JP2001273976A - 有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置 - Google Patents
有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機ＥＬ媒体層や電極の損傷や汚染がなく、
高精度なパターニングの施された有機ＥＬ表示パネル、
その製造方法、及びその成膜装置を提供する。 【解決手段】 基板を保持する工程と、基板上に第１電
極層、少なくとも１層の有機層及び第２電極層を順次形
成する工程と、を有し、上記第１電極層、少なくとも１
層の有機層及び第２電極層のうち少なくとも１層を形成
する工程は、磁性体マスクを用いて蒸着する蒸着工程を
含み、該蒸着工程は、基板及び磁性体マスクを所定間隔
だけ隔てるスペーサを基板及び磁性体マスク間に介在せ
しめかつ磁性体マスクを磁気吸着しつつ実行される。
高精度なパターニングの施された有機ＥＬ表示パネル、
その製造方法、及びその成膜装置を提供する。 【解決手段】 基板を保持する工程と、基板上に第１電
極層、少なくとも１層の有機層及び第２電極層を順次形
成する工程と、を有し、上記第１電極層、少なくとも１
層の有機層及び第２電極層のうち少なくとも１層を形成
する工程は、磁性体マスクを用いて蒸着する蒸着工程を
含み、該蒸着工程は、基板及び磁性体マスクを所定間隔
だけ隔てるスペーサを基板及び磁性体マスク間に介在せ
しめかつ磁性体マスクを磁気吸着しつつ実行される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は有機エレクトロルミ
ネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と称する）を有する
有機ＥＬ表示パネル、その製造方法、及びその成膜装
置、特に、蒸着によって電極層又は有機層を形成する有
機ＥＬ表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置に
関する。
ネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と称する）を有する
有機ＥＬ表示パネル、その製造方法、及びその成膜装
置、特に、蒸着によって電極層又は有機層を形成する有
機ＥＬ表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、有機ＥＬ表示パネルの形成時に
おいて、有機ＥＬ媒体層や有機ＥＬ媒体層を成膜した後
の電極層をパターニングすることは、電荷注入層や発光
層に用いられる有機ＥＬ媒体の耐熱性、耐溶剤性及び耐
湿性の低さのために困難である。例えば、一般に薄膜の
パターニングに用いられるフォトリソグラフィ法を有機
ＥＬ表示パネルのパターニングに用いると、フォトレジ
スト中の溶剤の侵入、フォトレジストのベーキング処理
中の高温雰囲気、フォトレジスト現像液の素子への侵
入、又はドライエッチング時のプラズマによるダメージ
等の原因により有機ＥＬ素子特性が劣化する問題が生じ
る。
おいて、有機ＥＬ媒体層や有機ＥＬ媒体層を成膜した後
の電極層をパターニングすることは、電荷注入層や発光
層に用いられる有機ＥＬ媒体の耐熱性、耐溶剤性及び耐
湿性の低さのために困難である。例えば、一般に薄膜の
パターニングに用いられるフォトリソグラフィ法を有機
ＥＬ表示パネルのパターニングに用いると、フォトレジ
スト中の溶剤の侵入、フォトレジストのベーキング処理
中の高温雰囲気、フォトレジスト現像液の素子への侵
入、又はドライエッチング時のプラズマによるダメージ
等の原因により有機ＥＬ素子特性が劣化する問題が生じ
る。
【０００３】また、蒸着マスクを用いてパターニングす
る方法もあるが、例えば、開口部が大きくマスク部が小
さな蒸着マスク等、蒸着マスクの強度が不足してマスク
が撓むこと等の問題が生じる場合がある。この場合、図
１（ａ）に示すように、基板及び蒸着マスク間の密着不
良による蒸着材料の回り込みが生じて、微細なパターン
が形成できないという問題が生じる。また、蒸着マスク
を基板に密着させる場合には、基板と蒸着マスクとの接
触により有機ＥＬ媒体層や電極を損傷したり、図１
（ｂ）に示すように、電極の短絡等を防止するために設
けられた隔壁を破壊するという問題が生じる。さらに、
蒸着マスクから汚れやごみが表示パネルに付着するとい
う問題があった。
る方法もあるが、例えば、開口部が大きくマスク部が小
さな蒸着マスク等、蒸着マスクの強度が不足してマスク
が撓むこと等の問題が生じる場合がある。この場合、図
１（ａ）に示すように、基板及び蒸着マスク間の密着不
良による蒸着材料の回り込みが生じて、微細なパターン
が形成できないという問題が生じる。また、蒸着マスク
を基板に密着させる場合には、基板と蒸着マスクとの接
触により有機ＥＬ媒体層や電極を損傷したり、図１
