JP2001348477A - 高屈折率材料組成物 - Google Patents
高屈折率材料組成物Info
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 １．７０を越える高い屈折率を有し、耐熱性
に優れ、ガラス転移温度が２００℃以上の高屈折率材料
組成物を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ）の繰り返し単位構造を有す
る高分子量化合物１００重量部と平均粒子直径１〜１０
０ｎｍの無機微粒子１〜４００重量部とから成る屈折率
１．７０以上２．５０以下でガラス転移温度が２００℃
以上の高屈折率材料組成物。 【化１】
に優れ、ガラス転移温度が２００℃以上の高屈折率材料
組成物を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ）の繰り返し単位構造を有す
る高分子量化合物１００重量部と平均粒子直径１〜１０
０ｎｍの無機微粒子１〜４００重量部とから成る屈折率
１．７０以上２．５０以下でガラス転移温度が２００℃
以上の高屈折率材料組成物。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高屈折率を有し、
詳しくは光学レンズ、反射防止膜などに好適に利用し得
る高屈折率材料組成物に関する。
詳しくは光学レンズ、反射防止膜などに好適に利用し得
る高屈折率材料組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック光学材料は、無機材料に比
べて軽量で割れにくく、加工が容易であるため、近年、
眼鏡レンズ、カメラレンズなどの光学素子として急速に
普及してきている。
べて軽量で割れにくく、加工が容易であるため、近年、
眼鏡レンズ、カメラレンズなどの光学素子として急速に
普及してきている。
【０００３】これらの目的に現在広く用いられている樹
脂としては、例えば、特開昭61-28513号公報に開示され
ているように、ジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートをラジカル重合させたものがある。この樹脂は、
耐熱性、高屈折性、低収縮性、離型性に優れているとさ
れている。しかしながらこの樹脂の屈折率は１．５１〜
１．５３と小さく、さらには、上記樹脂はガラス転移温
度が８７℃と低く、レーザープリンター用のレンズ等
の、高温（１５０℃以上）にさらされる用途には耐熱性
の不足の為に適用できないといった欠点も有していた。
脂としては、例えば、特開昭61-28513号公報に開示され
ているように、ジエチレングリコールビスアリルカーボ
ネートをラジカル重合させたものがある。この樹脂は、
耐熱性、高屈折性、低収縮性、離型性に優れているとさ
れている。しかしながらこの樹脂の屈折率は１．５１〜
１．５３と小さく、さらには、上記樹脂はガラス転移温
度が８７℃と低く、レーザープリンター用のレンズ等
の、高温（１５０℃以上）にさらされる用途には耐熱性
の不足の為に適用できないといった欠点も有していた。
【０００４】一方、光学多層膜（選択反射膜、選択透過
膜等）として利用するにはさらに高い屈折率（例えば、
１．７０以上の屈折率）が要求されるが、このような高
屈折率を有するプラスチック材料は少なく、また高屈折
率材料は一般に、透明性や接着の問題を有しており、実
用には適さないと言う問題点を有していた。
膜等）として利用するにはさらに高い屈折率（例えば、
１．７０以上の屈折率）が要求されるが、このような高
屈折率を有するプラスチック材料は少なく、また高屈折
率材料は一般に、透明性や接着の問題を有しており、実
用には適さないと言う問題点を有していた。
【０００５】このため、現在利用されている光学多層膜
は無機材料の蒸着で作成されており、大面積の蒸着が難
しく、かつ高コストになるため、潜在的な市場要求はあ
るものの、汎用的に利用されるには至っていない。その
ため、簡便な塗工法によって塗膜を形成し得るプラスチ
ック高屈折率材料に対する要求が高まっていた。
は無機材料の蒸着で作成されており、大面積の蒸着が難
しく、かつ高コストになるため、潜在的な市場要求はあ
るものの、汎用的に利用されるには至っていない。その
ため、簡便な塗工法によって塗膜を形成し得るプラスチ
ック高屈折率材料に対する要求が高まっていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の課
題を解決するものであり、その目的とするところは、
１．７０以上の高い屈折率を有し、かつ耐熱性に優れ、
ガラス転移温度が２００℃以上である高屈折率材料組成
物を提供することにある。
題を解決するものであり、その目的とするところは、
１．７０以上の高い屈折率を有し、かつ耐熱性に優れ、
ガラス転移温度が２００℃以上である高屈折率材料組成
物を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記問題点
を解決するために、鋭意検討をおこなった結果、特定の
構造を有するポリイミド類１００重量部と平均粒子直径
が１〜１００ｎｍの無機微粒子１〜４００重量部から成
る樹脂組成物が透明でしかも屈折率１．７０以上２．５
０以下の高い屈折率を与え、なおかつ２００℃以上のガ
ラス転移温度を有していることを見出し本発明を完成す
るに至った。
を解決するために、鋭意検討をおこなった結果、特定の
構造を有するポリイミド類１００重量部と平均粒子直径
が１〜１００ｎｍの無機微粒子１〜４００重量部から成
る樹脂組成物が透明でしかも屈折率１．７０以上２．５
０以下の高い屈折率を与え、なおかつ２００℃以上のガ
ラス転移温度を有していることを見出し本発明を完成す
るに至った。
【０００８】すなわち本発明は、一般式（Ｉ）
【０００９】
【化２】
【００１０】で示される繰り返し単位構造を有する高分
子量化合物１００重量部と平均粒子直径が１〜１００ｎ
ｍの無機微粒子１〜４００重量部とから成る屈折率１．
７０以上２．５０以下でガラス転移温度が２００℃以上
である高屈折率材料組成物を提供するものである。
子量化合物１００重量部と平均粒子直径が１〜１００ｎ
ｍの無機微粒子１〜４００重量部とから成る屈折率１．
７０以上２．５０以下でガラス転移温度が２００℃以上
である高屈折率材料組成物を提供するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の高屈折材料組成物を構成
する一般式（Ｉ）で表されるの繰り返し単位構造を有す
る高分子量化合物であるポリイミドは、例えば次の一般
式（II）、
