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JP2001168402A - 熱電半導体チップと電極との半田付け方法及び熱電半導体モジュール - Google Patents

熱電半導体チップと電極との半田付け方法及び熱電半導体モジュール

Info

Publication number
JP2001168402A
JP2001168402A JP34494199A JP34494199A JP2001168402A JP 2001168402 A JP2001168402 A JP 2001168402A JP 34494199 A JP34494199 A JP 34494199A JP 34494199 A JP34494199 A JP 34494199A JP 2001168402 A JP2001168402 A JP 2001168402A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solder
thermoelectric semiconductor
semiconductor chip
electrode
cream solder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP34494199A
Other languages
English (en)
Inventor
Seishi Moriyama
誠士 森山
Akihiro Morimoto
晃弘 森本
Takahiro Kimura
高廣 木村
Masakazu Ishiguro
正和 石黒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aisin Corp
Original Assignee
Aisin Seiki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aisin Seiki Co Ltd filed Critical Aisin Seiki Co Ltd
Priority to JP34494199A priority Critical patent/JP2001168402A/ja
Publication of JP2001168402A publication Critical patent/JP2001168402A/ja
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 熱電半導体チップと電極との半田付けにおい
て、半田の塗布膜厚を均一化して熱電半導体チップを電
極に取り付けた場合の高さばらつきを極小とし、熱電モ
ジュールの組付け性を向上させること。 【解決手段】 メッシュスクリーン20を用いたスクリ
ーン印刷で基板の電極面にクリーム半田を塗布する。メ
ッシュスクリーンを用いるので、スキージの撓み等の影
響を受けるはなく、この結果、電極14の所定面に塗布
されるクリーム半田41の厚みが均一となる。また、塗
布膜厚を薄膜化するために、クリーム半田41の半田粒
子の粒径を15〜50μmとし、かつ、メッシュスクリ
ーン20のメッシュ面21のメッシュサイズを100〜
200メッシュとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この出願の発明は、熱電半導
体チップと電極との半田付け方法、熱電半導体モジュー
ル及び、熱電半導体モジュール作製用治具に関するもの
であり、より詳しくは、熱電半導体チップと電極とを半
田付けする際の半田塗布膜圧の薄膜化及び均一化、それ
により作製される熱電モジュールの構成、及び、その際
に使用する治具に係るものである。
【0002】
【従来の技術】現在一般的に用いられている熱電モジュ
ールの構成は、図8に示すように、対向する2枚の絶縁
基板(放熱側基板101及び吸熱側基板102)と、2
枚の絶縁基板101、102のそれぞれの対向面にパタ
ーニングされた複数の電極(放熱側基板101にパター
ニングされた複数の放熱側電極103及び吸熱側基板1
02にパターニングされた複数の吸熱側電極104)
と、放熱側基板101と吸熱側基板102との間に配設
されるとともに半田105によって複数の各電極と接合
された複数のP型熱電半導体チップ106及びN型熱電
半導体チップ107とを備える。そして、放熱側電極1
03、吸熱側電極104を介してP型熱電半導体チップ
106とN型熱電半導体チップ107とが交互に電気的
に直列に接続されている。尚、図中、符号108はリー
ド線である。このように構成し、リード線108から通
電することにより、放熱側基板101側で放熱し、吸熱
側基板102側で吸熱する。そして、吸熱側基板102
を被冷却体に当接させることによって電子冷却が行われ
る。
【0003】上記のような熱電モジュールを作製する際
の、熱電半導体チップと電極との半田付け方法として
は、基板にパターニングされた電極の所定面にスクリー
ン印刷によってクリーム半田を塗布し、この所定面に熱
電半導体チップを載せた状態でクリーム半田を加熱して
クリーム半田中の半田粒子を溶融させて溶融半田とする
とともにフラックスを揮発させ、その後溶融半田を冷却
固化して熱電半導体チップと電極とを接合する方法が採
用され得る。クリーム半田を電極所定面に塗布する際の
スクリーン印刷では、従来は、図8に示すように、半田
塗布部が開口したメタルスクリーン108を用い、この
メタルスクリーン108を吸熱側基板102(放熱側基
板101)の吸熱側電極104(放熱側電極103)が
パターニングされた側に被せ、メタルスクリーン108
上に塗布されたクリーム半田をスキージ(図示略)で均
してメタルスクリーン108の開口部にクリーム半田1
09を送り込むことにより、吸熱側基板102(放熱側
基板101)にパターニングされた吸熱側電極104
(放熱側電極103)の所定面にクリーム半田を塗布し
ていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の半田付け方法は、電極の所定箇所にクリーム半田を
塗布するスクリーン印刷において、半田塗布部が開口し
たメタルスクリーンを用いてクリーム半田を塗布してお
り、このメタルスクリーンは開口部がスキージの均し表
面に対して開口していることから、開口部に導入される
クリーム半田の量がスキージの撓みの影響を受け、図9
に示すように開口部全域にわたって均一の厚みでクリー
ム半田を塗布することが難しいといった問題がある。均
一の厚みでクリーム半田を塗布することができなかった