（ｂ）に示すように、電極の短絡等を防止するために設
けられた隔壁を破壊するという問題が生じる。さらに、
蒸着マスクから汚れやごみが表示パネルに付着するとい
う問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる点に鑑
みてなされたものであり、その目的とするところは、有
機ＥＬ媒体層や電極の損傷や汚染がなく、高精度なパタ
ーニングの施された有機ＥＬ表示パネル及びその製造方
法を提供することにある。
みてなされたものであり、その目的とするところは、有
機ＥＬ媒体層や電極の損傷や汚染がなく、高精度なパタ
ーニングの施された有機ＥＬ表示パネル及びその製造方
法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明による有機エレク
トロルミネセンス表示パネルの製造方法は、基板上に複
数の発光部からなる画像表示配列を有する有機エレクト
ロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、基板を
保持する工程と、基板上に第１電極層、少なくとも１層
の有機層及び第２電極層を順次形成する工程と、を有
し、上記第１電極層、少なくとも１層の有機層及び第２
電極層のうち少なくとも１層を形成する工程は、磁性体
マスクを用いて蒸着する蒸着工程を含み、該蒸着工程
は、基板及び磁性体マスクを所定間隔だけ隔てるスペー
サを基板及び磁性体マスク間に介在せしめかつ磁性体マ
スクを磁気吸着しつつ実行されることを特徴としてい
る。
トロルミネセンス表示パネルの製造方法は、基板上に複
数の発光部からなる画像表示配列を有する有機エレクト
ロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、基板を
保持する工程と、基板上に第１電極層、少なくとも１層
の有機層及び第２電極層を順次形成する工程と、を有
し、上記第１電極層、少なくとも１層の有機層及び第２
電極層のうち少なくとも１層を形成する工程は、磁性体
マスクを用いて蒸着する蒸着工程を含み、該蒸着工程
は、基板及び磁性体マスクを所定間隔だけ隔てるスペー
サを基板及び磁性体マスク間に介在せしめかつ磁性体マ
スクを磁気吸着しつつ実行されることを特徴としてい
る。
【０００６】また、本発明による有機エレクトロルミネ
センス表示パネルは、基板上に複数の発光部からなる画
像表示配列を有する有機エレクトロルミネセンス表示パ
ネルであって、基板上に順次形成された第１電極層、少
なくとも１層の有機層、及び第２電極層を有し、上記第
１電極層、少なくとも１層の有機層、及び第２電極層の
うち少なくとも１層は、磁性体マスクと、磁石を内部ま
たは表面または全部に含み磁性体マスクを磁気吸着する
とともに基板を保持する基板保持台と、基板及び磁性体
マスクを所定間隔だけ隔てるスペーサと、を用いた蒸着
により形成されたことを特徴としている。
センス表示パネルは、基板上に複数の発光部からなる画
像表示配列を有する有機エレクトロルミネセンス表示パ
ネルであって、基板上に順次形成された第１電極層、少
なくとも１層の有機層、及び第２電極層を有し、上記第
１電極層、少なくとも１層の有機層、及び第２電極層の
うち少なくとも１層は、磁性体マスクと、磁石を内部ま
たは表面または全部に含み磁性体マスクを磁気吸着する
とともに基板を保持する基板保持台と、基板及び磁性体
マスクを所定間隔だけ隔てるスペーサと、を用いた蒸着
により形成されたことを特徴としている。
【０００７】更に、本発明による有機エレクトロルミネ
センス表示パネルの成膜装置は、基板上に第１電極層、
少なくとも１層の有機層、及び第２電極層を有する有機
エレクトロルミネセンス表示パネルの成膜装置であっ
て、基板上に、上記第１電極層、少なくとも１層の有機
層、及び第２電極層のうち少なくとも１層を成膜するた
めの蒸着源と、磁性体マスクと、磁石を内部または表面
または全部に含み磁性体マスクを磁気吸着するとともに
基板を保持する基板保持台と、基板及び磁性体マスクを
所定間隔だけ隔てるスペーサと、を有することを特徴と
している。
センス表示パネルの成膜装置は、基板上に第１電極層、
少なくとも１層の有機層、及び第２電極層を有する有機
エレクトロルミネセンス表示パネルの成膜装置であっ
て、基板上に、上記第１電極層、少なくとも１層の有機
層、及び第２電極層のうち少なくとも１層を成膜するた
めの蒸着源と、磁性体マスクと、磁石を内部または表面
または全部に含み磁性体マスクを磁気吸着するとともに
基板を保持する基板保持台と、基板及び磁性体マスクを
所定間隔だけ隔てるスペーサと、を有することを特徴と
している。
【０００８】上記磁性体マスクは、ストライプ状の開口
部を有することを特徴としている。また、上記磁性体マ
スクは、マトリクス状に配列された開口部を有すること
を特徴としている。更に、上記スペーサは、単位発光領
