JP2001278950A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
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Abstract
燃効果と共に、電気積層板の密着性を改善する。 【解決手段】 10−(2’,5’−ジヒドロキシフェ
ニル)―9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホス
ファフェナンスレン−10−オキサイドとビスフェノー
ルF型エポキシ樹脂とを反応させた構造のエポキシ樹脂
と、フェノールとメラミンとホルマリンとの重縮合体と
を含有。
Description
難燃性組成物として有用な難燃エポキシ樹脂組成物に関
し、具体的には、ハロゲンフリー難燃組成物として、積
層部品材料、半導体封止材料、電気絶縁材料、繊維強化
複合材料、塗装材料、成型材料、接着剤材料などに有用
であり、特に積層板(プリント配線板)として難燃効果の
みならず、密着性、耐熱性および耐湿性に優れた積層板
を提供し得るエポキシ樹脂組成物に関する。
気特性(絶縁性)ゆえに電気電子材料部品を中心に幅広
く使用されている。
シ積層板やIC封止材に代表される様に高い難燃性(U
L−94:V−0)が求められる為、通常ハロゲン化さ
れたエポキシ樹脂が用いられている。例えば、ガラスエ
ポキシ積層板では、難燃化されたFR−4グレードとし
て、一般に臭素で置換されたエポキシ樹脂を主成分と
し、これに種々のエポキシ樹脂を混合したエポキシ樹脂
と、エポキシ樹脂硬化剤とを配合して用いられている。
キシ樹脂の使用は、近年のダイオキシンに代表される環
境問題の一因となっている他、高温環境下でのハロゲン
の解離による電気的な長期信頼性への悪影響などから、
ハロゲンの使用量を低減するするか、ハロゲンに代替え
できる他の化合物を使用した難燃剤、あるいは他の難燃
処方が強く求められている。
る技術として、例えばリン酸エステル系化合物などを添
加系難燃剤として使用する技術が種々検討されている
が、このような技術はいずれも成形品の耐熱性や耐水性
の低下、更にとりわけ電気積層板用途における密着性を
低下させるものであった。そこで、リン系化合物を使用
しながらも、成形品の耐熱性、耐水性等を改善したもの
として、たとえば、特開平11−279258号公報に
は、エポキシ樹脂に特定のリン化合物を変性させて、成
形品の耐熱性等を図った技術が開示されている。
279258号公報の発明は、難燃性と耐熱性を付与す
るため多官能のノボラック型エポキシ樹脂と2官能のリ
ン化合物との反応による多官能型のエポキシ樹脂を用い
るため、架橋密度が高くなり、電気積層板に用途におい
て、マトリックス樹脂と銅箔および基材間の密着性に劣
るものであった。
ロゲン難燃処方として極めて優れた難燃効果を発現させ
ると共に、電気積層板の密着性に優れるエポキシ樹脂組
成物を提供することにある。
を解決すべく鋭意検討した結果、ビスフェノールF型エ
ポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレン型エポキ
シ樹脂の分子構造中にAr−P−の構造部位を導入し、
かつ、硬化剤として、フェノール骨格とトリアジン骨格
とを有する化合物を用いることにより、ハロゲンフリー
の難燃処方として極めて優れた難燃効果を発現すると共
に、電気積層板用途において極めて優れた密着性を発現
することを見いだし、本発明を完成するに至った。
(式中、Arはアリール基を示す。以下同様。)を分子
構造中に有するビスフェノールF型エポキシ樹脂
(A)、及び、フェノール骨格とトリアジン骨格とを有
する化合物(B)を必須成分とすることを特徴とするエ
ポキシ樹脂組成物、および、Ar−P−の構造部位(式
中、Arはアリール基を示す。以下同様。)を分子構造
中に有するジグリシジルオキシナフタレン型エポキシ樹
脂(A)、及び、フェノール骨格とトリアジン骨格とを
有する化合物(B)を必須成分とすることを特徴とする
エポキシ樹脂組成物に関する。
ースとなるエポキシ樹脂としてビスフェノールF型エポ
キシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレン型エポキシ
樹脂を用い、かつ、その分子構造中にAr−P−の構造
部位を有していることを特徴としてしている。すなわ
ち、Ar−P−の構造部位とは、リン原子上に芳香環を
有し、かつ、該リン原子がエポキシ樹脂中の芳香環に直
接共有結合する構造部位であり、この構造を導入し、か
つ、ベースとなるエポキシ樹脂としてビスフェノールF
型エポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレン型エ
ポキシ樹脂を使用することにより、硬化剤たる化合物
(B)との相乗的な効果によって難燃性が飛躍的に高ま
る他、マトリックス樹脂と銅箔および基材間の密着性が
飛躍的に改善される。
