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JP2001255555A - Liquid crystal display device and array substrate - Google Patents

Liquid crystal display device and array substrate

Info

Publication number
JP2001255555A
JP2001255555A JP2000065674A JP2000065674A JP2001255555A JP 2001255555 A JP2001255555 A JP 2001255555A JP 2000065674 A JP2000065674 A JP 2000065674A JP 2000065674 A JP2000065674 A JP 2000065674A JP 2001255555 A JP2001255555 A JP 2001255555A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixel electrode
array
array substrate
liquid crystal
switching element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000065674A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Yamaguchi
剛史 山口
Hitoshi Hado
仁 羽藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2000065674A priority Critical patent/JP2001255555A/en
Publication of JP2001255555A publication Critical patent/JP2001255555A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device and an array substrate which can dissolve the occurrence of residue of a contact hole, reduce display unevenness and improve productivity. SOLUTION: The array substrate has a switching element, a insulating layer formed on the switching element and a pixel electrode formed on the insulating layer, in the shape of an array. The contact hole for electrically connecting the terminal of the switching element with the pixel electrode is formed on the insulating layer. A corresponding position with the contact hole of the pixel electrode is located from the center of the pixel electrode in a corner, the pixel electrode is disposed in the direction, in which the corresponding position with the contact hole faces the center side of the array in the two sides or the four sides of the array directed opposite to each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置およ
びアレイ基板に係り、特に、表示ムラを低減できる液晶
表示装置およびアレイ基板に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display device and an array substrate, and more particularly to a liquid crystal display device and an array substrate capable of reducing display unevenness.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータを中心とする情報機
器分野およびテレビなどを中心とする映像機器分野にお
いて、軽量、小型、高精細な液晶表示装置が用いられて
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, light-weight, small-sized, and high-definition liquid crystal display devices have been used in the field of information equipment mainly for computers and the field of video equipment mainly for televisions.

【0003】このような液晶表示装置で一般的に用いら
れているものの主たる構造は、電極を有する2枚のガラ
ス基板とその間に挟持された液晶層である。
The main structure of such a liquid crystal display device which is generally used is a glass substrate having electrodes and a liquid crystal layer sandwiched between the glass substrates.

【0004】詳しくいうと、例えば、カラー型アクティ
ブマトリクス型液晶表示装置においては、第1の基板で
あるアレイ基板上には、アモルファスシリコンやポリシ
リコンを半導体層とした薄膜トランジスタ(スイッチン
グ素子)と薄膜トランジスタに接続された画素電極とが
マトリクス状に、また、画素電極に接続された走査線お
よび信号線が縦横にストライプ状に形成されている。
More specifically, for example, in a color active matrix type liquid crystal display device, a thin film transistor (switching element) using amorphous silicon or polysilicon as a semiconductor layer and a thin film transistor are formed on an array substrate as a first substrate. The connected pixel electrodes are formed in a matrix shape, and the scanning lines and signal lines connected to the pixel electrodes are formed in a vertical and horizontal stripe shape.

【0005】一方、第2の基板である対向基板上には、
三原色の着色層のついたカラーフィルタおよび対向電極
が形成されている。また、この2枚の基板間には距離を
保つためのスペーサ(スペーサ材)が設置(封入)され
ており、さらに2枚の基板は液晶封入口を除いて基板の
周辺に形成された接着剤で固定されている。
On the other hand, on a counter substrate which is a second substrate,
A color filter having three primary color layers and a counter electrode are formed. Further, a spacer (spacer material) for keeping a distance is provided (enclosed) between the two substrates, and an adhesive formed around the substrates except for the liquid crystal encapsulation opening is further provided. It is fixed at.

【0006】また、別の構造として、2枚の基板の貼り
合わせ精度の精密さを不要とするため、また、画素の開
口率を向上するため、アレイ基板上に縦構造としたスイ
ッチング素子と画素電極との間にカラーフィルタ層や透
明絶縁膜を形成するものも存在する。このような構造で
は、スイッチング素子と画素電極とを電気的に接続(コ
ンタクト)するためカラーフィルタ層にコンタクトホー
ルを形成する必要がある。
As another structure, a switching element and a pixel having a vertical structure on an array substrate are used in order to eliminate the need for precision of bonding accuracy between the two substrates and to improve the aperture ratio of the pixel. Some devices form a color filter layer or a transparent insulating film between the electrodes. In such a structure, it is necessary to form a contact hole in the color filter layer in order to electrically connect (contact) the switching element and the pixel electrode.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタ層にコ
ンタクトホールを形成する構造を有する液晶表示装置で
は、コンタクトホールの表示画面全面にわたる均一な形
成が問題となる。均一な形成がされれば、いずれの画素
においてもスイッチング素子と画素電極との電気的接触
が良好になされるが、均一でないとその電気的接触が不
良となる画素が形成され、その部分で表示がムラになる
からである。
In a liquid crystal display device having a structure in which a contact hole is formed in a color filter layer, uniform formation of the contact hole over the entire display screen poses a problem. If formed uniformly, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode will be good in any pixel, but if it is not uniform, a pixel whose electrical contact will be poor will be formed, and the display will take place in that part. Is uneven.

【0008】すなわち、例えば、図5に示すように、基
板11上にスイッチング素子12を形成し、さらにその
上にカラーフィルタとなるべき樹脂13を塗布し、フォ
トマスクによるパターニングと現像とによりこれを選択
的に取り去りコンタクトホール14を形成する。このと
きコンタクトホール14に樹脂13の残骸など(残渣1
5)が残ると、このあと成膜する画素電極16とスイッ
チング素子12との電気的接触が不良となり、表示画素
として機能しない。
More specifically, for example, as shown in FIG. 5, a switching element 12 is formed on a substrate 11, a resin 13 to be a color filter is applied thereon, and the switching element 12 is formed by patterning and developing with a photomask. The contact holes 14 are selectively removed. At this time, debris of resin 13 and the like (residue 1
If 5) remains, the electrical contact between the pixel electrode 16 to be formed later and the switching element 12 becomes poor, and the pixel electrode 16 does not function as a display pixel.

