JP2001291696A - Apparatus for forming gas-dissolved water - Google Patents
Apparatus for forming gas-dissolved waterInfo
- Publication number
- JP2001291696A JP2001291696A JP2000106552A JP2000106552A JP2001291696A JP 2001291696 A JP2001291696 A JP 2001291696A JP 2000106552 A JP2000106552 A JP 2000106552A JP 2000106552 A JP2000106552 A JP 2000106552A JP 2001291696 A JP2001291696 A JP 2001291696A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- water
- dissolved
- ejector
- dissolved water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス溶解水の製造
装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、ガス溶解水
の使用量の変動に対応して、ガス溶解水の製造量を変動
させることができる直接気液接触溶解方式によるガス溶
解水の製造装置に関する。The present invention relates to an apparatus for producing gas-dissolved water. More specifically, the present invention relates to an apparatus for producing gas-dissolved water by a direct gas-liquid contact dissolution method capable of varying the production amount of gas-dissolved water in response to a variation in the amount of gas-dissolved water used.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基
板、フォトマスク用石英基板などの電子材料の表面か
ら、微粒子、有機物、金属などを除去することは、製品
の品質、歩留まりを確保する上で極めて重要である。こ
の目的のために、いわゆるRCA洗浄法と呼ばれる過酸
化水素をベースとする濃厚薬液による高温でのウェット
洗浄が行われ、アンモニアと過酸化水素水の混合溶液
(APM)や塩酸と過酸化水素水の混合溶液(HPM)
などが用いられていた。これらの洗浄法を採用した場合
の多大な薬液コスト、リンス用の超純水コスト、廃液処
理コスト、薬品蒸気を排気し新たに清浄空気を調製する
空調コストなどを低減し、さらに水の大量使用、薬物の
大量廃棄、排ガスの放出などの環境への負荷を低減する
ために、近年ウェット洗浄工程の見直しが進められてい
る。本発明者らは、先に特定のガスを超純水に溶解し、
必要に応じて微量の薬品を添加して調製する、薬品の使
用量が極めて少なく、しかも優れた洗浄効果を発揮する
機能性洗浄水を開発した。この機能性洗浄水は、省資源
性と環境保全性が高く評価され、高濃度薬液に代わって
使用されるようになった。機能性洗浄水に用いられるガ
スとしては、オゾンガス、水素ガス、酸素ガス、希ガ
ス、炭酸ガスなどがある。これらのガスを溶解した機能
性洗浄水は、純水に近い性質を維持しつつ、従来から使
用されていた高濃度の薬液洗浄に匹敵する洗浄効果を発
揮する。特に、オゾン溶解水は、電子材料表面に付着し
た有機物汚染や金属汚染の除去に有効であり、また、ア
ンモニアを極微量添加した水素ガス溶解水、酸素ガス溶
解水、アルゴンなどの希ガス溶解水は、超音波を併用し
た洗浄工程で使用すると、極めて高い微粒子除去効果を
発揮する。オゾン溶解水の製造には、耐オゾン性を有す
る気体透過膜を内蔵した専用の溶解膜モジュールを用い
る方法が一般的であった。これに対して、本発明者ら
は、エジェクターなどと気液分離器を組み合わせた直接
気液接触溶解方式のシステムを開発し、実用化した。こ
の方式によると、膜モジュール方式に比べて格段に簡略
化された装置構成を用い、溶存ガス濃度の立ち上がり、
立ち下がりの応答性が極めて良好となり、実用性が向上
した。しかし、エジェクターを用いる直接気液接触溶解
方式には、被処理水の流量変動に広く対応できないとい
う問題があった。例えば、膜モジュール方式の場合は、
溶解するガスの供給条件を一定として被溶解水の流量を
減少すると、溶存ガス濃度は上昇し、被溶解水量を増大
させると溶存ガス濃度は低下する。このために、同一の
装置を用いて、大流量、低濃度から、小流量、高濃度ま
でを、適当に使い分けることができる。これに対して、
エジェクターを用いる直接気液接触溶解方式の場合、エ
ジェクターにとって望ましい流量範囲、すなわち、溶解
するガスを吸い込むことができる流量範囲が定まってい
る。被溶解水に効率よくガスを溶解するためには、良好
なガスの吸い込みが必須であり、形状の定まったエジェ
クターに対しては、固有の適用流量があり、任意に流量
を変えることはできない。すなわち、所定の値以下に流
量を下げるとガスを吸い込まなくなり、実質的にガス溶
解水製造装置として使用することが不可能になる。2. Description of the Related Art Removal of fine particles, organic substances, metals, and the like from the surface of electronic materials such as silicon substrates for semiconductors, glass substrates for liquid crystals, and quartz substrates for photomasks is necessary to ensure product quality and yield. Very important. For this purpose, wet cleaning is performed at a high temperature using a concentrated chemical based on hydrogen peroxide, which is a so-called RCA cleaning method, and a mixed solution of ammonia and hydrogen peroxide (APM) or hydrochloric acid and hydrogen peroxide is used. Mixed solution (HPM)
And so on. The use of these cleaning methods reduces the cost of chemical solutions, the cost of ultrapure water for rinsing, the cost of waste liquid treatment, and the cost of air conditioning that exhausts chemical vapors and prepares fresh air. In recent years, the wet cleaning process has been reviewed in order to reduce the burden on the environment such as mass disposal of drugs and emission of exhaust gas. The present inventors previously dissolved a specific gas in ultrapure water,
