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JP2001297700A - Method and device for producing plasma display panel - Google Patents

Method and device for producing plasma display panel

Info

Publication number
JP2001297700A
JP2001297700A JP2000110262A JP2000110262A JP2001297700A JP 2001297700 A JP2001297700 A JP 2001297700A JP 2000110262 A JP2000110262 A JP 2000110262A JP 2000110262 A JP2000110262 A JP 2000110262A JP 2001297700 A JP2001297700 A JP 2001297700A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aging
display panel
plasma display
manufacturing
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000110262A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Hasegawa
和之 長谷川
Kazuhiko Sugimoto
和彦 杉本
Hideaki Yasui
秀明 安井
Hiroyoshi Tanaka
博由 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2000110262A priority Critical patent/JP2001297700A/en
Publication of JP2001297700A publication Critical patent/JP2001297700A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To restrain dispersion of discharging characteristics of a plasma display panel as a product and reduce the decrease in yield due to insufficient aging on the like. SOLUTION: An aging device with a gas analyzer or an infrared spectral analyzer is used to do work, while seizing aging processes. An aging ending time is judged from the measurement result.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネル(以下PDP)に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP) used for a display device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、PDPとしては、図4に示す形状
が知られている。表面基板2と背面基板3とが所定の間
隔をあけて対向して設けられており、その間隔には放電
によって紫外線を放射するガスが封入されている。表面
基板2上には複数の帯状の第一電極4(走査電極4a、
維持電極4b)が、背面基板3上には第一電極4と垂直
に帯状の第二電極5が設けられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a PDP, a shape shown in FIG. 4 has been known. The front substrate 2 and the rear substrate 3 are provided facing each other at a predetermined interval, and a gas that emits ultraviolet rays by discharge is sealed in the interval. A plurality of strip-shaped first electrodes 4 (scanning electrodes 4a,
A sustain electrode 4b) is provided on the rear substrate 3 with a strip-shaped second electrode 5 perpendicular to the first electrode 4.

【0003】このPDPの従来の作成法は、表面基板・
背面基板それぞれ作成後、アセンブリ工程として、貼り
合わせ・封着、排気・ガス封入・封止がおこなわれ、パ
ネル完成となる。しかし、この状態ではパネル点灯には
非常に高電圧が必要である。このため、パネルの放電特
性を安定化させるために、ある一定の時間全放電領域を
放電させるエージングがおこなわれる。
[0003] The conventional method of producing this PDP is based on a surface substrate
After each of the rear substrates is formed, bonding, sealing, exhausting, gas sealing, and sealing are performed as an assembly process to complete the panel. However, in this state, a very high voltage is required for panel lighting. Therefore, in order to stabilize the discharge characteristics of the panel, aging is performed to discharge the entire discharge region for a certain period of time.

【0004】従来のPDPの作成においては、このエー
ジング工程は、さまざまな工程中にておこなわれてい
る。例えば、表面基板・背面基板の貼り合わせ前に表面
基板のみの状態でエージングをおこなう場合、あるいは
排気工程中にエージングをおこないその後あらたにガス
封入・封止する場合、あるいはガス封入・封止後にエー
ジングをおこなう場合などがある。
In the preparation of a conventional PDP, this aging step is performed during various steps. For example, when aging is performed only on the front substrate before bonding the front substrate and the rear substrate, or when aging is performed during the exhaust process and then gas sealing and sealing is performed, or aging after gas sealing and sealing is performed. And so on.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】この従来のエージング
手法においては、目的とする放電電圧の安定までには約
8時間程度という長時間の放電時間が必要であり、また
この工程時間は経験則によるものでパネル間のばらつき
は踏襲していない。このため、この8時間というエージ
ング時間では、例えばあるパネルに対してはエージング
不足で放電電圧が安定しておらず検査工程で不良となる
場合があり、あるパネルではより短時間で十分に放電電
圧が安定してするため、余分な工程時間を掛け、さらに
は余分な輝度劣化も生じさせていた。
In this conventional aging method, a long discharge time of about 8 hours is required for stabilization of a desired discharge voltage, and this process time is based on empirical rules. The variation between panels does not follow. For this reason, in the aging time of 8 hours, for example, a certain panel may be insufficiently aged and the discharge voltage may not be stable, resulting in a failure in an inspection process. In order to stabilize the image quality, extra process time is required, and further, extra luminance degradation is caused.