【0009】特に、このような不均一は、表示装置の表
示領域であって非表示領域に近い部分で発生しやすい。
これは、カラーフィルタ層を形成する工程において、表
示領域と非表示領域とでは、これを形成すべき基板上に
その工程までに形成されているパターンが異なるためそ
の影響で、カラーフィルタとなるべき樹脂材料の塗布時
の膜厚が、非表示領域に近い上記の部分で他の部分より
厚くなるからである。
[0009] In particular, such non-uniformity is likely to occur in a display area of a display device and near a non-display area.
This is because, in the process of forming the color filter layer, the pattern formed on the substrate on which the display region and the non-display region are to be formed is different between the display region and the non-display region. This is because the film thickness at the time of application of the resin material is thicker in the above-described portion near the non-display region than in other portions.

【0010】つまり、樹脂をスピンナーで全面塗布する
ときに凹凸のある一定の形成パターン上ではそのパター
ンに影響されつつ塗布厚が決まるが、一定のパターンが
崩れる場所ではこれとは異なる厚さになるということで
ある。
In other words, when the resin is applied over the entire surface with a spinner, the coating thickness is determined while being influenced by a certain pattern having irregularities, but the thickness differs when the certain pattern breaks down. That's what it means.

【0011】他の部分より厚くなると、フォトマスクに
よるパターニングと現像とによるコンタクトホールの形
成において、通常の厚みを有する部分を基準に現像工程
で樹脂を取り去るので樹脂層が厚い分だけ残渣として残
りやすくなる。例えば、膜厚差は、1μm程度は発生し
得、これに近い分の残渣の発生となる。
When the thickness is thicker than other portions, in forming a contact hole by patterning and development using a photomask, the resin is removed in a development step based on a portion having a normal thickness, so that the thicker resin layer tends to remain as a residue because of the thicker resin layer. Become. For example, a film thickness difference of about 1 μm may occur, and a residue close to this may be generated.

【0012】このため、表示装置の表示領域であって非
表示領域に近い部分では、スイッチング素子と画素電極
との電気的接触不良となる場合を生ずる。したがって、
その発生の程度によっては製品の歩留まりに影響し生産
性を損なうことにもなる。
For this reason, in the display area of the display device, which is close to the non-display area, there is a case where a poor electrical contact between the switching element and the pixel electrode occurs. Therefore,
Depending on the degree of occurrence, the yield of products is affected and productivity is impaired.

【0013】本発明は、上記した問題を考慮してなされ
たもので、コンタクトホールの残渣発生を解消して表示
ムラを低減することができ生産性が向上される液晶表示
装置およびアレイ基板を提供することを目的とする。
The present invention has been made in consideration of the above-described problems, and provides a liquid crystal display device and an array substrate which can eliminate display residue and reduce display unevenness and improve productivity by eliminating contact holes. The purpose is to do.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明に係る液晶表示装置は、アレイ基板と、前記
アレイ基板に対向配置された対向基板と、前記アレイ基
板と前記対向基板との間に挟持された液晶とを有し、前
記アレイ基板は、スイッチング素子と、前記スイッチン
グ素子上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成さ
れた画素電極とをアレイ状に有し、前記絶縁層には、前
記スイッチング素子と前記画素電極とを電気的に接続す
るためのコンタクトホールが形成され、前記画素電極の
前記コンタクトホールとの対応位置が前記画素電極の中
心より隅にあり、前記アレイ状に形成された画素電極の
うち最外周の少なくとも対向する二辺に配置された画素
電極に対応する前記コンタクトホールは、対応する各々
の画素電極の中心より前記アレイ基板の中心側に配置さ
れていることを特徴とする特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to the present invention comprises an array substrate, an opposing substrate arranged opposite to the array substrate, an array substrate and the opposing substrate. A liquid crystal interposed therebetween, wherein the array substrate has a switching element, an insulating layer formed on the switching element, and pixel electrodes formed on the insulating layer in an array. In the insulating layer, a contact hole for electrically connecting the switching element and the pixel electrode is formed, and a position corresponding to the contact hole of the pixel electrode is located at a corner from a center of the pixel electrode. The contact holes corresponding to the pixel electrodes arranged on at least two opposing sides of the outermost periphery of the pixel electrodes formed in the array, the center of each corresponding pixel electrode; Ri and wherein, characterized in that arranged on the center side of the array substrate.

【0015】これにより、少なくともアレイの対向する
二辺において、画素の必要ない非表示領域からコンタク
トホールまでの距離がある程度確保されることになる。
As a result, at least at two opposing sides of the array, a certain distance from the non-display area where no pixel is required to the contact hole is secured.