We have developed a functional wash water that is prepared by adding a trace amount of chemicals as needed, uses a very small amount of chemicals, and exhibits excellent cleaning effects. This functional washing water has been highly evaluated for its resource saving and environmental preservation, and has been used in place of high-concentration chemicals. Examples of the gas used for the functional cleaning water include ozone gas, hydrogen gas, oxygen gas, rare gas, and carbon dioxide gas. The functional cleaning water in which these gases are dissolved exhibits a cleaning effect comparable to the conventionally used high-concentration chemical cleaning while maintaining properties close to pure water. In particular, ozone-dissolved water is effective for removing organic contamination and metal contamination attached to the surface of electronic materials, and is also a rare gas-dissolved water such as hydrogen gas-dissolved water, oxygen gas-dissolved water, or argon to which a trace amount of ammonia is added. When used in a washing step using ultrasonic waves, an extremely high effect of removing fine particles is exhibited. In the production of ozone-dissolved water, a method using a dedicated dissolving film module having a built-in gas-permeable film having ozone resistance was generally used. On the other hand, the present inventors have developed and put into practical use a system of a direct gas-liquid contact dissolution method combining an ejector and a gas-liquid separator. According to this method, the dissolved gas concentration rises using a device configuration that is significantly simplified as compared with the membrane module method.
The responsiveness of the fall was extremely good, and the practicality was improved. However, the direct gas-liquid contact dissolution method using an ejector has a problem that it cannot widely cope with a fluctuation in the flow rate of the water to be treated. For example, in the case of the membrane module method,
When the flow rate of the water to be dissolved is reduced while the supply condition of the gas to be dissolved is kept constant, the concentration of the dissolved gas increases, and when the amount of the water to be dissolved increases, the concentration of the dissolved gas decreases. For this reason, the same apparatus can be appropriately used for large flow rate and low concentration to small flow rate and high concentration. On the contrary,
In the case of the direct gas-liquid contact dissolution method using an ejector, a flow rate range desired for the ejector, that is, a flow rate range in which the gas to be dissolved can be sucked is determined. In order to efficiently dissolve the gas in the water to be dissolved, good gas suction is essential, and an ejector having a fixed shape has a specific applied flow rate, and the flow rate cannot be arbitrarily changed. That is, if the flow rate is reduced below a predetermined value, the gas will not be sucked, and it will not be practically possible to use it as a gas-dissolved water producing apparatus.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、エジェクタ
ーを用いる直接気液接触溶解方式によるガス溶解水の製
造装置において、ガス溶解水の使用量の変動に対応し
て、ガス溶解水の製造量を変動させ、要求される水量に
追随して供給することができるガス溶解水の製造装置を
提供することを目的としてなされたものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for producing gas-dissolved water by a direct gas-liquid contact dissolution method using an ejector. The purpose of the present invention is to provide an apparatus for producing gas-dissolved water that can supply water following a required amount of water.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、エジェクターに
よるガス溶解部からユースポイントまでガス溶解水を送
る送給路に、混合用水導管を設けてガス溶解水に混合用
水を合流させることにより、使用水量の変動に応じてガ
ス溶解水の供給量を増減し得ることを見いだし、この知
見に基づいて本発明を完成するに至った。すなわち、本
発明は、(1)エジェクターによるガス溶解部、エジェ
クターに被溶解水を供給する被溶解水供給配管、エジェ
クターにガスを供給するガス供給配管、ガス溶解部から
ユースポイントまでガス溶解水を送る送給路、送給路に
設けられた気液分離器及び送給路に連絡してガス溶解水
に混合用水を合流させる混合用水導管を有することを特
徴とするガス溶解水の製造装置、(2)混合用水導管