する一般式（Ｉ）で表されるの繰り返し単位構造を有す
る高分子量化合物であるポリイミドは、例えば次の一般
式（II）、
【００１２】
【化３】
【００１３】で表されるビフェニルテトラカルボン酸二
無水物と、一般式（III）、
無水物と、一般式（III）、
【００１４】
【化４】
【００１５】で表される芳香族ジアミン化合物との反応
によって得られる。
によって得られる。
【００１６】上記ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
としては、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物、2,3,3',4-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
が挙げられる。これらビフェニルテトラカルボン酸二無
水物はそれぞれ単独で用いてもよいし、適宜組み合わせ
て用いてもよい。また、芳香族ジアミン化合物として
は、3,3'-ジアミノジフェニルエーテル、3,3'-ジアミノ
ジフェニルスルホン、1,3-ビス（3-アミノフェノキシ）
ベンゼン、2,4-ビス（3-アミノフェノキシ）トリフルオ
リド、2,6-ビス（3-アミノフェノキシ）ベンゾニトリ
ル、1,3-ビス（3-アミノフェノキシ）-5-クロロベンゼ
ン、4,4'-ビス（3-アミノフェノキシ）ジフェニルスル
ホンが挙げられる。これら芳香族ジアミン化合物はそれ
ぞれ単独で用いてもよいし、適宜組み合わせて用いても
よい。
としては、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物、2,3,3',4-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
が挙げられる。これらビフェニルテトラカルボン酸二無
水物はそれぞれ単独で用いてもよいし、適宜組み合わせ
て用いてもよい。また、芳香族ジアミン化合物として
は、3,3'-ジアミノジフェニルエーテル、3,3'-ジアミノ
ジフェニルスルホン、1,3-ビス（3-アミノフェノキシ）
ベンゼン、2,4-ビス（3-アミノフェノキシ）トリフルオ
リド、2,6-ビス（3-アミノフェノキシ）ベンゾニトリ
ル、1,3-ビス（3-アミノフェノキシ）-5-クロロベンゼ
ン、4,4'-ビス（3-アミノフェノキシ）ジフェニルスル
ホンが挙げられる。これら芳香族ジアミン化合物はそれ
ぞれ単独で用いてもよいし、適宜組み合わせて用いても
よい。
【００１７】上記のようなビフェニルテトラカルボン酸
二無水物と芳香族ジアミン化合物とを組み合わせること
により、初めて前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単
位構造を有するポリイミドが得られる。上記一般式
（Ｉ）で表される繰り返し単位構造の比率が８０モル％
以上含有されていれば、本発明における高屈折率材料組
成物に用いることができる高分子化合物としての性能が
確保されるので、その範囲内において、上記ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物以外のその他の芳香族テトラ
カルボン酸二無水物および上記記載の芳香族ジアミン以
外のその他の芳香族テジアミン化合物を併用することも
できる。しかし上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単
位構造の好ましい含有量は８０モル％以上であり、最も
好ましい範囲は９５モル％以上である。
二無水物と芳香族ジアミン化合物とを組み合わせること
により、初めて前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単
位構造を有するポリイミドが得られる。上記一般式
（Ｉ）で表される繰り返し単位構造の比率が８０モル％
以上含有されていれば、本発明における高屈折率材料組
成物に用いることができる高分子化合物としての性能が
確保されるので、その範囲内において、上記ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物以外のその他の芳香族テトラ
カルボン酸二無水物および上記記載の芳香族ジアミン以
外のその他の芳香族テジアミン化合物を併用することも
できる。しかし上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単
位構造の好ましい含有量は８０モル％以上であり、最も
好ましい範囲は９５モル％以上である。
【００１８】上記その他の芳香族テトラカルボン酸二無
水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'-ジ
フェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3'4,4'
-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4'-オキ
シジフタル酸二無水物、4,4'-ビス（3,4-ジカルボキシ
フェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、2,2-ビス
(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二
無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙
げられ、これら単独または併せて用いることができる。
水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3',4,4'-ジ
フェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3,3'4,4'
-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4'-オキ
シジフタル酸二無水物、4,4'-ビス（3,4-ジカルボキシ
フェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、2,2-ビス
(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二
無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙
げられ、これら単独または併せて用いることができる。
【００１９】また、その他のジアミン化合物としては、
4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3,4'-ジアミノジェ
