Kenichi Fujii
謙一 藤井
Tadashi Okuma
正 大熊
Masatoshi Takagi
正利 高木
Rihoko Suzuki
理穂子 鈴木
Hirosuke Takuma
啓輔 詫摩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP2000176971A priority Critical patent/JP2001316355A/en
Publication of JP2001316355A publication Critical patent/JP2001316355A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical resin, in which defects of conventional optical resins are solved, excellent in optical characteristics, mechanical characteristics and thermal characteristics and having high productivity and high refractive index. SOLUTION: This sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound has a sulfur-containing substituent and at least two α,β-unsaturated carboxylic acid residues, which are each attached to a secondary or tertiary carbon atom via an oxygen atom. A polymerizable composition comprises the above sulfur-containing unsaturated carboxylate compound. A cured product is prepared by polymerizing the polymerizable composition. An optical component consists of the above cured product. New intermediate compounds are used for preparation of the above carboxylic acid ester.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、硫黄原子を含有す
る置換基および少なくとも2つ以上の、2級又は3級炭
素原子に結合した酸素原子を介したα,β−不飽和カル
ボン酸残基を有する含硫不飽和カルボン酸エステル化合
物に関する。さらには、該含硫不飽和カルボン酸エステ
ル化合物を含有する重合性組成物、ならびに、該重合性
組成物を重合して得られる光学部品に関する。
The present invention relates to an α, β-unsaturated carboxylic acid residue via a sulfur-containing substituent and at least two or more oxygen atoms bonded to secondary or tertiary carbon atoms. And a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound having the formula: Further, the present invention relates to a polymerizable composition containing the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound, and an optical component obtained by polymerizing the polymerizable composition.

【0002】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物は、分子内に硫黄原子を含有している置換基を有
し、且つ、少なくとも2つ以上の、2級又は3級炭素原
子に結合した酸素原子を介したα,β−不飽和カルボン
酸残基を有することを構造上の特徴としている。
[0002] The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention has a substituent containing a sulfur atom in the molecule and is bonded to at least two or more secondary or tertiary carbon atoms. It is structurally characterized by having an α, β-unsaturated carboxylic acid residue via an oxygen atom.

【0003】該含硫不飽和カルボン酸エステル化合物
は、光または熱硬化可能な重合性組成物用のモノマーと
して有用であり、各種光学用材料、歯科用材料などに好
適に使用される。該重合性組成物を硬化して得られる光
学部品は、光学特性、熱的特性、機械的特性に優れ、且
つ、生産性が良好で、高屈折率であり、矯正用眼鏡レン
ズを代表とする各種プラスチックレンズ、光情報記録媒
体基板、液晶セル用プラスチック基盤、光ファイバーコ
ーティング材料、等として有用である。
The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound is useful as a monomer for a photocurable or heat-curable polymerizable composition, and is suitably used for various optical materials and dental materials. An optical component obtained by curing the polymerizable composition has excellent optical properties, thermal properties, and mechanical properties, and has good productivity, a high refractive index, and is represented by a corrective spectacle lens. It is useful as various plastic lenses, optical information recording medium substrates, plastic substrates for liquid crystal cells, optical fiber coating materials, and the like.

【0004】[0004]

【従来の技術】無機ガラスは、透明性に優れ、光学異方
性が小さいなどの諸物性に優れていることから、透明性
光学材料として広い分野で使用されている。しかしなが
ら、重くて破損しやすいこと、生産性が悪い等の問題が
あり、近年、無機ガラスに代わる光学用樹脂の開発が盛
んに行われている。
2. Description of the Related Art Inorganic glass is used in a wide range of fields as a transparent optical material because of its excellent properties such as excellent transparency and small optical anisotropy. However, there are problems such as being heavy and easily damaged and poor productivity. In recent years, development of optical resins in place of inorganic glass has been actively carried out.

【0005】光学材料として基本的に重要な特性は透明
性である。現在までに、透明性の良い工業的な樹脂とし
て、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ビスフェ
ノールAポリカーボネート(BPA−PC)、ポリスチ
レン(PS)、メチルメタクリレート−スチレン共重合
ポリマー(MS)、スチレン−アクリロニトリル共重合
ポリマー(SAN)、ポリ(4−メチルペンテン−1)
(TPX)、ポリシクロオレフィン(COP)、ポリジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート(EGA
C)、ポリチオウレタン(PTU)等が知られている。
[0005] A fundamentally important property as an optical material is transparency. Up to the present, polymethyl methacrylate (PMMA), bisphenol A polycarbonate (BPA-PC), polystyrene (PS), methyl methacrylate-styrene copolymer (MS), styrene-acrylonitrile Polymerized polymer (SAN), poly (4-methylpentene-1)
(TPX), polycycloolefin (COP), polydiethylene glycol bisallyl carbonate (EGA)
C), polythiourethane (PTU) and the like are known.

【0006】PMMAは透明性、耐候性に優れ、かつ成
形性も良好である。しかしながら、屈折率(nd)が
1.49と小さく、吸水性が大きいという欠点がある。
[0006] PMMA has excellent transparency and weather resistance, and also has good moldability. However, there are disadvantages that the refractive index (nd) is as small as 1.49 and the water absorption is large.

【0007】BPA−PCは、透明性、耐熱性、耐衝撃
性および高屈折性に優れるものの、色収差が大きく利用
分野が限定される。
Although BPA-PC is excellent in transparency, heat resistance, impact resistance and high refraction, it has a large chromatic aberration and its field of use is limited.

【0008】PSおよびMSは、成形性、透明性、低吸
水性および高屈折性に優れるものの、耐衝撃性、耐候性
および耐熱性に劣り光学樹脂としてはほとんど実用化さ
れていない。
Although PS and MS are excellent in moldability, transparency, low water absorption and high refraction, they are inferior in impact resistance, weather resistance and heat resistance and are hardly practically used as optical resins.

【0009】SANは比較的、屈折率が高く、機械的物
性もバランスがよいとされているが、耐熱性にやや難が
あり(熱変形温度:80〜90℃)、光学樹脂としてはほと
んど使われていない。
Although SAN has a relatively high refractive index and a good balance of mechanical properties, it has some difficulty in heat resistance (heat deformation temperature: 80 to 90 ° C.), and is hardly used as an optical resin. Not done.

【0010】TPXおよびCOPは透明性、低吸水性、
耐熱性に優れるものの、低屈折率(nd =1.47〜
1.53)で、耐衝撃性やガスバリヤー性や染色性が悪
いという問題がある。
TPX and COP are transparent, have low water absorption,
Although having excellent heat resistance, it has a low refractive index (nd = 1.47-
1.53), there is a problem that impact resistance, gas barrier properties and dyeability are poor.

【0011】EGACはジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネートをモノマーとする熱硬化性樹脂であり、
汎用眼鏡レンズ用途には最も多く使用されている。透明
性、耐熱性には優れ、色収差は極めて小さいものの、低
屈折率(nd =1.50)で、耐衝撃性に劣るという欠
点がある。
EGAC is a thermosetting resin having diethylene glycol bisallyl carbonate as a monomer,
Most commonly used for general-purpose spectacle lens applications. Although it has excellent transparency and heat resistance and extremely small chromatic aberration, it has a drawback that it has a low refractive index (nd = 1.50) and is inferior in impact resistance.

【0012】PTUは、ジイソシアネート化合物とポリ
チオール化合物との反応で得られる熱硬化性樹脂であ
り、超高屈折率眼鏡レンズ用途には最も多く使用されて
いる透明性、耐衝撃性、高屈折性に特に優れ、且つ色収
差も小さく、極めて優秀な材料であるが、唯一、熱重合
成形時間が長い(1日〜3日)という欠点があり、生産
性の点で問題を残している。
PTU is a thermosetting resin obtained by a reaction between a diisocyanate compound and a polythiol compound. PTU has high transparency, impact resistance and high refractive index, which are most often used for ultra-high refractive index spectacle lenses. Although this material is particularly excellent and has a small chromatic aberration, it is an extremely excellent material, but it has a drawback that it has a long thermopolymerization molding time (1 day to 3 days), and has a problem in productivity.

【0013】上記の生産性を高めるために短時間で重合
・硬化を行う目的で、臭素原子あるいは硫黄原子を含有
するアクリル酸エステル類を用いて、光重合によって光
学用レンズを得る方法などが提案されている(例えば、
特開平4−161410号公報、特開平3−21741
2号公報など)。しかしながら、該方法によると、短時
間での重合は可能となるものの、得られる樹脂は光学部
品として決して満足されるものとは言えなかった。すな
わち、例えば、眼鏡レンズとして用いた場合、高屈折率
のものは、脆くて割れやすかったり、比重の大きい等の
問題があり、それらの問題を克服した材料の開発が強く
望まれていた。
A method of obtaining an optical lens by photopolymerization using an acrylate containing a bromine atom or a sulfur atom for the purpose of polymerizing / curing in a short time to enhance the productivity is proposed. (For example,
JP-A-4-161410, JP-A-3-21741
No. 2 publication). However, according to this method, although polymerization can be performed in a short time, the obtained resin is not always satisfactory as an optical component. That is, for example, when used as a spectacle lens, a high-refractive-index lens has problems such as being brittle and fragile and having a large specific gravity. Therefore, development of a material that overcomes these problems has been strongly desired.

【0014】以上のように、従来の光学樹脂は優れた特
徴を有しているものの、それぞれに克服すべき欠点を有
しているのが現状である。このような状況下にあって、
光学特性、機械的特性、熱的特性に優れ、かつ生産性が
高く高屈折率の光学樹脂の開発が切望されているのが現
状である。
As described above, conventional optical resins have excellent characteristics, but at present, each has its own disadvantages to be overcome. Under these circumstances,
At present, there is a strong demand for the development of an optical resin having excellent optical properties, mechanical properties, and thermal properties, high productivity and high refractive index.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の光学樹脂の欠点を解決し、光学特性、機械的特性、熱
的特性に優れ、かつ生産性が高く高屈折率の光学樹脂を
提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the drawbacks of the conventional optical resin and to provide an optical resin having excellent optical properties, mechanical properties and thermal properties, high productivity and high refractive index. To provide.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。すなわち、本発明は、<1>硫黄原子を含有する置換
基および少なくとも2つ以上の、2級又は3級炭素原子
に結合した酸素原子を介したα,β−不飽和カルボン酸
残基を有する含硫不飽和カルボン酸エステル化合物、
Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies in order to solve the above problems, and as a result, have reached the present invention. That is, the present invention has <1> a sulfur-containing substituent and at least two or more α, β-unsaturated carboxylic acid residues via an oxygen atom bonded to a secondary or tertiary carbon atom. A sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound,

【0017】<2>下記一般式(1)で表される含硫不飽
和カルボン酸エステル化合物、
<2> a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the following general formula (1):

【0018】[0018]

【化19】 [式中、R11は二価の有機基を表し、X11はそれぞれ独
立に酸素原子、硫黄原子、−COO−基または−(CH
2l12−基(X12は酸素原子または硫黄原子を表し、
lは1〜3の整数を表す)を表し、R12はそれぞれ独立
に水素原子またはアルキル基を表し、R13はそれぞれ独
立に硫黄原子を含有する置換基を表し、R 14はそれぞれ
独立にα,β−不飽和カルボン酸残基を表す]
Embedded image[Wherein, R11Represents a divalent organic group, and X11Is German
First, an oxygen atom, a sulfur atom, a -COO- group or-(CH
Two)lX12-Group (X12Represents an oxygen atom or a sulfur atom,
l represents an integer of 1 to 3);12Are independent
Represents a hydrogen atom or an alkyl group;13Is German
Stands for a substituent containing a sulfur atom; 14Are each
Independently represents an α, β-unsaturated carboxylic acid residue]

【0019】<3>下記一般式(2)で表される含硫ジヒ
ドロキシ化合物とα,β−不飽和カルボン酸誘導体との
反応により得られる上記含硫不飽和カルボン酸エステル
化合物、
<3> The above sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound obtained by reacting a sulfur-containing dihydroxy compound represented by the following general formula (2) with an α, β-unsaturated carboxylic acid derivative:

【0020】[0020]

【化20】 [式中、R11は二価の有機基を表し、X11はそれぞれ独
立に酸素原子、硫黄原子、−COO−基または−(CH
2l12−基(X12は酸素原子または硫黄原子を表
し、lは1〜3の整数を表す)を表し、R12はそれぞれ
独立に水素原子またはアルキル基を表し、R13はそれぞ
れ独立に硫黄原子を含有する置換基を表す]
Embedded image [Wherein, R 11 represents a divalent organic group, and X 11 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a —COO— group, or — (CH
2 ) 1 X 12 -group (X 12 represents an oxygen atom or a sulfur atom, 1 represents an integer of 1 to 3), R 12 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 13 represents Independently represents a substituent containing a sulfur atom]

【0021】<4>α,β−不飽和カルボン酸残基が、
(メタ)アクリル酸残基、クロトン酸残基、チグリン酸
残基、3,3−ジメチルアクリル酸残基、マレイン酸残
基、シトラコン酸残基、2,3−ジメチルマレイン酸残
基、イタコン酸残基またはケイ皮酸残基である上記含硫
不飽和カルボン酸エステル化合物、
<4> The α, β-unsaturated carboxylic acid residue is
(Meth) acrylic acid residue, crotonic acid residue, tiglic acid residue, 3,3-dimethylacrylic acid residue, maleic acid residue, citraconic acid residue, 2,3-dimethylmaleic acid residue, itaconic acid The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound which is a residue or a cinnamic acid residue,

【0022】<5>二価の有機基R11が、下記式(3−
a)、(4−a)、(5−a)または式(6−a)で表
されるいずれかの基である上記含硫不飽和カルボン酸エ
ステル化合物、
<5> The divalent organic group R 11 is represented by the following formula (3-
a) the above sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound, which is any group represented by (a), (4-a), (5-a) or formula (6-a);

【0023】[0023]

【化21】 (式中、R31、R32、R33、R34はそれぞれ水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原
子を表す)
Embedded image (Wherein, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each a hydrogen atom,
Represents an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or a halogen atom)

【0024】[0024]

【化22】 〔式中、Y41は単結合、−C(R41)2−基(R41はそれ
ぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す)、−O−
基、−S−基または−SO2−基を表し、R42およびR
43はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、mおよびnはそれ
ぞれ0〜4の整数を表す〕
Embedded image Wherein Y 41 is a single bond, a —C (R 41 ) 2 — group (R 41 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group), —O—
Group, -S- group or -SO 2 - represents a group, R 42 and R
43 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylthio group,
Represents a nitro group or a halogen atom, and m and n each represent an integer of 0 to 4]

【0025】[0025]

【化23】 (式中、R51はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル
基を表す)
Embedded image (Wherein, R 51 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group)

【0026】[0026]

【化24】 (式中、R61およびR62はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表す)
Embedded image (Wherein, R 61 and R 62 each represent a hydrogen atom or an alkyl group)

【0027】<6>硫黄原子を含有する置換基R13が下記
式(7−a)または式(8−a)で表される基である上
記含硫不飽和カルボン酸エステル化合物、 R71−O− (7−a) (式中、R71は、少なくとも1個以上の硫黄原子を含有
する1価の有機基を表す) R81−S− (8−a) (式中、R81は硫黄原子を含有していてもよい1価の有
機基を表す)
[0027] <6> substituents R 13 is represented by the following formula having a sulfur atom (7-a) or formula (8-a) the sulfur-containing a group represented by the unsaturated carboxylic acid ester compound, R 71 - O- (7-a) (wherein, R 71 represents a monovalent organic group containing at least one or more sulfur atoms) R 81 -S- (8-a) (wherein, R 81 is Represents a monovalent organic group which may contain a sulfur atom)

【0028】<7>硫黄原子を含有する置換基R13が下記
式(9−a)で表される基である上記含硫不飽和カルボ
ン酸エステル化合物、
<7> The above sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound, wherein the sulfur atom-containing substituent R 13 is a group represented by the following formula (9-a):

【0029】[0029]

【化25】 (式中、R91およびR92はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表し、互いに結合して環を形成してもよく、X
93は酸素原子または硫黄原子を示し、pは0〜3の整数
を表し、qは1〜4の整数を表す)
Embedded image (Wherein, R 91 and R 92 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, and may combine with each other to form a ring;
93 represents an oxygen atom or a sulfur atom, p represents an integer of 0 to 3, and q represents an integer of 1 to 4)

【0030】<8>二価の有機基R11が下記式(3−a−
i)で表される基であり、X11が酸素原子、−COO−
基または−(CH2l12−基(X12は酸素原子または
硫黄原子を表し、lは1〜3の整数を表す)であり、R
13が前記式(7−a)または式(8−a)で表される基
であり、R14が(メタ)アクリル酸残基である上記含硫
不飽和カルボン酸エステル化合物、
<8> The divalent organic group R 11 is represented by the following formula (3-a-
i) wherein X 11 is an oxygen atom, —COO—
A group or — (CH 2 ) l X 12 — group (X 12 represents an oxygen atom or a sulfur atom, 1 represents an integer of 1 to 3);
13 is a group represented by the formula (7-a) or (8-a), and R 14 is a (meth) acrylic acid residue;

【0031】[0031]

【化26】 Embedded image

【0032】<9>二価の有機基R11が下記式(4−a−
i)、式(4−a−ii)又は(4−a−iii)で表される
基であり、X11が酸素原子であり、R13が前記式(7−
a)または式(8−a)で表される基であり、R14
(メタ)アクリル酸残基である上記含硫不飽和カルボン
酸エステル化合物、
<9> The divalent organic group R 11 has the following formula (4-a-
i), a group represented by the formula (4-a-ii) or (4-a-iii), X 11 is an oxygen atom, and R 13 is a group represented by the formula (7-
a) or a group represented by the formula (8-a), wherein R 14 is a (meth) acrylic acid residue;

【0033】[0033]

【化27】 (式中、R42およびR43はそれぞれ水素原子またはメチ
ル基を表す)
Embedded image (Wherein R 42 and R 43 each represent a hydrogen atom or a methyl group)

【0034】[0034]

【化28】 (式中、R41はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基
を表す)
Embedded image (Wherein, R 41 independently represents a hydrogen atom or a methyl group)

【0035】[0035]

【化29】 Embedded image

【0036】<10>二価の有機基R11が下記式(5−a−
i)で表される基であり、X11が酸素原子であり、R13
が前記式(7−a)または式(8−a)で表される基で
あり、R14が(メタ)アクリル酸残基である上記含硫不
飽和カルボン酸エステル化合物、
<10> When the divalent organic group R 11 is represented by the following formula (5-a-
a group represented by i), X 11 is an oxygen atom, R 13
Is a group represented by the formula (7-a) or the formula (8-a), and R 14 is a (meth) acrylic acid residue;

【0037】[0037]

【化30】 (式中、R51はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル
基を表す)
Embedded image (Wherein, R 51 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group)

【0038】<11>二価の有機基R11が下記式(6−a−
i)で表される基であり、X11が酸素原子または−CO
O−基であり、R13が前記式(7−a)または式(8−
a)で表される基であり、R14が(メタ)アクリル酸残
基である上記含硫不飽和カルボン酸エステル化合物、
<11> When the divalent organic group R 11 has the following formula (6-a-
i) wherein X 11 is an oxygen atom or —CO
An O- group, wherein R 13 is a group represented by the formula (7-a) or the formula (8-
a) a group represented by a), wherein the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound wherein R 14 is a (meth) acrylic acid residue,

【0039】[0039]

【化31】 Embedded image

【0040】<12>上記<1>〜<11>のいずれかの含硫不飽
和カルボン酸エステル化合物を含有する重合性組成物、
<13>上記<12>の重合性組成物を重合して得られる硬化
物、<14>上記<13>の硬化物からなる光学部品に関するも
のであり、ならびに、上述した含硫不飽和カルボン酸エ
ステル化合物の原料中間体である、<15>下記一般式
(2)で表されるヒドロキシ化合物、
<12> A polymerizable composition containing the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound according to any one of the above <1> to <11>,
<13> A cured product obtained by polymerizing the polymerizable composition of <12>, <14> relates to an optical component comprising the cured product of <13>, and the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid described above. <15> a hydroxy compound represented by the following general formula (2), which is a raw material intermediate of an ester compound;

【0041】[0041]

【化32】 [式中、R11は二価の有機基を表し、X11はそれぞれ独
立に酸素原子、硫黄原子、−COO−基または−(CH
2l12−基(X12は酸素原子または硫黄原子を表
し、lは1〜3の整数を表す)を表し、R12はそれぞれ
独立に水素原子またはアルキル基を表し、R13はそれぞ
れ独立に硫黄原子を含有する置換基を表す]
Embedded image [Wherein, R 11 represents a divalent organic group, and X 11 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a —COO— group, or — (CH
2 ) 1 X 12 -group (X 12 represents an oxygen atom or a sulfur atom, 1 represents an integer of 1 to 3), R 12 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 13 represents Independently represents a substituent containing a sulfur atom]

【0042】<16>二価の有機基R11が、下記式(3−
a)、(4−a)、(5−a)または式(6−a)で表
される基である上記ヒドロキシ化合物、
<16> When the divalent organic group R 11 is represented by the following formula (3-
a) the aforementioned hydroxy compound which is a group represented by (a), (4-a), (5-a) or formula (6-a);

【0043】[0043]

【化33】 (式中、R31、R32、R33、R34はそれぞれ水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原
子を表す)
Embedded image (Wherein, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each a hydrogen atom,
Represents an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or a halogen atom)

【0044】[0044]

【化34】 〔式中、Y41は単結合、−C(R41)2−基(R41はそれ
ぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す)、−O−
基、−S−基または−SO2−基を表し、R42およびR
43はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、mおよびnはそれ
ぞれ0〜4の整数を表す〕
Embedded image Wherein Y 41 is a single bond, a —C (R 41 ) 2 — group (R 41 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group), —O—
Group, -S- group or -SO 2 - represents a group, R 42 and R
43 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylthio group,
Represents a nitro group or a halogen atom, and m and n each represent an integer of 0 to 4]

【0045】[0045]

【化35】 (式中、R51はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル
基を表す)
Embedded image (Wherein, R 51 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group)

【0046】[0046]

【化36】 (式中、R61およびR62はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表す)に関する。
Embedded image Wherein R 61 and R 62 each represent a hydrogen atom or an alkyl group.

【0047】[0047]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0048】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物は、分子内に硫黄原子を含有する置換基を有し、且
つ、少なくとも2つ以上の、2級又は3級炭素原子に結
合した酸素原子を介したα,β−不飽和カルボン酸残基
を有していることを構造上の特徴とする新規化合物であ
る。
The sulfur-containing unsaturated carboxylate compound of the present invention has a substituent containing a sulfur atom in the molecule and has an oxygen atom bonded to at least two or more secondary or tertiary carbon atoms. This is a novel compound characterized in that it has an α, β-unsaturated carboxylic acid residue via a structure.

【0049】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物は、後で詳しく述べるが、代表的には、2級又は3
級炭素原子に結合したヒドロキシ基を分子内に2つ以上
有する含硫ヒドロキシ化合物とα,β−不飽和カルボン
酸類とのエステル結合生成反応により得られる、不飽和
カルボン酸エステル化合物である。
The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention will be described later in detail, but is typically a secondary or tertiary carboxylic acid.
An unsaturated carboxylic acid ester compound obtained by an ester bond formation reaction between a sulfur-containing hydroxy compound having two or more hydroxyl groups bonded to a secondary carbon atom in a molecule and an α, β-unsaturated carboxylic acid.

【0050】α,β−不飽和カルボン酸残基とは、一方
の反応原料であるα,β−不飽和カルボン酸化合物に由
来する基であり、該α,β−不飽和カルボン酸化合物中
のカルボキシル基からヒドロキシ基を除いた、残りのア
シル基残基部分を意味する。カルボキシル基を2個以上
(複数)有するα,β−不飽和カルボン酸化合物の場
合、その中の一つのみのカルボキシル基からヒドロキシ
基を除いたアシル残基を意味する。
The α, β-unsaturated carboxylic acid residue is a group derived from the α, β-unsaturated carboxylic acid compound which is one of the reaction raw materials. It means the remaining acyl group residue portion obtained by removing the hydroxy group from the carboxyl group. In the case of an α, β-unsaturated carboxylic acid compound having two or more (plural) carboxyl groups, it means an acyl residue obtained by removing a hydroxy group from only one of the carboxyl groups.

【0051】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物は、上記不飽和カルボン酸残基を分子内に2つ以上
有している。
The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention has at least two unsaturated carboxylic acid residues in the molecule.

【0052】該不飽和カルボン酸残基の数は、好ましく
は、2〜5個であり、より好ましくは、2〜4個であ
り、更に好ましくは、2又は3個である。該不飽和カル
ボン酸残基の数が2個であることは、特に好ましい。
The number of the unsaturated carboxylic acid residues is preferably 2 to 5, more preferably 2 to 4, and still more preferably 2 or 3. It is particularly preferred that the number of the unsaturated carboxylic acid residues is two.

【0053】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物は、硫黄原子を含有する置換基を有していることが
構造上のもう一つの特徴であるが、係る硫黄原子を含有
する置換基の数は、好ましくは2〜10であり、より好
ましくは2〜8であり、更に好ましくは2〜4である。
Another feature of the structure of the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention is that it has a substituent containing a sulfur atom. The number is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 8, and even more preferably 2 to 4.

【0054】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物は、本発明の所望の効果を考慮すると、分子内に硫
黄原子を少なくとも2個有していることが好ましく、よ
り好ましくは3個以上であり、更に好ましくは4個以上
である。
In view of the desired effects of the present invention, the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention preferably has at least two sulfur atoms in the molecule, more preferably three or more sulfur atoms. Yes, and more preferably four or more.

【0055】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物をレンズ等の光学部品用途に使用する際を考慮した
場合に、該化合物の特性として、該化合物を含有してな
る重合性組成物を硬化してなる硬化物の屈折率(nd)
が1.58以上であることが好ましい。該硬化物の屈折
率として、より好ましくは1.59以上であり、更に好
ましくは1.60以上である。
When considering the use of the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention for optical parts such as lenses, the characteristics of the compound include curing of a polymerizable composition containing the compound. Refractive index of cured product (nd)
Is preferably 1.58 or more. The refractive index of the cured product is more preferably 1.59 or more, and even more preferably 1.60 or more.

【0056】又、本発明の含硫不飽和カルボン酸エステ
ル化合物をレンズ等の光学部品用途に使用する際を考慮
した場合に、該化合物の特性として、該化合物を含有し
てなる重合性組成物を硬化してなる硬化物のアッベ数
(νd)が28以上であることが好ましく、より好まし
くは30以上であり、更に好ましくは33以上である。
When the sulfur-containing unsaturated carboxylate compound of the present invention is considered for use in optical parts such as lenses, the characteristics of the compound include a polymerizable composition containing the compound. Is preferably 28 or more, more preferably 30 or more, and still more preferably 33 or more.

【0057】かかる含硫不飽和カルボン酸エステル化合
物の好ましい代表的な具体例として、一般式(1)で表
される含硫不飽和カルボン酸エステル化合物が挙げられ
る。
As a preferable representative specific example of such a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound, a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) can be mentioned.

【0058】以下、一般式(1)で表される含硫不飽和
カルボン酸エステル化合物について詳しく説明する。
Hereinafter, the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) will be described in detail.

【0059】一般式(1)において、R11は二価の有機
基を表し、特に二価の脂肪族基または芳香族基、あるい
は、これらの組み合わせからなる基である。これら二価
の有機基R11は、置換基を有していてもよく、また、該
有機基を構成する原子として、炭素原子または水素原子
以外のヘテロ原子(例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素
原子など)を含有していてもよい。特に、本発明におけ
る所望の効果の一つである高屈折率、高アッベ数を達成
するために、硫黄原子を含有することは好ましいことで
ある。
In the general formula (1), R 11 represents a divalent organic group, particularly a divalent aliphatic group or aromatic group, or a combination thereof. These divalent organic groups R 11 may have a substituent, and as an atom constituting the organic group, a hetero atom other than a carbon atom or a hydrogen atom (eg, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom) Atoms). In particular, it is preferable to contain a sulfur atom in order to achieve a high refractive index and a high Abbe number, which are one of the desired effects in the present invention.

【0060】該有機基として、より好ましくは、炭素数
2〜30の鎖状、環状またはこれらの組み合わせからな
るアルキレン基、炭素数5〜30のアラルキレン基また
は炭素数4〜30のアリーレン基、あるいは、かかるア
リーレン基の2つ以上が1つ以上の二価の連結基で結合
してなる基である。
As the organic group, more preferably, an alkylene group having 2 to 30 carbon atoms in a chain, cyclic or combination thereof, an aralkylene group having 5 to 30 carbon atoms or an arylene group having 4 to 30 carbon atoms, or A group in which two or more of such arylene groups are bonded by one or more divalent linking groups.

【0061】該有機基R11が置換基を有する場合のかか
る置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルチオ基、ニトロ基またはハロゲン原子(例
えば、臭素原子、ヨウ素原子または塩素原子など)であ
り、好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1
〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルキルチオ基、
臭素原子またはヨウ素原子であり、より好ましくは、メ
チル基、メトキシ基、メチルチオ基または臭素原子であ
る。
When the organic group R 11 has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, a nitro group and a halogen atom (for example, a bromine atom, an iodine atom or a chlorine atom). And preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and 1 carbon atom.
To 4 alkoxy groups, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms,
It is a bromine atom or an iodine atom, more preferably a methyl group, a methoxy group, a methylthio group or a bromine atom.