場合には、半田塗布膜厚がばらつき、その後に熱電半導
体チップを電極に取り付けた場合の高さのばらつきを生
じ、熱電モジュールをうまく組付けることができないお
それがある。また、半田塗布厚が最も薄い部分を必要と
すべきクリーム半田の塗布厚みとして設定しなければな
らず、塗布膜厚が均一な場合と比べて相対的にクリーム
半田の塗布量が多くなる。クリーム半田の塗布量が多い
場合、その後の工程で電極に熱電半導体チップを押し付
けるときに余剰の半田が押圧力により流動し、このよう
にして流動した半田は、電極におけるP型及びN型熱電
半導体チップ間の部分に溜り、このまま加熱・冷却され
て半田付けが完了する。すると、図8に示すように、各
電極におけるP型及びN型熱電半導体間で大きな半田の
盛り上がり部分(図示A)が形成される。この盛り上が
り部分の厚みは、従来のものでは約300〜400μm
程度である。この盛り上がり部分が大きい程、熱電半導
体チップ側面と半田の盛り上がり部分が接触する危険性
が大きくなる。通常熱電半導体チップは電極との接合面
にニッケルメッキ等を施して熱電半導体チップ内への半
田成分の拡散を防止しているが、その側面部分にはニッ
ケルメッキ等の拡散防止処理はなされていないので、チ
ップ側面が半田の盛り上がり部分に接触した場合、半田
成分が熱電半導体チップ内部に拡散してしまう。このた
め熱電半導体チップの材料特性変化が起き、信頼性、性
能低下の要因となっていた。
【0005】また、上述の半田の盛り上がり部分の高さ
が高いと、さらに以下のような弊害を起こす。すなわ
ち、例えば吸熱側電極に半田の盛り上がり部分が形成さ
れたとすると、吸熱側基板での冷熱はこの盛り上がり部
分にも伝達される。ここで、盛り上がり部分の高さが高
い程、放熱側基板との距離が短くなり、対流や輻射等で
冷熱が放熱側基板に熱移動してしまう量が多くなる。こ
のため冷却効率の悪化を招く要因ともなっていた。
【0006】故に、本発明は、上記実情に鑑みてなされ
たものであり、熱電半導体チップと電極との半田付けに
おいて、半田の塗布膜厚を均一化して熱電半導体チップ
を電極に取り付けた場合の高さばらつきを極小とし、熱
電モジュールの組付け性を向上させることを第1の技術
的課題とする。また、塗布膜厚をできるだけ薄くし、半
田の塗布量の増加に起因した熱電半導体チップの信頼性
や性能低下を防止することを第2の技術的課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記技術的課題を解決す
るためになされた請求項1に記載の発明は、基板にパタ
ーニングされた電極の所定面にスクリーン印刷によって
クリーム半田を塗布する塗布工程と、前記クリーム半田
が塗布された前記所定面に熱電半導体チップを押し付け
つつ前記クリーム半田を加熱して前記クリーム半田中の
半田粒子を溶融させて溶融半田とするとともにフラック
スを揮発させる加熱工程と、該加熱工程後に前記溶融半
田を冷却固化することにより前記熱電半導体チップと前
記電極とを接合する冷却固化工程とを含む熱電半導体チ
ップと電極との半田付け方法において、前記スクリーン
印刷は、メッシュスクリーンを用いて行われることを特
徴とする熱電半導体チップと電極との半田付け方法とし
たことである。
【0008】上記請求項1の発明によれば、熱電半導体
チップと電極との半田付け方法において、基板にパター
ニングされた電極の所定面にスクリーン印刷によってク
リーム半田を塗布する際、従来のようなメタルスクリー
ンではなく、メッシュスクリーンを用いてスクリーン印
刷を行う。
【0009】請求項1の発明では上記構成のように、メ
ッシュスクリーンを用いてスクリーン印刷を行うため、
スキージによってメッシュスクリーン上のクリーム半田
を均す際、スキージと開口部との間にメッシュが介在す
る。このため開口部とスキージとは直接接触せず、スキ
ージで均されたクリーム半田はメッシュを経て開口部に
導入されるため、開口部に導入されるクリーム半田の量
がスキージの撓み等の影響を受けることはない。このた
め、開口部に導入されるクリーム半田の厚みのばらつき
を抑えられ、電極の所定面に塗布されるクリーム半田の
厚みが均一となる。
【0010】請求項1の発明は、上記作用により電極の
所定面に塗布されるクリーム半田の厚みが均一となるの
で、その後に熱電半導体チップを電極に取り付けた場合
の高さのばらつきを抑えることができ、熱電モジュール
の組付け性を向上させることができる。
【0011】また、請求項2の発明は、請求項1におい
て、前記クリーム半田は粒径が15〜50μmの半田粒
子を含み、かつ、前記メッシュスクリーンはメッシュサ
イズが100〜200メッシュであることを特徴とする
熱電半導体チップと電極との半田付け方法とすることで
ある。
【0012】通常クリーム半田中に含まれる半田粒子の
粒径は約60μm程度である。このような大きな半田粒
子が主として含まれている通常のクリーム半田を用いて
メッシュスクリーンによりスクリーン印刷を行なった場
合、塗布膜厚の均一化は実現できるものの、その膜厚は
実質的に100μm以上となり、塗布膜厚の薄膜化は実
現できない。そこで、請求項2の発明では、クリーム半
田として粒径が15〜50μmの半田粒子を含んだもの
を用いてメッシュスクリーンによりスクリーン印刷を行
う。このため半田塗布膜厚を約70μmもしくはそれ以
下とすることができ、クリーム半田の塗布膜厚の均一化
のみならず、塗布膜厚の薄膜化を共に実現することがで
きる。尚、半田粒子の粒径が15μm以下であると、半
田塗布量が安定せず、かすれが発生するため、半田付け
不良になるという不具合がある。また、50μm以下の
半田粒子をメッシュに通す必要上、スクリーンメッシュ
のメッシュサイズは100〜200メッシュのサイズと
する。
【0013】上記請求項2の発明によれば、上記構成及
び作用により、クリーム半田の塗布膜厚の薄膜化が図れ
る。このため、その後の工程で電極に熱電半導体チップ
を押し付けるときの押圧力により流動するクリーム半田
の流動量が減少し、半田付け完了後の半田の盛り上がり
部分を小さくすることができる。したがって、この盛り
上がり部分が熱電半導体チップの側面部分に接触する危
険性が小さくなり、半田と熱電半導体チップとの接触に
よるチップ内への半田成分の拡散が防止でき、ひいては
熱電半導体チップの材料特性の変化に伴う信頼性、性能
低下を防止することができる。また、半田の盛り上がり
部分を小さくできるので、この盛り上がり部分と対向す
る側の基板との距離も長く取れ、この距離が短いことに
起因する冷却効率の悪化を防止することもできる。
