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JP2001031784A - Prepreg and manufacture of printed wiring board - Google Patents

Prepreg and manufacture of printed wiring board

Info

Publication number
JP2001031784A
JP2001031784A JP11204521A JP20452199A JP2001031784A JP 2001031784 A JP2001031784 A JP 2001031784A JP 11204521 A JP11204521 A JP 11204521A JP 20452199 A JP20452199 A JP 20452199A JP 2001031784 A JP2001031784 A JP 2001031784A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
prepreg
resin
phenolic hydroxyl
hydroxyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11204521A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toyofumi Asano
豊文 浅野
Takumi Kobayashi
小林  巧
Masahiro Imaizumi
雅裕 今泉
Haruki Niimoto
昭樹 新本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to JP11204521A priority Critical patent/JP2001031784A/en
Publication of JP2001031784A publication Critical patent/JP2001031784A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a prepreg having a low moisture absorption by bringing a sheet of a resin composition containing an epoxy resin, a curing agent, and a phenolic-hydroxyl-containg polyamide resin and/or a phenolic-hydroxyl- containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer into tight contact with a substrate to be thermally fused and impregnated. SOLUTION: The resin composition comprises an epoxy resin (A) such as a polyfunctional epoxy resin, a curing agent (B) selected from among acid anhydrides, amines, phenols, etc., and a phenolic-hydroxyl-containing polyamide resin (C), and/or a phenolic-hydroxyl-containing polyamide-polybutadiene- acrylonitrile copolymer (D). The equivalent ratio of ingredient B to epoxy groups of ingredient A is 0.3 to 2.0, and the sum of ingredients C and D accounts for 10 to 90 wt.% of the composition. A sheet formed of the composition is brought into contact with one or both side, of a substrate such as a woven or nonwoven aramid fabric to be thermally fused and impregnated, thus giving a prepreg.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリプレグおよび
プリント配線基板の製造方法に関し、さらに詳しくは、
半導体実装配線板、プリント配線基板の絶縁層形成用材
料として使用するプリプレグ、さらに、各種電子機器に
用いるプリント配線基板の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a prepreg and a printed wiring board, and more particularly, to a method for manufacturing a prepreg and a printed wiring board.
The present invention relates to a semiconductor mounting wiring board, a prepreg used as a material for forming an insulating layer of a printed wiring board, and a method of manufacturing a printed wiring board used for various electronic devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線基板、半導体実装配線板の
絶縁層形成用材料として使用するプリプレグは、従来エ
ポキシ樹脂、及び硬化剤を主成分としてなるワニスをガ
ラス織布やアラミド不織布に含浸した後、乾燥させて得
られる
2. Description of the Related Art A prepreg used as a material for forming an insulating layer of a printed wiring board and a semiconductor mounting wiring board is made by impregnating a varnish mainly composed of a conventional epoxy resin and a curing agent into a glass woven fabric or an aramid nonwoven fabric. Obtained by drying

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は新規なプリプ
レグの製法の開発を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to develop a novel method for producing a prepreg.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは前記した課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、生産性に優れる
プリプレグ及びプリント配線基板の製造方法を完成し
た。即ち、本発明は(1)エポキシ樹脂(a)、硬化剤
(b)、並びにフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂
(c)及び/又はフェノール性水酸基含有ポリアミド−
ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体(d)を含
有するエポキシ樹脂組成物のシートを基材に密着させ、
次いで熱融着、含浸させてなることを特徴とするプリプ
レグの製造方法、(2)基材が、ガラス織布、ガラス不
織布、全芳香族ポリエステル不織布、アラミド織布およ
びアラミド不織布からなる群から選択された少なくとも
1種である(1)記載のプリプレグの製造方法、
The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, completed a method of manufacturing a prepreg and a printed wiring board having excellent productivity. That is, the present invention provides (1) an epoxy resin (a), a curing agent (b), and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) and / or a phenolic hydroxyl group-containing polyamide.
A sheet of an epoxy resin composition containing a polybutadiene-acrylonitrile copolymer (d) is adhered to a substrate,
Then, a method for producing a prepreg, which is characterized by being heat-sealed and impregnated. (2) The substrate is selected from the group consisting of glass woven fabric, glass nonwoven fabric, wholly aromatic polyester nonwoven fabric, aramid woven fabric, and aramid nonwoven fabric The method for producing a prepreg according to (1), which is at least one of the following:

【0005】(3)基材が、アラミド織布およびアラミ
ド不織布からなる群から選択された少なくとも1種であ
る(1)に記載のプリプレグの製造方法、(4)(1)
乃至(3)の何れか1項に記載のプリプレグの少なくと
も一方の面に金属箔を熱圧着する工程、回路パターンを
形成する工程を含んでなることを特徴とするプリント配
線基板の製造方法、(5)エポキシ樹脂(a)、硬化剤
(b)、並びにフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂
(c)及び/又はフェノール性水酸基含有ポリアミド−
ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体(d)を含
有するエポキシ樹脂組成物のシート、に関する。
(3) The method for producing a prepreg according to (1), wherein the base material is at least one selected from the group consisting of aramid woven fabric and aramid nonwoven fabric.
A method of manufacturing a printed wiring board, comprising: a step of thermocompression bonding a metal foil to at least one surface of the prepreg according to any one of (3) to (3); and a step of forming a circuit pattern. 5) Epoxy resin (a), curing agent (b), and phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) and / or phenolic hydroxyl group-containing polyamide
A sheet of an epoxy resin composition containing the polybutadiene-acrylonitrile copolymer (d).

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明で使用するエポキシ樹脂組
成物はエポキシ樹脂(a)、硬化剤(b)、並びにフェ
ノール性水酸基含有ポリアミド樹脂(c)及び/又はフ
ェノール性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエン−ア
クリロニトリル共重合体(d)を含有する。エポキシ樹
脂組成物は、溶融後プリプレグ基材内部まで含浸しなけ
ればならず、一方でシートとしたときにタック性が有っ
てはならないので適当な軟化点(例えば80から130
℃)を有することが好ましい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The epoxy resin composition used in the present invention comprises an epoxy resin (a), a curing agent (b), and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) and / or a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene. It contains an acrylonitrile copolymer (d). The epoxy resin composition must be impregnated into the interior of the prepreg base material after being melted, and must not have tackiness when formed into a sheet, so that it has an appropriate softening point (for example, 80 to 130).
C).