域の各々に対応した開口部を有することを特徴としてい
る。
部を有することを特徴としている。また、上記磁性体マ
スクは、マトリクス状に配列された開口部を有すること
を特徴としている。更に、上記スペーサは、単位発光領
域の各々に対応した開口部を有することを特徴としてい
る。
【０００９】また、上記スペーサは、磁性体であること
を特徴としている。
を特徴としている。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図面を参照しつ
つ詳細に説明する。尚、以下に説明する図において、実
質的に同等な部分には同一の参照符号を付している。図
２は、有機ＥＬ表示パネル１０を模式的に示す上平面図
である。図に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０は、
ガラス基板１１上にマトリクス状に配置され、各々が赤
(Ｒ)、緑(Ｇ)、及び青(Ｂ)の発光部１２からなる画像表
示配列を有している。また、ＲＧＢの発光部１２に代え
てすべてを単色の発光部とすることによってモノクロー
ム表示パネルを構成することができる。
つ詳細に説明する。尚、以下に説明する図において、実
質的に同等な部分には同一の参照符号を付している。図
２は、有機ＥＬ表示パネル１０を模式的に示す上平面図
である。図に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０は、
ガラス基板１１上にマトリクス状に配置され、各々が赤
(Ｒ)、緑(Ｇ)、及び青(Ｂ)の発光部１２からなる画像表
示配列を有している。また、ＲＧＢの発光部１２に代え
てすべてを単色の発光部とすることによってモノクロー
ム表示パネルを構成することができる。
【００１１】図３は、有機ＥＬ表示パネル１０の一部を
模式的に示す斜視図である。図に示すように、この有機
ＥＬ表示パネル１０の基板１１上には、インジウム錫酸
化膜（以下、ＩＴＯ膜と称する）などからなる第１表示
電極１３がストライプ状に設けられている。第１表示電
極１３は、互いに平行な複数のストライプ状に配列され
ている。すなわち、隔壁１７が第１表示電極１３に直交
するように基板１１及び第１表示電極１３上にわたって
形成されている。すなわち、隔壁１７が少なくとも第１
表示電極１３の一部分を露出せしめるように形成されて
いる。
模式的に示す斜視図である。図に示すように、この有機
ＥＬ表示パネル１０の基板１１上には、インジウム錫酸
化膜（以下、ＩＴＯ膜と称する）などからなる第１表示
電極１３がストライプ状に設けられている。第１表示電
極１３は、互いに平行な複数のストライプ状に配列され
ている。すなわち、隔壁１７が第１表示電極１３に直交
するように基板１１及び第１表示電極１３上にわたって
形成されている。すなわち、隔壁１７が少なくとも第１
表示電極１３の一部分を露出せしめるように形成されて
いる。
【００１２】図３において、隔壁１７は逆テーパ形状の
断面を有しているが、Ｔ字形状等の断面形状を有してい
てもよい。隔壁１７の間に挟まれた領域には、第１表示
電極１３上に少なくとも１層の有機ＥＬ媒体層１８が形
成されている。例えば、有機ＥＬ媒体層１８は、有機Ｅ
Ｌ発光層の単一層であるか、あるいは有機ＥＬ発光層に
加えて有機ホール注入層、有機ホール輸送層、有機電子
輸送層、又は有機電子注入層を含んでいてもよい。
断面を有しているが、Ｔ字形状等の断面形状を有してい
てもよい。隔壁１７の間に挟まれた領域には、第１表示
電極１３上に少なくとも１層の有機ＥＬ媒体層１８が形
成されている。例えば、有機ＥＬ媒体層１８は、有機Ｅ
Ｌ発光層の単一層であるか、あるいは有機ＥＬ発光層に
加えて有機ホール注入層、有機ホール輸送層、有機電子
輸送層、又は有機電子注入層を含んでいてもよい。
【００１３】有機ＥＬ媒体層１８上には、その伸張方向
に沿って第２表示電極１９が形成されている。このよう
に、交差する第１表示電極１３及び第２表示電極１９に
挟まれた部分が発光部に対応する。この単純マトリクス
型の表示パネル１０の第２表示電極１９の上には保護膜
又は保護基板（図示しない）が設けられることが好まし
い。また、上記した有機ＥＬ表示パネル１０において、
基板１１及び第１表示電極１３は透明であり、ルミネセ
ンス光は基板側から放射されるので、発光効率を高める
ために第２表示電極１９上又は保護膜を介して反射膜
（図示しない）を設けることが好ましい。また、上記し
た有機ＥＬ表示パネル１０とは逆に、第２表示電極１９
を透明材料で構成して、ルミネセンス光が第２表示電極
側から放射されるようにすることができる。この場合、
発光効率を高めるために第１表示電極１３の外側に反射
膜を設けることが好ましい。
に沿って第２表示電極１９が形成されている。このよう
に、交差する第１表示電極１３及び第２表示電極１９に
挟まれた部分が発光部に対応する。この単純マトリクス