【0016】したがって、カラーフィルタ膜厚の厚めの
部分を避けてコンタクトホールを形成することが可能に
なり、コンタクトホールの残渣発生が解消される。この
ためスイッチング素子と画素電極との電気的接触が非表
示領域に近い部分でも確実となり表示ムラの発生が低減
される。
Therefore, it is possible to form the contact hole avoiding the thicker portion of the color filter, and the generation of the residue of the contact hole is eliminated. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【0017】また、本発明に係る液晶表示装置は、アレ
イ基板と、前記アレイ基板に対向配置された対向基板
と、前記アレイ基板と前記対向基板との間に挟持された
液晶とを有し、前記アレイ基板は、スイッチング素子
と、前記スイッチング素子上に形成された絶縁層と、前
記絶縁層上に形成された画素電極とをアレイ状に有し、
前記絶縁層には、前記スイッチング素子と前記画素電極
とを電気的に接続するためのコンタクトホールが形成さ
れ、前記画素電極の前記コンタクトホールとの対応位置
が前記画素電極の中心より隅にあり、前記アレイ状に形
成された画素電極のうち最外周に配置された画素電極に
対応する前記コンタクトホールは、対応する各々の画素
電極の中心より前記アレイ基板の中心側に配置されてい
ることを特徴とする。
Further, a liquid crystal display device according to the present invention has an array substrate, a counter substrate disposed to face the array substrate, and a liquid crystal sandwiched between the array substrate and the counter substrate, The array substrate includes a switching element, an insulating layer formed on the switching element, and a pixel electrode formed on the insulating layer in an array.
In the insulating layer, a contact hole for electrically connecting the switching element and the pixel electrode is formed, and a position corresponding to the contact hole of the pixel electrode is at a corner from a center of the pixel electrode, The contact holes corresponding to the pixel electrodes arranged on the outermost periphery among the pixel electrodes formed in the array are arranged closer to the center of the array substrate than the center of each corresponding pixel electrode. And

【0018】これにより、アレイの四辺において、画素
の必要ない非表示領域からコンタクトホールまでの距離
がある程度確保されることになる。
As a result, the distance from the non-display area where no pixel is required to the contact hole is secured to some extent on the four sides of the array.

【0019】したがって、上下のみならず左右について
もカラーフィルタ膜厚の厚めの部分を避けてコンタクト
ホールを形成することが可能になり、コンタクトホール
の残渣発生が解消される。このためスイッチング素子と
画素電極との電気的接触が非表示領域に近い部分でも確
実となり表示ムラの発生が低減される。
Therefore, the contact hole can be formed not only in the upper and lower portions but also in the left and right portions while avoiding the thicker portion of the color filter film, and the generation of the residue in the contact hole can be eliminated. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を、図面
を参照しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0021】図1は、本発明の第1の実施形態に係る液
晶表示装置における画素電極の配置とそのそれぞれのコ
ンタクトホールの位置を示す図である。同図に示すよう
に、各画素に形成されたコンタクトホール2の上には画
素電極1が形成される。なお、画素電極1の配置ピッチ
は例えば、縦100μm、横30μm程度とすることが
できる。
FIG. 1 is a diagram showing the arrangement of pixel electrodes and the positions of their respective contact holes in the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a pixel electrode 1 is formed on a contact hole 2 formed in each pixel. The arrangement pitch of the pixel electrodes 1 can be, for example, about 100 μm in length and about 30 μm in width.

【0022】本実施形態は、コンタクトホール2が同図
において画素電極1の上方に配置される画素がマトリク
ス状(アレイ状)に配置されるものであって、その図に
おける第1行の画素電極1のみ180度回転させた方向
に配置させたものである(図1)。これにより、第1行
の画素および最後の行の画素ともに、画素の必要ない非
表示領域からコンタクトホールまでの距離がある程度確
保されることになる。
In this embodiment, the pixels in which the contact holes 2 are arranged above the pixel electrodes 1 in FIG. 1 are arranged in a matrix (array), and the pixel electrodes in the first row in FIG. Only 1 is arranged in a direction rotated by 180 degrees (FIG. 1). As a result, both the pixels in the first row and the pixels in the last row secure a certain distance from the non-display area where no pixel is required to the contact hole.

【0023】したがって、カラーフィルタ膜厚の厚めの
部分を避けてコンタクトホールを形成することが可能に
なり、コンタクトホールの残渣発生が解消される。この
ためスイッチング素子と画素電極との電気的接触が非表
示領域に近い部分でも確実となり表示ムラの発生が低減
される。
Therefore, it is possible to form the contact hole avoiding the thicker portion of the color filter film, and the residue of the contact hole is eliminated. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【0024】以下に、これを確かめるための製造工程例
を示す。
The following is an example of a manufacturing process for confirming this.

【0025】これには、一般的なアクティブマトリクス
素子を形成するプロセスと同様に、成膜とパターニング
を繰り返して薄膜トランジスタ素子等を形成するプロセ
スを用いることができる。
For this purpose, a process of forming a thin film transistor element or the like by repeating film formation and patterning can be used in the same manner as a general process of forming an active matrix element.

【0026】まず、透明基板上にゲート線をモリブデン
で膜厚約0.3μmのスパッタリングにより成膜し、フ
ォトリソグラフィにより所定の形状にパターン形成す
る。その上に、膜厚0.15μmで二酸化ケイ素あるい
は窒化ケイ素からなるゲート絶縁膜層を形成し、その上
に薄膜トランジスタの半導体層を設ける。さらにその上
に、膜厚0.3μmのITO(indium tin
oxide:インジウムすず酸化物)からなる信号線と
ソース電極とを形成し薄膜トランジスタとする。このと
き、図1に示すようなコンタクトホールの位置に合わせ
てこれらのパターンを形成する。
First, a gate line is formed on a transparent substrate by sputtering with a film thickness of about 0.3 μm using molybdenum, and a pattern is formed in a predetermined shape by photolithography. A gate insulating film layer made of silicon dioxide or silicon nitride having a thickness of 0.15 μm is formed thereon, and a semiconductor layer of a thin film transistor is provided thereon. Further thereon, a 0.3 μm thick ITO (indium tin)
A signal line made of oxide (indium tin oxide) and a source electrode are formed to form a thin film transistor. At this time, these patterns are formed in accordance with the positions of the contact holes as shown in FIG.