【0007】本発明で用いられるエポキシ樹脂(a)
は、例えばポリフェノール化合物のグリシジルエーテル
化物である多官能エポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂の
グリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂、脂
環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジル
エステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ
樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポ
キシ樹脂等があげられるが、これらに限定されるもので
はない。ここで、多官能エポキシ樹脂とはグリシジル基
を2つ以上有するエポキシ樹脂のことである。
The epoxy resin (a) used in the present invention
Are, for example, a polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a polyphenol compound, a polyfunctional epoxy resin which is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, a glycidyl ester-based epoxy resin, and glycidylamine. Examples include, but are not limited to, epoxy resins and epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols. Here, the polyfunctional epoxy resin is an epoxy resin having two or more glycidyl groups.

【0008】ポリフェノール類化合物のグリシジルエー
テル化物である多官能エポキシ樹脂としては、例えばビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール
S、4,4’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビ
スフェノールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメ
チルビスフェノールF、ジメチルビスフェノールF、テ
トラメチルビスフェノールS、ジメチルビスフェノール
S、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル
−4,4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロ
キシフェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,
2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブ
チルフェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−
メチル−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒ
ドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有する
フェノール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフ
ルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フ
ェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物の
グリシジルエーテル化物である多官能エポキシ樹脂が挙
げられる。
Examples of polyfunctional epoxy resins which are glycidyl etherified compounds of polyphenols include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,4'-biphenylphenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, and tetramethylbisphenol F. , Dimethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol, dimethyl-4,4'-biphenylphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1 , 1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,
2′-methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene-bis (3-
Methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone, pyrogallol, phenols having a diisopropylidene skeleton, phenols having a fluorene skeleton such as 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene, phenol And polyfunctional epoxy resins which are glycidyl etherified products of polyphenol compounds such as polybutadiene.

【0009】各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル
化物である多官能エポキシ樹脂としては、例えばフェノ
ール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェ
ノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールA、
ビスフェノールF、ビスフェノールS、ナフトール類等
の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリ
レン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペン
タジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニ
ル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格
含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂
のグリシジルエーテル化物が挙げられる。
Examples of polyfunctional epoxy resins which are glycidyl etherified compounds of various novolak resins include, for example, phenol, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, bisphenol A,
Novolak resins, phenol novolak resins containing a xylylene skeleton, phenol novolak resins containing a dicyclopentadiene skeleton, phenol novolak resins containing a biphenyl skeleton, phenol novolak resins containing a fluorene skeleton, etc. made from various phenols such as bisphenol F, bisphenol S, and naphthols. Examples include glycidyl etherified products of various novolak resins.

【0010】脂環式エポキシ樹脂としては、例えばシク
ロヘキサン等の脂肪族骨格を有する脂環式エポキシ樹脂
があげられ、脂肪族系エポキシ樹脂としては、例えば
1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、
ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール等の多
価アルコールのグリシジルエーテル類があげられる。
Examples of the alicyclic epoxy resin include an alicyclic epoxy resin having an aliphatic skeleton such as cyclohexane. Examples of the aliphatic epoxy resin include 1,4-butanediol and 1,6-hexane. Diol,
Glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as polyethylene glycol and pentaerythritol are mentioned.

【0011】複素環式エポキシ樹脂としては、例えばイ
ソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素
環式エポキシ樹脂があげられ、グリシジルエステル系エ
ポキシ樹脂としては、例えばヘキサヒドロフタル酸ジグ
リシジルエステル等のカルボン酸類からなるエポキシ樹
脂があげられ、グリシジルアミン系エポキシ樹脂として
は、例えばアニリン、トルイジン等のアミン類をグリシ
ジル化したエポキシ樹脂があげられる。
The heterocyclic epoxy resin includes, for example, a heterocyclic epoxy resin having a heterocyclic ring such as an isocyanuric ring and a hydantoin ring. The glycidyl ester-based epoxy resin includes, for example, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester and the like. Examples of the epoxy resin include carboxylic acids. Examples of the glycidylamine-based epoxy resin include epoxy resins obtained by glycidylation of amines such as aniline and toluidine.

【0012】ハロゲン化フェノール類をグリシジル化し
たエポキシ樹脂としては、例えばブロム化ビスフェノー
ルA、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノ
ールS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレ
ゾールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル
化ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類をグリ
シジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。
Examples of epoxy resins obtained by glycidylation of halogenated phenols include brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated phenol novolak, brominated cresol novolak, chlorinated bisphenol S, and chlorinated bisphenol. An epoxy resin obtained by glycidylation of a halogenated phenol such as A is exemplified.

【0013】これらエポキシ樹脂のうち、どのエポキシ
樹脂を用いるかは要求される特性によって適宜選択され
るが、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェ
ノールS、テトラメチル−4,4’−ビフェノール、1
−(4−ヒドロキシフェニル)−2−[4−(1,1−
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)エチル)フェニル]
プロパン、レゾルシノール、1,1−ジ−4−ヒドロキ
シフェニルフルオレンのグリシジルエーテル化物、フェ
ノール、クレゾール類、ビスフェノールA、ビスフェノ
ールF、ビスフェノールS、ナフトール類を原料とする
ノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラ
ック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノ
ボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラッ
ク樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂
等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物、シ
クロヘキサン環を有する脂環式エポキシ樹脂、1,6−
ヘキサンジオール、ポリエチレングリコールのグリシジ
ルエーテル類、トリグリシジルイソシアヌレート、ヘキ
サヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロ
フタル酸ジグリシジルエステル、N,N−ジグリシジル
アニリン、N,N−ジグリシジルトルイジン、ブロム化
ビスフェノールA、ブロム化フェノールノボラック、ブ
ロム化クレゾールノボラックのグリシジル化物が好まし
い。また必要に応じて他のエポキシ樹脂を混合して使用
することも出来る。
[0013] Of these epoxy resins, which epoxy resin to use is appropriately selected depending on the required characteristics. However, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, tetramethyl-4,4'-biphenol,
-(4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-
Bis- (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl]
Propane, resorcinol, glycidyl etherified product of 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene, phenol, cresols, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, a novolak resin made from naphthols, a phenol novolak resin containing a xylylene skeleton, Glycidyl etherified products of various novolak resins such as a phenol novolak resin containing a dicyclopentadiene skeleton, a phenol novolak resin containing a biphenyl skeleton, and a phenol novolak resin containing a fluorene skeleton; an alicyclic epoxy resin having a cyclohexane ring;
Hexanediol, glycidyl ethers of polyethylene glycol, triglycidyl isocyanurate, diglycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl tetrahydrophthalate, N, N-diglycidylaniline, N, N-diglycidyl toluidine, brominated bisphenol A And glycidyl brominated phenol novolak and brominated cresol novolak are preferred. If necessary, other epoxy resins can be mixed and used.