【0062】該有機基R11としては、特に限定するもの
ではないが、例えば、メチレン基、1,2−エチレン
基、1,1−エチレン基、1−メチル−1,2−エチレ
ン基、1,2−ジメチル−1,2−エチレン基、1,3
−トリメチレン基、
[0062] Examples of the organic group R 11, it is not particularly limited, for example, methylene, 1,2-ethylene, 1,1-ethylene group, 1-methyl-1,2-ethylene group, 1 , 2-dimethyl-1,2-ethylene group, 1,3
A trimethylene group,

【0063】[0063]

【化37】 Embedded image

【0064】[0064]

【化38】 Embedded image

【0065】[0065]

【化39】 Embedded image

【0066】[0066]

【化40】 が挙げられる。Embedded image Is mentioned.

【0067】これら二価の有機基の中でも、該有機基R
11として、下記式(3−a)で表される基、式(4−
a)で表される基、式(5−a)で表される基または式
(6−a)で表される基は、より好ましい。
Among these divalent organic groups, the organic group R
As 11, a group represented by the following formula (3-a), formula (4
The group represented by a), the group represented by the formula (5-a) or the group represented by the formula (6-a) is more preferable.

【0068】[0068]

【化41】 (式中、R31、R32、R33、R34はそれぞれ水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原
子を表す)
Embedded image (Wherein, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each a hydrogen atom,
Represents an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or a halogen atom)

【0069】[0069]

【化42】 〔式中、Y41は単結合、−C(R41)2−基(R41はそれ
ぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す)、−O−
基、−S−基または−SO2−基を表し、R42およびR
43はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、mおよびnはそれ
ぞれ0〜4の整数を表す〕
Embedded image Wherein Y 41 is a single bond, a —C (R 41 ) 2 — group (R 41 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group), —O—
Group, -S- group or -SO 2 - represents a group, R 42 and R
43 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylthio group,
Represents a nitro group or a halogen atom, and m and n each represent an integer of 0 to 4]

【0070】[0070]

【化43】 (式中、R51はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル
基を表す)
Embedded image (Wherein, R 51 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group)

【0071】[0071]

【化44】 (式中、R61およびR62はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表す)
Embedded image (Wherein, R 61 and R 62 each represent a hydrogen atom or an alkyl group)

【0072】以下、式(3−a)〜式(6−a)で表さ
れる二価の有機基について説明する。上記式(3−a)
において、R31、R32、R33およびR34は、それぞれ独
立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基
またはハロゲン原子を表し、好ましくは、水素原子、置
換基を有していてもよい直鎖、分岐または環状のアルキ
ル基、置換基を有していてもよい直鎖、分岐または環状
のアルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表し、
より好ましくは、水素原子、置換基を有していてもよい
炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、
置換基を有していてもよい炭素数1〜20の直鎖、分岐
または環状のアルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原
子を表す。
Hereinafter, the divalent organic groups represented by the formulas (3-a) to (6-a) will be described. Formula (3-a)
In the above, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or a halogen atom, and preferably have a hydrogen atom or a substituent A good linear, branched or cyclic alkyl group, a linear or branched or cyclic alkoxy group which may have a substituent, represents a nitro group or a halogen atom,
More preferably, a hydrogen atom, a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent,
It represents a linear, branched or cyclic C1-C20 alkoxy group, nitro group or halogen atom which may have a substituent.

【0073】置換基R31、R32、R33およびR34の具体
例としては、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソ
ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n
−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル
基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、
n−テトラデシル基、n−オクタデシル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、4−tert−ブチルシク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、
シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基、テ
トラヒドロフルフリル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−n−ブトキシエチル基、3−メ
トキシプロピル基、3−エトキシプロピル基、3−n−
プロポキシプロピル基、3−n−ブトキシプロピル基、
3−n−ヘキシルオキシプロピル基、2−メトキシエト
キシエチル基、2−エトキシエトキシエチル基、フェノ
キシメチル基、2−フェノキシエトキシエチル基、クロ
ロメチル基、2−クロロエチル基、3−クロロプロピル
基、2,2,2−トリクロロエチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−
ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n
−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、2−エチ
ルヘキシオキシル基、n−オクチルオキシ基、n−デシ
ルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、n−テトラデシル
オキシ基、n−オクタデシルオキシ基、シクロペンチル
オキシ基、シクロヘキシルオキシ基、4−tert−ブ
チルシクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ
基、シクロオクチルオキシ基、シクロヘキシルメトキシ
基、シクロヘキシルエトキシ基、2−メトキシエトキシ
基、2−エトキシエトキシ基、2−n−ブトキシエトキ
シ基、3−メトキシプロポキシ基、3−エトキシプロポ
キシ基、3−n−プロポキシプロポキシ基、3−n−ブ
トキシプロポキシ基、3−n−ヘキシルオキシプロポキ
シ基、2−メトキシエトキシエトキシ基、フェノキシメ
トキシ基、2−フェノキシエトキシエトキシ基、クロロ
メトキシ基、2−クロロエトキシ基、3−クロロプロポ
キシ基、2,2,2−トリクロロエトキシ基、ニトロ
基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子
を挙げることができる。
Specific examples of the substituents R 31 , R 32 , R 33 and R 34 include, for example, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group,
n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n
-Pentyl group, n-hexyl group, 2-ethylhexyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-dodecyl group,
n-tetradecyl group, n-octadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 4-tert-butylcyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group,
Cyclohexylmethyl group, cyclohexylethyl group, tetrahydrofurfuryl group, 2-methoxyethyl group, 2-
Ethoxyethyl group, 2-n-butoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 3-ethoxypropyl group, 3-n-
Propoxypropyl group, 3-n-butoxypropyl group,
3-n-hexyloxypropyl group, 2-methoxyethoxyethyl group, 2-ethoxyethoxyethyl group, phenoxymethyl group, 2-phenoxyethoxyethyl group, chloromethyl group, 2-chloroethyl group, 3-chloropropyl group, 2 , 2,2-trichloroethyl, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-
Butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, n
-Pentyloxy, n-hexyloxy, 2-ethylhexyloxy, n-octyloxy, n-decyloxy, n-dodecyloxy, n-tetradecyloxy, n-octadecyloxy, cyclopentyl Oxy group, cyclohexyloxy group, 4-tert-butylcyclohexyloxy group, cycloheptyloxy group, cyclooctyloxy group, cyclohexylmethoxy group, cyclohexylethoxy group, 2-methoxyethoxy group, 2-ethoxyethoxy group, 2-n- Butoxyethoxy group, 3-methoxypropoxy group, 3-ethoxypropoxy group, 3-n-propoxypropoxy group, 3-n-butoxypropoxy group, 3-n-hexyloxypropoxy group, 2-methoxyethoxyethoxy group, phenoxymethoxy Group, 2-fe A xyethoxyethoxy group, a chloromethoxy group, a 2-chloroethoxy group, a 3-chloropropoxy group, a 2,2,2-trichloroethoxy group, a nitro group, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. .

【0074】該置換基R31、R32、R33およびR34とし
て、より好ましくは、水素原子、炭素数1〜10の無置
換の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜10の無
置換の直鎖または分岐のアルコキシ基、ニトロ基、塩素
原子、臭素原子であり、さらに好ましくは、水素原子、
メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル
基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、te
rt−ブトキシ基、ニトロ基、臭素原子またはヨウ素原
子である。
The substituents R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are more preferably a hydrogen atom, an unsubstituted straight-chain or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, A substituted linear or branched alkoxy group, a nitro group, a chlorine atom, a bromine atom, more preferably a hydrogen atom,
Methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, te
It is an rt-butoxy group, a nitro group, a bromine atom or an iodine atom.

【0075】該置換基R31、R32、R33およびR34とし
て、水素原子は特に好ましい。
A hydrogen atom is particularly preferred as the substituents R 31 , R 32 , R 33 and R 34 .

【0076】上記式(4−a)において、Y41は単結
合、−C(R41)2−基(R41はそれぞれ独立に水素原子
またはメチル基を表す)、−O−基、−S−基または−
SO2−基を表す。
In the above formula (4-a), Y 41 is a single bond, a —C (R 41 ) 2 — group (R 41 independently represents a hydrogen atom or a methyl group), a —O— group, a —S -Group or-
Represents an SO 2 — group.

【0077】上記式(4−a)中のY41として、好まし
くは、単結合、メチレン基、エチリデン基、イソプロピ
リデン基、−S−基または−SO2−基であり、より好
ましくは、単結合、メチレン基、イソプロピリデン基、
−S−基または−SO2−基であり、さらに好ましく
は、単結合、メチレン基、イソプロピリデン基または−
S−基である。
In the above formula (4-a), Y 41 is preferably a single bond, a methylene group, an ethylidene group, an isopropylidene group, a —S— group or a —SO 2 — group, and more preferably a single bond. Bond, methylene group, isopropylidene group,
—S— group or —SO 2 — group, more preferably a single bond, a methylene group, an isopropylidene group or a
S-group.

【0078】式(4−a)において、R42およびR43
それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アラルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ニト
ロ基またはハロゲン原子を表す。
In the formula (4-a), R 42 and R 43 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylthio group, a nitro group or a halogen atom.

【0079】該置換基R42およびR43として、好ましく
は、炭素数1〜4の鎖状アルキル基、炭素数5〜10の
環状アルキル基、炭素数2〜6の鎖状または環状のアル
ケニル基、炭素数5〜20のアラルキル基、炭素数6〜
20のアリール基、炭素数1〜4の鎖状アルコキシ基、
炭素数5〜12の環状アルコキシ基、炭素数1〜4のア
ルキルチオ基、ニトロ基、臭素原子またはヨウ素原子を
表し、より好ましくは、メチル基、アリル基、ベンジル
基、フェニル基、メトキシ基、メチルチオ基または臭素
原子である。
As the substituents R 42 and R 43 , a chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms, a chain or cyclic alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms is preferable. , An aralkyl group having 5 to 20 carbon atoms and 6 to 6 carbon atoms
20 aryl groups, a chain alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms,
Represents a cyclic alkoxy group having 5 to 12 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 4 carbon atoms, a nitro group, a bromine atom or an iodine atom, more preferably a methyl group, an allyl group, a benzyl group, a phenyl group, a methoxy group, a methylthio group; Group or a bromine atom.

【0080】式(4−a)において、mおよびnはそれ
ぞれ0〜4の整数を表し、好ましくは、0〜3の整数で
あり、より好ましくは、0〜2の整数である。
In the formula (4-a), m and n each represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 3, and more preferably an integer of 0 to 2.

【0081】式(4−a)で表される基として、好まし
くは、下記式(4−a−i)、式(4−a−ii)又は式
(4−a−iii)で表される基である。
The group represented by the formula (4-a) is preferably represented by the following formula (4-ai), formula (4-a-ii) or formula (4-a-iii) Group.

【0082】[0082]

【化45】 (式中、R42およびR43はそれぞれ独立に水素原子また
はメチル基を表す)
Embedded image (Wherein, R 42 and R 43 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group)

【0083】[0083]

【化46】 (式中、R41はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基
を表す)
Embedded image (Wherein, R 41 independently represents a hydrogen atom or a methyl group)

【0084】[0084]

【化47】 Embedded image

【0085】式(5−a)において、R51はそれぞれ独
立に、水素原子またはアルキル基を表す。該置換基R51
として、好ましくは、水素原子または炭素数1〜4の鎖
状アルキル基であり、より好ましくは、水素原子または
メチル基である。
In the formula (5-a), R 51 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. The substituent R 51
Is preferably a hydrogen atom or a linear alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

【0086】式(6−a)において、R61およびR62
それぞれ水素原子またはアルキル基を表す。該置換基R
61およびR62として、好ましくは、水素原子または炭素
数1〜4の鎖状アルキル基であり、より好ましくは、水
素原子またはメチル基である。
In the formula (6-a), R 61 and R 62 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. The substituent R
Each of 61 and R62 is preferably a hydrogen atom or a chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.

【0087】一般式(1)において、置換基R12はそれ
ぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表し、より好
ましくは、水素原子またはメチル基であり、さらに好ま
しくは、水素原子である。
In the general formula (1), the substituents R 12 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and further preferably a hydrogen atom.

【0088】一般式(1)において、置換基R13はそれ
ぞれ独立に、硫黄原子を含有する置換基を表し、該置換
基の構造中に少なくとも1個の硫黄原子を含有すること
を特徴とする。
In the general formula (1), the substituents R 13 each independently represent a substituent containing a sulfur atom, and the structure of the substituent contains at least one sulfur atom. .

【0089】該置換基R13として、好ましい具体例とし
ては、下記式(7−a)または式(8−a)で表される
基が挙げられる。
Preferred specific examples of the substituent R 13 include a group represented by the following formula (7-a) or (8-a).

【0090】 R71−O− (7−a) (式中、R71は少なくとも1個以上の硫黄原子を含有す
る一価の有機基を表す) R81−S− (8−a) (式中、R81は硫黄原子を含有していてもよい一価の有
機基を表す)
R 71 —O— (7-a) (wherein, R 71 represents a monovalent organic group containing at least one sulfur atom) R 81 —S— (8-a) (formula Wherein R 81 represents a monovalent organic group which may contain a sulfur atom.

【0091】上記式中、置換基R71は少なくとも1個以
上の硫黄原子を含有する一価の有機基を表す。該置換基
71として、好ましくは、少なくとも1個以上の硫黄原
子を含有するアルキル基、アラルキル基、アリール基ま
たはアシル基であり、より好ましくは、少なくとも1個
以上の硫黄原子を含有する炭素数1〜20の直鎖状、分
岐状または環状構造を有するアルキル基、炭素数5〜2
0のアラルキル基、炭素数4〜20のアリール基または
炭素数2〜20のアシル基である。これらの一価の有機
基は置換基を有していてもよく、また、硫黄原子以外の
ヘテロ原子を含有(例えば、複素環含有の置換基など)
していてもよい。
In the above formula, the substituent R 71 represents a monovalent organic group containing at least one sulfur atom. The substituent R 71 is preferably an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, or an acyl group containing at least one sulfur atom, and more preferably a carbon number containing at least one sulfur atom. An alkyl group having 1 to 20 linear, branched or cyclic structures, having 5 to 2 carbon atoms
It is an aralkyl group having 0, an aryl group having 4 to 20 carbon atoms, or an acyl group having 2 to 20 carbon atoms. These monovalent organic groups may have a substituent and contain a hetero atom other than a sulfur atom (for example, a substituent containing a heterocycle).
It may be.

【0092】また、上記式中、該置換基R81は硫黄原子
を含有していてもよい一価の有機基を表す。該置換基R
81として、好ましくは、硫黄原子を含有していてもよい
アルキル基、アラルキル基、アリール基またはアシル基
であり、より好ましくは、少なくとも1個以上の硫黄原
子を含有していてもよい炭素数1〜20の直鎖状、分岐
状または環状構造を有するアルキル基、炭素数5〜20
のアラルキル基、炭素数4〜20のアリール基または炭
素数2〜20のアシル基である。これらの一価の有機基
は置換基を有していてもよく、また、硫黄原子以外のヘ
テロ原子を含有(例えば、複素環含有の置換基など)し
ていてもよい。本発明の所望の効果(例えば、高屈折
率、高アッベ数など)を得るためには、置換基R81が硫
黄原子を含有することはより好ましい。
In the above formula, the substituent R 81 represents a monovalent organic group which may contain a sulfur atom. The substituent R
81 is preferably an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, or an acyl group which may contain a sulfur atom, and more preferably has 1 carbon atom which may contain at least one sulfur atom. To 20 alkyl groups having a linear, branched or cyclic structure, having 5 to 20 carbon atoms
, An aryl group having 4 to 20 carbon atoms, or an acyl group having 2 to 20 carbon atoms. These monovalent organic groups may have a substituent, and may contain a hetero atom other than a sulfur atom (for example, a heterocyclic-containing substituent or the like). In order to obtain the desired effects of the present invention (for example, high refractive index, high Abbe number, etc.), it is more preferable that the substituent R 81 contains a sulfur atom.

【0093】上記置換基R13として、より好ましくは、
少なくとも1個以上の硫黄原子を含有する直鎖状、分岐
状または環状構造を有するのアルコキシ基、少なくとも
1個以上の硫黄原子を含有するアラルキルオキシ基、少
なくとも1個以上の硫黄原子を含有するアリールオキシ
基、少なくとも1個以上の硫黄原子を含有するアシルオ
キシ基、硫黄原子を含有していてもよい直鎖状、分岐状
または環状構造を有するアルキルチオ基、硫黄原子を含
有していてもよいアラルキルチオ基、硫黄原子を含有し
ていてもよいアリールチオ基、硫黄原子を含有していて
もよいアシルチオ基である。
As the above substituent R 13 , more preferably,
Linear, branched or cyclic alkoxy group containing at least one sulfur atom, aralkyloxy group containing at least one sulfur atom, aryl containing at least one sulfur atom Oxy group, acyloxy group containing at least one sulfur atom, alkylthio group having a linear, branched or cyclic structure optionally containing a sulfur atom, aralkylthio optionally containing a sulfur atom And arylthio groups optionally containing a sulfur atom and acylthio groups optionally containing a sulfur atom.

【0094】該置換基R13としては、例えば、メチルチ
オエトキシ基、エチルチオエトキシ基、プロピルチオエ
トキシ基、ブチルチオエトキシ基、メチルチオエチルチ
オエトキシ基、メチルチオエチルチオエチルチオエトキ
シ基、2,2−ジ(メチルチオ)エトキシ基、2,2−
ジ(エチルチオ)エトキシ基、2,2−ジ(プロピルチ
オ)エトキシ基、2,2−ジ(ブチルチオ)エトキシ
基、3,3−ジ(メチルチオ)プロポキシ基、3,3−
ジ(エチルチオ)プロポキシ基、3,3−ジ(プロピル
チオ)エトキシ基、3,3−ジ(ブチルチオ)エトキシ
基、(1,3−ジチオラン−2−イル)メトキシ基、2
−(1,3−ジチオラン−2−イル)エトキシ基、3−
(1,3−ジチオラン−2−イル)プロポキシ基、
(1,3−ジチオラン−4−イル)メトキシ基、2−
(1,3−ジチオラン−4−イル)エトキシ基、3−
(1,3−ジチオラン−4−イル)プロポキシ基、
(1,4−ジチアン−2−イル)メトキシ基、2−
(1,4−ジチアン−2−イル)エトキシ基、3−
(1,4−ジチアン−2−イル)プロポキシ基、(1,
3,5−トリチアン−2−イル)メトキシ基、2−
(1,3,5−トリチアン−2−イル)エトキシ基、3
−(1,3,5−トリチアン−2−イル)プロポキシ
基、4−メチルチオベンジルオキシ基、3−メチルチオ
ベンジルオキシ基、2−メチルチオベンジルオキシ基、
2,4−ジ(メチルチオ)ベンジルオキシ基、3,4−
ジ(メチルチオ)ベンジルオキシ基、2,4,6−トリ
(メチルチオ)ベンジルオキシ基、(4−メチルチオフ
ェニル)エトキシ基、(3−メチルチオフェニル)エト
キシ基、(2−メチルチオフェニル)エトキシ基、
[2,4−ジ(メチルチオ)フェニル]エトキシ基、
[3,4−ジ(メチルチオ)フェニル]エトキシ基、
[2,4,6−トリ(メチルチオ)フェニル]エトキシ
基、4−メチルチオフェニルオキシ基、3−メチルチオ
フェニルオキシ基、2−メチルチオフェニルオキシ基、
2,4−ジ(メチルチオ)フェニルオキシ基、2,5−
ジ(メチルチオ)フェニルオキシ基、2,6−ジ(メチ
ルチオ)フェニルオキシ基、3,4−ジ(メチルチオ)
フェニルオキシ基、3,5−ジ(メチルチオ)フェニル
オキシ基、2,4,6−トリ(メチルチオ)フェニルオ
キシ基、2,3,4,5,6−ペンタ(メチルチオ)フ
ェニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピ
ルチオ基、ブチルチオ基、メトキシエチルチオ基、ブト
キシエチルチオ基、メトキシプロピルチオ基、シクロヘ
キシルチオ基、2−メチルチオエチルチオ基、2−エチ
ルチオエチルチオ基、2−プロピルチオエチルチオ基、
2−ブチルチオエチルチオ基、メチルチオエチルチオエ
チルチオ基、メチルチオエチルチオエチルチオエチルチ
オ基、2,2−ジ(メチルチオ)エチルチオ基、2,2
−ジ(エチルチオ)エチルチオ基、2,2−ジ(プロピ
ルチオ)エチルチオ基、2,2−ジ(ブチルチオ)エチ
ルチオ基、3,3−ジ(メチルチオ)プロピルチオ基、
3,3−ジ(エチルチオ)プロピルチオ基、3,3−ジ
(プロピルチオ)プロピルチオ基、3,3−ジ(ブチル
チオ)プロピルチオ基、(1,3−ジチオラン−2−イ
ル)メチルチオ基、2−(1,3−ジチオラン−2−イ
ル)エチルチオ基、3−(1,3−ジチオラン−2−イ
ル)プロピルチオ基、(1,3−ジチオラン−4−イ
ル)メチルチオ基、2−(1,3−ジチオラン−4−イ
ル)エチルチオ基、3−(1,3−ジチオラン−4−イ
ル)プロピルチオ基、(1,3−ジチアン−2−イル)
メチルチオ基、2−(1,3−ジチアン−2−イル)エ
チルチオ基、3−(1,3−ジチアン−2−イル)プロ
ピルチオ基、(1,4−ジチアン−2−イル)メチルチ
オ基、2−(1,4−ジチアン−2−イル)エチルチオ
基、3−(1,4−ジチアン−2−イル)プロピルチオ
基、(1,3,5−トリチアン−2−イル)メチルチオ
基、2−(1,3,5−トリチアン−2−イル)エチル
チオ基、3−(1,3,5−トリチアン−2−イル)プ
ロピルチオ基、ベンジルチオ基、4−メチルベンジルチ
オ基、4−メトキシベンジルチオ基、4−メチルチオベ
ンジルチオ基、3−メチルチオベンジルチオ基、2−メ
チルチオベンジルチオ基、2,4−ジ(メチルチオ)ベ
ンジルチオ基、3,4−ジ(メチルチオ)ベンジルチオ
基、2,4,6−トリ(メチルチオ)ベンジルチオ基、
(4−メチルチオフェニル)エチルチオ基、(3−メチ
ルチオフェニル)エチルチオ基、(2−メチルチオフェ
ニル)エチルチオ基、[2,4−ジ(メチルチオ)フェ
ニル]エチルチオ基、[3,4−ジ(メチルチオ)フェ
ニル]エチルチオ基、[2,4,6−トリ(メチルチ
オ)フェニル]エチルチオ基、フェニルチオ基、4−メ
チルフェニルチオ基、4−メトキシフェニルチオ基、4
−メチルチオフェニルチオ基、3−メチルチオフェニル
チオ基、2−メチルチオフェニルチオ基、2,4−ジ
(メチルチオ)フェニルチオ基、2,5−ジ(メチルチ
オ)フェニルチオ基、2,6−ジ(メチルチオ)フェニ
ルチオ基、3,4−ジ(メチルチオ)フェニルチオ基、
3,5−ジ(メチルチオ)フェニルチオ基、2,4,6
−トリ(メチルチオ)フェニルチオ基、2,3,4,
5,6−ペンタ(メチルチオ)フェニルチオ基、チアゾ
リン−2−イルチオ基、メチルチオメチルカルボニルオ
キシ基、メチルチオエチルカルボニルオキシ基、(1,
3−ジチオラン−2−イル)カルボニルオキシ基、
(1,3−ジチオラン−4−イル)カルボニルオキシ
基、(1,3−ジチアン−2−イル)カルボニルオキシ
基、(1,4−ジチアン−2−イル)カルボニルオキシ
基、(1,3,5−トリチアン−2−イル)カルボニル
オキシ基、4−メチルチオベンゾイルオキシ基、チオフ
ェン−2−カルボニルオキシ基、チアゾール−2−カル
ボニルオキシ基、メチルチオメチルカルボニルチオ基、
メチルチオエチルカルボニルチオ基、(1,3−ジチオ
ラン−2−イル)カルボニルチオ基、(1,3−ジチオ
ラン−4−イル)カルボニルチオ基、(1,3−ジチア
ン−2−イル)カルボニルチオ基、(1,4−ジチアン
−2−イル)カルボニルチオ基、(1,3,5−トリチ
アン−2−イル)カルボニルチオ基、ベンゾイルチオ
基、4−メチルチオベンゾイルチオ基、チオフェン−2
−カルボニルチオ基、チアゾール−2−カルボニルチオ
基などが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。
Examples of the substituent R 13 include a methylthioethoxy group, an ethylthioethoxy group, a propylthioethoxy group, a butylthioethoxy group, a methylthioethylthioethoxy group, a methylthioethylthioethylthioethoxy group, a 2,2- Di (methylthio) ethoxy group, 2,2-
Di (ethylthio) ethoxy group, 2,2-di (propylthio) ethoxy group, 2,2-di (butylthio) ethoxy group, 3,3-di (methylthio) propoxy group, 3,3-
Di (ethylthio) propoxy group, 3,3-di (propylthio) ethoxy group, 3,3-di (butylthio) ethoxy group, (1,3-dithiolan-2-yl) methoxy group, 2
-(1,3-dithiolan-2-yl) ethoxy group, 3-
A (1,3-dithiolan-2-yl) propoxy group,
(1,3-dithiolan-4-yl) methoxy group, 2-
(1,3-dithiolan-4-yl) ethoxy group, 3-
(1,3-dithiolan-4-yl) propoxy group,
(1,4-dithian-2-yl) methoxy group, 2-
(1,4-dithian-2-yl) ethoxy group, 3-
(1,4-dithian-2-yl) propoxy group, (1,
3,5-trithian-2-yl) methoxy group, 2-
(1,3,5-trithian-2-yl) ethoxy group, 3
-(1,3,5-trithian-2-yl) propoxy group, 4-methylthiobenzyloxy group, 3-methylthiobenzyloxy group, 2-methylthiobenzyloxy group,
2,4-di (methylthio) benzyloxy group, 3,4-
Di (methylthio) benzyloxy group, 2,4,6-tri (methylthio) benzyloxy group, (4-methylthiophenyl) ethoxy group, (3-methylthiophenyl) ethoxy group, (2-methylthiophenyl) ethoxy group,
[2,4-di (methylthio) phenyl] ethoxy group,
[3,4-di (methylthio) phenyl] ethoxy group,
[2,4,6-tri (methylthio) phenyl] ethoxy, 4-methylthiophenyloxy, 3-methylthiophenyloxy, 2-methylthiophenyloxy,
2,4-di (methylthio) phenyloxy group, 2,5-
Di (methylthio) phenyloxy group, 2,6-di (methylthio) phenyloxy group, 3,4-di (methylthio)
Phenyloxy group, 3,5-di (methylthio) phenyloxy group, 2,4,6-tri (methylthio) phenyloxy group, 2,3,4,5,6-penta (methylthio) phenyloxy group, methylthio group , Ethylthio, propylthio, butylthio, methoxyethylthio, butoxyethylthio, methoxypropylthio, cyclohexylthio, 2-methylthioethylthio, 2-ethylthioethylthio, 2-propylthioethylthio Group,
2-butylthioethylthio group, methylthioethylthioethylthio group, methylthioethylthioethylthioethylthio group, 2,2-di (methylthio) ethylthio group, 2,2
-Di (ethylthio) ethylthio group, 2,2-di (propylthio) ethylthio group, 2,2-di (butylthio) ethylthio group, 3,3-di (methylthio) propylthio group,
3,3-di (ethylthio) propylthio group, 3,3-di (propylthio) propylthio group, 3,3-di (butylthio) propylthio group, (1,3-dithiolan-2-yl) methylthio group, 2- ( 1,3-dithiolan-2-yl) ethylthio group, 3- (1,3-dithiolan-2-yl) propylthio group, (1,3-dithiolan-4-yl) methylthio group, 2- (1,3- Dithiolan-4-yl) ethylthio group, 3- (1,3-dithiolan-4-yl) propylthio group, (1,3-dithian-2-yl)
Methylthio group, 2- (1,3-dithian-2-yl) ethylthio group, 3- (1,3-dithian-2-yl) propylthio group, (1,4-dithian-2-yl) methylthio group, -(1,4-dithian-2-yl) ethylthio group, 3- (1,4-dithian-2-yl) propylthio group, (1,3,5-trithian-2-yl) methylthio group, 2- ( 1,3,5-trithian-2-yl) ethylthio group, 3- (1,3,5-trithian-2-yl) propylthio group, benzylthio group, 4-methylbenzylthio group, 4-methoxybenzylthio group, 4-methylthiobenzylthio group, 3-methylthiobenzylthio group, 2-methylthiobenzylthio group, 2,4-di (methylthio) benzylthio group, 3,4-di (methylthio) benzylthio group, 2,4,6- Li (methylthio) benzylthio group,
(4-methylthiophenyl) ethylthio group, (3-methylthiophenyl) ethylthio group, (2-methylthiophenyl) ethylthio group, [2,4-di (methylthio) phenyl] ethylthio group, [3,4-di (methylthio) Phenyl] ethylthio group, [2,4,6-tri (methylthio) phenyl] ethylthio group, phenylthio group, 4-methylphenylthio group, 4-methoxyphenylthio group,
-Methylthiophenylthio group, 3-methylthiophenylthio group, 2-methylthiophenylthio group, 2,4-di (methylthio) phenylthio group, 2,5-di (methylthio) phenylthio group, 2,6-di (methylthio) Phenylthio group, 3,4-di (methylthio) phenylthio group,
3,5-di (methylthio) phenylthio group, 2,4,6
A tri (methylthio) phenylthio group, 2,3,4
5,6-penta (methylthio) phenylthio group, thiazolin-2-ylthio group, methylthiomethylcarbonyloxy group, methylthioethylcarbonyloxy group, (1,
3-dithiolan-2-yl) carbonyloxy group,
(1,3-dithiolan-4-yl) carbonyloxy group, (1,3-dithian-2-yl) carbonyloxy group, (1,4-dithian-2-yl) carbonyloxy group, (1,3 5-trithian-2-yl) carbonyloxy group, 4-methylthiobenzoyloxy group, thiophen-2-carbonyloxy group, thiazole-2-carbonyloxy group, methylthiomethylcarbonylthio group,
Methylthioethylcarbonylthio group, (1,3-dithiolan-2-yl) carbonylthio group, (1,3-dithiolan-4-yl) carbonylthio group, (1,3-dithian-2-yl) carbonylthio group , (1,4-dithian-2-yl) carbonylthio group, (1,3,5-trithian-2-yl) carbonylthio group, benzoylthio group, 4-methylthiobenzoylthio group, thiophen-2
-Carbonylthio group, thiazole-2-carbonylthio group and the like, but are not limited thereto.