【0027】続いて、赤色の顔料を分散させた感光性レ
ジストCR−2000(富士ハントエレクトロニクステ
クノロジー株式会社製)をスピンナーで全面塗布し、9
0℃、10分の乾燥後、赤色の着色層を形成する部分の
みに紫外線を照射し、外周部(幅10μm)およびコン
タクトホール部(20μm×20μm)では紫外線が遮
光されるようなフォトマスクを介し、露光量が200m
J/cm2 となるように露光を行う。そして、水酸化
カリウム1wt%水溶液で20秒間現像を行い、200
℃、60分焼成することにより、赤色の着色層(赤カラ
ーフィルタ)を形成する。フォトマスクのパターンは図
1に示すようなコンタクトホールの配置となるようなも
のとする。
Subsequently, a photosensitive resist CR-2000 (manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.) in which a red pigment was dispersed was applied on the entire surface with a spinner, and
After drying at 0 ° C. for 10 minutes, only the portion where the red colored layer is to be formed is irradiated with ultraviolet rays. 200m exposure
Exposure is performed so as to be J / cm2. Then, development is performed for 20 seconds with a 1 wt% aqueous solution of potassium hydroxide,
By firing at 60 ° C. for 60 minutes, a red colored layer (red color filter) is formed. The pattern of the photomask is such that the contact holes are arranged as shown in FIG.

【0028】同様に、緑、青の着色層(カラーフィル
タ)を繰り返し形成することにより、各着色層の膜厚が
1.5μmであるカラーフィルタ層を得る。ここで、緑
の着色材料にはCG−2000(富士ハントエレクトロ
ニクステクノロジー株式会社製)、青の着色材料にはC
B−2000(同)を用いることができる。
Similarly, by repeatedly forming green and blue colored layers (color filters), a color filter layer in which the thickness of each colored layer is 1.5 μm is obtained. Here, CG-2000 (manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.) is used for the green coloring material, and C is used for the blue coloring material.
B-2000 (same as above) can be used.

【0029】その後、ITOを膜厚約0.1μmでスパ
ッタリングして画素電極を形成し薄膜トランジスタのソ
ース電極端子とコンタクトホール部で接続するようにフ
ォトリソグラフィにより所定の形状にパターン形成す
る。画素電極のパターン形成は図1に示すように第1行
のみ180度反転した形状とする。
Thereafter, ITO is sputtered to a thickness of about 0.1 μm to form a pixel electrode, and a pattern is formed in a predetermined shape by photolithography so as to be connected to a source electrode terminal of the thin film transistor through a contact hole. The pattern formation of the pixel electrode has a shape in which only the first row is inverted by 180 degrees as shown in FIG.

【0030】さらに、感光性の黒色樹脂をスピンナーで
塗布し、90℃、10分の乾燥後、スペーサ部(7μm
×15μm)と表示エリアの外周部(幅3mm)に紫外
線が照射されるようなフォトマスクを介して、露光量3
00mJ/cm2 で露光を行う。その後pH=11.
5のアルカリ性水溶液で現像し、200℃、60分焼成
することにより、スペーサと表示エリア外周部の遮光層
を形成する。
Further, a photosensitive black resin is applied with a spinner, dried at 90 ° C. for 10 minutes, and then a spacer portion (7 μm
.Times.15 .mu.m) and an exposure amount of 3
Exposure is performed at 00 mJ / cm2. Then pH = 11.
By developing with an alkaline aqueous solution of No. 5 and baking at 200 ° C. for 60 minutes, a spacer and a light-shielding layer on the outer peripheral portion of the display area are formed.

【0031】このような工程により得られたアレイ基板
と、共通電極を形成した対向基板とを、それぞれ、配向
膜材料AL−1051(日本合成ゴム株式会社製)を塗
布し配向膜を形成後、ラビング処理を行い、エポキシ系
の熱硬化樹脂からなる接着剤XN−215(三井合成ゴ
ム株式会社製)を用いて貼り合わせ、液晶ZLI−47
92(E.メルク製)を注入し、注入口を紫外線硬化樹
脂で封止して液晶セルを作成する。
An array substrate obtained by such a process and an opposite substrate on which a common electrode is formed are coated with an alignment film material AL-1051 (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) to form an alignment film. A rubbing treatment is performed, and the liquid crystal ZLI-47 is bonded by using an adhesive XN-215 (manufactured by Mitsui Synthetic Rubber Co., Ltd.) made of an epoxy thermosetting resin.
92 (manufactured by E. Merck), and the inlet is sealed with an ultraviolet curable resin to form a liquid crystal cell.

【0032】この液晶セルの両面に偏向板としてLLC
2−9218S(株式会社サンリッツ製)を貼りつけモ
ジュール組立てを行ないこれを液晶表示装置のアセンブ
ルに用いることができる。
On both sides of this liquid crystal cell, LLC is used as a deflecting plate.
2-9218S (manufactured by Sanritz Co., Ltd.) can be attached and assembled into a module, which can be used for assembling a liquid crystal display device.

【0033】このようにして得られたモジュールを画像
表示駆動すれば、コンタクト不良による輝点不良(信号
による輝度制御が不能)や表示ムラがなく品質の高い画
像が得られる。
If the module thus obtained is driven for image display, a high-quality image can be obtained without any bright spot failure due to contact failure (inability to control the brightness by a signal) or display unevenness.

【0034】また、作成したアレイ基板の非表示領域に
隣接するコンタクトホールをAFM(atomic f
orce microscope)およびSEM(sc
anning electron microscop
e)で観察すれば、コンタクトホールに残渣がないこと
も実際に確認し得る。さらに、IR(赤外線)スペクト
ラム、SIMSでもコンタクトホールに残渣がないこと
を確認し得る。
A contact hole adjacent to the non-display area of the array substrate is formed by an AFM (atomic f
orce microscope) and SEM (sc
annealing electron microscoping
By observing in e), it can be actually confirmed that there is no residue in the contact hole. Further, it can be confirmed that there is no residue in the contact hole by IR (infrared) spectrum and SIMS.