が、気液分離器の下流側で送給路に連絡する第1項記載
のガス溶解水の製造装置、及び、(3)混合用水導管
が、気液分離器の上流側で送給路に連絡する第1項記載
のガス溶解水の製造装置、を提供するものである。さら
に、本発明の好ましい態様として、(4)混合用水導管
が、被溶解水供給配管から分岐された導管である第1項
記載のガス溶解水の製造装置、及び、(5)被溶解水供
給配管に被溶解水供給ポンプが設置され、被溶解水供給
配管から混合用水導管への分岐点が、被溶解水供給ポン
プの上流側に存在する第4項記載のガス溶解水の製造装
置、を挙げることができる。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, mixing water was supplied to a feed line for sending gas-dissolved water from a gas dissolving section by an ejector to a use point. By providing a conduit and combining the mixing water with the gas-dissolved water, it was found that the supply amount of the gas-dissolved water could be increased or decreased in accordance with the variation in the amount of water used, and based on this finding, the present invention was completed. . That is, the present invention provides (1) a gas dissolving section by an ejector, a dissolving water supply pipe for supplying dissolving water to the ejector, a gas supply pipe for supplying gas to the ejector, and gas dissolving water from the gas dissolving section to the use point. An apparatus for producing gas-dissolved water, comprising: a feed path for sending, a gas-liquid separator provided in the feed path, and a mixing water conduit for connecting the mixing water to the gas-dissolved water in contact with the feed path, (2) The apparatus for producing gas-dissolved water according to (1), wherein the mixing water conduit communicates with the feed path downstream of the gas-liquid separator; and (3) the mixing water conduit is upstream of the gas-liquid separator. 2. The apparatus for producing gas-dissolved water according to claim 1, wherein the apparatus communicates with the feed path on the side. Furthermore, as a preferable aspect of the present invention, (4) the apparatus for producing gas-dissolved water according to (1), wherein the mixing water conduit is a conduit branched from a supply line for supply of dissolved water, and (5) a supply of dissolved water. The apparatus for producing gas-dissolved water according to claim 4, wherein a dissolved water supply pump is installed in the pipe, and a branch point from the dissolved water supply pipe to the mixing water conduit is located upstream of the dissolved water supply pump. Can be mentioned.
【0005】[0005]
【発明の実施の形態】本発明のガス溶解水の製造装置
は、エジェクターによるガス溶解部、エジェクターに被
溶解水を供給する被溶解水供給配管、エジェクターにガ
スを供給するガス供給配管、ガス溶解部からユースポイ
ントまでガス溶解水を送る送給路、送給路に設けられた
気液分離器及び送給路に連絡してガス溶解水に混合用水
を合流させる混合用水導管を有する。図1は、本発明の
ガス溶解水の製造装置の一態様の工程系統図である。本
態様の装置は、エジェクター1によるガス溶解部に、被
溶解水供給ポンプ2により被溶解水供給配管3を通じて
被溶解水が供給され、ガス供給器4からガス供給配管5
を通じてガスが供給される。エジェクター内において、
被溶解水とガスが直接接触し、ガス溶解水と未溶解ガス
との気液混合流体となって送給路6に送出される。気液
混合流体は、送給路に設けられた気液分離器7において
気体が分離除去され、さらに送給路を経由してユースポ
イント8に送られる。本態様においては、ガス溶解水に
混合用水を合流させる混合用水導管9が設けられ、気液
分離器の下流側で送給路に連絡している。図2は、本発
明のガス溶解水の製造装置の他の態様の工程系統図であ
る。本態様においては、ガス溶解水に混合用水を合流さ
せる混合用水導管9が、気液分離器7の上流側で送給路
6に連絡している。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An apparatus for producing gas-dissolved water according to the present invention comprises a gas dissolving section using an ejector, a supply pipe for supplying water for dissolution to the ejector, a gas supply pipe for supplying gas to the ejector, It has a feed path for sending gas-dissolved water from the section to the point of use, a gas-liquid separator provided in the feed path, and a mixing water conduit connected to the feed path to join the mixed water with the gas-dissolved water. FIG. 1 is a process system diagram of one embodiment of the apparatus for producing gas-dissolved water of the present invention. In the apparatus according to the present embodiment, the water to be dissolved is supplied to the gas dissolving section by the ejector 1 through the supply pipe 3 for dissolving water by the supply pump 2 for dissolving water.