【0014】また、上記技術的課題を解決するためにな
された請求項3の発明は、対向する2枚の絶縁基板と、
前記2枚の絶縁基板のそれぞれの対向面にパターニング
された複数の電極と、前記2枚の絶縁基板間に配設され
るとともに前記複数の各電極と半田接合された複数のP
型熱電半導体チップ及びN型熱電半導体チップとを備
え、前記電極を介してP型熱電半導体チップとN型熱電
半導体チップとが交互に電気的に直列に接続されてなる
熱電モジュールにおいて、前記P型及びN型熱電半導体
チップと電極との間に介在する半田の厚みは10μm〜
30μmであり、前記複数の各電極における前記P型熱
電半導体チップと前記N型熱電半導体チップとの間の部
分に塗布された半田の厚みは150μm以下で有ること
を特徴とする熱電モジュールとすることである。
【0015】上記請求項3の発明によれば、対向する2
枚の絶縁基板と、2枚の絶縁基板のそれぞれの対向面に
パターニングされた複数の電極と、2枚の絶縁基板間に
配設されるとともに複数の各電極と半田接合された複数
のP型熱電半導体チップ及びN型熱電半導体チップとを
備え、電極を介してP型熱電半導体チップとN型熱電半
導体チップとが交互に電気的に直列に接続されてなる熱
電モジュールにおいて、P型及びN型熱電半導体チップ
と電極との間に介在する半田の厚みが10μm〜30μ
mであり、複数の各電極におけるP型熱電半導体チップ
とN型熱電半導体チップとの間の部分に塗布された半田
の厚みは150μm以下である。上記P型及びN型熱半
導体チップと電極との間に介在する半田の厚みが10μ
m〜30μmと、非常に薄い半田膜であるので、半田の
使用量を節約することができる。また、上記複数の各電
極におけるP型熱電半導体チップとN型熱電半導体チッ
プ間の部分に塗布された半田の厚み(半田の盛り上がり
部分の厚み)が150μm以下と、従来のもの(約30
0〜400μm)と比べて小さいため、熱電半導体チッ
プの側面と接触する危険性が小さくなり、この接触によ
り半田成分が熱電半導体チップ内部に拡散することを防
止し、熱電半導体チップの材料特性変化の防止、ひいて
は信頼性、性能低下を防止することができるとともに、
相手側基板との距離が長く取れ、対流や輻射等による熱
移動を少なくして冷却効率の悪化を防止することができ
る。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。
【0017】まず、本例において作製する熱電モジュー
ルの構成について図1に基づいて説明する。図1におい
て、熱電モジュール10は、対向する2枚の絶縁基板
(放熱側基板11及び吸熱側基板12)を備える。放熱
側基板11の一表面には複数の放熱側電極13がパター
ニングされ、吸熱側基板12の一表面には複数の吸熱側
電極14がパターニングされている。そして、放熱側基
板11の放熱側電極13がパターニングされた面と吸熱
側基板12の吸熱側電極14がパターニングされた面と
は対面している。
【0018】各電極13、14の表面には、半田層15
が形成されている。そして、半田層15の表面にはP型
熱電半導体チップ16及びN型熱電半導体チップ17が
接合されている。このような接合によって、各電極1
3、14にP型及びN型熱電半導体チップ16及び17
が接合されている。尚、図に示すように、両端の電極
(本例の場合は両端の吸熱側電極14)には熱電半導体
チップが1つのみ(本例の場合、図示右端の吸熱側電極
にはP型熱電半導体チップ16が1つのみ、図示左端の
吸熱側電極にはN型熱電半導体チップ17が1つのみ)
接合され、その他の電極にはP型熱電半導体チップ16
及びN型熱電半導体チップ17が共に、所定の間隔をお
いて接合されており、放熱側電極13、吸熱側電極14
を介してP型熱電半導体チップ16とN型熱電半導体チ
ップ17とが交互に電気的に直列に接続されている。
尚、図中、符号18はリード線である。
【0019】熱電モジュール10はこのように構成さ
れ、リード線18から通電することにより、放熱側基板
11側で放熱し、吸熱側基板12側で吸熱する。そし
て、吸熱側基板12を被冷却体に当接させることによっ
て被冷却体から熱を奪い、電子冷却が行われる。
【0020】図2は、図1における部分拡大断面図であ
る。図2に示すように、半田層15は、P型熱電半導体
チップ16及びN型熱電半導体チップ17と電極13、
14との接合面の半田厚みである接合面厚みt1と、P
型熱電半導体チップ16とN型熱電半導体チップ17と
の間の部分の半田厚みである中間部厚みt2とで異なっ
た厚みとなっており、中間部厚みt2の方が接合面厚み
t1よりも厚く、半田層15の中央部が若干盛り上がっ
た状態となっている。本例の熱電モジュール10では、
この半田層15の厚みとして、接合面厚みt1が10μ
m〜30μm、中間部厚みt2が10μm〜150μm
の範囲である。
【0021】上記構成に示すように、本例における熱電
モジュールの構成は、対向する放熱側基板11及び吸熱
側基板12と、これらの絶縁基板のそれぞれの対向面に
パターニングされた複数の電極(放熱側基板11にパタ
ーニングされた放熱側電極13及び吸熱側基板12にパ
ターニングされた吸熱側電極14)と、2枚の絶縁基板
11、12間に配設されるとともに複数の各電極13、
14と半田接合された複数のP型熱電半導体チップ16
及びN型熱電半導体チップ17とを備え、電極13、1
4を介してP型熱電半導体チップ16とN型熱電半導体
チップ17とが交互に電気的に直列に接続されてなる熱
電モジュール10において、P型及びN型熱電半導体チ
ップ16、17と電極13、14との間に介在する半田
の厚み(接合面厚み)t1は10μm〜30μmであ
り、複数の各電極13、14におけるP型熱電半導体チ
ップ16とN型熱電半導体チップ17との間の部分に塗
布された半田の盛り上がり部分の厚み(中間部厚み)t
2は150μm以下である。上記厚みt1が10μm〜
30μmと、非常に薄い半田膜であるので、半田の使用
量を節約することができる。また、上記厚みt2が15
0μm以下と、従来のもの(300〜400μm)と比
べて小さいため、熱電半導体チップ16、17と半田の
盛り上がり部分が接触する危険性が小さくなり、この接
触により半田成分が熱電半導体チップ内部に拡散するこ
とを防止し、熱電半導体チップの材料特性変化の防止、
ひいては信頼性、性能低下を防止することができるとと
もに、相手側基板との距離(図示距離L1)が長く取
れ、対流や輻射等による熱移動を少なくして冷却効率の
悪化を防止することができる。
【0022】次に、上記のような構成の熱電モジュール