【0006】そこで本発明は上記課題に鑑み、PDP作
成のエージング工程において、各パネルに適したエージ
ング時間を施し、製品の特性のばらつきを抑え、歩留ま
りの向上を目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned problems, an object of the present invention is to provide an aging time suitable for each panel in an aging process for producing a PDP, suppress variations in product characteristics, and improve the yield.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明では上記課題解決
のために、表面基板の保護膜作成後に、エージング状態
を把握するための分析装置を具備したチャンバ内にて、
表面基板のみのエージングをおこない、その分析結果か
らエージングを終了させることをおこなう。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, after forming a protective film on a surface substrate, in a chamber provided with an analyzer for grasping an aging state,
Aging is performed only on the surface substrate, and aging is terminated based on the analysis result.

【0008】この分析装置として第1の発明は出ガス分
析装置を具備した場合についての手法であり、第2の発
明では赤外分光分析装置を具備した場合についての手法
である。
The first invention relates to a method provided with an outgassing analyzer, and the second invention relates to a method provided with an infrared spectrometer.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)第1の発明の実
施の形態について図面を参照しながら説明する。図1は
本発明の一実施例のエージング装置の概略断面図であ
る。
(Embodiment 1) An embodiment of the first invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of an aging device according to one embodiment of the present invention.

【0010】真空チャンバ11内に保護層を成膜した表
面基板12を配置し、図2に示すように、走査電極4a
に第一ショート電極6を、維持電極4bに第二ショート
電極7を接続し、さらにそれらをエージング電源に接続
する。その後、真空チャンバ11内を真空排気系13に
より高真空まで排気し、ガス導入系14より放電ガスを
封入する。
A surface substrate 12 on which a protective layer is formed is placed in a vacuum chamber 11, and as shown in FIG.
Then, the first short electrode 6 is connected to the sustain electrode 4b, and the second short electrode 7 is connected to the sustain electrode 4b. Thereafter, the inside of the vacuum chamber 11 is evacuated to a high vacuum by a vacuum evacuation system 13 and a discharge gas is sealed from a gas introduction system 14.

【0011】このときのガス組成は、パネル形成時に封
入するものと同じである必要はない。また、このときの
ガス圧はパネル形成時のそれよりは低くすることが望ま
しい。この条件下であれば、発生するプラズマによるス
パッタレートは上昇し、エージング時間を短くすること
ができる。
The gas composition at this time does not need to be the same as the gas composition when the panel is formed. It is desirable that the gas pressure at this time be lower than that at the time of panel formation. Under this condition, the sputter rate by the generated plasma increases, and the aging time can be shortened.

【0012】その後、エージング電源15により電極間
に高電圧を印加してエージングをおこなう。このときチ
ャンバ11内に設置した四重極型質量分析計16にて放
電ガスのガス組成の変化をモニタしつつ工程を進める。
この工程中で発生する不純物ガスとしては、H2O、
2、H2、CO、CO2、N2といったものがあり、これ
ら組成の強度をモニタする。この測定結果から所定のガ
スの強度がある一定値に飽和された段階で、表面基板1
2のクリーニングが完了したとしてエージング作業を終
了する。これは四重極型質量分析計16の測定結果を演
算部17によって判断し、制御系18にフィードバック
し、エージング電源15を制御することにより行う。
Thereafter, aging is performed by applying a high voltage between the electrodes by an aging power supply 15. At this time, the process proceeds while monitoring the change in the gas composition of the discharge gas with the quadrupole mass spectrometer 16 installed in the chamber 11.
As the impurity gas generated in this step, H 2 O,
There are O 2 , H 2 , CO, CO 2 , N 2 , and the intensity of these compositions is monitored. From the measurement result, when the intensity of the predetermined gas is saturated to a certain value, the surface substrate 1
Assuming that the cleaning of No. 2 has been completed, the aging operation is terminated. This is performed by judging the measurement result of the quadrupole mass spectrometer 16 by the arithmetic unit 17 and feeding it back to the control system 18 to control the aging power supply 15.

【0013】(実施の形態2)第2の発明の実施の形態
について図面を参照しながら説明する。図3は本発明の
一実施例のエージング装置の概略断面図である。
(Embodiment 2) An embodiment of the second invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a schematic sectional view of an aging device according to one embodiment of the present invention.

【0014】本実施の形態でのエージング手法に関して
は上記の実施の形態1と同様の手法である。本実施の形
態ではエージング状態を把握する手段として赤外分光法
を用いる。これによりエージング中のパネルの状態をモ
ニタし、エージング時間を制御する。表面基板12上に
は大気の影響でMgCO3、Mg(OH)2などが形成さ
れている。赤外分光法によって表面基板で吸収されたス
ペクトルから、エージング中におけるこれら不純物の変
化をモニタする。
The aging method in the present embodiment is the same as in the first embodiment. In the present embodiment, infrared spectroscopy is used as means for grasping the aging state. This monitors the state of the panel during aging and controls the aging time. MgCO 3 , Mg (OH) 2 and the like are formed on the front substrate 12 under the influence of the atmosphere. Changes in these impurities during aging are monitored from spectra absorbed by the surface substrate by infrared spectroscopy.