フェニルエーテル、4,4'-ジアミノジフェニルスルホ
ン、4,4'-ジアミノジフェニルメタン、4,4'-ジアミノベ
ンゾフェノン、3,4'-ジアミノベンゾフェノン、3,3'-ジ
アミノベンゾフェノン、4,4'-ジアミノジフェニルプロ
パン、p-フェニレンジアミン、4,4'-ジアミノジフェニ
ルスルフィド、3,3'-ジメトキシ-4,4'-ジアミノジフェ
ニルメタン、3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノジフェニル
メタン、2,2-ビス［4-（4-アミノフェノキシ）フェニ
ル］プロパン、2,2-ビス[4-（3-アミノフェノキシ）フ
ェニル]プロパン、1,4-ビス（3-アミノフェノキシ）ビ
フェニル、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]
-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(3
-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフル
オロプロパン等が挙げられ、単独で、もしくは併せて用
いることができる。
4,4'-ジアミノジフェニルエーテル、3,4'-ジアミノジェ
フェニルエーテル、4,4'-ジアミノジフェニルスルホ
ン、4,4'-ジアミノジフェニルメタン、4,4'-ジアミノベ
ンゾフェノン、3,4'-ジアミノベンゾフェノン、3,3'-ジ
アミノベンゾフェノン、4,4'-ジアミノジフェニルプロ
パン、p-フェニレンジアミン、4,4'-ジアミノジフェニ
ルスルフィド、3,3'-ジメトキシ-4,4'-ジアミノジフェ
ニルメタン、3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノジフェニル
メタン、2,2-ビス［4-（4-アミノフェノキシ）フェニ
ル］プロパン、2,2-ビス[4-（3-アミノフェノキシ）フ
ェニル]プロパン、1,4-ビス（3-アミノフェノキシ）ビ
フェニル、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]
-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(3
-アミノフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフル
オロプロパン等が挙げられ、単独で、もしくは併せて用
いることができる。
【００２０】本発明の高屈折材料組成物は、一般式
（Ｉ）の繰り返し単位構造を有する高分子量化合物と平
均粒子直径が１〜１００ｎｍの無機微粒子とから実質的
に構成されるが、その構成比率は、一般式で示される繰
り返し単位構造を有する高分子化合物１００重量部に対
して無機微粒子１〜４００重量部、好ましくは１〜１０
０重量部である。無機微粒子の含有量が１重量部未満の
場合は1.70以上の屈折率を有する高屈折率材料は得られ
ず、また４００重量部を越える場合は樹脂組成物の成形
加工性や、得られた成型物の透明性が損なわれる原因と
なる。また用いる無機微粒子の平均粒子直径が１ｎｍ未
満の場合、無機微粒子の凝集等により、組成物中に無機
微粒子が均一に分散することが困難であり、屈折率の不
均一性を招き、光学材料として利用することができな
い。また用いる無機微粒子の平均粒子直径が１００ｎｍ
を越える場合、光線透過率の低下を招き光学材料として
利用することができない。
（Ｉ）の繰り返し単位構造を有する高分子量化合物と平
均粒子直径が１〜１００ｎｍの無機微粒子とから実質的
に構成されるが、その構成比率は、一般式で示される繰
り返し単位構造を有する高分子化合物１００重量部に対
して無機微粒子１〜４００重量部、好ましくは１〜１０
０重量部である。無機微粒子の含有量が１重量部未満の
場合は1.70以上の屈折率を有する高屈折率材料は得られ
ず、また４００重量部を越える場合は樹脂組成物の成形
加工性や、得られた成型物の透明性が損なわれる原因と
なる。また用いる無機微粒子の平均粒子直径が１ｎｍ未
満の場合、無機微粒子の凝集等により、組成物中に無機
微粒子が均一に分散することが困難であり、屈折率の不
均一性を招き、光学材料として利用することができな
い。また用いる無機微粒子の平均粒子直径が１００ｎｍ
を越える場合、光線透過率の低下を招き光学材料として
利用することができない。
【００２１】本発明により屈折率１．７０以上２．５０
以下の溶融成形可能な高屈折率材料組成物が得られる
が、溶融流動性や成形物の透明性を考慮すると、屈折率
１．７０以上２．２０以下であることが好ましい。
以下の溶融成形可能な高屈折率材料組成物が得られる
が、溶融流動性や成形物の透明性を考慮すると、屈折率
１．７０以上２．２０以下であることが好ましい。
【００２２】本発明の高屈折率材料組成物に用いる高分
子量化合物は式（Ｉ）で表されるポリイミドの形態また
は下式（IV）
子量化合物は式（Ｉ）で表されるポリイミドの形態また
は下式（IV）
【００２３】
【化５】
【００２４】で表されるポリイミドの前駆体であるポリ
アミド酸の形態で用いることができる。ポリイミドの前
駆体であるポリアミド酸は上記の芳香族テトラカルボン
酸二無水物と芳香族ジアミノ化合物を重合させて得るこ
とができる。このポリアミド酸の生成反応は通常、有機
溶媒中で実施する。この反応に用いることのできる有機
溶媒として、例えばN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジ
メチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-
ジメチルメトキシアセトアミド、N-メチル-2-ピロリド
ン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチルカプ
ロラクタム、1,2-ジメトキシエタン、ビス(2-メトキシ
エチル)エーテル、1,2-ビス（2-メトキシエトキシ）エ
タン、ビス｛2-(2-メトキシエトキシ)エチル｝エーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、1,4-ジオキ
サン、ピリジン、ピコリン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホス
ホルアミド、m-クレゾール、p-クレゾール、クレゾール
酸、p-クロロフェノール、o-クロロフェノール、フェノ
ール、アニソールなどが挙げられる。またこれらの有機