型の表示パネル１０の第２表示電極１９の上には保護膜
又は保護基板（図示しない）が設けられることが好まし
い。また、上記した有機ＥＬ表示パネル１０において、
基板１１及び第１表示電極１３は透明であり、ルミネセ
ンス光は基板側から放射されるので、発光効率を高める
ために第２表示電極１９上又は保護膜を介して反射膜
（図示しない）を設けることが好ましい。また、上記し
た有機ＥＬ表示パネル１０とは逆に、第２表示電極１９
を透明材料で構成して、ルミネセンス光が第２表示電極
側から放射されるようにすることができる。この場合、
発光効率を高めるために第１表示電極１３の外側に反射
膜を設けることが好ましい。
【００１４】次に、本発明の第１の実施例である有機Ｅ
Ｌ表示パネル１０の製造方法について詳細に説明する。
図４は、有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程のうちの１
工程を説明するための斜視図である。以下では、有機Ｅ
Ｌ媒体層１８の蒸着工程を例に説明する。図に示すよう
に、ガラス基板１１上に第１表示電極１３と例えばフォ
トレジストからなる隔壁１７が形成されている。このガ
ラス基板１１は大判基板であり、１枚の基板に４個の有
機ＥＬ表示パネルが形成されている。この基板は、基板
保持台２１に保持されており、後述するスペーサ２３を
介して磁性材料からなる蒸着マスク（メタルマスク）２
５が大判のガラス基板１１に載置される。基板保持台２
１の内部または表面または全部には蒸着マスク２５を磁
気吸着するための磁石２２が設けられており、これによ
って蒸着マスク２５は撓むことなく板状のスペーサ２３
を介在してガラス基板１１に密着する。尚、上図におい
ては、基板保持台２１の保持機構、基板１１、スペーサ
２３、及び蒸着マスク２５の縁部又は外枠部分は図示し
ていない。
Ｌ表示パネル１０の製造方法について詳細に説明する。
図４は、有機ＥＬ表示パネル１０の製造工程のうちの１
工程を説明するための斜視図である。以下では、有機Ｅ
Ｌ媒体層１８の蒸着工程を例に説明する。図に示すよう
に、ガラス基板１１上に第１表示電極１３と例えばフォ
トレジストからなる隔壁１７が形成されている。このガ
ラス基板１１は大判基板であり、１枚の基板に４個の有
機ＥＬ表示パネルが形成されている。この基板は、基板
保持台２１に保持されており、後述するスペーサ２３を
介して磁性材料からなる蒸着マスク（メタルマスク）２
５が大判のガラス基板１１に載置される。基板保持台２
１の内部または表面または全部には蒸着マスク２５を磁
気吸着するための磁石２２が設けられており、これによ
って蒸着マスク２５は撓むことなく板状のスペーサ２３
を介在してガラス基板１１に密着する。尚、上図におい
ては、基板保持台２１の保持機構、基板１１、スペーサ
２３、及び蒸着マスク２５の縁部又は外枠部分は図示し
ていない。
【００１５】図４に示すように、スペーサ２３は大判ガ
ラス基板１１の周囲に形成された枠体形状を成し、この
枠体部は隔壁１７を破損しないような位置に形成されて
いる。また、蒸着マスク２５が十分に密着するような大
きさで構成される。蒸着マスク（メタルマスク）２５は
例えば図５に示すものを用いる。図６はその一部（Ａ
部）の拡大図を示す。蒸着マスク２５はストライプ形状
のフレーム部２５Ａ、及びフレーム部２５Ａの各々の間
にストライプ状の開口部２５Ｂを有している。開口部２
５Ｂの形状及び大きさ、或いはフレーム部２５Ａの間隔
は該蒸着マスク２５が十分スペーサ２３と密着する大き
さであればよい。
ラス基板１１の周囲に形成された枠体形状を成し、この
枠体部は隔壁１７を破損しないような位置に形成されて
いる。また、蒸着マスク２５が十分に密着するような大
きさで構成される。蒸着マスク（メタルマスク）２５は
例えば図５に示すものを用いる。図６はその一部（Ａ
部）の拡大図を示す。蒸着マスク２５はストライプ形状
のフレーム部２５Ａ、及びフレーム部２５Ａの各々の間
にストライプ状の開口部２５Ｂを有している。開口部２
５Ｂの形状及び大きさ、或いはフレーム部２５Ａの間隔
は該蒸着マスク２５が十分スペーサ２３と密着する大き
さであればよい。
【００１６】例えば、図２に示したように、ＲＧＢの発
光部１２を有する有機ＥＬ表示パネル１０において、発
光色の１種類がそれぞれ１列（又は１行）に配列された
場合では、ストライプ形状のフレーム部２５Ａの伸張方
向を当該配列方向に合わせるようにしてもよい。また、
隔壁１７が形成された基板への蒸着工程においては隔壁
１７の伸張方向、配置、長さ等を考慮して決定すればよ
い。
光部１２を有する有機ＥＬ表示パネル１０において、発
光色の１種類がそれぞれ１列（又は１行）に配列された
場合では、ストライプ形状のフレーム部２５Ａの伸張方
向を当該配列方向に合わせるようにしてもよい。また、
隔壁１７が形成された基板への蒸着工程においては隔壁