【0035】次に、本発明の第2の実施形態について図
2を参照して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0036】同図は、本発明の第2の実施形態に係る液
晶表示装置における画素電極の配置とそのそれぞれのコ
ンタクトホールの位置を示す図である。同図に示すよう
に、各画素に形成されたコンタクトホール2の上には画
素電極1が形成される。
FIG. 9 is a diagram showing the arrangement of pixel electrodes and the positions of their respective contact holes in a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a pixel electrode 1 is formed on a contact hole 2 formed in each pixel.

【0037】本実施形態は、画素の隣り合う各2行が1
80度異なる向きで1組となってマトリクスを構成する
もので、その際に各画素のコンタクトホールが各2行の
内側に並ぶように配置されるものである(図2)。これ
により、第1行の画素および最後の行の画素ともに、表
示画素の必要ない非表示領域からコンタクトホールまで
の距離がある程度確保されることになる。
In this embodiment, each two adjacent rows of pixels are 1
A matrix is formed as a set in directions different from each other by 80 degrees. In this case, the contact holes of each pixel are arranged so as to be arranged inside two rows (FIG. 2). As a result, both the pixels in the first row and the pixels in the last row secure a certain distance from the non-display area where no display pixel is required to the contact hole.

【0038】したがって、カラーフィルタ膜厚の厚めの
部分を避けてコンタクトホールを形成することが可能に
なり、コンタクトホールでの残渣発生が解消される。こ
のためスイッチング素子と画素電極との電気的接触が非
表示領域に近い部分でも確実となり表示ムラの発生が低
減される。
Therefore, it is possible to form the contact hole avoiding the thicker portion of the color filter film, and the generation of the residue in the contact hole is eliminated. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【0039】この実施形態も上記の実施形態と同様な工
程により製造することができる。その際の違いの一つ
は、カラーフィルタ層の形成時のフォトマスクを図2に
示すような配置でコンタクトホール2が形成されるよう
にすることである。
This embodiment can also be manufactured by the same steps as in the above embodiment. One of the differences in that case is that the contact holes 2 are formed in a photomask at the time of forming the color filter layer in an arrangement as shown in FIG.

【0040】このようにして得られたモジュールを実際
に画像表示駆動すれば、コンタクト不良による輝点不良
や表示ムラがなく品質の高い画像が得られる。
If the module thus obtained is actually driven for image display, a high-quality image can be obtained without any bright spot failure or display unevenness due to contact failure.

【0041】また、この実施形態では、第1の実施形態
に比較して、画素の配列パターンが表示全面にわたり均
一であり、配列パターンの不規則性に起因する局部的な
不良の発生をより抑制し得る。
In this embodiment, as compared with the first embodiment, the arrangement pattern of the pixels is uniform over the entire display, and the occurrence of local defects due to irregularities in the arrangement pattern is further suppressed. I can do it.

【0042】すなわち、本実施形態によれば、画素形状
の形成パターンを表示部全体にわたり規則化することが
できるので、局部的なパターンの不規則性に起因する不
良を低減し得る。
That is, according to the present embodiment, since the pixel-shaped formation pattern can be regularized over the entire display section, defects due to local pattern irregularities can be reduced.

【0043】次に、本発明の第3の実施形態について図
3を参照して説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0044】同図は、本発明の第3の実施形態に係る液
晶表示装置における画素電極の配置とそのそれぞれのコ
ンタクトホールの位置を示す図である。同図に示すよう
に、各画素に形成されたコンタクトホール2の上には画
素電極1が形成される。
FIG. 11 is a diagram showing the arrangement of pixel electrodes and the positions of their respective contact holes in a liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a pixel electrode 1 is formed on a contact hole 2 formed in each pixel.

【0045】本実施形態は、コンタクトホールが同図に
おいて画素電極の下方右側に配置される画素がマトリク
ス状に配置されるものであって、その図における最後の
行のみ画素電極形状を行に平行な線についての線対称と
して配置させ、かつ、最後の列のみ画素電極形状を列に
平行な線についての線対称として配置させたものである
(図3)。これにより、第1行の画素および最後の行の
画素ともに表示画素の必要ない非表示領域からコンタク
トホールまでの距離がある程度確保され、かつ、第1列
の画素および最後の列の画素ともに表示画素の必要ない
非表示領域からコンタクトホールまでの距離がある程度
確保されることになる。
In this embodiment, the pixels in which the contact holes are arranged on the lower right side of the pixel electrodes in the same figure are arranged in a matrix, and only the last row in the figure has the pixel electrode shape parallel to the rows. In this case, the pixel electrodes are arranged symmetrically with respect to a line parallel to the column only in the last column (FIG. 3). Thus, the distance from the non-display area, which does not require display pixels, to the contact hole is secured to some extent in both the pixels in the first row and the pixels in the last row. Thus, the distance from the non-display area, which does not need to be, to the contact hole is secured to some extent.

【0046】したがって、上下のみならず左右について
もカラーフィルタ膜厚の厚めの部分を避けてコンタクト
ホールを形成することが可能になり、コンタクトホール
の残渣発生が解消される。このためスイッチング素子と
画素電極との電気的接触が非表示領域に近い部分でも確
実となり表示ムラの発生が低減される。
Therefore, the contact hole can be formed not only in the upper and lower portions but also in the left and right portions so as to avoid the thicker portion of the color filter film, and the generation of the residue in the contact hole can be eliminated. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【0047】この実施形態も上記の第1の実施形態と同
様な工程により製造することができる。その際の違いの
ひとつは、カラーフィルタ層の形成時のフォトマスクを
図3に示すような配置でコンタクトホール2が形成され
るようにすることである。
This embodiment can be manufactured by the same steps as in the first embodiment. One of the differences is that the contact holes 2 are formed in a photomask at the time of forming the color filter layer in the arrangement shown in FIG.

