JP2001217615A - High-frequency signal processor and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば、マイク
ロ波帯、準マイクロ波帯、ミリ波帯の高周波信号を処理
する高周波信号処理装置およびその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency signal processing apparatus for processing high-frequency signals in, for example, a microwave band, a quasi-microwave band, and a millimeter wave band, and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、無線LAN、各種通信端末など、
マイクロ波帯、ミリ波帯をキャリアとした高周波アプリ
ケーションにおいても、機器や基板、モジュールの小型
化および薄型化への要求が強くなっている。このため、
フィルタやアンテナなどの受動素子やICなどの能動素
子を高密度実装し、マイクロ波通信機能等を集約してモ
ジュール化した高周波信号処理装置が世の中に出始めて
いる。図30は、モジュール化した信号処理装置の一例
を示す構成図であり、(a)は平面図であり、(b)は
断面図である。図30に示す高周波信号処理装置200
は、それぞれ凹部202a,203aが形成された成形
体からなる下蓋202および上蓋203を備えており、
これら下蓋202および上蓋203によって筐体201
を構成している。下蓋202および上蓋203を互いに
接合することで、それぞれの凹部202a,203aに
より形成される閉空間が基板や電子部品を収容する収容
部となっている。下蓋202の凹部202a内に基板2
04が搭載されており、この基板204の表面には、接
地層210や配線パターン212が形成されているとと
もに、高周波信号処理用のIC205、ベースバンド信
号処理用のIC206、チップコンデンサ208、チッ
プコイル209、バンドパスフィルタ207等が実装さ
れている。 このような構成の高周波信号処理装置で
は、上記の各構成部品によって、たとえば、マイクロ波
帯、ミリ波帯の高周波信号の信号処理をする。2. Description of the Related Art In recent years, wireless LANs, various communication terminals, etc.
In high-frequency applications using microwave and millimeter-wave bands as carriers, demands for smaller and thinner devices, substrates, and modules are increasing. For this reason,
2. Description of the Related Art A high-frequency signal processing device in which passive elements such as filters and antennas and active elements such as ICs are mounted at a high density, and a microwave communication function and the like are integrated and modularized has started to appear. 30A and 30B are configuration diagrams illustrating an example of a modularized signal processing device. FIG. 30A is a plan view and FIG. 30B is a cross-sectional view. High-frequency signal processing device 200 shown in FIG.
Is provided with a lower lid 202 and an upper lid 203 each formed of a molded body having concave portions 202a and 203a formed therein,
The lower cover 202 and the upper cover 203 allow the housing 201
Is composed. By joining the lower lid 202 and the upper lid 203 to each other, the closed space formed by the respective recesses 202a and 203a serves as a housing part for housing a board and an electronic component. The substrate 2 is placed in the concave portion 202a of the lower lid 202.
On the surface of the substrate 204, a ground layer 210 and a wiring pattern 212 are formed, and an IC 205 for high-frequency signal processing, an IC 206 for baseband signal processing, a chip capacitor 208, a chip coil 208 209, a band pass filter 207 and the like are mounted. In the high-frequency signal processing device having such a configuration, for example, a signal processing of a high-frequency signal in a microwave band or a millimeter wave band is performed by each of the above-described components.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した高
周波信号処理装置200では、筐体201をさらに薄型
化しようとした場合に、まず、考えられるのは基板20
4に搭載される電子部品を薄型化して筐体201を薄型
化することである。しかしながら、IC205やIC2
06をシリコンやGaAsからなる薄い半導体チップと
して直接基板204に実装することで、能動回路部品で
あるIC205やIC206の占める高さを削減するこ
とは可能であるが、たとえば、バンドパスフィルタ20
7の様な受動回路部品は通常セラミック材料等で形成さ
れており、シリコンやGaAsからなる半導体チップと
同等のレベルまで薄型化することは現状では困難であ
る。また、たとえば、特開平8−335803号公報、
特開平7−283679号公報、特開平7−27350
2号公報、特開平6−318801号公報等にも開示さ
れているように、フィルタ回路を誘電体の基板にマイク
ロストリップラインによって形成し、フィルタ部品を薄
型化することは可能である。しかしながら、フィルタ回
路等が形成された基板を筐体201に搭載したのでは、
筐体201の薄型化にも限界がある。By the way, in the high-frequency signal processing device 200 described above, when the housing 201 is to be further thinned, first, it is conceivable that the substrate 20
4 is to reduce the thickness of the electronic components mounted on the housing 4 to reduce the thickness of the housing 201. However, IC205 and IC2
06 is directly mounted on the substrate 204 as a thin semiconductor chip made of silicon or GaAs, it is possible to reduce the height occupied by the active circuit components IC205 and IC206.
Passive circuit components such as 7 are usually formed of a ceramic material or the like, and it is difficult at present to reduce the thickness to the same level as a semiconductor chip made of silicon or GaAs. Also, for example, JP-A-8-335803,
JP-A-7-283679, JP-A-7-27350
No. 2, JP-A-6-318801, etc., it is possible to reduce the thickness of the filter component by forming the filter circuit on a dielectric substrate using microstrip lines. However, when the substrate on which the filter circuit and the like are formed is mounted on the housing 201,
There is a limit to the thickness of the housing 201.
【0004】一方、上記構成の高周波信号処理装置20
0に、たとえば、マイクロ波帯、ミリ波帯等の高周波信
号を送受信するアンテナ機能を付加するには、たとえ
ば、図31に示すように、高周波信号処理装置200の
筐体201の外側にコネクタ部品22を介してチップ化
されたアンテナ220を接続する構成を採っている。図
31に示すような構成とすると、高周波信号処理装置2
00の全体の占める面積が広くなり、高周波信号処理装
置200の重量も増す等の不利益が存在した。On the other hand, the high-frequency signal processing device 20 having the above configuration
In order to add an antenna function of transmitting and receiving a high-frequency signal such as a microwave band, a millimeter wave band, or the like to 0, for example, as shown in FIG. A configuration is adopted in which an antenna 220 formed into a chip is connected via the antenna 22. With the configuration shown in FIG. 31, the high-frequency signal processing device 2
However, there are disadvantages such as the area occupied by the entire 00 increases and the weight of the high-frequency signal processing device 200 also increases.
【0005】本発明は、上述した問題に鑑みてなされた
ものであって、フィルタやアンテナ等の回路素子を一体
化してモジュール化した高周波信号処理装置において、
薄型化、小型化、軽量化された高周波信号処理装置およ
びその製造方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and is directed to a high-frequency signal processing apparatus in which circuit elements such as a filter and an antenna are integrated into a module.
It is an object of the present invention to provide a high-frequency signal processing device that is reduced in thickness, size, and weight, and a method of manufacturing the same.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の高周波信号処理
装置は、高周波回路を収容する収容部を有する誘電体材
料からなる筐体と、前記筐体に直接形成された導電配線
パターンによって構成され、前記高周波回路に接続され
る回路素子とを有する。A high-frequency signal processing apparatus according to the present invention comprises a housing made of a dielectric material having a housing for housing a high-frequency circuit, and a conductive wiring pattern formed directly on the housing. And a circuit element connected to the high-frequency circuit.
【0007】本発明の高周波信号処理装置の製造方法
は、外周部に互いに接合される接合部を備え、かつ、互
いに対向する各対向面の少なくとも一方に凹部を備える
第1および第2の蓋体を成形する工程と、前記第1およ
び第2の蓋体の少なくとも一方に高周波回路に接続され
る回路素子を構成する導電配線パターンおよび当該高周
波回路を電気的に接続する導電配線を直接形成する工程
と、前記高周波回路の回路部品を少なくとも第1および
第2の蓋体の一方の凹部に搭載する工程と、前記第1お
よび第2の蓋体の接合部を接合する工程とを有する。According to the method of manufacturing a high-frequency signal processing device of the present invention, the first and second lids each have a joint portion joined to the outer peripheral portion and a concave portion on at least one of the opposing surfaces facing each other. And a step of directly forming, on at least one of the first and second lids, a conductive wiring pattern constituting a circuit element connected to a high-frequency circuit and a conductive wiring for electrically connecting the high-frequency circuit. And mounting the circuit component of the high-frequency circuit in at least one of the concave portions of the first and second lids, and joining the joint of the first and second lids.
【0008】本発明では、誘電体である筐体の表面に所
定パターンの導電配線を直接形成して、高周波信号処理
装置の果たす回路機能の一部を構成する回路素子を形成
する。すなわち、チップ状の回路部品に代えて導電配線
パターンによって筐体に直接に回路素子を形成すること
で、筐体の薄型化、軽量化、面積および体積に縮小化が
可能となる。In the present invention, a conductive element having a predetermined pattern is directly formed on the surface of a dielectric housing to form a circuit element which constitutes a part of the circuit function performed by the high-frequency signal processing device. That is, by forming a circuit element directly on the housing by a conductive wiring pattern instead of a chip-shaped circuit component, the housing can be made thinner, lighter, and smaller in area and volume.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。第1実施形態 図1は、本発明の第1の実施形態に係る高周波信号処理
装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であり、
(b)は断面図である。図1において、高周波信号処理
装置1は、上蓋3および下蓋4からなる筐体2と、下蓋
4の凹部4aの表面に直接形成された導電配線13と、
下蓋4の凹部4aの表面に直接形成された接地層11
と、導電配線13あるいは接地層11と電気的に接続さ
れるチップ状のコンデンサ9、チップ状のコイル10、
高周波信号処理用のICチップ6およびベースバンド信
号処理用のICチップ7等からなる回路部品と、下蓋4
の外側面4bに形成された接地層16とを備えている。
また、信号処理装置1は、導電配線13の所定のパター
ンに形成された一部によって構成されるバンドパスフィ
ルタBPF1を備えている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First Embodiment FIG. 1 is a diagram showing a structure of a high-frequency signal processing device according to a first embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view,
(B) is a sectional view. In FIG. 1, a high-frequency signal processing device 1 includes a housing 2 including an upper lid 3 and a lower lid 4, a conductive wiring 13 directly formed on a surface of a recess 4 a of the lower lid 4,
Ground layer 11 directly formed on the surface of concave portion 4a of lower lid 4
A chip-shaped capacitor 9, a chip-shaped coil 10 electrically connected to the conductive wiring 13 or the ground layer 11,
A circuit component comprising an IC chip 6 for high-frequency signal processing, an IC chip 7 for baseband signal processing, and the like;
And a ground layer 16 formed on the outer side surface 4b.
In addition, the signal processing device 1 includes a bandpass filter BPF1 configured by a part of the conductive wiring 13 formed in a predetermined pattern.
【0010】図2は、高周波回路の一例を示す図であ
る。図2に示す高周波回路300は、アンテナ回路30
1と、バンドパスフィルタ回路302と、RF回路30
2と、BB回路304とを備える。BB回路304は、
たとえば、音声等の情報を離散化した信号である比較的
低周波帯のベースバンド信号を処理するための回路であ
る。このBB回路304は、高周波回路300が受信回
路として機能する場合には、RF回路302からベース
バンド信号が入力され、高周波回路300が送信回路と
して機能する場合には、ベースバンド信号をRF回路3
02に出力する。FIG. 2 is a diagram showing an example of a high-frequency circuit. The high-frequency circuit 300 shown in FIG.
1, the band-pass filter circuit 302, and the RF circuit 30
2 and a BB circuit 304. The BB circuit 304
For example, it is a circuit for processing a baseband signal in a relatively low frequency band, which is a signal obtained by discretizing information such as voice. The BB circuit 304 receives a baseband signal from the RF circuit 302 when the high-frequency circuit 300 functions as a receiving circuit, and converts the baseband signal into an RF circuit 3 when the high-frequency circuit 300 functions as a transmitting circuit.
02 is output.
【0011】RF回路302は、高周波回路300が受
信回路として機能する場合には、ベースバンド信号を高
周波信号に変調する高周波信号処理用の回路である。ま
た、高周波回路300が送信回路として機能する場合に
は、高周波信号をベースバンド信号に復調しBB回路3
04に出力する。The RF circuit 302 is a circuit for high-frequency signal processing for modulating a baseband signal into a high-frequency signal when the high-frequency circuit 300 functions as a receiving circuit. When the high-frequency circuit 300 functions as a transmission circuit, the BB circuit 3 demodulates the high-frequency signal into a baseband signal.
04.
【0012】バンドパスフィルタ回路302は、高周波
回路300が受信回路として機能する場合には、アンテ
ナ回路301が受信した電磁波のうち、所定の周波数帯
の高周波信号のみを通過させてRF回路302に出力す
る。また、高周波回路300が送信回路として機能する
場合には、RF回路302から出力される信号のうち所
定の周波数帯の高周波信号のみを通過させてアンテナ回
路301に出力する。When the high-frequency circuit 300 functions as a receiving circuit, the band-pass filter circuit 302 passes only a high-frequency signal of a predetermined frequency band among the electromagnetic waves received by the antenna circuit 301 and outputs the signal to the RF circuit 302. I do. When the high-frequency circuit 300 functions as a transmission circuit, only high-frequency signals in a predetermined frequency band among signals output from the RF circuit 302 are passed to the antenna circuit 301 and output.
【0013】アンテナ回路301は、高周波回路300
が受信回路として機能する場合には、送信されてくる電
磁波を受信してバンドパスフィルタ回路302に出力す
る。また、高周波回路300が送信回路として機能する
場合には、バンドパスフィルタ回路302を通過した高
周波信号を放射する。The antenna circuit 301 includes a high-frequency circuit 300
Functions as a receiving circuit, receives the transmitted electromagnetic wave and outputs it to the band-pass filter circuit 302. When the high-frequency circuit 300 functions as a transmission circuit, it emits a high-frequency signal that has passed through the band-pass filter circuit 302.
【0014】上記の高周波回路300の処理する信号の
周波数帯域は、たとえば、MHz帯域およびGHz帯域
の高周波帯であり、具体的には、マイクロ波帯、ミリ波
帯である。また、上記の高周波信号処理装置1では、高
周波回路300のバンドパスフィルタ回路302を筐体
2に直接形成されたバンドパスフィルタBPF1で構成
し、RF回路303を高周波信号処理用のICチップ6
で構成し、BB回路304をベースバンド信号処理用の
ICチップ7で構成している。また、上記の高周波信号
処理装置1では、バンドパスフィルタ回路302とRF
回路303との接続を、たとえば、GHz帯のような高
周波信号を伝送するのに低周波成分を低減するために、
チップ状のコンデンサ9で行っている。なお、上記の高
周波信号処理装置1では、アンテナ回路301は、たと
えば、外付けのアンテナ部品等によって構成することが
できる。The frequency bands of the signals processed by the high-frequency circuit 300 are, for example, high-frequency bands such as a MHz band and a GHz band, and specifically, a microwave band and a millimeter-wave band. Further, in the high-frequency signal processing device 1 described above, the band-pass filter circuit 302 of the high-frequency circuit 300 is configured by the band-pass filter BPF1 formed directly on the housing 2, and the RF circuit 303 is configured by the IC chip 6 for high-frequency signal processing.