【0014】本発明で用いられる硬化剤(b)として
は、例えば酸無水物、アミン類、フェノール類、イミダ
ゾール類、ジヒドラジン類、ルイス酸、ブレンステッド
酸塩類、ポリメルカプトン類、イソシアネート類、ブロ
ックイソシアネート類等があげられる。
The curing agent (b) used in the present invention includes, for example, acid anhydrides, amines, phenols, imidazoles, dihydrazines, Lewis acids, Bronsted acid salts, polymercaptons, isocyanates, And block isocyanates.

【0015】酸無水物としては、例えばフタル酸無水
物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコ
ール無水トリメリット酸無水物、ビフェニルテトラカル
ボン酸無水物等の芳香族カルボン酸無水物、アゼライン
酸、セバシン酸、ドデカン二酸等の脂肪族カルボン酸の
無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフ
タル酸無水物、ナジック酸無水物、ヘット酸無水物、ハ
イミック酸無水物等の脂環式カルボン酸無水物が挙げら
れる。
Examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, ethylene glycol trimellitic anhydride, biphenyltetracarboxylic anhydride and the like. Aromatic carboxylic acid anhydrides, azelaic acid, sebacic acid, anhydrides of aliphatic carboxylic acids such as dodecanedioic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, nadic acid anhydride, heptic anhydride, Alicyclic carboxylic acid anhydrides such as hymic acid anhydrides are exemplified.

【0016】アミン類としては、例えばジアミノジフェ
ニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォン、ジアミノ
ジフェニルエーテル、p−フェニレンジアミン、m−フ
ェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、1,5−
ジアミノナフタレン、m−キシリレンジアミン等の芳香
族アミン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イ
ソフォロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルジ
シクロヘキシル)メタン、ポリエーテルジアミン等の脂
肪族アミン、ジシアンジアミド、1−(o−トリル)ビ
グアニド等のグアニジン類が挙げられる。
Examples of the amines include diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylether, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 1,5-
Aromatic amines such as diaminonaphthalene and m-xylylenediamine; aliphatic amines such as ethylenediamine, diethylenediamine, isophoronediamine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane and polyetherdiamine; dicyandiamide; guanidines such as (o-tolyl) biguanide;

【0017】フェノール類としては、例えばビスフェノ
ールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,
4’−ビフェニルフェノール、テトラメチルビスフェノ
ールA、ジメチルビスフェノールA、テトラメチルビス
フェノールF、ジメチルビスフェノールF、テトラメチ
ルビスフェノールS、ジメチルビスフェノールS、テト
ラメチル−4,4’−ビフェノール、ジメチル−4,
4’−ビフェニルフェノール、1−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−2−[4−(1,1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)エチル)フェニル]プロパン、2,2’−
メチレン−ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフ
ェノール)、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル
−6−tert−ブチルフェノール)、トリスヒドロキ
シフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、
ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノ
ール類、1,1−ジ−4−ヒドロキシフェニルフルオレ
ン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、フェノー
ル化ポリブタジエン、フェノール、クレゾール類、エチ
ルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノ
ール類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフ
ェノールS、ナフトール類等の各種フェノールを原料と
するノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノ
ボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノー
ルノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボ
ラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック
樹脂等の各種ノボラック樹脂、ブロム化ビスフェノール
A、ブロム化ビスフェノールF、ブロム化ビスフェノー
ルS、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾ
ールノボラック、クロル化ビスフェノールS、クロル化
ビスフェノールA等のハロゲン化フェノール類が挙げら
れる。
Examples of phenols include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, 4,
4′-biphenylphenol, tetramethylbisphenol A, dimethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, dimethylbisphenol F, tetramethylbisphenol S, dimethylbisphenol S, tetramethyl-4,4′-biphenol, dimethyl-4,
4′-biphenylphenol, 1- (4-hydroxyphenyl) -2- [4- (1,1-bis- (4-hydroxyphenyl) ethyl) phenyl] propane, 2,2′-
Methylene-bis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol), trishydroxyphenylmethane, resorcinol, hydroquinone,
Pyrogallol, phenols having a diisopropylidene skeleton, phenols having a fluorene skeleton such as 1,1-di-4-hydroxyphenylfluorene, phenolated polybutadiene, phenol, cresols, ethylphenols, butylphenols, octylphenols, Novolak resin, phenol novolak resin containing a xylylene skeleton, phenol novolak resin containing a dicyclopentadiene skeleton, phenol novolak resin containing a biphenyl skeleton, phenol novolak containing a fluorene skeleton, made of various phenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and naphthols Various novolak resins such as resin, brominated bisphenol A, brominated bisphenol F, brominated bisphenol S, brominated bisphenol A Nord novolac, brominated cresol novolak, chlorinated bisphenol S, halogenated phenols such as chlorinated bisphenol A and the like.

【0018】イミダゾール類としては、例えば2−メチ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウン
デシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、
2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル
−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチ
ルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダ
ゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾー
ル、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、
2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール
(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ
−6(2’−ウンデシルイミダゾール(1’))エチル
−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−エチ
ル,4−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−ト
リアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダ
ゾール(1’))エチル−s−トリアジン・イソシアヌ
ル酸付加物、2-メチルイミダゾールイソシアヌル酸の
2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル
酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチル
イミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−
5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェ
ニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾールの
各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール類とフ
タル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット
酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイ
ン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類が挙げられる。
Examples of imidazoles include 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole,
2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2 -Undecyl imidazole,
2,4-diamino-6 (2′-methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-undecylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, , 4-Diamino-6 (2′-ethyl, 4-methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-methylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine Isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid 2: 3 adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-
Various imidazoles of 5-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, and those imidazoles and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalene Salts with polycarboxylic acids such as dicarboxylic acid, maleic acid and oxalic acid are mentioned.

【0019】これら硬化剤のうち、どの硬化剤を用いる
かは接着剤に要求される特性によって適宜選択される
が、好ましくはフェノール類である。
Among these curing agents, which curing agent is used is appropriately selected according to the properties required for the adhesive, but phenols are preferred.