１７の伸張方向、配置、長さ等を考慮して決定すればよ
い。
【００１７】また、スペーサ２３の厚さは、一般に１〜
５００μｍ程度が適当であるが、蒸着材料の回り込み等
に応じて、また隔壁１７が形成された基板への蒸着工程
においては隔壁１７の高さや隔壁１７とのクリアランス
等を考慮して決定すればよい。更に、スペーサ２３は磁
性材料で作られていてもよい。蒸着マスク２５の材料と
しては、例えば、ＳＵＳ４３０等のフェライト系ステン
レスや、Ｎｉ又はＮｉ合金等、あるいはＮｉ又はＮｉ合
金等のアディティブを用いることができるがこれら以外
の磁性材料であればよい。また、基板保持台２１内に設
けられる磁石２２は、永久磁石又は電磁石のいずれであ
ってもよい。
５００μｍ程度が適当であるが、蒸着材料の回り込み等
に応じて、また隔壁１７が形成された基板への蒸着工程
においては隔壁１７の高さや隔壁１７とのクリアランス
等を考慮して決定すればよい。更に、スペーサ２３は磁
性材料で作られていてもよい。蒸着マスク２５の材料と
しては、例えば、ＳＵＳ４３０等のフェライト系ステン
レスや、Ｎｉ又はＮｉ合金等、あるいはＮｉ又はＮｉ合
金等のアディティブを用いることができるがこれら以外
の磁性材料であればよい。また、基板保持台２１内に設
けられる磁石２２は、永久磁石又は電磁石のいずれであ
ってもよい。
【００１８】図７は本発明による有機ＥＬ表示パネルの
蒸着装置２８を示している。図７及び図８に示すよう
に、有機ＥＬ媒体材料を蒸着する蒸着装置２８内におい
て、基板１１は例えば下向きに配置され、基板１１の下
方に配置された蒸着源２９から有機材料又は金属が蒸着
される。上記したように、本発明によれば、マスクの密
着性を高め、高精度なパターニングを簡便に行うことが
可能となる。
蒸着装置２８を示している。図７及び図８に示すよう
に、有機ＥＬ媒体材料を蒸着する蒸着装置２８内におい
て、基板１１は例えば下向きに配置され、基板１１の下
方に配置された蒸着源２９から有機材料又は金属が蒸着
される。上記したように、本発明によれば、マスクの密
着性を高め、高精度なパターニングを簡便に行うことが
可能となる。
【００１９】次に、本発明の第２の実施例である有機Ｅ
Ｌ表示パネル１０の製造方法について説明する。本実施
例が上記した第２の実施例と異なるのは、スペーサ２３
の開口部の形状にある。前述の大判ガラス基板１１に対
して適用されるスペーサ２３は、有機ＥＬ表示パネルの
発光領域を除く部分に載置されるような形状であればよ
い。たとえば、図９に示す大判ガラス基板１１に４個の
有機ＥＬ表示パネル１０を形成する４面取りのものにお
いて、各有機ＥＬ表示パネル１０には発光領域としてド
ット表示部１０Ａとアイコン表示部１０Ｂがそれぞれ形
成されている。各有機ＥＬ表示パネル１０はパネル境界
１０Ｃで画定されている。
Ｌ表示パネル１０の製造方法について説明する。本実施
例が上記した第２の実施例と異なるのは、スペーサ２３
の開口部の形状にある。前述の大判ガラス基板１１に対
して適用されるスペーサ２３は、有機ＥＬ表示パネルの
発光領域を除く部分に載置されるような形状であればよ
い。たとえば、図９に示す大判ガラス基板１１に４個の
有機ＥＬ表示パネル１０を形成する４面取りのものにお
いて、各有機ＥＬ表示パネル１０には発光領域としてド
ット表示部１０Ａとアイコン表示部１０Ｂがそれぞれ形
成されている。各有機ＥＬ表示パネル１０はパネル境界
１０Ｃで画定されている。
【００２０】そこで、スペーサ２３として 第１実施例（図４）に示す大判基板の周縁部 多面取りする表示パネルの発光領域の間 単位表示パネル１０における発光領域を除く部分 に形成されるようにする。図１０（ａ）はに適応する
スペーサ２３の構成を示し、図１０（ｂ）はに適応す
るスペーサ２３の構成を示す。
スペーサ２３の構成を示し、図１０（ｂ）はに適応す
るスペーサ２３の構成を示す。
【００２１】次に第２実施例における蒸着マスク２５の
全体、及び一部（Ａ部）の拡大図を図１１及び図１２に
示す。図に示すように、蒸着マスク２５は格子形状のフ
レーム部２５Ａ、及びマトリクス状に配列された開口部
２５Ｂを有している。開口部２５Ｂは、蒸着マスク２５
が十分に密着する大きさであればよく、複数の発光部を
含む大きさ、又は単一の発光部に対応する大きさであっ
てもよい。また、ＲＧＢカラー表示パネル又はモノクロ
ーム表示パネル等、パネルの種類に応じて開口部２５Ｂ
の形状を定めてもよい。さらに、開口部２５Ｂの配列
は、マトリクス状に限られない。
全体、及び一部（Ａ部）の拡大図を図１１及び図１２に
示す。図に示すように、蒸着マスク２５は格子形状のフ
レーム部２５Ａ、及びマトリクス状に配列された開口部
２５Ｂを有している。開口部２５Ｂは、蒸着マスク２５
が十分に密着する大きさであればよく、複数の発光部を
含む大きさ、又は単一の発光部に対応する大きさであっ
てもよい。また、ＲＧＢカラー表示パネル又はモノクロ