【0095】上記置換基R13として、下記式(9−a)
で表される基は特に好ましい。
As the substituent R 13 , the following formula (9-a)
The group represented by is particularly preferred.

【0096】[0096]

【化48】 (式中、R91およびR92はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表し、互いに結合して環を形成してもよく、X
93は酸素原子または硫黄原子を示し、pは0〜3の整数
を表し、qは1〜4の整数を表す)
Embedded image (Wherein, R 91 and R 92 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, and may combine with each other to form a ring;
93 represents an oxygen atom or a sulfur atom, p represents an integer of 0 to 3, and q represents an integer of 1 to 4)

【0097】一般式(1)において、置換基R14はそれ
ぞれ独立にα,β−不飽和カルボン酸残基を表す。本発
明の一般式(1)で表される含硫不飽和カルボン酸エス
テル化合物は、後で詳しく述べるが、代表的には、一般
式(2)で表されるヒドロキシ化合物とα,β−不飽和
カルボン酸類との反応により得られ、置換基R14は反応
物であるα,β−不飽和カルボン酸に由来する基(残
基)である。かかる置換基R14として、好ましくは、
(メタ)アクリル酸残基、クロトン酸残基、チグリン酸
残基、3,3−ジメチルアクリル酸残基、マレイン酸残
基、シトラコン酸残基、2,3−ジメチルマレイン酸残
基、イタコン酸残基またはケイ皮酸残基であり、より好
ましくは、(メタ)アクリル酸残基またはマレイン酸残
基である。これらの中でも、該置換基R14として、(メ
タ)アクリル酸残基は、特に好ましい。
In the general formula (1), the substituents R 14 each independently represent an α, β-unsaturated carboxylic acid residue. The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) of the present invention will be described in detail later, but typically, a hydroxy compound represented by the general formula (2) and an α, β-unsaturated compound. It is obtained by reaction with a saturated carboxylic acid, and the substituent R 14 is a group (residue) derived from the α, β-unsaturated carboxylic acid as a reactant. As such a substituent R 14 , preferably,
(Meth) acrylic acid residue, crotonic acid residue, tiglic acid residue, 3,3-dimethylacrylic acid residue, maleic acid residue, citraconic acid residue, 2,3-dimethylmaleic acid residue, itaconic acid Or a cinnamic acid residue, and more preferably a (meth) acrylic acid residue or a maleic acid residue. Among these, a (meth) acrylic acid residue is particularly preferred as the substituent R 14 .

【0098】本発明の一般式(1)で表される含硫不飽
和カルボン酸エステル化合物の中でも、好ましくは、下
記式(1−a)、(1−b)、(1−c)、(1−
d)、(1−e)、(1−f)、(1−g)、(1−
h)、(1−i)、(1−j)または式(1−k)で表
される構造である。
Among the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compounds represented by the general formula (1) of the present invention, preferably, the following formulas (1-a), (1-b), (1-c), (1-c) 1-
d), (1-e), (1-f), (1-g), (1-
h), (1-i), (1-j) or a structure represented by the formula (1-k).

【0099】[0099]

【化49】 Embedded image

【0100】[0100]

【化50】 (上記式中、R12、R13およびR14は前記に同じであ
り、R42、R43はそれぞれ独立に水素原子またはメチル
基を表し、R51はそれぞれ独立に水素原子またはメチル
基を表す)
Embedded image (In the above formula, R 12 , R 13 and R 14 are the same as described above, R 42 and R 43 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 51 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. )

【0101】上記の構造式の中でも、より好ましくは、
式(1−a)、(1−c)、(1−d)、(1−e)、
(1−f)、(1−g)、(1−h)または式(1−
i)で表される構造であり、さらに好ましくは、式(1
−a)、(1−d)、(1−e)、(1−f)、(1−
g)、(1−h)または式(1−i)で表される構造で
あり、式(1−a)、(1−d)、または式(1−f)
で表される構造は、特に好ましい。
Of the above structural formulas, more preferably,
Formulas (1-a), (1-c), (1-d), (1-e),
(1-f), (1-g), (1-h) or the formula (1-
i), and more preferably the structure represented by the formula (1)
-A), (1-d), (1-e), (1-f), (1-
g), (1-h) or the structure represented by the formula (1-i), and the formula (1-a), (1-d), or the formula (1-f)
Is particularly preferable.

【0102】本発明の一般式(1)で表される含硫不飽
和カルボン酸エステル化合物の具体例として、下記第1
表中に示された化合物が例示されるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
As specific examples of the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) of the present invention, the following 1
The compounds shown in the table are exemplified, but the present invention is not limited to these.

【0103】[0103]

【表1】 [Table 1]

【0104】[0104]

【表2】 [Table 2]

【0105】[0105]

【表3】 [Table 3]

【0106】[0106]

【表4】 [Table 4]

【0107】[0107]

【表5】 [Table 5]

【0108】[0108]

【表6】 [Table 6]

【0109】[0109]

【表7】 [Table 7]

【0110】[0110]

【表8】 [Table 8]

【0111】[0111]

【表9】 [Table 9]

【0112】[0112]

【表10】 [Table 10]

【0113】[0113]

【表11】 [Table 11]

【0114】[0114]

【表12】 [Table 12]

【0115】[0115]

【表13】 [Table 13]

【0116】[0116]

【表14】 [Table 14]

【0117】[0117]

【表15】 [Table 15]

【0118】[0118]

【表16】 [Table 16]

【0119】[0119]

【表17】 [Table 17]

【0120】[0120]

【表18】 [Table 18]

【0121】[0121]

【表19】 [Table 19]

【0122】[0122]

【表20】 [Table 20]

【0123】[0123]

【表21】 [Table 21]

【0124】[0124]

【表22】 [Table 22]

【0125】[0125]

【表23】 [Table 23]

【0126】[0126]

【表24】 [Table 24]

【0127】[0127]

【表25】 [Table 25]

【0128】[0128]

【表26】 [Table 26]

【0129】[0129]

【表27】 [Table 27]

【0130】[0130]

【表28】 [Table 28]

【0131】[0131]

【表29】 [Table 29]

【0132】[0132]

【表30】 [Table 30]

【0133】[0133]

【表31】 [Table 31]

【0134】[0134]

【表32】 [Table 32]

【0135】[0135]

【表33】 [Table 33]

【0136】[0136]

【表34】 [Table 34]

【0137】[0137]

【表35】 [Table 35]

【0138】[0138]

【表36】 [Table 36]

【0139】[0139]

【表37】 [Table 37]

【0140】[0140]

【表38】 [Table 38]

【0141】[0141]

【表39】 [Table 39]

【0142】[0142]

【表40】 [Table 40]

【0143】[0143]

【表41】 [Table 41]

【0144】[0144]

【表42】 [Table 42]

【0145】[0145]

【表43】 [Table 43]

【0146】[0146]

【表44】 [Table 44]

【0147】[0147]

【表45】 [Table 45]

【0148】[0148]

【表46】 [Table 46]

【0149】[0149]

【表47】 [Table 47]

【0150】[0150]

【表48】 [Table 48]

【0151】[0151]

【表49】 [Table 49]

【0152】[0152]

【表50】 [Table 50]

【0153】[0153]

【表51】 [Table 51]

【0154】[0154]

【表52】 [Table 52]

【0155】[0155]

【表53】 [Table 53]

【0156】[0156]

【表54】 [Table 54]

【0157】[0157]

【表55】 [Table 55]

【0158】[0158]

【表56】 [Table 56]

【0159】[0159]

【表57】 [Table 57]

【0160】[0160]

【表58】 [Table 58]

【0161】[0161]

【表59】 [Table 59]

【0162】[0162]

【表60】 [Table 60]

【0163】[0163]

【表61】 [Table 61]

【0164】[0164]

【表62】 [Table 62]

【0165】[0165]

【表63】 [Table 63]

【0166】[0166]

【表64】 [Table 64]

【0167】[0167]

【表65】 [Table 65]

【0168】[0168]

【表66】 [Table 66]

【0169】[0169]

【表67】 [Table 67]

【0170】[0170]

【表68】 [Table 68]

【0171】[0171]

【表69】 [Table 69]

【0172】[0172]

【表70】 [Table 70]

【0173】[0173]

【表71】 [Table 71]

【0174】[0174]

【表72】 [Table 72]

【0175】[0175]

【表73】 [Table 73]

【0176】[0176]

【表74】 [Table 74]

【0177】[0177]

【表75】 [Table 75]

【0178】[0178]

【表76】 [Table 76]

【0179】[0179]

【表77】 [Table 77]

【0180】[0180]

【表78】 [Table 78]

【0181】[0181]

【表79】 [Table 79]

【0182】[0182]

【表80】 [Table 80]

【0183】[0183]

【表81】 [Table 81]

【0184】[0184]

【表82】 [Table 82]

【0185】[0185]

【表83】 [Table 83]

【0186】[0186]

【表84】 [Table 84]

【0187】[0187]

【表85】 [Table 85]

【0188】[0188]

【表86】 [Table 86]

【0189】[0189]

【表87】 [Table 87]

【0190】[0190]

【表88】 [Table 88]

【0191】[0191]

【表89】 [Table 89]

【0192】[0192]

【表90】 [Table 90]

【0193】[0193]

【表91】 [Table 91]

【0194】[0194]

【表92】 [Table 92]

【0195】[0195]

【表93】 [Table 93]

【0196】[0196]

【表94】 [Table 94]

【0197】[0197]

【表95】 [Table 95]

【0198】[0198]

【表96】 [Table 96]

【0199】[0199]

【表97】 [Table 97]

【0200】[0200]

【表98】 [Table 98]

【0201】[0201]

【表99】 [Table 99]

【0202】[0202]

【表100】 [Table 100]

【0203】[0203]

【表101】 [Table 101]

【0204】[0204]

【表102】 [Table 102]

【0205】[0205]

【表103】 [Table 103]

【0206】[0206]

【表104】 [Table 104]

【0207】本発明の硫黄原子を含有する置換基および
少なくとも2つ以上の、2級又は3級炭素原子に結合し
た酸素原子を介したα、β−不飽和カルボン酸残基を有
する含硫不飽和カルボン酸エステル化合物は、新規化合
物であるが、製造方法それ自体は、公知の合成反応方法
を用いて好適に製造される。
The sulfur-containing unsaturation of the present invention having an α, β-unsaturated carboxylic acid residue via a sulfur atom-containing substituent and at least two or more oxygen atoms bonded to secondary or tertiary carbon atoms. Although the saturated carboxylic acid ester compound is a novel compound, the production method itself is suitably produced using a known synthesis reaction method.

【0208】該含硫不飽和カルボン酸エステル化合物の
具体的構造の代表例として、本発明の一般式(1)で表
される化学構造を有する含硫不飽和カルボン酸エステル
化合物が挙げられるが、かかる一般式(1)で表される
化合物は、代表的な方法では、下記[スキームA]で表
される合成経路により、好適に製造される。
A typical example of the specific structure of the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound is a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound having a chemical structure represented by the general formula (1) of the present invention. In a typical method, the compound represented by the general formula (1) is suitably produced by a synthetic route represented by the following [Scheme A].

【0209】[0209]

【化51】 (上記スキーム中、R11、R12、R13、R14およびX11
は前記に同じ)
Embedded image (In the above scheme, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 and X 11
Is the same as above)

【0210】本発明の一般式(1)で表される含硫不飽
和カルボン酸エステル化合物は、一般式(2)で表され
る含硫ジヒドロキシ化合物に対して、例えば、(a)(メ
タ)アクリル酸類、クロトン酸類、チグリン酸類、3,
3−ジメチルアクリル酸類、マレイン酸類、シトラコン
酸類、2,3−ジメチルマレイン酸類、イタコン酸類ま
たはケイ皮酸類などのα,β−不飽和カルボン酸類
(α,β−不飽和カルボン酸、そのエステル誘導体、そ
の酸無水物、あるいは、その酸ハロゲン化物など)を反
応させる方法、(b)ハロプロピオン酸類(例えば、3−
クロロプロピオン酸、3−ブロモプロピオン酸、3−ク
ロロ−2−メチルプロピオン酸、3−ブロモ−2−メチ
ルプロピオン酸など)またはその酸ハロゲン化物を反応
させてハロプロピオン酸エステル化合物とした後、脱ハ
ロゲン化水素して、(メタ)アクリル酸エステル化する
方法などを代表例とする公知の合成反応を利用した不飽
和カルボン酸エステル化法によって、製造される。
The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) of the present invention is, for example, (a) (meth) Acrylic acids, crotonic acids, tiglic acids, 3,
Α, β-unsaturated carboxylic acids such as 3-dimethylacrylic acids, maleic acids, citraconic acids, 2,3-dimethylmaleic acids, itaconic acids or cinnamic acids (α, β-unsaturated carboxylic acids, ester derivatives thereof, (B) halopropionic acids (e.g., 3-acid halides or acid halides);
Chloropropionic acid, 3-bromopropionic acid, 3-chloro-2-methylpropionic acid, 3-bromo-2-methylpropionic acid) or an acid halide thereof to give a halopropionic acid ester compound. It is produced by an unsaturated carboxylic acid esterification method utilizing a known synthesis reaction such as a method of subjecting to (meth) acrylic acid esterification with hydrogen halide.

【0211】本発明の一般式(2)で表される含硫ジヒ
ドロキシ化合物は、上記[スキームA]で示された合成
経路において、本発明の一般式(1)で表される含硫不
飽和カルボン酸エステル化合物を製造する際の合成中間
体として有用な化合物であり、新規化合物である。
The sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) of the present invention can be obtained by using the sulfur-containing unsaturated compound represented by the general formula (1) of the present invention in the synthetic route shown in the above [Scheme A]. It is a compound useful as a synthetic intermediate when producing a carboxylic acid ester compound, and a novel compound.

【0212】一般式(2)において、R11、R12
13、R14およびX11は、一般式(1)におけるR11
12、R13、R14およびX11と同じ意味を表す。
In the general formula (2), R 11 , R 12 ,
R 13 , R 14 and X 11 represent R 11 ,
It has the same meaning as R 12 , R 13 , R 14 and X 11 .

【0213】本発明の一般式(2)で表される含硫ジヒ
ドロキシ化合物の具体例として、下記第2表中に示され
た化合物が例示されるが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
Specific examples of the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) of the present invention include the compounds shown in Table 2 below, but the present invention is not limited thereto. Absent.

【0214】[0214]

【表105】 [Table 105]

【0215】[0215]

【表106】 [Table 106]

【0216】[0216]

【表107】 [Table 107]

【0217】[0219]

【表108】 [Table 108]

【0218】[0218]

【表109】 [Table 109]

【0219】[0219]

【表110】 [Table 110]

【0220】[0220]

【表111】 [Table 111]

【0221】[0221]

【表112】 [Table 112]

【0222】[0222]

【表113】 [Table 113]

【0223】[0223]

【表114】 [Table 114]

【0224】[0224]

【表115】 [Table 115]

【0225】[0225]

【表116】 [Table 116]

【0226】[0226]

【表117】 [Table 117]

【0227】[0227]

【表118】 [Table 118]

【0228】[0228]

【表119】 [Table 119]

【0229】[0229]

【表120】 [Table 120]

【0230】[0230]

【表121】 [Table 121]

【0231】[0231]

【表122】 [Table 122]

【0232】[0232]

【表123】 [Table 123]

【0233】[0233]

【表124】 [Table 124]

【0234】[0234]

【表125】 [Table 125]

【0235】[0235]

【表126】 [Table 126]

【0236】[0236]

【表127】 [Table 127]

【0237】[0237]

【表128】 [Table 128]

【0238】[0238]

【表129】 [Table 129]

【0239】[0239]

【表130】 [Table 130]

【0240】[0240]

【表131】 [Table 131]

【0241】[0241]

【表132】 [Table 132]

【0242】[0242]

【表133】 [Table 133]

【0243】[0243]

【表134】 [Table 134]

【0244】[0244]

【表135】 [Table 135]

【0245】[0245]

【表136】 [Table 136]

【0246】[0246]

【表137】 [Table 137]

【0247】[0247]

【表138】 [Table 138]

【0248】[0248]

【表139】 [Table 139]

【0249】[0249]

【表140】 [Table 140]

【0250】[0250]

【表141】 [Table 141]

【0251】[0251]

【表142】 [Table 142]

【0252】[0252]

【表143】 [Table 143]

【0253】[0253]

【表144】 [Table 144]

【0254】[0254]

【表145】 [Table 145]

【0255】[0255]

【表146】 [Table 146]

【0256】[0256]

【表147】 [Table 147]

【0257】[0257]

【表148】 [Table 148]

【0258】[0258]

【表149】 [Table 149]

【0259】[0259]

【表150】 [Table 150]

【0260】[0260]

【表151】 [Table 151]

【0261】[0261]

【表152】 [Table 152]

【0262】[0262]

【表153】 [Table 153]

【0263】[0263]

【表154】 [Table 154]

【0264】[0264]

【表155】 [Table 155]

【0265】[0265]

【表156】 [Table 156]

【0266】[0266]

【表157】 [Table 157]

【0267】[0267]

【表158】 [Table 158]

【0268】[0268]

【表159】 [Table 159]

【0269】[0269]

【表160】 [Table 160]

【0270】[0270]

【表161】 [Table 161]

【0271】[0271]

【表162】 [Table 162]

【0272】[0272]

【表163】 [Table 163]

【0273】[0273]

【表164】 [Table 164]

【0274】[0274]

【表165】 [Table 165]

【0275】[0275]

【表166】 [Table 166]

【0276】[0276]

【表167】 [Table 167]

【0277】[0277]

【表168】 [Table 168]

【0278】[0278]

【表169】 [Table 169]

【0279】[0279]

【表170】 [Table 170]

【0280】[0280]

【表171】 [Table 171]

【0281】以下、上記スキーム(A)における、一般
式(2)で表される含硫ヒドロキシ化合物の製造方法に
ついて説明する。
The method for producing the sulfur-containing hydroxy compound represented by the general formula (2) in the above scheme (A) will be described below.

【0282】本発明の一般式(2)で表される含硫ジヒ
ドロキシ誘導体は、一般式(10)で表されるジエポキ
シ化合物に対して、硫黄原子を含有する化合物(含硫化
合物)R13−H[具体的には、例えば、下記一般式
(7)または一般式(8)などで表される含硫化合物
等]を作用させて、エポキシ基に開環付加させることに
より、好適に製造される。該反応方法それ自体は公知で
あり、従来から知られている反応条件に従って実施さ
れ、例えば、必要に応じて、適当な触媒(例えば、酸触
媒、塩基触媒など)の存在下で、好適に行われる。
[0282] sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) of the present invention, with respect represented diepoxy compound of general formula (10), compounds containing sulfur atom (sulfur-containing compound) R 13 - H [specifically, for example, by reacting with a sulfur-containing compound represented by the following general formula (7) or (8) or the like] to effect ring-opening addition to an epoxy group, thereby producing the compound suitably. You. The reaction method itself is known and is carried out according to conventionally known reaction conditions. For example, if necessary, the reaction is suitably carried out in the presence of a suitable catalyst (eg, an acid catalyst, a base catalyst, etc.). Will be

【0283】[0283]

【化52】 (上式中、R11、R12およびX11は前記に同じ) R71−OH (7) (式中、R71は少なくとも1個以上の硫黄原子を含有す
る一価の有機基を表す) R81−SH (8) (式中、R81は硫黄原子を含有していてもよい一価の有
機基を表す)
Embedded image (Wherein R 11 , R 12 and X 11 are the same as described above) R 71 —OH (7) (wherein, R 71 represents a monovalent organic group containing at least one or more sulfur atoms) R 81 -SH (8) (in the formula, R 81 represents a monovalent organic group optionally containing a sulfur atom)

【0284】原料となる一般式(10)で表されるジエ
ポキシ化合物は、代表的には、ジオール化合物またはジ
チオール化合物と、エピハロヒドリンとを原料として公
知のエポキシ化反応(例えば、工業原料として入手可能
な既存のジエポキシ化合物の工業的製造方法など)に従
って、好適に製造される。
The diepoxy compound represented by the general formula (10) as a raw material is typically a known epoxidation reaction using a diol compound or a dithiol compound and epihalohydrin as raw materials (for example, available as an industrial raw material). It is suitably manufactured according to an existing method for industrial production of a diepoxy compound).

【0285】かかる反応において、一般式(10)で表
されるジエポキシ化合物に対して作用させる含硫化合物
の使用量は、特に限定するものではないが、通常、一般
式(10)で表されるジエポキシ化合物1モルに対し
て、0.1〜10モル(エポキシ基1個あたり、0.0
5〜5当量)であり、好ましくは、0.5〜5モル(エ
ポキシ基1個あたり、0.25〜2.5当量)であり、
より好ましくは、0.8〜3モル(エポキシ基1個あた
り、0.4〜1.5当量)である。
In such a reaction, the amount of the sulfur-containing compound to act on the diepoxy compound represented by the general formula (10) is not particularly limited, but is usually represented by the general formula (10) 0.1 to 10 moles (0.0% per epoxy group, based on 1 mole of diepoxy compound)
5 to 5 equivalents), preferably 0.5 to 5 mol (0.25 to 2.5 equivalents per epoxy group),
More preferably, it is 0.8 to 3 mol (0.4 to 1.5 equivalents per epoxy group).

【0286】反応は、無溶媒で行なってもよく、あるい
は反応に対して不活性溶媒中で行ってもよい。かかる溶
媒としては、例えば、n−ヘキサン、ベンゼンまたはト
ルエン等の炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチルケ
トンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、
酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等
のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、1,2−ジクロロエタンまたはパークレン等
のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N
−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶媒などが挙げら
れる。これらの溶媒は2種類以上を併用しても差し支え
ない。
The reaction may be carried out without a solvent or in a solvent inert to the reaction. Such solvents include, for example, hydrocarbon solvents such as n-hexane, benzene or toluene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone,
Ester solvents such as ethyl acetate or butyl acetate, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran or dioxane, halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane or perchrene, acetonitrile, N, N- Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N
Polar solvents such as -dimethylimidazolidinone. Two or more of these solvents may be used in combination.

【0287】反応温度は、特に制限されるものではない
が、通常、0℃〜200℃の範囲であり、好ましくは0
〜100℃である。
The reaction temperature is not particularly limited, but is usually in the range of 0 ° C. to 200 ° C., preferably 0 ° C.
100100 ° C.

【0288】反応時間は反応温度等の条件によって左右
されるが、通常、数分から数十時間である。
The reaction time depends on conditions such as the reaction temperature, but is usually from several minutes to several tens of hours.

【0289】本発明の式(9)で表される含硫化合物
は、新規化合物であり、分子内に環状チオアセタール構
造を有することを特徴とするハロゲン化合物、ヒドロキ
シ化合物またはチオール化合物である。
The sulfur-containing compound represented by the formula (9) of the present invention is a novel compound and is a halogen compound, a hydroxy compound or a thiol compound characterized by having a cyclic thioacetal structure in the molecule.

【0290】[0290]

【化53】 (式中、R91およびR92はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表し、互いに結合して環を形成してもよく、R
93はハロゲン原子、ヒドロキシ基またはチオール基を示
し、pは0〜3の整数を表し、qは1〜4の整数を表
す) 前記式(9)において、R91およびR92は、それぞれ水
素原子またはアルキル基を表し、また、R91とR92は互
いに結合して環を形成していてもよい。
Embedded image (Wherein, R 91 and R 92 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, and may combine with each other to form a ring;
93 represents a halogen atom, a hydroxy group or a thiol group, p represents an integer of 0 to 3, and q represents an integer of 1 to 4.) In the above formula (9), R 91 and R 92 each represent a hydrogen atom Or, it represents an alkyl group, and R 91 and R 92 may be bonded to each other to form a ring.

【0291】該置換基R91およびR92としては、好まし
くは、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基であ
り、より好ましくは、水素原子、メチル基またはエチル
基である。R91とR92が結合して環を形成する場合の環
としては、好ましくは、シクロアルカン環であり、より
好ましくは、炭素数5〜7のシクロアルカン環であり、
さらに好ましくは、シクロヘキサン環である。
The substituents R 91 and R 92 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group. When R 91 and R 92 are combined to form a ring, the ring is preferably a cycloalkane ring, more preferably a cycloalkane ring having 5 to 7 carbon atoms,
More preferably, it is a cyclohexane ring.

【0292】前記式(9)において、pは0〜3の整数
であり、好ましくは、0〜2の整数であり、より好まし
くは、整数0または1である。
In the above formula (9), p is an integer of 0 to 3, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably an integer of 0 or 1.

【0293】また、前記式(9)において、qは1〜4
の整数であり、好ましくは、整数1〜3であり、より好
ましくは、整数1または2である。
In the formula (9), q is 1 to 4
, Preferably 1 to 3, and more preferably 1 or 2.

【0294】前記式(9)において、R93はハロゲン原
子、ヒドロキシ基またはチオール基を示し、好ましく
は、ハロゲン原子またはチオール基であり、より好まし
くは、チオール基である。なお、R93がヒドロキシ基ま
たはチオール基を示す場合は、前記式(7)又は(8)
の下位概念に相当する。
In the formula (9), R 93 represents a halogen atom, a hydroxy group or a thiol group, preferably a halogen atom or a thiol group, and more preferably a thiol group. When R 93 represents a hydroxy group or a thiol group, the above formula (7) or (8)
Corresponds to the lower concept of.

【0295】本発明の前記式(9)で表される含硫化合
物の具体例としては、下記の第3表中に示された化合物
が例示される。
Specific examples of the sulfur-containing compound represented by the formula (9) of the present invention include the compounds shown in Table 3 below.

【0296】[0296]

【表172】 [Table 172]

【0297】[0297]

【表173】 [Table 173]

【0298】[0298]

【表174】 [Table 174]

【0299】[0299]

【表175】 [Table 175]

【0300】[0300]

【表176】 [Table 176]

【0301】[0301]

【表177】 [Table 177]

【0302】本発明の式(9)で表される含硫化合物に
おいて、R93がハロゲン原子である化合物は、代表的な
方法では、下記式(11)で表されるアルデヒド類また
はそのアセタール誘導体に対して、酸触媒の存在下、下
記式(12)で表されるジチオール類を反応させること
により、好適に製造される。
In the sulfur-containing compound of the present invention represented by the formula (9), the compound in which R 93 is a halogen atom is typically represented by an aldehyde represented by the following formula (11) or an acetal derivative thereof. Is preferably produced by reacting a dithiol represented by the following formula (12) in the presence of an acid catalyst.

【0303】[0303]

【化54】 (上式中、R91、R92、pおよびqは前記に同じ意味を
表し、R113はハロゲン原子を表す)
Embedded image (In the above formula, R 91 , R 92 , p and q represent the same meaning as described above, and R 113 represents a halogen atom.)

【0304】さらに、本発明の式(9)においてR93
ヒドロキシ基である化合物、ならびに、チオール基であ
る化合物は、R93がハロゲン原子である式(9)で表さ
れる環状チオアセタール化合物を、公知の合成化学的方
法、例えば、ハロゲン原子をアルカリ加水分解させヒド
ロキシ基へと変換させる方法、あるいは、ハロゲン原子
に対してチオ尿素を作用させてチウロニウム塩化した
後、アルカリ処理してチオール基へと変換させる方法等
によって、好適に製造される。
Further, in the formula (9) of the present invention, the compound wherein R 93 is a hydroxy group and the compound wherein R 93 is a thiol group are the cyclic thioacetal compounds represented by the formula (9) wherein R 93 is a halogen atom. Is a known synthetic chemical method, for example, a method in which a halogen atom is alkali-hydrolyzed to convert it to a hydroxy group, or a method in which a thiourea is acted on a halogen atom to thiuronium chloride and then alkali-treated to give a thiol group. It is suitably manufactured by a method of converting into.

【0305】以下、まず、前記式(11)で表されるア
ルデヒド類またはそのアセタール誘導体に対して、酸触
媒の存在下、前記式(12)で表されるジチオール類を
反応させることにより、本発明の式(9)においてR93
がハロゲン原子である化合物を製造する方法について、
さらに詳しく説明する。
Hereinafter, first, the aldehyde represented by the formula (11) or the acetal derivative thereof is reacted with a dithiol represented by the formula (12) in the presence of an acid catalyst, whereby In the formula (9) of the invention, R 93
Is a method for producing a compound having a halogen atom,
This will be described in more detail.