リン原子上にベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン
環を有するものであればよく、その他、リン原子上に酸
素原子や他のアルキル等が置換していてもよいが、本発
明においては、該構造部位として、ホスフィネート構造
(a1)又は下記一般式1
ル基を表す。)又は、ホスフィンオキシド構造(a
2)、具体的には、下記構造式2
に向上する点から好ましい。これらは単独で用いても、
2種以上併用してもよい。
ェノールF型エポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフ
タレン型エポキシ樹脂の分子構造中に導入する方法とし
ては、特に制限されるものではないが、 方法1:フェノールF型エポキシ樹脂又はジグリシジル
オキシナフタレン型エポキシ樹脂をAr−P−Hの構造
部位を分子構造中に有する化合物及びキノン化合物で変
性する方法、あるいは、 方法2:Ar−P−Hの構造部位を分子構造中に有する
化合物及びキノン化合物を反応させてAr−P−の構造
部位を分子構造中に有するジヒドロキシ芳香族化合物を
得た後、これをフェノールF型エポキシ樹脂又はジグリ
シジルオキシナフタレン型エポキシ樹脂と反応させる方
法、 方法3:フェノールF型エポキシ樹脂又はジグリシジル
オキシナフタレン型エポキシ樹脂をAr−P−の構造部
位を分子構造中に有するジヒドロキシ芳香族化合物で変
性する方法、等があげられる。
として、フェノールF型エポキシ樹脂又はジグリシジル
オキシナフタレン型エポキシ樹脂を用いることにより、
特に電気積層板用途において、クロス基材への含浸性が
良好なものとなりミーズリング発生を良好に抑制するこ
とができる。
8号公報に記載された発明は、エポキシ樹脂成分とし
て、難燃性付与のため全エポキシ樹脂成分中ノボラック
型エポキシ樹脂を20重量%以上用いる必要があり、こ
のため既述の通り電気積層板用途における密着性を低下
させるという課題があったが、その他、分子量が大きく
なることからクロス基材や銅箔への含浸性が著しく劣
り、積層板でのミーズリングが発生し易くなるという欠
点も有していた。本願発明においては、フェノールF型
エポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレン型エポ
キシ樹脂を原料エポキシ樹脂として用いることにより、
優れた難燃効果を発現すると共に、クロス基材への含浸
性を高められ、電気積層板として重要な要求性能である
ミーズリング防止を兼備させることができるものであ
る。即ち、原料エポキシ樹脂成分として、フェノールF
型エポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレン型エ
ポキシ樹脂を用いることにより、前記した通り、難燃効
果が飛躍的に向上し、例えば、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂を用いた場合に比較しても格段に優れた難燃効
果を発現させることが可能となる。
ランスの点から、ビスフェノールF型エポキシ樹脂又は
ジグリシジルオキシナフタレン型エポキシ樹脂と共にノ
ボラック型エポキシ樹脂を一部併用してもよいが、この
場合、使用するノボラック型エポキシ樹脂は、全エポキ
シ樹脂成分中、5〜18重量%となる割合で用いること
が好ましい。
樹脂としては、特に制限されないが、最終的に得られる
リン原子含有エポキシ樹脂のエポキシ当量の調整が容易
で、難燃効果を飛躍的に向上できる点からエポキシ当量
100〜500g/eqのものであることが好ましい。
ポキシ樹脂としては、1,6−ジヒドロキシナフタレン
のジグリシジルエーテル、2,7−ジヒドロキシナフタ
レンのジグリシジルエーテル等が挙げられ、エポキシ当
量は、難燃効果の点からエポキシ当量100〜500g
/eqのものであることが好ましい。
えば、ジメチルビスフェノールCジグリシジルエーテ
ル、フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタ
ル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグ
リシジルエステル、ジグリシジルp−オキシ安息香酸、
ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル
型エポキシ樹脂、ジグリシジルアニリン、ジグリシジル
トルイジン等のグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジグ
リシジルヒダントイン、グリシジルグリシドオキシアル
キルヒダントイン等のヒダントイン型エポキシ樹脂など
も難燃性、耐熱性、密着性等のバランスの点から併用す
ることができる。
F型エポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレン型
エポキシ樹脂を原料エポキシ樹脂として使用することに
より、ハロゲンフリーで優れた難然効果を発現し得る。