10の作製手順のうち、熱電半導体チップ16、17と
電極13、14との半田付け方法について説明する。
【0023】熱電モジュール10の半田付け方法は、本
例では、以下に示す5つの工程を主な工程とする。
【0024】(1)クリーム半田塗布工程 (2)中間組立体加熱工程 (3)中間組立体冷却固化工程 (4)最終組立体加熱工程 (5)最終組立体冷却固化工程 上記5つの工程において、(1)のクリーム半田塗布工
程が本発明における塗布工程に、(2)の中間組立体加
熱工程及び(4)の最終組立体加熱工程が本発明におけ
る加熱工程に、(3)の中間組立体冷却固化工程及び
(5)の最終組立体冷却固化工程が本発明における冷却
固化工程に、それぞれ該当する。
【0025】以下、順に、工程毎に説明する。
【0026】(1)塗布工程 まず、基板にパターニングされた電極の所定面に、図3
に示すようなスクリーン印刷機50でスクリーン印刷に
よりクリーム半田を塗布する。スクリーン印刷で使用す
るスクリーンは、図4に示すようなメッシュスクリーン
20である。このメッシュスクリーン20は、ステンレ
ス、テトロン等の細線で網目状に形成されたメッシュ面
21と樹脂プレート22とを重ね合わせて構成されてい
る。メッシュ面21と樹脂プレート22は、その厚みが
それぞれ70μm、30μmであり、樹脂プレート22
の所定箇所には表裏貫通した開口部22aが複数個形成
されている。メッシュ面21のメッシュサイズは150
メッシュとされている。このようなメッシュスクリーン
20を使用し、図5(a)〜(d)に示すようにしてク
リーム半田を電極の所定面に塗布する。具体的には、ま
ず図5(a)に示すように、基板(例えば吸熱側基板1
2)の電極(例えば吸熱側電極14)がパターニングさ
れた面にメッシュスクリーン20を被せる。このとき、
メッシュスクリーン20の樹脂プレート22が電極14
と対面するような向きで、かつ、樹脂プレート22の開
口部22aが電極14の所定面(半田を塗布したい面)
に対面するように位置を調整して被せる。次に、図5
(b)に示すように、メッシュスクリーン20のメッシ
ュ面21にクリーム半田41を垂らし、スキージ51
(図3参照)でクリーム半田41をメッシュ面21上に
均す。本例で使用するクリーム半田41は半田粒子及び
フラックスを含んでなり、このうちの半田粒子は、その
粒径が15〜50μmとなるように形成されている。従
って、クリーム半田41は、メッシュ面21の網目(メ
ッシュサイズ150メッシュ、即ちメッシュの開口幅が
100μm)を侵入し、図5(c)に示すように樹脂プ
レート22の開口部22a内にクリーム半田41が導か
れる。その後、図5(d)に示すようにメッシュスクリ
ーン20を基板12から取り外すと、電極14の所定面
にクリーム半田41が塗布される。
【0027】上記のような塗布工程を、吸熱側基板12
と放熱側基板11において施す。この工程により、吸熱
側基板12にパターニングされた吸熱側電極14の所定
面及び、放熱側基板11にパターニングされた放熱側電
極13の所定面に、クリーム半田が塗布される。
【0028】上記塗布方法の説明でわかるように、基板
12にパターニングされた電極14の所定面にスクリー
ン印刷によってクリーム半田41を塗布する場合、スク
リーン印刷に使用するスクリーンとしてメッシュスクリ
ーン20を使用している。従って、メッシュスクリーン
20のメッシュ面21に垂らされたクリーム半田41を
スキージ51で均して樹脂プレート22の開口部22a
に導入する場合、開口部22aとスキージ51の均し表
面との間にメッシュ面21が介在するので、開口部22
aとスキージ51とは直接接触せず、スキージで均され
たクリーム半田41はメッシュ面21のメッシュを経て
開口部22aに導入される。このため開口部22aに導
入されるクリーム半田41の量はスキージの撓みの影響
を受けず、クリーム半田41を電極14の所定面に塗布
した際の厚みはほぼ均一となる。従って、その後に熱電
半導体チップを電極14に取り付けた場合の高さのばら
つきを抑えることができ、熱電モジュールの組付け性を
向上させることができる。
【0029】また、本例におけるスクリーン印刷で使用
するクリーム半田41の半田粒子は、粒径が15〜50
μmとなるように構成されている。さらに、メッシュス
クリーン20のメッシュ面21の厚さは70μm、樹脂
プレート22の厚さは30μmであり、かつメッシュ面
21のメッシュサイズは150メッシュ(開口幅100
μm)である。従って、スキージで均されたクリーム半
田中の半田粒子はメッシュの網目をかいくぐることがで
き、半田粒子を含んだクリーム半田が樹脂プレート22
の開口部22aに導入される。ここで、開口部22aの
厚さは樹脂プレート22の厚さと同じ30μmであるの
で、この厚さ30μmの開口部22a内にクリーム半田
が充填された状態となる。その後、メッシュスクリーン
20を取り外すが、このときメッシュ面21内に溜まっ
ていたクリーム半田が開口部22a内に充填されたクリ
ーム半田に吸収されてその厚みを増し、この結果、電極
14の所定面には、厚さ約70μmの薄いクリーム半田
の膜が、均一に塗布される。このように、クリーム半田
41に含まれる半田粒子の粒径を従来のものよりも小さ
くし(本例では15〜50μm)、かつメッシュスクリ
ーン20のメッシュ面21のメッシュサイズを半田粒子
が通過できる範囲で設定(本例では150メッシュ)
し、かつメッシュスクリーン20の樹脂プレート22の
厚さを所定の薄さ(本例では30μm)で形成すること
により、均一でかつ薄いクリーム半田膜を電極14上に
塗布することが可能となる。このように薄い塗布膜が形
成された場合、その後の工程で電極に熱電半導体チップ
を押し付けるときの押圧力により流動するクリーム半田
の流動量が減少し、半田付け完了後の半田の盛り上がり
部分(図2において、厚さt2で示された部分の半田)
を小さくすることができる。したがって、この盛り上が
り部分が熱電半導体チップの側面部分に接触する危険性
が小さくなり、半田と熱電半導体チップとの接触による
チップ内への半田成分の拡散が防止でき、ひいては熱電
半導体チップの材料特性の変化に伴う信頼性、性能低下
を防止することができる。また、半田の盛り上がり部分
を小さくできるので、この盛り上がり部分と対向する側
の基板との距離も長く取れ、この距離が短いことに起因
する冷却効率の悪化を防止することもできる。
【0030】尚、本塗布工程において使用するクリーム
半田41は、250〜350Pa・Sの範囲の粘度をも