【0306】式(11)で表されるアルデヒド類または
そのアセタール誘導体としては、例えば、クロロアセト
アルデヒド、3−クロロプロピオンアルデヒド、3−ブ
ロモプロピオンアルデヒドなどのハロアルキルアルデヒ
ド類;2−クロロアセトアルデヒドジメチルアセター
ル、2−クロロアセトアルデヒドジエチルアセタール、
2−クロロプロピオンアルデヒドジメチルアセタール、
2−クロロプロピオンアルデヒドジエチルアセタール、
2−ブロモプロピオンアルデヒドジメチルアセタール、
2−ブロモプロピオンアルデヒドジエチルアセタール、
2−ブロモプロピオンアルデヒドエチレンアセタール
〔または、2−(2’−ブロモエチル)−1,3−ジオ
キソラン〕、2−ブロモプロピオンアルデヒドトリメチ
レンアセタール〔または、2−(2’−ブロモエチル)
−1,3−ジオキサン〕などのハロアルキルアルデヒド
のジアルキルアセタール誘導体または環状アルキレンア
セタール誘導体等が挙げられる。
Examples of the aldehyde represented by the formula (11) or an acetal derivative thereof include haloalkylaldehydes such as chloroacetaldehyde, 3-chloropropionaldehyde, and 3-bromopropionaldehyde; 2-chloroacetaldehyde dimethyl acetal, -Chloroacetaldehyde diethyl acetal,
2-chloropropionaldehyde dimethyl acetal,
2-chloropropionaldehyde diethyl acetal,
2-bromopropionaldehyde dimethyl acetal,
2-bromopropionaldehyde diethyl acetal,
2-bromopropionaldehyde ethylene acetal [or 2- (2'-bromoethyl) -1,3-dioxolane], 2-bromopropionaldehyde trimethylene acetal [or 2- (2'-bromoethyl)
-1,3-dioxane] or a dialkyl acetal derivative or a cyclic alkylene acetal derivative of a haloalkyl aldehyde.

【0307】式(12)で表されるジチオール誘導体と
しては、例えば、エタンジチオール、1,2−プロパン
ジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,2−ブ
タンジチオール、1,3−ブタンジチオール、1,4−
ブタンジチオール、1,2−ペンタンジチオール、1,
3−ペンタンジチオール、1,4−ペンタンジチオー
ル、1,2−ヘキサンジチオール、1,3−ヘキサンジ
チオール、1,4−ヘキサンジチオール、1,2−ヘプ
タンジチオール、1,2−オクタンジチオール、1,2
−ノナンジチオール、1,2−デカンジチオールなどの
鎖状アルカンジチオール類;シクロペンタン−1,2−
ジチオール、シクロヘキサン−1,2−ジチオール等の
シクロアルカンジチオール類;1,2−ベンゼンジチオ
ールなどが挙げられる。
Examples of the dithiol derivative represented by the formula (12) include ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 1,2-butanedithiol, 1,3-butanedithiol, , 4-
Butanedithiol, 1,2-pentanedithiol, 1,
3-pentanedithiol, 1,4-pentanedithiol, 1,2-hexanedithiol, 1,3-hexanedithiol, 1,4-hexanedithiol, 1,2-heptanedithiol, 1,2-octanedithiol, 1,2
Chain alkanedithiols such as nonanedithiol and 1,2-decanedithiol; cyclopentane-1,2-
Cycloalkanedithiols such as dithiol and cyclohexane-1,2-dithiol; and 1,2-benzenedithiol.

【0308】式(11)で表されるアルデヒド類または
そのアセタール誘導体に対して、式(12)で表される
ジチオール類を反応させ、本発明の式(9)においてR
93がハロゲン原子である化合物を製造する際に、使用す
るジチオール類の使用量は、特に制限するものではない
が、通常、式(11)で表されるアルデヒド類またはそ
の誘導体1モルに対して、0.5〜5モルであり、好ま
しくは、0.8〜2モルであり、より好ましくは、0.
9〜1.2モルである。
An aldehyde represented by the formula (11) or an acetal derivative thereof is reacted with a dithiol represented by the formula (12) to obtain a compound represented by the formula (9).
When producing a compound in which 93 is a halogen atom, the amount of the dithiols used is not particularly limited, but is usually based on 1 mol of the aldehyde represented by the formula (11) or a derivative thereof. , 0.5 to 5 mol, preferably 0.8 to 2 mol, more preferably 0.1 to 2 mol.
9 to 1.2 mol.

【0309】かかる反応においては、無触媒条件下で反
応を行ってもよく、あるいは、鉱酸(例えば、塩酸、硫
酸)や有機酸(例えば、酢酸、プロピオン酸)などのプ
ロトン酸、または、ルイス酸などの触媒の存在下に反応
を行ってもよい。反応温度、反応時間などを考慮する
と、反応を促進する目的で、触媒の存在下に反応を行う
ことは、好ましいことである。
In such a reaction, the reaction may be carried out under non-catalytic conditions, or a protic acid such as a mineral acid (for example, hydrochloric acid or sulfuric acid) or an organic acid (for example, acetic acid or propionic acid), or a Lewis acid. The reaction may be performed in the presence of a catalyst such as an acid. In consideration of the reaction temperature, the reaction time, and the like, it is preferable to carry out the reaction in the presence of a catalyst for the purpose of promoting the reaction.

【0310】反応触媒としては、例えば、硫酸、塩酸、
臭化水素酸、硝酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメ
タンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のプロトン
酸;三塩化チタン、四塩化チタン、二塩化スズ、四塩化
スズ、三フッ化ホウ素エーテル錯体等のルイス酸などが
挙げられる。
Examples of the reaction catalyst include sulfuric acid, hydrochloric acid,
Protic acids such as hydrobromic acid, nitric acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid; titanium trichloride, titanium tetrachloride, tin dichloride, tin tetrachloride, boron trifluoride ether complex, etc. Lewis acids and the like.

【0311】反応触媒の使用量は、特に限定するもので
はないが、通常、式(11)で表されるアルデヒド類ま
たはそのアセタール誘導体1モルに対して、0.001
モル〜20モルであり、好ましくは、0.01モル〜1
0モルであり、より好ましくは、0.1モル〜5モルで
ある。
The use amount of the reaction catalyst is not particularly limited, but is usually 0.001 to 1 mol of the aldehyde represented by the formula (11) or an acetal derivative thereof.
Mol to 20 mol, preferably from 0.01 mol to 1 mol.
0 mol, more preferably 0.1 mol to 5 mol.

【0312】これらの反応触媒は、単独で使用してもよ
く、あるいは複数を混合して用いてもよい。
[0312] These reaction catalysts may be used alone or in combination of two or more.

【0313】反応は無溶媒あるいは溶媒の存在下のいず
れで行ってもよい。溶媒を使用する場合、反応に不活性
な溶媒であれば特に制限するものではないが、該溶媒と
しては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭
化水素系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−
ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等
のハロゲン系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエー
テル等のエーテル系溶媒などが挙げられる。これらの溶
媒は単独で使用しても、あるいは2種類以上併用しても
よい。
The reaction may be carried out without solvent or in the presence of a solvent. When a solvent is used, the solvent is not particularly limited as long as the solvent is inert to the reaction. Examples of the solvent include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene, methylene chloride, chloroform, and 1,2. −
Examples thereof include halogen solvents such as dichloroethane, chlorobenzene, and dichlorobenzene, and ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and diethylene glycol dimethyl ether. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0314】反応溶媒の使用量に関しては特に制限はな
いが、使用量があまりに多すぎる場合は製造効率等の面
で好ましくなく、通常は、式(11)で表されるアルデ
ヒド類またはそのアセタール誘導体に対して、300質
量倍以下であり、好ましくは、100質量倍以下であ
る。
There is no particular limitation on the amount of the reaction solvent used, but if the amount is too large, it is not preferable in terms of production efficiency and the like. Usually, the aldehyde represented by the formula (11) or an acetal derivative thereof is used. Is 300 times by mass or less, preferably 100 times by mass or less.

【0315】反応は、大気雰囲気下、あるいは、不活性
ガス雰囲気下のいずれで行ってもよいが、反応生成物の
着色等を抑制するために、窒素、アルゴン等の不活性ガ
ス雰囲気下で行うことは好ましいことである。
The reaction may be performed in an air atmosphere or in an inert gas atmosphere. However, in order to suppress coloring of the reaction product, the reaction is performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon. It is preferred.

【0316】反応温度は特に制限はないが、通常、0℃
〜溶媒の沸点の範囲で行うことが好ましい。
The reaction temperature is not particularly limited, but is usually 0 ° C.
It is preferably carried out within the range of the boiling point of the solvent.

【0317】反応時間は、反応温度により異なるが、通
常、数分〜数十時間の範囲で行えばよく、公知の分析手
段(例えば、液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグ
ラフィー、IRなど)により反応を追跡して、反応の終
点を決定することができる。
The reaction time varies depending on the reaction temperature, but may be usually in the range of several minutes to several tens of hours. The reaction may be carried out by a known analytical means (for example, liquid chromatography, thin-layer chromatography, IR, etc.). Tracking can determine the endpoint of the reaction.

【0318】上記の方法で製造された式(9)で表され
る化合物中の置換基R93、すなわち、ハロゲン原子をチ
オール基へと変換させるには、公知の方法、例えば、Jo
urnal of Organic Chemistry,27巻,頁93〜95( 1962
年)、Organic Synthesis, IV,頁401 〜403 ( 1963
年)などに記載の方法が、好適に用いられる。すなわ
ち、代表的な方法では、式(9)においてR93がハロゲ
ン原子である化合物に対して、チオ尿素を反応させ、次
いで、アンモニア水、水酸化ナトリウムなどのアルカリ
を用いて加水分解する方法により、式(9)においてR
93がチオール基である化合物は好適に製造される。
In order to convert the substituent R 93 , that is, the halogen atom in the compound represented by the formula (9) produced by the above method into a thiol group, a known method, for example, Jo
urnal of Organic Chemistry, Vol. 27, pp. 93-95 (1962
Year), Organic Synthesis, IV, pp. 401-403 (1963)
Year) is suitably used. That is, in a typical method, a compound in which R 93 is a halogen atom in the formula (9) is reacted with thiourea and then hydrolyzed using an alkali such as aqueous ammonia or sodium hydroxide. , In equation (9)
Compounds wherein 93 is a thiol group are suitably prepared.

【0319】また、上記の方法で製造された式(9)で
表される化合物中の置換基R93、すなわち、ハロゲン原
子を、ヒドロキシ基へと変換させるには、公知の方法、
例えば、実験化学講座第4版,20巻,頁49〜51(日本化
学会編)、Synthesis ,頁763 ( 1986 年)等に記載の
方法が、好適に用いられる。すなわち、代表的な方法で
は、式(9)におけるR93がハロゲン原子である化合物
に対して、水酸化ナトリウムなどのアルカリを用いて加
水分解する方法により、式(9)においてR93がヒドロ
キシ基である化合物は好適に製造される。
In order to convert the substituent R 93 , that is, the halogen atom in the compound represented by the formula (9) produced by the above method into a hydroxy group, a known method may be used.
For example, the method described in Experimental Chemistry Course, 4th Edition, Volume 20, pages 49 to 51 (edited by The Chemical Society of Japan), Synthesis, page 763 (1986) is preferably used. That is, in a typical method, a compound in which R 93 in Formula (9) is a halogen atom is hydrolyzed using an alkali such as sodium hydroxide, whereby R 93 in Formula (9) is a hydroxy group. Are preferably prepared.

【0320】式(9)で表される含硫化合物は、上記の
反応終了後、反応生成物中から通常の後処理操作(例え
ば、中和、濾過、溶媒抽出、水洗、分液、溶媒留去な
ど)を行うことにより単離される。また、公知の操作、
精製方法(例えば、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラ
フィー、活性炭処理など)によって、必要に応じて、純
度を高めることができる。
After the completion of the above reaction, the sulfur-containing compound represented by the formula (9) is subjected to a usual post-treatment operation (eg, neutralization, filtration, solvent extraction, water washing, liquid separation, solvent distillation) from the reaction product. And the like). Also, known operations,
Purification methods (eg, distillation, recrystallization, column chromatography, activated carbon treatment, etc.) can increase the purity as needed.

【0321】次に、一般式(2)で表される含硫ジヒド
ロキシ化合物を原料として、本発明の一般式(1)で表
される含硫不飽和カルボン酸エステル化合物の中でも、
特に、含硫(メタ)アクリル酸エステル化合物を製造す
る方法について、詳述する。
Next, from the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) as a raw material, among the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compounds represented by the general formula (1) of the present invention,
In particular, a method for producing a sulfur-containing (meth) acrylate compound will be described in detail.

【0322】前述の通り、一般式(2)で表される含硫
ジヒドロキシ化合物を含硫不飽和カルボン酸エステル化
する方法として、代表的には、(a)(メタ)アクリル
酸、そのエステル誘導体またはその酸ハロゲン化物を作
用させて、脱水反応、エステル交換反応または脱ハロゲ
ン化水素反応によりエステル化する方法、(b)クロロプ
ロピオン酸類(クロロプロピオン酸、そのエステル誘導
体またはその酸ハロゲン化物など)と反応させてクロロ
プロピオン酸エステル化合物とした後、脱ハロゲン化水
素して(メタ)アクリル酸エステル化合物とする方法な
どが例示される。
As described above, as a method for converting a sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) into a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester, typically, (a) (meth) acrylic acid or its ester derivative is used. Or a method of reacting with an acid halide thereof to perform esterification by a dehydration reaction, transesterification reaction or dehydrohalogenation reaction, and (b) chloropropionic acids (chloropropionic acid, an ester derivative thereof, or an acid halide thereof) After the reaction is performed to obtain a chloropropionate compound, a method of dehydrohalogenating to obtain a (meth) acrylate compound is exemplified.

【0323】以下、前述の方法の中から最も代表的な例
として、一般式(2)で表される含硫ジヒドロキシ化合
物と(メタ)アクリル酸、そのエステル誘導体またはそ
の酸ハロゲン化物とを反応させる方法について、さらに
詳しく述べる。
Hereinafter, as the most typical example of the above-mentioned methods, the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) is reacted with (meth) acrylic acid, its ester derivative or its acid halide. The method will be described in more detail.

【0324】すなわち、該方法としては、公知の方法、
例えば、J. Org. Chem., 45, 5364(1980)、 Eur. Poly
m. J., 19, 399(1983)に記載の方法と同様の方法を用い
ることができる。例えば、(a)撹拌下、塩基の存在下、
一般式(2)で表される含硫ジヒドロキシ化合物に対し
て、(メタ)アクリル酸の酸ハロゲン化物を滴下するな
どの操作を行いながら作用させる方法、(b)触媒の存在
下、一般式(2)で表される含硫ジヒドロキシ化合物と
(メタ)アクリル酸との脱水反応を行う方法、あるい
は、(c)触媒(酸触媒あるいは塩基触媒)の存在下、含
硫ジヒドロキシ化合物と(メタ)アクリル酸エステル誘
導体[例えば、(メタ)アクリル酸メチルエステル、
(メタ)アクリル酸エチルエステル、(メタ)アクリル
酸メチルエステルなどの(メタ)アクリル酸アルキルエ
ステルなど]とのエステル交換反応を行う方法等が例示
される。
That is, as the method, a known method,
For example, J. Org. Chem., 45, 5364 (1980), Eur. Poly.
m. J., 19, 399 (1983). For example, (a) under stirring, in the presence of a base,
A method in which an acid halide of (meth) acrylic acid is allowed to act on the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) while performing an operation such as dropping, and (b) a method in which a general formula ( 2) a method of performing a dehydration reaction between the sulfur-containing dihydroxy compound and (meth) acrylic acid, or (c) a sulfur-containing dihydroxy compound and (meth) acrylic acid in the presence of a catalyst (acid catalyst or base catalyst). Acid ester derivatives [eg, (meth) acrylic acid methyl ester,
(Meth) acrylic acid ethyl ester, (meth) acrylic acid methyl ester and other (meth) acrylic acid alkyl esters, etc.].

【0325】上記反応の際、一般式(2)で表される含
硫ジヒドロキシ化合物に対して作用させる(メタ)アク
リル酸類[例えば、(メタ)アクリル酸、そのエステル
誘導体またはその酸ハロゲン化物など]の使用量は、特
に制限するものではないが、通常、該含硫ジヒドロキシ
化合物1モルに対して、0.1〜10モル(ヒドロキシ
1個あたり0.05〜5当量)であり、好ましくは、
0.5〜5モル(ヒドロキシ1個あたり0.25〜2.
5当量)であり、より好ましくは、0.8〜3モル(ヒ
ドロキシ1個あたり0.4〜1.5モル)ある。
In the above reaction, (meth) acrylic acids [eg, (meth) acrylic acid, its ester derivative or its acid halide, etc.] acting on the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) Although the use amount is not particularly limited, it is usually 0.1 to 10 mol (0.05 to 5 equivalents per hydroxy), relative to 1 mol of the sulfur-containing dihydroxy compound, and preferably
0.5-5 mol (0.25-2.
5 equivalents), and more preferably 0.8 to 3 mol (0.4 to 1.5 mol per hydroxy).

【0326】反応は、無溶媒で行なってもよく、あるい
は反応に対して不活性溶媒中で行なってもよい。かかる
溶媒としては、例えば、n−ヘキサン、ベンゼンまたは
トルエン等の炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエチル
ケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン系溶
媒、酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶媒、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサ
ン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタンまたはパーク
レン等のハロゲン系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジ
メチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶媒などが
挙げられる。これらの溶媒は2種類以上を併用しても差
し支えない。
The reaction may be carried out without solvent or in an inert solvent for the reaction. Such solvents include, for example, hydrocarbon solvents such as n-hexane, benzene or toluene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate or butyl acetate,
Ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran or dioxane, halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane or perchrene, acetonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide;
And polar solvents such as N, N-dimethylimidazolidinone. Two or more of these solvents may be used in combination.

【0327】反応温度は特に制限はないが、原料の(メ
タ)アクリル酸類または反応生成物の(メタ)アクリル
酸エステル化合物が重合しない温度であり、通常、−7
8〜150℃の範囲であり、好ましくは、−20〜12
0℃であり、より好ましくは、0〜100℃である。
The reaction temperature is not particularly limited, but is a temperature at which the (meth) acrylic acid as a raw material or the (meth) acrylic acid ester compound as a reaction product is not polymerized.
The temperature is in the range of 8 to 150 ° C, preferably -20 to 12 ° C.
It is 0 degreeC, More preferably, it is 0-100 degreeC.

【0328】反応時間は反応温度にも依存するが、通
常、数分〜100時間であり、好ましくは、30分〜5
0時間であり、より好ましくは、1〜20時間である。
また、公知の分析手段(例えば、液体クロマトグラフィ
ー、薄層クロマトグラフィー、IRなど)により反応率
を確認しながら、任意の反応率で反応を停止することも
可能である。
Although the reaction time depends on the reaction temperature, it is generally several minutes to 100 hours, preferably 30 minutes to 5 hours.
0 hour, more preferably 1 to 20 hours.
Further, it is also possible to stop the reaction at an arbitrary reaction rate while confirming the reaction rate by a known analysis means (for example, liquid chromatography, thin-layer chromatography, IR, etc.).

【0329】一般式(2)で表される含硫ジヒドロキシ
化合物と(メタ)アクリル酸の酸ハロゲン化物との反応
により、本発明の含硫(メタ)アクリル酸エステル化合
物を製造する際には、ハロゲン化水素(例えば、塩化水
素など)が副生するので、例えば、トリエチルアミン、
ピリジン、ピコリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニ
リン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
(DABCO)、1,8−ジアザビシクロ[5.4.
0]ウンデカ−7−エン(DBU)等の有機塩基、ある
いは、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウム、酸化マグネシウム等の無機塩基
を脱塩化水素剤として使用してもよい。
In producing the sulfur-containing (meth) acrylate compound of the present invention by reacting the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) with an acid halide of (meth) acrylic acid, Since hydrogen halide (for example, hydrogen chloride) is produced as a by-product, for example, triethylamine,
Pyridine, picoline, dimethylaniline, diethylaniline, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), 1,8-diazabicyclo [5.4.
0] Removal of organic bases such as undec-7-ene (DBU) or inorganic bases such as sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium oxide and the like. It may be used as a hydrogen chloride agent.

【0330】かかる脱ハロゲン化水素剤の使用量として
は、特に制限はないが、一般式(2)で表される含硫ジ
ヒドロキシ化合物1モルに対して、0.1〜10モルで
あり、好ましくは、0.5〜5モルであり、より好まし
くは、0.8〜3モルである。
The amount of the dehydrohalogenating agent to be used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10 mol with respect to 1 mol of the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2). Is 0.5 to 5 mol, more preferably 0.8 to 3 mol.

【0331】一般式(2)で表される含硫ジヒドロキシ
化合物と(メタ)アクリル酸との脱水反応により、本発
明の一般式(1)で表される含硫(メタ)アクリル酸エ
ステル化合物を製造する際には、公知の各種エステル化
触媒を用いることは好ましいことである。該触媒として
は、例えば、鉱酸(例えば、塩酸、硫酸、硝酸、ホウ
酸、リン酸など)、有機酸(例えば、メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸など)、ルイス酸(例え
ば、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、四塩化チタ
ン、二塩化チタン、ニ塩化スズ、四塩化スズなど)等を
挙げることができる。
By the dehydration reaction between the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) and (meth) acrylic acid, the sulfur-containing (meth) acrylate compound represented by the general formula (1) of the present invention is converted to In the production, it is preferable to use various known esterification catalysts. Examples of the catalyst include mineral acids (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, boric acid, phosphoric acid, etc.) and organic acids (eg, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, etc.). ), Lewis acids (for example, boron trifluoride, aluminum trichloride, titanium tetrachloride, titanium dichloride, tin dichloride, tin tetrachloride, etc.).

【0332】かかる触媒の使用量は、特に制限するもの
ではないが、通常、反応原料混合物に対して、好ましく
は、0.001〜50質量%、好ましくは、0.01〜
30質量%である。
The use amount of such a catalyst is not particularly limited, but is usually preferably 0.001 to 50% by mass, and more preferably 0.01 to 50% by mass based on the reaction raw material mixture.
30% by mass.

【0333】また、反応の進行を促進するために、副生
した水を系外に除去することは好ましいことであり、か
かる方法として、例えば、前記溶媒のうち水と共沸する
溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭
化水素系溶媒など)を用いて共沸脱水する方法、モレキ
ュラーシーブ等の脱水剤を用いる方法、あるいは、これ
らの方法を併用する方法等が挙げられる。
In order to promote the progress of the reaction, it is preferable to remove by-product water out of the system. As such a method, for example, a solvent azeotropic with water (for example, Azeotropic dehydration using a hydrocarbon solvent such as benzene, toluene and xylene), a method using a dehydrating agent such as molecular sieve, or a method using these methods in combination.

【0334】また前述の方法の中で、一般式(2)で表
される含硫ジヒドロキシ化合物をハロプロピオン酸類ま
たはその酸ハロゲン化物と反応させて、ハロプロピオン
酸エステル化合物とした後、脱ハロゲン化水素して、一
般式(1)で表される含硫(メタ)アクリル酸エステル
化合物を製造する方法としては、例えば、特開平10−
67736号公報などに記載の方法等が例示される。
In the above-described method, the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2) is reacted with a halopropionic acid or an acid halide thereof to form a halopropionic ester compound, and then dehalogenated. As a method for producing a sulfur-containing (meth) acrylate compound represented by the general formula (1) by hydrogenation, for example, a method disclosed in
The method described in JP-A-67736 is exemplified.

【0335】本発明の一般式(1)で表される不飽和カ
ルボン酸エステル化合物の中で、含硫(メタ)アクリル
酸エステル化合物以外の、他の不飽和カルボン酸(例え
ば、クロトン酸、チグリン酸、3,3−ジメチルアクリ
ル酸、マレイン酸、シトラコン酸、2,3−ジメチルマ
レイン酸、イタコン酸またはケイ皮酸など)エステル化
合物は、(メタ)アクリル酸類の代わりにクロトン酸類
(クロトン酸、そのエステル誘導体またはその酸無水物
など)、チグリン酸類(チグリン酸、そのエステル誘導
体またはその酸無水物など)、3,3−ジメチルアクリ
ル酸類(3,3−ジメチルアクリル酸、そのエステル誘
導体またはその酸無水物など)、マレイン酸類(マレイ
ン酸、そのエステル誘導体またはその酸無水物など)、
シトラコン酸類(シトラコン酸、そのエステル誘導体ま
たはその酸無水物など)、2,3−ジメチルマレイン酸
類(2,3−ジメチルマレイン酸、そのエステル誘導体
またはその酸無水物など)、イタコン酸類(イタコン
酸、そのエステル誘導体またはその酸無水物など)、ケ
イ皮酸類(イタコン酸、そのエステル誘導体、その酸無
水物またはその酸ハロゲン化物など)等を反応原料とし
て使用する以外は上述した(メタ)アクリル酸エステル
化方法と同様な方法に従って、好適に製造される。
Of the unsaturated carboxylic acid ester compounds represented by the general formula (1) of the present invention, other unsaturated carboxylic acids (for example, crotonic acid, tiglin, etc.) other than the sulfur-containing (meth) acrylate compound Acid, 3,3-dimethylacrylic acid, maleic acid, citraconic acid, 2,3-dimethylmaleic acid, itaconic acid, or cinnamic acid) ester compounds are crotonic acids (crotonic acid, Ester derivatives or acid anhydrides thereof, etc.), tiglic acids (tiglic acid, ester derivatives or acid anhydrides thereof), 3,3-dimethylacrylic acids (3,3-dimethylacrylic acid, ester derivatives or acid thereof) Anhydrides), maleic acids (such as maleic acid, its ester derivatives or acid anhydrides),
Citraconic acids (citraconic acid, its ester derivatives or acid anhydrides thereof), 2,3-dimethylmaleic acids (2,3-dimethylmaleic acid, its ester derivatives or acid anhydrides thereof), and itaconic acids (itaconic acid, (Meth) acrylic esters described above except that ester derivatives or acid anhydrides thereof, and cinnamic acids (itaconic acid, ester derivatives thereof, acid anhydrides or acid halides thereof), etc. are used as reaction raw materials. It is suitably manufactured according to a method similar to the chemical conversion method.

【0336】一般式(1)で表される含硫不飽和カルボ
ン酸エステル化合物を製造する際に、反応中あるいは反
応後において生成物の重合を防止するために、重合禁止
剤を使用することは、好ましいことである。かかる重合
禁止剤としては、例えば、4−メトキシフェノール、ハ
イドロキノン、フェノチアジン等の公知の各種化合物を
例示することができる。
In producing the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1), it is not possible to use a polymerization inhibitor during or after the reaction in order to prevent polymerization of the product. It is preferable. Examples of such a polymerization inhibitor include various known compounds such as 4-methoxyphenol, hydroquinone, and phenothiazine.

【0337】重合禁止剤の使用量は特に制限はないが、
反応系中の原料混合物あるいは反応生成物に対して、通
常、0.01〜5質量%であり、好ましくは、0.05
〜3質量%である。
The amount of the polymerization inhibitor is not particularly limited,
It is usually 0.01 to 5% by mass, preferably 0.05% by mass, based on the raw material mixture or the reaction product in the reaction system.
33% by mass.

【0338】反応終了後、生成物の一般式(1)で表さ
れる含硫不飽和カルボン酸エステル化合物は、公知の操
作、処理方法(例えば、中和、溶媒抽出、水洗、分液、
溶媒留去など)により後処理されて単離される。さらに
必要に応じて、得られた一般式(1)で表される含硫
(メタ)アクリル酸エステル誘導体を、公知の方法(例
えば、蒸留、再結晶あるいはクロマトグラフィー等)に
より分離、精製して、高純度の化合物として単離するこ
ともできる。
After the completion of the reaction, the product, the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1), is subjected to known procedures and treatment methods (eg, neutralization, solvent extraction, water washing, liquid separation,
The solvent is removed by post-treatment. Further, if necessary, the obtained sulfur-containing (meth) acrylate derivative represented by the general formula (1) is separated and purified by a known method (for example, distillation, recrystallization or chromatography). Can be isolated as a highly pure compound.

【0339】本発明の一般式(1)で表される含硫不飽
和カルボン酸エステル化合物を使用して、本発明の重合
性組成物、該重合性組成物を重合して得られる硬化物あ
るいは光学部品を製造する際には、これらの混合物を分
離・精製することなく、そのまま使用しても差し支えな
い。
The polymerizable composition of the present invention using the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) of the present invention, a cured product obtained by polymerizing the polymerizable composition, When producing optical components, these mixtures can be used as they are without separation and purification.

【0340】次に、本発明の一般式(1)で表される含
硫不飽和カルボン酸エステル化合物を含有する重合性組
成物について詳述する。
Next, the polymerizable composition containing the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) of the present invention will be described in detail.

【0341】本発明の重合性組成物は、必須成分とし
て、本発明の一般式(1)で表される含硫不飽和カルボ
ン酸エステル化合物、ならびに、光および/または熱重
合開始剤を含有する。この場合、上記含硫不飽和カルボ
ン酸エステル化合物は単独で用いてもよく、あるいは、
異なる複数の含硫不飽和カルボン酸エステル化合物を併
用しても差し支えない。
The polymerizable composition of the present invention contains, as essential components, a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) of the present invention, and a light and / or thermal polymerization initiator. . In this case, the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound may be used alone, or
A plurality of different sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compounds may be used in combination.

【0342】さらに本発明の重合性組成物は、所望の効
果を損なわない範囲で、必要に応じて、一般式(1)で
表される含硫不飽和カルボン酸エステル化合物を含有す
る以外に、公知の重合性を有する化合物(光または熱重
合性モノマーまたはオリゴマー等)を含有していても差
し支えない。
The polymerizable composition of the present invention may further contain, if necessary, a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) as long as the desired effect is not impaired. It may contain a known polymerizable compound (such as a photo- or thermo-polymerizable monomer or oligomer).

【0343】上記重合性組成物中に含有する一般式
(1)で表される含硫不飽和カルボン酸エステル化合物
の量は、特に制限はないが、通常、重合性組成物全体の
質量に対して10質量%以上であり、好ましくは、20
質量%以上であり、より好ましくは、30質量%以上で
あり、さらに好ましくは50質量%以上である。
The amount of the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) contained in the polymerizable composition is not particularly limited, but is usually based on the total mass of the polymerizable composition. 10% by mass or more, preferably 20% by mass.
It is at least 30% by mass, more preferably at least 30% by mass, even more preferably at least 50% by mass.