よって、原料エポキシ樹脂としては、フェノールF型エ
ポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレン型エポキ
シ樹脂として、ハロゲン原子非含有のナフタレン型エポ
キシ樹脂及びビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるこ
とが好ましい。ここで、ハロゲン原子非含有のナフタレ
ン型エポキシ樹脂及びビスフェノール型エポキシ樹脂と
は、エポキシ樹脂を製造する際、エピクロロヒドリンと
反応させる原料フェノール樹脂中にハロゲン原子が含ま
れていないか或いはハロゲン原子で実質的に変性されて
いないナフタレン型エポキシ樹脂又はビスフェノール型
エポキシ樹脂である。即ち、通常のエピクロルヒドリン
の使用により混入される塩素分は含んでいてもよく、具
体的にはハロゲン原子量5000ppm以下であること
が好ましい。
脂又はジグリシジルオキシナフタレン型エポキシ樹脂の
エポキシ当量は、特に制限されるものではないが、最終
的に得られるリン原子含有エポキシ樹脂のエポキシ当量
を後述する適正範囲にでき、難燃効果を飛躍的に向上で
きる点から100〜500g/eqであることが好まし
い。
又はジグリシジルオキシナフタレン型エポキシ樹脂は、
その使用にあたって1種類のみに限定されるものではな
く、2種類以上の併用も可能である。また、上記の各エ
ポキシ樹脂と共に、一部以下の化合物、即ち、n−ブチ
ルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、2
−エチルヘキシルグリシジルエーテル、スチレンオキサ
イド、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジ
ルエーテル、P.Sec−ブチルフェニルグリシジルエ
ーテル、グリシジルメタクリレート、ビニルシクロヘキ
センモノエポキサイド等の1官能性エポキシ化合物を用
してよい。
構造部位を分子構造中に有する化合物としては、特に制
限されるものではないが、例えば、下記一般式3
は、下記一般式4
で表されるものが好ましく、一般式3で表されるものと
しては、ジフェニルホスフィンオキサイドが好ましく、
また、一般式4で表されるものとしては、9,10−ジ
ヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−
10−オキサイドが好ましい。
しては、1,4−ベンゾキノン、2−メチル−1,4−
ベンゾキノン、2−ブチル−1,4−ベンゾキノン、2
−t−ブチル−1,4−ベンゾキノン、2−フェニル−
1,4−ベンゾキノン、2,5−ジメチル−1,4−ベ
ンゾキノン、2,6−ジメチル−1,4−ベンゾキノ
ン、2,5−ジt−ブチル−1,4−ベンゾキノン、
2,6−ジt−ブチル−1,4−ベンゾキノン、2,
3、5−トリメチル−1,4−ベンゾキノン、2−メチ
ル−5−イソプロピル−1,4−ベンゾキノン、2,5
−ジフェニル−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジヒド
ロキシ−1,4−ベンゾキノン、1,4−ナフトキノ
ン、2−アミノ−1,4−ナフトキノン、2−メトキシ
−1,4−ナフトキノン、2−(4−メトキシフェニ
ル)−1,4−ナフトキノン等が挙げられ、中でも反応
性を制御しやすい点から1,4−ベンゾキノン、1,4
−ナフトキノンが好ましい。
部位を分子構造中に有するジヒドロキシ芳香族化合物と
しては、特に制限されるものではないが、例えば、下記
一般式5
ラセン環、R1、R2は、水素原子、アルキル基を表
す)又は、下記一般式6
ラセン環、R3、R4は、水素原子、アルキル基を表
す)
るものとしては、10−(2’,5’−ジヒドロキシフ
ェニル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホ
スファフェナンスレン−10−オキシド、10−
(2’,5’−ジヒドロキシナフチル)−9,10−ジ
ヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−
10−オキシドが好ましく、また、一般式6で示される
ものとしては、ジフェニル 2,5−ジヒドロキシフェ
ニル ホスフィンオキシド、ジフェニル 2,5−ジヒ
ドロキシナフチル ホスフィンオキシドが好ましい。
F型エポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレン型
エポキシ樹脂をAr−P−Hの構造部位を分子構造中に
有する化合物及びキノン化合物で変性する方法として
は、特に制限はなく例えば、反応容器にAr−P−Hの
構造部位を分子構造中に有する化合物(A)、ビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタ
レン型エポキシ樹脂、及び有機溶剤を仕込み、反応温度
を100℃以下に保つ様に発熱に注意しながらキノン化
合物を分割添加する。ここで、キノン化合物は速やかに