溶媒は単独でも或いは２種以上混合して用いても差し支
えない。反応温度は通常２００℃以下、好ましくは５０
℃以下である。反応圧力は特に限定されず、常圧で充分
実施できる。反応時間は溶剤の種類および反応温度によ
り異なり、通常、下記式（IV）で表されるポリアミド酸
の生成が完了するに充分な時間反応させる。通常４〜24
時間で充分である。このような反応により、下記式（I
V）
アミド酸の形態で用いることができる。ポリイミドの前
駆体であるポリアミド酸は上記の芳香族テトラカルボン
酸二無水物と芳香族ジアミノ化合物を重合させて得るこ
とができる。このポリアミド酸の生成反応は通常、有機
溶媒中で実施する。この反応に用いることのできる有機
溶媒として、例えばN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジ
メチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミド、N,N-
ジメチルメトキシアセトアミド、N-メチル-2-ピロリド
ン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N-メチルカプ
ロラクタム、1,2-ジメトキシエタン、ビス(2-メトキシ
エチル)エーテル、1,2-ビス（2-メトキシエトキシ）エ
タン、ビス｛2-(2-メトキシエトキシ)エチル｝エーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキサン、1,4-ジオキ
サン、ピリジン、ピコリン、ジメチルスルホキシド、ジ
メチルスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホス
ホルアミド、m-クレゾール、p-クレゾール、クレゾール
酸、p-クロロフェノール、o-クロロフェノール、フェノ
ール、アニソールなどが挙げられる。またこれらの有機
溶媒は単独でも或いは２種以上混合して用いても差し支
えない。反応温度は通常２００℃以下、好ましくは５０
℃以下である。反応圧力は特に限定されず、常圧で充分
実施できる。反応時間は溶剤の種類および反応温度によ
り異なり、通常、下記式（IV）で表されるポリアミド酸
の生成が完了するに充分な時間反応させる。通常４〜24
時間で充分である。このような反応により、下記式（I
V）
【００２５】
【化６】
【００２６】で表される繰り返し構造単位を有するポリ
アミド酸が得られる。
アミド酸が得られる。
【００２７】本発明における高屈折率材料組成物に用い
ることのできる高分子量化合物であるポリイミドの前駆
体であるポリアミド酸の対数粘度は０．１〜４．０dl/g
であることが必要で、好ましくは０．３〜１．０dl/gで
ある。対数粘度が０．３dl/g未満では、高屈折率材料組
成物を用いて得られる光学材料の機械的強度が充分であ
なく、１．０dl/gを越えると、光学材料としての成形性
や光学多層膜としての塗膜形成性が低下し好ましくな
い。
ることのできる高分子量化合物であるポリイミドの前駆
体であるポリアミド酸の対数粘度は０．１〜４．０dl/g
であることが必要で、好ましくは０．３〜１．０dl/gで
ある。対数粘度が０．３dl/g未満では、高屈折率材料組
成物を用いて得られる光学材料の機械的強度が充分であ
なく、１．０dl/gを越えると、光学材料としての成形性
や光学多層膜としての塗膜形成性が低下し好ましくな
い。
【００２８】さらに得られたポリアミド酸を１００〜４
００℃に加熱してイミド化するか、または無水酢酸など
のイミド化剤を用いて化学イミド化することにより下記
式（Ｉ）
００℃に加熱してイミド化するか、または無水酢酸など
のイミド化剤を用いて化学イミド化することにより下記
式（Ｉ）
【００２９】
【化７】
【００３０】の繰り返し単位構造を有するポリイミドが
得られる。
得られる。
【００３１】また上記芳香族テトラカルボン酸二無水物
と芳香族ジアミン化合物とを有機溶媒中に懸濁または溶
解させた後加熱し、ポリイミドの前駆体であるポリアミ
ド酸の生成と脱水イミド化とを同時に行うことにより上
記式（Ｉ）の繰り返し単位を有するポリイミドを得るこ
とも可能である。このイミド化を伴う重合反応において
重合温度は通常８０〜４００℃の範囲であり、好ましく
は１００〜３５０℃の範囲で実施される。上記の温度範
囲より反応温度が低い場合には、目的とする重合反応は
実用に耐えうる速度で進行せず、必要とする分子量の高
分子量化合物を得ることが困難である。一方、上記の範
囲より反応温度が高い場合は、目的とする重合反応以外
の副反応が無視できなくなり、得られる高分子量化合物
の着色が著しくなったり、溶融成形性が大きく損なわれ
たりする。重合反応に要する時間は反応原料成分の種類
等により変化するが通常１０分〜１００時間の範囲であ
り、好ましくは１時間〜２４時間の範囲で実施される。
該高分子量化合物の製造において、反応を行う際の雰囲
気としては、酸素が存在しないことが好ましく、窒素等
の不活性ガス中で行うと良い結果が得られる。これは、
芳香族ジアミンのアミノ基が、酸素の存在下で加熱され
ると酸化されやすく、目的とする重合反応が妨げられて
高分子量化が困難になったり、生成高分子量化合物の着
色の原因ともなるからである。したがって、高分子量化
合物を生成する際に着色を抑える目的で還元剤等を併用
することもできる。
と芳香族ジアミン化合物とを有機溶媒中に懸濁または溶
解させた後加熱し、ポリイミドの前駆体であるポリアミ
ド酸の生成と脱水イミド化とを同時に行うことにより上
記式（Ｉ）の繰り返し単位を有するポリイミドを得るこ
とも可能である。このイミド化を伴う重合反応において
重合温度は通常８０〜４００℃の範囲であり、好ましく
は１００〜３５０℃の範囲で実施される。上記の温度範
囲より反応温度が低い場合には、目的とする重合反応は
実用に耐えうる速度で進行せず、必要とする分子量の高
分子量化合物を得ることが困難である。一方、上記の範
囲より反応温度が高い場合は、目的とする重合反応以外
の副反応が無視できなくなり、得られる高分子量化合物
の着色が著しくなったり、溶融成形性が大きく損なわれ
たりする。重合反応に要する時間は反応原料成分の種類
等により変化するが通常１０分〜１００時間の範囲であ
り、好ましくは１時間〜２４時間の範囲で実施される。
該高分子量化合物の製造において、反応を行う際の雰囲
気としては、酸素が存在しないことが好ましく、窒素等
の不活性ガス中で行うと良い結果が得られる。これは、
芳香族ジアミンのアミノ基が、酸素の存在下で加熱され
ると酸化されやすく、目的とする重合反応が妨げられて
高分子量化が困難になったり、生成高分子量化合物の着