【0344】本発明の重合性組成物に使用する重合開始
剤としては、特に限定するものではなく、公知の各種熱
重合開始剤または光重合開始剤を使用することができ
る。
The polymerization initiator used in the polymerizable composition of the present invention is not particularly limited, and various known thermal polymerization initiators or photopolymerization initiators can be used.

【0345】光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイ
ン、ベンジル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、アセトフェノン、1,1−ジメ
トキシ−1−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロ
ロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニ
ルプロパン−1−オン、2−メチル−1−(4−メチル
チオフェニル)−2−モルフォリノールプロパン−1−
オン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン、2−メ
チルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−
tert−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラ
キノン、2−アミルアントラキノン、2−イソプロピル
チオキサトン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,
4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピル
チオキサントン、アセトフェノンジメチルケタール、ベ
ンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、4,4’−
ジクロロベンゾフェノン,4,4’−ビスジエチルアミ
ノベンゾフェノン、ミヒラーズケトン等を例示すること
ができる。これらは単独で使用することも、あるいは、
2種以上を併用することもできる。
Examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzyl, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, acetophenone, 1,1-dimethoxy-1-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone. 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinolpropane-1-
ON, N, N-dimethylaminoacetophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-
tert-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-amylanthraquinone, 2-isopropylthioxatone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,
4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, acetophenone dimethyl ketal, benzophenone, 4-methylbenzophenone, 4,4′-
Examples thereof include dichlorobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, and Michler's ketone. These can be used alone or
Two or more can be used in combination.

【0346】該光重合開始剤の使用量は、一般式(1)
で表される含硫不飽和カルボン酸エステル化合物100
質量部に対して、0.001〜50質量部であり、好ま
しくは、0.01〜30質量部であり、より好ましく
は、0.1〜10質量部であり、さらに好ましくは、
0.2〜5質量部である。
The amount of the photopolymerization initiator used is determined by the general formula (1)
A sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound 100 represented by the formula:
The amount is 0.001 to 50 parts by mass, preferably 0.01 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, and further preferably,
0.2 to 5 parts by mass.

【0347】熱重合開始剤としては、例えば、ベンゾイ
ルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイ
ド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ−2−
エチルヘキシルパーオキシカーボネート、tert−ブ
チルパーオキシピバレート等の過酸化物ならびにアゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物などを例示するこ
とができる。
Examples of the thermal polymerization initiator include benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxycarbonate, di-2-
Examples include peroxides such as ethylhexyl peroxycarbonate and tert-butyl peroxypivalate, and azo compounds such as azobisisobutyronitrile.

【0348】該熱重合開始剤の使用量は、一般式(1)
で表される含硫不飽和カルボン酸エステル化合物100
質量部に対して、通常、0.001〜50質量部であ
り、好ましくは、0.01〜30質量部であり、より好
ましくは、0.1〜10質量部であり、さらに好ましく
は、0.2〜5質量部である。
The amount of the thermal polymerization initiator used is determined by the general formula (1)
A sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound 100 represented by the formula:
The amount is usually 0.001 to 50 parts by mass, preferably 0.01 to 30 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, and further preferably 0 to 10 parts by mass with respect to parts by mass. 0.2 to 5 parts by mass.

【0349】本発明の重合性組成物に用いる重合性の化
合物として、式(1)で表される含硫(メタ)アクリル
酸エステル化合物以外の、公知の重合性を有する化合物
としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ブチ
ル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレー
ト、ラウリル(メタ)アクリレート、テトラシクロドデ
シル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)
アクリレート、ノニルフェノキシエチル(メタ)アクリ
レート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イ
ソボルニル(メタ)アクリレート、N−n−ブチル−O
−(メタ)アクリロイルオキシエチルカーバメート、ア
クリロイルモルホリン、トリフルオロエチル(メタ)ア
クリレート、トリブロモベンジル(メタ)アクリレー
ト、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレー
ト、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
(メタ)アクリレート、
Examples of known polymerizable compounds other than the sulfur-containing (meth) acrylate compound represented by the formula (1) as the polymerizable compound used in the polymerizable composition of the present invention include: Methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth)
Acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tetracyclododecyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth)
Acrylate, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, Nn-butyl-O
-(Meth) acryloyloxyethyl carbamate, acryloyl morpholine, trifluoroethyl (meth) acrylate, tribromobenzyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) ) Acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, Polypropylene glycol di (meth) acrylate,

【0350】2,2−ビス(4−アクリロイルオキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロイル
オキシフェニル)プロパン、ビス(4−アクリロイルオ
キシフェニル)メタン、ビス(4−メタアクリロイルオ
キシフェニル)メタン、4,4’−ビス(アクリロイル
オキシ)ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス(メタ
アクリロイルオキシ)ジフェニルスルフィド、2,2−
ビス[4−(アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]
プロパン、2,2−ビス[4−(メタアクリロイルオキ
シエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−
(2−アクリロイルオキシプロポキシ)フェニル]プロ
パン、2,2−ビス[4−(2−メタアクリロイルオキ
シプロポキシ)フェニル]プロパン、ビス[4−(アク
リロイルオキシエトキシ)フェニル]メタン、ビス[4
−(メタアクリロイルオキシエトキシ)フェニル]メタ
ン、ビス[4−(2−アクリロイルオキシプロポキシ)
フェニル]メタン、ビス[4−(2−メタアクリロイル
オキシプロポキシ)フェニル]メタン、4,4’−ビス
(2−アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルスルフ
ィド、4,4’−ビス(2−メタアクリロイルオキシエ
トキシ)ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス(2−
アクリロイルオキシプロポキシ)ジフェニルスルフィ
ド、4,4’−ビス(2−メタアクリロイルオキシプロ
ポキシ)ジフェニルスルフィド、4,4’−ビス(2−
アクリロイルオキシエトキシ)ジフェニルスルフォン、
4,4’−ビス(2−メタアクリロイルオキシエトキ
シ)ジフェニルスルフォン、4,4’−ビス(2−アク
リロイルオキシプロポキシ)ジフェニルスルフォン、
4,4’−ビス(2−メタアクリロイルオキシプロポキ
シ)ジフェニルスルフォン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンのエチレンオキシドまたはプロ
ピレンオキシド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビス
(4−ヒドロキシフェニル)メタンのエチレンオキシド
またはプロピレンオキシド付加物ジ(メタ)アクリレー
ト、4,4’−ジヒドロキシフェニルスルフィドのエチ
レンオキシドまたはプロピレンオキシド付加物のジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロ
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチ
ルトリスイソシアヌレート、(メタ)アクリロキシプロ
ピルトリス(メトキシ)シラン等の一官能または多官能
(メタ)アクリレート類;
2,2-bis (4-acryloyloxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-methacryloyloxyphenyl) propane, bis (4-acryloyloxyphenyl) methane, bis (4-methacryloyloxyphenyl) Methane, 4,4'-bis (acryloyloxy) diphenyl sulfide, 4,4'-bis (methacryloyloxy) diphenyl sulfide, 2,2-
Bis [4- (acryloyloxyethoxy) phenyl]
Propane, 2,2-bis [4- (methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4-
(2-acryloyloxypropoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (2-methacryloyloxypropoxy) phenyl] propane, bis [4- (acryloyloxyethoxy) phenyl] methane, bis [4
-(Methacryloyloxyethoxy) phenyl] methane, bis [4- (2-acryloyloxypropoxy)
Phenyl] methane, bis [4- (2-methacryloyloxypropoxy) phenyl] methane, 4,4′-bis (2-acryloyloxyethoxy) diphenyl sulfide, 4,4′-bis (2-methacryloyloxyethoxy) Diphenyl sulfide, 4,4'-bis (2-
(Acryloyloxypropoxy) diphenyl sulfide, 4,4′-bis (2-methacryloyloxypropoxy) diphenyl sulfide, 4,4′-bis (2-
Acryloyloxyethoxy) diphenylsulfone,
4,4′-bis (2-methacryloyloxyethoxy) diphenylsulfone, 4,4′-bis (2-acryloyloxypropoxy) diphenylsulfone,
4,4'-bis (2-methacryloyloxypropoxy) diphenyl sulfone, ethylene oxide or propylene oxide adduct of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane di (meth) acrylate, bis (4-hydroxyphenyl) methane Ethylene oxide or propylene oxide adduct di (meth) acrylate, 4,4′-dihydroxyphenyl sulfide ethylene oxide or propylene oxide adduct di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 2- ( Data) acryloyloxyethyl tris isocyanurate, (meth) acryloxy propyl tris (methoxy) monofunctional or polyfunctional (meth) acrylates such as silane;

【0351】フェノールグリシジルエーテル、エチレン
グリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエー
テル、ハイドロキノンジグリシジルエーテル、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)メタン(通称、ビスフェノール
F)ジグリシジルエーテル、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン(通称、ビスフェノールA)ジ
グリシジルエーテル、4,4’−ビスヒドロキシフェニ
ルスルフィドジグリシジルエーテル、4,4’−ビスヒ
ドロキシフェニルスルホン(通称、ビスフェノールS)
ジグリシジルエーテル、4,4’−ビフェノールジグリ
シジルエーテル、3,3’、5,5’−テトラメチル−
4,4'−ビフェノールジグリシジルエーテル、トリス
(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレートなどの
各種公知である1価または2価以上のエポキシ化合物に
対して、(メタ)アクリル酸化合物を作用させて得られ
るエポキシ(メタ)アクリレート類;フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂、フェノールアラルキル樹脂型エポキシ樹脂、ビス
フェノール型エポキシ樹脂などの各種公知のエポキシ樹
脂に対して(メタ)アクリル酸化合物を作用させて得ら
れるエポキシ(メタ)アクリレート類等;
Phenol glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, resorcin diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, bis (4
-Hydroxyphenyl) methane (commonly known as bisphenol F) diglycidyl ether, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (commonly known as bisphenol A) diglycidyl ether, 4,4′-bishydroxyphenyl sulfide diglycidyl ether, 4,4'-bishydroxyphenyl sulfone (commonly known as bisphenol S)
Diglycidyl ether, 4,4'-biphenol diglycidyl ether, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-
A (meth) acrylic acid compound is allowed to act on various known monovalent or divalent or higher-valent epoxy compounds such as 4,4′-biphenol diglycidyl ether and tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate. Epoxy (meth) acrylates obtained; (meth) acrylic acid compound acting on various known epoxy resins such as phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, phenol aralkyl resin type epoxy resin and bisphenol type epoxy resin Epoxy (meth) acrylates obtained by the reaction;

【0352】ビニルベンゼン、ジビニルベンゼン、トリ
ビニルベンゼン、イソプロペニルベンゼン、ジイソプロ
ベニルベンゼン、トリイソプロペニルベンゼン、N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等のビニル
化合物類;エチレングリコールジアリルカーボネート、
トリメリット酸トリアリルエステル、トリアリルイソシ
アヌレート等のアリル基含有化合物類など各種公知の重
合性モノマー;あるいは、ポリウレタン(メタ)アクリ
レート類、エポキシ(メタ)アクリレート類、ポリエス
テル(メタ)アクリレート類、ポリエーテル(メタ)ア
クリレート類など各種公知の重合性オリゴマー等が例示
される。
Vinyl compounds such as vinylbenzene, divinylbenzene, trivinylbenzene, isopropenylbenzene, diisopropenylbenzene, triisopropenylbenzene, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylcaprolactam; ethylene glycol diallyl carbonate;
Various known polymerizable monomers such as allyl group-containing compounds such as trimellitic acid triallyl ester and triallyl isocyanurate; or polyurethane (meth) acrylates, epoxy (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates and poly Various known polymerizable oligomers such as ether (meth) acrylates are exemplified.

【0353】これらの使用量は、本発明の効果をより達
成するために、一般式(1)で表される含硫不飽和カル
ボン酸エステル化合物100質量部に対して、通常、3
00質量部以下であり、好ましくは、200質量部以下
であり、より好ましくは、100質量部以下である。
In order to further achieve the effects of the present invention, the amount of these additives is usually 3 parts by weight per 100 parts by mass of the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1).
It is at most 00 parts by mass, preferably at most 200 parts by mass, more preferably at most 100 parts by mass.

【0354】本発明の重合性組成物の製造方法として、
具体的には、本発明の一般式(1)で表される含硫不飽
和カルボン酸エステル化合物を用い、所望により上記の
公知の各種重合性化合物を併用して、さらに上記重合開
始剤を添加した後、混合・溶解させることにより得られ
る。該重合性組成物は、必要に応じて重合前に不溶物、
異物などを濾過により除去して、さらに減圧下で十分に
脱泡して重合、硬化に使用される。また、重合性組成物
を製造する際には、所望に応じて、内部離型剤、光安定
剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色顔料(例えば、シ
アニングリーン、シアニンブルー等)、染料、流動調節
剤、無機充填剤(例えば、タルク、シリカ、アルミナ、
硫酸バリウム、酸化マグネシウム等)、などの公知の各
種添加剤を添加することも可能である。
As a method for producing the polymerizable composition of the present invention,
Specifically, the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) of the present invention is used, and if necessary, the above-mentioned known various polymerizable compounds are used in combination. After that, it is obtained by mixing and dissolving. The polymerizable composition is insoluble before polymerization, if necessary,
Foreign matter and the like are removed by filtration, and further sufficiently defoamed under reduced pressure to be used for polymerization and curing. When producing the polymerizable composition, if desired, an internal release agent, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a coloring pigment (for example, cyanine green, cyanine blue, etc.), a dye, Flow regulators, inorganic fillers (eg, talc, silica, alumina,
It is also possible to add various known additives such as barium sulfate and magnesium oxide.

【0355】本発明の硬化物ならびに該硬化物からなる
光学部品は、上記重合性組成物を重合、硬化して得られ
るものである。これらの方法として、従来から公知の各
種方法が採用され好適に実施されるが、代表的には、上
述のように得られた重合性組成物をモールド中に注入
し、熱または光によって開始されるラジカル重合反応を
用いた注型重合などが挙げられる。
The cured product of the present invention and the optical component made of the cured product are obtained by polymerizing and curing the above polymerizable composition. As these methods, conventionally known various methods are adopted and suitably performed, but typically, the polymerizable composition obtained as described above is injected into a mold, and is started by heat or light. Cast polymerization using a radical polymerization reaction.

【0356】該モールドは、例えば、ポリエチレン、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル等の軟質
熱可塑性樹脂からなるガスケットを介した鏡面研磨した
二枚の鋳型により構成される。鋳型としては、ガラスと
ガラス、ガラスとプラスチック板、ガラスと金属板等の
組み合わせの鋳型が挙げられる。また、ガスケットとし
ては、上記の軟質熱可塑性樹脂からなるガスケットを用
いる以外に、2枚の鋳型をポリエステル粘着テープ等で
固定してもよい。
The mold is composed of two molds which are mirror-polished via a gasket made of a soft thermoplastic resin such as polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride or the like. Examples of the mold include a combination of glass and glass, glass and a plastic plate, and glass and a metal plate. As the gasket, in addition to using the gasket made of the above-mentioned soft thermoplastic resin, two molds may be fixed with a polyester adhesive tape or the like.

【0357】また、鋳型に対して、離型処理など公知の
処理方法を行ってもよい。
[0357] The mold may be subjected to a known treatment method such as a mold release treatment.

【0358】ラジカル重合反応としては、前述したよう
に、熱による重合反応(熱重合)、紫外線などの光によ
る重合反応(光重合)、ガンマ線による重合反応等を利
用する方法、あるいは、これらの複数を組み合わせた方
法などが例示される。
As the radical polymerization reaction, as described above, a polymerization reaction using heat (thermal polymerization), a polymerization reaction using light such as ultraviolet rays (photopolymerization), a polymerization reaction using gamma rays, or the like, Are exemplified.

【0359】これらの方法の中で、熱重合は数時間から
数十時間を要するのに対して、紫外線などによる光重合
は数秒〜数分で硬化が可能であり、本発明の光学部品の
製造時における生産性を高める点を考慮すると、好まし
い方法である。
In these methods, thermal polymerization requires several hours to several tens of hours, whereas photopolymerization by ultraviolet rays or the like can be cured in a few seconds to several minutes. This is a preferable method in consideration of increasing productivity at the time.

【0360】熱重合を行う場合、重合温度は重合開始剤
の種類など重合条件によって影響されるので、限定され
るものではないが、通常、25〜200℃、好ましく
は、50〜170℃である。
In the case of performing the thermal polymerization, the polymerization temperature is affected by the polymerization conditions such as the type of the polymerization initiator, and is not limited, but is usually 25 to 200 ° C., preferably 50 to 170 ° C. .

【0361】光学レンズの成形方法としては、上述した
ように、例えば、光または/および熱による注型重合を
行いレンズを得る方法が挙げられる(例えば、特開昭6
0−135901号公報、特開平10−67736号公
報、特開平10−130250号公報など)。
As a method for molding an optical lens, as described above, for example, a method for obtaining a lens by performing cast polymerization using light or / and heat (for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
0-135901, JP-A-10-67736, JP-A-10-130250, etc.).

【0362】すなわち、前述の方法により製造された本
発明の一般式(1)で表される含硫不飽和カルボン酸エ
ステル化合物を含有する重合性組成物を、必要に応じ
て、適当な方法で脱泡を行った後、モールド中に注入
し、通常、光照射して重合させる方法により、好適に実
施される。また熱による重合では、低温から高温へ徐々
に加熱して重合させる方法により、好適に実施される。
That is, the polymerizable composition containing the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) of the present invention produced by the above-mentioned method is optionally subjected to an appropriate method. After performing defoaming, it is preferably carried out by a method of injecting into a mold and polymerizing by irradiation of light. Further, the polymerization by heat is suitably performed by a method of performing polymerization by gradually heating from a low temperature to a high temperature.

【0363】得られた光学レンズは、必要に応じて、反
射防止、高硬度付与、耐摩耗性向上、防曇性付与あるい
はファッション性付与の目的で、表面研磨、帯電防止処
理、ハードコート処理、無反射コート処理、染色処理、
調光処理(例えば、フォトクロミックレンズ化処理な
ど)など公知の各種物理的または化学的処理を施されて
もよい。
The obtained optical lens may be subjected to surface polishing, antistatic treatment, hard coat treatment, or the like for the purpose of imparting anti-reflection, imparting high hardness, improving abrasion resistance, imparting anti-fogging property or imparting fashion, if necessary. Non-reflective coating treatment, dyeing treatment,
Various known physical or chemical treatments such as a light control treatment (for example, a photochromic lens formation treatment) may be performed.

【0364】光ディスクや光磁気ディスクの基板の成形
方法としては、例えば、前記の方法で得られる一般式
(1)で表される含硫不飽和カルボン酸エステル化合物
を含む重合性組成物を、ディスク基板用型キャビティ内
に注入し、これをラジカル重合方法等で重合させ、必要
に応じて後熱処理する方法(特開昭58−130450
号公報、同58−137150号公報、同62−280
008号公報など)、両面ガラス型内で光重合する方法
(特開昭60−202557号公報)、真空注型または
注液完了後、加圧して液状樹脂を熱重合させる方法(特
開昭60−203414号公報)など、従来から公知の
方法などが挙げられる。
As a method for molding a substrate of an optical disk or a magneto-optical disk, for example, a polymerizable composition containing a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by the general formula (1) obtained by the above method may be used. A method of injecting the mixture into a substrate mold cavity, polymerizing the mixture by a radical polymerization method or the like, and performing a post-heat treatment if necessary (Japanese Patent Laid-Open No. 58-130450)
JP-A-58-137150, JP-A-62-280
008), a method of photopolymerization in a double-sided glass mold (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-202557), a method of thermally polymerizing a liquid resin by applying pressure after completion of vacuum casting or liquid injection (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-202557). -203414) and conventionally known methods.

【0365】本発明の上記重合性組成物を光重合して得
られる硬化物、該硬化物からなる光学部品は、重合・硬
化に要する時間が数分から数時間であり、既存のポリジ
エチレングリコールジアリルカーボネート、ポリチオウ
レタンに代表される熱硬化性の光学用樹脂と比較して短
時間で重合成形が可能であって、生産性が高いことが特
徴の一つである。
A cured product obtained by photopolymerizing the polymerizable composition of the present invention, and an optical component comprising the cured product, require a few minutes to several hours for polymerization / curing, and use an existing polydiethylene glycol diallyl carbonate. One of the features is that it can be polymerized and molded in a shorter time and has higher productivity than a thermosetting optical resin represented by polythiourethane.

【0366】さらに、本発明の硬化物および光学部品は
光学特性、機械的特性、熱的特性に優れ、且つ、高屈折
率であるという特徴を有している。該光学部品として
は、例えば、矯正用眼鏡レンズを代表とする各種プラス
チックレンズ、光情報記録媒体基板、液晶セル用プラス
チック基板、光ファイバーコーティング材料などが具体
的な形態として挙げられる。
Further, the cured product and the optical component of the present invention are characterized by being excellent in optical properties, mechanical properties, and thermal properties and having a high refractive index. Specific examples of the optical component include various plastic lenses typified by corrective spectacle lenses, optical information recording medium substrates, plastic substrates for liquid crystal cells, and optical fiber coating materials.

【0367】[0367]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0368】<一般式(9)で表される含硫化合物の製
造> 合成例1 〔第3表中の例示化合物番号9−2;式(9)において
91=R92=水素原子、R93=臭素原子、p=0、q=
2の化合物の合成〕攪拌装置を取り付けたガラス製50
0ml容の反応器中に、エタンジチオール25.4g
(0.27モル)、三フッ化ホウ素エーテル錯体25m
lおよびトルエン100gをいれた。この混合物に対し
て、90% 2−(2’−ブロモエチル)−1,3−ジ
オキソラン55.4g(0.275モル)を20℃で1
時間かけて滴下した。さらに、20℃で5時間、反応さ
せた後、反応混合物に対して、氷水150gおよびトル
エン50gを加えて15分間、攪拌した後、静置、分液
してトルエン相を抽出した。該トルエン相を3%炭酸水
素ナトリウム水溶150gでアルカリ洗浄し、さらに水
相が中性になるまで水洗した。トルエン相を分液して取
り出し、トルエンを減圧下、40℃で留去して得られた
粗生成物を減圧蒸留して、無色液体の2−(2’−ブロ
モエチル)−1,3−ジチオラン51.8gを得た。 収率=90%、純度>99%(ガスクロマトグラフィー
分析による面積法) 沸点: 93〜96℃/0.22mmHg1 H−NMR δ(CDCl3 ):2.2〜2.3(m,
2H)、3.2(s,4H)、3.4〜3.5(m,2
H)、4.6〜4.7(t,1H) FD−MS: 213(M+
<Production of sulfur-containing compound represented by general formula (9)> Synthesis example 1 [Exemplary compound number 9-2 in Table 3; in formula (9), R 91 = R 92 = hydrogen atom, R 93 = bromine atom, p = 0, q =
Synthesis of Compound 2] 50 made of glass equipped with a stirrer
In a 0 ml reactor, 25.4 g of ethanedithiol
(0.27 mol), boron trifluoride ether complex 25m
and 100 g of toluene. To this mixture, 55.4 g (0.275 mol) of 90% 2- (2′-bromoethyl) -1,3-dioxolane was added at 20 ° C. for 1 hour.
It was dropped over time. Further, after reacting at 20 ° C. for 5 hours, 150 g of ice water and 50 g of toluene were added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 15 minutes, allowed to stand still, and separated to extract a toluene phase. The toluene phase was alkali-washed with 150 g of a 3% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and further washed with water until the aqueous phase became neutral. The toluene phase was separated and taken out, and the toluene was distilled off under reduced pressure at 40 ° C., and the obtained crude product was distilled under reduced pressure to obtain colorless liquid 2- (2′-bromoethyl) -1,3-dithiolane. 51.8 g were obtained. Yield = 90%, Purity> 99% (Area method by gas chromatography analysis) Boiling point: 93-96 ° C./0.22 mmHg 1 H-NMR δ (CDCl 3 ): 2.2-2.3 (m,
2H), 3.2 (s, 4H), 3.4 to 3.5 (m, 2
H) 4.6-4.7 (t, 1H) FD-MS: 213 (M <+> )

【0369】合成例2 〔第3表中の例示化合物番号9−18;式(9)におい
てR91=R92=水素原子、R93=チオール基、p=0、
q=2の化合物の合成〕攪拌装置を取り付けたガラス製
500ml容の反応器中に、チオ尿素32.0g(0.
42モル)およびエタノール175gを入れた。この混
合物に対して、合成例1で製造した2−(2’−ブロモ
エチル)−1,3−ジチオラン 44.8gを50℃で
35分かけて滴下した。さらに、80℃で4時間、反応
させてチウロニウム塩化した。反応溶液を高速液体クロ
マトグラフィーにより分析して、原料のブロモ化合物が
消失していることを確認し、反応混合物に対して18%
アンモニア水200gを50℃で10分かけて滴下し、
さらに50℃で2時間反応させて、チウロニウム塩を加
水分解した。トルエン100gを加えて分液、抽出した
後、排水相が中性になるまでトルエン相を水洗し、その
後、トルエン相を取り出し、トルエンを減圧下、40℃
で留去して得られた粗生成物を減圧蒸留して、無色液体
の2−(2’−メルカプトエチル)−1,3−ジチオラ
ン 31.6gを得た。
Synthesis Example 2 [Exemplary Compound No. 9-18 in Table 3; R 91 = R 92 = hydrogen atom, R 93 = thiol group, p = 0 in formula (9)]
Synthesis of Compound with q = 2] In a glass reactor of 500 ml equipped with a stirrer, 32.0 g of thiourea (0.
42 mol) and 175 g of ethanol. To this mixture, 44.8 g of 2- (2′-bromoethyl) -1,3-dithiolane prepared in Synthesis Example 1 was added dropwise at 50 ° C. over 35 minutes. Further, the reaction was carried out at 80 ° C. for 4 hours to thiuronium chloride. The reaction solution was analyzed by high performance liquid chromatography to confirm that the raw material bromo compound had disappeared.
200 g of aqueous ammonia was dropped at 50 ° C. over 10 minutes,
The reaction was further performed at 50 ° C. for 2 hours to hydrolyze the thyuronium salt. After 100 g of toluene was added for liquid separation and extraction, the toluene phase was washed with water until the drainage phase became neutral. Thereafter, the toluene phase was taken out and the toluene was removed at 40 ° C. under reduced pressure.
The crude product obtained by distillation under reduced pressure was distilled under reduced pressure to obtain 31.6 g of colorless liquid 2- (2'-mercaptoethyl) -1,3-dithiolane.

【0370】収率=95%、純度>99%(ガスクロマ
トグラフィー分析による面積法) 沸点: 98〜100℃/0.25mmHg1 H−NMR δ(CDCl3 ):1.7〜1.8(br,
1H)、2.0〜2.1(m,2H)、2.5〜2.7
(m,2H)、3.2〜3.3(m,4H)、4.7〜
4.8(t,1H) FD−MS: 166(M+
Yield = 95%, Purity> 99% (Area method by gas chromatography analysis) Boiling point: 98-100 ° C./0.25 mmHg 1 H-NMR δ (CDCl 3 ): 1.7-1.8 ( br,
1H), 2.0 to 2.1 (m, 2H), 2.5 to 2.7
(M, 2H), 3.2-3.3 (m, 4H), 4.7-
4.8 (t, 1H) FD-MS: 166 (M + )

【0371】合成例3 〔第3表中の例示化合物番号9−32;式(9)におい
てR91=R92=水素原子、R93=ヒドロキシ基、p=
0、q=2の化合物の合成〕攪拌装置を取り付けたガラ
ス製100ml容の反応器中に、合成例1で製造した2
−(2’−ブロモエチル)−1,3−ジチオラン21.
3g(0.10モル)、ギ酸ナトリウム13.6g
(0.20モル)およびテトラメチルアンモニウムブロ
ミド1.61g(0.005モル)を入れた。この混合
物を、110℃で1.5時間、加熱攪拌した。反応終了
後、攪拌しながら反応混合物に対して、50%水酸化ナ
トリウム水溶液8.8gを15分かけて滴下した。反応
生成物をトルエンで抽出し、水洗した後、トルエンを減
圧下、40℃で留去し、得られた粗生成物を減圧蒸留し
て、無色液体の2−(2’−ヒドロキシエチル)−1,
3−ジチオラン 13.5gを得た。
Synthesis Example 3 [Exemplary Compound No. 9-32 in Table 3; R 91 = R 92 = hydrogen atom, R 93 = hydroxyl group, p =
Synthesis of Compounds with 0, q = 2] In a 100 ml glass reactor equipped with a stirrer, 2
-(2′-bromoethyl) -1,3-dithiolane 21.
3 g (0.10 mol), sodium formate 13.6 g
(0.20 mol) and 1.61 g (0.005 mol) of tetramethylammonium bromide. This mixture was heated and stirred at 110 ° C. for 1.5 hours. After completion of the reaction, 8.8 g of a 50% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise to the reaction mixture with stirring over 15 minutes. After the reaction product was extracted with toluene and washed with water, the toluene was distilled off at 40 ° C. under reduced pressure, and the obtained crude product was distilled under reduced pressure to give 2- (2′-hydroxyethyl)-as a colorless liquid. 1,
13.5 g of 3-dithiolane were obtained.