【0048】このようにして得られたモジュールを実際
に画像表示駆動すれば、コンタクト不良による輝点不良
や表示ムラがなく品質の高い画像が得られる。
If the module thus obtained is actually driven for image display, a high-quality image can be obtained without any bright spot failure or display unevenness due to contact failure.

【0049】すなわち、本実施形態によれば、画素電極
は、アレイの四辺において、コンタクトホールとの対応
位置がアレイの中心側を向く方向に配置されるので、画
素の必要ない非表示領域からコンタクトホールまでの距
離がある程度確保され、上下のみならず左右についても
カラーフィルタ膜厚の厚めの部分を避けてコンタクトホ
ールを形成することが可能になり、コンタクトホールの
残渣発生が解消される。このためスイッチング素子と画
素電極との電気的接触が非表示領域に近い部分でも確実
となり表示ムラの発生が低減される。
That is, according to the present embodiment, the pixel electrodes are arranged on the four sides of the array so that the positions corresponding to the contact holes are directed toward the center of the array. A certain distance to the hole is ensured, and it is possible to form the contact hole not only in the upper and lower portions but also in the left and right portions while avoiding the thick portion of the color filter film thickness, thereby eliminating the residue of the contact hole. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【0050】次に、本発明の第4の実施形態について図
4を参照して説明する。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0051】同図は、本発明の第4の実施形態に係る液
晶表示装置における画素電極の配置とそのそれぞれのコ
ンタクトホールの位置を示す図である。同図に示すよう
に、各画素に形成されたコンタクトホール2の上には画
素電極1が形成される。
FIG. 11 is a diagram showing the arrangement of pixel electrodes and the positions of their respective contact holes in a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, a pixel electrode 1 is formed on a contact hole 2 formed in each pixel.

【0052】本実施形態は、コンタクトホールが画素電
極の一つの隅方向部に配置される画素を4つ1組として
これをマトリクス状に配置させるものであって、そのそ
れぞれの組は、コンタクトホールが位置する隅をその4
つの中心に至近となるよう画素電極の形状を対称に形成
し配置させたものである(図4)。これにより、第1行
の画素および最後の行の画素ともに画素の必要ない非表
示領域からコンタクトホールまでの距離がある程度確保
され、かつ、第1列の画素および最後の列の画素ともに
画素の必要ない非表示領域からコンタクトホールまでの
距離がある程度確保されることになる。
In this embodiment, a set of four pixels in which contact holes are arranged in one corner direction of a pixel electrode are arranged in a matrix, and each set is formed of a contact hole. The corner where is located
The pixel electrodes are symmetrically formed and arranged so as to be close to the center of each pixel (FIG. 4). This ensures a certain distance from the non-display area where no pixels are required for the pixels in the first row and the pixels in the last row to the contact hole, and the necessity for both the pixels in the first column and the pixels in the last column. Thus, a certain distance from the non-display area to the contact hole is secured.

【0053】したがって、上下のみならず左右について
もカラーフィルタ膜厚の厚めの部分を避けてコンタクト
ホールを形成することが可能になり、コンタクトホール
の残渣発生が解消される。このためスイッチング素子と
画素電極との電気的接触が非表示領域に近い部分でも確
実となり表示ムラの発生が低減される。
Therefore, it is possible to form the contact hole not only in the upper and lower portions but also in the left and right portions while avoiding the thick portion of the color filter film, thereby eliminating the residue of the contact hole. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【0054】この実施形態も上記の第1の実施形態と同
様な工程により製造することができる。その際の違いの
ひとつは、カラーフィルタ層の形成時のフォトマスクを
図4に示すような配置でコンタクトホール2が形成され
るようにすることである。
This embodiment can be manufactured by the same steps as in the first embodiment. One of the differences in that case is that the contact holes 2 are formed in a photomask at the time of forming the color filter layer in an arrangement as shown in FIG.

【0055】このようにして得られたモジュールを実際
に画像表示駆動すれば、コンタクト不良による輝点不良
や表示ムラがなく品質の高い画像が得られる。
If the module thus obtained is actually driven for image display, a high-quality image can be obtained without any bright spot failure or display unevenness due to contact failure.

【0056】すなわち、本実施形態によれば、画素電極
は、アレイの四辺において、コンタクトホールとの対応
位置がアレイの中心側を向く方向に配置されるので、画
素の必要ない非表示領域からコンタクトホールまでの距
離がある程度確保され、上下のみならず左右についても
カラーフィルタ膜厚の厚めの部分を避けてコンタクトホ
ールを形成することが可能になり、コンタクトホールの
残渣発生が解消される。このためスイッチング素子と画
素電極との電気的接触が非表示領域に近い部分でも確実
となり表示ムラの発生が低減される。
That is, according to the present embodiment, the pixel electrodes are arranged on the four sides of the array so that the positions corresponding to the contact holes are directed toward the center of the array. A certain distance to the hole is ensured, and it is possible to form the contact hole not only in the upper and lower portions but also in the left and right portions while avoiding the thick portion of the color filter film thickness, thereby eliminating the residue of the contact hole. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【0057】また、この実施形態では、第1、第3の実
施形態に比較して、画素の配列パターンが表示全面にわ
たり均一であり、配列パターンの不規則性に起因する局
部的な不良の発生をより抑制し得る。
Further, in this embodiment, as compared with the first and third embodiments, the arrangement pattern of pixels is uniform over the entire display, and the occurrence of local defects due to irregularities in the arrangement pattern. Can be further suppressed.