ーム表示パネル等、パネルの種類に応じて開口部２５Ｂ
の形状を定めてもよい。さらに、開口部２５Ｂの配列
は、マトリクス状に限られない。
【００２２】尚、本発明は、有機ホール注入層、有機ホ
ール輸送層、有機ＥＬ発光層、有機電子輸送層及び有機
電子注入層等の有機ＥＬ媒体層の形成に適用することが
できる。また、これら有機ＥＬ媒体層に限らず電極層を
形成する場合にも適用可能である。
ール輸送層、有機ＥＬ発光層、有機電子輸送層及び有機
電子注入層等の有機ＥＬ媒体層の形成に適用することが
できる。また、これら有機ＥＬ媒体層に限らず電極層を
形成する場合にも適用可能である。
【００２３】
【発明の効果】上記したことから明らかなように、本発
明によれば、簡便でかつ高精度にパターニングを行うこ
とができ、高精細度の有機ＥＬ表示パネルを実現でき
る。
明によれば、簡便でかつ高精度にパターニングを行うこ
とができ、高精細度の有機ＥＬ表示パネルを実現でき
る。
【図１】従来の蒸着マスクを用いたパターニングを模式
的に示す図である。
的に示す図である。
【図２】有機ＥＬ表示パネルを模式的に示す上平面図で
ある。
ある。
【図３】有機ＥＬ表示パネルの一部を模式的に示す斜視
図である。
図である。
【図４】有機ＥＬ表示パネルの製造工程のうちの１工程
を説明するための斜視図である。
を説明するための斜視図である。
【図５】本発明の第１の実施例における蒸着マスクの全
体を模式的に示す斜視図である。
体を模式的に示す斜視図である。
【図６】図５に示す蒸着マスクの一部（Ａ部）を模式的
に示す拡大した斜視図である。
に示す拡大した斜視図である。
【図７】本発明による有機ＥＬパネルの蒸着装置、及び
基板の配置を示す図である。
基板の配置を示す図である。
【図８】有機ＥＬ媒体の蒸着時における状態を示す基板
の断面図である。
の断面図である。
【図９】４個の有機ＥＬ表示パネルが形成された４面取
りの大判ガラス基板の斜視図である。
りの大判ガラス基板の斜視図である。
【図１０】（ａ）は多面取りする表示パネルの発光領域
の間に適応するスペーサの構成を示し、（ｂ）は単位表
示パネルにおける発光領域を除く部分に適応するスペー
サの構成を示す。
の間に適応するスペーサの構成を示し、（ｂ）は単位表
示パネルにおける発光領域を除く部分に適応するスペー
サの構成を示す。
【図１１】本発明の第２の実施例における磁性体マスク
の全体を模式的に示す斜視図である。
の全体を模式的に示す斜視図である。
【図１２】図１１に示す磁性体マスクの一部（Ａ部）を
模式的に示す拡大した斜視図である。
模式的に示す拡大した斜視図である。
１０ 有機ＥＬ表示パネル １１ 基板 １２ 発光部 １３ 第１表示電極 １７ 隔壁 １８ 有機ＥＬ媒体層 １９ 第２表示電極 ２１ 基板保持台 ２２ 磁石 ２３ スペーサ ２５Ａ フレーム部 ２５Ｂ 開口部 ２５ 蒸着マスク ２８ 蒸着装置 ２９ 蒸着源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安彦 浩志 山形県米沢市八幡原４丁目3146番地７ 東 北パイオニア株式会社米沢工場内 Ｆターム(参考） 3K007 AB04 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 4K029 BA01 BA62 BD00 DB06 HA02 HA03
Claims (15)
- 【請求項１】 基板上に複数の発光部からなる画像表示
配列を有する有機エレクトロルミネセンス表示パネルの
製造方法であって、 前記基板を保持する工程と、 前記基板上に第１電極層、少なくとも１層の有機層及び
第２電極層を順次形成する工程と、を有し、 前記第１電極層、前記少なくとも１層の有機層及び前記
第２電極層のうち少なくとも１層を形成する工程は、磁
性体マスクを用いて蒸着する蒸着工程を含み、 前記蒸着工程は、前記基板及び前記磁性体マスクを所定
間隔だけ隔てるスペーサを前記基板及び前記磁性体マス
ク間に介在せしめかつ前記磁性体マスクを磁気吸着しつ
つ実行されることを特徴とする製造方法。 - 【請求項２】 前記磁性体マスクは、ストライプ状の開
口部を有することを特徴とする請求項１に記載の製造方
法。 - 【請求項３】 前記磁性体マスクは、マトリクス状に配
列された開口部を有することを特徴とする請求項１に記
載の製造方法。 - 【請求項４】 前記スペーサは、単位発光領域の各々に
対応した開口部を有することを特徴とする請求項１に記
載の製造方法。 - 【請求項５】 前記スペーサは磁性体であることを特徴
とする請求項１ないし４のいずれか１に記載の製造方
法。 - 【請求項６】 基板上に複数の発光部からなる画像表示
配列を有する有機エレクトロルミネセンス表示パネルで
あって、 前記基板上に順次形成された第１電極層、少なくとも１
層の有機層、及び第２電極層を有し、 前記第１電極層、前記少なくとも１層の有機層、及び前