【0372】収率=90%、純度>99%(ガスクロマ
トグラフィー分析による面積法) 沸点: 100〜105℃/0.25mmHg1 H−NMR δ(CDCl3 ):2.0〜2.1(m,
2H)、2.5〜2.6(br, 1H)、2.8〜2.9
(m,2H)、3.2〜3.3(m,4H)、4.7〜
4.8(t,1H) FD−MS: 150(M+
Yield = 90%, purity> 99% (area method by gas chromatography analysis) Boiling point: 100 to 105 ° C./0.25 mmHg 1 H-NMR δ (CDCl 3 ): 2.0 to 2.1 ( m,
2H), 2.5-2.6 (br, 1H), 2.8-2.9
(M, 2H), 3.2-3.3 (m, 4H), 4.7-
4.8 (t, 1H) FD-MS: 150 (M + )

【0373】合成例4 〔第3表中の例示化合物番号9−5;式(9)において
91=メチル基、R92=水素原子、R93=臭素原子、p
=0、q=2の化合物の合成〕合成例1において、エタ
ンジチオールを使用する代わりに、1,2−プロパンジ
チオールを使用する以外は、合成例1と同様に行い、無
色液体の2−(2’−ブロモエチル)−4−メチル−
1,3−ジチオランを得た。
Synthesis Example 4 [Exemplified Compound No. 9-5 in Table 3; R 91 = methyl group, R 92 = hydrogen atom, R 93 = bromine atom, p in formula (9)]
= 0, q = 2] A colorless liquid 2-(-) was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 1,2-propanedithiol was used instead of ethanedithiol. 2'-bromoethyl) -4-methyl-
1,3-Dithiolane was obtained.

【0374】合成例5 〔第3表中の例示化合物番号9−21;式(9)におい
てR91=メチル基、R92=水素原子、R93=チオール
基、p=0、q=2の化合物の合成〕合成例2におい
て、原料として合成例1で製造した2−(2’−ブロモ
エチル)−1,3−ジチオランを使用する代わりに、合
成例4で製造した2−(2’−ブロモエチル)−4−メ
チル−1,3−ジチオランを使用する以外は、合成例2
と同様に行い、無色液体の2−(2’−メルカプトエチ
ル)−4−メチル−1,3−ジチオランを得た。
Synthesis Example 5 [Exemplified Compound No. 9-21 in Table 3; R 91 = methyl group, R 92 = hydrogen atom, R 93 = thiol group, p = 0, q = 2 in formula (9)] Synthesis of Compound] In Synthesis Example 2, instead of using 2- (2′-bromoethyl) -1,3-dithiolane prepared in Synthesis Example 1 as a raw material, 2- (2′-bromoethyl) prepared in Synthesis Example 4 was used. Synthesis Example 2 except that) -4-methyl-1,3-dithiolane was used
Was performed in the same manner as described above to obtain colorless liquid 2- (2′-mercaptoethyl) -4-methyl-1,3-dithiolane.

【0375】<本発明の一般式(2)で表される含硫ジ
ヒドロキシ化合物の製造例> 実施例1 ベンゼンチオール220.4g(2.00モル)、水酸
化ナトリウム3.0g(0.075モル)、メタノール
300gの原料混合物に対して、下記式(10−1)で
表されるレゾルシンジグリシジルエーテル222.2g
(1.00モル)をメタノール400gに溶解させた溶
液を10℃で1時間要して滴下した。滴下終了後、室温
(25℃)で3時間、攪拌した後、HPLC(高速液体
クロマトグラフィ)で原料の残存が無いのを確認した上
で、反応溶液を氷水に排出した。
<Production Example of Sulfur-Containing Dihydroxy Compound Represented by General Formula (2) of the Present Invention> Example 1 220.4 g (2.00 mol) of benzenethiol, 3.0 g (0.075 mol) of sodium hydroxide ), And 300 g of a raw material mixture of methanol, 222.2 g of resorcin diglycidyl ether represented by the following formula (10-1):
(1.00 mol) dissolved in 400 g of methanol was added dropwise at 10 ° C. for 1 hour. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 3 hours, and after confirming that no raw material remained by HPLC (high performance liquid chromatography), the reaction solution was discharged into ice water.

【0376】油状の生成物を、トルエン300gを用い
て抽出し、さらに排水層が中性になるまで水洗を繰り返
した後、分液して有機層を取り出した。
The oily product was extracted with 300 g of toluene, washed repeatedly with water until the drainage layer became neutral, and separated to separate the organic layer.

【0377】トルエンを減圧下、40℃で留去して、粘
性のある微黄色透明液体として式(2−1)(前記第2
表の例示化合物番号39)の含硫ジヒドロキシ化合物4
20.0gを得た。
The toluene was distilled off under reduced pressure at 40 ° C. to obtain a viscous, slightly yellow transparent liquid of the formula (2-1) (the second liquid).
Sulfur-containing dihydroxy compound 4 of Exemplified Compound No. 39) in the table
20.0 g were obtained.

【0378】収率は95%、純度は99%(HPLC分
析の面積法による)であった。該生成物の核磁気共鳴ス
ペクトルおよび質量分析の測定結果を下記に示した。
The yield was 95% and the purity was 99% (by the area method of HPLC analysis). The results of nuclear magnetic resonance spectrum and mass spectrometry of the product are shown below.

【0379】1H−NMR(400MHz) δ(CDC
3 ):2.8〜2.9(m,2H)、3.1〜3.3
(m,4H)、3.9〜4.1(m,4H)、4.1〜
4.4(d,2H)、6.4〜6.5(m,3H)、
7.1〜7.4(m,11H) FD−MS: 442(M+
1 H-NMR (400 MHz) δ (CDC
l 3): 2.8~2.9 (m, 2H), 3.1~3.3
(M, 4H), 3.9-4.1 (m, 4H), 4.1-
4.4 (d, 2H), 6.4 to 6.5 (m, 3H),
7.1-7.4 (m, 11H) FD-MS: 442 (M + )

【0380】[0380]

【化55】 Embedded image

【0381】[0381]

【化56】 Embedded image

【0382】実施例2 実施例1において、ベンゼンチオールを用いる代わり
に、合成例2で製造した2−(2’−メルカプトエチ
ル)−1,3−ジチオランを使用する以外は、実施例1
に記載の方法と同様にして、無色透明液体の下記式(2
−2)(前記第2表の例示化合物番号27)で表される
含硫ジヒドロキシ化合物を得た。FD−MS: 554
(M+ )
Example 2 Example 1 was repeated, except that the 2- (2′-mercaptoethyl) -1,3-dithiolane prepared in Synthesis Example 2 was used instead of using benzenethiol.
In the same manner as described in the above, a colorless transparent liquid of the following formula (2)
-2) (Sulfur-containing dihydroxy compound represented by (Exemplary Compound No. 27 in Table 2 above)). FD-MS: 554
(M +)

【0383】[0383]

【化57】 Embedded image

【0384】実施例3 実施例1において、ベンゼンチオールを用いる代わり
に、1,3−ジチオラン−2−カルボン酸を使用する以
外は、実施例1に記載の方法と同様にして、無色透明液
体の下記式(2−3)(前記第2表の例示化合物番号4
5)で表される含硫ジヒドロキシ化合物を得た。 FD−MS: 522(M+ )
Example 3 A colorless transparent liquid was prepared in the same manner as in Example 1, except that 1,3-dithiolan-2-carboxylic acid was used instead of benzenethiol. The following formula (2-3) (Exemplary Compound No. 4 in Table 2 above)
A sulfur-containing dihydroxy compound represented by 5) was obtained. FD-MS: 522 (M @ +)

【0385】[0385]

【化58】 Embedded image

【0386】実施例4 ベンゼンチオール22g(0.2モル)、水酸化ナトリ
ウム0.3g(0.0075モル)、メタノール30g
の原料混合物に対して、4,4’−ジグリシジルオキシ
ビフェニル 29.8g(0.1モル)をメチルエチル
ケトン40gに溶解させた溶液を10℃で1時間要して
滴下した。滴下終了後、室温(25℃)で3時間、攪拌
した後、HPLC(高速液体クロマトグラフィ)で原料
の残存が無いのを確認した上で、反応溶液を氷水に排出
した。
Example 4 22 g (0.2 mol) of benzenethiol, 0.3 g (0.0075 mol) of sodium hydroxide, 30 g of methanol
A solution obtained by dissolving 29.8 g (0.1 mol) of 4,4′-diglycidyloxybiphenyl in 40 g of methyl ethyl ketone was added dropwise to the raw material mixture at 10 ° C. for 1 hour. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 3 hours, and after confirming that no raw material remained by HPLC (high performance liquid chromatography), the reaction solution was discharged into ice water.

【0387】油状の生成物をトルエン250gを用いて
抽出し、さらに排水層が中性になるまで水洗を繰り返し
た後、分液して有機層を取り出した。トルエンを減圧
下、40℃で留去した後、カラムクロマトグラフィー
(シリカゲル400g、移動相トルエン)により精製を
行い、粘性のある透明液体として、下記式(2−4)
(前記第2表の例示化合物番号111)の含硫ジヒドロ
キシ化合物49.2gを得た。
The oily product was extracted with 250 g of toluene, washed repeatedly with water until the drainage layer became neutral, and separated to separate the organic layer. After distilling off toluene at 40 ° C. under reduced pressure, purification was carried out by column chromatography (400 g of silica gel, toluene of mobile phase), and as a viscous transparent liquid, the following formula (2-4)
49.2 g of a sulfur-containing dihydroxy compound represented by (Exemplary Compound No. 111 in Table 2) was obtained.

【0388】収率=95%、純度=99.6%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 95%, Purity = 99.6% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0389】[0389]

【表178】 [Table 178]

【0390】[0390]

【化59】 Embedded image

【0391】実施例5 実施例4において、ベンゼンチオールを用いる代わり
に、2−(2’−メルカプトエチル)−1,3−ジチオ
ラン33.3g(0.2モル)を使用する以外は実施例
4に記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグ
ラフィー精製を行い、無色透明液体の式(2−5)(前
記第2表の例示化合物番号112)で表されるジヒドロ
キシ化合物58.1gを得た。
Example 5 Example 4 was repeated, except that 33.3 g (0.2 mol) of 2- (2'-mercaptoethyl) -1,3-dithiolane was used instead of using benzenethiol. And then purified by column chromatography to obtain 58.1 g of a dihydroxy compound represented by the formula (2-5) (Exemplary Compound No. 112 in Table 2) as a colorless transparent liquid. Was.

【0392】収率=92%、純度=99.5%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 92%, Purity = 99.5% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0393】[0393]

【表179】 [Table 179]

【0394】[0394]

【化60】 Embedded image

【0395】実施例6 実施例4において、ベンゼンチオールを用いる代わり
に、1,3−ジチオラン−2−カルボン酸30.0g
(0.2モル)を使用する以外は実施例4に記載の方法
と同様に反応した後、カラムクロマトグラフィー精製を
行い、粘性のある無色透明液体として、式(2−6)
(前記第2表の例示化合物番号113)で表されるジヒ
ドロキシ化合物49.1gを得た。 収率=94%、純度=99.4%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Example 6 In Example 4, 30.0 g of 1,3-dithiolan-2-carboxylic acid was used instead of using benzenethiol.
After reacting in the same manner as described in Example 4 except that (0.2 mol) was used, purification by column chromatography was carried out to obtain a viscous colorless transparent liquid of the formula (2-6)
49.1 g of a dihydroxy compound represented by (Exemplary Compound No. 113 in Table 2 above) was obtained. Yield = 94%, Purity = 99.4% (by HPLC analysis area method) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0396】[0396]

【表180】 [Table 180]

【0397】[0397]

【化61】 Embedded image

【0398】実施例7 実施例4において、4,4’−ジグリシジルオキシビフ
ェニルを用いる代わりに、3,3’,5,5’−テトラ
メチル−4,4’−ジグリシジルオキシビフェニル3
5.4g(0.1モル)を使用する以外は実施例4に記
載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフィ
ー精製を行い、粘性のある無色透明液体の(式2−7)
(前記第2表の例示化合物番号103)で表されるジヒ
ドロキシ化合物54.6gを得た。
Example 7 In Example 4, instead of using 4,4'-diglycidyloxybiphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diglycidyloxybiphenyl 3
Except for using 5.4 g (0.1 mol), the reaction was carried out in the same manner as in Example 4, followed by column chromatography purification to obtain a viscous colorless and transparent liquid (Formula 2-7).
54.6 g of a dihydroxy compound represented by (Exemplary Compound No. 103 in Table 2 above) was obtained.

【0399】収率=90%、純度=99.5%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 90%, Purity = 99.5% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0400】[0400]

【表181】 [Table 181]

【0401】[0401]

【化62】 Embedded image

【0402】実施例8 実施例5において、4,4’−ジグリシジルオキシビフ
ェニルを用いる代わりに、3,3’,5,5’−テトラ
メチル−4,4’−ジグリシジルオキシビフェニル3
5.4g(0.1モル)を使用する以外は実施例5に記
載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフィ
ー精製を行い、無色透明液体の下記式(2−8)(前記
第2表の例示化合物番号102)で表される含硫ジヒド
ロキシ化合物62.5gを得た。 収率=91%、純度=99.5%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Example 8 In Example 5, instead of using 4,4′-diglycidyloxybiphenyl, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-diglycidyloxybiphenyl 3
After reacting in the same manner as in Example 5 except that 5.4 g (0.1 mol) was used, purification was carried out by column chromatography, and a colorless transparent liquid of the following formula (2-8) (the second 62.5 g of a sulfur-containing dihydroxy compound represented by the exemplified compound number 102) in the table was obtained. Yield = 91%, Purity = 99.5% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0403】[0403]

【表182】 [Table 182]

【0404】[0404]

【化63】 Embedded image

【0405】実施例9 メチルチオエタノール18.4g(0.2モル)、水酸
化ナトリウム0.3g(0.0075モル)、メタノー
ル30gの原料混合物に対して、3,3’,5,5’−
テトラメチル−4,4’−ジグリシジルオキシビフェニ
ル35.4g(0.1モル)をメチルエチルケトン40
gに溶解させた溶液を10℃で1時間要して滴下した。
滴下終了後、室温(25℃)で3時間、攪拌した後、H
PLC(高速液体クロマトグラフィ)で原料の残存が無
いのを確認した上で、反応溶液を氷水に排出した。油状
の生成物をトルエン300gを用いて抽出し、さらに排
水層が中性になるまで水洗を繰り返した後、分液して有
機層を取り出した。トルエンを減圧下、40℃で留去し
た後、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル400
g、移動相トルエン)により精製を行い、無色透明液体
の式(2−9)(前記第2表の例示化合物番号86)で
表される含硫ジヒドロキシ化合物51.6gを得た。
Example 9 To a raw material mixture of 18.4 g (0.2 mol) of methylthioethanol, 0.3 g (0.0075 mol) of sodium hydroxide and 30 g of methanol, 3,3 ′, 5,5′-
35.4 g (0.1 mol) of tetramethyl-4,4'-diglycidyloxybiphenyl was added to methyl ethyl ketone 40
g was added dropwise at 10 ° C. for 1 hour.
After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 3 hours.
After confirming that no raw material remained by PLC (high performance liquid chromatography), the reaction solution was discharged into ice water. The oily product was extracted with 300 g of toluene, washed repeatedly with water until the drainage layer became neutral, and then separated to remove the organic layer. After toluene was distilled off under reduced pressure at 40 ° C., column chromatography (silica gel 400) was performed.
g, mobile phase toluene) to obtain 51.6 g of a sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2-9) (exemplified compound number 86 in Table 2) as a colorless transparent liquid.

【0406】収率=96%、純度=99.5%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 96%, Purity = 99.5% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0407】[0407]

【表183】 [Table 183]

【0408】[0408]

【化64】 Embedded image

【0409】実施例10 実施例5において、4,4’−ジグリシジルオキシビフ
ェニルを用いる代わりに、3,3’,5,5’−テトラ
メトキシ−4,4’−ジグリシジルオキシビフェニル4
1.8g(0.1モル)を使用する以外は実施例5に記
載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフィ
ー精製を行い、粘性のある無色透明液体の式(2−1
0)(前記第2表の例示化合物番号107)で表される
含硫ジヒドロキシ化合物66.1gを得た。 収率=88%、純度=99.7%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Example 10 In Example 5, instead of using 4,4′-diglycidyloxybiphenyl, 3,3 ′, 5,5′-tetramethoxy-4,4′-diglycidyloxybiphenyl 4
After the reaction was carried out in the same manner as in Example 5 except that 1.8 g (0.1 mol) was used, purification was carried out by column chromatography, and a viscous colorless and transparent liquid of formula (2-1) was obtained.
0) (Example compound number 107 in Table 2 above) to obtain 66.1 g of a sulfur-containing dihydroxy compound. Yield = 88%, Purity = 99.7% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0410】[0410]

【表184】 [Table 184]

【0411】[0411]

【化65】 Embedded image

【0412】実施例11 メチルチオエタノール18.4g(0.2モル)、水酸
化ナトリウム0.3g(0.0075モル)、メタノー
ル30gの原料混合物に対して、3,3’,5,5’−
テトラブロモ−4,4’−ジグリシジルオキシビフェニ
ル64.2g(0.1モル)をメチルエチルケトン10
0gに溶解させた溶液を10℃で1時間要して滴下し
た。滴下終了後、室温(25℃)で3時間、攪拌した
後、HPLC(高速液体クロマトグラフィ)で原料の残
存が無いのを確認した上で、反応溶液を氷水に排出し
た。油状の生成物をトルエン400gを用いて抽出し、
さらに排水層が中性になるまで水洗を繰り返した後、分
液して有機層を取り出した。トルエンを減圧下、40℃
で留去した後、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル
600g、移動相トルエン)により精製を行い、粘性の
ある透明液体の式(2−11)(前記第2表の例示化合
物番号114)で表される含硫ジヒドロキシ化合物7
1.0gを得た。 収率=86%、純度=99.2%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Example 11 To a raw material mixture of 18.4 g (0.2 mol) of methylthioethanol, 0.3 g (0.0075 mol) of sodium hydroxide and 30 g of methanol, 3,3 ′, 5,5′-
64.2 g (0.1 mol) of tetrabromo-4,4'-diglycidyloxybiphenyl was added to methyl ethyl ketone 10
A solution dissolved in 0 g was added dropwise at 10 ° C. for 1 hour. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 3 hours, and after confirming that no raw material remained by HPLC (high performance liquid chromatography), the reaction solution was discharged into ice water. Extracting the oily product with 400 g of toluene,
Further, after repeatedly washing with water until the drainage layer became neutral, liquid separation was performed to take out an organic layer. 40 ° C under reduced pressure of toluene
After purification by column chromatography, purification was performed by column chromatography (600 g of silica gel, toluene in mobile phase) to obtain a viscous transparent liquid containing the compound represented by the formula (2-11) (exemplified compound number 114 in Table 2 above). Sulfuric dihydroxy compound 7
1.0 g was obtained. Yield = 86%, Purity = 99.2% (by HPLC analysis area method) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0413】[0413]

【表185】 [Table 185]

【0414】[0414]

【化66】 Embedded image

【0415】実施例12 ベンゼンチオール22g(0.2モル)、水酸化ナトリ
ウム0.3g(0.0075モル)、メタノール30g
の原料混合物に対して、2,2−ビス(4−グリシジル
オキシフェニル)プロパン 34.0g(0.1モル)
をメタノール50gに溶解させた溶液を10℃で1時間
を要して滴下した。滴下終了後、室温(25℃)で3時
間、攪拌した。HPLC(高速液体クロマトグラフィ)
で原料の残存が無いのを確認した上で、反応溶液を氷水
に排出した。油状の生成物をトルエン350gを用いて
抽出し、さらに排水層が中性になるまで水洗を繰り返し
た後、分液して有機層を取り出した。トルエンを減圧
下、40℃で留去した後、カラムクロマトグラフィー
(シリカゲル500g、移動相トルエン)により精製を
行い、粘性のある透明液体の式(2−12)(前記第2
表の例示化合物番号175)で表される含硫ジヒドロキ
シ化合物53.8gを得た。
Example 12 22 g (0.2 mol) of benzenethiol, 0.3 g (0.0075 mol) of sodium hydroxide, 30 g of methanol
34.0 g (0.1 mol) of 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane based on the raw material mixture of
Was dissolved in 50 g of methanol at 10 ° C. over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 3 hours. HPLC (High Performance Liquid Chromatography)
After confirming that no raw materials remained, the reaction solution was discharged into ice water. The oily product was extracted with 350 g of toluene, washed repeatedly with water until the drainage layer became neutral, and then separated to take out an organic layer. After toluene was distilled off under reduced pressure at 40 ° C., purification was carried out by column chromatography (500 g of silica gel, mobile phase toluene) to obtain a viscous transparent liquid of the formula (2-12) (the second liquid).
53.8 g of a sulfur-containing dihydroxy compound represented by the exemplified compound number 175) in the table was obtained.

【0416】収率=96%、純度=99.5%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 96%, Purity = 99.5% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0417】[0417]

【表186】 [Table 186]

【0418】[0418]

【化67】 Embedded image

【0419】実施例13 実施例12において、ベンゼンチオールを用いる代わり
に、1,3−ジチオラン−2−カルボン酸30.0g
(0.2モル)を使用する以外は実施例12に記載の方
法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフィー精製
を行い、無色透明液体の式(2−13)(前記第2表の
例示化合物番号177)で表される含硫ジヒドロキシ化
合物62.2gを得た。収率=97%、純度=99.6
%(HPLC分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Example 13 In Example 12, 30.0 g of 1,3-dithiolan-2-carboxylic acid was used instead of using benzenethiol.
After reacting in the same manner as described in Example 12 except that (0.2 mol) was used, purification by column chromatography was carried out to obtain a colorless transparent liquid of the formula (2-13) (the exemplified compound in Table 2 above). No. 177) was obtained. Yield = 97%, purity = 99.6
% (By the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0420】[0420]

【表187】 [Table 187]

【0421】[0421]

【化68】 Embedded image

【0422】実施例14 実施例12において、ベンゼンチオールを用いる代わり
に、2−(2’−メルカプトエチル)−1,3−ジチオ
ラン33.3g(0.2モル)を使用する以外は実施例
12に記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマト
グラフィー精製を行い、粘性のある無色透明液体の式
(2−14)(前記第2表の例示化合物番号176)で
表される含硫ジヒドロキシ化合物62.5gを得た。
Example 14 Example 12 was repeated, except that 33.3 g (0.2 mol) of 2- (2′-mercaptoethyl) -1,3-dithiolane was used instead of using benzenethiol. , And then purified by column chromatography to obtain a viscous, colorless, transparent liquid of sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2-14) (exemplified compound No. 176 in Table 2). 62.5 g were obtained.

【0423】収率=93%、純度=99.5%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 93%, Purity = 99.5% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0424】[0424]

【表188】 [Table 188]

【0425】[0425]

【化69】 Embedded image

【0426】実施例15 実施例12において、2,2−ビス(4−グリシジルオ
キシフェニル)プロパンを用いる代わりに、2,2−ビ
ス(3,5−ジメチル−4−グリシジルオキシフェニ
ル)プロパン39.6g(0.1モル)を使用する以外
は実施例12に記載の方法と同様に反応した後、カラム
クロマトグラフィー精製を行い、粘性のある式(2−1
5)(前記第2表の例示化合物番号167)で表される
ジヒドロキシ化合物56.7gを得た。 収率=92%、純度=99.6%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Example 15 In place of using 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane in Example 12, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-glycidyloxyphenyl) propane was used. After reacting in the same manner as in Example 12 except that 6 g (0.1 mol) was used, purification was carried out by column chromatography and the viscous formula (2-1) was obtained.
5) 56.7 g of a dihydroxy compound represented by (exemplary compound number 167 in Table 2 above) was obtained. Yield = 92%, Purity = 99.6% (by HPLC analysis area method) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0427】[0427]

【表189】 [Table 189]

【0428】[0428]

【化70】 Embedded image

【0429】実施例16 実施例13において、2,2−ビス(4−グリシジルオ
キシフェニル)プロパンを用いる代わりに、2,2−ビ
ス(3,5−ジメチル− 4−グリシジルオキシフェニ
ル)プロパン39.6g(0.1モル)を使用する以外
は実施例13に記載の方法と同様に反応した後、カラム
クロマトグラフィー精製を行い、無色透明液体の式(2
−16)(前記第2表の例示化合物番号170)で表さ
れるジヒドロキシ化合物65.5gを得た。
Example 16 In Example 13, instead of using 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-glycidyloxyphenyl) propane was used. After reacting in the same manner as in Example 13 except that 6 g (0.1 mol) was used, purification was carried out by column chromatography, and a colorless transparent liquid of the formula (2)
-16) (65.5 g of a dihydroxy compound represented by the above-exemplified compound number 170 in Table 2).

【0430】収率=94%、純度=99.8%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 94%, Purity = 99.8% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0431】[0431]

【表190】 [Table 190]

【0432】[0432]

【化71】 Embedded image

【0433】実施例17 メチルチオエタノール18.4g(0.2モル)、水酸
化ナトリウム0.3g(0.0075モル)、メタノー
ル30gの原料混合物に対して、2,2−ビス(4−グ
リシジルオキシフェニル)プロパン34.0g(0.1
モル)をメチルエチルケトン40gに溶解させた溶液を
10℃で1時間要して滴下した。滴下終了後、室温(2
5℃)で3時間、攪拌した後、HPLC(高速液体クロ
マトグラフィ)で原料の残存が無いのを確認した上で、
反応溶液を氷水に排出した。油状の生成物をトルエン3
00gを用いて抽出し、さらに排水層が中性になるまで
水洗を繰り返した後、分液して有機層を取り出した。ト
ルエンを減圧下、40℃で留去した後、カラムクロマト
グラフィー(シリカゲル400g、移動相トルエン)に
より精製を行い、無色透明液体の式(2−17)で表さ
れる含硫ジヒドロキシ化合物 53.5gを得た。
Example 17 To a raw material mixture of 18.4 g (0.2 mol) of methylthioethanol, 0.3 g (0.0075 mol) of sodium hydroxide, and 30 g of methanol, 2,2-bis (4-glycidyloxy) was added. 34.0 g of phenyl) propane (0.1
(Mol) in 40 g of methyl ethyl ketone was added dropwise at 10 ° C. for 1 hour. After completion of dropping, room temperature (2
(5 ° C.) for 3 hours, and after confirming that no raw material remains by HPLC (high performance liquid chromatography),
The reaction solution was discharged into ice water. The oily product is dissolved in toluene 3
Extraction was performed using 00 g, and washing with water was repeated until the drainage layer became neutral. Then, liquid separation was performed to take out an organic layer. After toluene was distilled off under reduced pressure at 40 ° C., purification was carried out by column chromatography (400 g of silica gel, toluene of mobile phase), and 53.5 g of a sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2-17) as a colorless and transparent liquid. I got

【0434】収率=96%、純度=99.5%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 96%, Purity = 99.5% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0435】[0435]

【表191】 [Table 191]

【0436】[0436]

【化72】 Embedded image

【0437】実施例18 実施例14において、2,2−ビス(4−グリシジルオ
キシフェニル)プロパンを用いる代わりに、2,2−ビ
ス(3,5−ジメトキシ− 4−グリシジルオキシフェ
ニル)プロパン46.0g(0.1モル)を使用する以
外は実施例14に記載の方法と同様に反応した後、カラ
ムクロマトグラフィー精製を行い、粘性のある無色透明
液体の式(2−18)(前記第2表の例示化合物番号1
71)で表される含硫ジヒドロキシ化合物71.2gを
得た。
Example 18 In Example 14, 2,2-bis (3,5-dimethoxy-4-glycidyloxyphenyl) propane was used instead of 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane. After the reaction was carried out in the same manner as in Example 14 except that 0 g (0.1 mol) was used, purification was carried out by column chromatography, and a viscous colorless and transparent liquid of the formula (2-18) (the second Exemplified compound number 1 in the table
71.2 g of the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (71) was obtained.

【0438】収率=90%、純度=99.7%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 90%, Purity = 99.7% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0439】[0439]

【表192】 [Table 192]

【0440】[0440]

【化73】 Embedded image

【0441】実施例19 メチルチオエタノール18.4g(0.2モル)、水酸
化ナトリウム0.3g(0.0075モル)、メタノー
ル30gの原料混合物に対して、2,2−ビス(3,5
−ジブロモ−4−グリシジルオキシフェニル)プロパン
65.6g(0.1モル)をメチルエチルケトン100
gに溶解させた溶液を10℃で1時間要して滴下した。
滴下終了後、室温(25℃)で3時間、攪拌した。HP
LC(高速液体クロマトグラフィ)で原料の残存が無い
のを確認した上で、反応溶液を氷水に排出した。油状の
生成物をトルエン400gを用いて抽出し、さらに排水
層が中性になるまで水洗を繰り返した後、分液して有機
層を取り出した。トルエンを減圧下、40℃で留去した
後、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル600g、
移動相トルエン)により精製を行い、粘性のある透明液
体の式(2−19)(前記第2表の例示化合物番号17
8)で表される含硫ジヒドロキシ化合物58.4gを得
た。
Example 19 To a raw material mixture of 18.4 g (0.2 mol) of methylthioethanol, 0.3 g (0.0075 mol) of sodium hydroxide and 30 g of methanol, 2,2-bis (3,5
-Dibromo-4-glycidyloxyphenyl) propane (65.6 g, 0.1 mol) in methyl ethyl ketone 100
g was added dropwise at 10 ° C. for 1 hour.
After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 3 hours. HP
After confirming that no raw material remained by LC (high performance liquid chromatography), the reaction solution was discharged into ice water. The oily product was extracted with 400 g of toluene, washed repeatedly with water until the drainage layer became neutral, and then separated to take out an organic layer. After distilling off toluene at 40 ° C. under reduced pressure, column chromatography (600 g of silica gel,
Purification was performed using toluene (mobile phase), and a viscous transparent liquid of formula (2-19) (Exemplified Compound No. 17 in Table 2 above)
58.4 g of the sulfur-containing dihydroxy compound represented by 8) was obtained.