, And the BB circuit 304 is composed of an IC chip 7 for baseband signal processing. In the high-frequency signal processing device 1 described above, the bandpass filter circuit 302 and the RF
The connection with the circuit 303 is reduced, for example, in order to reduce a low frequency component for transmitting a high frequency signal such as a GHz band.
This is performed by a chip-shaped capacitor 9. In the high-frequency signal processing device 1 described above, the antenna circuit 301 can be configured by, for example, an external antenna component or the like.
【0015】高周波信号処理装置1において、筐体2を
構成する上蓋3および下蓋4は、それぞれ誘電体からな
る外径が矩形状でかつ平板状の成形品であり、一方面に
それぞれ凹部3a,4aが形成された成形品である。上
蓋3および下蓋4は、たとえば、0.3mm程度の所定
の肉厚を有しており、外周部には互いに接合される接合
部3c,4cが形成されている。上蓋3および下蓋4
は、誘電体材料から形成されており、特に、高周波数領
域での電気特性が良好な誘電体材料でかつ成形性に優れ
た材料で形成することが好ましい。高周波数領域での電
気特性のうちでも、誘電正接(tanδ)が小さい、す
なわち、誘電損失が小さい材料が好ましい。このよう
な、高周波数領域での電気特性が良好な誘電体材料でか
つ成形性に優れた材料としては、たとえば、液晶ポリマ
等の有機系樹脂が挙げられる。また、液晶ポリマを用い
た場合には、回路部品を、たとえば、はんだを用いて実
装する観点から、耐熱性に優れ、シリコンやGaAs等
からなるベアチップが実装可能な熱膨張係数であるもの
を使用する。In the high-frequency signal processing apparatus 1, the upper cover 3 and the lower cover 4 constituting the housing 2 are molded products each having a rectangular shape and a rectangular outer diameter made of a dielectric material, and have concave portions 3a on one surface. , 4a are formed products. The upper lid 3 and the lower lid 4 have a predetermined thickness of, for example, about 0.3 mm, and joints 3c and 4c to be joined to each other are formed on the outer peripheral portion. Upper lid 3 and lower lid 4
Is formed of a dielectric material, and in particular, is preferably formed of a dielectric material having excellent electric characteristics in a high frequency region and a material having excellent moldability. Among electrical characteristics in a high frequency region, a material having a small dielectric loss tangent (tan δ), that is, a material having a small dielectric loss is preferable. Examples of such a dielectric material having good electric characteristics in a high frequency region and having excellent moldability include an organic resin such as a liquid crystal polymer. When a liquid crystal polymer is used, from the viewpoint of mounting circuit components using, for example, solder, those having excellent heat resistance and a thermal expansion coefficient capable of mounting a bare chip made of silicon, GaAs, or the like are used. I do.
【0016】ICチップ6,7は、たとえば、シリコン
やGaAs等の半導体からなるいわゆるベアチップであ
り、このベアチップの状態のICチップ6,7は、下蓋
4の凹部4aの表面に直接搭載されており、下蓋4の凹
部4aの表面に形成された導電配線13と電気的に接続
されている。The IC chips 6 and 7 are so-called bare chips made of, for example, a semiconductor such as silicon or GaAs. The bare IC chips 6 and 7 are directly mounted on the surface of the concave portion 4 a of the lower lid 4. And is electrically connected to the conductive wiring 13 formed on the surface of the concave portion 4 a of the lower lid 4.
【0017】導電配線13は、たとえば、金や銅等の導
電材料から形成されており、成形品である筐体2の表面
に直接形成され、各回路部品や接地層11と電気的に接
続されている。また、導電配線13の所定パターンに形
成された一部がバンドパスフィルタBPF1を構成して
いる。接地層11および16も、導電配線13と同様の
導電材料から形成されており、成形品である筐体2の表
面に直接形成されている。The conductive wiring 13 is formed of, for example, a conductive material such as gold or copper, and is formed directly on the surface of the molded housing 2 and is electrically connected to each circuit component and the ground layer 11. ing. A part of the conductive wiring 13 formed in a predetermined pattern constitutes a bandpass filter BPF1. The ground layers 11 and 16 are also formed of the same conductive material as the conductive wiring 13 and are formed directly on the surface of the molded housing 2.
【0018】バンドパスフィルタBPF1は、誘電体で
ある下蓋4と、下蓋4の凹部4aの表面に形成された所
定パターンの導電配線13と、下蓋4の外側面4bに形
成された接地層16によって構成されている。ここで、
図3はバンドパスフィルタBPF1を構成する導電配線
パターンの構造を示す図である。図3に示すバンドパス
フィルタBPF1は、線幅wの平行な導電配線パターン
21、22および23を備えている、分布定数共振器か
らなるバンドパスフィルタである。導電配線パターン2
1、22および23の線幅wは、下蓋4の肉厚に応じた
値となっている。導電配線パターン21と導電配線パタ
ーン22との対向しない端部には、たとえば、ミリ波や
マイクロ波等の高周波信号の入出力端子I/Oと接続さ
れ、また、導電配線パターン21と導電配線パターン2
2の中途に形成された接続部21a、22aはそれぞれ
接地層11に接続されている。The band-pass filter BPF1 includes a lower cover 4 which is a dielectric, a conductive pattern 13 having a predetermined pattern formed on the surface of a concave portion 4a of the lower cover 4, and a contact formed on an outer surface 4b of the lower cover 4. It is constituted by the stratum 16. here,
FIG. 3 is a diagram showing a structure of a conductive wiring pattern forming the bandpass filter BPF1. The band-pass filter BPF1 shown in FIG. 3 is a band-pass filter including parallel conductive wiring patterns 21, 22, and 23 having a line width w and including a distributed constant resonator. Conductive wiring pattern 2
The line width w of 1, 22, and 23 is a value corresponding to the thickness of the lower cover 4. For example, an input / output terminal I / O of a high-frequency signal such as a millimeter wave or a microwave is connected to an end of the conductive wiring pattern 21 and the conductive wiring pattern 22 that do not face each other. 2
The connection portions 21a and 22a formed in the middle of 2 are connected to the ground layer 11, respectively.
【0019】導電配線パターン21および22は、同一
直線上に配置され、対向する端部が所定の距離L2 で離
隔しており、導電配線パターン21および22と導電配
線パターン23とは所定の距離L3 で離隔している。ま
た、導電配線パターン21および22と導電配線パター
ン23との対向部の長さL1 、導電配線パターン21と
導電配線パターン22との対向する端部間の距離L2 、
導電配線パターン21および22とこれらに接続される
接地層11との間の距離L3 は、バンドパスフィルタB
PF1が所望の周波数特性を有するように適宜設定され
ている。The conductive wiring patterns 21 and 22 are arranged on the same straight line, opposing ends are separated by a predetermined distance L 2 , and the conductive wiring patterns 21 and 22 and the conductive wiring pattern 23 are separated by a predetermined distance. They are separated from each other by L 3. Further, the length L 1 of the facing portion between the conductive wiring patterns 21 and 22 and the conductive wiring pattern 23, the distance L 2 between the facing ends of the conductive wiring pattern 21 and the conductive wiring pattern 22,
The distance L 3 between the conductive wiring patterns 21 and 22 and the ground layer 11 connected thereto is determined by the bandpass filter B
PF1 is appropriately set so as to have a desired frequency characteristic.
【0020】次に、上記構成の高周波信号処理装置1の
製造方法について説明する。まず、筐体2を構成する上
蓋3および下蓋4を、たとえば、液晶ポリマ等の樹脂を
用いて、射出成形法によって成形する。Next, a method of manufacturing the high-frequency signal processing device 1 having the above configuration will be described. First, the upper lid 3 and the lower lid 4 constituting the housing 2 are molded by an injection molding method using, for example, a resin such as a liquid crystal polymer.
【0021】射出成形された上蓋3および下蓋4への導
電配線13、接地層11および接地層16の形成方法
は、種々の方法があるが、たとえば、MID(Molded In
terconnect Device)を製造する技術を用いて銅や金等の
導電材料を射出成形品の表面に直接形成することができ
る。MIDは、射出成形体の表面に、たとえば、無電解
めっき等の方法で導電材料を形成したものである。な
お、MIDの製造技術については、周知技術であるの
で、詳細な説明は省略する。There are various methods for forming the conductive wiring 13, the ground layer 11 and the ground layer 16 on the upper lid 3 and the lower lid 4 by injection molding. For example, MID (Molded In) is used.
A conductive material such as copper or gold can be directly formed on the surface of an injection molded product by using a technology for manufacturing a terconnect device. The MID is obtained by forming a conductive material on the surface of an injection molded body by, for example, a method such as electroless plating. Since the MID manufacturing technology is a well-known technology, a detailed description is omitted.
【0022】次いで、導電配線13、接地層11および
接地層16が形成された上蓋3および下蓋4にICチッ
プ6,7等の回路部品を直接実装する。各回路部品の実
装には、周知の実装技術を用いることができる。Next, circuit components such as IC chips 6 and 7 are directly mounted on the upper lid 3 and the lower lid 4 on which the conductive wiring 13, the ground layer 11 and the ground layer 16 are formed. A well-known mounting technique can be used for mounting each circuit component.
【0023】各回路部品が上蓋3および下蓋4に実装さ
れたら、上蓋3、下蓋4の接合部3cおよび4cを互い
に接合する。上蓋3、下蓋4の接合部3cおよび4cの
接合には、たとえば、超音波溶着法を用いることができ
る。When each circuit component is mounted on the upper lid 3 and the lower lid 4, the joining portions 3c and 4c of the upper lid 3 and the lower lid 4 are joined to each other. For joining the joining portions 3c and 4c of the upper lid 3 and the lower lid 4, for example, an ultrasonic welding method can be used.
【0024】上蓋3および下蓋4が一体化されることに
よって筐体2の内部に形成される閉空間である収容部に
は、各回路部品が収容された状態となる。The upper lid 3 and the lower lid 4 are integrated into a housing, which is a closed space formed inside the housing 2 so that each circuit component is housed.
【0025】ここで、図4は上記構成の高周波信号処理
装置1に形成されたバンドパスフィルタBPF1の周波
数特性を高周波回路シミュレータを用いて計算して得ら
れたグラフである。なお、バンドパスフィルタBPF1
を構成する筐体2の下蓋4の形成材料は、GHz帯域で
の比誘電率εrが 2.9,誘電正接tanδが0.0
025であるものを使用し、下蓋4の肉厚を0.3mm
とした。また、図3に示した導電配線パターン21およ
び22と導電配線パターン23との対向部の長さL1 を
8.5mm程度、導電配線パターン21と導電配線パタ
ーン22との対向する端部間の距離L2 を2.0mm程
度、導電配線パターン21および22とこれらに接続さ
れる接地層11との間の距離L3 を1.5mm程度とし
た。図4からわかるように、バンドパスフィルタBPF
1は通過帯域の中心周波数はおおよそ5GHzであり、
挿入損失は約1dBである。なお、バンドパスフィルタ
BPF1通過帯域周波数は、共振器長等を変えて設計す
ることにより、自由に設定することができる。Here, FIG. 4 is a graph obtained by calculating the frequency characteristics of the band-pass filter BPF1 formed in the high-frequency signal processing device 1 having the above configuration using a high-frequency circuit simulator. Note that the band-pass filter BPF1
The material for forming the lower cover 4 of the housing 2 is a dielectric constant εr in the GHz band of 2.9 and a dielectric loss tangent tan δ of 0.0.
025, and the thickness of the lower lid 4 is 0.3 mm
And Further, 8.5 mm approximately the length L 1 of the portion facing the conductive wiring pattern 21 and 22 and the conductive wiring pattern 23 shown in FIG. 3, between the opposed ends of the conductive wiring pattern 21 and the conductive wiring pattern 22 of the the distance L 2 to 2.0mm approximately, conductive wiring patterns 21 and 22 and the distance L 3 between the ground layer 11 connected thereto to approximately 1.5 mm. As can be seen from FIG. 4, the bandpass filter BPF
1 is that the center frequency of the pass band is approximately 5 GHz,
The insertion loss is about 1 dB. The pass band frequency of the band-pass filter BPF1 can be freely set by changing the resonator length and the like.
【0026】以上のように、本実施形態によれば、分布
定数共振器から構成されるバンドパスフィルタBPF1
の導電配線パターン21、22および23を誘電体から
なる筐体2の下蓋4の表面に直接形成することにより、
高周波信号処理装置1の回路を構成するチップ状の回路
部品を削減することができる。すなわち、バンドパスフ
ィルタの機能を有するチップ状の回路部品を筐体2の収
容部に実装するのに代えて、筐体2の表面に直接形成し
た導電配線パターン21、22および23によってバン
ドパスフィルタを構成することで、筐体2の収容部にお
けるチップ状の回路部品の占める割合を低減でき、筐体
2の薄型化が可能になる。言い換えれば、高周波信号処
理装置1の回路をすべてチップ状の回路部品で構成し、
回路部品を前記収容部内に収容した場合に、たとえば、
シリコンチップやGaAsチップ等のチップ状の回路部
品のうち、バンドパスフィルタのような筐体の収容部の
高さを支配する、すなわち、他の回路部品と比べて高い
回路部品の機能を代替する回路素子を筐体2に直接形成
された導電配線パターン21、22および23によって
構成することで、筐体2の薄型化が可能になる。As described above, according to the present embodiment, the bandpass filter BPF1 composed of the distributed constant resonator
Are formed directly on the surface of the lower lid 4 of the housing 2 made of a dielectric material.
It is possible to reduce the number of chip-like circuit components constituting the circuit of the high-frequency signal processing device 1. That is, instead of mounting the chip-shaped circuit component having the function of the band-pass filter in the housing portion of the housing 2, the band-pass filter is formed by the conductive wiring patterns 21, 22 and 23 formed directly on the surface of the housing 2. With this configuration, the proportion of the chip-shaped circuit components in the housing portion of the housing 2 can be reduced, and the housing 2 can be made thinner. In other words, all the circuits of the high-frequency signal processing device 1 are configured by chip-shaped circuit components,
When a circuit component is housed in the housing, for example,
Among chip-shaped circuit components such as a silicon chip and a GaAs chip, the height of a housing portion such as a band-pass filter is controlled, that is, a function of a circuit component higher than other circuit components is substituted. By forming the circuit element by the conductive wiring patterns 21, 22 and 23 formed directly on the housing 2, the housing 2 can be made thinner.
