JP2001038601A - Manufacture of pattern-like polishing object - Google Patents
Manufacture of pattern-like polishing objectInfo
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、プラスチック成
形品、金属成形品、セラミックス成形品、ガラス成形品
など溝部を有する各種成形品に対し、溝部以外を研磨し
てパターン状研磨物を製造する方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a patterned polished product by polishing various molded products having grooves, such as plastic molded products, metal molded products, ceramic molded products, and glass molded products, except for the grooves. About.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、溝部を有する各種成形品などに対
し、溝部以外を研磨したパターンを形成する方法とし
て、やすりがけ法、ブラシかけ法、ショットブラスト法
があった。2. Description of the Related Art Hitherto, as a method of forming a polished pattern other than a groove portion on various molded articles having a groove portion, there have been a sanding method, a brushing method and a shot blasting method.
【0003】やすりがけ法とは、鉄工やすり、紙やす
り、エメリーペーパーなどを用いて、成形品表面を研磨
する方法である。ブラシかけ法とは、スチールワイヤー
ブラシ、プラスチックワイヤーブラシなどを用いて、成
形品表面を研磨する方法である。ショットブラスト法と
は、アルミニウム、ガラス、セラミックスなどの粒子を
成形品表面に吹き付けて衝突させ、成形品表面を研磨す
る方法である。[0003] The sanding method is a method of polishing the surface of a molded article using an ironsmith file, sandpaper, emery paper, or the like. The brushing method is a method of polishing the surface of a molded product using a steel wire brush, a plastic wire brush, or the like. The shot blast method is a method in which particles of aluminum, glass, ceramics and the like are sprayed on the surface of a molded article and made to collide with each other to polish the surface of the molded article.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、いずれの方法
においても、成形品の溝部以外を研磨するには、溝部を
残して研磨するのは困難であるため、溝部をあらかじめ
マスキングして覆い、研磨を行った後にマスキングを剥
離する必要があり、手間がかかるといった問題点があっ
た。However, in any of the methods, it is difficult to polish the groove except for the groove in the molded product, so that the groove is masked and covered in advance. It is necessary to peel off the masking after performing the above, which is troublesome.
【0005】したがって、この発明は、上記のような問
題点を解消し、被研磨体の溝部以外を研磨するのに手間
がかからないパターン状研磨物の製造方法を提供するこ
とにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a patterned polished object which solves the above-mentioned problems and does not require much trouble in polishing a portion other than a groove portion of an object to be polished.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この発明は、上記目的を
達成するため、以下のように構成した。Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.
【0007】すなわち、この発明のパターン状研磨物の
製造方法は、多数の粒状の研磨材と溝部を有する被研磨
体を攪拌し、被研磨体の溝部に研磨材を接触させないこ
とによって被研磨体の溝部以外を研磨して、研磨部分と
非研磨部分とから構成されるパターンを形成するように
構成した。That is, in the method of manufacturing a patterned abrasive according to the present invention, the object to be polished having a large number of granular abrasives and grooves is agitated, and the abrasive is not brought into contact with the grooves of the object to be polished. The remaining portion was polished to form a pattern composed of a polished portion and a non-polished portion.
【0008】また、上記の発明において、研磨材の大き
さが被研磨体の溝部の開口幅より大きいように構成して
もよい。In the above invention, the size of the abrasive may be larger than the opening width of the groove of the object to be polished.
【0009】また、上記の発明において、被研磨体の溝
部の断面形状が略V字型であり、その角度が135°以
下であるように構成してもよい。Further, in the above-mentioned invention, the cross-sectional shape of the groove of the object to be polished may be substantially V-shaped, and the angle may be 135 ° or less.
【0010】また、上記の発明において、被研磨体の溝
部の断面形状が略V字型であり、研磨材の大きさを溝部
の開口幅よりも小さい範囲内で調節することにより、パ
ターンの幅を調節するように構成してもよい。In the above invention, the cross-sectional shape of the groove of the object to be polished is substantially V-shaped, and the size of the abrasive is adjusted within a range smaller than the opening width of the groove, so that the width of the pattern is reduced. May be adjusted.