【0015】本実施例で使用する装置は、図3のよう
に、真空チャンバ12内に、赤外線ランプ等の赤外線照
射装置21、第1の集光手段である凹面鏡22、反射鏡
24、アパーチャ25、第2の集光手段である凹面鏡2
6、プリズム27、第3の凹面鏡28、真空熱電対29
を具備している。エージングをおこなう表面基板23は
反射鏡24の上に保護膜が赤外線の入射面となるように
設置し配線する。赤外線はガラスに吸収されるので、凹
面鏡22、26、28は赤外線の入射面にアルミ等の金
属を蒸着しておく。
As shown in FIG. 3, the apparatus used in the present embodiment includes an infrared irradiation device 21 such as an infrared lamp, a concave mirror 22, a reflecting mirror 24, and an aperture 25, which are first condensing means, in a vacuum chamber 12. A concave mirror 2 serving as a second focusing means
6, prism 27, third concave mirror 28, vacuum thermocouple 29
Is provided. The surface substrate 23 to be aged is placed and wired on the reflecting mirror 24 so that the protective film serves as an infrared incident surface. Since infrared rays are absorbed by glass, the concave mirrors 22, 26, and 28 are formed by depositing a metal such as aluminum on the incident surface of the infrared rays.

【0016】赤外線照射装置21から照射された赤外線
は、凹面鏡22により集光される。凹面鏡22による赤
外線の焦点位置が、表面基板と反射鏡24の反射面の間
になるよう調節する。
The infrared light emitted from the infrared irradiation device 21 is collected by the concave mirror 22. The focal position of the infrared light by the concave mirror 22 is adjusted so as to be between the surface substrate and the reflection surface of the reflection mirror 24.

【0017】アパーチャー25にて、表面基板23と反
射鏡24で反射した赤外線のフレアー成分を除去する。
第2の凹面鏡26にて、アパーチャー25を通過した赤
外線を平行光にし、プリズム27にて第2の凹面鏡26
より平行光となった赤外線をスペクトルに分解し、第3
の凹面鏡28によってプリズム27を通過しスペクトル
に分解された赤外線を集光する。
The aperture 25 removes the infrared flare component reflected by the front substrate 23 and the reflecting mirror 24.
The second concave mirror 26 converts the infrared light that has passed through the aperture 25 into parallel light, and the prism 27 converts the infrared light into second light.
The infrared rays that have become more parallel are decomposed into spectra,
Infrared rays that have passed through the prism 27 and are decomposed into spectra by the concave mirror 28 are collected.

【0018】そして、真空熱電対29にて集光された赤
外線の各波数のスペクトル強度を電気信号に変換する。
この信号を演算部17にて認識し制御部18にてエージ
ング電源15を制御する。
Then, the spectral intensity of each wave number of the infrared light collected by the vacuum thermocouple 29 is converted into an electric signal.
This signal is recognized by the arithmetic unit 17 and the aging power supply 15 is controlled by the control unit 18.

【0019】エージング終了時間の認識は、測定された
各波数のスペクトル強度の電気信号の内、予め設定した
波数がある一定値になった段階でおこなう。
Recognition of the aging end time is performed at a stage when a preset wave number of the measured electric signal of the spectral intensity of each wave number has reached a certain value.

【0020】また本実施の形態では赤外線を集光したり
平行光とする手段に凹面鏡を用いたが、複数のレンズを
用いてもよい。また、基板は固定したがベルトコンベア
ーで移動しながらの検査も可能であり、測定形態として
反射光を用いず、表面基板を通過した赤外線の赤外線吸
収スペクトルを検出する形態でもよい。
In this embodiment, a concave mirror is used as a means for collecting infrared rays or turning them into parallel rays. However, a plurality of lenses may be used. In addition, although the substrate is fixed, inspection while moving on a belt conveyor is also possible. As a measurement mode, an infrared absorption spectrum of infrared light passing through the front substrate may be detected without using reflected light.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、表面基板
のみのエージングをおこない、ガス分析装置あるいは赤
外分光分析装置にて、エージング進行状態をリアルタイ
ムに判定することができ、PDP製品としての放電特性
のばらつきを抑えることができ、エージング不足等によ
る歩留まり低下も軽減できる。
As described above, according to the present invention, aging of only the surface substrate can be performed, and the progress of aging can be determined in real time by a gas analyzer or an infrared spectroscopic analyzer. Of the discharge characteristics can be suppressed, and a decrease in yield due to insufficient aging can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1の装置構成を示す図FIG. 1 is a diagram showing an apparatus configuration according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明のエージング工程の手法を示す図FIG. 2 is a diagram showing a technique of an aging step of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態2の装置構成を示す図FIG. 3 is a diagram showing a device configuration according to a second embodiment of the present invention;