つものであることが好ましい。粘度が350Pa・S以
上であると、クリーム半田塗布時の半田のかすれが生じ
たり、所定形状への完全な塗布ができない等の不具合が
ある。粘度が250Pa・S以下であると、半田塗布後
にクリーム半田のだれが発生する等の不具合がある。
【0031】(2)中間組立体加熱工程 次に、中間組立体加熱工程について説明する。
【0032】まず、図6(a)に示すように、吸熱側基
板12にパターニングされた吸熱側電極14の所定位置
に、P型熱電半導体チップ16及びN型熱電半導体チッ
プ17を載せる。この場合、吸熱側電極14の所定面に
は上記塗布工程にてクリーム半田41が塗布されている
ので、各チップ16、17は、クリーム半田41の上に
載ることになる。また、クリーム半田41は流動状態で
あるので、各チップ16、17の位置を固定するため
に、図6(b)に示すように各チップ16、17に位置
決めプレート18を被せて各チップ16、17の位置を
固定する。次いで、この状態の組付け体(以下、中間組
立体)を、図6(c)に示すように加熱治具30にセッ
トする。
【0033】ここで、加熱治具30について説明する。
図6(c)に示すように、加熱治具30は、シリンダブ
ロック31と、ベースブロック32と、シリンダブロッ
ク31とベースブロック32との間に挟まれた中間プレ
ート33とを具備する。
【0034】シリンダブロック31は、図に示すように
その中央部に下部に開口するシリンダ孔31aが形成さ
れており、このシリンダ孔31a内にはプランジャ34
が収容されている。シリンダ孔31aの底面31bには
スプリング35の一端が連結されている。また、スプリ
ング35の他端側はプランジャ34の背面34bに形成
された凹部34c内に挿入されてその底部に連結されて
いる。従って、プランジャ34はシリンダ孔31a内で
スプリング35によって弾性支持されていることにな
り、スプリング35からの弾性力を受けながら、シリン
ダ孔31a内を往復動可能に構成されている。
【0035】ベースブロック32は、シリンダブロック
31のシリンダ孔31aの開口面と対向して配置されて
いる。
【0036】中間プレート33は、その中央部に貫通開
口部33aが形成されて角型フレーム状に形成されてお
り、前述のようにシリンダブロック31とベースブロッ
ク32との間に介在されてなる。尚、中間プレート33
の貫通開口部33aは、図に示すようにその一片(図示
右側)に段差33bが設けられており、図示段差下部3
3cの開口面積のほうが図示段差上部33dの開口面積
よりも大きくされている。そして、段差下部33cの開
口形状は、吸熱側基板12が精度良く収まり、その位置
が固定的に保持されるような、即ち吸熱側基板12を位
置決めできるような形状とされている。
【0037】シリンダブロック31の下部端面31c及
びベースブロック32の上部端面32cには、それぞれ
位置決め用孔31d及び32dが複数(図では2箇所)
形成されている。また中間プレート33にはその上部端
面33eから下部端面33fにかけて位置決めピン挿入
孔33gが複数(図では2箇所)形成されている。そし
て、複数の(図では2本の)位置決めピン36を中間プ
レート33の各位置決めピン挿入孔33gに挿入し、各
位置決めピン36が各挿入孔33gから突出した部分の
うち、図示上側突出部をシリンダブロック31の下部端
面31cに形成された各位置決め用孔31dに、図示下
側突出部をベースブロック32の上部端面32cに形成
された各位置決め用孔32dに挿入する。このようにし
て複数の位置決めピン36で位置合わせをして、シリン
ダブロック31、ベースブロック32、中間プレート3
3を連結固定している。
【0038】また、図からわかるように、プランジャ3
4の側面34dは、シリンダブロック31のシリンダ孔
31aの内壁面31eとの間に所定のクリアランスを設
けてシリンダ孔31a内に収容されている。従って、プ
ランジャ34がシリンダ孔31a内を図示上下方向に往
復動する際に、プランジャ34の前面34aは3次元方
向に若干の自由度を持って傾斜したり移動したりするこ
とができる。
【0039】上記構成の加熱治具30に、中間組立体を
図6(c)に示すように中間プレート33の貫通開口部
33a内にセットする。すると、プランジャ34が中間
組立体の真上に位置する状態となり、かつプランジャ3
4はスプリング35から弾性力を受けているので、該弾
性力及びプランジャ34自身の自重によって、中間組立
体を矢印A方向に押圧する。この押圧力によって中間組
立体のP型及びN型熱電半導体チップ16、17は押圧
され、吸熱側電極14に所定の力で押し付けられる。こ
のため、各熱電半導体チップ16、17と吸熱側電極1
4との間のクリーム半田41が押圧力で流動し、各電極
14において、P型熱電半導体チップ16とN型熱電半
導体チップ17との間の部分に溜まり、盛り上がり部分
(図示Bの部分)を形成する。しかしながら、中間組立
体は、上述のような塗布工程にて作製され、当該塗布工
程においては電極14の所定面に塗布されたクリーム半
田41は50μmもの薄い均一な膜として塗布されてい
るので、プランジャ34からの押圧力が作用しても、盛
り上がり部の高さはさほど高くならない。
【0040】この状態で、外部から加熱手段としてのヒ
ータ37によって加熱治具30全体を加熱する。この加
熱によって、熱が中間組立体に伝達され、クリーム半田
41中の半田粒子が溶融するとともに、フラックス成分
が揮発する。
【0041】(3)中間組立体冷却固化工程 上記加熱工程で、クリーム半田41中の半田粒子が溶融
し、フラックス成分がほぼ揮発したのを見計らって、ヒ
ータ37からの加熱を停止させ、中間組立体を加熱治具
30から取り外し、自然冷却させる。この自然冷却によ
り溶融半田が冷却固化して半田層15となり、P型及び
N型熱電半導体チップ16及び17と吸熱側電極14と
の半田接合が完了する。
【0042】(4)最終組立体加熱工程 上記中間組立体冷却固化工程により半田接合が完了した
中間組立体から位置決め治具を取り外し、図7(a)に
示すように、上記塗布工程にて放熱側電極13の所定面
にクリーム半田41が塗布された放熱側基板11を中間
組立体の各チップ16、17の半田未接合面に載せ、図
7(b)に示すような最終組立体の構成とする。次に、
この最終組立体を、図7(c)に示すように、中間組立
体加熱工程で使用した加熱治具30にセットする。する
と、プランジャ34が最終組立体の真上に位置する状態
となり、かつプランジャ34はスプリング35から弾性
力を受けているので、該弾性力及びプランジャ34自身