Ar−P−Hの構造部位を分子構造中に有する化合物
(A)と反応し発熱を伴うが、できる限り100℃を越
えないことが肝要である。即ち、100℃以下であれ
ば、Ar−P−Hの構造部位を分子構造中に有する化合
物(A)とキノン化合物が選択的に反応するため好まし
い。また有機溶剤としては、Ar−P−Hの構造部位を
分子構造中に有する化合物(A)と不活性であるものが
好ましく、例えば、エチレングリコール低級アルキルエ
ーテル、プロピレングリコール低級アルキルエーテル、
ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。キノン
化合物を添加終了後、反応を継続する。このときの反応
温度は、特に制限はなく、適度なグラフト化率が得ら
れ、かつゲル化が起こらない反応条件を適宜選択すれば
よいが、、例えば必要に応じて触媒の存在下、20〜2
00℃で反応させる方法が挙げられる。
分子構造中に有する化合物及びキノン化合物を反応させ
てAr−P−の構造部位を分子構造中に有するジヒドロ
キシ芳香族化合物を製造する方法としては、特に制限は
なく例えば、反応容器に、Ar−P−Hの構造部位を分
子構造中に有する化合物(A)と有機溶剤を仕込み、反
応温度を100℃以下に保つ様に発熱に注意しながらキ
ノン化合物を分割添加する。ここで、キノン化合物は速
やかにAr−P−Hの構造部位を分子構造中に有する化
合物(A)と反応し発熱を伴うが、できる限り100℃
を越えないことが肝要である。即ち、100℃以下であ
れば、Ar−P−Hの構造部位を分子構造中に有する化
合物(A)とキノン化合物が選択的に反応するため好ま
しい。また有機溶剤としては、上記方法1で使用可能な
溶媒がいずれも使用できる。
ールF型エポキシ樹脂又はジグリシジルオキシナフタレ
ン型エポキシ樹脂とAr−P−の構造部位を分子構造中
に有するジヒドロキシ芳香族化合物とを反応する方法と
しては、特に制限されるものではなく、適度なグラフト
化率が得られ、かつゲル化が起こらない反応条件を適宜
選択すればよいが、例えば必要に応じて触媒の存在下、
上記原料を20〜200℃で反応させる方法が挙げられ
る。
るものではないが、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物、トリエチルアミ
ン、ベンジルジメチルアミン等の第三級アミン、テトラ
メチルアンモニウムクロライド等の第4級アンモニウム
塩、イミダゾール化合物、トリフェニルホスフィン等が
挙げられる。
存在下で行うことができる。、使用し得る有機溶剤とし
ては、特に制限がないが、例えば、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、
メトキシプロパノール、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、エチルカルビトール、酢酸エチル、キシレン、
トルエン、シクロヘキサノン、N,N−ジメチルホルム
アミド等が好ましい。
(A)は、エポキシ当量150〜1500g/eqなる
範囲が好ましいが、なかでも、硬化物の機械的性能、耐
熱性などの点から200〜800g/eqがより好まし
い。
のリン原子含有量は、特に制限されるものでないが、組
成物中の全エポキシ樹脂中のリン原子含有量として2〜
8重量%の範囲である。リン含有量が少ないと密着性、
耐水性、難燃性の改善効果が得られず、逆にリン含有量
が多いと機械的物性の低下が認められる。特に、リン原
子含有量が当該範囲にある場合、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂よりも良好な密着性の硬化物を得ることがで
きる。
を有する化合物(B)は、特に制限されるものではない
が、トリアジン化合物と、フェノール類と、アルデヒド
類とを縮合反応させて得られる、種々の化合物の混合物
(以下、これを「混合物(B)」と略記する)として用
いることが好ましい。
に起因するフェノール構造部位を現し、また、トリアジ
ン骨格とはトリアジン化合物に起因するトリアジン構造
部位を現す。
特に限定されるものではなく、例えば、フェノール、o
−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、キシ
レノール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニ
ルフェノール、オクチルフェノール等のアルキルフェノ
ール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフ
ェノールS、ビスフェノールAD、テトラメチルビスフ
ェノールA、レゾルシン、カテコール等の多価フェノー
ル類、モノヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシナフタ
レン当のナフトール類、その他フェニルフェノール、ア
ミノフェノール等が挙げられる。これらのフェノール類