【0442】収率=89%、純度=99.2%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析および質量分析の測定結果を下記に
示した。
Yield = 89%, Purity = 99.2% (HPL
The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0443】[0443]

【表193】 [Table 193]

【0444】[0444]

【化74】 Embedded image

【0445】実施例20〜実施例61 上記実施例1〜実施例19に記載の方法と同様な方法に
より、下記第4表に示したジエポキシ化合物と含硫化合
物との反応によって、本発明の一般式(2)で表される
含硫ジヒドロキシ化合物を製造した。
Examples 20 to 61 By a method similar to the method described in Examples 1 to 19 above, the reaction of a diepoxy compound and a sulfur-containing compound shown in Table 4 below gave a general product of the present invention. A sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2) was produced.

【0446】[0446]

【表194】 [Table 194]

【0447】[0447]

【表195】 [Table 195]

【0448】[0448]

【表196】 [Table 196]

【0449】[0449]

【表197】 [Table 197]

【0450】[0450]

【表198】 [Table 198]

【0451】[0451]

【表199】 [Table 199]

【0452】[0452]

【表200】 [Table 200]

【0453】[0453]

【表201】 [Table 201]

【0454】[0454]

【表202】 [Table 202]

【0455】[0455]

【表203】 [Table 203]

【0456】<本発明の一般式(1)で表される含硫不
飽和カルボン酸エステル化合物の製造> 実施例62 実施例1で製造した式(2−1)で表される含硫ジヒド
ロキシ化合物55.5g(0.10モル)、ピリジン1
9.0g(0.24モル)、クロロホルム200gの混
合溶液に対して、氷水冷下(10℃)でアクリル酸クロ
リド19.9g(0.22モル)を滴下した。滴下終了
後、10℃でさらに3時間攪拌して反応を行い、その
後、副生したピリジン塩酸塩を濾過して除いた。濾液の
クロロホルム溶液をさらに希塩酸水200gで洗浄した
後、排水層が中性になるまで水洗を行った上で、分液し
て、有機層を取り出した。クロロホルムを減圧下、60
℃で留去して、淡黄色透明液体の粗生成物を得た。該粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
て、粘性のある無色透明液体として下記式(1−1)
(前記第1表の例示化合物番号39)の含硫アクリル酸
エステル化合物63.0gを得た。
<Production of sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound represented by general formula (1) of the present invention> Example 62 Sulfur-containing dihydroxy compound represented by formula (2-1) produced in Example 1 55.5 g (0.10 mol), pyridine 1
To a mixed solution of 9.0 g (0.24 mol) and 200 g of chloroform, 19.9 g (0.22 mol) of acrylic acid chloride was added dropwise under ice-water cooling (10 ° C.). After the completion of the dropwise addition, the reaction was carried out by stirring at 10 ° C. for further 3 hours, and then the by-product pyridine hydrochloride was removed by filtration. The chloroform solution of the filtrate was further washed with 200 g of dilute hydrochloric acid water, washed with water until the drainage layer became neutral, separated, and the organic layer was taken out. Chloroform under reduced pressure
The residue was distilled at ℃ to obtain a crude product as a pale yellow transparent liquid. The crude product is purified by silica gel chromatography to give a viscous colorless transparent liquid of the following formula (1-1)
63.0 g of a sulfur-containing acrylic acid ester compound (Exemplary Compound No. 39 in Table 1) was obtained.

【0457】収率は95%、純度は99%以上(HPL
C分析の面積法による)であった。該生成物の核磁気共
鳴スペクトルおよび質量分析の測定結果を下記に示し
た。
The yield is 95% and the purity is 99% or more (HPL
C analysis area method). The results of nuclear magnetic resonance spectrum and mass spectrometry of the product are shown below.

【0458】・1H−NMR(400MHz) δ(CD
Cl3):3.3〜3.4(m,4H)、4.1〜4.
3(m,4H)、5.3〜5.4(m,2H)、5.8
〜5.9(d,2H)、6.0〜6.1(dd,2
H)、6.3〜6.5(m,5H)、7.1〜7.5
(m,11H) ・FD−MS: 550(M+
1 H-NMR (400 MHz) δ (CD
Cl 3): 3.3~3.4 (m, 4H), 4.1~4.
3 (m, 4H), 5.3 to 5.4 (m, 2H), 5.8
To 5.9 (d, 2H), 6.0 to 6.1 (dd, 2
H), 6.3-6.5 (m, 5H), 7.1-7.5
(M, 11H) FD-MS: 550 (M + )

【0459】[0459]

【化75】 Embedded image

【0460】実施例63 実施例62において、式(2−1)で表されるジヒドロ
キシ化合物を用いる代わりに、実施例2で製造した式
(2−2)で表されるジヒドロキシ化合物を使用する以
外は、実施例62に記載の方法と同様にして、無色透明
液体として下記式(1−2)(前記第1表の例示化合物
番号27)で表される含硫アクリル酸エステル化合物を
得た。 FD−MS: 663(M+
Example 63 Example 63 was repeated except that the dihydroxy compound represented by the formula (2-2) produced in Example 2 was used instead of using the dihydroxy compound represented by the formula (2-1). In the same manner as in Example 62, a sulfur-containing acrylate compound represented by the following formula (1-2) (Exemplary Compound No. 27 in Table 1) was obtained as a colorless transparent liquid. FD-MS: 663 (M + )

【0461】[0461]

【化76】 Embedded image

【0462】実施例64 実施例62において、式(2−1)で表されるジヒドロ
キシ化合物を用いる代わりに、実施例3で製造した式
(2−3)で表されるジヒドロキシ化合物を使用する以
外は、実施例62に記載の方法と同様にして、無色透明
液体として下記式(1−3)(前記第1表の例示化合物
番号45)で表される含硫アクリル酸エステル化合物を
得た。 FD−MS: 630(M+ )
Example 64 The procedure of Example 62 was repeated, except that the dihydroxy compound represented by the formula (2-3) produced in Example 3 was used instead of using the dihydroxy compound represented by the formula (2-1). In the same manner as in the method described in Example 62, a sulfur-containing acrylate compound represented by the following formula (1-3) (Exemplified Compound No. 45 in Table 1) was obtained as a colorless transparent liquid. FD-MS: 630 (M @ +)

【0463】[0463]

【化77】 Embedded image

【0464】実施例65 実施例62において、アクリル酸クロリドを用いる代わ
りに、メタアクリル酸クロリドを使用する以外は、実施
例62に記載の方法と同様にして、無色透明液体とし
て、下記式(1−4)(前記第1表の例示化合物番号7
1)で表される含硫メタアクリル酸エステル化合物を得
た。 FD−MS: 578(M+
Example 65 A colorless transparent liquid was prepared in the same manner as in Example 62 except that methacrylic acid chloride was used instead of acrylic acid chloride. -4) (Exemplary Compound No. 7 in Table 1 above)
A sulfur-containing methacrylate compound represented by 1) was obtained. FD-MS: 578 (M + )

【0465】[0465]

【化78】 Embedded image

【0466】実施例66 前記実施例4で製造した式(2−4)で表される含硫ジ
ヒドロキシ化合物26.0g(0.05モル)、ピリジ
ン9.5g(0.12モル)、クロロホルム100gの
混合溶液に対して、氷水冷下(10℃)でアクリル酸ク
ロリド9.95g(0.11モル)を滴下した。滴下終
了後、10℃でさらに3時間攪拌して反応を行い、その
後、副生したピリジン塩酸塩を濾過して除いた。濾液の
クロロホルム溶液をさらに希塩酸水100gで洗浄した
後、排水層が中性になるまで水洗を行った上で、分液し
て、有機層を取り出した。クロロホルムを減圧下、60
℃で留去して、淡黄色透明液体の粗生成物を得た。該粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
て、粘性のある無色透明液体として下記式(1−5)
(前記第1表の例示化合物番号126)で表される含硫
アクリル酸エステル化合物29.4gを得た。 収率=94%、純度=99.2%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 66 26.0 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2-4) produced in Example 4 above, 9.5 g (0.12 mol) of pyridine, and 100 g of chloroform 9.95 g (0.11 mol) of acrylic acid chloride was added dropwise to the mixed solution of (1) under ice-water cooling (10 ° C.). After the completion of the dropwise addition, the reaction was carried out by stirring at 10 ° C. for further 3 hours, and then the by-product pyridine hydrochloride was removed by filtration. The chloroform solution of the filtrate was further washed with 100 g of dilute hydrochloric acid water, washed with water until the drainage layer became neutral, separated, and the organic layer was taken out. Chloroform under reduced pressure
The residue was distilled at ℃ to obtain a crude product as a pale yellow transparent liquid. The crude product is purified by silica gel chromatography to give a viscous colorless transparent liquid of the following formula (1-5)
29.4 g of a sulfur-containing acrylate compound represented by (Exemplary Compound No. 126 in Table 1 above) was obtained. Yield = 94%, Purity = 99.2% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0467】[0467]

【表204】 [Table 204]

【0468】[0468]

【化79】 Embedded image

【0469】実施例67 実施例66において、式(2−4)で表される含硫ジヒ
ドロキシ化合物を用いる代わりに、実施例7において得
られた前記式(2−7)で表される含硫ジヒドロキシ化
合物28.7g(0.05モル)を使用する以外は、上
記実施例66に記載の方法と同様に反応した後、カラム
クロマトグラフィー精製を行い、粘性のある無色透明液
体として下記式(1−6)(前記第1表の例示化合物番
号118)の含硫アクリル酸エステル化合物 32.4
gを得た。 収率=95%、純度=99.7%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 67 Instead of using the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2-4) in Example 66, the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2-7) obtained in Example 7 was used. Except for using 28.7 g (0.05 mol) of the dihydroxy compound, the reaction was carried out in the same manner as described in Example 66 above, followed by column chromatography purification to obtain a viscous colorless transparent liquid represented by the following formula (1) -6) (Sulfur-containing acrylate compound of Exemplified Compound No. 118 in Table 1) 32.4
g was obtained. Yield = 95%, Purity = 99.7% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0470】[0470]

【表205】 [Table 205]

【0471】[0471]

【化80】 Embedded image

【0472】実施例68 実施例5で得られた式(2−5)の含硫ジヒドロキシ化
合物31.6g(0.05モル)を、実施例66に記載
の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフィー
精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記式(1
−7)(前記第1表の例示化合物番号127)の含硫ア
クリル酸エステル化合物 34.7gを得た。 収率=94%、純度=99.6%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 68 31.6 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-5) obtained in Example 5 was reacted in the same manner as in Example 66, and then reacted with a column. After performing chromatographic purification, the following formula (1) was obtained as a viscous colorless transparent liquid.
-7) 34.7 g of a sulfur-containing acrylate compound (Exemplary Compound No. 127 in Table 1 above) was obtained. Yield = 94%, Purity = 99.6% (by HPLC analysis area method) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0473】[0473]

【表206】 [Table 206]

【0474】[0474]

【化81】 Embedded image

【0475】実施例69 実施例8で得られた式(2−8)の含硫ジヒドロキシ化
合物34.4g(0.05モル)を、実施例66に記載
の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフィー
精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記式(1
−8)(前記第1表の例示化合物番号117)の含硫ア
クリル酸エステル化合物 32.4gを得た。 収率=95%、純度=99.7%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 69 34.4 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-8) obtained in Example 8 was reacted in the same manner as in Example 66, and then reacted with a column. After performing chromatographic purification, the following formula (1) was obtained as a viscous colorless transparent liquid.
-8) 32.4 g of a sulfur-containing acrylate compound (Exemplified Compound No. 117 in Table 1) was obtained. Yield = 95%, Purity = 99.7% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0476】[0476]

【表207】 [Table 207]

【0477】[0477]

【化82】 Embedded image

【0478】実施例70 実施例69において、アクリル酸クロリドを用いる代わ
りにメタアクリル酸クロリドを使用する以外は、実施例
69に記載の方法と同様にして行い、無色透明液体とし
て下記式(1−9)(前記第1表の例示化合物番号14
1)で表される含硫メタアクリル酸エステル化合物を得
た。該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果
を下記に示した。
Example 70 The procedure of Example 69 was repeated, except that methacrylic acid chloride was used instead of acrylic acid chloride. 9) (Exemplary Compound No. 14 in Table 1 above)
A sulfur-containing methacrylate compound represented by 1) was obtained. The results of elemental analysis and the results of mass spectrometry of the product are shown below.

【0479】[0479]

【表208】 [Table 208]

【0480】[0480]

【化83】 Embedded image

【0481】実施例71 実施例11で得られた式(2−11)の含硫ジヒドロキ
シ化合物41.3g(0.05モル)を、実施例66に
記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフ
ィー精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記式
(1−10)(前記第1表の例示化合物番号129)の
含硫アクリル酸エステル化合物 44.4gを得た。 収率=98%、純度=99.8%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 71 41.3 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-11) obtained in Example 11 was reacted in the same manner as described in Example 66, and then reacted with a column. Chromatographic purification was performed to obtain 44.4 g of a sulfur-containing acrylate compound represented by the following formula (1-10) (exemplified compound No. 129 in Table 1) as a viscous colorless transparent liquid. Yield = 98%, Purity = 99.8% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0482】[0482]

【表209】 [Table 209]

【0483】[0483]

【化84】 Embedded image

【0484】実施例72 実施例12で製造した式(2−12)で表される含硫ジ
ヒドロキシ化合物28.0g(0.05モル)、ピリジ
ン9.5g(0.12モル)、クロロホルム100gの
混合溶液に対して、氷水冷下(10℃)でアクリル酸ク
ロリド9.95g(0.11モル)を滴下した。滴下終
了後、10℃でさらに3時間攪拌して反応を行い、その
後、副生したピリジン塩酸塩を濾過して除いた。濾液の
クロロホルム溶液をさらに希塩酸水100gで洗浄した
後、排水層が中性になるまで水洗を行った上で、分液し
て、有機層を取り出した。クロロホルムを減圧下、60
℃で留去して、淡黄色透明液体の粗生成物を得た。該粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し
て、粘性のある無色透明液体として下記式(1−11)
(前記第1表の例示化合物番号190)の含硫アクリル
酸エステル化合物30.7gを得た。 収率=92%、純度=99.0%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 72 28.0 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2-12) produced in Example 12, 9.5 g (0.12 mol) of pyridine and 100 g of chloroform were prepared. 9.95 g (0.11 mol) of acrylic acid chloride was added dropwise to the mixed solution under ice-water cooling (10 ° C.). After the completion of the dropwise addition, the reaction was carried out by stirring at 10 ° C. for further 3 hours, and then the by-product pyridine hydrochloride was removed by filtration. The chloroform solution of the filtrate was further washed with 100 g of dilute hydrochloric acid water, washed with water until the drainage layer became neutral, separated, and the organic layer was taken out. Chloroform under reduced pressure
The residue was distilled at ℃ to obtain a pale yellow transparent liquid crude product. The crude product is purified by silica gel chromatography to give a viscous colorless transparent liquid of the following formula (1-11)
30.7 g of a sulfur-containing acrylate compound (Exemplary Compound No. 190 in Table 1) was obtained. Yield = 92%, Purity = 99.0% (by HPLC analysis area method) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0485】[0485]

【表210】 [Table 210]

【0486】[0486]

【化85】 Embedded image

【0487】実施例73 実施例13で得られた式(2−13)で表される含硫ジ
ヒドロキシ化合物32.0g(0.05モル)を、実施
例72に記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマ
トグラフィー精製を行い、粘性のある無色透明液体とし
て下記式(1−12)(前記第1表の例示化合物番号1
92)の含硫アクリル酸エステル化合物34.8gを得
た。 収率=93%、純度=99.5%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 73 32.0 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound represented by the formula (2-13) obtained in Example 13 was reacted in the same manner as in Example 72. Thereafter, purification by column chromatography was performed to obtain a viscous colorless transparent liquid of the following formula (1-12) (Exemplified Compound No. 1 in Table 1 above).
34.8 g of the sulfur-containing acrylate compound of the above 92) was obtained. Yield = 93%, Purity = 99.5% (by HPLC analysis area method) The results of elemental analysis and the results of mass spectrometry of the product are shown below.

【0488】[0488]

【表211】 [Table 211]

【0489】[0489]

【化86】 Embedded image

【0490】実施例74 実施例14で得られた式(2−14)の含硫ジヒドロキ
シ化合物33.6g(0.05モル)を、実施例72に
記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフ
ィー精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記式
(1−13)(前記第1表の例示化合物番号191)の
含硫アクリル酸エステル化合物 36.7gを得た。 収率=94%、純度=99.5%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 74 33.6 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-14) obtained in Example 14 was reacted in the same manner as in Example 72, and then reacted with a column. Chromatographic purification was performed to obtain 36.7 g of a sulfur-containing acrylate compound represented by the following formula (1-13) (exemplified compound No. 191 in Table 1) as a viscous colorless transparent liquid. Yield = 94%, Purity = 99.5% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and the results of mass spectrometry of the product are shown below.

【0491】[0490]

【表212】 [Table 212]

【0492】[0492]

【化87】 Embedded image

【0493】実施例75 実施例15で得られた式(2−15)の含硫ジヒドロキ
シ化合物30.8g(0.05モル)を、実施例72に
記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフ
ィー精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記式
(1−14)(前記第1表の例示化合物番号182)の
含硫アクリル酸エステル化合物 32.9gを得た。 収率=91%、純度=99.2%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 75 30.8 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-15) obtained in Example 15 was reacted in the same manner as in Example 72, and then reacted with a column. Chromatographic purification was performed to obtain 32.9 g of a sulfur-containing acrylate compound represented by the following formula (1-14) (exemplified compound number 182 in Table 1) as a viscous colorless transparent liquid. Yield = 91%, Purity = 99.2% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0494】[0494]

【表213】 [Table 213]

【0495】[0495]

【化88】 Embedded image

【0496】実施例76 実施例74において、アクリル酸クロリドを用いる代わ
りにメタアクリル酸クロリドを使用する以外は、実施例
74に記載の方法と同様にして行い、無色透明液体とし
て下記式(1−15)(前記第1表の例示化合物番号2
05)で表される含硫メタアクリル酸エステル化合物を
得た。
Example 76 The procedure of Example 74 was repeated, except that methacrylic acid chloride was used instead of acrylic acid chloride, to give a colorless transparent liquid of the following formula (1- 15) (Exemplary Compound No. 2 in Table 1 above)
The sulfur-containing methacrylate compound represented by the formula (05) was obtained.

【0497】該生成物の元素分析結果および質量分析の
測定結果を下記に示した。
The results of elemental analysis and the results of mass spectrometry of the product are shown below.

【0498】[0498]

【表214】 [Table 214]

【0499】[0499]

【化89】 Embedded image

【0500】実施例77 実施例16で得られた式(2−16)の含硫ジヒドロキ
シ化合物34.8g(0.05モル)を、実施例72に
記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフ
ィー精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記式
(1−16)(前記第1表の例示化合物番号185)の
含硫アクリル酸エステル化合物 38.2gを得た。
Example 77 34.8 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-16) obtained in Example 16 was reacted in the same manner as in Example 72, and then reacted with a column. Chromatographic purification was performed to obtain 38.2 g of a sulfur-containing acrylate compound represented by the following formula (1-16) (exemplified compound number 185 in Table 1) as a viscous colorless transparent liquid.

【0501】収率=95%、純度=99.1%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Yield = 95%, Purity = 99.1% (HPL
The results of elemental analysis of the product and the results of mass spectrometry are shown below.

【0502】[0502]

【表215】 [Table 215]

【0503】[0503]

【化90】 Embedded image

【0504】実施例78 実施例17で得られた式(2−17)の含硫ジヒドロキ
シ化合物 26.2g(0.05モル)を、実施例72
に記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラ
フィー精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記
式(1−17)の含硫アクリル酸エステル化合物 3
0.4gを得た。 収率=96%、純度=99.5%(HPLC分析の面積
法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Example 78 26.2 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-17) obtained in Example 17 was used in Example 72.
And then purified by column chromatography to obtain a viscous colorless and transparent liquid as a sulfur-containing acrylate compound 3 of the following formula (1-17):
0.4 g was obtained. Yield = 96%, Purity = 99.5% (by the area method of HPLC analysis) The results of elemental analysis and mass spectrometry of the product are shown below.

【0505】[0505]

【表216】 [Table 216]

【0506】[0506]

【化91】 Embedded image

【0507】実施例79 実施例18で得られた式(2−18)の含硫ジヒドロキ
シ化合物 39.6g(0.05モル)を、実施例72
に記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラ
フィー精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記
式(1−18)の含硫アクリル酸エステル化合物 4
2.8gを得た。
Example 79 In Example 72, 39.6 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-18) obtained in Example 18 was used.
And then purified by column chromatography to obtain a viscous colorless and transparent liquid as a sulfur-containing acrylate compound 4 of the following formula (1-18).
2.8 g were obtained.

【0508】収率=95%、純度=99.4%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Yield = 95%, Purity = 99.4% (HPL
The results of elemental analysis of the product and the results of mass spectrometry are shown below.

【0509】[0509]

【表217】 [Table 217]

【0510】[0510]

【化92】 Embedded image

【0511】実施例80 実施例19で得られた式(2−19)の含硫ジヒドロキ
シ化合物32.8g(0.05モル)を、実施例72に
記載の方法と同様に反応した後、カラムクロマトグラフ
ィー精製を行い、粘性のある無色透明液体として下記式
(1−19)(前記第1表の例示化合物番号193)の
含硫アクリル酸エステル化合物 42.7gを得た。
Example 80 32.8 g (0.05 mol) of the sulfur-containing dihydroxy compound of the formula (2-19) obtained in Example 19 was reacted in the same manner as in Example 72, and then reacted with a column. Chromatographic purification was performed to obtain 42.7 g of a sulfur-containing acrylate compound represented by the following formula (1-19) (exemplified compound number 193 in Table 1) as a viscous colorless transparent liquid.

【0512】収率=90%、純度=99.1%(HPL
C分析の面積法による) 該生成物の元素分析結果および質量分析の測定結果を下
記に示した。
Yield = 90%, Purity = 99.1% (HPL
The results of elemental analysis of the product and the results of mass spectrometry are shown below.

【0513】[0513]

【表218】 [Table 218]

【0514】[0514]

【化93】 Embedded image

【0515】実施例81〜実施例137 上記実施例62〜実施例80に記載の方法と同様な方法
により、下記第5表に示した本発明の一般式(1)で表
される含硫不飽和カルボン酸エステル化合物を製造し
た。
Examples 81 to 137 By the same method as described in Examples 62 to 80, the sulfur-containing sulfur-containing non-sulfuric acid represented by the general formula (1) of the present invention shown in Table 5 below was obtained. A saturated carboxylic ester compound was produced.

【0516】[0516]

【表219】 [Table 219]

【0517】[0517]

【表220】 [Table 220]

【0518】[0518]

【表221】 [Table 221]

【0519】[0519]

【表222】 [Table 222]

【0520】[0520]

【表223】 [Table 223]

【0521】[0521]

【表224】 [Table 224]

【0522】[0522]

【表225】 [Table 225]

【0523】[0523]

【表226】 [Table 226]

【0524】[0524]

【表227】 [Table 227]

【0525】[0525]

【表228】 [Table 228]

【0526】[0526]

【表229】 [Table 229]

【0527】[0527]

【表230】 [Table 230]

【0528】[0528]

【表231】 [Table 231]

【0529】[0529]

【表232】 [Table 232]

【0530】<本発明の一般式(1)で表される含硫不
飽和カルボン酸エステル化合物を用いた重合性組成物の
調製、その硬化による硬化物の製造とその物性評価>
尚、以下の各実施例において作製した硬化物または光学
部品(レンズ)の物性評価は、以下の方法により行っ
た。 ・外観:目視により色味、透明性を確認した。 ・屈折率、アッベ数:プルフリッヒ屈折計を用いて20
℃で測定した。
<Preparation of Polymerizable Composition Using Sulfur-Containing Unsaturated Carboxylic Acid Ester Compound Represented by General Formula (1) of the Present Invention, Production of Cured Product by Curing and Evaluation of Physical Properties>
The physical properties of the cured product or optical component (lens) produced in each of the following examples were evaluated by the following methods. -Appearance: Color and transparency were visually confirmed. -Refractive index, Abbe number: 20 using a Pulfrich refractometer
Measured in ° C.

【0531】実施例138 実施例62で得られた式(1−1)の含硫アクリル酸エ
ステル化合物30gに対して、光重合開始剤として2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−
オン(「Darocur−1173」、チバガイギー社
製)30mgを添加して、よく混合し溶解させた。得ら
れた液体を十分に減圧下、脱泡した後、ガラスモールド
とガスケットよりなるモールド型に注入した。メタルハ
ライドランプ(80W/cm)を使用して紫外線を60
秒間、照射して重合を行った。重合終了後、徐々に冷却
し、成形された硬化物をモールドから取り出した。
Example 138 To 30 g of the sulfur-containing acrylate compound of the formula (1-1) obtained in Example 62, 2-
Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-
30 mg of ON ("Darocur-1173", Ciba-Geigy) was added, mixed well and dissolved. The resulting liquid was sufficiently defoamed under reduced pressure, and then poured into a mold composed of a glass mold and a gasket. Use a metal halide lamp (80 W / cm) to emit 60 UV rays.
The polymerization was performed by irradiation for 2 seconds. After completion of the polymerization, the mixture was gradually cooled, and the formed cured product was taken out of the mold.

【0532】得られた硬化物は、無色透明で光学歪みは
観察されなかった。屈折率(nd)は1.614、アッ
ベ数(νd)は30.0であった。
[0532] The obtained cured product was colorless and transparent, and no optical distortion was observed. The refractive index (nd) was 1.614 and the Abbe number (νd) was 30.0.

【0533】実施例139〜167 実施例138において、式(1−1)の含硫アクリル酸
エステル化合物を使用する代わりに、実施例63〜80
で製造した式(1−2)〜式(1−19)及び第5表に
示した含硫不飽和カルボン酸エステル化合物をそれぞれ
用いた以外は、実施例138に記載の方法と同様にし
て、硬化物を得た。得られた重合後の成形された硬化物
の物性を第6表に示した。
Examples 139 to 167 Instead of using the sulfur-containing acrylate compound of the formula (1-1) in Example 138, Examples 63 to 80 were used.
In the same manner as in Example 138, except that each of the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compounds shown in Table 5 and Formulas (1-2) to (1-19) and Table 5 was used, A cured product was obtained. Table 6 shows the physical properties of the cured product obtained after the polymerization.

【0534】[0534]

【表233】 [Table 233]

【0535】[0535]

【表234】 [Table 234]

【0536】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物は、短時間の光照射で硬化(光重合)が可能であっ
た。また、得られた硬化物は高屈折率、高アッベ数であ
り、該硬化物の耐熱性、耐衝撃性は良好であった。
The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention could be cured (photopolymerized) by short-time light irradiation. The obtained cured product had a high refractive index and a high Abbe number, and the cured product had good heat resistance and impact resistance.

【0537】尚、以下の各実施例において作製した硬化
物または光学部品(レンズ)の物性評価は、以下の方法
により行った。 ・外観:目視により色味、透明性を確認した。 ・屈折率、アッベ数:プルフリッヒ屈折計を用いて20
℃で測定した。 ・耐衝撃性:中心厚1.5mmのマイナスレンズの中心
部に、高さ127cmから28.7gの鉄球を落下させ
て、割れの有無を調べた。また、評価は、以下の通り。 ○:レンズに割れが全くない。 ×:レンズに割れが生じた。
[0537] The physical properties of the cured product or optical component (lens) produced in each of the following examples were evaluated by the following methods. -Appearance: Color and transparency were visually confirmed. -Refractive index, Abbe number: 20 using a Pulfrich refractometer
Measured in ° C. Impact resistance: An iron ball of 28.7 g from a height of 127 cm was dropped on the center of a minus lens having a center thickness of 1.5 mm to check for cracks. The evaluation is as follows. :: There is no crack in the lens. X: The lens was cracked.

【0538】実施例168 実施例63で得られた式(1−2)の含硫アクリル酸エ
ステル化合物20g、下記式(13−1)で示されたレ
ゾルシンジグリシジルエーテルのエポキシアクリレート
5gおよびジビニルベンゼン5gの混合物に、2−ヒド
ロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン
60mg(0.2質量%対重合性モノマー)を添加して
よく混合、溶解させた。得られた液体を十分に脱泡した
後、ガラスモールドとテープよりなるモールド型(マイ
ナスレンズ形状に調整)に注入した。メタルハライドラ
ンプにより紫外線を60秒間、照射した後、80℃で1
時間加熱して重合を行った。重合終了後、室温まで放冷
し、直径30mm、中心厚1.5mmのマイナスレンズ
を得た。
Example 168 20 g of a sulfur-containing acrylate compound of the formula (1-2) obtained in Example 63, 5 g of an epoxy acrylate of resorcin diglycidyl ether represented by the following formula (13-1) and divinylbenzene To 5 g of the mixture, 60 mg of 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one (0.2% by mass relative to the polymerizable monomer) was added, mixed well, and dissolved. After sufficiently defoaming the obtained liquid, it was poured into a mold (adjusted to a minus lens shape) comprising a glass mold and a tape. After irradiating with ultraviolet rays for 60 seconds by a metal halide lamp,
The polymerization was carried out by heating for an hour. After completion of the polymerization, the mixture was allowed to cool to room temperature to obtain a minus lens having a diameter of 30 mm and a center thickness of 1.5 mm.

