JP2001035688A

JP2001035688A - 軟ｘ線発生装置及びこれを備えた露光装置及び軟ｘ線の発生方法

Info

Publication number: JP2001035688A
Application number: JP11210615A
Authority: JP
Inventors: Noriaki Kamitaka; 典明神高
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1999-07-26
Filing date: 1999-07-26
Publication date: 2001-02-09

Abstract

(57)【要約】【課題】軟Ｘ線を効率よく発生させる。【解決手段】本発明の軟Ｘ線装置は、パルスレーザー
光を照射する複数のレーザー光源と、前記パルスレーザ
ー光を減圧された容器内の標的に集光することにより該
標的を構成する材料をプラズマ化し、該プラズマから輻
射される軟Ｘ線を利用する軟Ｘ線発生装置において、前
記複数のレーザー光源の各々の光源は前記生成するプラ
ズマの電子温度が約２０ｅＶ〜１００ｅＶになる条件に
制御され照射可能なものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、軟Ｘ線発生装置及
びこれを備えた露光装置及び軟Ｘ線の発生方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】レーザープラズマＸ線源（以下ＬＰＸと
記す）を例えば軟Ｘ線縮小投影露光に用いる場合、０．
１μm以下のパターンを投影露光するための光学系がい
くつか提案されている。それらの光学系では、軸外の円
弧状の良像領域のみが利用されて、マスク上の円弧領域
のみが投影される。そのため、マスク全体のパターン
は、マスクとウエハとを走査することにより処理され
る。これにより、高い解像度で比較的高い処理速度が得
られる。この光学系を利用するためには、マスク上の円
弧状の領域に対して効率よく照明を行う必要がある。こ
の条件を満たす照明光学系としては、図２に示すような
照明光学系が提案されている（例えば特願平１０−４７
４００号）。

【０００３】提案された照明系では、２つのフライアイ
ミラー２−ａ，２−ｂによって、上記の縮小投影露光光
学系に適した照明を達成している。これらのフライアイ
ミラーの概略図を図３に示す。図３に示すように第一ミ
ラー２−ａは円弧状であり、第二ミラー２−ｂは正方形
に近い矩形の小ミラーの集合体により構成されている。
これらのミラーは、それぞれが偏心することで光軸を合
わせている。

【０００４】照明光学系を前記のような構成にする理由
は、光源は完全な点光源と見なすことができず、ある程
度の大きさを有することを考慮する必要があるからであ
る。このような構成にすることによって、軟Ｘ線による
効率的な照明を達成している。ＬＰＸでは、光源の大き
さはプラズマの大きさと同一である。このプラズマの大
きさは、標的となる材料の存在する領域が励起レーザ光
の照射領域より大きければ、照射領域の大きさにほぼ等
しくなる。そして、照射領域の大きさを変えることによ
ってプラズマの大きさを変化させることができる。

【０００５】また、プラズマから輻射される電磁波の波
長分布は、生成されたプラズマの温度に密接に関連して
おり、プラズマの温度が高くなる程、より短波長の電磁
波（可視光、紫外光、軟Ｘ線）が輻射される。従って、
同一のパルス持続時間と同一のエネルギーを持つパルス
光でプラズマを生成した場合でも、集光径が違うとプラ
ズマの大きさや輻射する軟Ｘ線の波長が違ったものにな
る。よって、パルスレーザー光を狭い領域に集光して生
成したプラズマは、広い領域に集光して生成したプラズ
マより小さくなり、より高温になる。そのため、輻射す
る電磁波のスペクトルは短波長側にシフトすることにな
る。例えば黒体輻射を考えた場合、輻射スペクトルのピ
ークが波長１３ｎｍ程度になるのは、黒体の温度が３０
ｅＶ程度のときであり、これより高温の場合は短波長側
にピークがシフトする。実際にはプラズマが輻射する軟
Ｘ線は、標的となる材料の電子構造に依存しており、電
子の遷移に対応したエネルギーの軟Ｘ線が輻射される。
そのため、その温度での輻射効率が高い波長に近いエネ
ルギーの遷移に対応する軟Ｘ線が強く輻射される。