Gas is supplied through. In the ejector,
The gas to be dissolved comes into direct contact with the gas, and is sent to the feed path 6 as a gas-liquid mixed fluid of the gas-dissolved water and the undissolved gas. The gas-liquid mixed fluid is separated and removed from the gas in a gas-liquid separator 7 provided in the feed path, and is sent to the use point 8 via the feed path. In this embodiment, a mixing water conduit 9 for mixing the mixing water with the gas-dissolved water is provided, and is connected to the feed path on the downstream side of the gas-liquid separator. FIG. 2 is a process flow chart of another embodiment of the apparatus for producing gas-dissolved water of the present invention. In this embodiment, a mixing water conduit 9 for joining the mixing water with the gas-dissolved water is connected to the feed path 6 on the upstream side of the gas-liquid separator 7.
【0006】本発明装置によれば、1台のエジェクター
を用いて被溶解水にガスを溶解してガス溶解水を製造
し、要求水量の変動に対しては、ガス溶解水に混合用水
を合流させることにより、ガス溶解水の製造量を変動し
て対応することができる。したがって、ユースポイント
における最小使用量に相当する水量を、適切な流量、す
なわち適用流量として設定されているエジェクターを採
用することが好ましい。ユースポイントにおける最小使
用量に相当する水量を適用流量とするエジェクターを採
用することにより、ユースポイントにおけるガス溶解水
の使用量が最小量より増加したときには、混合用水量を
増加することにより、容易にガス溶解水の製造量を増加
して、要求に応えることができる。ユースポイントにお
けるガス溶解水の最小使用量より多い水量を適切水量と
するエジェクターを採用すると、ユースポイントにおけ
るガス溶解水の使用量が減少したとき、過剰量のガス溶
解水が発生する。本発明装置によれば、エジェクターで
被溶解水にガスを溶解し、混合用水によってガス溶解水
の製造量を調整するので、エジェクターで溶解した溶存
ガス濃度は希釈により低下することになる。しかし、適
切な水量をエジェクターに供給し、適切なガス濃度で最
大量の所望ガスを供給することにより、通常は十分に高
濃度のガス溶解水を製造することができる。したがっ
て、送給路に連絡する混合用水導管より混合用水を合流
すると、ガス溶解水の溶存ガス濃度は低下するが、ガス
溶解水の使用目的を果たす溶存ガス濃度は維持すること
ができる。例えば、エジェクターにおいて、濃度40mg
/Lのオゾン溶解水を製造すると、仮に40倍に希釈さ
れても、溶存オゾン濃度は1mg/Lであり、洗浄水とし
て十分使用することができる濃度である。ユースポイン
トにおけるガス溶解水の使用量の変動は、多くの場合、
最大と最小で数十倍の範囲内であり、本発明装置により
対応することができる範囲である。ガス溶解水の最大使
用量と最小使用量の差がさらに大きい場合は、最大使用
量のときに混合用水で希釈されても、ガス溶解水の使用
目的が果たせるようにエジェクターを選択し、ガス溶解
水の使用量が最小の場合は、余剰のガス溶解水を発生さ
せることができる。According to the apparatus of the present invention, gas is dissolved in water to be dissolved by using one ejector to produce gas-dissolved water. By doing so, it is possible to respond by changing the production amount of the gas-dissolved water. Therefore, it is preferable to adopt an ejector in which the amount of water corresponding to the minimum usage amount at the use point is set as an appropriate flow rate, that is, an applied flow rate. By adopting an ejector that uses the amount of water equivalent to the minimum amount of use at the point of use as the applied flow rate, when the amount of gas-dissolved water used at the point of use exceeds the minimum amount, it is easy to increase the amount of water for mixing. The production amount of gas-dissolved water can be increased to meet the demand. If an ejector is used that has an appropriate amount of water larger than the minimum amount of gas-dissolved water used at the point of use, an excessive amount of gas-dissolved water is generated when the amount of gas-dissolved water used at the point of use decreases. According to the apparatus of the present invention, since the gas is dissolved in the water to be dissolved by the ejector and the production amount of the gas-dissolved water is adjusted by the mixing water, the concentration of the dissolved gas dissolved by the ejector is reduced by dilution. However, by supplying an appropriate amount of water to the ejector and supplying a maximum amount of the desired gas at an appropriate gas concentration, it is usually possible to produce gas dissolved water having a sufficiently high concentration. Therefore, when the mixing water is merged from the mixing water conduit connected to the feed passage, the dissolved gas concentration of the gas-dissolved water decreases, but the dissolved-gas concentration that achieves the intended use of the gas-dissolved water can be maintained. For example, in an ejector, a concentration of 40 mg
/ L ozone-dissolved water is produced, the concentration of dissolved ozone is 1 mg / L, even if the ozone-dissolved water is diluted 40 times, which is a concentration that can be sufficiently used as washing water. Fluctuations in the amount of gas-dissolved water used at the point of use are often
The maximum and minimum are within a range of several tens of times, which is a range that can be dealt with by the present invention device. If the difference between the maximum usage amount and the minimum usage amount of gas-dissolved water is even greater, select an ejector so that the intended purpose of gas-dissolved water can be fulfilled even if it is diluted with mixing water at the maximum usage amount. When the amount of water used is minimal, excess gas-dissolved water can be generated.