色の原因ともなるからである。したがって、高分子量化
合物を生成する際に着色を抑える目的で還元剤等を併用
することもできる。
【００３２】すなわち、従来公知の手法を用いてフィル
ム状もしくは粉体状の繰り返し単位構造を有するポリイ
ミドを得ることができる。
ム状もしくは粉体状の繰り返し単位構造を有するポリイ
ミドを得ることができる。
【００３３】本発明に用いられる無機微粒子の種類とし
ては、ＴｉＯ2やＺｎＯ、ＣｄＯ、ＰｂＯ、ＳｉＯ2、Ｓ
ｂ2Ｏ5等の酸化物微粒子、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＺｎＳ
ｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＰｄＳ、Ｓ
ｂＳｅ等の硫化物、セレン化物、テルル化物微粒子等が
挙げられる。
ては、ＴｉＯ2やＺｎＯ、ＣｄＯ、ＰｂＯ、ＳｉＯ2、Ｓ
ｂ2Ｏ5等の酸化物微粒子、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＺｎＳ
ｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＰｄＳ、Ｓ
ｂＳｅ等の硫化物、セレン化物、テルル化物微粒子等が
挙げられる。
【００３４】本発明の高屈折率材料組成物に用いる平均
粒子直径が１〜１００ｎｍの無機微粒子はそれぞれの化
合物について種々製造法があるが、たとえば、ＴｉＯ2
の場合、ジャーナル・オブ・ケミカルエンジニアリング
・オブ・ジャパン第１巻１号２１−２８頁（１９９８
年）や、ＺｎＳの場合は、ジャーナル・オブ・フィジカ
ルケミストリー第１００巻４６８−４７１頁（１９９６
年）に記載された公知の方法を用いることができる。
粒子直径が１〜１００ｎｍの無機微粒子はそれぞれの化
合物について種々製造法があるが、たとえば、ＴｉＯ2
の場合、ジャーナル・オブ・ケミカルエンジニアリング
・オブ・ジャパン第１巻１号２１−２８頁（１９９８
年）や、ＺｎＳの場合は、ジャーナル・オブ・フィジカ
ルケミストリー第１００巻４６８−４７１頁（１９９６
年）に記載された公知の方法を用いることができる。
【００３５】たとえば、これらの方法に従えば、平均粒
子直径５ｎｍの酸化チタンはtitanium tetraisopropox
ide や titanium tetrachrorideを原料として、適当
な溶媒中で加水分解させる際に適当な表面修飾剤を添加
することにより容易に製造することができる。また平均
粒子直径４０ｎｍの硫化亜鉛はdimethyl zincや zinc
perchlorate を原料とし、硫化水素あるいは硫化ナ
トリウムなどで硫化する際に、表面修飾剤を添加するこ
とにより製造することができる。
子直径５ｎｍの酸化チタンはtitanium tetraisopropox
ide や titanium tetrachrorideを原料として、適当
な溶媒中で加水分解させる際に適当な表面修飾剤を添加
することにより容易に製造することができる。また平均
粒子直径４０ｎｍの硫化亜鉛はdimethyl zincや zinc
perchlorate を原料とし、硫化水素あるいは硫化ナ
トリウムなどで硫化する際に、表面修飾剤を添加するこ
とにより製造することができる。
【００３６】本発明の高屈折率材料組成物は下式（Ｉ）
【００３７】
【化８】
【００３８】で表される高分子量化合物中に平均粒子直
径が１〜１００ｎｍの無機微粒子を分散させることによ
り得られる。無機微粒子の分散方法としては、溶融し
た高分子量化合物に無機微粒子を混練する。高分子量
化合物が溶解した溶液に無機微粒子を分散させた後、溶
媒を除去する。高分子量化合物に化学結合させる。等
の方法があるが、いずれの方法も有効である。
径が１〜１００ｎｍの無機微粒子を分散させることによ
り得られる。無機微粒子の分散方法としては、溶融し
た高分子量化合物に無機微粒子を混練する。高分子量
化合物が溶解した溶液に無機微粒子を分散させた後、溶
媒を除去する。高分子量化合物に化学結合させる。等
の方法があるが、いずれの方法も有効である。
【００３９】本発明における高屈折率材料組成物を用い
て眼鏡レンズ、光学レンズさらには光学素子等を得る方
法としては、例えば、該高屈折率材料組成物を射出成
形、押し出し成形、熱プレス成形等の溶融成形法や、高
屈折率材料組成物をジメチルホルムアミド等の溶媒に溶
解した後、その溶液をキャスト法によりフィルムなどに
成形する方法が挙げられる。
て眼鏡レンズ、光学レンズさらには光学素子等を得る方
法としては、例えば、該高屈折率材料組成物を射出成
形、押し出し成形、熱プレス成形等の溶融成形法や、高
屈折率材料組成物をジメチルホルムアミド等の溶媒に溶
解した後、その溶液をキャスト法によりフィルムなどに
成形する方法が挙げられる。
【００４０】
【実施例】次に合成例、実施例、比較例により本発明を
更に説明する。
更に説明する。
【００４１】＜合成例１＞攪拌機、還流冷却器、温度計
および窒素導入管を備えた反応器に、3,3'-ジアミノジ
フェニルエーテル20.02g（０．１０モル）、3,3',4,4'-
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物29.11g（０．０９
９モル）、無水フタル酸0.296g（０．００２モル）とN,
N-ジメチルアセトアミド280gを装入し、室温で窒素雰囲
気下において約１２時間攪拌した。かくして得られたポ
リアミド酸溶液を0.5g/dlの濃度になるようにN,N-ジメ
チルアセトアミドで希釈し、３５℃において対数粘度η
を測定したところ0.97dl/gであった。このポリアミド酸
溶液の一部を取り、ガラス板上にキャストした後、１０
０℃、２５０℃で各々２時間加熱してポリイミドフィル
ムを得た。このポリイミドフィルムのガラス転移温度Tg
をＤＳＣ（島津ＤＴ−４０シリーズ、DSC-41M）を用い
て測定したところ２４０℃であった。
および窒素導入管を備えた反応器に、3,3'-ジアミノジ
フェニルエーテル20.02g（０．１０モル）、3,3',4,4'-
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物29.11g（０．０９
９モル）、無水フタル酸0.296g（０．００２モル）とN,
N-ジメチルアセトアミド280gを装入し、室温で窒素雰囲
気下において約１２時間攪拌した。かくして得られたポ
リアミド酸溶液を0.5g/dlの濃度になるようにN,N-ジメ
チルアセトアミドで希釈し、３５℃において対数粘度η
を測定したところ0.97dl/gであった。このポリアミド酸