【０００６】大きなエネルギーを有する出射光を実現す
る方法としては、光通信の分野において開発が進んでい
るファイバーアンプと呼ばれる光源を使用する方法が提
案されている。そして本発明者は、このファイバーアン
プを複数用いたものをレーザー光源に利用する提案をし
た（特願平１０−２７９６９９号）。例えばファイバー
にドープする物質をイットリビウムにした場合、波長
１．０３μｍの出射光が得られ、１パルスあたりのエネ
ルギーが０．５ｍＪ、パルスの持続時間が２５ｎｓ程
度、繰り返し周波数が２０ｋＨｚ程度を達成するものが
既に製造されている。

【０００７】ファイバーには、シングルモードまたはマ
ルチモードのものがあるが、シングルモードファイバー
の出力は回折限界に近い非常に小さな領域に集光するこ
とが可能である。また、マルチモードファイバーを使用
すれば、シングルモードに比べて高いピーク出力を得る
ことができる。この場合にもコア径程度の大きさにまで
集光することが可能である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】現在、レーザープラズ
マ励起用のレーザー光源の出力については、主に利用す
る波長域の軟Ｘ線への変換効率の観点から議論がなされ
ている。例として、利用する波長域の軟Ｘ線を輻射させ
るために、軟Ｘ線は３０Ｗの出力が必要とされる場合を
考える。この出力の軟Ｘ線をレーザープラズマから得よ
うとする場合、ある標的を用いたときの半球立体角空間
（２πｓｒ）に輻射される軟Ｘ線への変換効率が１％で
あり、プラズマから発生する軟Ｘ線のうち半球立体角の
１／２の領域の軟Ｘ線を照明光学系に取り込める場合、
励起用のレーザー光源に求められる出力は６ｋＷである
とされている。

【０００９】しかし、実際に軟Ｘ線縮小投影露光の光源
としてレーザープラズマを利用する場合、このプラズマ
の生成条件には様々な制約が加わる。従って、必ずしも
変換効率とレーザー光源の出力だけで議論することはで
きない。まず第一の制約として、マスクの照明を考慮し
た場合に生じるプラズマの大きさに関する制約がある。
マスクから見て投影光学系に取り込まれる立体角が限定
されているために、それに一致した照明立体角を越える
方向からの照明光は無駄な照明光となる。そのためにマ
スクの照明立体角は投影光学系の取り込み立体角にほぼ
一致したものであることが求められる。

【００１０】光学系においては「照明領域の大きさ×照
明ＮＡ」の値は保存されるため、立体角を規定した場
合、光源が、ある大きさを超えるとその光源から発せら
れる光の全てを照明に利用することは原理的にできなく
なる。よって、効率的な照明を実現するために、光源
は、ある大きさ以下であることが望ましい。更に、図２
に示したような光学系を用いた走査露光の場合には、照
明領域が走査方向と直角な方向に細長い形状をしている
ために、光源に許容される大きさは方向によって違って
おり、一般には走査方向について、より小さな光源が求
められる。

【００１１】図３に示した照明光学系のフライアイミラ
ーは、第一ミラーが円弧状であり、第二ミラーが正方形
に近い矩形の小ミラーの集合体により構成され、更にそ
れぞれが偏心しているという非常に複雑な形状を有して
いる。これは、「照明領域の大きさ×照明ＮＡ」の値に
余裕のある走査方向と直角な方向のマージンを走査方向
に振り分けるためである。こうすることにより、直径３
００μｍ程度の光源でも効率的な照明の実現を可能にし
ている。