【0020】これら硬化剤(b)の使用量はエポキシ樹
脂(a)のエポキシ基に対する硬化剤の等量比において
0.3〜2.0の範囲で、好ましくは0.4〜1.6の
範囲で、更に好ましくは0.5〜1.3の範囲で用いら
れる。上記硬化剤は2種以上を混合して用いることもで
きる。
The amount of the curing agent (b) used is in the range of 0.3 to 2.0, preferably 0.4 to 1.6 in terms of the equivalent ratio of the curing agent to the epoxy group of the epoxy resin (a). It is used in the range, more preferably in the range of 0.5 to 1.3. The above curing agents can be used as a mixture of two or more kinds.

【0021】本発明ではフェノール性水酸基含有ポリア
ミド樹脂(c)及び/又はフェノール性水酸基含有ポリ
アミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体
(d)を使用する。これらはシートの形状を保持するた
め必要であり、添加することによりシートに十分な強度
とフレキシビリティを付与する。(c)と(d)を合わ
せた使用割合は、エポキシ樹脂組成物全体中、10〜9
0重量%、好ましくは20〜70重量%程度である。
In the present invention, a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) and / or a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (d) are used. These are necessary for maintaining the shape of the sheet, and when added, impart sufficient strength and flexibility to the sheet. The combined use ratio of (c) and (d) is 10 to 9 in the entire epoxy resin composition.
0% by weight, preferably about 20 to 70% by weight.

【0022】フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂
(c)は、例えば次の方法で合成できる。即ち、フェノ
ール性水酸基を有するジカルボン酸とフェノール性水酸
基を有しないジカルボン酸に対して過剰量のジアミンを
加え、これらを例えば、亜リン酸エステルとピリジン誘
導体の存在下に、N−メチル−2−ピロリドンによって
代表される有機溶媒中で窒素等の不活性雰囲気下にて加
熱攪拌することにより得ることができる。
The phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) can be synthesized, for example, by the following method. That is, an excess amount of diamine is added to a dicarboxylic acid having a phenolic hydroxyl group and a dicarboxylic acid not having a phenolic hydroxyl group, and these are added, for example, in the presence of a phosphite and a pyridine derivative to N-methyl-2- It can be obtained by heating and stirring in an organic solvent represented by pyrrolidone under an inert atmosphere such as nitrogen.

【0023】また、フェノール性水酸基含有ポリアミド
−ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体(d)
は、例えば次の方法で合成できる。即ち、フェノール性
水酸基を有するジカルボン酸を含有するジカルボン酸成
分に対して過剰量のジアミンを加え、これらを例えば、
亜リン酸エステルとピリジン誘導体の存在下で縮合剤を
使用して、N−メチル−2−ピロリドンによって代表さ
れる有機溶媒中で窒素等の不活性雰囲気下にて加熱攪
拌、縮合反応を行って、フェノール性水酸基を含有する
ポリアミドオリゴマーを生成させる。この結果、得られ
た両末端がアミノ基となったフェノール性水酸基含有ポ
リアミドオリゴマー溶液に、両末端にカルボキシル基を
もつポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体を添加
し、重縮合することにより得ることができる。また、こ
のジカルボン酸をジアミンに対して過剰にして、両末端
がカルボン酸基となった該ポリアミドを合成し、これに
対して両末端がアミノ基のポリブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体を使用してブロック化することもでき
る。更には、これらポリアミドまたはポリブタジエン−
アクリロニトリル共重合体の末端を変性して、ブロック
化できる官能基にすることも可能である。これ以外の官
能基の組み合わせとして、ビニル基と−NH基または−
SH基との組み合わせ等が挙げられる。この様に合成さ
れる該ブロック共重合体のポリアミド部分にフェノール
性水酸基を含有させるには、このジカルボン酸またはジ
アミン中にフェノール性水酸基を含有したジカルボン酸
またはフェノール性水酸基を含有したジアミンを含有さ
せて上記の縮重合を行うことにより可能である。
Also, a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (d)
Can be synthesized, for example, by the following method. That is, an excess amount of diamine is added to a dicarboxylic acid component containing a dicarboxylic acid having a phenolic hydroxyl group, for example,
Using a condensing agent in the presence of a phosphite and a pyridine derivative, heating and stirring and performing a condensation reaction in an organic solvent represented by N-methyl-2-pyrrolidone under an inert atmosphere such as nitrogen. To form a polyamide oligomer containing phenolic hydroxyl groups. As a result, it can be obtained by adding a polybutadiene-acrylonitrile copolymer having a carboxyl group at both ends to the obtained phenolic hydroxyl group-containing polyamide oligomer solution having amino groups at both ends and subjecting the solution to polycondensation. Further, the dicarboxylic acid was added to the diamine in excess to synthesize the polyamide in which both ends became a carboxylic acid group, and the both ends were blocked using a polybutadiene-acrylonitrile copolymer having amino groups at both ends. It can also be converted. Further, the polyamide or polybutadiene-
It is also possible to modify the terminal of the acrylonitrile copolymer into a functional group that can be blocked. Other combinations of functional groups include vinyl groups and -NH groups or-
A combination with an SH group and the like can be mentioned. In order to contain a phenolic hydroxyl group in the polyamide portion of the block copolymer synthesized in this manner, a dicarboxylic acid containing a phenolic hydroxyl group or a diamine containing a phenolic hydroxyl group is contained in the dicarboxylic acid or diamine. This is possible by conducting the above-mentioned condensation polymerization.

【0024】(c)及び(d)に用いられるフェノール
性水酸基を有するジカルボン酸としては、例えば5−ヒ
ドロキシイソフタル酸、4−ヒドロキシイソフタル酸、
2−ヒドロキシフタル酸、3−ヒドロキシフタル酸、2
−ヒドロキシテレフタル酸、フェノール性水酸基を有し
ないジカルボン酸としては、フタル酸、イソフタル酸、
テレフタル酸、ジカルボキシルナフタレン、コハク酸、
フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、1,3−シクロヘ
キサンジカルボン酸、4,4′−ジフェニルジカルボン
酸、3,3′−メチレン二安息香酸等が挙げられる。
The dicarboxylic acid having a phenolic hydroxyl group used in (c) and (d) includes, for example, 5-hydroxyisophthalic acid, 4-hydroxyisophthalic acid,
2-hydroxyphthalic acid, 3-hydroxyphthalic acid, 2
-Hydroxyterephthalic acid, dicarboxylic acids having no phenolic hydroxyl group include phthalic acid, isophthalic acid,
Terephthalic acid, dicarboxylic naphthalene, succinic acid,
Fumaric acid, glutaric acid, adipic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 4,4'-diphenyldicarboxylic acid, 3,3'-methylene dibenzoic acid and the like.