記第２電極層のうち少なくとも１層は、磁性体マスク
と、磁石を内部または表面または全部に含み前記磁性体
マスクを磁気吸着するとともに前記基板を保持する基板
保持台と、前記基板及び前記磁性体マスクを所定間隔だ
け隔てるスペーサと、を用いた蒸着により形成されたこ
とを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネ
ル。 - 【請求項７】 前記磁性体マスクは、ストライプ状の開
口部を有することを特徴とする請求項６に記載の有機エ
レクトロルミネセンス表示パネル。 - 【請求項８】 前記磁性体マスクは、マトリクス状に配
列された開口部を有することを特徴とする請求項６に記
載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。 - 【請求項９】 前記スペーサは、単位発光領域の各々に
対応した開口部を有することを特徴とする請求項６に記
載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。 - 【請求項１０】 前記スペーサは磁性体であることを特
徴とする請求項６ないし９のいずれか１に記載の有機エ
レクトロルミネセンス表示パネル。 - 【請求項１１】 基板上に第１電極層、少なくとも１層
の有機層、及び第２電極層を有する有機エレクトロルミ
ネセンス表示パネルの成膜装置であって、 前記基板上に、前記第１電極層、前記少なくとも１層の
有機層、及び前記第２電極層のうち少なくとも１層を成
膜するための蒸着源と、 磁性体マスクと、 磁石を内部または表面または全部に含み前記磁性体マス
クを磁気吸着するとともに前記基板を保持する基板保持
台と、 前記基板及び前記磁性体マスクを所定間隔だけ隔てるス
ペーサと、を有することを特徴とする成膜装置。 - 【請求項１２】 前記磁性体マスクは、ストライプ状の
開口部を有することを特徴とする請求項１１に記載の成
膜装置。 - 【請求項１３】 前記磁性体マスクは、マトリクス状に
配列された開口部を有することを特徴とする請求項１１
に記載の成膜装置。 - 【請求項１４】 前記スペーサは、単位発光領域の各々
に対応した開口部を有することを特徴とする請求項１３
に記載の成膜装置。 - 【請求項１５】前記スペーサは磁性体であることを特徴
とする請求項１１ないし１４のいずれか１に記載の成膜
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000089441A JP2001273976A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000089441A JP2001273976A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001273976A true JP2001273976A (ja) | 2001-10-05 |
Family
ID=18605205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000089441A Pending JP2001273976A (ja) | 2000-03-28 | 2000-03-28 | 有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001273976A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003257650A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子およびマスク |
| EP1418250A2 (en) * | 2002-10-21 | 2004-05-12 | Tohoku Pioneer Electronic Corporation | Vacuum evaporator |
| JP2005116526A (ja) * | 2003-10-04 | 2005-04-28 | Samsung Oled Co Ltd | 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法 |
| JP2007095324A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Hitachi Displays Ltd | 有機ｅｌ表示パネルの製造方法、及びこの製造方法により製造した有機ｅｌ表示パネル |
| US7268406B2 (en) | 2005-07-20 | 2007-09-11 | Seiko Epson Corporation | Mask, mask chip, manufacturing method of mask, manufacturing method of mask chip, and electronic device |