【0011】また、上記の発明において、同一の被研磨
体上に異なるパターン幅で複数回研磨するように構成し
てもよい。Further, in the above invention, the same polished body may be polished a plurality of times with different pattern widths.
【0012】また、上記の発明において、被研磨体が多
層構造であるように構成してもよい。In the above invention, the object to be polished may have a multilayer structure.
【0013】また、上記の発明において、研磨材の材質
が、金属、セラミックス、ガラス、プラスチックのうち
の少なくとも一つであるように構成してもよい。[0013] In the above invention, the material of the abrasive may be at least one of metal, ceramics, glass and plastic.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】この発明のパターン状研磨物の製
造方法は、多数の粒状の研磨材と溝部を有する被研磨体
を攪拌し、被研磨体の溝部に研磨材を接触させないこと
によって被研磨体の溝部以外を研磨して、研磨部分と非
研磨部分とから構成されるパターンを形成するものであ
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the method for producing a patterned abrasive according to the present invention, an object to be polished having a large number of granular abrasives and grooves is agitated and the abrasive is not brought into contact with the grooves of the object to be polished. The pattern other than the groove of the polishing body is polished to form a pattern composed of a polished portion and a non-polished portion.
【0015】研磨材としては、微細な粒状のものを用い
る。研磨材の形状としては、たとえば、球形、ラグビー
ボール形、おむすび形、立方体、直方体、円錐形、角錐
形などのものを用いることができる。研磨材の材質とし
ては、金属、セラミックス、ガラス、プラスチックなど
を用いることができる。Fine abrasives are used as the abrasive. As the shape of the abrasive, for example, a sphere, a rugby ball, a rice ball, a cube, a rectangular parallelepiped, a cone, a pyramid, and the like can be used. As the material of the abrasive, metal, ceramics, glass, plastic, or the like can be used.
【0016】研磨材の大きさは、被研磨体の溝部の開口
幅より大きい方がよい。研磨材が被研磨体の溝部の開口
幅より小さいと、研磨材が溝部の奥まで入り込み、溝部
の底部まで研磨されてパターンが形成できない恐れがあ
る。The size of the abrasive is preferably larger than the opening width of the groove of the object to be polished. If the abrasive is smaller than the opening width of the groove of the object to be polished, the abrasive may penetrate deep into the groove, and may be polished to the bottom of the groove so that a pattern cannot be formed.
【0017】被研磨体の形状としては、溝部を有する棒
状、球状、箱状、板状、円筒状、錐状のものなどを用い
ることができる。材質としては、樹脂、金属、ガラス、
セラミック、木材など任意のものを用いることができ
る。被研磨体の具体例としては、たとえば、携帯電話用
筐体、パソコン用筐体、オーディオ用筐体、ビデオカメ
ラ用筐体、化粧品容器、食器、家電製品用部品、事務機
器用部品などが考えられる。The shape of the object to be polished may be rod-like, spherical, box-like, plate-like, cylindrical, or conical having a groove. Materials include resin, metal, glass,
Any material such as ceramic and wood can be used. Specific examples of the object to be polished include, for example, a housing for a mobile phone, a housing for a personal computer, a housing for an audio device, a housing for a video camera, a cosmetic container, tableware, a part for home appliances, a part for office equipment, and the like. Can be
【0018】被研磨体の溝部とは、被研磨体の表面の一
面または複数面に、断面形状がコ字型、U字型、V字型
などに窪むように形成された部分をいう。また、アング
ル材などのように、被研磨材自身の断面形状がコ字型、
U字型、V字型などに形成されたものである場合は、断
面形状がコ字型、U字型、V字型などに形成された部分
を溝部とする。さらに、非研磨体の表面において文字や
図形などがレリーフ状の凹部または凸部として形成され
る場合のように、凹部または凸部の周囲に立ち上がり部
分として断面形状がL字型に形成される部分も溝部とし
て機能する。The groove of the object to be polished is a portion formed on one or more surfaces of the object to be polished so as to have a U-shaped, U-shaped or V-shaped cross section. Also, like the angle material, the cross-sectional shape of the polished material itself is U-shaped,
When it is formed in a U-shape, a V-shape, or the like, a portion having a U-shape, a U-shape, a V-shape, or the like in cross section is defined as a groove. Furthermore, as in the case where characters or figures are formed as relief-shaped concave portions or convex portions on the surface of the non-abrasive body, portions having a L-shaped cross section as rising portions around the concave portions or convex portions. Also function as a groove.