は、単独又は2種類以上併用で使用可能であるが、最終
的な硬化物が難燃性に優れ、且つアミノ基含有トリアジ
ン化合物との反応性に優れる点からフェノールが好まし
い。
は、特に限定されるものではないが、下記一般式3又は
イソシアヌル酸が好ましい。
基、アルキル基、フェニル基、ヒドロキシル基、ヒドロ
キシルアルキル基、エーテル基、エステル基、酸基、不
飽和基、シアノ基のいずれかを表わす。)
特に、反応性に優れる点から前記中、R1、R2、R3の
うちのいずれか2つ又は3つがアミノ基であるメラミ
ン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミンなどのグアナ
ミン誘導体に代表されるアミノ基含有トリアジン化合物
が好ましい。
みに限定されるものではなく2種以上を併用することも
可能である。
のではないが、取扱いの容易さの点からホルムアルデヒ
ドが好ましい。ホルムアルデヒドとしては、限定するも
のではないが、代表的な供給源としてホルマリン、パラ
ホルムアルデヒド等が挙げられる。
と、アルデヒド類とを縮合反応させて得られる混合物
(B)のなかでも、特にトリアジン化合物として、前記
したメラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミンな
どのグアナミン誘導体に代表されるアミノ基含有トリア
ジン化合物を用いて得られる混合物(以下、「混合物
(B’)と略記する」が、難燃性の改善効果が顕著なも
のとなり好ましい。
アルデヒド類との縮合反応物、 B2:アミノ基含有トリアジン化合物とアルデヒド類と
の縮合反応物、 B3:フェノール類とアルデヒド類との縮合反応物、 B4:フェノール類、 B5:アミノ基含有トリアジン化合物 の混合物であって、かつ、該混合物中に −X−NH−CH2−NH− (b1) −X−NH−CH2−Y− (b2) (式中、Xはトリアジン骨格、Yはフェノール骨格を示
す。)なる構造部位を (b2)/(b1)=1.5〜20 となる割合で含有するものがエポキシ樹脂(A)との相
溶性に優れる点から好ましい。
ール類(B4)、アミノ基含有トリアジン化合物(B
5)は、若干残ってもよいが、3重量%以下の範囲であ
ることが好ましい。
ェノール類と、アルデヒド類とを縮合反応させて得られ
る前記混合物、または、トリアジン化合物としてアミノ
基含有トリアジン化合物を用いた混合物(B’)は、混
合物(B)又は混合物(B’)中の窒素原子含有量とし
て5重量%以上、なかでも8重量%以上が好ましく、ま
た、ボールアンドリング法によるグリセリン中で測定し
た軟化点が50℃以上、好ましくは80℃以上が好まし
い。また、コーンプレート型粘度計で測定した150℃
での溶融粘度が0.1Pa・s以上、好ましくは0.3Pa・s
以上が好ましい。
ノール骨格とトリアジン骨格とを有する化合物(B)と
の配合割合は、(A)中のエポキシ基と、化合物(B)
中の水酸基との当量比、エポキシ基/水酸基=1/0.
5〜2/1を満たす範囲であることが硬化物、積層板の
耐湿性、機械強度の点から好ましい。
硬化促進剤(D)が使用でき、それらは、従来公知のも
のでよく、例えば、ベンジルジメチルアミンの如き3級
アミン類、各種イミダゾール類、3級ホスフィン類また
は各種金属化合物などの公知慣用化合物が適用できる。
ずれも使用できるが、例えば、ベンジルジメチルアミン
等の第3級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイ
ス酸、アミン錯塩等が挙げられ、これらは単独のみなら
ず2種以上の併用も可能である。
に加え、更に有機溶剤を使用してもよく、特に電気積層
板用組成物としては、この有機溶剤は必須の成分とな
る。ここで、使用し得る有機溶媒は、特に限定されるも
のではないが、例えば、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、メトキ
シプロパノール、メチルセロソルブ、エチルカルビトー
ル、酢酸エチル、キシレン、トルエン、シクロヘキサノ
ール、N,N−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、
これらの溶剤は、適宜に2種または、それ以上の混合溶
剤として使用することも可能である。
必要に応じて種々の添加剤、難燃剤、充填剤等を適宜配
合することが出来る。
着剤、注型、塗料等の各種用途に使用できるが、耐熱性
を低下させることなく、非ハロゲン系の難燃性硬化物を
得られることから、封止、積層、塗料などの用途特にガ
ラスエポキシ積層板やIC封止材用に適し、さらに金属
密着性に優れるのでレジストや塗料用途にも適する被覆
用エポキシ樹脂組成物を提供することが出来る。また、
電気積層板用としては銅箔との密着性に優れる点から樹
脂付き銅箔等のいわゆるビルドアップ積層板用組成物と
して特に有用である。
物から積層板を製造する方法としては、特に制限されな
く、公知慣用の方法によって製造することができるが、
例えばガラスクロス等の基板に本発明のエポキシ樹脂組