の自重によって、最終組立体を図示矢印A方向に押圧す
る。この押圧力によって放熱側基板11は押圧され、各
チップ16、17は放熱側電極13に所定の力で押し付
けられる。このため、各熱電半導体チップ16、17と
放熱側電極13との間のクリーム半田41が押圧力で流
動し、各電極13において、P型熱電半導体チップ16
とN型熱電半導体チップ17との間の部分に溜まり、盛
り上がり部分(図示Bの部分)を形成する。しかしなが
ら、最終組立体は、上述のような塗布工程にて作製さ
れ、当該塗布工程においては電極13の所定面に塗布さ
れたクリーム半田41は50μmもの薄い均一な膜とし
て塗布されているので、プランジャ34からの押圧力が
作用しても、盛り上がり部の高さはさほど高くならな
い。
【0043】このように、本例の加熱工程(中間組立体
加熱工程及び最終組立体加熱工程)において使用する加
熱治具30は、電極13、14がパターニングされた基
板11、12及び熱電半導体チップ16、17が所定の
配置で組み立てられた組立体(中間組立体及び最終組立
体)を押圧するための押圧部材(プランジャ34)と、
該押圧部材に弾性力を付与する弾性部材(スプリング3
5)を具備し、該弾性部材からの弾性力及び前記押圧部
材からの自重によって、前記熱電半導体チップを前記電
極の面と垂直な方向(図示矢印A方向)に押圧する。こ
のため、熱電半導体チップが電極の所定面に塗布された
クリーム半田の表面張力によって移動するのを防止する
ことができ、この結果、チップの位置ずれによる組付け
不良を低減することができる。また、弾性部材からの弾
性力及び押圧部材の自重を押圧力としており、毎回一定
の押圧力で組立体を押圧することができ、個々の組立体
において押圧力のばらつきを小さくできるので、押圧力
のばらつきに伴う性能のばらつきを小さくすることがで
きる。
【0044】また、本例の加熱治具10においては、前
述のように、プランジャ34の側面34dは、シリンダ
ブロック31のシリンダ孔31aの内壁面31eとの間
に所定のクリアランスを設けてシリンダ孔31a内に収
容されており、プランジャ34がシリンダ孔31a内を
図示上下方向に往復動する際に、プランジャ34の前面
34aは3次元方向に若干の自由度を持って傾斜したり
移動したりすることができる。従って、プランジャ34
が最終組立体を押圧する際に、プランジャ34の前面3
4aが放熱側基板11に習う。このため、熱電半導体チ
ップ16、17の微小な高さばらつきにうまく追従して
放熱側電極13を熱電半導体チップ16、17に押し付
けることができる。これに対し、もし上記所定のクリア
ランスがない場合、プランジャ34は、その前面34a
の向きが固定された(自由度がない)状態で上下動して
最終組立体を押圧することになるので、各チップ16、
17の微小な高さばらつきに追従することができず、例
えば熱電モジュールの片側でのチップと電極との接合不
良等が生じるおそれがある。また、通常このような治具
を用いる場合、放熱側基板11と吸熱側基板12との平
行度を確保するために、押圧側の部材(本例にあっては
プランジャ34に相当)と受側の部材(本例にあっては
ベースブロック32に相当)との平行度を厳密に管理す
る必要がある。ところが、本例では、押圧部材であるプ
ランジャ34が基板自身に習うので、押圧側の部材と受
側の部材との平行度を管理せずともある程度の平行度が
確保できる。このため、治具の平行度の管理という煩わ
しい作業を省略でき、作業性も向上する。
【0045】また、前述のように、中間プレート33
は、その中央部に貫通開口部33aが形成されて角型フ
レーム状に形成されている。中間プレート33の貫通開
口部33aは、図に示すようにその一片(図示右側)に
段差33bが設けられており、図示段差下部33cの開
口面積のほうが図示段差上部33dの開口面積よりも大
きくされている。そして、段差下部33cの開口部の形
状は、吸熱側基板12が精度良く収まり、その位置が固
定的に保持されるような、即ち吸熱側基板12を位置決
めできるような形状とされているとともに、段差上部3
3dの開口部の形状は、放熱側基板11が精度良く収ま
り、その位置が固定的に保持されるような、即ち放熱側
基板11を位置決めできるような形状とされている。こ
のように、本例に示す加熱治具10は、基板を固定的に
保持する保持手段(中間プレート33の段差上部33d
における開口部及び段差下部33cにおける開口部)を
具備するので、組立体を加熱治具にセットする際に、基
板が位置ずれを起こすことがなく、この結果、基板の位
置ずれによる組付け不良を低減することができる。さら
に、本例では、放熱側基板11及び吸熱側基板12のい
ずれもが、精度良く固定的に保持されているので、両基
板11、12の相対的位置ずれをも防止でき、両基板1
1、12の相対的な位置ずれによる組付け不良をも低減
することができる。
【0046】このような構成の加熱治具30に最終組立
体をセットした状態で、外部から加熱手段としてのヒー
タ37によって加熱治具30全体を加熱する。この加熱
によって、熱が最終組立体に伝達され、クリーム半田4
1中の半田粒子が溶融するとともに、フラックス成分が
揮発する。またこのとき、上記中間組立体冷却固化工程
で冷却固化された吸熱側基板側の半田も再溶融する。
【0047】(5)最終組立体冷却固化工程 上記最終組立体加熱工程で、クリーム半田41中の半田
粒子が溶融し、フラックス成分がほぼ揮発したのを見計
らって、ヒータ37からの加熱を停止させ、最終組立体
を加熱治具30から取り外し、自然冷却させる。この自
然冷却により溶融半田が冷却されて固化し、P型及びN
型熱電半導体チップ16及び17と吸熱側電極14、及
び、P型及びN型熱電半導体チップ16、17と放熱側
電極13との半田接合が完了する。
【0048】以上のように、本例による熱電半導体チッ
プと電極との半田付け方法によれば、基板(放熱側基板
11及び吸熱側基板12)にパターニングされた電極
(放熱側電極13及び吸熱側電極14)の所定面にスク
リーン印刷によってクリーム半田41を塗布する塗布工
程と、クリーム半田41が塗布された所定面に熱電半導
体チップ16、17を押し付けるつつクリーム半田41
をヒータ37で加熱してクリーム半田41中の半田粒子
を溶融させて溶融半田とするとともにフラックスを揮発
させる加熱工程(中間組立体加熱工程及び最終組立体加
熱工程)と、該加熱工程後に溶融半田を冷却固化するこ
とにより熱電半導体チップ16、17と電極13、14
とを接合する冷却固化工程(中間組立体冷却固化工程及
び最終組立体冷却固化工程)とを含む熱電半導体チップ