【0007】本発明のガス溶解水の製造装置を用いてオ
ゾン溶解水を製造する場合、例えば、ユースポイントに
おける最小使用量が2L/分であり、最大使用量が20
L/分であるとすると、適用流量2L/分で最大限の能
力を発揮するエジェクター1台を装備する。このエジェ
クターでは、適用流量を大きく逸脱した流量、例えば、
3L/分以上の水を常識的な圧力条件下で流すことは困
難である。本発明装置においては、エジェクターに常に
2L/分の被溶解水を供給して2L/分のオゾン溶解水
を製造し、ユースポイントにおけるオゾン溶解水の使用
量が増加した場合は、混合用水導管から混合用水を合流
させてオゾン溶解水の製造量を増加する。混合用水の合
流点は、図1に示すように、気液分離器の下流側とする
ことができ、あるいは、図2に示すように、気液分離器
の上流側とすることもできる。下流側で合流させる場合
には、気液分離器に導入されるオゾン溶解水は常に2L
/分なので、小型の気液分離器を用いて安定した気液分
離を行うことができる。上流側で合流させる場合には、
エジェクターを通過した被溶解水に溶けきれなかった気
泡中の余剰オゾンガスが、一部混合用水に溶解するの
で、総合的な溶解効率を高めることができる。合流させ
る混合用水の量は、混合用水導管に設置したバルブの開
度調整によって行うことができる。本発明装置におい
て、混合用水導管は、エジェクターに供給される被溶解
水と同じ配管から分岐することができ、あるいは、混合
用水導管を別に設けることもできる。混合用水導管を、
エジェクターに供給される被溶解水の配管と単純に接続
すると、エジェクターの通水抵抗が一般的に大きいため
に、混合用水量とのバランスをとることが困難となる。
このために、エジェクターの圧力損失に見合う昇圧をエ
ジェクターの上流側で行うことにより、混合用水導管の
流量に関わらずに、抵抗の大きいエジェクターに被溶解
水を安定して供給することができる。この際、昇圧ポン
プとエジェクターの中間に、ポンプからの発塵に備え
て、限外ろ過膜、精密ろ過膜などのろ過装置を装備する
ことが好ましい。本発明のガス溶解水の製造装置を用い
ることにより、エジェクターによる気液直接接触溶解方
式の特長である簡便な装置と迅速な濃度応答性を保持し
たまま、従来方式の欠点であった要求流量の変動にも対
応することができる。[0007] When producing ozone-dissolved water using the apparatus for producing gas-dissolved water of the present invention, for example, the minimum usage at the point of use is 2 L / min, and the maximum usage is 20 L / min.
Assuming that the flow rate is L / min, one ejector exhibiting the maximum performance at an applied flow rate of 2 L / min is provided. In this ejector, the flow rate greatly deviates from the applied flow rate, for example,
It is difficult to flow water of 3 L / min or more under common sense pressure conditions. In the apparatus of the present invention, 2 L / min of the water to be dissolved is always supplied to the ejector to produce 2 L / min of the ozone dissolved water, and when the use amount of the ozone dissolved water at the point of use increases, from the mixing water conduit, The water for mixing is combined to increase the production of ozone-dissolved water. The junction of the mixing water may be downstream of the gas-liquid separator, as shown in FIG. 1, or may be upstream of the gas-liquid separator, as shown in FIG. When merging on the downstream side, ozone-dissolved water introduced into the gas-liquid separator is always 2 L
/ Min, stable gas-liquid separation can be performed using a small gas-liquid separator. When merging on the upstream side,
Since the excess ozone gas in the air bubbles that have not been completely dissolved in the water to be dissolved that has passed through the ejector partially dissolves in the mixing water, the overall dissolving efficiency can be improved. The amount of the mixing water to be combined can be adjusted by adjusting the opening of a valve installed in the mixing water conduit. In the apparatus of the present invention, the mixing water conduit can be branched from the same pipe as the water to be dissolved supplied to the ejector, or a mixing water conduit can be separately provided. Mixing water conduit,
When simply connected to the pipe of the water to be dissolved supplied to the ejector, it is difficult to balance with the amount of mixing water because the ejector generally has a high water flow resistance.