【0058】すなわち、本実施形態によれば、画素形状
の形成パターンを表示部全体にわたり規則化することが
できるので、局部的なパターンの不規則性に起因する不
良を低減し得る。
That is, according to the present embodiment, the formation pattern of the pixel shape can be regularized over the entire display section, so that defects due to local irregularity of the pattern can be reduced.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
画素電極は、少なくともアレイの対向する二辺におい
て、コンタクトホールとの対応位置がアレイの中心側を
向く方向に配置されるので、画素の必要ない非表示領域
からコンタクトホールまでの距離がある程度確保され、
カラーフィルタ膜厚の厚めの部分を避けてコンタクトホ
ールを形成することが可能になり、コンタクトホールの
残渣発生が解消される。このためスイッチング素子と画
素電極との電気的接触が非表示領域に近い部分でも確実
となり表示ムラの発生が低減される。
As described in detail above, according to the present invention,
Since the pixel electrodes are arranged at least on two opposing sides of the array so that the positions corresponding to the contact holes face the center of the array, a certain distance from the non-display area where no pixels are required to the contact holes is secured. ,
The contact hole can be formed avoiding the thicker portion of the color filter film, and the generation of the contact hole residue can be eliminated. Therefore, the electrical contact between the switching element and the pixel electrode is ensured even in a portion near the non-display region, and the occurrence of display unevenness is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置ま
たはアレイ基板における画素電極の配置とそのそれぞれ
のコンタクトホールの位置を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing an arrangement of pixel electrodes and a position of each contact hole in a liquid crystal display device or an array substrate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置ま
たはアレイ基板における画素電極の配置とそのそれぞれ
のコンタクトホールの位置を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing an arrangement of pixel electrodes on a liquid crystal display device or an array substrate according to a second embodiment of the present invention and positions of respective contact holes thereof.

【図3】本発明の第3の実施形態に係る液晶表示装置ま
たはアレイ基板における画素電極の配置とそのそれぞれ
のコンタクトホールの位置を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing an arrangement of pixel electrodes on a liquid crystal display device or an array substrate according to a third embodiment of the present invention and positions of respective contact holes thereof.

【図4】本発明の第4の実施形態に係る液晶表示装置ま
たはアレイ基板における画素電極の配置とそのそれぞれ
のコンタクトホールの位置を示す図。
FIG. 4 is a view showing an arrangement of pixel electrodes on a liquid crystal display device or an array substrate according to a fourth embodiment of the present invention and positions of respective contact holes thereof.

【図5】コンタクトホールに発生する残渣を説明する
図。
FIG. 5 is a diagram illustrating residues generated in a contact hole.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 画素電極 2 コンタクトホール 1 pixel electrode 2 contact hole

フロントページの続き Fターム(参考) 2H092 JA26 JA28 JA35 JA38 JA39 JA42 JA43 JA44 JA46 JB13 JB23 JB32 JB33 JB38 JB52 KA12 KA16 KA18 KB14 KB23 MA05 MA08 MA14 MA15 MA16 MA18 MA19 MA20 MA35 MA37 MA41 NA01 NA25 NA27 NA29 PA08 PA09 5C094 AA03 AA08 AA42 AA43 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 CA20 CA24 DA13 DB04 EA04 EA05 EB02 ED03 FA01 FB01 FB02 FB12 FB15 GB10 5G435 AA04 AA17 BB12 CC09 GG12 KK05 Continued on front page F-term (reference) 2H092 JA26 JA28 JA35 JA38 JA39 JA42 JA43 JA44 JA46 JB13 JB23 JB32 JB33 JB38 JB52 KA12 KA16 KA18 KB14 KB23 MA05 MA08 MA14 MA15 MA16 MA18 MA19 MA20 MA35 MA37 MA41 NA01 NA09 NA09 A09 PA08 PA09 AA42 AA43 AA48 AA55 BA03 BA43 CA19 CA20 CA24 DA13 DB04 EA04 EA05 EB02 ED03 FA01 FB01 FB02 FB12 FB15 GB10 5G435 AA04 AA17 BB12 CC09 GG12 KK05