と電極との半田付け方法において、塗布工程におけるス
クリーン印刷は、メッシュスクリーン20を用いて行わ
れることを特徴とする熱電半導体チップと電極との半田
付け方法としたので、スキージ51と開口部22aとの
間に介在するメッシュのため開口部22aとスキージ5
1とは直接接触せず、スキージ51で均されたクリーム
半田41はメッシュを経て開口部に導入されるため、開
口部22aに導入されるクリーム半田41の量がスキー
ジ51の撓み等の影響を受けることはない。このため、
開口部22aに導入されるクリーム半田41の厚みのば
らつきを抑えられ、電極13、14の所定面に塗布され
るクリーム半田41の厚みが均一となる。従って、その
後に熱電半導体チップ16、17を電極13、14に取
り付けた場合の高さのばらつきを抑えることができ、熱
電モジュールの組付け性を向上させることができる。
【0049】また、クリーム半田41は粒径が15〜5
0μmの半田粒子を含み、かつ、メッシュスクリーン2
0はメッシュサイズが100〜200メッシュであるの
で、塗布工程において塗布されるクリーム半田41の半
田塗布膜厚は50μmもしくはそれ以下となり、クリー
ム半田の塗布膜厚の均一化のみならず、塗布膜厚の薄膜
化を共に実現することができる。このため、その後の工
程で電極13、14に熱電半導体チップ16、17を押
し付けるときの押圧力により流動するクリーム半田の流
動量が減少し、半田付け完了後の半田の盛り上がり部分
(各電極における、P型熱電半導体チップとN型熱電半
導体チップとの間にある半田部分)を小さくすることが
できる。したがって、この盛り上がり部分が熱電半導体
チップの側面部分に接触する危険性が小さくなり、半田
と熱電半導体チップとの接触によるチップ内への半田成
分の拡散が防止でき、ひいては熱電半導体チップの材料
特性の変化に伴う信頼性、性能低下を防止することがで
きる。また、半田の盛り上がり部分を小さくできるの
で、この盛り上がり部分と対向する側の基板との距離も
長く取れ、この距離が短いことに起因する冷却効率の悪
化を防止することもできる。
【0050】(付記)本実施形態から、以下のような技
術的思想も把握できる。
【0051】(1)基板にパターニングされた電極に熱
電半導体チップを半田付けする際に、前記電極の所定面
に塗布されたクリーム半田を加熱して前記クリーム半田
中の半田粒子を溶融させるとともにフラックスを揮発さ
せるための加熱治具10であって、前記加熱治具10
は、前記電極がパターニングされた前記基板及び前記熱
電半導体チップが所定の配置で組み立てられた組立体
(中間組立体及び最終組立体)を押圧するための押圧部
材(プランジャ34)と、該押圧部材に弾性力を付与す
る弾性部材(スプリング35)を具備し、該弾性部材か
らの弾性力及び前記押圧部材の自重によって、前記熱電
半導体チップを前記電極の面と垂直な方向に押圧するこ
とを特徴とする加熱治具。
【0052】(2)上記(1)において、前記加熱治具
10は、前記基板を固定的に保持する保持手段(中間プ
レート33の段差下部33cにおける開口部及び段差上
部33dにおける開口部)を具備することを特徴とする
加熱治具。
【0053】(3)上記(1)または(2)において、
前記加熱治具10は、シリンダ孔31aを有するシリン
ダ部材(シリンダブロック31)を具備し、前記押圧部
材は前記シリンダ部材の前記シリンダ孔に収容されると
ともに該シリンダ孔内を往復動可能にされてなり、前記
押圧部材と前記シリンダ孔の内壁31eとの間にクリア
ランスが設けられていることを特徴とする加熱治具。
【0054】上記(1)によれば、弾性部材からの弾性
力及び押圧部材からの自重によって、熱電半導体チップ
が電極の面に対して垂直方向から荷重を受ける。このた
め、熱電半導体チップが電極の所定面に塗布されたクリ
ーム半田の表面張力によって移動するのを防止すること
ができ、この結果、チップの位置ずれによる組付け不良
を低減することができる。また、弾性部材からの弾性力
及び押圧部材の自重を押圧力としており、毎回一定の押
圧力で組立体を押圧することができ、個々の組立体にお
いて押圧力のばらつきを小さくできるので、押圧力のば
らつきに伴う性能のばらつきを小さくすることができ
る。
【0055】上記(2)によれば、組立体を加熱治具に
セットする際に、基板が保持手段に固定的に保持されて
いるので、基板が位置ずれを起こすことがなく、この結
果、基板の位置ずれによる組付け不良を低減することが
できる。
【0056】上記(3)によれば、押圧部材はシリンダ
部材のシリンダ孔に収容され、かつ押圧部材とシリンダ
孔の内壁との間にクリアランスが設けられているので、
押圧部材が組立体を押圧する際に、押圧部材の押圧面
(プランジャ34の前面34a)が組立体の押圧部材に
当接した部分(放熱側基板11)に習う。このため、組
立体の寸法ばらつき(熱電半導体チップの微小な高さば
らつき)にうまく追従して組立体を押圧することができ
る。これに対し、もし上記クリアランスがない場合、押
圧部材は、その押圧面の向きが固定された(自由度がな
い)状態で往復動して組立体を押圧することになるの
で、組立体の寸法ばらつきに追従することができず、例
えば熱電モジュールの片側でのチップと電極との接合不
良等が生じるおそれがある。
【0057】(その他の実施形態)上記実施形態では、
塗布工程として、メッシュスクリーンによるスクリーン
印刷を示したが、その他、シート状半田を用いて基板の
電極面に半田を塗布する方法がある。これは、基板の電
極がパターニングされた面にシート状半田を載せてお
き、この状態で加熱する。すると、シート状半田が熱に
より溶融するが、このとき電極面以外の部分を覆う半田
は電極面の部分に溶融した半田に吸収され、結果として
電極の所定面のみに溶融半田が塗布された状態となる。
【0058】このようにして半田を塗布した場合、従来
のようなメタルスクリーンを用いてスクリーン印刷を行
なったときに生じる塗布膜厚の不均一化が起きず、均一
にクリーム半田を電極所定面に塗布することができる。
また、シート状半田として10μm〜30μm程度の薄
いものを使用することにより、電極所定面へ塗布後の半
田塗布膜厚は50μm〜70μm程度となり、塗布膜厚
の薄膜化も実現できる。
【0059】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
熱電半導体チップと電極との半田付けにおいて、半田の
塗布膜厚を均一化して熱電半導体チップを電極に取り付
けた場合の高さばらつきを極小とし、熱電モジュールの
組付け性を向上させることができる。また、塗布膜厚を