For this reason, by performing the pressure increase corresponding to the pressure loss of the ejector on the upstream side of the ejector, the water to be dissolved can be stably supplied to the ejector having a large resistance regardless of the flow rate of the mixing water conduit. At this time, it is preferable to equip a filtration device such as an ultrafiltration membrane or a microfiltration membrane between the pressurizing pump and the ejector in preparation for dust generation from the pump. By using the apparatus for producing gas-dissolved water of the present invention, while maintaining the simple apparatus and the rapid concentration response characteristic of the gas-liquid direct contact dissolution method using an ejector, the required flow rate, which is a drawback of the conventional method, is reduced. It can respond to fluctuations.
【0008】[0008]
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。なお、実施例においては、図1
又は図2に示す装置を用いて、オゾン溶解水を製造し
た。実施例に使用したエジェクターの適用流量は、2L
/分である。ガス供給器として使用したオゾン発生器
は、無声放電によりオゾン濃度200g/Nm3のオゾ
ン含有ガスを、1NL/分発生させる装置である。 実施例1 エジェクターに超純水2L/分を送り込み、オゾン含有
ガス1NL/分を吸い込ませ、オゾン溶解水と未溶解ガ
スの気液混合流体として送り出し、気液分離器において
未溶解ガスを分離した。ユースポイントである洗浄機に
おいてサンプリングしたオゾン溶解水の溶存オゾン濃度
は、40mg/Lであった。 実施例2 実施例1と同様にして、エジェクターに超純水2L/分
を送り込み、オゾン含有ガス1NL/分を吸い込ませ、
オゾン溶解水と未溶解ガスの気液混合流体として送り出
した。気液分離器において未溶解ガスを分離し、気液分
離器の下流側で送給路に混合用超純水8L/分を合流さ
せた。洗浄機においてサンプリングしたオゾン溶解水の
溶存オゾン濃度は、8mg/Lであった。 実施例3 実施例1と同様にして、エジェクターに超純水2L/分
を送り込み、オゾン含有ガス1NL/分を吸い込ませ、
オゾン溶解水と未溶解ガスの気液混合流体として送り出
した。気液分離器の上流側で送給路に混合用超純水8L
/分を合流させ、気液分離器において未溶解ガスを分離
した。洗浄機においてサンプリングしたオゾン溶解水の
溶存オゾン濃度は、10mg/Lであった。 実施例4 気液分離器の下流側で合流させる混合用超純水の量を1
8L/分とした以外は、実施例2と同様にしてオゾン溶
解水を製造した。洗浄機においてサンプリングしたオゾ
ン溶解水の溶存オゾン濃度は、4mg/Lであった。 実施例5 気液分離器の上流側で合流させる混合用超純水の量を1
8L/分とした以外は、実施例3と同様にしてオゾン溶
解水を製造した。洗浄機においてサンプリングしたオゾ
ン溶解水の溶存オゾン濃度は、5mg/Lであった。 比較例1 エジェクターへの供給超純水量を増加して、オゾン溶解
水の製造量を増加することを試みた以外は、実施例1と
同様にして、オゾン溶解水を製造した。しかし、ポンプ
の駆動馬力を上昇しても、エジェクターに3L/分以上
の超純水を送り込むことはできなかった。エジェクター
へ供給可能な最大限の2.9L/分の超純水を供給した
とき、洗浄機においてサンプリングしたオゾン溶解水の
溶存オゾン濃度は、28mg/Lであった。 比較例2 適用流量20L/分のエジェクターに取り替え、エジェ
クターに超純水20L/分を送り込み、オゾン含有ガス
1NL/分を吸い込ませた。オゾン溶解水と未溶解ガス
の気液混合流体を送り出し、気液分離器において未溶解
ガスを分離した。洗浄機においてサンプリングしたオゾ
ン溶解水の溶存オゾン濃度は、5mg/Lであった。 比較例3 エジェクターへの供給超純水量を減少して、オゾン溶解
水の製造量を減少することを試みた以外は、比較例2と
同様にして、オゾン溶解水を製造した。しかし、エジェ
クターへの超純水の供給量が12L/分になると、エジ
ェクターにオゾン含有ガスを吸い込ませることが不可能
となった。実施例1〜5及び比較例1〜3の結果を、第
1表に示す。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention. In the embodiment, FIG.