【0025】ジアミン成分としては、フェノール性水酸
基を含有するジアミンとして、3,3′−ジアミン−
4,4′−ジヒドロキシフェニルメタン、2,2−ビス
(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフロロ
ポロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシ
フェニル)ジフロロメタン、3,4−ジアミノ−1,5
−ベンゼンジオール、3,3′−ジヒドロキシ−4,
4′−ジアミノビスフェニル、3,3′−ジアミノ−
4,4′−ジヒドロキシビフェニル、2,2−ビス(3
−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ケトン、2,2−
ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)スルフィ
ド、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニ
ル)エーテル、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロ
キシフェニル)スルホン、2,2−ビス(3−アミノ−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3
−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェニル)メタン
等、フェノール性水酸基を含有しないジアミンとして、
3,3′−オキシジアニリン、3,4′−オキシジアニ
リン、4,4′−オキシジアニリン、ジアミノナフタレ
ン、ピペラジン、ヘキサネチレンジアミン、テトラメチ
レンジアミン、m−キシレンジアミン、4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノベンゾフェ
ノン、2,2′−ビス(4−アミノフェニル)プロパ
ン、3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、3,3′
−ジアミノジフェニル等が挙げられるが、本発明ではこ
れらに限定されるものではない。
As the diamine component, 3,3'-diamine-diamine containing a phenolic hydroxyl group is used.
4,4'-dihydroxyphenylmethane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) difluoromethane, 3,4-diamino -1,5
-Benzenediol, 3,3'-dihydroxy-4,
4'-diaminobisphenyl, 3,3'-diamino-
4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2-bis (3
-Amino-4-hydroxyphenyl) ketone, 2,2-
Bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfide, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) ether, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfone, 2,2 -Bis (3-amino-
4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3
-Hydroxy-4-aminophenyl) propane, 2,2
As a diamine containing no phenolic hydroxyl group, such as -bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) methane,
3,3'-oxydianiline, 3,4'-oxydianiline, 4,4'-oxydianiline, diaminonaphthalene, piperazine, hexanetylenediamine, tetramethylenediamine, m-xylenediamine, 4,4 ' -Diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminobenzophenone, 2,2'-bis (4-aminophenyl) propane, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,3 '
-Diaminodiphenyl and the like, but the present invention is not limited to these.

【0026】また、両末端に種々の官能基を持つポリブ
タジエン−アクリロニトリル共重合体は、Goodrich社か
らHycar CTBNとして市販されており、これらを前記のフ
ェノール性水酸基含有ポリアミドとブロック化するため
に使用することができる。
Also, polybutadiene-acrylonitrile copolymers having various functional groups at both ends are commercially available as Hycar CTBN from Goodrich and used to block them with the above-mentioned phenolic hydroxyl group-containing polyamide. be able to.

【0027】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて硬化促進剤を使用することもできる。この硬化促
進剤としては、例えばトリフェニルホスフィン等のリン
系化合物、例えば、トリエチルアミン、テトラエタノー
ルアミン、1,8−ジアザ−ビシクロ〔5.4.0〕−
7−ウンデセン(DBU)、N,N−ジメチルベンジル
アミン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、2
−エチル−4−メチルイミダゾール、N−メチルピペラ
ジン等の第3級アミン系化合物、例えば1,8−ジアザ
−ビシクロ〔5.4.0〕−7−ウンデセニウムテトラ
フェニルボレート等のホウ素系化合物があげられる。
In the epoxy resin composition of the present invention, a curing accelerator can be used if necessary. Examples of the curing accelerator include phosphorus compounds such as triphenylphosphine, for example, triethylamine, tetraethanolamine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0]-.
7-undecene (DBU), N, N-dimethylbenzylamine, 1,1,3,3-tetramethylguanidine, 2
Tertiary amine compounds such as -ethyl-4-methylimidazole and N-methylpiperazine, for example, boron compounds such as 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecenium tetraphenylborate Is raised.

【0028】本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に
応じて、他の添加物を加えることができる。例えば天然
ワックス類、合成ワックス類および長鎖脂肪族酸の金属
塩類等の可塑剤、酸アミド類、エステル類、パラフィン
類などの離型剤、ニトリルゴム、ブタジエンゴム等の応
力緩和剤、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酸化
錫、水酸化錫、酸化モリブデン、硼酸亜鉛、メタ硼酸バ
リウム、赤燐、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウ
ム、アルミン酸カルシウム等の無機難燃剤、テトラブロ
モビスフェノールA、テトラブロモ無水フタル酸、ヘキ
サブロモベンゼン、ブロム化フェノールノボラック等の
臭素系難燃剤、シラン系カップリング剤、チタネート系
カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等のカ
ップリング剤、溶融シリカ、結晶性シリカ、低α線シリ
カ、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ガラスバルーン、
タルク、アルミナ、ケイ酸カルシウム、水酸化アルミニ
ウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、マグネシア、窒
化ケイ素、窒化ホウ素、フェライト、希土コバルト、
金、銀、ニッケル、銅、鉛、鉄粉、酸化鉄、砂鉄等の金
属粉、黒鉛、カーボン、弁柄、黄鉛等の無機質充填剤ま
たは導電性粒子等、染料や顔料等の着色剤、炭素繊維、
ガラス繊維、ボロン繊維、シリコンカーバイト繊維、ア
ルミナ繊維、シリカアルミナ繊維などの無機系繊維、ア
ラミド繊維、ポリエステル繊維、セルロース繊維、炭素
繊維などの有機系繊維、酸化安定剤、光安定剤、耐湿性
向上剤、チキソトロピー付与剤、希釈剤、消泡剤、他の
各種の樹脂、粘着付与剤、帯電防止剤、滑剤、紫外線吸
収剤等を配合することもできる。
Other additives can be added to the epoxy resin composition of the present invention, if necessary. For example, plasticizers such as natural waxes, synthetic waxes and metal salts of long-chain aliphatic acids, release agents such as acid amides, esters and paraffins, stress relievers such as nitrile rubber and butadiene rubber, and trioxide Inorganic flame retardants such as antimony, antimony pentoxide, tin oxide, tin hydroxide, molybdenum oxide, zinc borate, barium metaborate, red phosphorus, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium aluminate, tetrabromobisphenol A, tetrabromo anhydride Brominated flame retardants such as phthalic acid, hexabromobenzene, brominated phenol novolak, coupling agents such as silane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, fused silica, crystalline silica, low α Line silica, glass flake, glass beads, glass balloon,
Talc, alumina, calcium silicate, aluminum hydroxide, calcium carbonate, barium sulfate, magnesia, silicon nitride, boron nitride, ferrite, rare earth cobalt,
Metal powders such as gold, silver, nickel, copper, lead, iron powder, iron oxide, iron sand, etc .; inorganic fillers such as graphite, carbon, red iron oxide, and graphite; or conductive particles; coloring agents such as dyes and pigments; Carbon fiber,
Inorganic fibers such as glass fiber, boron fiber, silicon carbide fiber, alumina fiber, silica-alumina fiber, etc., organic fibers such as aramid fiber, polyester fiber, cellulose fiber, carbon fiber, oxidation stabilizer, light stabilizer, moisture resistance An improver, a thixotropy-imparting agent, a diluent, an antifoaming agent, other various resins, a tackifier, an antistatic agent, a lubricant, an ultraviolet absorber and the like can also be blended.