【0539】該レンズは無色透明であり、屈折率(n
d)は1.611、アッベ数(νd)は36.5であっ
た。TMA法によるガラス転移温度(Tg)は110℃
であり、落ち込みは認められなかった。また前記の方法
による耐衝撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
The lens is colorless and transparent, and has a refractive index (n
d) was 1.611 and Abbe number (νd) was 36.5. Glass transition temperature (Tg) by TMA method is 110 ° C
And no drop was observed. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0540】[0540]

【化94】 Embedded image

【0541】実施例169 実施例168において、式(1−2)の含硫アクリル酸
エステル化合物20gおよび式(13−1)で示された
レゾルシンジグリシジルエーテルのエポキシアクリレー
ト5gを使用する代わりに、実施例68で得られた式
(1−7)で表される含硫アクリル酸エステル化合物2
0gおよび下記式(13−2)で表される3,3’,
5,5’−テトラメチル−4,4’−ジフェニルグリシ
ジルオキシビフェニルのエポキシアクリレート5gを使
用する以外は、上記実施例168に記載の方法と同様な
方法に従って、マイナスレンズを作製した。
Example 169 In Example 168, instead of using 20 g of the sulfur-containing acrylate compound of the formula (1-2) and 5 g of the epoxy acrylate of resorcin diglycidyl ether represented by the formula (13-1), Sulfur-containing acrylate compound 2 represented by formula (1-7) obtained in Example 68
0g and 3,3 ′,
A minus lens was produced in the same manner as in Example 168 except that 5 g of 5,5'-tetramethyl-4,4'-diphenylglycidyloxybiphenyl epoxy acrylate was used.

【0542】該レンズは無色透明であり、屈折率(n
d)は1.608、アッベ数(νd)は33.3であっ
た。TMA法によるガラス転移温度(Tg)は86℃で
あり、落ち込みは認められなかった。また前記の方法に
よる耐衝撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
The lens is colorless and transparent, and has a refractive index (n
d) was 1.608 and Abbe number (νd) was 33.3. The glass transition temperature (Tg) according to the TMA method was 86 ° C., and no depression was observed. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0543】[0543]

【化95】 Embedded image

【0544】実施例170 実施例169において、ジビニルベンゼンを用いる代わ
りに、エチレングリコールジメタクリレート5gを使用
する以外は、上記実施例169に記載の方法と同様な方
法に従って、マイナスレンズを作製した。
Example 170 A minus lens was manufactured in the same manner as in Example 169 except that 5 g of ethylene glycol dimethacrylate was used instead of divinylbenzene.

【0545】該レンズは無色透明であり、屈折率(n
d)は1.595、アッベ数(νd)は35.0であっ
た。TMA法によるガラス転移温度(Tg)は71℃で
あり、落ち込みは認められなかった。また前記の方法に
よる耐衝撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
The lens is colorless and transparent, and has a refractive index (n
d) was 1.595 and Abbe number (νd) was 35.0. The glass transition temperature (Tg) by TMA method was 71 ° C., and no drop was observed. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0546】実施例171 実施例169において、ジビニルベンゼンを用いる代わ
りに、フェニルメタクリレート5gを使用する以外は、
上記実施例169に記載の方法と同様な方法に従って、
マイナスレンズを作製した。
Example 171 The procedure of Example 169 was repeated, except that 5 g of phenyl methacrylate was used instead of divinylbenzene.
According to a method similar to that described in Example 169 above,
A minus lens was produced.

【0547】該レンズは無色透明であり、屈折率(n
d)は1.607、アッベ数(νd)は34.9であっ
た。TMA法によるガラス転移温度(Tg)は84℃で
あり、落ち込みは認められなかった。また前記の方法に
よる耐衝撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
The lens is colorless and transparent, and has a refractive index (n
d) was 1.607, and Abbe number (νd) was 34.9. The glass transition temperature (Tg) by TMA method was 84 ° C., and no drop was observed. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0548】実施例172 実施例168において、式(1−2)の含硫アクリル酸
エステル化合物20gおよび式(13−1)で示された
レゾルシンジグリシジルエーテルのエポキシアクリレー
ト5gを使用する代わりに、実施例74で得られた式
(1−13)で表される含硫アクリル酸エステル化合物
20gおよび下記式(13−3)で表される2,2−ビ
ス(4−グリシジルオキシフェニル)プロパンのエポキ
シアクリレート5gを使用する以外は、上記実施例16
8に記載の方法と同様な方法に従って、マイナスレンズ
を作製した。
Example 172 In Example 168, instead of using 20 g of the sulfur-containing acrylate compound represented by the formula (1-2) and 5 g of the epoxy acrylate of resorcin diglycidyl ether represented by the formula (13-1), 20 g of the sulfur-containing acrylate compound represented by the formula (1-13) obtained in Example 74 and 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) propane represented by the following formula (13-3) Example 16 except that 5 g of epoxy acrylate was used.
According to the same method as described in No. 8, a minus lens was produced.

【0549】該レンズは無色透明であり、屈折率(n
d)は1.607、アッベ数(νd)は35.9であっ
た。TMA法によるガラス転移温度(Tg)は81℃で
あり、落ち込みは認められなかった。また前記の方法に
よる耐衝撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
The lens is colorless and transparent, and has a refractive index (n
d) was 1.607 and Abbe number (νd) was 35.9. The glass transition temperature (Tg) by TMA method was 81 ° C., and no depression was observed. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0550】[0550]

【化96】 Embedded image

【0551】実施例173 実施例172において、ジビニルベンゼンを用いる代わ
りに、エチレングリコールジメタクリレート5gを使用
する以外は、上記実施例172に記載の方法と同様な方
法に従って、マイナスレンズを作製した。
Example 173 A minus lens was manufactured in the same manner as in Example 172 except that 5 g of ethylene glycol dimethacrylate was used instead of divinylbenzene.

【0552】該レンズは無色透明であり、屈折率(n
d)は1.604、アッベ数(νd)は36.4であっ
た。TMA法によるガラス転移温度(Tg)は83℃で
あり、落ち込みは認められなかった。また前記の方法に
よる耐衝撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
The lens is colorless and transparent, and has a refractive index (n
d) was 1.604 and Abbe number (νd) was 36.4. The glass transition temperature (Tg) by TMA method was 83 ° C., and no depression was observed. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0553】実施例174 実施例172において、ジビニルベンゼンを用いる代わ
りに、フェニルメタクリレート5gを使用する以外は、
上記実施例172に記載の方法と同様な方法に従って、
マイナスレンズを作製した。
Example 174 The procedure of Example 172 was repeated, except that 5 g of phenyl methacrylate was used instead of divinylbenzene.
According to a method similar to that described in Example 172 above,
A minus lens was produced.

【0554】該レンズは無色透明であり、屈折率(n
d)は1.610、アッベ数(νd)は34.3であっ
た。TMA法によるガラス転移温度(Tg)は80℃で
あり、落ち込みは認められなかった。また前記の方法に
よる耐衝撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
The lens is colorless and transparent, and has a refractive index (n
d) was 1.610 and Abbe number (νd) was 34.3. The glass transition temperature (Tg) according to the TMA method was 80 ° C., and no depression was observed. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0555】実施例175 実施例172において、式(13−3)のエポキシアク
リレートを用いる代わりに、エチレングリコールジメタ
クリレート5gを使用する以外は、上記実施例172に
記載の方法と同様な方法に従って、マイナスレンズを作
製した。
Example 175 The procedure of Example 172 was repeated, except that 5 g of ethylene glycol dimethacrylate was used instead of the epoxy acrylate of the formula (13-3). A minus lens was produced.

【0556】該レンズは無色透明であり、屈折率(n
d)は1.607、アッベ数(νd)は36.7であっ
た。TMA法によるガラス転移温度(Tg)は89℃で
あり、落ち込みは認められなかった。また前記の方法に
よる耐衝撃性試験の結果、レンズの割れはなかった。
The lens is colorless and transparent, and has a refractive index (n
d) was 1.607 and Abbe number (νd) was 36.7. The glass transition temperature (Tg) by TMA method was 89 ° C., and no drop was observed. Further, as a result of the impact resistance test by the above method, there was no crack of the lens.

【0557】実施例176〜181 実施例168に記載の方法と同様にして、第7表に示し
た組成の重合性組成物を調製してレンズを作製した。該
レンズの物性評価の結果を、第7表に示した。
Examples 176 to 181 In the same manner as in Example 168, a polymerizable composition having the composition shown in Table 7 was prepared to prepare a lens. Table 7 shows the results of evaluation of the physical properties of the lens.

【0558】比較例1 実施例168において、重合性モノマーとして本発明の
アクリル酸エステル化合物を使用する代わりに、公知
(特開平4−161410号公報に記載)のアクリル酸
エステル化合物である2,5−ビス(アクリロイルオキ
シエチルチオメチル)−1,4−ジチアン(以下、DT
AETと称する)24gおよびジメチロールトリシクロ
デカンアクリレート(以下、DCPAと称する)6gを
使用する以外は、実施例168に記載の方法と同様にし
て、重合性組成物を調製し、レンズを作製した。該レン
ズの物性評価の結果を、第7表に示した。
Comparative Example 1 In Example 168, instead of using the acrylate compound of the present invention as a polymerizable monomer, a known acrylate compound (described in JP-A-4-161410) was used. -Bis (acryloyloxyethylthiomethyl) -1,4-dithiane (hereinafter DT)
A polymerizable composition was prepared in the same manner as in Example 168 except that 24 g of AET) and 6 g of dimethylol tricyclodecane acrylate (hereinafter, referred to as DCPA) were used to prepare a lens. . Table 7 shows the results of evaluation of the physical properties of the lens.

【0559】比較例2 実施例168において、重合性モノマーとして本発明の
アクリル酸エステル化合物を使用する代わりに、公知
(特開平3−217412号公報に記載)のアクリル酸
エステル化合物である1,4−ビス(2−メタクリロイ
ルオキシエチルチオ)キシリレン(以下、XDMETと
称する)24gおよび2,2−ビス(4−メタクリロイ
ルオキシエトキシフェニル)プロパン(以下、BSAM
と称する)6gを使用する以外は、実施例168に記載
の方法と同様にして、重合性組成物を調製し、レンズを
作製した。該レンズの物性評価の結果を、第7表に示し
た。
Comparative Example 2 In Example 168, instead of using the acrylate compound of the present invention as a polymerizable monomer, a known acrylate compound (described in JP-A-3-217412) was used. -Bis (2-methacryloyloxyethylthio) xylylene (hereinafter referred to as XDMET) 24 g and 2,2-bis (4-methacryloyloxyethoxyphenyl) propane (hereinafter BSAM)
A polymerizable composition was prepared and a lens was prepared in the same manner as in Example 168 except that 6 g was used. Table 7 shows the results of evaluation of the physical properties of the lens.

【0560】比較例3 実施例168において、重合性モノマーとして本発明の
アクリル酸エステル化合物を使用する代わりに、公知
(特開63−248814号公報に記載)のアクリル酸
エステル化合物である1,3−ビス[2−メタクリロイ
ルオキシ−3−(2,4,6−トリブロモフェノキシ)
プロポキシ]ベンゼン(以下、BMPBと称する)18
gおよびクロロスチレン(以下、CSTと称する)12
gを使用する以外は、実施例168に記載の方法と同様
にして、重合性組成物を調製し、レンズを作製した。該
レンズの物性評価の結果を、第7表に示した。
Comparative Example 3 In Example 168, instead of using the acrylate compound of the present invention as a polymerizable monomer, a known acrylate compound described in JP-A-63-248814 was used. -Bis [2-methacryloyloxy-3- (2,4,6-tribromophenoxy)
Propoxy] benzene (hereinafter referred to as BMPB) 18
g and chlorostyrene (hereinafter referred to as CST) 12
A polymerizable composition was prepared and a lens was prepared in the same manner as in Example 168 except that g was used. Table 7 shows the results of evaluation of the physical properties of the lens.

【0561】[0561]

【表235】 表中、DVBはジビニルベンゼン、EGDMAはエチレ
ングリコールジメタクリレート、PMAはフェニルメタ
クリレートをそれぞれ示す。
[Table 235] In the table, DVB indicates divinylbenzene, EGDMA indicates ethylene glycol dimethacrylate, and PMA indicates phenyl methacrylate.

【0562】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル化
合物を含有する重合性組成物を重合して得られる硬化物
および光学部品は、光学特性、熱的特性、機械的特性
(耐衝撃性)に優れ、且つ、短時間で重合・成形硬化が
可能(高生産性)であり、且つ、高屈折率である。
The cured product and the optical component obtained by polymerizing the polymerizable composition containing the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention have optical properties, thermal properties, and mechanical properties (impact resistance). It is excellent, can be polymerized and cured in a short time (high productivity), and has a high refractive index.

【0563】[0563]

【発明の効果】本発明の含硫不飽和カルボン酸エステル
化合物は、光硬化可能な重合性組成物用のモノマーとし
て、光学用材料、歯科用材料などの用途において非常に
有用である。該重合性組成物を硬化して得られる光学部
品は、光学特性、熱的特性、機械的特性に優れ、且つ、
生産性が良好であり、高屈折率であり、矯正用眼鏡レン
ズを代表とする各種プラスチックレンズ、光情報記録媒
体基板、液晶セル用プラスチック基盤、光ファイバーコ
ーティング材料等として有用である。
The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound of the present invention is very useful as a monomer for a photocurable polymerizable composition in applications such as optical materials and dental materials. An optical component obtained by curing the polymerizable composition has excellent optical properties, thermal properties, and mechanical properties, and
It has good productivity, high refractive index, and is useful as various plastic lenses typified by corrective spectacle lenses, optical information recording medium substrates, plastic substrates for liquid crystal cells, optical fiber coating materials, and the like.

【0564】また本発明により、かかる光学用樹脂の原
料モノマーの合成原料として非常に有用な新規化合物で
ある、一般式(2)で表される含硫ジヒドロキシ化合物
を提供することが可能となった。
Further, according to the present invention, it has become possible to provide a sulfur-containing dihydroxy compound represented by the general formula (2), which is a novel compound which is very useful as a raw material for synthesizing a raw material monomer for such an optical resin. .

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 323/64 C07C 323/64 4J100 C07D 277/12 C07D 277/12 277/16 277/16 277/56 277/56 333/40 333/40 339/06 339/06 339/08 339/08 341/00 341/00 C08F 20/38 C08F 20/38 22/24 22/24 C08J 5/00 CEY C08J 5/00 CEY G02B 1/04 G02B 1/04 6/00 391 6/00 391 G02C 7/02 G02C 7/02 // C08L 33:14 C08L 33:14 (31)優先権主張番号 特願2000−24152(P2000−24152) (32)優先日 平成12年2月1日(2000.2.1) (33)優先権主張国 日本(JP) (31)優先権主張番号 特願2000−45348(P2000−45348) (32)優先日 平成12年2月23日(2000.2.23) (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 大辻 淳夫 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 藤井 謙一 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 大熊 正 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 高木 正利 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 鈴木 理穂子 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 詫摩 啓輔 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 Fターム(参考) 2H050 AB42Z 4C023 HA02 NA01 PA03 PA07 4C033 AC08 AC10 AC17 AD00 AD17 4F071 AA33 AF07 AH19 BA02 BB01 BC07 4H006 AA01 AB46 AB92 TA04 TB74 4J100 AL65P AL66P AL82P AL83P AL87P BA02P BA05P BA15P BA41P BA51P BA53P BA55P BA58P BB01P BB03P BC04P BC43P BC44P BC45P BC48P BC49P BC83P CA01 CA04 CA05 CA06 DA42 JA32 JA33──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (Reference) C07C 323/64 C07C 323/64 4J100 C07D 277/12 C07D 277/12 277/16 277/16 277/56 277 / 56 333/40 333/40 339/06 339/06 339/08 339/08 341/00 341/00 C08F 20/38 C08F 20/38 22/24 22/24 C08J 5/00 CEY C08J 5/00 CEY G02B 1/04 G02B 1/04 6/00 391 6/00 391 G02C 7/02 G02C 7/02 // C08L 33:14 C08L 33:14 (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 2000-24152 (P2000-24152) (32) Priority date February 1, 2000 (2000.2.1) (33) Priority claiming country Japan (JP) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 2000-45348 (P2000-45348) (32) ) Priority date February 23, 2000 (Feb. 23, 2000) (33) Countries claiming priority Japan (JP) (72) Akiya Atsushi Atsushi 580-32 Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba Prefecture Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Kenichi Fujii 580-32, Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba Mitsui Chemicals Inc. Address 32 Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Masatoshi Takagi 580, Nagaura, Sodegaura-shi, Chiba Prefecture Mitsui Chemicals, Inc. Inventor Keisuke Takuma 580-32 Nagaura, Sodegaura City, Chiba Prefecture Mitsui Chemicals Co., Ltd. AL66P AL82P AL83P AL87P BA02P BA05P BA15P BA41P BA51P BA53P BA55P BA58P BB01P BB03P BC04P BC43P BC44P BC45P BC48P BC49P BC83P CA01 CA04 CA05 CA06 DA42 JA32 JA33

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 硫黄原子を含有する置換基および少なく
とも2つ以上の、2級又は3級炭素原子に結合した酸素
原子を介したα,β−不飽和カルボン酸残基を有する含
硫不飽和カルボン酸エステル化合物。
1. Sulfur-containing unsaturated compounds having an α, β-unsaturated carboxylic acid residue via a sulfur-containing substituent and at least two oxygen atoms bonded to secondary or tertiary carbon atoms. Carboxylic acid ester compounds.
【請求項2】 下記一般式(1)で表される請求項1の
含硫不飽和カルボン酸エステル化合物。 【化1】 [式中、R11は二価の有機基を表し、X11はそれぞれ独
立に酸素原子、硫黄原子、−COO−基または−(CH
2l12−基(X12は酸素原子または硫黄原子を表し、
lは1〜3の整数を表す)を表し、R12はそれぞれ独立
に水素原子またはアルキル基を表し、R13はそれぞれ独
立に硫黄原子を含有する置換基を表し、R 14はそれぞれ
独立にα,β−不飽和カルボン酸残基を表す]
2. The method according to claim 1, which is represented by the following general formula (1).
Sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compounds. Embedded image[Wherein, R11Represents a divalent organic group, and X11Is German
First, an oxygen atom, a sulfur atom, a -COO- group or-(CH
Two)lX12-Group (X12Represents an oxygen atom or a sulfur atom,
l represents an integer of 1 to 3);12Are independent
Represents a hydrogen atom or an alkyl group;13Is German
Stands for a substituent containing a sulfur atom; 14Are each
Independently represents an α, β-unsaturated carboxylic acid residue]
【請求項3】 下記一般式(2)で表される含硫ジヒド
ロキシ化合物とα,β−不飽和カルボン酸誘導体との反
応により得られる請求項2の含硫不飽和カルボン酸エス
テル化合物。 【化2】 [式中、R11は二価の有機基を表し、X11はそれぞれ独
立に酸素原子、硫黄原子、−COO−基または−(CH
2l12−基(X12は酸素原子または硫黄原子を表
し、lは1〜3の整数を表す)を表し、R12はそれぞれ
独立に水素原子またはアルキル基を表し、R13はそれぞ
れ独立に硫黄原子を含有する置換基を表す]
3. The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound according to claim 2, which is obtained by reacting a sulfur-containing dihydroxy compound represented by the following general formula (2) with an α, β-unsaturated carboxylic acid derivative. Embedded image [Wherein, R 11 represents a divalent organic group, and X 11 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a —COO— group, or — (CH
2 ) 1 X 12 -group (X 12 represents an oxygen atom or a sulfur atom, 1 represents an integer of 1 to 3), R 12 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 13 represents Independently represents a substituent containing a sulfur atom]
【請求項4】 α,β−不飽和カルボン酸残基が、(メ
タ)アクリル酸残基、クロトン酸残基、チグリン酸残
基、3,3−ジメチルアクリル酸残基、マレイン酸残
基、シトラコン酸残基、2,3−ジメチルマレイン酸残
基、イタコン酸残基またはケイ皮酸残基である請求項2
の含硫不飽和カルボン酸エステル化合物。
4. An α, β-unsaturated carboxylic acid residue comprising a (meth) acrylic acid residue, a crotonic acid residue, a tiglic acid residue, a 3,3-dimethylacrylic acid residue, a maleic acid residue, 3. A citraconic acid residue, a 2,3-dimethylmaleic acid residue, an itaconic acid residue or a cinnamic acid residue.
And a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound.
【請求項5】 二価の有機基R11が、下記式(3−
a)、(4−a)、(5−a)または式(6−a)で表
されるいずれかの基である請求項2の含硫不飽和カルボ
ン酸エステル化合物。 【化3】 (式中、R31、R32、R33、R34はそれぞれ水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原
子を表す) 【化4】 〔式中、Y41は単結合、−C(R41)2−基(R41はそれ
ぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す)、−O−
基、−S−基または−SO2−基を表し、R42およびR
43はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、mおよびnはそれ
ぞれ0〜4の整数を表す〕 【化5】 (式中、R51はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル
基を表す) 【化6】 (式中、R61およびR62はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表す)
5. The divalent organic group R 11 is represented by the following formula (3-
3. The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound according to claim 2, which is any group represented by a), (4-a), (5-a) or formula (6-a). Embedded image (Wherein, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each a hydrogen atom,
Represents an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or a halogen atom) Wherein Y 41 is a single bond, a —C (R 41 ) 2 — group (R 41 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group), —O—
Group, -S- group or -SO 2 - represents a group, R 42 and R
43 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylthio group,
Represents a nitro group or a halogen atom, and m and n each represent an integer of 0 to 4]. (In the formula, R 51 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.) (Wherein, R 61 and R 62 each represent a hydrogen atom or an alkyl group)
【請求項6】 硫黄原子を含有する置換基R13が下記式
(7−a)または式(8−a)で表される基である請求
項2の含硫不飽和カルボン酸エステル化合物。 R71−O− (7−a) (式中、R71は、少なくとも1個以上の硫黄原子を含有
する1価の有機基を表す) R81−S− (8−a) (式中、R81は硫黄原子を含有していてもよい1価の有
機基を表す)
6. The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound according to claim 2, wherein the substituent R 13 containing a sulfur atom is a group represented by the following formula (7-a) or (8-a). R 71 —O— (7-a) (wherein, R 71 represents a monovalent organic group containing at least one or more sulfur atoms) R 81 —S— (8-a) (wherein R 81 represents a monovalent organic group which may contain a sulfur atom)
【請求項7】 硫黄原子を含有する置換基R13が下記式
(9−a)で表される基である請求項2の含硫不飽和カ
ルボン酸エステル化合物。 【化7】 (式中、R91およびR92はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表し、互いに結合して環を形成してもよく、X
93は酸素原子または硫黄原子を示し、pは0〜3の整数
を表し、qは1〜4の整数を表す)
7. The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound according to claim 2, wherein the substituent R 13 containing a sulfur atom is a group represented by the following formula (9-a). Embedded image (Wherein, R 91 and R 92 each represent a hydrogen atom or an alkyl group, and may combine with each other to form a ring;
93 represents an oxygen atom or a sulfur atom, p represents an integer of 0 to 3, and q represents an integer of 1 to 4)
【請求項8】 二価の有機基R11が下記式(3−a−
i)で表される基であり、X11が酸素原子、−COO−
基または−(CH2l12−基(X12は酸素原子または
硫黄原子を表し、lは1〜3の整数を表す)であり、R
13が下記式(7−a)または式(8−a)で表される基
であり、R14が(メタ)アクリル酸残基である請求項2
の含硫不飽和カルボン酸エステル化合物。 【化8】 71−O− (7−a) (式中、R71は、少なくとも1個以上の硫黄原子を含有
する1価の有機基を表す) R81−S− (8−a) (式中、R81は硫黄原子を含有していてもよい1価の有
機基を表す)
8. The divalent organic group R 11 represented by the following formula (3-a-
i) wherein X 11 is an oxygen atom, —COO—
A group or — (CH 2 ) l X 12 — group (X 12 represents an oxygen atom or a sulfur atom, 1 represents an integer of 1 to 3);
13 is a group represented by the following formula (7-a) or (8-a), and R 14 is a (meth) acrylic acid residue.
And a sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound. Embedded image R 71 —O— (7-a) (wherein, R 71 represents a monovalent organic group containing at least one or more sulfur atoms) R 81 —S— (8-a) (wherein R 81 represents a monovalent organic group which may contain a sulfur atom)
【請求項9】 二価の有機基R11が下記式(4−a−
i)、式(4−a−ii)又は(4−a−iii)で表される
基であり、X11が酸素原子であり、R13が下記式(7−
a)または式(8−a)で表される基であり、R14
(メタ)アクリル酸残基である請求項2の含硫不飽和カ
ルボン酸エステル化合物。 【化9】 (式中、R42およびR43はそれぞれ独立に水素原子又は
メチル基を表す) 【化10】 (式中、R41はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基
を表す) 【化11】 71−O− (7−a) (式中、R71は、少なくとも1個以上の硫黄原子を含有
する1価の有機基を表す) R81−S− (8−a) (式中、R81は硫黄原子を含有していてもよい1価の有
機基を表す)
9. The divalent organic group R 11 has the following formula (4-a-
i), a group represented by the formula (4-a-ii) or (4-a-iii), X 11 is an oxygen atom, and R 13 is a group represented by the following formula (7-
The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound according to claim 2, wherein the compound is a) or a group represented by the formula (8-a), and R 14 is a (meth) acrylic acid residue. Embedded image (In the formula, R 42 and R 43 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.) (In the formula, R 41 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.) R 71 —O— (7-a) (wherein, R 71 represents a monovalent organic group containing at least one or more sulfur atoms) R 81 —S— (8-a) (wherein R 81 represents a monovalent organic group which may contain a sulfur atom)
【請求項10】 二価の有機基R11が下記式(5−a−
i)で表される基であり、X11が酸素原子であり、R13
が下記式(7−a)または式(8−a)で表される基で
あり、R14が(メタ)アクリル酸残基である請求項2の
含硫不飽和カルボン酸エステル化合物。 【化12】 (式中、R51はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル
基を表す) R71−O− (7−a) (式中、R71は、少なくとも1個以上の硫黄原子を含有
する1価の有機基を表す) R81−S− (8−a) (式中、R81は硫黄原子を含有していてもよい1価の有
機基を表す)
10. The divalent organic group R 11 represented by the following formula (5-a-
a group represented by i), X 11 is an oxygen atom, R 13
Is a group represented by the following formula (7-a) or formula (8-a), and R 14 is a (meth) acrylic acid residue. Embedded image (Wherein, R 51 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group) R 71 —O— (7-a) (wherein, R 71 is a monovalent organic compound containing at least one or more sulfur atoms) R 81 -S- (8-a) (in the formula, R 81 represents a monovalent organic group which may contain a sulfur atom)
【請求項11】 二価の有機基R11が下記式(6−a−
i)で表される基であり、X11が酸素原子または−CO
O−基であり、R13が下記式(7−a)または式(8−
a)で表される基であり、R14が(メタ)アクリル酸残
基である請求項2の含硫不飽和カルボン酸エステル化合
物。 【化13】 71−O− (7−a) (式中、R71は、少なくとも1個以上の硫黄原子を含有
する1価の有機基を表す) R81−S− (8−a) (式中、R81は硫黄原子を含有していてもよい1価の有
機基を表す)
11. A divalent organic group R 11 represented by the following formula (6-a-
i) wherein X 11 is an oxygen atom or —CO
An O- group, wherein R 13 is a group represented by the following formula (7-a) or (8-
3. The sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound according to claim 2, wherein R 14 is a (meth) acrylic acid residue. Embedded image R 71 —O— (7-a) (wherein, R 71 represents a monovalent organic group containing at least one or more sulfur atoms) R 81 —S— (8-a) (wherein R 81 represents a monovalent organic group which may contain a sulfur atom)
【請求項12】 請求項1乃至11のいずれか1項に記
載の含硫不飽和カルボン酸エステル化合物を含有する重
合性組成物。
12. A polymerizable composition containing the sulfur-containing unsaturated carboxylic acid ester compound according to claim 1. Description:
【請求項13】 請求項12の重合性組成物を重合して
得られる硬化物。
13. A cured product obtained by polymerizing the polymerizable composition according to claim 12.
【請求項14】 請求項13の硬化物からなる光学部品14. An optical component comprising the cured product according to claim 13. 【請求項15】 下記一般式(2)で表されるヒドロキ
シ化合物。 【化14】 [式中、R11は二価の有機基を表し、X11はそれぞれ独
立に酸素原子、硫黄原子、−COO−基または−(CH
2l12−基(X12は酸素原子または硫黄原子を表
し、lは1〜3の整数を表す)を表し、R12はそれぞれ
独立に水素原子またはアルキル基を表し、R13はそれぞ
れ独立に硫黄原子を含有する置換基を表す]
15. A hydroxy compound represented by the following general formula (2). Embedded image [Wherein, R 11 represents a divalent organic group, and X 11 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a —COO— group, or — (CH
2 ) 1 X 12 -group (X 12 represents an oxygen atom or a sulfur atom, 1 represents an integer of 1 to 3), R 12 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 13 represents Independently represents a substituent containing a sulfur atom]
【請求項16】 二価の有機基R11が、下記式(3−
a)、(4−a)、(5−a)または式(6−a)で表
される基である請求項15のヒドロキシ化合物。 【化15】 (式中、R31、R32、R33、R34はそれぞれ水素原子、
アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲン原
子を表す) 【化16】 〔式中、Y41は単結合、−C(R41)2−基(R41はそれ
ぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す)、−O−
基、−S−基または−SO2−基を表し、R42およびR
43はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アラル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、
ニトロ基またはハロゲン原子を表し、mおよびnはそれ
ぞれ0〜4の整数を表す〕 【化17】 (式中、R51はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル
基を表す) 【化18】 (式中、R61およびR62はそれぞれ水素原子またはアル
キル基を表す)
16. The divalent organic group R 11 is represented by the following formula (3-
The hydroxy compound according to claim 15, which is a group represented by a), (4-a), (5-a) or formula (6-a). Embedded image (Wherein, R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each a hydrogen atom,
Represents an alkyl group, an alkoxy group, a nitro group or a halogen atom) Wherein Y 41 is a single bond, a —C (R 41 ) 2 — group (R 41 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group), —O—
Group, -S- group or -SO 2 - represents a group, R 42 and R
43 each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylthio group,
Represents a nitro group or a halogen atom, and m and n each represent an integer of 0 to 4]. (In the formula, R 51 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.) (Wherein, R 61 and R 62 each represent a hydrogen atom or an alkyl group)
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