【0019】溝部の断面形状が略V字型である場合は、
その角度が135°以下であるのが好ましい。135°
を越えると溝部の底部まで研磨されてしまい、パターン
形成が困難になるからである。When the cross-sectional shape of the groove is substantially V-shaped,
It is preferable that the angle is 135 ° or less. 135 °
If the thickness exceeds, the bottom of the groove will be polished to make pattern formation difficult.
【0020】研磨材と被研磨体との攪拌に当たっては、
研磨材と被研磨体とを容器に投入して行うとよい。容器
としては、プラスチック、金属、セラミック、ゴムなど
からなるものを用いるとよい。投入に当たっては、異物
の混入が生じないように留意する。In stirring the abrasive and the object to be polished,
It is preferable that the polishing material and the object to be polished be charged into a container. The container is preferably made of plastic, metal, ceramic, rubber, or the like. At the time of feeding, care should be taken not to mix foreign substances.
【0021】攪拌は、容器内の研磨材と被研磨体を容器
内でかき回して行うほか、容器ごと振動させたり、容器
中の被研磨体のみを回転または振動させたりして行って
もよい。The stirring may be performed by stirring the abrasive and the object to be polished in the container in the container, or by vibrating the container as a whole, or rotating or vibrating only the object to be polished in the container.
【0022】研磨材の量としては、容器容量の20〜8
0%であるのが好ましい。その理由は、研磨を行うに
は、攪拌時の研磨材の流動と、研磨材と被研磨体間の衝
撃力とが必要であり、80%を越えると研磨材が流動し
ないからである。また、20%に満たないと研磨能率が
低いからである。The amount of the abrasive is 20 to 8 times the container volume.
It is preferably 0%. The reason is that the polishing requires a flow of the abrasive during stirring and an impact force between the abrasive and the object to be polished, and the abrasive does not flow when the ratio exceeds 80%. Also, if it is less than 20%, the polishing efficiency is low.
【0023】このとき、被研磨体の溝部の内部に研磨材
を衝突させないことによって溝部を研磨せず、被研磨体
の溝部以外に研磨材を衝突させることによって溝部以外
を研磨し、溝部以外が研磨されたパターンを形成するこ
とができる。At this time, the grooves are not polished by preventing the abrasive from colliding with the inside of the grooves of the object to be polished, and the parts other than the grooves are polished by colliding the abrasive with the parts other than the grooves of the object to be polished. A polished pattern can be formed.
【0024】被研磨体の溝部の断面形状が略V字型であ
る場合は、研磨材の大きさを溝部の開口幅よりも小さい
範囲内で調節することにより、パターンの幅を調節する
ことができる。When the cross-sectional shape of the groove of the object to be polished is substantially V-shaped, the width of the pattern can be adjusted by adjusting the size of the abrasive within a range smaller than the opening width of the groove. it can.