【００１２】このような形状のミラーを作製することは
容易ではない。しかし、仮に光源が十分に小さければ、
前記ミラーによる振り分けが必要なくなり、フライアイ
ミラーを構成する小ミラーの偏心が必要なくなる。従っ
て、フライアイミラーの形状を単純にすることができ、
ミラーの製造が容易になる。図２に示したような光学系
において、スリット幅１．５ｍｍ、照明ＮＡ０．０６の
照明が行われるとすると、光源の径が５０μm程度より
小さければ略点光源とみなすことができ、フライアイミ
ラーに関する前記利点が得られることになる。

【００１３】第二には、励起用レーザー光源の出力と最
大の変換効率が得られるレーザー光の照射強度による制
約である。利用する軟Ｘ線を高い変換効率で得るには、
その波長の軟Ｘ線を効率よく輻射する温度のプラズマを
生成することが望ましい。そのためには、標的に対して
最適な単位面積あたりの照射強度での照射が必要であ
る。従って、励起用レーザー光の１パルスあたりの出力
があるエネルギーであった場合、最適な照射強度を達成
するための照射面積が決定される。この照射面積は多く
の場合、生成されるプラズマの径にほぼ等しいものであ
る。

【００１４】これら２つの制約から、軟Ｘ線縮小投影露
光装置の軟Ｘ線源として用いるプラズマを励起するレー
ザー光源として、従来の固体レーザーあるいはエキシマ
レーザーのような大きな出力を有するパルスレーザー光
源単体を用いた場合、目的とする波長の軟Ｘ線の最も効
率的な利用が常に達成できる訳ではないのである。レー
ザープラズマを生成する場合、少しでも多くの軟Ｘ線量
を得るために、励起用のレーザー光源は、最大の出力で
発振がなされる。この最大の出力を得る際、固体レーザ
ーやエキシマレーザーではパルスエネルギーと繰り返し
周波数は、ある値にほぼ固定されている。そのため、固
定値以外の条件ではレーザーの時間平均出力は低下して
しまう問題がある。この最大の出力を得る条件では、１
パルスのエネルギーが規定されてしまうため、目的とす
る温度のプラズマを生成するのに適した単位面積当たり
の照射強度で照射を行いたい場合でも、照射面積を自由
に選ぶことはできない。照射面積は、プラズマの大きさ
にほぼ一致するから、光源の大きさを自由には選択でき
ないのである。プラズマの大きさが照明に適した光源の
大きさを上回った場合には、変換効率の最適化を犠牲に
して照射強度を上げるか、発生した軟Ｘ線の照明への効
率的利用を犠牲にして照射面積を大きくしなければなら
なかった。

【００１５】また、目的とする波長域の軟Ｘ線への変換
効率を最適化することは、それ以外の波長の軟Ｘ線の輻
射量を相対的に減少させることになる。この軟Ｘ線は反
射鏡等に吸収されて熱に変わり、反射鏡に熱変形を引き
起こす。反射鏡の変形は装置全体の処理速度を低下させ
る恐れがあるため、利用しない波長の軟Ｘ線はできるだ
け少ないことが望まれる。