成物を樹脂量30〜70重量%となる割合で含浸してプ
リプレグとし、次いでこのプリプレグの1〜10枚を加
熱プレスして得る方法が挙げられる。
より具体的に説明する。尚、例中において「部」および
「%」は特に断りのない限りすべて重量基準である。
尚、リン含有量は、以下の方法にて測定した。
ml及び過塩素酸10mlを加えて内容物を5〜10m
lになるまで加熱分解しこの液を1000mlメスフラ
スコに蒸留水で希釈する。この試料液10mlを100ml
メスフラスコに入れ、硝酸10ml、0.25%バナジン
酸アンモニウム溶液を10ml及び5%モリブデン酸ア
ンモニウム溶液10mlを加えた後、蒸留水で標線まで
希釈しよく振り混ぜ、放置するこの発色液を石英セルに
入れ、分光光度計を用いて波長440nmの条件でブラ
ンク液を対照にして試料およびリン標準液の吸光度を測
定する。リン標準液はリン酸カリウムを蒸留水でP=
0.1mg/mlとして調整した液を100mlメスフ
ラスコ10ml入れて蒸留水で希釈する。
/試料(g)
PICLON HP−4032D:大日本インキ化学工
業株式会社製)142部、次いで10−(2’,5’−
ジヒドロキシフェニル)―9,10−ジヒドロ−9−オ
キサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイ
ド 75部を仕込んだ。仕込み後、90℃に昇温し、ト
リフェニルホスフィン0.06部添加して160℃にて
8時間反応させてから、リン含有量3.3重量%でエポ
キシ当量が404の目的樹脂を得た。以下、これを樹脂
(A−1)と略記する。
脂(EPICLON830S:大日本インキ化学工業株
式会社製)を172部、次いで10−(2‘,5’−ジ
ヒドロキシフェニル)―9,10−ジヒドロ−9−オキ
サ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド
79部を仕込んだ。仕込み後、90℃に昇温し、トリ
フェニルホスフィン0.07部添加して160℃にて7
時間反応させてから、リン含有量3.0重量%でエポキ
シ当量が490の目的樹脂を得た。以下、これを樹脂
(A−2)と略記する。
脂(EPICLON830S:大日本インキ化学工業株
式会社製)を172部、次いで10−(2‘,7’−ジ
ヒドロキシナフチル)―9,10−ジヒドロ−9−オキ
サ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド
75部を仕込んだ。仕込み後、90℃に昇温し、トリ
フェニルホスフィン0.07部添加して160℃にて7
時間反応させてから、リン含有量2.5重量%でエポキ
シ当量が412の目的樹脂を得た。以下、これを樹脂
(A−3)と略記する。
%ホルマリン45部、およびトリエチルアミン0.4部
を加え、系のpHを8.2に調整し、発熱に注意しなが
ら徐々に100℃まで昇温した。100℃にて5時間反
応させた後、常圧下にて水を除去しながら120℃まで
2時間かけて昇温した。次に還流下にて3時間反応させ
た後、常圧下にて水を除去しながら160℃まで2時間
かけて昇温した。さらに還流下で3時間反応させた後、
常圧下にて水を除去しながら180℃まで2時間かけて
昇温した。次に減圧下にて未反応のフェノールを除去
し、軟化点111℃、水酸基当量120g/eqの目的
樹脂を得た。以下、これを樹脂(B−1)と略記する。
ジン類との重量比率、未反応ホルムアルデヒド量、メチ
ロール基の存在の有無、構成単位b1(−X−NH−C
H2−NH−)、構成単位b2(−X−NH−CH2−Y
−)のモル比率、未反応フェノールモノマー量、及びト
リアジン類反応率は次のように求めた。
ナミン)の重量比率>180℃、減圧下にて反応系外に
除去した流出物中のフェノール含量をガスクロマトグラ
フィから算出し、仕込みのフェノール部数から引いて混
合物中のフェノール存在量とした。ベンゾグアナミンは
仕込み量がそのまま組成物中に含まれることとした。両
者の比率を存在比とした。[カラム:30%セライト5
45カルナバワックス2m×3mmΦ、カラム温度:1
70℃注入口温度:230℃検出器:FIDキャリアガ
ス:N2ガス 1.0kg/cm2測定法:内部標準
法]
H−) 構成単位b2(−X−NH−CH2−Y−)のモル比率
> 13C−NMRチャートを用い以下の条件で測定した。
[装置:日本電子(株)製 GSX270プロトン:2
70MHZ測定溶媒:DMSOあるいは重アセトン基準
物質:テトラメチルシラン測定条件パルス条件:45゜
×10000timesパルス間隔:2秒] チャートの42.5〜45ppmに現れるピークの積分
値をBp、47〜48.5ppmに現れるピークの積分
値をApとし、次式によりモル比率を求めた。 構成単位b1/構成単位b2 = Bp/Ap
たガスクロマトグラフィと同様の測定条件において流出
物中のフェノールモノマー含量を測定した。
を測定したのと同一条件で測定した13C−NMRチャー
トを用いて算出した。チャートの167.2〜167.