【0025】すなわち、溝部の開口幅よりも研磨材の大
きさの方が大きければ、溝部の内部に研磨材を衝突させ
ることができない。しかし、溝部の開口幅よりも研磨材
の大きさの方が小さければ、溝部の内部に研磨材を衝突
させることができる。このとき、溝部の断面形状が略V
字型であれば溝部の底部に近づくにしたがって溝部の幅
が小さくなるので、溝部の開口幅に対して研磨材の大き
さを小さくするほど溝部の底部に近づけて研磨すること
ができる。逆に、研磨材の大きさが溝部の開口幅より小
さくても溝部の底部に届くほど小さくない場合は、溝部
の開口部付近のみを研磨することができる。このよう
に、研磨材の大きさを溝部の開口幅よりも小さい範囲内
で調節することにより、溝部における研磨材の衝突箇所
を任意に調節することができ、溝部におけるパターンの
幅を任意に調節することができることになる。That is, if the size of the abrasive is larger than the opening width of the groove, the abrasive cannot collide with the inside of the groove. However, if the size of the abrasive is smaller than the opening width of the groove, the abrasive can collide with the inside of the groove. At this time, the sectional shape of the groove is substantially V
In the case of the letter shape, the width of the groove becomes smaller as approaching the bottom of the groove, so that the smaller the size of the abrasive with respect to the opening width of the groove, the closer the bottom of the groove can be polished. Conversely, if the size of the abrasive is smaller than the opening width of the groove but not so small as to reach the bottom of the groove, only the vicinity of the opening of the groove can be polished. In this way, by adjusting the size of the abrasive within a range smaller than the opening width of the groove, the collision point of the abrasive in the groove can be arbitrarily adjusted, and the width of the pattern in the groove can be arbitrarily adjusted. Will be able to do that.
【0026】また、上記の方法において、同一の被研磨
体に対し、異なるパターン幅で複数回研磨をすることが
できる。たとえば、溝部のより底部まで研磨可能な小さ
い研磨材を用いて第1回目の研磨を行い、次いで、溝部
の開口部近傍のみを研磨可能な大きい研磨材を用いて第
2回目の研磨を行うと、溝部は、第1回目と第2回目の
いずれによっても研磨されない溝部の底面部分と、第1
回目のみによって研磨される溝部の側面部分と、第1回
目と第2回目の両方によって研磨される部分とを有する
パターンを形成することができる。In the above method, the same object to be polished can be polished a plurality of times with different pattern widths. For example, the first polishing is performed using a small abrasive that can be polished to the bottom of the groove, and then the second polishing is performed using a large abrasive that can be polished only near the opening of the groove. , The groove portion is a bottom portion of the groove portion that is not polished by any of the first and second times;
A pattern having a side surface portion of the groove portion polished only by the first time and a portion polished by both the first time and the second time can be formed.
【0027】また、被研磨体が多層構造であってもよ
い。たとえば、溝部を有する成形品が金属からなるもの
であって、その表面全体に塗料による塗膜が形成されて
いてもよい。このような非研磨体を研磨材と攪拌するこ
とにより、溝部以外は研磨されて金属光沢を呈し、溝部
は塗膜が残存して着色されたパターンを呈するパターン
状研磨物を得ることができる。The object to be polished may have a multilayer structure. For example, a molded article having a groove may be made of metal, and a coating film of a paint may be formed on the entire surface. By stirring such a non-abrasive body with an abrasive, a portion other than the groove portion is polished to give a metallic luster, and the groove portion can obtain a patterned polished material having a colored pattern with the remaining coating film.
【0028】[0028]
【実施例】研磨材として、直径3mmのアルミナ製ボー
ルを多数用意した。また、被研磨体として、プラスチッ
ク、アルミニウム、マグネシウム合金からなる各成形品
であって、その形状が150×100×3mmの板状物
で、開口幅1mm、深さ0.5mm、長さ80mmの溝
部を有し、溝部の断面形状が角度90°のV字型である
ものをそれぞれ用意した。EXAMPLE A large number of alumina balls having a diameter of 3 mm were prepared as abrasives. The object to be polished is a molded article made of plastic, aluminum, or a magnesium alloy, and is a plate-like object having a shape of 150 × 100 × 3 mm having an opening width of 1 mm, a depth of 0.5 mm, and a length of 80 mm. Each having a groove and having a V-shaped cross section at an angle of 90 ° was prepared.
【0029】次いで、容器に研磨材1kgと被研磨体を
入れ、容器を振動させて研磨を行った。Next, 1 kg of the abrasive and the object to be polished were placed in a container, and the container was vibrated to perform polishing.