溶液の一部を取り、ガラス板上にキャストした後、１０
０℃、２５０℃で各々２時間加熱してポリイミドフィル
ムを得た。このポリイミドフィルムのガラス転移温度Tg
をＤＳＣ（島津ＤＴ−４０シリーズ、DSC-41M）を用い
て測定したところ２４０℃であった。
【００４２】＜合成例２＞合成例１における3,3'-ジア
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を3,3'
-ジアミノジフェニルスルホン24.83g（０．１０モル）
に変更した以外は合成例１と同様にしてポリアミド酸を
得た。得られたポリアミド酸の対数粘度ηは0.59dl/gで
あった。また合成例１と同様にして測定したポリイミド
のTgは２７７℃であった。
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を3,3'
-ジアミノジフェニルスルホン24.83g（０．１０モル）
に変更した以外は合成例１と同様にしてポリアミド酸を
得た。得られたポリアミド酸の対数粘度ηは0.59dl/gで
あった。また合成例１と同様にして測定したポリイミド
のTgは２７７℃であった。
【００４３】＜合成例３＞合成例１における3,3'-ジア
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を1,3-
ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン29.23g（０．１
０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミド酸を得
た。得られたポリアミド酸のηは１．００dl/gであっ
た。またこのポリアミド酸から得られたポリイミドのTg
は２００℃であった。
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を1,3-
ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン29.23g（０．１
０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミド酸を得
た。得られたポリアミド酸のηは１．００dl/gであっ
た。またこのポリアミド酸から得られたポリイミドのTg
は２００℃であった。
【００４４】＜合成例４＞合成例１における3,3'-ジア
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を2,4-
ビス（３−アミノフェノキシ）トリフルオリド36.03g
（０．１０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミ
ド酸を得た。得られたポリアミド酸のηは１．０２dl/g
であった。またこのポリアミド酸から得られたポリイミ
ドのTgは２１０℃であった。
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を2,4-
ビス（３−アミノフェノキシ）トリフルオリド36.03g
（０．１０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミ
ド酸を得た。得られたポリアミド酸のηは１．０２dl/g
であった。またこのポリアミド酸から得られたポリイミ
ドのTgは２１０℃であった。
【００４５】＜合成例５＞合成例１における3,3'-ジア
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を2,6-
ビス（3-アミノフェノキシ）ベンゾニトリル31.74g
（０．１０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミ
ド酸を得た。得られたポリアミド酸のηは1.55dl/gであ
った。またこのポリアミド酸から得られたポリイミドの
Tgは２４２℃であった。
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を2,6-
ビス（3-アミノフェノキシ）ベンゾニトリル31.74g
（０．１０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミ
ド酸を得た。得られたポリアミド酸のηは1.55dl/gであ
った。またこのポリアミド酸から得られたポリイミドの
Tgは２４２℃であった。
【００４６】＜合成例６＞合成例１における3,3'-ジア
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を1,3-
ビス（3-アミノフェノキシ）-5-クロロベンゼン32.68g
（０．１０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミ
ド酸を得た。得られたポリアミド酸のηは0.91dl/gｄで
あった。またこのポリアミド酸から得られたポリイミド
のTgは２０５℃であった。
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を1,3-
ビス（3-アミノフェノキシ）-5-クロロベンゼン32.68g
（０．１０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミ
ド酸を得た。得られたポリアミド酸のηは0.91dl/gｄで
あった。またこのポリアミド酸から得られたポリイミド
のTgは２０５℃であった。
【００４７】＜合成例７＞合成例１における3,3'-ジア
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を4,4'
-ビス（3-アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン43.25g
（０．１０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミ
ド酸を得た。得られたポリアミド酸のηは1.08dl/gであ
った。またこのポリアミド酸から得られたポリイミドの
Tgは２４１℃であった。
ミノジフェニルエーテル20.02g（０．１０モル）を4,4'
-ビス（3-アミノフェノキシ)ジフェニルスルホン43.25g
（０．１０モル）に変更した以外は同様にしてポリアミ
ド酸を得た。得られたポリアミド酸のηは1.08dl/gであ
った。またこのポリアミド酸から得られたポリイミドの
Tgは２４１℃であった。
【００４８】＜合成例８＞攪拌機、環流冷却器、水分離
器、温度計および窒素導入管を備えた容器に2,4-ビス(3