4ppmに現れるシャープなピークの積分値をTm、1
63〜167.2ppmに現れるブロードなピークのピ
ーク積分値をTrとし、次式により反応率を求めた。 反応率(%)=(Tr/(Tr+Tm))×100 このようにして求められた各成分量の結果は表1にまと
めて記した。
リン45部、およびトリエチルアミン0.4部を加え、
系のpHを8.2に調整し、発熱に注意しながら徐々に
100℃まで昇温した。100℃にて5時間反応させた
後、常圧下にて水を除去しながら120℃まで2時間か
けて昇温した。次に還流下にて3時間反応させた後、常
圧下にて水を除去しながら140℃まで2時間かけて昇
温した。還流下で3時間反応させた後、常圧下にて水を
除去しながら160℃まで2時間かけて昇温した。さら
に還流下で3時間反応させた後、常圧下にて水を除去し
ながら180℃まで2時間かけて昇温した。次に減圧下
にて未反応のフェノールを除去し、軟化点128℃、水
酸基当量120g/eqの目的樹脂を得た。以下、これ
を樹脂(B−2)と略記する。
位b1、構成単位b2のモル比率、未反応フェノールモ
ノマー量、及びトリアジン類反応率を、実施例1と同様
に求め、結果を表1にまとめて示した。
ナンスレン−10−オキサイド 39g、トルエン 8
3gを仕込み後、撹拌しながら70℃に加熱した。そこ
へ、1,4−ナフトキノン 25gを発熱に注意しなが
ら分割添加した。反応後、エポキシ当量が188のフェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂(EPICLON N
−770:大日本インキ化学工業株式会社製)を188
部を仕込み90℃に昇温、トリフェニルホスフィン0.
08部添加して160℃にて7時間反応させてから、リ
ン含有量2.2重量%でエポキシ当量が380の目的樹
脂を得た。以下、これを樹脂(A−4)と略記する。
(B−1)、(B−2)を各別にメチルエチルケトンで
溶解させ、不揮発分(NV)が55%なる混合溶液を調
製した。次いで予めメチルセロソルブ、ジメチルホルム
アミドに溶解させておいた硬化促進剤2エチル4メチル
イミダゾールを加えて、不揮発分(NV)が55%なる
混合溶液を調製した。この際の硬化剤の量としてはエポ
キシ樹脂中のエポキシ基に対して水酸基当量が1.0当
量となるような割合にし、また、硬化促進剤量はプリプ
レグのゲルタイムが170℃で120秒になる割合にし
た。しかるのち、それぞれの混合溶液を用い、基材であ
るガラスクロスWEA 7628 H258N〔日東紡
(株)製〕に含浸させ、160℃3分乾燥させて樹脂分
40%のプリプレグを作製した。次いで、得られたプリ
プレグを8枚重ね合わせ、圧力3.9MN/m2、加熱
温度170℃、加熱時間120分の条件で硬化させて積
層板を作製した。
度、層間剥離強度、難燃性、Tg(ガラス転移温度)、
PCT吸水率、耐ハンダ性の各物性を試験した。その結
果を第2表に示す。尚、各試験は以下の方法に従った。 [ピール強度] JIS−K6481に準拠した。 [層間剥離強度] JIS−K6481に準拠した。 [難燃性] UL規格に準拠 [Tg(ガラス転移温度)]DMA法にて測定。昇温ス
ピード3℃/min [吸水率;PCT(プレッシャークッカー試験)にて1
21℃/湿度100%で処理した前後の重量変化(wt
%)を吸水率として測定] [耐ハンダ性;常態およびPCT処理後の積層板を26
0℃のハンダ浴に30秒浸せきさせてその状態変化を観
察した] 判定基準:◎:外観変化なし、△:ミーズリングあり、
×:フクレ発生
ケトンで溶解させ、次いで予めメチルセロソルブ、ジメ
チルホルムアミドに溶解させておいた硬化剤ジシアンジ
アミドと硬化促進剤2エチル4メチルイミダゾールを加
えて、不揮発分(NV)が55%なる混合溶液を調製し
た。この際の硬化剤の量としてはエポキシ樹脂中のエポ
キシ基に対して活性水素当量が0.5当量となるような
割合にした以外は、実施例1〜5と同様にしてワニスを
作製し、評価を行った。
(EPICLON 1121−75M:大日本インキ化
学工業株式会社製)を用いる以外は、比較例1と同様に
してワニスを作製し、評価を行った。
として極めて優れた難燃効果を発現させると共に、電気
積層板の密着性に優れるエポキシ樹脂組成物を提供でき
る。
着剤、注型、塗料等種々の分野に使用出来るものの、と
りわけ電気積層用途において有用である。
Claims (12)
- 【請求項1】 Ar−P−の構造部位(式中、Arはア
リール基を示す。以下同様。)を分子構造中に有するビ