【0027】また、本実施形態によれば、誘電体である
筐体2に直接バンドパスフィルタを形成することで、部
品点数の削減、部品コストの低減ができ、高周波信号処
理装置1の軽量化も可能になる。また、本実施形態によ
れば、バンドパスフィルタの機能を有するチップ状の回
路部品を筐体2の収容部に実装するのに使用するはんだ
の量を低減でき、環境に与える影響を少なくできるとと
もに、高周波信号処理装置1自体の重量を軽量化でき
る。さらに、本実施形態によれば、ICチップ6,7等
の高周波信号処理装置1の回路を構成するチップ状の回
路部品を実装用の基板を使用せず、直接筐体2に実装す
る構成としているため、実装用の基板の厚さだけ、筐体
2をさらに薄型化できる。Further, according to the present embodiment, by forming a band-pass filter directly on the dielectric housing 2, the number of parts and the cost of parts can be reduced, and the weight of the high-frequency signal processing device 1 can be reduced. Also becomes possible. Further, according to the present embodiment, the amount of solder used to mount the chip-shaped circuit component having the function of the band-pass filter in the housing portion of the housing 2 can be reduced, and the influence on the environment can be reduced. In addition, the weight of the high-frequency signal processing device 1 itself can be reduced. Further, according to the present embodiment, the chip-like circuit components constituting the circuit of the high-frequency signal processing device 1 such as the IC chips 6 and 7 are directly mounted on the housing 2 without using a mounting substrate. Therefore, the thickness of the housing 2 can be further reduced by the thickness of the mounting substrate.
【0028】また、本実施形態によれば、バンドパスフ
ィルタBPF1の導電配線パターン21、22および2
3を挟む上下の誘電体のうち、上部誘電体はエアーr
(空間)となっており、下部誘電体は下蓋4となってい
る。したがって、特に導電配線パターン21、22およ
び23の上側の誘電体による損失は小さくできる。ま
た、バンドパスフィルタBPF1を作製後に仮にフィル
タ特性が設計からずれたりしても、導電配線パターン2
1、22および23のパターンカット等のトリミングを
容易に行うことができる。Further, according to the present embodiment, the conductive wiring patterns 21, 22 and 2 of the bandpass filter BPF1 are provided.
Of the upper and lower dielectrics sandwiching 3, the upper dielectric is air r
(Space), and the lower dielectric is the lower lid 4. Therefore, the loss due to the dielectric above the conductive wiring patterns 21, 22 and 23 can be reduced. Further, even if the filter characteristics are deviated from the design after the bandpass filter BPF1 is manufactured, the conductive wiring pattern 2
Trimming such as pattern cutting of 1, 22, and 23 can be easily performed.
【0029】なお、本実施形態では、バンドパスフィル
タBPF1の導電配線パターン21、22および23を
含め導電配線13をすべて筐体2に直接形成する構成と
したが、たとえば、バンドパスフィルタBPF1の導電
配線パターン21、22および23のみを直接筐体2に
形成し、他の導電配線13は実装用の基板に形成して、
これらの接続をあとでハンダ付け等で行う構成とするこ
とも可能である。さらに、上述した実施形態では、筐体
に直接形成する回路として分布定数共振器型のバンドパ
スフィルタの場合について説明したが、他に集中定数
(L,C)型のものを形成してもよい。また、バンドパ
スフィルタに限らず、ローパスフィルタやハイパスフィ
ルタなど、他の機能を有する回路素子を形成してもよ
い。In this embodiment, all the conductive wirings 13 including the conductive wiring patterns 21, 22 and 23 of the band-pass filter BPF1 are formed directly on the housing 2. Only the wiring patterns 21, 22, and 23 are directly formed on the housing 2, and the other conductive wirings 13 are formed on a mounting substrate.
A configuration in which these connections are made later by soldering or the like is also possible. Further, in the above-described embodiment, a case has been described in which a bandpass filter of a distributed constant resonator type is used as a circuit directly formed on the housing, but a lumped constant (L, C) type circuit may be formed. . Further, a circuit element having another function such as a low-pass filter or a high-pass filter may be formed without being limited to the band-pass filter.
【0030】第2実施形態 図5は、本発明の第2の実施形態に係る高周波信号処理
装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であり、
(b)は断面図である。本実施形態に係る高周波信号処
理装置31は、基本的な構成については、上述した第1
の実施形態に係る高周波信号処理装置1と同様である
が、第1の実施形態に係る高周波信号処理装置1と異な
るのは、下蓋4のバンドパスフィルタBPF1の形成領
域4dの肉厚が他の部分よりも厚く形成されている点で
ある。この下蓋4のバンドパスフィルタBPF1の形成
領域4dは、下蓋4の凹部4aの表面から突出してい
る。 Second Embodiment FIG. 5 is a view showing the structure of a high-frequency signal processing device according to a second embodiment of the present invention, wherein FIG.
(B) is a sectional view. The high-frequency signal processing device 31 according to the present embodiment has the basic configuration described in the first embodiment.
This is the same as the high-frequency signal processing device 1 according to the first embodiment, but differs from the high-frequency signal processing device 1 according to the first embodiment in that the thickness of the formation region 4d of the bandpass filter BPF1 of the lower lid 4 is different. The point is that it is formed thicker than the part. The formation region 4d of the bandpass filter BPF1 of the lower cover 4 projects from the surface of the concave portion 4a of the lower cover 4.
【0031】本実施形態に係る高周波信号処理装置31
では、筐体2を構成する下蓋4の一部はバンドパスフィ
ルタBPF1を構成しているため、高周波信号処理装置
31を薄型化するために筐体2の肉厚を薄くしていく
と、一定の周波数特性のバンドパスフィルタを得るため
には、これに応じて、バンドパスフィルタBPF1を構
成する図3に示した導電配線パターン21、22および
23の線幅wも細くする必要がある。しかしながら、導
電配線パターン21、22および23の線幅wを細くし
ていくと、導電配線パターン21、22および23にお
ける抵抗が増加し、バンドパスフィルタBPF1におけ
る挿入損失も増加してしまう。The high-frequency signal processing device 31 according to the present embodiment
Then, since a part of the lower lid 4 forming the housing 2 forms the bandpass filter BPF1, when the thickness of the housing 2 is reduced in order to make the high-frequency signal processing device 31 thinner, In order to obtain a band-pass filter having a constant frequency characteristic, the line width w of the conductive wiring patterns 21, 22, and 23 of the band-pass filter BPF1 shown in FIG. However, as the line width w of the conductive wiring patterns 21, 22, and 23 is reduced, the resistance in the conductive wiring patterns 21, 22, and 23 increases, and the insertion loss in the bandpass filter BPF1 also increases.
【0032】このため、本実施形態では、図6に示すよ
うに、筐体2を構成する下蓋4の凹部4a表面のバンド
パスフィルタBPF1の形成領域4dの厚さを部分的に
厚くしている。筐体2を構成する下蓋4の凹部4a表面
のバンドパスフィルタBPF1の形成領域4dの厚さを
部分的に厚くすると、下蓋4の他の部分の厚さを薄くし
ていってもバンドパスフィルタBPF1を構成する導電
配線パターン21、22および23の線幅wを細くする
必要がなく、線幅wをある程度確保することができる。
バンドパスフィルタBPF1を構成する導電配線パター
ン21、22および23の線幅wがある程度確保できる
ことで、導電配線パターン21、22および23の抵抗
値の上昇を抑制でき、バンドパスフィルタBPF1の挿
入損失の増加を防ぐことができる。For this reason, in the present embodiment, as shown in FIG. 6, the thickness of the bandpass filter BPF1 forming region 4d on the surface of the concave portion 4a of the lower cover 4 constituting the housing 2 is partially increased. I have. If the thickness of the band-pass filter BPF1 formation region 4d on the surface of the concave portion 4a of the lower cover 4 constituting the housing 2 is partially increased, the band is reduced even if the thickness of the other portions of the lower cover 4 is reduced. It is not necessary to reduce the line width w of the conductive wiring patterns 21, 22 and 23 constituting the pass filter BPF1, and the line width w can be secured to some extent.
Since the line width w of the conductive wiring patterns 21, 22, and 23 constituting the band-pass filter BPF1 can be secured to some extent, an increase in the resistance value of the conductive wiring patterns 21, 22, and 23 can be suppressed, and the insertion loss of the band-pass filter BPF1 can be reduced. Increase can be prevented.
【0033】一方、筐体2を構成する下蓋4の肉厚を薄
くしていくと、下蓋4自体の機械的強度も低下してしま
う。このため、バンドパスフィルタBPF1の形成領域
4dの厚さを部分的に厚くすることで、蓋4自体の機械
的強度の低下を防ぐことができる。すなわち、本実施形
態によれば、筐体2を構成する下蓋4の凹部4a表面の
バンドパスフィルタBPF1の形成領域4dの肉厚を部
分的に厚くすることで、筐体2を構成する下蓋4の肉厚
を薄くすることに起因するバンドパスフィルタBPF1
の挿入損失の増加および下蓋4自体の機械的強度も低下
を同時に抑制することができる。On the other hand, when the thickness of the lower cover 4 constituting the housing 2 is reduced, the mechanical strength of the lower cover 4 itself also decreases. For this reason, by partially increasing the thickness of the formation region 4d of the bandpass filter BPF1, it is possible to prevent the mechanical strength of the lid 4 itself from decreasing. That is, according to the present embodiment, the thickness of the formation region 4d of the band-pass filter BPF1 on the surface of the concave portion 4a of the lower lid 4 constituting the housing 2 is partially increased, whereby the lower portion of the housing 2 is formed. Bandpass filter BPF1 caused by reducing the thickness of lid 4
, And a decrease in the mechanical strength of the lower lid 4 itself can be suppressed at the same time.
【0034】なお、筐体2を構成する下蓋4のバンドパ
スフィルタBPF1の形成領域4dの肉厚を部分的に厚
く形成するには、たとえば、上述したMIDの製造技術
を用いることができる。すなわち、下蓋4を射出成形す
る際に、下蓋4の凹部4aの表面から突出するように突
出部を一体に形成して、バンドパスフィルタBPF1の
形成領域4dを形成し、導電配線13を下蓋4に直接形
成する際に、形成領域4d上にバンドパスフィルタBP
F1を構成する導電配線パターン21、22および23
も同時に形成する。In order to partially increase the thickness of the formation region 4d of the bandpass filter BPF1 of the lower cover 4 constituting the housing 2, for example, the above-described MID manufacturing technique can be used. That is, when the lower cover 4 is injection-molded, a protruding portion is integrally formed so as to protrude from the surface of the concave portion 4a of the lower cover 4 to form the formation region 4d of the bandpass filter BPF1, and the conductive wiring 13 is formed. When the bandpass filter BP is formed directly on the lower lid 4, the bandpass filter BP
Conductive wiring patterns 21, 22 and 23 constituting F1
Are also formed at the same time.
【0035】図7は、筐体2の形成領域4dの肉厚を部
分的に厚くしたバンドパスフィルタBPF1の周波数特
性を高周波回路シミュレータを用いて計算して得られた
グラフである。なお、バンドパスフィルタBPF1を構
成する導電配線パターンの形成されている下蓋4の誘電
体材料は、GHz帯域での比誘電率εrが2.9、誘電
正接tanδが0.0025であるものを使用した。ま
た、筐体2の上蓋3および下蓋4の肉厚を0.3mm程
度とし、部分的厚肉部分の肉厚を1.0mm程度とし
た。図7からわかるように、バンドパスフィルタBPF
1の通過帯域の中心周波数は約5GHz、挿入損失は約
0.5dBである。このように、筐体2を構成する下蓋
4の分布定数型のバンドパスフィルタBPF1の形成領
域4dの肉厚を部分的に厚くすることで、電気特性的に
は挿入損失を低減することができる。また、全体的に薄
型化した筐体2において、バンドパスフィルタBPF1
の形成領域4dのように部分的に肉厚が厚い部分が存在
すると、筐体2自体の機械的強度を向上させることがで
きる。なお、バンドパスフィルタBPF1の通過帯域周
波数は、共振器長等を変えて設計することにより自由に
設定することができる。FIG. 7 is a graph obtained by calculating the frequency characteristics of the band-pass filter BPF1 in which the thickness of the formation region 4d of the housing 2 is partially increased using a high-frequency circuit simulator. The dielectric material of the lower cover 4 on which the conductive wiring pattern forming the bandpass filter BPF1 is formed has a relative dielectric constant εr of 2.9 and a dielectric loss tangent tanδ of 0.0025 in the GHz band. used. Further, the thickness of the upper lid 3 and the lower lid 4 of the housing 2 was set to about 0.3 mm, and the thickness of the partially thick portion was set to about 1.0 mm. As can be seen from FIG. 7, the bandpass filter BPF
The center frequency of one pass band is about 5 GHz, and the insertion loss is about 0.5 dB. As described above, by partially increasing the thickness of the formation region 4 d of the distributed constant band-pass filter BPF <b> 1 of the lower cover 4 constituting the housing 2, it is possible to reduce insertion loss in terms of electrical characteristics. it can. Further, in the housing 2 which is thinned as a whole, the band-pass filter BPF1
When there is a portion having a large thickness, such as the formation region 4d, the mechanical strength of the housing 2 itself can be improved. Note that the pass band frequency of the band pass filter BPF1 can be freely set by changing the resonator length and the like.
【0036】以上のように、本実施形態によれば、上述
した第1の実施形態と同様の効果に加えて、射出成形品
でありかつ誘電体である筐体のバンドパスフィルタBP
F1等の回路素子の形成領域の肉厚を部分的に変更して
当該回路素子の特性を調整することができる。また、筐
体2の肉厚を部分的に変更することは、射出成形によっ
て容易にでき、また、回路素子の特性を調整するのに新
たな部品を使用することがないので、部品点数の増加を
抑えることができる。なお、本実施形態では、回路素子
として分布定数共振器型のバンドパスフィルタの場合に
ついて説明したが、他に集中定数(L,C)型のものを
形成してもよい。また、バンドパスフィルタに限らず、
ローパスフィルタやハイパスフィルタなど、他の機能を
有する回路素子を形成してもよい。As described above, according to the present embodiment, in addition to the same effects as those of the above-described first embodiment, the band-pass filter BP of the casing which is an injection-molded product and is a dielectric is provided.