Alternatively, ozone-dissolved water was produced using the apparatus shown in FIG. The applied flow rate of the ejector used in the examples was 2 L
/ Min. The ozone generator used as the gas supplier is a device that generates an ozone-containing gas having an ozone concentration of 200 g / Nm 3 at 1 NL / min by silent discharge. Example 1 2 L / min of ultrapure water was fed to an ejector, 1 NL / min of an ozone-containing gas was sucked in, and sent out as a gas-liquid mixed fluid of ozone-dissolved water and undissolved gas, and the undissolved gas was separated in a gas-liquid separator. . The dissolved ozone concentration of the ozone-dissolved water sampled in the washing machine, which was the use point, was 40 mg / L. Example 2 In the same manner as in Example 1, 2 L / min of ultrapure water was fed into the ejector, and 1 NL / min of an ozone-containing gas was sucked into the ejector.
It was sent out as a gas-liquid mixed fluid of ozone dissolved water and undissolved gas. Undissolved gas was separated in the gas-liquid separator, and 8 L / min of ultrapure water for mixing was joined to the feed path on the downstream side of the gas-liquid separator. The dissolved ozone concentration of the ozone-dissolved water sampled in the washing machine was 8 mg / L. Example 3 As in Example 1, 2 L / min of ultrapure water was fed into the ejector, and 1 NL / min of an ozone-containing gas was sucked into the ejector.
It was sent out as a gas-liquid mixed fluid of ozone dissolved water and undissolved gas. 8L of ultrapure water for mixing in the feed path upstream of the gas-liquid separator
/ Min., And undissolved gas was separated in a gas-liquid separator. The dissolved ozone concentration of the ozone-dissolved water sampled in the washing machine was 10 mg / L. Example 4 The amount of ultrapure water for mixing to be merged downstream of the gas-liquid separator was 1
Ozone-dissolved water was produced in the same manner as in Example 2 except that the amount was 8 L / min. The dissolved ozone concentration of the ozone-dissolved water sampled in the washing machine was 4 mg / L. Example 5 The amount of ultrapure water for mixing to be merged on the upstream side of the gas-liquid separator was 1
Ozone-dissolved water was produced in the same manner as in Example 3 except that the amount was 8 L / min. The dissolved ozone concentration of the ozone dissolved water sampled in the washing machine was 5 mg / L. Comparative Example 1 Ozone-dissolved water was produced in the same manner as in Example 1, except that the amount of ultrapure water supplied to the ejector was increased to increase the production amount of ozone-dissolved water. However, even if the driving horsepower of the pump was increased, ultrapure water of 3 L / min or more could not be sent to the ejector. When the maximum supply of 2.9 L / min of ultrapure water that could be supplied to the ejector was supplied, the dissolved ozone concentration of the ozone-dissolved water sampled in the washing machine was 28 mg / L. Comparative Example 2 The ejector was replaced with an ejector at an applied flow rate of 20 L / min, and 20 L / min of ultrapure water was fed into the ejector to suck 1 NL / min of an ozone-containing gas. A gas-liquid mixed fluid of ozone-dissolved water and undissolved gas was sent out, and the undissolved gas was separated in a gas-liquid separator. The dissolved ozone concentration of the ozone dissolved water sampled in the washing machine was 5 mg / L. Comparative Example 3 Ozone-dissolved water was produced in the same manner as in Comparative Example 2, except that the amount of ultrapure water supplied to the ejector was reduced to reduce the amount of ozone-dissolved water produced. However, when the supply amount of ultrapure water to the ejector became 12 L / min, it became impossible to make the ejector suck the ozone-containing gas. Table 1 shows the results of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3.
【0009】[0009]
【表1】 [Table 1]
【0010】第1表に見られるように、本発明装置を用
いることにより、同一のエジェクターを用いて、オゾン
溶解水の製造量を2L/分から20L/分まで、10倍
変動させることができる。従来の装置を用いた比較例1
〜3では、オゾン溶解水の製造量を1.5倍以上に増や
すことも、半減することも困難である。As shown in Table 1, by using the apparatus of the present invention, the production amount of ozone-dissolved water can be varied ten times from 2 L / min to 20 L / min using the same ejector. Comparative Example 1 Using Conventional Device
In Nos. 1 to 3, it is difficult to increase the production amount of ozone-dissolved water to 1.5 times or more, and to reduce it by half.
【0011】[0011]
【発明の効果】本発明のガス溶解水の製造装置を用いる
ことにより、エジェクターによる気液直接接触溶解方式
の特長である簡便な装置と迅速な濃度応答性を保持した
まま、従来方式の欠点であった要求流量の変動にも対応
することができる。By using the apparatus for producing gas-dissolved water of the present invention, it is possible to use a simple apparatus which is a feature of the gas-liquid direct contact dissolution method using an ejector and to maintain the rapid concentration response while maintaining the shortcomings of the conventional method. It is possible to cope with the fluctuation of the required flow rate.