【0030】このようにして成形品表面を研磨したとこ
ろ、被研磨体の溝部は研磨されず、パターンを形成する
ことができた。When the surface of the molded article was polished as described above, the groove of the polished body was not polished, and a pattern could be formed.
【0031】[0031]
【発明の効果】この発明のパターン状研磨物の製造方法
は、以上のような構成を採るので、以下のような効果を
奏する。The method for producing a patterned abrasive according to the present invention employs the above-described configuration, and has the following effects.
【0032】すなわち、多数の粒状の研磨材と溝部を有
する被研磨体を攪拌し、被研磨体の溝部に研磨材を接触
させないことによって被研磨体の溝部以外を研磨して、
研磨部分と非研磨部分とから構成されるパターンを形成
するように構成したので、マスキング処理などの手間を
かけることなく、パターン状研磨物を容易に得ることが
できる。That is, the object to be polished having a large number of granular abrasives and grooves is agitated, so that the abrasive is not brought into contact with the grooves of the object to be polished to polish other parts of the object to be polished.
Since a pattern composed of a polished portion and a non-polished portion is formed, a patterned polished product can be easily obtained without any trouble such as a masking process.
Claims (7)
磨体を攪拌し、被研磨体の溝部に研磨材を接触させない
ことによって被研磨体の溝部以外を研磨して、研磨部分
と非研磨部分とから構成されるパターンを形成すること
を特徴とするパターン状研磨物の製造方法。An object to be polished having a large number of granular abrasives and grooves is agitated, and an abrasive is not brought into contact with the grooves of the object to be polished to polish the parts other than the grooves of the object to be polished, and the polished part is not polished. A method for producing a patterned polished object, comprising forming a pattern composed of a polished portion.
幅より大きい請求項1に記載のパターン状研磨物の製造
方法。2. The method according to claim 1, wherein the size of the abrasive is larger than the opening width of the groove of the object to be polished.
あり、その角度が135°以下である請求項1に記載の
パターン状研磨物の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the cross-sectional shape of the groove of the object to be polished is substantially V-shaped, and the angle is 135 ° or less.
あり、研磨材の大きさを溝部の開口幅よりも小さい範囲
内で調節することにより、パターンの幅を調節する請求
項1に記載のパターン状研磨物の製造方法。4. The pattern width is adjusted by adjusting the size of the abrasive within a range smaller than the opening width of the groove portion, wherein the cross-sectional shape of the groove portion of the object to be polished is substantially V-shaped. 2. The method for producing a patterned abrasive according to item 1.
複数回研磨する請求項4に記載のパターン状研磨物の製
造方法。5. The method for producing a patterned polished object according to claim 4, wherein the same polished body is polished a plurality of times with different pattern widths.
のいずれかに記載のパターン状研磨物の製造方法。6. The object to be polished has a multilayer structure.
The method for producing a patterned abrasive according to any one of the above.
ガラス、プラスチックのうちの少なくとも一つである請
求項1〜5のいずれかに記載のパターン状研磨物の製造
方法。7. The material of the abrasive is metal, ceramics,
The method for producing a patterned abrasive according to claim 1, which is at least one of glass and plastic.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21605799A JP2001038601A (en) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | Manufacture of pattern-like polishing object |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21605799A JP2001038601A (en) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | Manufacture of pattern-like polishing object |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001038601A true JP2001038601A (en) | 2001-02-13 |
Family
ID=16682613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21605799A Withdrawn JP2001038601A (en) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | Manufacture of pattern-like polishing object |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001038601A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4985393B2 (en) * | 2005-02-15 | 2012-07-25 | 新東工業株式会社 | Fluid barrel polishing apparatus and polishing method |
-
1999
- 1999-07-30 JP JP21605799A patent/JP2001038601A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4985393B2 (en) * | 2005-02-15 | 2012-07-25 | 新東工業株式会社 | Fluid barrel polishing apparatus and polishing method |
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Legal Events
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