スフェノールF型エポキシ樹脂(A)、及び、フェノー
ル骨格とトリアジン骨格とを有する化合物(B)を必須
成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 - 【請求項2】 Ar−P−の構造が、ホスフィネート構
造(a1)又はホスフィンオキシド構造(a2)である
請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 エポキシ樹脂(A)が、ビスフェノール
F型エポキシ樹脂をAr−P−Hの構造部位を分子構造
中に有する化合物及びキノン化合物で変性したもの、あ
るいは、ビスフェノールF型エポキシ樹脂をAr−P−
の構造部位を分子構造中に有するジヒドロキシ芳香族化
合物で変性したものである請求項1又は2記載の組成
物。 - 【請求項4】 ビスフェノールF型エポキシ樹脂が、エ
ポキシ当量100〜500g/eqのものである請求項
3記載の組成物。 - 【請求項5】 Ar−P−の構造部位(式中、Arはア
リール基を示す。以下同様。)を分子構造中に有するジ
グリシジルオキシナフタレン型エポキシ樹脂(A)、及
び、フェノール骨格とトリアジン骨格とを有する化合物
(B)を必須成分とすることを特徴とするエポキシ樹脂
組成物。 - 【請求項6】 Ar−P−の構造が、ホスフィネート構
造(a1)又はホスフィンオキシド構造(a2)である
請求項5記載の組成物。 - 【請求項7】 エポキシ樹脂(A)が、ナフタレン骨格
含有エポキシ樹脂をAr−P−Hの構造部位を分子構造
中に有する化合物及びキノン化合物で変性したもの、あ
るいは、ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂をAr−P−
の構造部位を分子構造中に有するジヒドロキシ芳香族化
合物で変性したものである請求項6又は7記載の組成
物。 - 【請求項8】 ナフタレン骨格含有エポキシ樹脂が、ジ
ヒドロキシナフタレンのジグリシジルエーテルである請
求項7記載の組成物。 - 【請求項9】 エポキシ樹脂(A)のエポキシ当量が、
200〜1500g/eqのものである請求項1〜7の
何れか1つに記載の組成物。 - 【請求項10】 フェノール骨格とトリアジン骨格とを
有する化合物(B)が、トリアジン化合物と、フェノー
ル類と、アルデヒド類とを縮合反応した構造を有するも
のである請求項1〜9の何れか1つに記載の組成物。 - 【請求項11】 フェノール骨格とトリアジン骨格とを
有する化合物(B)が、 B1:アミノ基含有トリアジン化合物とフェノール類と
アルデヒド類との縮合反応物、 B2:アミノ基含有トリアジン化合物とアルデヒド類と
の縮合反応物、 B3:フェノール類とアルデヒド類との縮合反応物、 B4:フェノール類、 B5:アミノ基含有トリアジン化合物 の混合物(B’)であって、かつ、該混合物中に −X−NH−CH2−NH− (b1) −X−NH−CH2−Y− (b2) (式中、Xはトリアジン骨格、Yはフェノール骨格を示
す。)なる構造部位を (b2)/(b1)=1.5〜20 となる割合で含有する混合物として用いられるものであ
る請求項1〜10の何れか1つに記載の組成物。 - 【請求項12】 (A)成分及び(B)成分に加え、硬
化促進剤(D)及び有機溶剤(E)を含有する請求項1
〜11の何れか1つに記載の組成物。
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JP3500465B2 (ja) | 2000-07-03 | 2004-02-23 | 京セラケミカル株式会社 | 難燃性エポキシ樹脂組成物、プリプレグおよび積層製品 |
WO2008108485A1 (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-12 | Tohto Kasei Co., Ltd. | 新規なリン含有エポキシ樹脂、該エポキシ樹脂を必須成分とするエポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
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- 2000-03-31 JP JP2000097101A patent/JP5126923B2/ja not_active Expired - Fee Related
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