【００１６】よって本発明は、目的とする波長の軟Ｘ線
を効率よく発生することが可能なＸ線発生装置を得るこ
とを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】そこで本発明は第１に
「パルスレーザー光を照射する複数のレーザー光源と、
前記パルスレーザー光を減圧された容器内の標的に集光
することにより該標的を構成する材料をプラズマ化し、
該プラズマから輻射される軟Ｘ線を利用する軟Ｘ線発生
装置において、前記複数のレーザー光源の各々の光源は
前記生成するプラズマの電子温度が約２０ｅＶ〜１００
ｅＶになる条件に制御され照射可能であることを特徴と
する軟Ｘ線発生装置（請求項１）」を提供する。第２に
「前記制御を行う制御機構を備えたことを特徴とする請
求項１に記載の軟Ｘ線発生装置（請求項２）」を提供す
る。第３に「前記制御は、前記各レーザー光源毎に照射
のタイミングを調整し前記照射に関わる前記レーザー光
源の数を制御するものであることを特徴とする請求項１
又は２に記載の軟Ｘ線発生装置（請求項３）」を提供す
る。第４に「前記制御は、前記各レーザー光源毎のパル
スレーザー光のエネルギー強度を調整する制御を有する
ことを特徴とする請求項１又は２又は３に記載の軟Ｘ線
発生装置（請求項４）」を提供する。第５に「前記制御
は、使用するレーザー光源を前記複数のレーザー光源の
中から選択して照射する制御を有することを特徴とする
請求項１又は２又は３又は４に記載の軟Ｘ線発生装置
（請求項５）」を提供する。第６に「前記制御は、前記
軟Ｘ線の発生時に前記各々のレーザー光源の出力が最大
の時間平均出力又は該出力に近似する出力で駆動するよ
うに調整する制御を有するものであることを特徴とする
請求項１又は２又は３又は４又は５に記載の軟Ｘ線発生
装置（請求項６）」を提供する。第７に「前記標的に照
射する前記パルスレーザー光の照射強度は、１０¹⁰〜１
０¹¹Ｗ／ｃｍ²であることを特徴とする請求項１又は２
又は３又は４又は５又は６に記載の軟Ｘ線発生装置（請
求項７）」を提供する。第８に「前記複数のレーザー光
源は、ファイバーアンプまたはファイバーレーザーによ
り構成されることを特徴とする請求項１又は２又は３又
は４又は５又は６又は７に記載の軟Ｘ線発生装置（請求
項８）」を提供する」。第９に「複数のレーザー光源か
ら照射されるレーザー光を標的に照射しプラズマを発生
させ該プラズマから軟Ｘ線を輻射させる軟Ｘ線の発生方
法において、前記複数のレーザー光源の各々のレーザー
光源からの前記標的への照射を前記各々のレーザー光源
毎に異なる制御で行い、発生するプラズマの温度を約２
０ｅＶ〜１００ｅＶにすることを特徴とする軟Ｘ線の発
生方法（請求項９）」を提供する。第１０に「パルスレ
ーザー光を照射する複数のレーザー光源と、前記各々の
レーザー光源の照射条件を制御し前記パルスレーザー光
を減圧された容器内の標的に集光することにより電子温
度が約２０ｅＶ〜１００ｅＶのプラズマを発生させ該プ
ラズマから軟Ｘ線を輻射する軟Ｘ線発生装置を備えるこ
とを特徴とする軟Ｘ線露光装置（請求項１０）」を提供
する。

【００１８】

【実施例】図１に本発明に関わる軟Ｘ線発生装置の一実
施例の概略の構成図を示す。本実施例は、本発明に関わ
る軟Ｘ線発生装置を軟Ｘ線縮小投影露光装置の照明光学
系である平行軟Ｘ線光束発生部分に用いた例である。排
気装置１５によって、１Ｔｏｒｒ以下の圧力にまで排気
された真空容器１４の内部には、標的となるクリプトン
（Ｋｒ）ガス（不図示）を噴出するノズル１９が配置さ
れている。

【００１９】本実施例の装置が有する光源は、１つの光
源でファイバーアンプを計１００本有するものである。
そして、これらの１００本のファイバーアンプは、１０
本ずつ束ねられた１０組のファイバー群１１を形成して
いる。このようなファイバー群１１は、ノズル１９の軸
を取り囲むように配置されてる。図１では、２つのファ
イバー群１１を備えた装置を示している。