【図1】図1は、本発明装置の一態様の工程系統図であ
る。FIG. 1 is a process flow diagram of one embodiment of the apparatus of the present invention.
【図2】図2は、本発明装置の他の態様の工程系統図で
ある。FIG. 2 is a process flow chart of another embodiment of the apparatus of the present invention.
1 エジェクター 2 被溶解水供給ポンプ 3 水供給配管 4 ガス供給器 5 ガス供給配管 6 送給路 7 気液分離器 8 ユースポイント 9 混合用水導管 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ejector 2 Dissolved water supply pump 3 Water supply pipe 4 Gas supply 5 Gas supply pipe 6 Feeding path 7 Gas-liquid separator 8 Use point 9 Mixing water conduit
Claims (3)
ターに被溶解水を供給する被溶解水供給配管、エジェク
ターにガスを供給するガス供給配管、ガス溶解部からユ
ースポイントまでガス溶解水を送る送給路、送給路に設
けられた気液分離器及び送給路に連絡してガス溶解水に
混合用水を合流させる混合用水導管を有することを特徴
とするガス溶解水の製造装置。1. A gas dissolving section by an ejector, a dissolving water supply pipe for supplying dissolving water to the ejector, a gas supply pipe for supplying gas to the ejector, and a feeding path for sending gas dissolving water from the gas dissolving section to a use point. An apparatus for producing gas-dissolved water, comprising: a gas-liquid separator provided in the supply path; and a mixing water conduit for connecting the mixture water to the gas-dissolved water in communication with the supply path.
給路に連絡する請求項1記載のガス溶解水の製造装置。2. The apparatus for producing gas-dissolved water according to claim 1, wherein the mixing water conduit communicates with a feed path downstream of the gas-liquid separator.
給路に連絡する請求項1記載のガス溶解水の製造装置。3. The apparatus for producing gas-dissolved water according to claim 1, wherein the mixing water conduit communicates with a feed path upstream of the gas-liquid separator.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000106552A JP2001291696A (en) | 2000-04-07 | 2000-04-07 | Apparatus for forming gas-dissolved water |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000106552A JP2001291696A (en) | 2000-04-07 | 2000-04-07 | Apparatus for forming gas-dissolved water |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001291696A true JP2001291696A (en) | 2001-10-19 |
Family
ID=18619700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000106552A Pending JP2001291696A (en) | 2000-04-07 | 2000-04-07 | Apparatus for forming gas-dissolved water |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001291696A (en) |
-
2000
- 2000-04-07 JP JP2000106552A patent/JP2001291696A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8999069B2 (en) | Method for producing cleaning water for an electronic material | |
JP5072062B2 (en) | Method, apparatus and apparatus for producing hydrogen gas-dissolved cleaning water | |
JP3765354B2 (en) | Method for producing hydrogen-containing ultrapure water | |
JPH1171600A (en) | Production of cleaning solution and apparatus therefor | |
JP3381250B2 (en) | Gas dissolving cleaning water flow pipe | |
KR100438356B1 (en) | Ultra pure water supply system with ozone | |
JP2000037695A (en) | Apparatus for supplying ozone water | |
TWI749221B (en) | Gas solution manufacturing apparatus | |
JP2001291696A (en) | Apparatus for forming gas-dissolved water | |
JP4081728B2 (en) | Ozone-containing ultrapure water supply device | |
JP2000216130A (en) | Washing water and method for electronic material | |
JP4438077B2 (en) | Method for preparing gas-dissolved water for cleaning electronic materials | |
JPH11138182A (en) | Ozonized ultrapure water feeder | |
JP2877923B2 (en) | Removal method of dissolved gas in liquid | |
JP2005186067A (en) | Ozone-containing ultrapure water supply method and apparatus | |
JP2005152803A (en) | Ozone water supply method | |
JP2001314740A (en) | Gas dissolved washing water supply apparatus | |
JP4097778B2 (en) | Gas dissolved cleaning water supply piping | |
JP2000262992A (en) | Substrate washing method | |
JP2000331977A5 (en) | ||
JP2003117570A (en) | Making method and making device for ozone water | |
JP5037748B2 (en) | Ozone water concentration adjustment method and ozone water supply system | |
JP3375052B2 (en) | Cleaning water for electronic materials | |
US10792622B2 (en) | Gas dissolving system with two mixers | |
JP2001310118A (en) | Gas-dissolved water supply device |