The characteristics of the circuit element can be adjusted by partially changing the thickness of the region where the circuit element such as F1 is formed. In addition, it is possible to easily change the thickness of the housing 2 by injection molding, and it is not necessary to use a new component to adjust the characteristics of the circuit element. Can be suppressed. In the present embodiment, a case where a distributed constant resonator type band-pass filter is used as a circuit element has been described. Alternatively, a lumped constant (L, C) type may be formed. Also, not limited to bandpass filters,
Circuit elements having other functions, such as a low-pass filter and a high-pass filter, may be formed.
【0037】第3実施形態 図8は、本発明の第3の実施形態に係る高周波信号処理
装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であり、
(b)は断面図である。図8に示す高周波信号処理装置
41は、上述した第1および第2の実施形態と同様に、
上蓋3および下蓋4からなる筐体2と、下蓋4の凹部4
aの表面に直接形成された導電配線13と、下蓋4の凹
部4aの表面に直接形成された平板状の接地層11と、
導電配線13あるいは接地層11と電気的に接続される
チップ状のコンデンサ9、チップ状のコイル10、高周
波信号処理用のICチップ6およびベースバンド信号処
理用のICチップ7等からなる回路部品と、下蓋4の外
側面4bに形成された接地層16とを備えている。ま
た、高周波信号処理装置41は、上蓋3の外側面3bに
形成された接地層17を備えている。さらに、導電配線
13と同様に筐体2を構成する下蓋4の凹部4aの表面
に直接形成された導電配線パターン42,43によって
構成されるバンドパスフィルタBPF2を備えている。
さらに、下蓋4の凹部4aの表面の上記のバンドパスフ
ィルタBPF2の形成領域の周囲には、肉厚が他の部分
よりも厚く、凹部4aの表面から所定の高さで突出した
突出部45を備えている。なお、筐体2の形成材料およ
び製造方法等については、上述した実施形態において説
明したのと同様である。 Third Embodiment FIG. 8 is a view showing the structure of a high-frequency signal processing device according to a third embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view,
(B) is a sectional view. The high-frequency signal processing device 41 shown in FIG. 8 has the same configuration as the first and second embodiments described above.
A housing 2 composed of an upper lid 3 and a lower lid 4 and a recess 4 of the lower lid 4
a conductive wiring 13 formed directly on the surface of the lower cover 4, a flat ground layer 11 formed directly on the surface of the recess 4 a of the lower lid 4,
A circuit component including a chip-shaped capacitor 9, a chip-shaped coil 10, an IC chip 6 for high-frequency signal processing, an IC chip 7 for baseband signal processing, and the like, which are electrically connected to the conductive wiring 13 or the ground layer 11; And a ground layer 16 formed on the outer surface 4b of the lower lid 4. Further, the high-frequency signal processing device 41 includes the ground layer 17 formed on the outer surface 3 b of the upper lid 3. Further, a bandpass filter BPF2 constituted by conductive wiring patterns 42 and 43 formed directly on the surface of the concave portion 4a of the lower cover 4 constituting the housing 2 similarly to the conductive wiring 13 is provided.
Further, on the surface of the concave portion 4a of the lower lid 4, around the region where the band-pass filter BPF2 is formed, the protrusion portion 45, which is thicker than the other portions, protrudes from the surface of the concave portion 4a at a predetermined height. It has. The forming material and manufacturing method of the housing 2 are the same as those described in the above embodiment.
【0038】図9は、高周波信号処理装置41に形成さ
れたバンドパスフィルタBPF2の周辺の構造を示す平
面図である。また、図10は図9のA−A線方向の断面
図であり、図11は図9のB−B線方向の断面図であ
り、図12は図9のC−C線方向の断面図であり、図1
3は図9のD−D線方向の断面図である。図9〜図13
において、バンドパスフィルタBPF2を構成する導電
配線パターン42,43は、筐体2に直接形成された導
電配線134の一部として形成されており、また、一端
が開放され、他端が接地層11によって短絡された2つ
の分布定数共振器を構成している。さらに、導電配線パ
ターン42,43は長さL4 が略λ/4の長さに設定さ
れている。なお、λは電磁波の波長である。また、この
バンドパスフィルタBPF2の構造は、周知のものであ
り詳細な説明については省略する。FIG. 9 is a plan view showing the structure around the bandpass filter BPF2 formed in the high-frequency signal processing device 41. 10 is a sectional view taken along line AA of FIG. 9, FIG. 11 is a sectional view taken along line BB of FIG. 9, and FIG. 12 is a sectional view taken along line CC of FIG. And FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along the line DD in FIG. 9 to 13
, The conductive wiring patterns 42 and 43 constituting the band-pass filter BPF2 are formed as a part of the conductive wiring 134 formed directly on the housing 2, and one end is opened and the other end is connected to the ground layer 11. To form two distributed constant resonators short-circuited. Further, the conductive wiring pattern 42, 43 is the length L 4 is set to a length of approximately lambda / 4. Here, λ is the wavelength of the electromagnetic wave. The structure of the band-pass filter BPF2 is well-known, and a detailed description is omitted.
【0039】筐体2を構成する下蓋4の凹部4aの表面
に形成された突出部45は、導電配線パターン42,4
3の周囲を囲むように形成されており、突出部45の高
さは、少なくとも、上蓋3の凹部3aの深さおよび下蓋
4の凹部4aの深さを合わせた値よりも小さくなってい
る。突出部45の開放端部側の表面には、接地層48が
形成されている。この接地層48は、たとえば、金や銅
等の導電材料から形成されており、突出部45の上面4
5aおよび側面45bに形成されている。The protruding portion 45 formed on the surface of the concave portion 4a of the lower cover 4 constituting the housing 2 is provided with conductive wiring patterns 42, 4
3, and the height of the protrusion 45 is smaller than at least the sum of the depth of the concave portion 3a of the upper lid 3 and the depth of the concave portion 4a of the lower lid 4. . A ground layer 48 is formed on the surface on the open end side of the protrusion 45. This ground layer 48 is formed of a conductive material such as gold or copper, for example.
5a and the side surface 45b.
【0040】導電配線パターン42,43の一部は、図
10に示すように、突出部45の側面45bおよび上面
45aに形成されている。このような下蓋4の凹部4a
の表面に形成された突出部45および突出部45への接
地層48の形成方法は、たとえば、上述したMIDの製
造技術を用いることができる。As shown in FIG. 10, a part of the conductive wiring patterns 42 and 43 is formed on the side surface 45b and the upper surface 45a of the protrusion 45. Such a recess 4a of the lower lid 4
For example, the above-described MID manufacturing technique can be used as a method for forming the protruding portion 45 formed on the surface of the substrate and the ground layer 48 on the protruding portion 45.
【0041】バンドパスフィルタBPF2は、導電配線
パターン42,43と、この導電配線パターン42,4
3が形成されている誘電体からなる下蓋4と、下蓋4の
外側面4bに形成された接地層16と、導電配線パター
ン42,43上に存在する空間とによって構成される分
布定数共振器からなるバンドパスフィルタである。この
バンドパスフィルタBPF2は、下蓋4に形成された接
地層16および上蓋3の外側面3bに形成された接地層
17によって上下から挟まれており、さらに、導電配線
パターン42,43の周囲を囲む下蓋4の突出部45に
形成された接地層48によって囲まれている。The band-pass filter BPF2 includes conductive wiring patterns 42 and 43 and conductive wiring patterns 42 and 43.
Distributed constant resonance formed by a lower cover 4 made of a dielectric on which the lower cover 3 is formed, a ground layer 16 formed on the outer surface 4b of the lower cover 4, and a space existing on the conductive wiring patterns 42 and 43. It is a bandpass filter composed of a filter. The band-pass filter BPF2 is sandwiched from above and below by a ground layer 16 formed on the lower lid 4 and a ground layer 17 formed on the outer surface 3b of the upper lid 3, and furthermore, the periphery of the conductive wiring patterns 42, 43 is formed. It is surrounded by a ground layer 48 formed on the projection 45 of the surrounding lower lid 4.
【0042】すなわち、バンドパスフィルタBPF2
は、接地層16、接地層17および接地層48によって
電磁的にシールドされている。このように、バンドパス
フィルタBPF2をシールドしないと、不要波の発生に
よってバンドパスフィルタBPF2について所望のフィ
ルタ特性が得られない場合もあるが、本実施形態では不
要波の影響を極力抑制することができる構造となってい
る。That is, the band-pass filter BPF2
Are electromagnetically shielded by the ground layers 16, 17, and 48. As described above, if the bandpass filter BPF2 is not shielded, a desired filter characteristic of the bandpass filter BPF2 may not be obtained due to generation of an unnecessary wave. However, in the present embodiment, the influence of the unnecessary wave is suppressed as much as possible. It is a structure that can be done.
【0043】図14は、上述した高周波信号処理装置4
1のバンドパスフィルタBPF2のシールド構造を簡略
化したモデルである。図14のモデルにおいては、いわ
ゆるインピーダンスステップ型の分布定数共振器を構成
している。また、図15は、図14のE−E線方向の断
面図であり、図16は図14のF−F線方向の断面図で
ある。図14〜図16において、バンドパスフィルタB
PF2を構成する導電配線パターン42および43は、
誘電体である下蓋4に形成されており、導電配線パター
ン42および43は接地層49によって上下および周囲
を囲まれている。また、導電配線パターン42および4
3の上側には、接地層49との間に空間SPが形成され
ている。FIG. 14 shows the high-frequency signal processing device 4 described above.
1 is a model in which a shield structure of a bandpass filter BPF2 is simplified. In the model of FIG. 14, a so-called impedance step type distributed constant resonator is formed. FIG. 15 is a cross-sectional view taken along line EE of FIG. 14, and FIG. 16 is a cross-sectional view taken along line FF of FIG. In FIG. 14 to FIG.
The conductive wiring patterns 42 and 43 constituting the PF2 are:
The conductive wiring patterns 42 and 43 are formed on the lower lid 4, which is a dielectric, and are surrounded by a ground layer 49 in the vertical and peripheral directions. The conductive wiring patterns 42 and 4
A space SP is formed on the upper side of 3 between itself and the ground layer 49.
【0044】図17は、図14〜図16に示したモデル
のバンドパスフィルタの周波数特性を、電磁界シミュレ
ーションで求めた結果を示すグラフである。なお、電磁
界シミュレーションの条件として、導電配線パターン4
2および43の長さL4 を約6mm、下蓋4と接地層4
9との間に形成される空間SPの高さH1 を約1mm、
誘電体としての下蓋4の肉厚tを約0.3mmとした。
下蓋4を形成する材料の比誘電率εrを2.9、誘電正
接tanδを0.0025とした。FIG. 17 is a graph showing the results obtained by electromagnetic field simulation of the frequency characteristics of the band-pass filters of the models shown in FIGS. The conditions of the electromagnetic field simulation are as follows.
The length L 4 of each of 2 and 43 is about 6 mm, and the lower lid 4 and the ground layer 4
The height H 1 of approximately 1mm space SP formed between the 9,
The thickness t of the lower lid 4 as a dielectric was set to about 0.3 mm.
The relative permittivity εr of the material forming the lower lid 4 was 2.9, and the dielectric loss tangent tan δ was 0.0025.
【0045】図17からわかるように、図14〜16に
示すモデルのバンドパスフィルタの通過帯域の中心周波
数は7GHz程度であり、挿入損失は約1dBである。
なお、通過帯域周波数は、共振器長等を変えて設計する
ことにより、自由に設定することができる。As can be seen from FIG. 17, the center frequency of the pass band of the band-pass filter of the model shown in FIGS. 14 to 16 is about 7 GHz, and the insertion loss is about 1 dB.
The pass band frequency can be freely set by changing the resonator length and the like.
【0046】以上のように、本実施形態では、上述した
第1および第2の実施形態と同様の効果に加えて、射出
成形品である下蓋4に形成された突出部45の表面に接
地層48を形成してバンドパスフィルタBPF2のシー
ルド構造を構成するため、シールド構造を比較的容易に
実現できる。すなわち、筐体2の肉厚を部分的に変更す
ることは射出成形によって容易にでき、筐体に直接形成
された回路素子の周囲を電気的に囲むシールド構造の形
成に容易に対応できるとともに、シールド構造を形成す
るのに、新たな部品を使用することがないので、部品点
数の増加を抑えることができる。また、本実施形態で
は、下蓋4に他の部分より肉厚が厚い突出部45を形成
することで、下蓋4の機械的強度をも向上させることが
でき、結果として筐体2の機械的強度を向上させること
ができる。また、バンドパスフィルタを構成する導電配
線パターンを筐体2に直接形成することで、上述した実
施形態と同様の効果が得られることに加えて、導電配線
パターンを筐体2に直接形成するため、筐体2に形成し
た突出部45への接地層48の形成も導電配線パターン
の形成と同時に行うことができ、製造コストを低減する
ことができる。As described above, in this embodiment, in addition to the same effects as those of the above-described first and second embodiments, in addition to contact with the surface of the projection 45 formed on the lower lid 4 which is an injection-molded product. Since the ground layer 48 is formed to form the shield structure of the bandpass filter BPF2, the shield structure can be realized relatively easily. That is, it is possible to easily change the thickness of the housing 2 by injection molding, and to easily cope with the formation of a shield structure that electrically surrounds the periphery of a circuit element formed directly on the housing, Since no new components are used to form the shield structure, an increase in the number of components can be suppressed. Further, in the present embodiment, by forming the protruding portion 45 thicker than the other portions on the lower lid 4, the mechanical strength of the lower lid 4 can be improved, and as a result, the mechanical strength of the housing 2 can be improved. Target strength can be improved. Further, by forming the conductive wiring pattern constituting the bandpass filter directly on the housing 2, the same effect as in the above-described embodiment can be obtained, and in addition, the conductive wiring pattern can be formed directly on the housing 2. Also, the formation of the ground layer 48 on the projecting portion 45 formed on the housing 2 can be performed simultaneously with the formation of the conductive wiring pattern, so that the manufacturing cost can be reduced.
【0047】なお、本実施形態では、バンドパスフィル
タBPF2のシールド構造の一部を上蓋3の外側面3b
に形成された接地層17によって構成したが、接地層1
7を上蓋3の凹部3aの表面に形成する構成としてもよ
い。また、本実施形態では、突出部45を下蓋4に形成
する構成としたが、この突出部を上蓋3の凹部3a表面
に形成する構成としても良い。さらに、本実施形態で
は、下蓋4のバンドパスフィルタBPF2を構成する導
電配線パターン42,43の形成領域の肉厚は変更しな
かったが、たとえば、上述した第2の実施形態のよう
に、下蓋4のバンドパスフィルタBPF2の形成領域の
厚さを部分的に厚くする構成とすることも可能である。
また、本実施形態では、回路素子として分布定数共振器
型のバンドパスフィルタの場合について説明したが、他
に集中定数(L,C)型のものを形成してもよい。ま
た、バンドパスフィルタに限らず、ローパスフィルタや
ハイパスフィルタなど、他の機能を有する回路素子を形
成してもよい。In the present embodiment, a part of the shield structure of the band-pass filter BPF2 is replaced with the outer surface 3b of the upper lid 3.