-アミノフェノキシ)トリフルオリド36.03g（０．１０モ
ル）、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
28.81g（０．０９８モル）、無水フタル酸0.594g（０．
００４モル）、ｍ−クレゾール262gを装入し、窒素雰囲
気下において攪拌しながら２０２℃まで加熱昇温した。
この間、約３．５ｃｃの水の流出が確認された。さらに
２０２℃で４時間反応を行った。その後、室温まで冷却
し、約３Ｌのメタノールに排出した後ポリイミド粉を濾
別した。このポリイミド粉をメタノールで洗浄した後、
２００℃窒素雰囲気下で乾燥して６１．２ｇ（収率99.0
%）のポリイミド粉を得た。かくして得られたポリイミ
ドの対数粘度ηは0.67dl/gであった。尚、この対数粘度
は、ポリイミド粉0.50gをp-クロロフェノール／フェノ
ール（重量比９／１）混合溶媒１００ｍｌに加熱溶解し
た後、３５℃において測定した値である。またＤＳＣで
測定したこのポリイミド粉のTgは２０８℃であった。得
られたポリイミド粉をダイグライムに２０重量％の濃度
で溶解させ、通常のスピンコート法により、シリコンウ
エハ上におよそ１０μｍの薄膜が得られた。この薄膜を
用い、プリズムカップリング法により６３３ｎｍにおけ
る屈折率を測定したところ１．６６であった。
器、温度計および窒素導入管を備えた容器に2,4-ビス(3
-アミノフェノキシ)トリフルオリド36.03g（０．１０モ
ル）、3,3',4,4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
28.81g（０．０９８モル）、無水フタル酸0.594g（０．
００４モル）、ｍ−クレゾール262gを装入し、窒素雰囲
気下において攪拌しながら２０２℃まで加熱昇温した。
この間、約３．５ｃｃの水の流出が確認された。さらに
２０２℃で４時間反応を行った。その後、室温まで冷却
し、約３Ｌのメタノールに排出した後ポリイミド粉を濾
別した。このポリイミド粉をメタノールで洗浄した後、
２００℃窒素雰囲気下で乾燥して６１．２ｇ（収率99.0
%）のポリイミド粉を得た。かくして得られたポリイミ
ドの対数粘度ηは0.67dl/gであった。尚、この対数粘度
は、ポリイミド粉0.50gをp-クロロフェノール／フェノ
ール（重量比９／１）混合溶媒１００ｍｌに加熱溶解し
た後、３５℃において測定した値である。またＤＳＣで
測定したこのポリイミド粉のTgは２０８℃であった。得
られたポリイミド粉をダイグライムに２０重量％の濃度
で溶解させ、通常のスピンコート法により、シリコンウ
エハ上におよそ１０μｍの薄膜が得られた。この薄膜を
用い、プリズムカップリング法により６３３ｎｍにおけ
る屈折率を測定したところ１．６６であった。
【００４９】＜合成例９＞Japanese Journal of App
lied Physics、３７巻（１９９８）、４６０３−４６
０８頁に記載の方法によりＴｉＯＣｌ2の９．２ｍｏｌ
／ｌ水溶液を準備する。得られたＴｉＯＣｌ2溶液２ｍ
ｌをイオン交換水１７．４ｍｌに溶解する。この溶液１
０ｍｌをトリデカン酸０．９６ｇと１２アミノドデカン
酸０．１１ｇをエタノール１５０ｍｌとイオン交換水１
００ｍｌに溶解し６０℃に加熱した溶液に加え３０分間
攪拌する。生成したゲル状の沈殿物を遠心分離（４００
０ｒｐｍ、２分間）により取り出し、酢酸エチル１５ｍ
ｌを加え攪拌し再度遠心分離（４０００ｒｐｍ、２分
間）により表面アミノ修飾ＴｉＯ2微粒子の約７重量％
の分散物が得られた。平均粒子径は電子顕微鏡観察の結
果、５ｎｍであった。
lied Physics、３７巻（１９９８）、４６０３−４６
０８頁に記載の方法によりＴｉＯＣｌ2の９．２ｍｏｌ
／ｌ水溶液を準備する。得られたＴｉＯＣｌ2溶液２ｍ
ｌをイオン交換水１７．４ｍｌに溶解する。この溶液１
０ｍｌをトリデカン酸０．９６ｇと１２アミノドデカン
酸０．１１ｇをエタノール１５０ｍｌとイオン交換水１
００ｍｌに溶解し６０℃に加熱した溶液に加え３０分間
攪拌する。生成したゲル状の沈殿物を遠心分離（４００
０ｒｐｍ、２分間）により取り出し、酢酸エチル１５ｍ
ｌを加え攪拌し再度遠心分離（４０００ｒｐｍ、２分
間）により表面アミノ修飾ＴｉＯ2微粒子の約７重量％
の分散物が得られた。平均粒子径は電子顕微鏡観察の結
果、５ｎｍであった。
【００５０】＜合成例１０＞３×１０-4Ｍの過塩素酸亜
鉛六水和物のアルカリ性アセトニトリル溶液１００ｍｌ
にヘリウム希釈の５％硫化水素ガスを通じ、５×１０-4
Ｍのドデカンチオールのアセトニトリル溶液１００ｍｌ
を加えた。これにヘキサン２００ｍｌを添加し、溶媒除
去・乾燥後表面修飾ＺｎＳ（正味ＺｎＳ０．３ｇ）を得
た。赤外スペクトルならびにＸ線回折スペクトルの測定
から表面がドデカンチオールで修飾された硫化亜鉛微粒
子が得られたことが確かめられた。平均粒子径は４０ｎ
ｍであった。
鉛六水和物のアルカリ性アセトニトリル溶液１００ｍｌ
にヘリウム希釈の５％硫化水素ガスを通じ、５×１０-4
Ｍのドデカンチオールのアセトニトリル溶液１００ｍｌ
を加えた。これにヘキサン２００ｍｌを添加し、溶媒除
去・乾燥後表面修飾ＺｎＳ（正味ＺｎＳ０．３ｇ）を得
た。赤外スペクトルならびにＸ線回折スペクトルの測定
から表面がドデカンチオールで修飾された硫化亜鉛微粒
子が得られたことが確かめられた。平均粒子径は４０ｎ
ｍであった。
【００５１】＜実施例１＞合成例９で合成した表面修飾
酸化チタンを酸化チタン正味で１ｇ秤量し２００ｍｌの
ジメチルアセトアミドに溶解させた。この溶液に合成例
１で合成したポリアミド酸（イミド換算正味１ｇ）を混
合し５時間攪拌した。均一溶液になったのを確認後、ロ
ータリーエバポレーターを用いて溶液が10mlになるまで
濃縮した。この溶液を通常のスピンコート法によりシリ
コンウエハ上に塗布した。その後、２００℃で２時間加
熱することにより、シリコンウエハ上におよそ１０μｍ
厚みの薄膜が得られた。この薄膜も用い、プリズムカッ
プリング法により６３３ｎｍにおける屈折率を測定した
ところ１．９０であった。またこの溶液をガラス板上に
塗布し、２００℃で２時間加熱することによりおよそ５
０μｍ厚みのフィルムが得られた。このフィルムは無色
透明であった。このフィルムのガラス転移温度Ｔｇを合
成例１と同様にして測定したところ、２４０℃であっ
た。
酸化チタンを酸化チタン正味で１ｇ秤量し２００ｍｌの
ジメチルアセトアミドに溶解させた。この溶液に合成例
１で合成したポリアミド酸（イミド換算正味１ｇ）を混
合し５時間攪拌した。均一溶液になったのを確認後、ロ
ータリーエバポレーターを用いて溶液が10mlになるまで