【００２０】ノズル１９から噴出したクリプトンガス
は、断熱膨張によって急速に冷えるため凝縮してクラス
ターを形成する。このクラスターにファイバーアンプ１
０からのレーザー光を照射することによって、プラズマ
２０を生成する。このプラズマ２０からは軟Ｘ線が輻射
される。ファイバーアンプ１０は、５０μｍのコア径を
有し、マルチモードで発振しており、１本あたりの出力
光はエネルギーが１ｍＪ／ｓｈｏｔ、パルス持続時間は
５ｎｓ、繰り返し周波数は６０ｋＨｚである。よって、
１００本のファイバー群１１では、６ｋＷの平均出力を
有している。

【００２１】ファイバーアンプが１０本ずつ束ねられた
ファイバー群１１において、各ファイバーアンプ１０か
ら出射するレーザー光は、各出射端面に取り付けられた
微小レンズによってファイバー群毎に平行光にされる。
そして平行光は、ノズル１９から噴出したガスに集光さ
れる。集光される領域は直径が５０μｍの領域とした。

【００２２】それぞれのファイバー群１１中の各々のフ
ァイバーアンプ１０の発振のタイミングは、各々順次ず
らして設定されているが、各ファイバー群１１相互で
は、同じタイミングで発振するように制御装置１２，１
３によってコントロールされている。本実施例では、制
御装置１２は各ファイバーアンプ１０の制御を、制御装
置１３は各ファイバー群１１の制御を行うものである。

【００２３】よって、標的のクリプトンガスには、１０
ｍＪのパルス光が６００ｋＨｚの繰り返し周波数で照射
されているのと同様の照射がなされる。このときの照射
強度は、１０¹¹W／ｃｍ²程度であり、これによって電子
温度が３０ｅＶ程度のプラズマが形成される。また、励
起用のレーザー光の照射領域は、直径５０μｍの領域で
あるため、プラズマ２０の大きさは、略これに等しくな
る。そしてプラズマ２０から輻射された軟Ｘ線は、表面
に波長１３ｎｍの軟Ｘ線に対して高い反射率を有する多
層膜が形成された回転放物面鏡１６で反射し、反射光は
軟Ｘ線平行光束１を形成する。

【００２４】本実施例では出力６ｋＷの励起光源によ
り、直径５０μｍ、電子温度約３０ｅＶのプラズマを効
率よく生成することができた。そしてこのプラズマは、
直径が５０μｍであるため、図２のような照明光学系を
用いた際、容易に製造できる形状のフライアイミラーで
効率のよい縮小投影に適した照明を実現することができ
た。

【００２５】また、電子温度が３０ｅＶ程度のプラズマ
は、波長１３ｎｍの軟Ｘ線の輻射効率が高いため、この
領域の軟Ｘ線を効率よく輻射することができた。更に、
投影露光に利用しないそれ以外の波長の輻射効率が低い
ため、放物面鏡１６等に対する熱的な負荷を小さくする
ことができた。また、本実施例では、パルスレーザー光
源をファイバーアンプまたはファイバーレーザーで構成
しているがこのような構成にすれば、それらを個々に、
あるいは数本〜数十本のファイバー群毎に発振時刻を制
御することが可能であり、照射の制御には好ましい構成
である。

【００２６】また、ファイバーアンプまたはファイバー
レーザーから出射するパルス光がシングルモードとなる
ように制御すれば、その出射光を非常に小さい領域に集
光することができる。従って、レーザー光の集光径をよ
り小さくすることが可能となり、発生するプラズマの径
をより小さくすることが可能になる。本実施例では、励
起用のパルスレーザー光源としてファイバーアンプを用
いてるが、光源は、これに限るものではない。本発明に
使用可能なパルスレーザー光源は、他のパルスレーザー
光源を複数用いたものでもよく、エキシマレーザーや固
体レーザーあるいはファイバーの両端にミラーあるいは
グレーティングを配置することによって共振器構造を形
成したファイバーレーザーを用いてもよい。