Is formed by the ground layer 17 formed in the
7 may be formed on the surface of the concave portion 3 a of the upper lid 3. In the present embodiment, the protrusion 45 is formed on the lower lid 4. However, the protrusion may be formed on the surface of the recess 3 a of the upper lid 3. Further, in the present embodiment, the thickness of the region where the conductive wiring patterns 42 and 43 forming the bandpass filter BPF2 of the lower lid 4 are not changed, but, for example, as in the above-described second embodiment, It is also possible to adopt a configuration in which the thickness of the region where the bandpass filter BPF2 of the lower lid 4 is formed is partially increased.
Further, in this embodiment, a case has been described in which a distributed constant resonator type band-pass filter is used as a circuit element, but a lumped constant (L, C) type may be formed. Further, a circuit element having another function such as a low-pass filter or a high-pass filter may be formed without being limited to the band-pass filter.
【0048】第4実施形態 図18は、本発明の第4の実施形態に係る高周波信号処
理装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であ
り、(b)は断面図である。図18に示す高周波信号処
理装置61は、上述した第1の実施形態と同様に、上蓋
3および下蓋4からなる筐体2と、下蓋4の凹部4aの
表面に直接形成された導電配線13と、下蓋4の凹部4
aの表面に直接形成された接地層11と、導電配線13
あるいは接地層11と電気的に接続されるチップ状のコ
ンデンサ9、チップ状のコイル10、高周波信号処理用
のICチップ6およびベースバンド信号処理用のICチ
ップ7等からなる回路部品と、下蓋4の外側面4bに形
成された平板状の接地層16とを備えている。さらに、
本実施形態に係る高周波信号処理装置61は、導電配線
13のうち、下蓋4の接合部4cに形成された導電配線
パターン一部によって構成されるバンドパスフィルタB
PF3を備えている。なお、筐体2の形成材料および製
造方法等については、上述した実施形態において説明し
たのと同様である。 Fourth Embodiment FIGS. 18A and 18B are views showing the structure of a high-frequency signal processing device according to a fourth embodiment of the present invention, wherein FIG. 18A is a plan view, and FIG. is there. A high-frequency signal processing device 61 shown in FIG. 18 includes a housing 2 including an upper lid 3 and a lower lid 4 and conductive wiring directly formed on the surface of a concave portion 4 a of the lower lid 4, as in the first embodiment described above. 13 and recess 4 of lower lid 4
a ground layer 11 formed directly on the surface of
Alternatively, a circuit component including a chip-shaped capacitor 9, a chip-shaped coil 10, an IC chip 6 for high-frequency signal processing, an IC chip 7 for baseband signal processing, and the like, which are electrically connected to the ground layer 11, and a lower cover 4 and a flat ground layer 16 formed on the outer side surface 4b. further,
The high-frequency signal processing device 61 according to the present embodiment includes a band-pass filter B formed by a part of the conductive wiring pattern formed on the joint 4 c of the lower lid 4 in the conductive wiring 13.
PF3 is provided. The forming material and manufacturing method of the housing 2 are the same as those described in the above embodiment.
【0049】筐体2を構成する下蓋4の接合部4cは、
下蓋4の他の部分の肉厚よりも厚く形成されている。こ
れは、高周波信号処理装置61の筐体2を薄型化してい
く、すなわち、上蓋3および下蓋4の肉厚を薄くしてい
くと、上蓋3および下蓋4の機械的強度が低下し、たと
えば、筐体2の内部に収容される回路部品を保護する筐
体2の機能を発揮できなくなるおそれがある。このた
め、本実施形態では、下蓋4の接合部4cの肉厚を、た
とえば、1mm程度とし、他の部分の肉厚を0.3mm
程度としている。また、上蓋3の肉厚は、たとえば、
0.3mm程度としている。The joint 4c of the lower lid 4 constituting the housing 2
The lower lid 4 is formed to be thicker than other portions. This is because the mechanical strength of the upper lid 3 and the lower lid 4 decreases as the thickness of the housing 2 of the high-frequency signal processing device 61 decreases, that is, as the thickness of the upper lid 3 and the lower lid 4 decreases. For example, there is a possibility that the function of the housing 2 for protecting the circuit components housed inside the housing 2 cannot be exhibited. For this reason, in the present embodiment, the thickness of the joining portion 4c of the lower lid 4 is set to, for example, about 1 mm, and the thickness of the other portions is set to 0.3 mm.
About. The thickness of the upper lid 3 is, for example,
It is about 0.3 mm.
【0050】下蓋4の接合部4cの肉厚を肉厚を下蓋4
の他の部分の肉厚よりも厚くすると、接合部4cの接合
面4fは上蓋3の接合面3fよりも面積が広くなり、接
合部4cの接合面4fと上蓋3の接合面3fとを接合す
ると、接合面4fと接合面3fとが接触する接触部分S
1と、接合面4fには上蓋3の接合面3fと接触しない
余剰部分S2とが発生する。The thickness of the joint 4c of the lower cover 4 is
When the thickness is larger than the thickness of the other portions, the joining surface 4f of the joining portion 4c has a larger area than the joining surface 3f of the upper lid 3, and the joining surface 4f of the joining portion 4c and the joining surface 3f of the upper lid 3 are joined. Then, the contact portion S where the joining surface 4f and the joining surface 3f come into contact with each other
1 and a surplus portion S2 which does not contact the joint surface 3f of the upper lid 3 occurs on the joint surface 4f.
【0051】本実施形態では、この下蓋4の接合面4f
の余剰部分S2に上記したバンドパスフィルタBPF3
を構成する導電配線パターンを直接形成する。すなわ
ち、筐体2の機械的強度の補強のために形成した厚肉部
である下蓋4の接合部4cに発生した余剰部分S2にバ
ンドパスフィルタBPF3を構成する導電配線パターン
を形成する。バンドパスフィルタBPF3を構成する導
電配線パターンは、その他の導電配線13と同様に、銅
・金などの導電材料で形成する。In the present embodiment, the joining surface 4f of the lower lid 4
Is added to the surplus part S2 of the bandpass filter BPF3
Is formed directly. That is, a conductive wiring pattern forming the band-pass filter BPF3 is formed in a surplus portion S2 generated in the joining portion 4c of the lower lid 4, which is a thick portion formed to reinforce the mechanical strength of the housing 2. The conductive wiring pattern constituting the band-pass filter BPF3 is formed of a conductive material such as copper or gold similarly to the other conductive wirings 13.
【0052】図19は、バンドパスフィルタBPF3の
導電配線パターンの構造を示す図である。図19に示す
バンドパスフィルタBPF3は、図3に示したバンドパ
スフィルタBPF1と同様の構造の分布定数共振器から
なるバンドパスフィルタであり、線幅wの平行な導電配
線パターン62、63および64を備えている。なお、
図19に示すバンドパスフィルタBPF3は、図18に
示したように、下蓋4の接合部4cの矩形状の余剰部分
S2の形状に沿って形成されているため、実際には中途
で折り曲げられて形成される。FIG. 19 is a diagram showing the structure of the conductive wiring pattern of the bandpass filter BPF3. The bandpass filter BPF3 shown in FIG. 19 is a bandpass filter including a distributed constant resonator having the same structure as the bandpass filter BPF1 shown in FIG. 3, and has parallel conductive wiring patterns 62, 63 and 64 having a line width w. It has. In addition,
The bandpass filter BPF3 shown in FIG. 19 is formed along the shape of the rectangular surplus portion S2 of the joining portion 4c of the lower cover 4 as shown in FIG. Formed.
【0053】導電配線パターン62、63および64の
線幅wは、下蓋4の肉厚、すなわち、下蓋4の接合部4
cの肉厚に応じた値となっている。導電配線パターン6
2と導電配線パターン63との対向しない端部には、た
とえば、ミリ波やマイクロ波等の高周波信号の入出力端
子I/Oと接続され、また、導電配線パターン62と導
電配線パターン63の中途に形成された接続部62a、
63aはそれぞれ接地層11に接続されている。The line width w of the conductive wiring patterns 62, 63 and 64 is determined by the thickness of the lower lid 4, that is, the joint 4 of the lower lid 4.
The value corresponds to the thickness of c. Conductive wiring pattern 6
2 is connected to an input / output terminal I / O of a high-frequency signal such as a millimeter wave or a microwave, and is connected halfway between the conductive wiring pattern 62 and the conductive wiring pattern 63. Connecting portion 62a formed in
63a are each connected to the ground layer 11.
【0054】また、導電配線パターン62および63と
導電配線パターン64との対向部の長さL6 、導電配線
パターン62と導電配線パターン63との対向する端部
間の距離L7 、導電配線パターン62および63とこれ
らに接続される接地層11との間の距離L8 は、バンド
パスフィルタBPF3が所望の周波数特性を有するよう
に適宜設定されている。The length L 6 of the facing portion between the conductive wiring patterns 62 and 63 and the conductive wiring pattern 64, the distance L 7 between the facing ends of the conductive wiring pattern 62 and the conductive wiring pattern 63, distance L 8 between 62 and 63 and the ground layer 11 to be connected thereto, the band-pass filter BPF3 is appropriately set so as to have a desired frequency characteristic.
【0055】図20は、図19に示したモデルの分布定
数型のバンドパスフィルタBPF3の周波数特性を、高
周波回路シミュレータを用いて計算した結果を示すグラ
フである。なお、バンドパスフィルタBPF3を構成す
る導電配線パターン62、63および64の形成されて
いる誘電体である下蓋4の形成材料の比誘電率εrは
2.9、誘電正接tanδは0.0025とした。さら
に、導電配線パターン62および63と導電配線パター
ン64との対向部の長さL6 は約18.5mm、導電配
線パターン62と導電配線パターン63との対向する端
部間の距離L7 は約4mm、導電配線パターン62およ
び63とこれらに接続される接地層11との間の距離L
8 は約7.5mmとした。図20からわかるように、上
記の条件のバンドパスフィルタBPF3の通過帯域の中
心周波数はおおよそ2.5GHzであり、挿入損失は約
0.4dBである。なお、通過帯域周波数は、共振器長
等を変えて設計することにより、自由に設定することが
できる。FIG. 20 is a graph showing the result of calculating the frequency characteristics of the distributed constant band-pass filter BPF3 of the model shown in FIG. 19 using a high-frequency circuit simulator. The relative permittivity εr of the material forming the lower cover 4 which is the dielectric on which the conductive wiring patterns 62, 63 and 64 constituting the bandpass filter BPF3 are formed is 2.9, and the dielectric loss tangent tan δ is 0.0025. did. Furthermore, the length L 6 of the facing portion between the conductive wiring patterns 62 and 63 and the conductive wiring pattern 64 is about 18.5 mm, and the distance L 7 between the facing ends of the conductive wiring pattern 62 and the conductive wiring pattern 63 is about 18.5 mm. 4 mm, the distance L between the conductive wiring patterns 62 and 63 and the ground layer 11 connected thereto.
8 is about 7.5 mm. As can be seen from FIG. 20, the center frequency of the pass band of the bandpass filter BPF3 under the above conditions is approximately 2.5 GHz, and the insertion loss is approximately 0.4 dB. The pass band frequency can be freely set by changing the resonator length and the like.
【0056】以上のように、本実施形態によれば、高周
波信号処理装置61の筐体2の薄型化によって発生する
筐体2の機械的強度の低下を防ぐために筐体2を構成す
る下蓋4の接合部4cの肉厚を部分的に厚くし、接合部
4cに生じた余剰部分S2にバンドパスフィルタBPF
3を構成する導電配線パターン62,63および64を
形成する。このように、通常利用されることがない下蓋
4の接合部4cの余剰部分S2に導電配線パターン6
2,63および64を形成することで、下蓋4の凹部4
aの利用可能な面積を増加させることができ、結果とし
て、筐体2の機械的強度を保ちつつ筐体2の面積および
体積の縮小化が可能となる。すなわち、上述した第1〜
第3実施形態では、下蓋4の凹部4aの表面にバンドパ
スフィルタBPF1またはBPF2を直接形成すること
により、筐体2の薄型化を達成することができるが、本
実施形態によれば、筐体2の薄型化に加えて、筐体2の
面積および体積のさらなる縮小化が可能となる。As described above, according to the present embodiment, in order to prevent a decrease in mechanical strength of the housing 2 caused by the thinning of the housing 2 of the high-frequency signal processing device 61, the lower cover constituting the housing 2 is formed. 4 is partially increased in thickness, and a band-pass filter BPF
3 are formed. As described above, the conductive wiring pattern 6 is formed on the surplus portion S2 of the joint 4c of the lower lid 4 which is not normally used.
2, 63 and 64, the recess 4 of the lower lid 4 is formed.
The area available for a can be increased, and as a result, the area and volume of the housing 2 can be reduced while maintaining the mechanical strength of the housing 2. That is, the above-mentioned first to first
In the third embodiment, the band-pass filter BPF1 or BPF2 can be formed directly on the surface of the concave portion 4a of the lower lid 4 to make the housing 2 thinner. In addition to making the body 2 thinner, the area and volume of the housing 2 can be further reduced.
【0057】また、本実施形態によれば、下蓋4の接合
部4cの肉厚を他の部分よりも厚くしているため、上述
した第2の実施形態と同様の作用によって、バンドパス
フィルタBPF3の挿入損失を低減することができる。
さらに、本実施形態によれば、誘電体である筐体2を構
成する下蓋4の接合部4cと、この下蓋4の接合部4c
に直接形成された導電配線パターン62,63および6
4と、下蓋4の外側面4bに形成させた接地層16と、
導電配線パターン62,63および64の上部に存在す
る空間とによって分布定数共振器からなるバンドパスフ
ィルタBPF3を構成しており、導電配線パターン6
2,63および64の上部が空間(エア)となっている
ため、バンドパスフィルタBPF3の誘電体による挿入
損失をさらに低減できる。Further, according to the present embodiment, since the thickness of the joining portion 4c of the lower lid 4 is made thicker than other portions, the band-pass filter is operated by the same operation as the above-described second embodiment. The insertion loss of the BPF 3 can be reduced.