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アレイ基板と、前記アレイ基板に対向配
置された対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板と
の間に挟持された液晶とを有し、 前記アレイ基板は、スイッチング素子と、前記スイッチ
ング素子上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成
された画素電極とをアレイ状に有し、 前記絶縁層には、前記スイッチング素子と前記画素電極
とを電気的に接続するためのコンタクトホールが形成さ
れ、 前記画素電極の前記コンタクトホールとの対応位置が前
記画素電極の中心より隅にあり、 前記アレイ状に形成された画素電極のうち最外周の少な
くとも対向する二辺に配置された画素電極に対応する前
記コンタクトホールは、対応する各々の画素電極の中心
より前記アレイ基板の中心側に配置されていることを特
徴とする液晶表示装置。
1. An array substrate, comprising: a counter substrate disposed to face the array substrate; and a liquid crystal sandwiched between the array substrate and the counter substrate. An insulating layer formed on the switching element and pixel electrodes formed on the insulating layer are arranged in an array, and the insulating layer electrically connects the switching element and the pixel electrode. And a corresponding position of the pixel electrode with the contact hole is located at a corner from the center of the pixel electrode, and at least two opposing sides of the outermost periphery of the arrayed pixel electrodes. The liquid crystal display, wherein the contact holes corresponding to the arranged pixel electrodes are arranged closer to the center of the array substrate than the center of each corresponding pixel electrode. Location.
【請求項2】 アレイ基板と、前記アレイ基板に対向配
置された対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板と
の間に挟持された液晶とを有し、 前記アレイ基板は、スイッチング素子と、前記スイッチ
ング素子上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成
された画素電極とをアレイ状に有し、 前記絶縁層には、前記スイッチング素子と前記画素電極
とを電気的に接続するためのコンタクトホールが形成さ
れ、 前記画素電極の前記コンタクトホールとの対応位置が前
記画素電極の中心より隅にあり、 前記アレイ状に形成された画素電極のうち最外周に配置
された画素電極に対応する前記コンタクトホールは、対
応する各々の画素電極の中心より前記アレイ基板の中心
側に配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
2. An array substrate, comprising: a counter substrate disposed to face the array substrate; and a liquid crystal sandwiched between the array substrate and the counter substrate; wherein the array substrate includes a switching element; An insulating layer formed on the switching element and pixel electrodes formed on the insulating layer are arranged in an array, and the insulating layer electrically connects the switching element and the pixel electrode. A position corresponding to the contact hole of the pixel electrode is located at a corner from the center of the pixel electrode, and a pixel electrode arranged at the outermost periphery among the pixel electrodes formed in an array is formed. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the corresponding contact holes are arranged closer to the center of the array substrate than the center of each corresponding pixel electrode.
【請求項3】 請求項1記載の液晶表示装置において、 前記画素電極は、前記アレイの隣り合う列または行ごと
に180度向きが反転されて配置されることを特徴とす
る請求項1記載の液晶表示装置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pixel electrodes are arranged so that the directions thereof are inverted by 180 degrees for each adjacent column or row of the array. Liquid crystal display.
【請求項4】 請求項2記載の液晶表示装置において、 最外周の一辺に配置された画素電極は、最外周の前記一
辺に隣り合う辺に形成された画素電極形状に対してアレ
イの列または行に関する線対称の形状であることを特徴
とする請求項2記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the pixel electrodes arranged on one side of the outermost periphery are arranged in columns or rows of the array with respect to the shape of the pixel electrode formed on the side adjacent to the one side of the outermost periphery. 3. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the liquid crystal display device has a line-symmetric shape with respect to the rows.
【請求項5】 請求項2記載の液晶表示装置において、 前記画素電極は、各列、各行ともに1画素ごとに前記
列、前記行に関する線対称の形状を有して配置されるこ
とを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the pixel electrodes are arranged so as to have a line-symmetric shape with respect to the column and the row for each pixel in each column and each row. The liquid crystal display device according to claim 2.
【請求項6】 スイッチング素子と、前記スイッチング
素子上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成され
た画素電極とをアレイ状に有し、 前記絶縁層には、前記スイッチング素子と前記画素電極
とを電気的に接続するためのコンタクトホールが形成さ
れ、 前記画素電極の前記コンタクトホールとの対応位置が前
記画素電極の中心より隅にあり、 前記アレイ状に形成された画素電極のうち最外周の少な
くとも対向する二辺に配置された画素電極に対応する前
記コンタクトホールは、対応する各々の画素電極の中心
より前記アレイ基板の中心側に配置されていることを特
徴とするアレイ基板。
6. An array comprising a switching element, an insulating layer formed on the switching element, and a pixel electrode formed on the insulating layer, wherein the insulating layer includes the switching element and the A contact hole for electrically connecting the pixel electrode to the pixel electrode; a position corresponding to the contact hole of the pixel electrode is located at a corner from a center of the pixel electrode; and among the pixel electrodes formed in the array, The array substrate, wherein the contact holes corresponding to the pixel electrodes arranged on at least two opposing sides of the outermost periphery are arranged closer to the center of the array substrate than the center of each corresponding pixel electrode.
【請求項7】 スイッチング素子と、前記スイッチング
素子上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成され
た画素電極とをアレイ状に有し、 前記絶縁層には、前記スイッチング素子と前記画素電極
とを電気的に接続するためのコンタクトホールが形成さ
れ、 前記画素電極の前記コンタクトホールとの対応位置が前
記画素電極の中心より隅にあり、 前記アレイ状に形成された画素電極のうち最外周に配置
された画素電極に対応する前記コンタクトホールは、対
応する各々の画素電極の中心より前記アレイ基板の中心
側に配置されていることを特徴とするアレイ基板。
7. An array comprising a switching element, an insulating layer formed on the switching element, and a pixel electrode formed on the insulating layer, wherein the insulating layer includes the switching element and the A contact hole for electrically connecting the pixel electrode to the pixel electrode; a position corresponding to the contact hole of the pixel electrode is located at a corner from a center of the pixel electrode; and among the pixel electrodes formed in the array, The array substrate, wherein the contact holes corresponding to the pixel electrodes arranged at the outermost periphery are arranged closer to the center of the array substrate than the center of each corresponding pixel electrode.
【請求項8】 請求項6記載の液晶表示装置において、 前記画素電極は、前記アレイの隣り合う列または行ごと
に180度向きが反転されて配置されることを特徴とす
る請求項6記載のアレイ基板。
8. The liquid crystal display device according to claim 6, wherein the pixel electrodes are arranged so that the directions thereof are inverted by 180 degrees for each adjacent column or row of the array. Array substrate.
【請求項9】 請求項7記載の液晶表示装置において、 最外周の一辺に配置された画素電極は、最外周の前記一
辺に隣り合う辺に形成された画素電極形状に対してアレ
イの列または行に関する線対称の形状であることを特徴
とする請求項7記載のアレイ基板。
9. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the pixel electrodes arranged on one side of the outermost periphery are arranged in columns or rows of the array with respect to the shape of the pixel electrode formed on the side adjacent to the one side of the outermost periphery. The array substrate according to claim 7, wherein the array substrate has a line-symmetrical shape with respect to a row.
【請求項10】 請求項7記載の液晶表示装置におい
て、 前記画素電極は、各列、各行ともに画素ごとに前記列、
前記行に関する線対称の形状を有して配置されることを
特徴とする請求項7記載のアレイ基板。
10. The liquid crystal display device according to claim 7, wherein the pixel electrode is arranged in each column and each row in each column.
The array substrate according to claim 7, wherein the array substrate is arranged so as to have a line-symmetric shape with respect to the row.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009109520A (en) * 2007-10-26 2009-05-21 Sony Corp Display device and electronic apparatus
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