【0029】本発明のエポキシ樹脂組成物のシートは支
持体となるフィルム上に形成される。その形成方法とし
ては、上記のエポキシ樹脂組成物をワニスとしてフィル
ム上に塗布、溶剤を乾燥する方法、ホットメルトにより
フィルム上に塗布する方法等があるがこれらに限定され
るものではない。シートの膜厚は、製造するプリプレグ
の厚さにより適宜定められるが、例えば厚さ100μm
のプリプレグを製造する場合、30〜50μm程度がよ
い。支持体となるフィルムとしては、シートをプリプレ
グ基材に熱融着、含浸させる工程において、支持体を介
して熱が伝達されるので、これに耐える耐熱性を有した
ものであることが必要である。これを満足しコスト的に
も安価なものとしてはポリエチレンテレフタレート(P
ET)フィルム等が挙げられる。
The sheet of the epoxy resin composition of the present invention is formed on a film serving as a support. Examples of the forming method include a method of applying the above-described epoxy resin composition as a varnish on a film, drying a solvent, and a method of applying the epoxy resin composition on a film by hot melt, but are not limited thereto. The thickness of the sheet is appropriately determined according to the thickness of the prepreg to be produced.
When the prepreg is manufactured, the thickness is preferably about 30 to 50 μm. As a film to be a support, since heat is transferred through the support in the step of heat-sealing and impregnating the sheet to the prepreg base material, it is necessary that the film has heat resistance to withstand the heat. is there. Polyethylene terephthalate (P
ET) film and the like.

【0030】前記エポキシ樹脂ワニスは、エポキシ樹脂
(a)、硬化剤(b)、フェノール性水酸基含有ポリア
ミド樹脂(c)及び/又はフェノール性水酸基含有ポリ
アミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体
(d)、必要に応じ硬化促進剤、その他の添加剤を溶媒
中または無溶媒中で均一に混合させることにより得るこ
とができる。溶媒としては、例えばトルエン、エタノー
ル、セロソルブ、テトラヒドロフラン、N−メチル−2
−ピロリドン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒があ
げられる。前記ホットメルトは、エポキシ樹脂(a)、
硬化剤(b)、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂
(c)及び/又はフェノール性水酸基含有ポリアミド−
ポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体(d)、必
要に応じ硬化促進剤、その他の添加剤を2軸ロール、加
圧ニーダー、エクストルーダー等で溶融混練することに
より得ることができる。
The epoxy resin varnish comprises an epoxy resin (a), a curing agent (b), a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) and / or a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (d). In this case, the composition can be obtained by uniformly mixing a curing accelerator and other additives in a solvent or without a solvent. As the solvent, for example, toluene, ethanol, cellosolve, tetrahydrofuran, N-methyl-2
-Organic solvents such as pyrrolidone and dimethylformamide. The hot melt is an epoxy resin (a);
Curing agent (b), phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) and / or phenolic hydroxyl group-containing polyamide
It can be obtained by melt-kneading the polybutadiene-acrylonitrile copolymer (d), if necessary, a curing accelerator and other additives with a biaxial roll, a pressure kneader, an extruder or the like.

【0031】本発明のプリプレグの製法を実施するに
は、例えば前記フィルム上に形成されたエポキシ樹脂組
成物のシートを基材の片面または両面に密着させ、シー
トを熱融着、含浸させればよい。エポキシ樹脂組成物を
基材の内部まで均一に含浸させるためには基材の両面か
ら含浸させる方が好ましい。熱融着、含浸させる方法と
しては、熱プレス、熱ロール等が好ましい。熱融着、含
浸させる条件はエポキシ樹脂組成物の軟化点、溶融時粘
度により経験的に最適条件が決定されるが、熱プレス、
熱ロールの設定温度は概ね130〜200℃が適当であ
る。エポキシ樹脂組成物の含浸量は、従来のプリプレグ
と同様であってよいが、一般にプリプレグの総重量に対
して50〜60重量%である。
In order to carry out the method for producing a prepreg of the present invention, for example, a sheet of the epoxy resin composition formed on the film is brought into close contact with one or both sides of a substrate, and the sheet is heat-sealed and impregnated. Good. In order to uniformly impregnate the inside of the base material with the epoxy resin composition, it is preferable to impregnate the base material from both sides of the base material. As a method for heat fusion and impregnation, a hot press, a hot roll, or the like is preferable. Optimal conditions for heat fusion and impregnation are empirically determined by the softening point of the epoxy resin composition and the viscosity during melting.
It is appropriate that the set temperature of the heat roll is generally 130 to 200C. The impregnation amount of the epoxy resin composition may be the same as that of the conventional prepreg, but is generally 50 to 60% by weight based on the total weight of the prepreg.

【0032】基材としては、従来から使用されている基
材が使用できるが、好ましくは、ガラス織布、ガラス不
織布、全芳香族ポリエステル不織布、アラミド織布およ
びアラミド不織布からなる群から選ばれる。これらのう
ち低誘電率、軽量化の観点から好ましいのはアラミド織
布およびアラミド不織布である。
As the substrate, a conventionally used substrate can be used, and is preferably selected from the group consisting of glass woven fabric, glass nonwoven fabric, wholly aromatic polyester nonwoven fabric, aramid woven fabric, and aramid nonwoven fabric. Of these, aramid woven fabric and aramid nonwoven fabric are preferable from the viewpoint of low dielectric constant and weight reduction.