Further, according to the present embodiment, the joint 4c of the lower cover 4 constituting the housing 2 made of a dielectric, and the joint 4c of the lower cover 4
Conductive patterns 62, 63 and 6 directly formed on
4, a ground layer 16 formed on the outer surface 4b of the lower lid 4,
The space existing above the conductive wiring patterns 62, 63 and 64 constitutes a band-pass filter BPF3 comprising a distributed constant resonator.
Since the upper portions of 2, 63 and 64 are spaces (air), the insertion loss of the band-pass filter BPF3 due to the dielectric can be further reduced.
【0058】なお、本実施形態では、回路素子として分
布定数共振器型のバンドパスフィルタの場合について説
明したが、他に集中定数(L,C)型のものを形成して
もよい。また、バンドパスフィルタに限らず、ローパス
フィルタやハイパスフィルタなど、他の機能を有する回
路素子を形成してもよい。また、本実施形態では、筐体
2を構成する下蓋4の接合部4cは、すべての領域を厚
肉化する構成について示したが、これに限らず、必要な
部分のみを厚肉化し、この厚肉化によって発生する余剰
部分に導電配線パターンを直接形成する構成することも
可能である。In this embodiment, the case where a distributed constant resonator type band-pass filter is used as a circuit element has been described. Alternatively, a lumped constant (L, C) type circuit element may be formed. Further, a circuit element having another function such as a low-pass filter or a high-pass filter may be formed without being limited to the band-pass filter. Further, in the present embodiment, the joining portion 4c of the lower lid 4 constituting the housing 2 has been described as a configuration in which the entire region is thickened. However, the present invention is not limited to this, and only a necessary portion is thickened. It is also possible to adopt a configuration in which a conductive wiring pattern is directly formed in a surplus portion generated by this thickening.
【0059】さらに、本実施形態では、筐体2を構成す
る下蓋4の接合部4cのうち、上蓋3の接合部3cの接
合面3fに接触しない余剰部分に導電配線パターンを直
接形成する構成としたが、たとえば、下蓋4の接合部4
cの接合面4fと上蓋3の接合部3cの接合面3fとの
間に形成する、すなわち、誘電体である上蓋3と下蓋4
の接合部3cおよび4cとで導電配線パターンを挟み込
む構成としてもよい。この場合には、バンドパスフィル
タBPF3の誘電体による損失は増加する傾向となる
が、筐体2の面積および体積を縮小化するうえでさらに
効果的である。また、本実施形態では、下蓋4の外側面
4bの全面に平板状の接地層16を形成する構成とした
が、下蓋4の外側面4bのバンドパスフィルタBPF3
の形成領域に対応する領域のみに接地層16を形成する
構成としてもよい。さらに、本実施形態では、バンドパ
スフィルタBPF3を構成する導電配線パターンをすべ
て厚肉部分に形成したが、たとえば、導電配線パターン
をすべて形成するための面積が足りない場合には、一部
を厚肉部分に形成し残りを下蓋4の凹部4aの表面等に
形成する構成とすることも可能である。Further, in the present embodiment, the conductive wiring pattern is formed directly on the surplus portion of the joining portion 4c of the lower cover 4 constituting the housing 2 which does not contact the joining surface 3f of the joining portion 3c of the upper cover 3. However, for example, the joining portion 4 of the lower lid 4
c formed between the joint surface 4f of the upper cover 3 and the joint surface 3f of the joint 3c of the upper cover 3, that is, the upper cover 3 and the lower cover 4 which are dielectrics.
A configuration may be adopted in which the conductive wiring pattern is sandwiched between the joints 3c and 4c. In this case, the loss due to the dielectric of the bandpass filter BPF3 tends to increase, but it is more effective in reducing the area and volume of the housing 2. Further, in the present embodiment, the flat ground layer 16 is formed on the entire outer surface 4b of the lower cover 4, but the band-pass filter BPF3 on the outer surface 4b of the lower cover 4 is formed.
May be configured to form the ground layer 16 only in the region corresponding to the formation region. Further, in the present embodiment, all the conductive wiring patterns forming the band-pass filter BPF3 are formed in the thick portion. However, for example, if the area for forming all the conductive wiring patterns is not enough, a part of the conductive wiring pattern may be thickened. It is also possible to adopt a configuration in which it is formed on the flesh portion and the remainder is formed on the surface or the like of the concave portion 4a of the lower lid 4.
【0060】第5実施形態 図21は、本発明の第5の実施形態に係る高周波信号処
理装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であ
り、(b)は断面図である。本実施形態では、筐体に直
接形成する回路素子として上述の実施形態のようなバン
ドパスフィルタに代えてアンテナ素子を形成する場合に
ついて説明する。図21において、高周波信号処理装置
71は、上蓋3および下蓋4からなる筐体2と、下蓋4
の凹部4aの表面に直接形成された導電配線13と、下
蓋4の凹部4aの表面に直接形成された平板状の接地層
11と、導電配線13あるいは接地層11と電気的に接
続されるチップ状のコンデンサ9、チップ状のコイル1
0、高周波信号処理用のICチップ6およびベースバン
ド信号処理用のICチップ7等からなる回路部品とを備
えている。 Fifth Embodiment FIGS. 21A and 21B are views showing the structure of a high-frequency signal processing device according to a fifth embodiment of the present invention, wherein FIG. 21A is a plan view, and FIG. is there. In the present embodiment, a case will be described in which an antenna element is formed as a circuit element directly formed on a housing instead of the bandpass filter as in the above-described embodiment. In FIG. 21, a high-frequency signal processing device 71 includes a housing 2 including an upper lid 3 and a lower lid 4, and a lower lid 4.
Electrically connected to the conductive wiring 13 formed directly on the surface of the concave portion 4a, the flat ground layer 11 formed directly on the surface of the concave portion 4a of the lower lid 4, and the conductive wiring 13 or the ground layer 11. Chip-shaped capacitor 9 and chip-shaped coil 1
And a circuit component including an IC chip 6 for high-frequency signal processing, an IC chip 7 for baseband signal processing, and the like.
【0061】本実施形態に係る高周波信号処理装置71
では、上述した第1〜第4の実施形態とは異なり、バン
ドパスフィルタを筐体2の直接形成するのではなく、チ
ップ状の回路部品80として下蓋4の凹部4aに搭載し
ている。さらに、高周波信号処理装置71は、下蓋4の
長手方向の一端部の外側面に所定のパターンに形成され
た導電配線パターン73によって構成されるアンテナ素
子ANTを備えている。また、下蓋4の凹部4aの表面
の下蓋4の長手方向の一端部側には、導電配線パターン
73の形成領域に対応した断面が矩形状の誘電体部材7
2が固着されている。また、下蓋4の一側面には、導電
配線パターン73に連続して平板状の接地82が形成さ
れている。The high-frequency signal processing device 71 according to the present embodiment
Unlike the first to fourth embodiments, the bandpass filter is not formed directly on the housing 2 but mounted as a chip-shaped circuit component 80 in the recess 4a of the lower lid 4. Further, the high-frequency signal processing device 71 includes an antenna element ANT constituted by a conductive wiring pattern 73 formed in a predetermined pattern on the outer surface of one end of the lower lid 4 in the longitudinal direction. A dielectric member 7 having a rectangular cross section corresponding to the region where the conductive wiring pattern 73 is formed is provided on one end side of the surface of the concave portion 4a of the lower lid 4 in the longitudinal direction of the lower lid 4.
2 is fixed. Further, a flat ground 82 is formed on one side surface of the lower lid 4 so as to be continuous with the conductive wiring pattern 73.
【0062】一方、高周波信号処理装置71は、アンテ
ナ素子ANTの形成側とは反対側の上蓋3の端部の外側
面に、たとえば、パーソナルコンピュータ等の情報機器
と接続される接続端子75が形成されている。On the other hand, in the high-frequency signal processing device 71, a connection terminal 75 for connecting to information equipment such as a personal computer is formed on the outer surface of the end of the upper cover 3 opposite to the side on which the antenna element ANT is formed. Have been.
【0063】高周波信号処理装置71では、図2におい
て説明した高周波回路300の備えるアンテナ回路30
1、バンドパスフィルタ回路302、RF回路302お
よびBB回路304の機能を一体的に具備している。す
なわち、アンテナ回路301は筐体2に直接形成された
アンテナ素子ANTによって構成され、バンドパスフィ
ルタ回路302はチップ状の回路部品80によって構成
され、RF回路302はICチップ6で構成され、BB
回路304はICチップ7で構成されている。In the high-frequency signal processing device 71, the antenna circuit 30 included in the high-frequency circuit 300 described in FIG.
1. The functions of the band-pass filter circuit 302, the RF circuit 302, and the BB circuit 304 are integrally provided. That is, the antenna circuit 301 is configured by the antenna element ANT formed directly on the housing 2, the band-pass filter circuit 302 is configured by the chip-shaped circuit component 80, the RF circuit 302 is configured by the IC chip 6, and BB
The circuit 304 is configured by the IC chip 7.
【0064】図22は上記構成の高周波信号処理装置7
1のアンテナ素子ANTを構成する導電配線パターン7
3の形成箇所の構造を示す平面図であり、図23は図2
2の矢印G側から見た側面図であり、図24は図22の
H−H線方向の断面図であり、図25は図22の矢印J
方向から見た側面図であり、図26は図22のKーK線
方向の断面図である。図22〜図26において、アンテ
ナ素子ANTを構成する導電配線パターン73は、筐体
2の下蓋4の長手方向の一端側の外側面4kの全域およ
び下蓋4の短手方向の外側面4lの一部に直接形成され
ている。この導電配線パターン73の下蓋4の外側面4
kに形成された側の端部73cは、開放されており、導
電配線パターン73の下蓋4の外側面4lに形成された
側の端部73bは外側面4lに形成された接地層82と
短絡している。FIG. 22 shows the high-frequency signal processing device 7 having the above-described configuration.
Conductive wiring pattern 7 constituting one antenna element ANT
FIG. 23 is a plan view showing the structure of the formation portion of FIG.
2 is a side view as seen from the arrow G side of FIG. 2, FIG. 24 is a cross-sectional view taken along line HH of FIG. 22, and FIG.
FIG. 26 is a sectional view taken along line KK of FIG. 22. 22 to 26, the conductive wiring pattern 73 constituting the antenna element ANT includes the entire outer surface 4k on one end side in the longitudinal direction of the lower cover 4 of the housing 2 and the outer surface 4l in the short direction of the lower cover 4. Is formed directly on part of Outer surface 4 of lower lid 4 of this conductive wiring pattern 73
The end 73c on the side formed on the side k is open, and the end 73b formed on the outer side 41 of the lower cover 4 of the conductive wiring pattern 73 is connected to the ground layer 82 formed on the outer side 41. Short circuit.
【0065】また、導電配線パターン73の一部である
給電用配線パターン73aは、下蓋4の外側面4lから
下蓋4の内部を貫通し、下蓋4の凹部4aの表面に伸び
ており、図21に示したバンドパスフィルタとしての回
路部品80に電気的に接続されている。このアンテナ素
子ANTを構成する導電配線パターン73は、いわゆ
る”逆F型”と呼ばれているものである。導電配線パタ
ーン73は、たとえば、銅等の導電材料によって形成さ
れるが、導電配線パターン73を、たとえば、絶縁性材
料等によってコーティングし、筐体2の外部に露出した
部分の腐食等を防止する構成とすることも可能である。The power supply wiring pattern 73a, which is a part of the conductive wiring pattern 73, penetrates from the outer surface 41 of the lower cover 4 to the inside of the lower cover 4 and extends to the surface of the concave portion 4a of the lower cover 4. , Are electrically connected to a circuit component 80 as a bandpass filter shown in FIG. The conductive wiring pattern 73 constituting the antenna element ANT is what is called an “inverted F type”. The conductive wiring pattern 73 is formed of, for example, a conductive material such as copper. The conductive wiring pattern 73 is coated with, for example, an insulating material or the like to prevent corrosion of a portion exposed to the outside of the housing 2. A configuration is also possible.
【0066】誘電体部材72は、下蓋4の導電配線パタ
ーン73の形成領域に対応して、下蓋4の凹部4aの壁
面に密着するように固定されている。この誘電体部材7
2は、所定の比誘電率の誘電体材料、たとえば、セラミ
ック、ガラス等といった無機系材料や、エポキシ、テフ
ロン等の有機系材料からなる。The dielectric member 72 is fixed so as to be in close contact with the wall surface of the concave portion 4a of the lower cover 4 corresponding to the area where the conductive wiring pattern 73 of the lower cover 4 is formed. This dielectric member 7
2 is made of a dielectric material having a predetermined relative permittivity, for example, an inorganic material such as ceramic or glass, or an organic material such as epoxy or Teflon.
【0067】誘電体部材72の下蓋4の凹部4aへの固
定方法は、たとえば、絶縁性の接着剤を使って接着する
等方法を採用することができる。また、誘電体部材72
を固定する下蓋4の凹部4aの表面には、上記の給電用
配線パターン73aが表面から突出するように形成され
ているので、誘電体部材72の固定面である下面に適度
な座ぐりを形成しておくことが好ましい。As a method of fixing the lower cover 4 of the dielectric member 72 to the concave portion 4a, for example, a method of bonding using an insulating adhesive can be adopted. Also, the dielectric member 72
Since the power supply wiring pattern 73a is formed on the surface of the concave portion 4a of the lower lid 4 for fixing the dielectric member 72 so as to protrude from the surface, an appropriate spot facing the lower surface which is the fixing surface of the dielectric member 72 is provided. It is preferable to form them.
【0068】誘電体部材72として、たとえば、比誘電
率の高い材料を配置すれば、アンテナ素子ANTの波長
短縮の効果が大きくなり、アンテナ素子ANTの共振器
長を短くでき、小型化にすることが可能となる。逆に、
誘電体部材72として、比誘電率の低い材料を配置すれ
ば、アンテナ素子ANTの共振器長を長くすることがで
きる。If, for example, a material having a high relative dielectric constant is disposed as the dielectric member 72, the effect of shortening the wavelength of the antenna element ANT is increased, and the length of the resonator of the antenna element ANT can be shortened and the antenna element ANT can be reduced in size. Becomes possible. vice versa,
If a material having a low relative dielectric constant is arranged as the dielectric member 72, the resonator length of the antenna element ANT can be increased.