できるだけ薄くし、半田の塗布量の増加に起因した熱電
半導体チップの信頼性や性能低下を防止することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態における熱電モジュールの
概略断面図である。
【図2】図1の部分拡大断面図である。
【図4】本発明の実施の形態において使用するメッシュ
スクリーンの概略断面図である。
【図5】本発明の実施の形態における、塗布工程を示す
図である。
【図6】本発明の実施の形態における、中間組立体加熱
工程を示す図である。
【図7】本発明の実施の形態における、最終組立体加熱
工程を示す図である。
【図8】従来技術における熱電モジュールの概略断面図
である。
【図9】メタルスクリーンを用いて基板の電極所定面に
半田を塗布したときの状態を示す図である。
【符号の説明】
10・・・熱電モジュール 11・・・放熱側基板(基板) 12・・・吸熱側基板(基板) 13・・・放熱側電極(電極) 14・・・吸熱側電極(電極) 15・・・半田 16・・・P型熱電半導体チップ 17・・・N型熱電半導体チップ 20・・・メッシュスクリーン 21・・・メッシュ面 22・・・樹脂プレート、 22a・・・開口部 30・・・加熱治具 31・・・シリンダブロック、 31a・・・シリンダ
孔、 31b・・・底面、 31c・・・下部端面、
31d・・・位置決め用孔、 31e・・・内壁面 32・・・ベースブロック、 32c・・・上部端面、
32d・・・位置決め用孔 33・・・中間プレート、 33a・・・貫通開口部、
33b・・・段差、33c・・・下部段差、 33d
・・・上部段差、 33e・・・上部端面、33f・・
・下部端面、 33g・・・位置決めピン挿入孔 34・・・プランジャ、 34a・・・前面、 34b
・・・背面 35・・・スプリング 36・・・位置決めピン 37・・・ヒータ(加熱手段) 41・・・クリーム半田 50・・・スクリーン印刷機 51・・・スキージ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年1月20日(2000.1.2
0)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態における熱電モジュールの
概略断面図である。
【図2】図1の部分拡大断面図である。
【図3】スクリーン印刷機の概略斜視図である。
【図4】本発明の実施の形態において使用するメッシュ
スクリーンの概略断面図である。
【図5】本発明の実施の形態における、塗布工程を示す
図である。
【図6】本発明の実施の形態における、中間組立体加熱
工程を示す図である。
【図7】本発明の実施の形態における、最終組立体加熱
工程を示す図である。
【図8】従来技術における熱電モジュールの概略断面図
である。
【図9】メタルスクリーンを用いて基板の電極所定面に
半田を塗布したときの状態を示す図である。
【符号の説明】 10・・・熱電モジュール 11・・・放熱側基板(基板) 12・・・吸熱側基板(基板) 13・・・放熱側電極(電極) 14・・・吸熱側電極(電極) 15・・・半田 16・・・P型熱電半導体チップ 17・・・N型熱電半導体チップ 20・・・メッシュスクリーン 21・・・メッシュ面 22・・・樹脂プレート、 22a・・・開口部 30・・・加熱治具 31・・・シリンダブロック、 31a・・・シリンダ
孔、 31b・・・底面、 31c・・・下部端面、
31d・・・位置決め用孔、 31e・・・内壁面 32・・・ベースブロック、 32c・・・上部端面、
32d・・・位置決め用孔 33・・・中間プレート、 33a・・・貫通開口部、
33b・・・段差、33c・・・下部段差、 33d
・・・上部段差、 33e・・・上部端面、33f・・
・下部端面、 33g・・・位置決めピン挿入孔 34・・・プランジャ、 34a・・・前面、 34b
・・・背面 35・・・スプリング 36・・・位置決めピン 37・・・ヒータ(加熱手段) 41・・・クリーム半田 50・・・スクリーン印刷機 51・・・スキージ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石黒 正和 愛知県刈谷市朝日町2丁目1番地 アイシ ン精機株式会社内 Fターム(参考) 5E319 AA03 AA07 AB05 BB05 CC44 CD29

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板にパターニングされた電極の所定面
    にスクリーン印刷によってクリーム半田を塗布する塗布
    工程と、前記クリーム半田が塗布された前記所定面に熱
    電半導体チップを押し付けつつ前記クリーム半田を加熱
    して前記クリーム半田中の半田粒子を溶融させて溶融半
    田とするとともにフラックスを揮発させる加熱工程と、
    該加熱工程後に前記溶融半田を冷却固化することにより
    前記熱電半導体チップと前記電極とを接合する冷却固化
    工程とを含む熱電半導体チップと電極との半田付け方法
    において、 前記スクリーン印刷は、メッシュスクリーンを用いて行
    われることを特徴とする熱電半導体チップと電極との半
    田付け方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記クリーム半田は粒径が15〜50μmの半田粒子を
    含み、かつ、前記メッシュスクリーンはメッシュサイズ
    が100〜200メッシュであることを特徴とする熱電
    半導体チップと電極との半田付け方法。
  3. 【請求項3】 対向する2枚の絶縁基板と、前記2枚の
    絶縁基板のそれぞれの対向面にパターニングされた複数
    の電極と、前記2枚の絶縁基板間に配設されるとともに
    前記複数の各電極と半田接合された複数のP型熱電半導
    体チップ及びN型熱電半導体チップとを備え、前記電極
    を介してP型熱電半導体チップとN型熱電半導体チップ
    とが交互に電気的に直列に接続されてなる熱電モジュー
    ルにおいて、前記P型及びN型熱電半導体チップと電極
    との間に介在する半田の厚みは10μm〜30μmであ
    り、前記複数の各電極における前記P型熱電半導体チッ
    プと前記N型熱電半導体チップとの間の部分に塗布され
    た半田の厚みは150μm以下で有ることを特徴とする
    熱電モジュール。
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