【００２７】また本実施例では、プラズマから輻射され
た軟Ｘ線は、回転放物面鏡で平行光束に変換している
が、軟Ｘ線縮小投影露光装置の照明光学系の構成によっ
ては、収束あるいは発散光束を形成してもよい。更に本
実施例では、クリプトンガスを真空中に噴出し標的とし
ているが、標的となるガスの種類はこれに限るものでは
なく、他のガスを真空中に噴出したものを用いてもよ
い。他のガスとしては、キセノンガスや酸素ガス及びこ
れらを含む化合物ガスが挙げられる。

【００２８】また、標的の状態もガス状に限るものでは
なく、固体や液体でもよい。更に、標的の形状は細線状
や薄膜状、微粒子状、液滴状等他の形状でもよい。但
し、照射されるパルスレーザー光を無駄なく吸収できる
ことが望ましい。また、真空容器１４内の窓１８とプラ
ズマ２０との間にレーザー光が透過可能な遮蔽部材（不
図示）を設置してもよい。これによりプラズマの発生に
伴うデブリによる窓１８の汚染を防止することができ
る。更に遮蔽部材は移動可能にすることにより、遮蔽部
材の汚染領域を非汚染領域に容易に交換することが可能
になる。

【００２９】本発明の装置を用いた場合、１０〜１５ｎ
ｍ程度の波長領域の軟Ｘ線の輻射効率が高くなる。従っ
て、図２に示したような光学系に適した軟Ｘ線光源とし
て、電子温度が２０〜１００ｅＶ、直径５０μmのプラ
ズマを効率よく生成することができる。しかし、他の用
途の軟Ｘ線発生装置として用いる場合には、プラズマ
は、前記温度、大きさに限定されるものではない。その
用途に適した温度、大きさのプラズマを生成することも
可能である。またプラズマの大きさは、パルスレーザー
光照射時の集光径を変化させることによって、ある程度
制御することができる。またプラズマの温度は、同時刻
に照射されるパルスレーザー光のエネルギーを変化させ
れば制御可能である。この同時刻に照射されるレーザー
光のエネルギーは、ファイバー群を形成するファイバー
アンプの数を変えてファイバー群ごとに照射の時刻を制
御すればよく、ファイバーアンプ全体の時間的平均出力
を低下させることなく、プラズマの励起を行うことがで
きる。

【００３０】

【発明の効果】本発明によれば、複数のレーザー光源を
有するＸ線発生装置において、波長１３ｎｍ付近の軟Ｘ
線の変換効率が向上する。また、１３ｎｍ付近以外の波
長の光を相対的に減らすことが可能なので、ミラーの損
傷をより軽減することができ、ミラーの交換に伴う作業
効率の悪化や性能の低下、コストの上昇を軽減すること
ができる。

【００３１】また本発明の軟Ｘ線発生装置を用いパルス
光を照射する際の照射強度を１０¹⁰〜１０¹¹Ｗ／ｃｍ²
に制御することにより、波長１３ｎｍ付近の軟Ｘ線への
変換効率をより高めることができる。従って、本発明の
軟Ｘ線発生装置を露光装置に用いた場合、露光に必要な
波長の軟Ｘ線を従来よりも効率よく多く発生させること
ができるので、露光に要する時間を短縮することができ
る。よって、露光装置の露光処理能力を高くすることが
できる。

【００３２】更に、直径５０μｍ以下のプラズマを生成
可能なので、従来のような製造し難い反射鏡を用いる必
要がない。従って、加工や製造の容易な形状の反射鏡を
用いて発生した軟Ｘ線を効率よく照明に用いることがで
きる。よって、従来の性能を落とすことなく、低コスト
で容易にＸ線発生装置やこれを備えた露光装置を製造す
ることが可能になる。

【００３３】更に、同時に発振するパルスレーザー光源
を選択することにより、パルスレーザー光源全体として
の出力を低下させることなく、標的に同時刻に照射する
パルスレーザー光のエネルギーを変化させることができ
る。これにより発生するプラズマの温度の選択が可能に
なり、制御し易いＸ線装置が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】は、本発明の実施例を示す図である。