【0069】図27は、上記構成の高周波信号処理装置
71のアンテナ素子ANTの入力インピーダンス特性を
電磁界シミュレータを用いて計算するためのモデルの一
例である。図27において、矢印Jは図21の矢印Jの
向きに対応しており、アンテナ素子ANTのモデルは、
筐体2の上蓋3の一部に対応する誘電体92と、筐体2
の下蓋4の一部に対応する誘電体93と、これら誘電体
92および93に隣接する上記の誘電体部材72に対応
する誘電体94および95と、上記の導電配線パターン
73に対応し誘電体93および誘電体95に対して設け
られた導電配線パターン91と、上記の給電用配線パタ
ーン73aに対応し誘電体95に対して設けられた導電
配線パターン91aとを備えている。FIG. 27 shows an example of a model for calculating the input impedance characteristics of the antenna element ANT of the high-frequency signal processing device 71 having the above configuration using an electromagnetic field simulator. In FIG. 27, the arrow J corresponds to the direction of the arrow J in FIG. 21, and the model of the antenna element ANT is
A dielectric 92 corresponding to a part of the top cover 3 of the housing 2;
The dielectric 93 corresponding to a part of the lower cover 4, the dielectrics 94 and 95 corresponding to the dielectric member 72 adjacent to the dielectrics 92 and 93, and the dielectric corresponding to the conductive wiring pattern 73. A conductive wiring pattern 91 provided for the body 93 and the dielectric 95, and a conductive wiring pattern 91a provided for the dielectric 95 corresponding to the power supply wiring pattern 73a are provided.
【0070】図28は、図27に示すようなアンテナ素
子ANTのモデルを用いてアンテナ素子ANTの入力イ
ンピーダンス特性を電磁界シミュレータを用いて計算し
た結果を示すグラフである。なお、アンテナ素子ANT
の幅L10は、20mm程度とし、上蓋3および下蓋4に
相当する誘電体92、93の比誘電率εrを2.9、誘
電正接tanδを0.0025とした。また、誘電体部
材72に対応する誘電体94および95の比誘電率εr
を50、誘電正接tanδを0.005とした。図28
からわかるように、アンテナ素子ANTの共振周波数は
おおよそ6GHzである。なお、共振周波数や帯域は、
アンテナ素子ANTの共振器長や誘電体部材72の材
料、厚さ等々を変えて設計することにより、自由に設定
することができる。FIG. 28 is a graph showing the results of calculating the input impedance characteristics of the antenna element ANT using an electromagnetic field simulator using the model of the antenna element ANT as shown in FIG. Note that the antenna element ANT
Width L 10 of, and about 20 mm, the relative dielectric constant εr of the dielectric 92 and 93 corresponding to the upper lid 3 and the lower lid 4 2.9, and the dielectric loss tangent tanδ and 0.0025. Further, the relative permittivity εr of the dielectrics 94 and 95 corresponding to the dielectric member 72
Was set to 50 and the dielectric loss tangent tan δ was set to 0.005. FIG.
As can be seen from FIG. 7, the resonance frequency of the antenna element ANT is approximately 6 GHz. The resonance frequency and band are
The design can be made freely by changing the resonator length of the antenna element ANT, the material and thickness of the dielectric member 72, and the like.
【0071】ところで、上記構成の高周波信号処理装置
71の適用対象は、たとえば、IEEEの802.11
規格に基づいた無線LANカードとしてパーソナルコン
ピュータ等の情報機器やオーディオ機器などの電子機器
である。このような電子機器には、通常、カード状の高
周波信号処理装置71を電子機器の筐体内に装着するた
めの差し込み口が設けられている。たとえば、図29
(a)に示すように、電子機器の筐体101に設けられ
た差し込み口104を通じてカード状の高周波信号処理
装置71を挿入し、筐体101内に設けられたコネクタ
102の接続端子103に高周波信号処理装置71の筐
体2の端部に形成された接続端子75が接触し、高周波
信号処理装置71と電子機器とが電気的に接続される。The high-frequency signal processing device 71 having the above configuration is applied to, for example, IEEE 802.11.
An electronic device such as an information device such as a personal computer and an audio device as a wireless LAN card based on the standard. Such an electronic device is usually provided with an insertion port for mounting the card-like high-frequency signal processing device 71 in a housing of the electronic device. For example, FIG.
As shown in (a), a card-like high-frequency signal processing device 71 is inserted through an insertion port 104 provided in a housing 101 of an electronic device, and a high-frequency signal is connected to a connection terminal 103 of a connector 102 provided in the housing 101. The connection terminal 75 formed at the end of the housing 2 of the signal processing device 71 comes into contact, and the high-frequency signal processing device 71 and the electronic device are electrically connected.
【0072】このような電子機器の筐体101は、電磁
波対策上、金属シールドが施されている構造のものがほ
とんどである。このため、たとえば、高周波信号処理装
置71が電子機器に装着された状態において、高周波信
号処理装置71のアンテナ素子ATN部分も含めて筐体
101内に収容されると、アンテナ素子としての電波の
受信および/または放射が、筐体101の金属シールド
に反射されて満足に行うことができないことがある。In most cases, the casing 101 of such an electronic device has a structure provided with a metal shield for preventing electromagnetic waves. Therefore, for example, when the high-frequency signal processing device 71 is housed in the housing 101 including the antenna element ATN portion of the high-frequency signal processing device 71 in a state where the high-frequency signal processing device 71 is mounted on the electronic device, reception of radio waves as an antenna element And / or the radiation may not be satisfactorily reflected by the metal shield of the housing 101.
【0073】本実施形態では、高周波信号処理装置71
のアンテナ素子ATNを構成する導電配線パターン73
を、高周波信号処理装置71の筐体2の接続端子75の
形成側とは反対側の端部に形成してあり、かつ、平面状
に形成してある。このため、たとえば、図29(b)に
示すように、高周波信号処理装置71を筐体101内の
コネクタ102に装着した状態で高周波信号処理装置7
1のアンテナ素子ATN部分のみを筐体101外に突出
させることができる。あるいは、突出させなくてもアン
テナ素子ATNのみを筐体の外部の自由空間に露出させ
ることができる。高周波信号処理装置71のアンテナ素
子ATN部分のみを筐体101外に突出、あるいは、露
出させることで、筐体101に施された金属シールドの
影響を極力避けることができ、アンテナ素子ATNによ
る電波の受信および放射を行いやすい構成となってい
る。In this embodiment, the high-frequency signal processing device 71
Conductive pattern 73 constituting the antenna element ATN of FIG.
Is formed on the end of the housing 2 of the high-frequency signal processing device 71 on the side opposite to the side on which the connection terminals 75 are formed, and is formed in a planar shape. Therefore, for example, as shown in FIG. 29B, the high-frequency signal processing device 71 is mounted on the connector 102 in the housing 101 while the high-frequency signal processing device 71 is mounted on the connector 102.
Only one antenna element ATN portion can protrude out of the housing 101. Alternatively, only the antenna element ATN can be exposed to a free space outside the housing without projecting. By projecting or exposing only the antenna element ATN portion of the high-frequency signal processing device 71 to the outside of the housing 101, the influence of the metal shield applied to the housing 101 can be avoided as much as possible. It has a configuration that facilitates reception and radiation.
【0074】以上のように、本実施形態によれば、筐体
2に導電配線パターン73を形成してアンテナ素子AT
Nを構成して電波の受信あるいは放射機能を高周波信号
処理装置71に一体的に具備させることにより、アンテ
ナ素子ATNをチップ状のアンテナ部品を筐体2に外付
けする場合に比較して、高周波信号処理装置71の面積
および体積の縮小化および筐体2の薄型化が可能とな
る。また、アンテナ素子ATNを構成する導電配線パタ
ーン73の形成領域に対応して筐体2の下蓋4に誘電体
部材75を設けることで、任意の特性のアンテナ素子A
TNを設計でき、かつ、アンテナ素子ANTの共振器長
を任意に調整することができる。すなわち、誘電体部材
72の比誘電率を、製造する高周波信号処理装置71の
寸法や形体に合わせて選択すれば良く、アンテナ素子A
TNの設計の幅が広がるといえる。As described above, according to this embodiment, the antenna element AT
The antenna element ATN is provided integrally with the high-frequency signal processing device 71 so as to form the antenna element ATN so that the antenna element ATN has a higher frequency than the case where a chip-shaped antenna component is externally attached to the housing 2. The area and volume of the signal processing device 71 can be reduced, and the thickness of the housing 2 can be reduced. Also, by providing a dielectric member 75 on the lower cover 4 of the housing 2 corresponding to the formation region of the conductive wiring pattern 73 constituting the antenna element ATN, the antenna element A having an arbitrary characteristic can be obtained.
The TN can be designed, and the resonator length of the antenna element ANT can be arbitrarily adjusted. That is, the relative permittivity of the dielectric member 72 may be selected according to the size and shape of the high-frequency signal processing device 71 to be manufactured.
It can be said that the range of TN design is expanded.
【0075】本実施形態では、アンテナ素子ATNを構
成する導電配線パターン73の近傍に誘電体部材72を
設ける構成としたが、誘電体部材72を設けなくとも所
望の特性のアンテナ素子ATNを構成することができる
場合には、誘電体部材72は当然不要である。また、誘
電体部材72を設けない場合にも、誘電体である筐体2
(下蓋4)のうちアンテナ素子ATNを構成する導電配
線パターン73を形成する形成領域の肉厚を部分的に調
整することで、アンテナ素子ATNの特性を調整するこ
とが可能である。すなわち、アンテナ素子ATNに望ま
れる特性に応じて自由に筐体2の肉厚の設計値を変更す
ればよい。さらに、本実施形態によれば、アンテナ素子
ATNを構成する導電配線パターン73が筐体2の一端
側の外側面に平面的に形成されるので、高周波信号処理
装置71が電子機器に差し込まれても、電子機器の差し
込み口からアンテナ素子ATNのみを外部に露出させる
ことができ、電波の受信・放射を行いやすい。In this embodiment, the dielectric member 72 is provided in the vicinity of the conductive wiring pattern 73 constituting the antenna element ATN. However, the antenna element ATN having desired characteristics can be formed without providing the dielectric member 72. Where this is possible, the dielectric member 72 is of course unnecessary. Further, even when the dielectric member 72 is not provided, the case 2 which is a dielectric
The characteristics of the antenna element ATN can be adjusted by partially adjusting the thickness of the formation region of the (lower lid 4) where the conductive wiring pattern 73 forming the antenna element ATN is formed. That is, the design value of the thickness of the housing 2 may be freely changed according to the characteristics desired for the antenna element ATN. Furthermore, according to the present embodiment, since the conductive wiring pattern 73 constituting the antenna element ATN is formed on the outer surface on one end side of the housing 2 in a plane, the high-frequency signal processing device 71 is inserted into the electronic device. Also, only the antenna element ATN can be exposed to the outside from the insertion opening of the electronic device, and it is easy to receive and radiate radio waves.
【0076】また、本実施形態では、アンテナ素子AT
Nを構成する導電配線パターン73を筐体2の外側面に
形成したが、要求仕様によっては、たとえば、筐体2を
構成する上蓋3の凹部3aの表面や下蓋4の凹部4aの
表面に形成することも可能である。In this embodiment, the antenna element AT
The conductive wiring pattern 73 constituting N is formed on the outer surface of the housing 2. However, depending on the required specifications, for example, the surface of the recess 3 a of the upper lid 3 or the surface of the recess 4 a of the lower lid 4 may be formed depending on the required specifications. It is also possible to form.
【0077】なお、本実施形態に係る高周波信号処理装
置71では、バンドパスフィルタとして機能する回路部
品80を下蓋4に直接実装したが、上述した第1〜第4
の実施形態において説明したように、回路部品80に代
えてバンドパスフィルタを筐体2に導電配線パターンに
よって直接形成する構成とすることも可能である。この
ような構成とすることにより、高周波信号処理装置71
をさらに小型化、薄型化することが可能である。In the high-frequency signal processing device 71 according to the present embodiment, the circuit component 80 functioning as a band-pass filter is directly mounted on the lower cover 4.
As described in the embodiment, a band-pass filter may be directly formed on the housing 2 by a conductive wiring pattern instead of the circuit component 80. With such a configuration, the high-frequency signal processing device 71
Can be further reduced in size and thickness.
【0078】以上、本発明の種々の実施形態について説
明したが、本発明は上述した実施形態に限定されない。
上述した実施形態では、筐体に直接形成する回路素子と
して、バンドパスフィルタやアンテナ素子の場合につい
て説明したが、このような受動素子以外の受動素子を形
成することも可能であり、また、受動素子以外にも電源
をもつ能動素子についても形成可能である。また、上述
した各実施形態において説明した技術を適宜組み合わせ
ることで、さらに筐体2の薄型化、軽量化、小型化を図
ることができる。Although various embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments.
In the above-described embodiment, a case has been described in which a band-pass filter or an antenna element is used as a circuit element directly formed on the housing. However, a passive element other than such a passive element can be formed. An active element having a power supply other than the element can be formed. Further, by appropriately combining the techniques described in the above-described embodiments, the thickness, weight, and size of the housing 2 can be further reduced.
【0079】[0079]
【発明の効果】本発明によれば、所定の機能を果たす回
路を構成する回路部品を内蔵し、たとえば、フィルタや
アンテナ等の回路素子を一体化してモジュール化した高
周波信号処理装置の薄型化、小型化、軽量化が可能とな
る。According to the present invention, a high-frequency signal processing device having a built-in circuit component constituting a circuit performing a predetermined function, for example, a module integrated by integrating circuit elements such as a filter and an antenna, is reduced in thickness. It is possible to reduce the size and weight.
【図1】本発明の第1の実施形態に係る高周波信号処理
装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であり、
(b)は断面図である。FIG. 1 is a diagram showing a structure of a high-frequency signal processing device according to a first embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view,
(B) is a sectional view.
【図2】高周波回路の一例を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram illustrating an example of a high-frequency circuit.
【図3】筐体に形成されたバンドパスフィルタの構成を
示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of a bandpass filter formed on a housing.
【図4】筐体に形成されたバンドパスフィルタの周波数
特性を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing frequency characteristics of a band-pass filter formed on a housing.
【図5】本発明の第2の実施形態に係る高周波信号処理
装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であり、
(b)は断面図である。5A and 5B are diagrams showing a structure of a high-frequency signal processing device according to a second embodiment of the present invention, wherein FIG. 5A is a plan view,
(B) is a sectional view.
【図6】下蓋の一構成例を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a configuration example of a lower lid.
【図7】筐体に形成されたバンドパスフィルタの周波数
特性を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing frequency characteristics of a band-pass filter formed on a housing.
【図8】本発明の第3の実施形態に係る高周波信号処理
装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であり、
(b)は断面図である。FIG. 8 is a diagram showing a structure of a high-frequency signal processing device according to a third embodiment of the present invention, wherein (a) is a plan view,
(B) is a sectional view.
【図9】筐体に形成されたバンドパスフィルタの構成を
示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a configuration of a bandpass filter formed on a housing.