【0033】本発明のプリント配線基板は、本発明のプ
リプレグから形成された少なくとも1層の絶縁層と、前
記絶縁層の少なくとも1層の表面に形成された回路パタ
ーンとを有する。回路パターンは、通常、金属箔または
金属メッキによって形成するが、導電性ペーストから形
成してもよい。回路パターンを形成する金属は、好まし
くは、銅、金、銀、ニッケルおよびハンダからなる群か
ら選択された少なくとも1種である。金属箔は、好まし
くは汎用的に使用されている銅箔である。回路パターン
は、従来技術のプリント配線基板の場合と同様に形成で
きる。
The printed wiring board of the present invention has at least one insulating layer formed from the prepreg of the present invention, and a circuit pattern formed on at least one surface of the insulating layer. The circuit pattern is usually formed by metal foil or metal plating, but may be formed from a conductive paste. The metal forming the circuit pattern is preferably at least one selected from the group consisting of copper, gold, silver, nickel and solder. The metal foil is preferably a commonly used copper foil. The circuit pattern can be formed in the same manner as in the case of a conventional printed wiring board.

【0034】[0034]

【実施例】以下、更に実施例を以て本発明をより具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、実施例および比較例中、%および部は、特記
しない限り重量基準である。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In Examples and Comparative Examples,% and parts are by weight unless otherwise specified.

【0035】合成例1 ポリアミドA(フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミ
ド−ポリブタジエン/アクリロニトリルブロック共重合
体)の合成。 イソフタル酸19.93g(120ミリモル)、3,
4′−オキシジアニリン30.63g(153ミリモ
ル)、5−ヒドロキシイソフタル酸3.64g(20ミ
リモル)、塩化リチウム3.9g、塩化カルシウム1
2.1g、N−メチル−2−ピロリドン240ml、ピ
リジン54mlを1リットルの4ツ口丸底フラスコの中
に入れ、攪拌溶解させた後、亜リン酸トリフェニル74
gを加えて、90℃で4時間反応させて、フェノール性
水酸基含有芳香族ポリアミドオリゴマー体を生成させ
た。これに両末端にカルボキシル基を持つポリブタジエ
ン/アクリロニトリル共重合体(Hycar CTBN、BF Goodr
ich 製。ポリブタジエンアクリロニトリル部に含有する
アクリロニトリル成分が17モル%で、分子量が約36
00)48gを240mlのN−メチル−2−ピロリド
ンに溶かした液を加えて、更に4時間反応させた後、室
温に冷却、この反応液をメタノール20リットルに投入
して本発明に使用するポリブタジエン/アクリロニトリ
ル共重合体部の含有量が50wt%であるフェノール性
水酸基を約14モル%含有する芳香族ポリアミド−ポリ
ブタジエン/アクリロニトリルブロック共重合体を析出
させた。この析出ポリマーを更にメタノールで洗浄とメ
タノール還流して精製した。このポリマーの固有粘度は
0.85dl/g(ジメチルアセトアミド、30℃)で
あった。ポリマー粉末を拡散反射法により赤外スペクト
ルを測定したところ、1674cm-1にアミドカルボニ
ル基を、2856−2975cm-1にブタジエン部分の
C−H結合に基づく吸収を、2245cm-1にニトリル
基に基づく吸収を認めた。
Synthesis Example 1 Synthesis of polyamide A (phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide-polybutadiene / acrylonitrile block copolymer). 19.93 g (120 mmol) of isophthalic acid, 3,
30.63 g (153 mmol) of 4'-oxydianiline, 3.64 g (20 mmol) of 5-hydroxyisophthalic acid, 3.9 g of lithium chloride, calcium chloride 1
2.1 g, 240 ml of N-methyl-2-pyrrolidone and 54 ml of pyridine were placed in a 1-liter four-necked round-bottomed flask and dissolved by stirring.
g was added and reacted at 90 ° C. for 4 hours to produce a phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide oligomer. Polybutadiene / acrylonitrile copolymers with carboxyl groups at both ends (Hycar CTBN, BF Goodr
Made by ich. The acrylonitrile component contained in the polybutadiene acrylonitrile part is 17 mol% and the molecular weight is about 36.
00) A solution obtained by dissolving 48 g in 240 ml of N-methyl-2-pyrrolidone was added, and the reaction was further carried out for 4 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was poured into 20 liters of methanol to prepare the polybutadiene used in the present invention. An aromatic polyamide-polybutadiene / acrylonitrile block copolymer containing about 14 mol% of a phenolic hydroxyl group having a content of the acrylonitrile copolymer part of 50 wt% was precipitated. The precipitated polymer was further purified by washing with methanol and refluxing methanol. The intrinsic viscosity of this polymer was 0.85 dl / g (dimethylacetamide, 30 ° C.). When the infrared spectrum of the polymer powder was measured by the diffuse reflection method, the absorption was based on the amide carbonyl group at 1,674 cm -1, the absorption based on the C-H bond of the butadiene portion at 2,856-2975 cm -1, and the nitrile group at 2,245 cm -1. Absorption was observed.

【0036】合成例2 ポリアミドB(フェノール性水酸基含有ポリアミド樹
脂)の合成 イソフタル酸20g(120ミリモル)、3,4′−オ
キシジアニリン26.4g(132ミリモル)、5−ヒ
ドロキシイソフタル酸3.7g(20ミリモル)、塩化
リチウム3.9g、塩化カルシウム12.1g、N−メ
チル−2−ピロリドン240ml、ピリジン54mlを
1リットルの4ツ口丸底フラスコの中に入れ、攪拌溶解
させた後、亜リン酸トリフェニル74gを加えて、90
℃で4時間反応させて、フェノール性水酸基含有芳香族
ポリアミドオリゴマー体の生成溶液を得た。この反応溶
液をメタノール20リットルに投入して本発明に使用す
るフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂を析出させ
た。この析出したポリアミド樹脂を更にメタノール還流
して精製した。得られた該ポリアミド樹脂の固有粘度は
0.85dl/g(ジメチルアセトアミド溶液、30
℃)であった。
Synthesis Example 2 Synthesis of Polyamide B (Phenolic Hydroxyl-Containing Polyamide Resin) 20 g (120 mmol) of isophthalic acid, 26.4 g (132 mmol) of 3,4'-oxydianiline, 3.7 g of 5-hydroxyisophthalic acid (20 mmol), 3.9 g of lithium chloride, 12.1 g of calcium chloride, 240 ml of N-methyl-2-pyrrolidone, and 54 ml of pyridine were placed in a 1-liter four-necked round-bottomed flask, stirred and dissolved. Add 74 g of triphenyl phosphate and add 90 g
The reaction was performed at 4 ° C. for 4 hours to obtain a solution of a phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide oligomer. The reaction solution was poured into 20 liters of methanol to precipitate a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin used in the present invention. The precipitated polyamide resin was further purified by refluxing methanol. The intrinsic viscosity of the obtained polyamide resin is 0.85 dl / g (dimethylacetamide solution, 30
° C).