濃縮した。この溶液を通常のスピンコート法によりシリ
コンウエハ上に塗布した。その後、２００℃で２時間加
熱することにより、シリコンウエハ上におよそ１０μｍ
厚みの薄膜が得られた。この薄膜も用い、プリズムカッ
プリング法により６３３ｎｍにおける屈折率を測定した
ところ１．９０であった。またこの溶液をガラス板上に
塗布し、２００℃で２時間加熱することによりおよそ５
０μｍ厚みのフィルムが得られた。このフィルムは無色
透明であった。このフィルムのガラス転移温度Ｔｇを合
成例１と同様にして測定したところ、２４０℃であっ
た。
【００５２】＜実施例２＞合成例１０において合成した
表面修飾硫化亜鉛を硫化亜鉛正味で１ｇ秤量し、２００
ｍｌのジメチルアセトアミドに溶解させた。同様に合成
例８で合成したポリイミド１ｇを２００ｍｌのジメチル
アセトアミドに溶解させ、これら溶液を混合し、５時間
攪拌した。その後、ロータリーエバポレーターを用いて
濃縮した後５００ｍｌのメタノールに排出してポリマー
粉を得た。ポリマー粉を濾別後１００℃で５時間減圧乾
燥した。得られたポリマー粉を３００℃、９．８ＭＰａ
で熱プレス成形しフィルムを得た。このフィルムは無色
透明であった。このフィルムのガラス転移温度Ｔｇを合
成例１と同様にして測定したところ、２０８℃であっ
た。このポリマーをダイグライムに溶解後、通常のスピ
ンコート法によりシリコンウエハ上に塗布し、乾燥後プ
リズムカップリング法により６３３ｎｍにおける屈折率
を測定したところ、１．８３であった。
表面修飾硫化亜鉛を硫化亜鉛正味で１ｇ秤量し、２００
ｍｌのジメチルアセトアミドに溶解させた。同様に合成
例８で合成したポリイミド１ｇを２００ｍｌのジメチル
アセトアミドに溶解させ、これら溶液を混合し、５時間
攪拌した。その後、ロータリーエバポレーターを用いて
濃縮した後５００ｍｌのメタノールに排出してポリマー
粉を得た。ポリマー粉を濾別後１００℃で５時間減圧乾
燥した。得られたポリマー粉を３００℃、９．８ＭＰａ
で熱プレス成形しフィルムを得た。このフィルムは無色
透明であった。このフィルムのガラス転移温度Ｔｇを合
成例１と同様にして測定したところ、２０８℃であっ
た。このポリマーをダイグライムに溶解後、通常のスピ
ンコート法によりシリコンウエハ上に塗布し、乾燥後プ
リズムカップリング法により６３３ｎｍにおける屈折率
を測定したところ、１．８３であった。
【００５３】＜実施例３〜８＞合成例２〜７で得られた
ポリアミド酸を用い、実施例１の方法に従い屈折率、フ
ィルムの透明性、およびガラス転移温度Ｔｇを評価し
た。使用した無機微粒子の種類、平均粒子直径および添
加量の違いによる結果を表１に併せて示す。
ポリアミド酸を用い、実施例１の方法に従い屈折率、フ
ィルムの透明性、およびガラス転移温度Ｔｇを評価し
た。使用した無機微粒子の種類、平均粒子直径および添
加量の違いによる結果を表１に併せて示す。
【００５４】＜比較例１〜４＞合成例２および４のポリ
アミド酸を用い、実施例１の方法に従い屈折率、フィル
ムの透明性、およびガラス転移温度Ｔｇを評価した。使
用した無機粒子の種類、平均粒子直径、および添加量の
違いによる結果を表１に併せて示す。
アミド酸を用い、実施例１の方法に従い屈折率、フィル
ムの透明性、およびガラス転移温度Ｔｇを評価した。使
用した無機粒子の種類、平均粒子直径、および添加量の
違いによる結果を表１に併せて示す。
【００５５】
【表１】
【００５６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
１．７０以上の高い屈折率を有し、かつ耐熱性に優れ、
ガラス転移温度が２００℃以上である高屈折率材料組成
物を提供することができる。
１．７０以上の高い屈折率を有し、かつ耐熱性に優れ、
ガラス転移温度が２００℃以上である高屈折率材料組成
物を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者 林 豊治 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番地32 三井化学株式会社内 (72)発明者 坂田 佳広 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番地32 三井化学株式会社内 (72)発明者 大川 祐一 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番地32 三井化学株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA02 BB01 CC09 CC32 DD02 DD06 EE04 4J002 CM041 DE046 DE136 DG026 DG066 GP01 4J043 PA15 QB15 QB26 RA35 SA05 SA14 SA52 SA54 SB01 SB02 TA22 TB01 TB02 UA131 UA132 UA141 UA151 UB121 UB301 UB401 UB402 VA022 VA051 VA061 VA062 VA071 VA091 VA102 ZA51 ZB21
Claims (7)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 で示される繰り返し単位構造を有する高分子量化合物１
００重量部と平均粒子直径が１〜１００ｎｍの無機微粒
子１〜４００重量部とから成る屈折率１．７０以上２．
５０以下でガラス転移温度が２００℃以上である高屈折
率材料組成物。 - 【請求項２】 無機微粒子が酸化物微粒子である請求項
１記載の高屈折率材料組成物。 - 【請求項３】 無機微粒子が硫化物微粒子である請求項
１記載の高屈折率材料組成物。 - 【請求項４】 無機微粒子がセレン化物微粒子である請
求項１記載の高屈折率材料組成物。 - 【請求項５】 無機微粒子がテルル化物微粒子である請
求項１記載の高屈折率材料組成物。 - 【請求項６】 酸化物微粒子が酸化チタンである請求項
２記載の高屈折率材料組成物。 - 【請求項７】 硫化物微粒子が硫化亜鉛である請求項３
記載の高屈折率材料組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000172479A JP2001348477A (ja) | 2000-06-08 | 2000-06-08 | 高屈折率材料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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