【図２】は、軟Ｘ線による照明及び縮小投影露光光学系
の例である。

【図３】は、軟Ｘ線による照明光学系に用いられるフラ
イアイミラーの例である。

【符号の説明】

１・・・軟Ｘ線平行光束２・・・２−ａ，２−ｂフライアイミラー３・・・偏向ミラー４・・・コンデンサーミラー５・・・マスク６・・・マスクステージ７・・・投影光学系８・・・ウエハ９・・・ウエハステージ１０・・・ファイバーアンプ１１・・・ファイバー群１２、１３・・・ファイバーアンプ制御装置１４・・・真空容器１５・・・排気装置１６・・・回転放物面鏡１７・・・レンズ１８・・・窓１９・・・ノズル２０・・・プラズマ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パルスレーザー光を照射する複数のレー
ザー光源と、前記パルスレーザー光を減圧された容器内
の標的に集光することにより該標的を構成する材料をプ
ラズマ化し、該プラズマから輻射される軟Ｘ線を利用す
る軟Ｘ線発生装置において、前記複数のレーザー光源の
各々の光源は前記生成するプラズマの電子温度が約２０
ｅＶ〜１００ｅＶになる条件に制御され照射可能である
ことを特徴とする軟Ｘ線発生装置。
【請求項２】前記制御を行う制御機構を備えたことを
特徴とする請求項１に記載の軟Ｘ線発生装置。
【請求項３】前記制御は、前記各レーザー光源毎に照
射のタイミングを調整し前記照射に関わる前記レーザー
光源の数を制御するものであることを特徴とする請求項
１又は２に記載の軟Ｘ線発生装置。
【請求項４】前記制御は、前記各レーザー光源毎のパ
ルスレーザー光のエネルギー強度を調整する制御を有す
ることを特徴とする請求項１又は２又は３に記載の軟Ｘ
線発生装置。
【請求項５】前記制御は、使用するレーザー光源を前
記複数のレーザー光源の中から選択して照射する制御を
有することを特徴とする請求項１又は２又は３又は４に
記載の軟Ｘ線発生装置。
【請求項６】前記制御は、前記軟Ｘ線の発生時に前記
各々のレーザー光源の出力が最大の時間平均出力又は該
出力に近似する出力で駆動するように調整する制御を有
するものであることを特徴とする請求項１又は２又は３
又は４又は５に記載の軟Ｘ線発生装置。
【請求項７】前記標的に照射する前記パルスレーザー
光の照射強度は、１０¹⁰〜１０¹¹Ｗ／ｃｍ²であること
を特徴とする請求項１又は２又は３又は４又は５又は６
に記載の軟Ｘ線発生装置。
【請求項８】前記複数のレーザー光源は、ファイバー
アンプまたはファイバーレーザーにより構成されること
を特徴とする請求項１又は２又は３又は４又は５又は６
又は７に記載の軟Ｘ線発生装置。
【請求項９】複数のレーザー光源から照射されるレー
ザー光を標的に照射しプラズマを発生させ該プラズマか
ら軟Ｘ線を輻射させる軟Ｘ線の発生方法において、前記
複数のレーザー光源の各々のレーザー光源からの前記標
的への照射を前記各々のレーザー光源毎に異なる制御で
行い、発生するプラズマの温度を約２０ｅＶ〜１００ｅ
Ｖにすることを特徴とする軟Ｘ線の発生方法。
【請求項１０】パルスレーザー光を照射する複数のレ
ーザー光源と、前記各々のレーザー光源の照射条件を制
御し前記パルスレーザー光を減圧された容器内の標的に
集光することにより電子温度が約２０ｅＶ〜１００ｅＶ
のプラズマを発生させ該プラズマから軟Ｘ線を輻射する
軟Ｘ線発生装置を備えることを特徴とする軟Ｘ線露光装
置。