【図4】従来のプラズマディスプレイパネルを示す図FIG. 4 is a diagram showing a conventional plasma display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プラズマディスプレイパネル 2 表面基板 3 背面基板 4 第一電極 4a 走査電極 4b 維持電極 5 第二電極(アドレス電極) 6 第一ショート電極 7 第二ショート電極 11 真空チャンバ 12 表面基板 13 真空排気系 14 ガス導入系 15 エージング電源 16 四重極型質量分析系 17 演算部 18 制御系 21 赤外線照射装置 22 第1凹面鏡 23 表面基板 24 反射鏡 25 アパーチャ 26 第2凹面鏡 27 プリズム 28 第3凹面鏡 29 真空熱電対 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plasma display panel 2 Surface substrate 3 Back substrate 4 First electrode 4a Scan electrode 4b Sustain electrode 5 Second electrode (address electrode) 6 First short electrode 7 Second short electrode 11 Vacuum chamber 12 Surface substrate 13 Vacuum exhaust system 14 Gas Introduction system 15 Aging power supply 16 Quadrupole mass spectrometry system 17 Operation unit 18 Control system 21 Infrared irradiation device 22 First concave mirror 23 Surface substrate 24 Reflecting mirror 25 Aperture 26 Second concave mirror 27 Prism 28 Third concave mirror 29 Vacuum thermocouple

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安井 秀明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 田中 博由 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C012 AA09 VV01 VV04 5C040 GC19 JA24 MA23 MA26  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Hideaki Yasui 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F-term (reference) 5C012 AA09 VV01 VV04 5C040 GC19 JA24 MA23 MA26

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】プラズマディスプレイパネルの製造方法で
あって、ガス分析装置を具備したチャンバー内で、表面
基板のみのエージングをおこなうことを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
1. A method of manufacturing a plasma display panel, comprising aging only a front substrate in a chamber provided with a gas analyzer.
【請求項2】プラズマディスプレイパネルの製造方法で
あって、表面基板のみエージングをおこない、前記エー
ジング中に放電ガスの変化をガス分析装置にて検知し、
その検知結果からエージング終了時間の判定をすること
を特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. A method of manufacturing a plasma display panel, wherein aging is performed only on a surface substrate, and a change in discharge gas is detected by a gas analyzer during the aging.
A method for manufacturing a plasma display panel, comprising determining an aging end time from the detection result.
【請求項3】プラズマディスプレイパネルの製造方法で
あって、赤外分光分析装置を具備したチャンバー内で、
表面基板のみエージングをおこなうことを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルおよびその製造方法。
3. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising the steps of:
A plasma display panel comprising aging only a front substrate and a method for manufacturing the same.
【請求項4】プラズマディスプレイパネルの製造方法で
あって、表面基板のみのエージングをおこない、前記エ
ージング中に表面基板上の不純物の変化を赤外分光分析
装置にて検知し、その検知結果からエージング終了時間
の判定をすることを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
4. A method of manufacturing a plasma display panel, comprising aging only a surface substrate, detecting changes in impurities on the surface substrate during the aging with an infrared spectroscopic analyzer, and performing aging based on the detection result. A method for manufacturing a plasma display panel, comprising determining an end time.
【請求項5】エージング工程を有するプラズマディスプ
レイパネルの製造方法であって、前記エージング工程中
の基板のエージング進行状態を検知し、その検知結果か
らエージング終了時間の判定をすることを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
5. A method for manufacturing a plasma display panel having an aging step, comprising detecting an aging progress state of a substrate during the aging step, and judging an aging end time from the detection result. Display panel manufacturing method.
【請求項6】プラズマディスプレイパネルのエージング
装置であって、ガス分析装置もしくは赤外分光分析装置
および前記ガス分析装置もしくは赤外分光分析装置の検
知結果に基づきエージング終了時間を制御する制御部を
有することを特徴とするエージング装置。
6. An aging apparatus for a plasma display panel, comprising: a gas analyzer or an infrared spectrometer; and a controller for controlling an aging end time based on a detection result of the gas analyzer or the infrared spectrometer. An aging device, characterized in that:
JP2000110262A 2000-04-12 2000-04-12 Method and device for producing plasma display panel Pending JP2001297700A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005032468A (en) * 2003-07-08 2005-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aging method and aging apparatus for plasma display panel
JP2010534918A (en) * 2007-08-01 2010-11-11 オスラム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Manufacturing method of discharge lamp

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