| US7285497B2 (en) | 2004-03-31 | 2007-10-23 | Seiko Epson Corporation | Mask, method for manufacturing a mask, method for manufacturing an electro-optical device, and electronic equipment |
| JP2008004382A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Rohm Co Ltd | 有機ｅｌディスプレイ |
| KR101518123B1 (ko) * | 2013-03-10 | 2015-05-06 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 새도우 마스크 조립체 |
-
2000
- 2000-03-28 JP JP2000089441A patent/JP2001273976A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003257650A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-12 | Sanyo Electric Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子およびマスク |
| EP1418250A2 (en) * | 2002-10-21 | 2004-05-12 | Tohoku Pioneer Electronic Corporation | Vacuum evaporator |
| JP2004137583A (ja) * | 2002-10-21 | 2004-05-13 | Tohoku Pioneer Corp | 真空蒸着装置 |
| EP1418250A3 (en) * | 2002-10-21 | 2006-02-08 | Tohoku Pioneer Corporation | Vacuum evaporator |
| KR101025190B1 (ko) * | 2002-10-21 | 2011-03-31 | 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 | 진공 증착 장치 |
| JP2005116526A (ja) * | 2003-10-04 | 2005-04-28 | Samsung Oled Co Ltd | 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法 |
| JP4620420B2 (ja) * | 2003-10-04 | 2011-01-26 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法 |
| US7285497B2 (en) | 2004-03-31 | 2007-10-23 | Seiko Epson Corporation | Mask, method for manufacturing a mask, method for manufacturing an electro-optical device, and electronic equipment |
| US7268406B2 (en) | 2005-07-20 | 2007-09-11 | Seiko Epson Corporation | Mask, mask chip, manufacturing method of mask, manufacturing method of mask chip, and electronic device |
| JP2007095324A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Hitachi Displays Ltd | 有機ｅｌ表示パネルの製造方法、及びこの製造方法により製造した有機ｅｌ表示パネル |
| JP2008004382A (ja) * | 2006-06-22 | 2008-01-10 | Rohm Co Ltd | 有機ｅｌディスプレイ |
| KR101518123B1 (ko) * | 2013-03-10 | 2015-05-06 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 새도우 마스크 조립체 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060508 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061115 |