【図10】図9のA−A線方向の断面図である。FIG. 10 is a sectional view taken along line AA of FIG. 9;
【図11】図9のB−B線方向の断面図である。FIG. 11 is a sectional view taken along line BB of FIG. 9;
【図12】図9のC−C線方向の断面図である。FIG. 12 is a sectional view taken along the line CC of FIG. 9;
【図13】図9のD−D線方向の断面図である。FIG. 13 is a sectional view taken along the line DD in FIG. 9;
【図14】本発明の第3の実施形態に係るバンドパスフ
ィルタのシールド構造を簡略化したモデルを示す平面図
である。FIG. 14 is a plan view showing a model in which a shield structure of a bandpass filter according to a third embodiment of the present invention is simplified.
【図15】図14のE−E線方向の断面図である。15 is a cross-sectional view taken along the line EE of FIG.
【図16】図14に示すバンドパスフィルタのF−F線
方向の断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view taken along the line FF of the band-pass filter shown in FIG. 14;
【図17】図14に示すバンドパスフィルタの周波数特
性を示すグラフである。FIG. 17 is a graph showing frequency characteristics of the bandpass filter shown in FIG.
【図18】本発明の第4の実施形態に係る高周波信号処
理装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であ
り、(b)は断面図である。FIGS. 18A and 18B are diagrams showing a structure of a high-frequency signal processing device according to a fourth embodiment of the present invention, wherein FIG. 18A is a plan view and FIG.
【図19】筐体に形成されたバンドパスフィルタの構成
を示す平面図である。FIG. 19 is a plan view illustrating a configuration of a bandpass filter formed on a housing.
【図20】筐体に形成されたバンドパスフィルタの周波
数特性を示すグラフである。FIG. 20 is a graph showing frequency characteristics of a band-pass filter formed on a housing.
【図21】本発明の第5の実施形態に係る高周波信号処
理装置の構造を示す図であって、(a)は平面図であ
り、(b)は断面図である。21A and 21B are diagrams illustrating a structure of a high-frequency signal processing device according to a fifth embodiment of the present invention, wherein FIG. 21A is a plan view and FIG. 21B is a cross-sectional view.
【図22】図21のアンテナパターンの形成部分の構造
の詳細を示す平面図である。FIG. 22 is a plan view showing details of a structure of a portion where an antenna pattern is formed in FIG. 21;
【図23】図22のアンテナパターンを矢印Gの方向か
ら見た図である。23 is a diagram of the antenna pattern of FIG. 22 as viewed from the direction of arrow G.
【図24】図22のアンテナパターンをH−H線方向の
断面図である。24 is a sectional view of the antenna pattern of FIG. 22 taken along the line HH.
【図25】図22のアンテナパターンを矢印Jの方向か
ら見た図である。25 is a diagram of the antenna pattern of FIG. 22 as viewed from the direction of arrow J.
【図26】図22のアンテナパターンを矢印Kの方向か
ら見た図である。26 is a diagram of the antenna pattern of FIG. 22 as viewed from the direction of arrow K.
【図27】本発明の第5の実施形態に係るアンテナのイ
ンピーダンス特性をシミュレートするためのモデルを示
す図である。FIG. 27 is a diagram showing a model for simulating the impedance characteristic of the antenna according to the fifth embodiment of the present invention.
【図28】図27に示すモデルのアンテナの入力インピ
ーダンス特性を示すグラフである。FIG. 28 is a graph showing input impedance characteristics of the antenna of the model shown in FIG. 27;
【図29】アンテナ素子が形成された高周波信号処理装
置の筐体101への装着方法を説明するための図であ
る。FIG. 29 is a diagram for explaining a method of mounting the high-frequency signal processing device provided with the antenna element to the housing 101.
【図30】モジュール化された高周波信号処理装置の構
造の一例を示す図である。FIG. 30 is a diagram illustrating an example of a structure of a modularized high-frequency signal processing device.
【図31】図30に示す高周波信号処理装置にアンテナ
機能を付加した高周波信号処理装置の構成の一例を示す
図である。31 is a diagram illustrating an example of a configuration of a high-frequency signal processing device obtained by adding an antenna function to the high-frequency signal processing device illustrated in FIG. 30;
1,31,41,61、71…高周波信号処理装置、2
…筐体、3…上蓋、3a…凹部、4…下蓋、4a…凹
部、6,7…ICチップ、9…コンデンサ、10…コイ
ル、11…接地層、13…導電配線、16,17…接地
層、BPF1,BPF2,BPF3…分布定数型バンド
パスフィルタ。1, 31, 41, 61, 71 ... high-frequency signal processing device, 2
... case, 3 ... top cover, 3a ... recess, 4 ... bottom cover, 4a ... recess, 6,7 ... IC chip, 9 ... capacitor, 10 ... coil, 11 ... ground layer, 13 ... conductive wiring, 16, 17 ... Ground layer, BPF1, BPF2, BPF3 ... distributed constant bandpass filter.
Claims (26)
体材料からなる筐体と、 前記筐体に直接形成された導電配線パターンによって構
成され、前記高周波回路に接続される回路素子とを有す
る高周波信号処理装置。1. A housing made of a dielectric material having an accommodating portion for accommodating a high-frequency circuit, and a circuit element constituted by a conductive wiring pattern formed directly on the housing and connected to the high-frequency circuit. High frequency signal processing device.
に記載の高周波信号処理装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein said circuit element is a filter.
2. The high-frequency signal processing device according to 1.
る請求項2に記載の高周波信号処理装置。3. The high-frequency signal processing device according to claim 2, wherein said circuit element is a band-pass filter.
裏面には、導電材料からなる接地層が形成されている請
求項2に記載の高周波信号処理装置。4. The high-frequency signal processing device according to claim 2, wherein a ground layer made of a conductive material is formed on a back surface of the housing on which the conductive wiring pattern is formed.
面に形成されている請求項2に記載の高周波信号処理装
置。5. The high-frequency signal processing device according to claim 2, wherein the conductive wiring pattern is formed on an inner surface of the housing.
前記筐体の厚さは、他の部分の厚さと異る請求項2に記
載の高周波信号処理装置。6. The high-frequency signal processing device according to claim 2, wherein the thickness of the housing in a region where the conductive wiring pattern is formed is different from the thickness of other portions.
前記筐体の厚さは、他の部分の厚さよりも厚い請求項2
に記載の高周波信号処理装置。7. A thickness of the housing in a region where the conductive wiring pattern is formed is larger than thicknesses of other portions.
2. The high-frequency signal processing device according to 1.
部分的な厚肉部分は、前記筐体の機械的強度を補強して
いる請求項6に記載の高周波信号処理装置。8. The high-frequency signal processing device according to claim 6, wherein a partially thick portion of the case in which the conductive wiring pattern is formed reinforces the mechanical strength of the case.
部分的な厚肉部分の厚さによって前記フィルタ回路の挿
入損失特性が決定されている請求項6に記載の高周波信
号処理装置。9. The high-frequency signal processing device according to claim 6, wherein an insertion loss characteristic of said filter circuit is determined by a thickness of a partially thick portion of a region where said conductive wiring pattern is formed in said housing.
の部分的な厚肉部分は、前記収容部内に突出している請
求項6に記載の高周波信号処理装置。10. The high-frequency signal processing device according to claim 6, wherein a partially thick portion of the conductive wiring pattern forming region of the housing projects into the housing portion.
る請求項2に記載の高周波信号処理装置。11. The high-frequency signal processing device according to claim 2, wherein said filter comprises a distributed constant resonator.
ンと、 前記導電配線パターンが形成された筐体の裏面に形成さ
れた導電材料からなる接地層と、 前記導電配線パターン上に存在する空間と、から構成さ
れている請求項2に記載の高周波信号処理装置。12. The filter comprises the housing, a conductive wiring pattern having a predetermined pattern formed on the housing, and a conductive material formed on a back surface of the housing on which the conductive wiring pattern is formed. The high-frequency signal processing device according to claim 2, further comprising a ground layer, and a space existing on the conductive wiring pattern.
る請求項1に記載の信号処理回路。13. The signal processing circuit according to claim 1, wherein a material for forming the housing is a liquid crystal polymer.
3に記載の高周波信号処理装置。14. The housing according to claim 1, wherein said housing is an injection molded product.
4. The high-frequency signal processing device according to 3.
ベアチップとして前記筐体の収容部の内面に搭載されて
いる請求項1に記載の高周波信号処理装置。15. The circuit component constituting the high-frequency circuit,
2. The high-frequency signal processing device according to claim 1, wherein the high-frequency signal processing device is mounted as a bare chip on an inner surface of a housing portion of the housing.
ミリ波帯以上の高周波信号を処理する請求項1に記載の
高周波信号処理装置。16. The high-frequency signal processing device according to claim 1, wherein said high-frequency circuit processes a high-frequency signal in a microwave band or a millimeter-wave band or higher.
蓋体を有し、 前記第1および第2の蓋体は、外周部に互いに接合され
る接合部を備え、かつ、前記第1および第2の蓋体の互
いに対向する各対向面の少なくとも一方に凹部を備え、
当該凹部によって前記収容部を構成している請求項1に
記載の高周波信号処理装置。17. The housing has first and second flat lids, wherein the first and second lids have a joining portion joined to an outer peripheral portion thereof, and A concave portion is provided on at least one of the opposing surfaces of the first and second lids,
The high-frequency signal processing device according to claim 1, wherein the housing portion is configured by the concave portion.
なくとも一方に、前記導電配線パターンが直接形成され
ており、かつ、前記高周波回路を構成する回路部品が搭
載されている請求項17に記載の高周波信号処理装置。18. A method according to claim 18, wherein the conductive wiring pattern is directly formed on at least one of the opposing surfaces of the first and second lids, and a circuit component constituting the high-frequency circuit is mounted. 18. The high-frequency signal processing device according to item 17.
によって成形されている請求項17に記載の高周波信号
処理装置。19. The high-frequency signal processing device according to claim 17, wherein said first and second lids are formed by injection molding.
ベアチップとして前記第1および/または第2の蓋体の
対向面に直接搭載されている請求項17に記載の高周波
信号処理装置。20. A circuit component constituting the high-frequency circuit,
The high-frequency signal processing device according to claim 17, wherein the high-frequency signal processing device is directly mounted on a facing surface of the first and / or second lid as a bare chip.
なくとも一方に、厚さが部分的に厚くなった当該対向面
から突出する突出部を有し、 前記突出部の上面に前記導電配線パターンが形成されて
いる請求項17に記載の高周波信号処理装置。21. At least one of the opposing surfaces of the first and second lids has a projecting portion projecting from the opposing surface, the thickness of which is partially increased. The high-frequency signal processing device according to claim 17, wherein a conductive wiring pattern is formed.
蓋体を有し、 前記第1および第2の蓋体は、外周部に互いに接合され
る接合部を備え、かつ、前記第1および第2の蓋体の互
いに対向する各対向面の少なくとも一方に凹部を備え、
当該凹部によって前記収容部を構成している請求項1に
記載の高周波信号処理装置。22. The casing has first and second flat lids, wherein the first and second lids have joints joined to an outer peripheral portion thereof, and A concave portion is provided on at least one of the opposing surfaces of the first and second lids,
The high-frequency signal processing device according to claim 1, wherein the housing portion is configured by the concave portion.
処理するベースバンド信号処理回路と、 ベースバンド信号を高周波信号に変調し、あるいは、高
周波信号をベースバンド信号に復調する高周波信号処理
回路と、 所定の周波数帯の高周波信号のみを通過させて前記高周
波信号処理回路に出力し、あるいは、前記高周波信号処
理回路から出力される信号のうち所定の周波数帯の高周
波信号のみを通過させて出力するバンドパスフィルタ回
路と、を有し、 前記バンドパスフィルタ回路は、導電配線パターンによ
って前記筐体に直接形成され、 前記ベースバンド信号処理回路および高周波信号処理回
路は、前記筐体の収容部にチップ状の回路部品として搭
載されている請求項1に記載の高周波信号処理装置。23. A high-frequency circuit, comprising: a baseband signal processing circuit for processing a baseband signal; a high-frequency signal processing circuit for modulating the baseband signal into a high-frequency signal or demodulating the high-frequency signal into a baseband signal; A band that passes only a high-frequency signal of a predetermined frequency band and outputs to the high-frequency signal processing circuit, or a band that passes only a high-frequency signal of a predetermined frequency band and outputs the signal output from the high-frequency signal processing circuit. And a pass filter circuit, wherein the band-pass filter circuit is directly formed on the housing by a conductive wiring pattern, and the baseband signal processing circuit and the high-frequency signal processing circuit are chip-shaped in a housing portion of the housing. 2. The high-frequency signal processing device according to claim 1, which is mounted as a circuit component.
え、かつ、互いに対向する各対向面の少なくとも一方に
凹部を備える第1および第2の蓋体を成形する工程と、 前記第1および第2の蓋体の少なくとも一方に高周波回
路に接続される回路素子を構成する導電配線パターンお
よび当該高周波回路を電気的に接続する導電配線を直接
形成する工程と、 前記高周波回路の回路部品を少なくとも第1および第2
の蓋体の一方の凹部に搭載する工程と、 前記第1および第2の蓋体の接合部を接合する工程とを
有する高周波信号処理装置の製造方法。24. A step of forming first and second lids each having a joint portion joined to the outer peripheral portion and having a concave portion on at least one of the opposing surfaces facing each other; A step of directly forming a conductive wiring pattern constituting a circuit element connected to the high-frequency circuit and a conductive wiring electrically connecting the high-frequency circuit to at least one of the second lids; First and second
A method for manufacturing a high-frequency signal processing device, comprising: a step of mounting the cover in one concave portion of the cover; and a step of joining a joint of the first and second covers.
程は、超音波溶着法によって接合する請求項25に記載
の高周波信号処理装置の製造方法。25. The method according to claim 25, wherein the step of bonding the first and second lids is performed by an ultrasonic welding method.
程は、前記第1および第2の蓋体の対向面の少なくとも
一方に、厚さが部分的に厚くなった当該対向面から突出
する突出部を一体に形成し、 前記導電配線パターンを形成する工程は、前記突出部の
上面に導電配線パターンを直接形成する請求項25に記
載の高周波信号処理装置の製造方法。26. The step of molding the first and second lids includes the step of forming at least one of the opposing surfaces of the first and second lids from the opposing surface having a partially increased thickness. 26. The method of manufacturing a high-frequency signal processing device according to claim 25, wherein the step of forming the projecting portion integrally and forming the conductive wiring pattern directly forms the conductive wiring pattern on the upper surface of the projecting portion.
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2000
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