【0037】実施例1 以下に示す組成の樹脂をN−メチル−2−ピロリドン
(NMP)3重量部に対しMEK1重量部の混合溶媒に
溶解して60重量%の樹脂溶液を調整した。硬化剤の配
合量は当量比で1.0とした。この樹脂溶液をアプリケ
ータを用いてPETフィルムに塗布、50μm膜厚のシ
ートを作成した。このシートは、支持体であるPETフ
ィルムを湾曲させても割れ、欠け、剥がれを生じたりせ
ず、十分な強度とフレキシビリティを有していた。該シ
ートをアラミド不織布(帝人株式会社製テクノーラ)の
両面に重ね、ラミネータで張り合わせた後、熱プレスで
熱融着、含浸させ本発明のプリプレグを得た。このとき
熱プレスの温度は150℃、プレス時間は5秒、プレス
圧力は55kgf/cm2とした。なお、樹脂含浸量
は、プリプレグの総重量に対して50%とした。顕微鏡
により断面を観察すると樹脂はアラミド不織布の内部ま
で含浸していた。
Example 1 A resin having the following composition was dissolved in a mixed solvent of 1 part by weight of MEK with respect to 3 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) to prepare a 60% by weight resin solution. The compounding amount of the curing agent was 1.0 in equivalent ratio. This resin solution was applied to a PET film using an applicator to prepare a sheet having a thickness of 50 μm. This sheet had sufficient strength and flexibility without cracking, chipping, or peeling even when the PET film as the support was curved. The sheet was overlaid on both sides of an aramid nonwoven fabric (Technola manufactured by Teijin Limited), laminated with a laminator, and then heat-sealed and impregnated with a hot press to obtain a prepreg of the present invention. At this time, the temperature of the hot press was 150 ° C., the press time was 5 seconds, and the press pressure was 55 kgf / cm 2 . The resin impregnation amount was 50% based on the total weight of the prepreg. When the cross section was observed with a microscope, the resin was impregnated into the inside of the aramid nonwoven fabric.

【0038】表1 実施例1の樹脂組成: NC−7000 100.0部 (ナフトール変性型エポキシ樹脂;日本化薬株式会社
製;エポキシ当量:235) カヤハードNHN 60.9部 (ナフトール変性型ノボラック樹脂;日本化薬株式会社
製;水酸基当量:143) トリフェニルホスフィン 1.0部 ポリアミドA 161.9部
Table 1 Resin composition of Example 1: NC-7000 100.0 parts (naphthol-modified epoxy resin; Nippon Kayaku Co., Ltd .; epoxy equivalent: 235) Kayahard NHN 60.9 parts (naphthol-modified novolak resin) Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; hydroxyl equivalent: 143) triphenylphosphine 1.0 part polyamide A 161.9 parts

【0039】実施例2 以下に示す組成の樹脂をN−メチル−2−ピロリドン
(NMP)3重量部に対しMEK1重量部の混合溶媒に
溶解して60重量%の樹脂溶液を調整した。硬化剤の配
合量は当量比で1.0とした。この樹脂溶液をアプリケ
ータを用いてPETフィルムに塗布、50μm膜厚のシ
ートを作成した。このシートは、支持体であるPETフ
ィルムを湾曲させても割れ、欠け、剥がれを生じたりせ
ず、十分な強度とフレキシビリティを有していた。該シ
ートをアラミド不織布(帝人株式会社製テクノーラ)の
両面に重ね、ラミネータで張り合わせた後、熱プレスで
熱融着、含浸させ本発明のプリプレグを得た。このとき
熱プレスの温度は150℃、プレス時間は5秒、プレス
圧力は55kgf/cm2とした。なお、樹脂含浸量
は、プリプレグの総重量に対して50%とした。顕微鏡
により断面を観察すると樹脂はアラミド不織布の内部ま
で含浸していた。
Example 2 A resin having the following composition was dissolved in 1 part by weight of MEK with respect to 3 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) to prepare a 60% by weight resin solution. The compounding amount of the curing agent was 1.0 in equivalent ratio. This resin solution was applied to a PET film using an applicator to prepare a sheet having a thickness of 50 μm. This sheet had sufficient strength and flexibility without cracking, chipping, or peeling even when the PET film as the support was curved. The sheet was overlaid on both sides of an aramid nonwoven fabric (Technola manufactured by Teijin Limited), laminated with a laminator, and then heat-sealed and impregnated with a hot press to obtain a prepreg of the present invention. At this time, the temperature of the hot press was 150 ° C., the press time was 5 seconds, and the press pressure was 55 kgf / cm 2 . The resin impregnation amount was 50% based on the total weight of the prepreg. When the cross section was observed with a microscope, the resin was impregnated into the inside of the aramid nonwoven fabric.

【0040】表2 実施例2の樹脂組成: NC−7000 100.0部 カヤハードNHN 60.9部 トリフェニルホスフィン 1.0部 ポリアミドB 161.9部Table 2 Resin composition of Example 2: NC-7000 100.0 parts Kayahard NHN 60.9 parts Triphenylphosphine 1.0 parts Polyamide B 161.9 parts

【0041】比較例1 以下に示す組成の樹脂をMEKに溶解して60重量%の
樹脂溶液を調整した。硬化剤の配合量は当量比で1.0
とした。この樹脂溶液をアプリケータを用いてPETフ
ィルムに塗布、50μm膜厚のシートを作成した。この
シートは、支持体であるフィルムを湾曲させると割れ、
欠け、剥がれを生じるため目的のプリプレグを作成する
ことは出来なかった。
Comparative Example 1 A resin having the following composition was dissolved in MEK to prepare a 60% by weight resin solution. The amount of the curing agent is 1.0 in equivalent ratio.
And This resin solution was applied to a PET film using an applicator to prepare a sheet having a thickness of 50 μm. This sheet breaks when the film that is the support is curved,
The desired prepreg could not be produced because of chipping and peeling.

【0042】表3 比較例1の樹脂組成: NC−7000 100.0部 カヤハードNHN 60.9部 トリフェニルホスフィン 1.0部Table 3 Resin composition of Comparative Example 1: NC-7000 100.0 parts Kayahard NHN 60.9 parts Triphenylphosphine 1.0 part

【0043】比較例2 比較例1と同組成の樹脂をMEKに溶解して60重量%
の樹脂溶液を調整した。硬化剤の配合量は当量比で1.
0とした。この樹脂溶液をアラミド不織布(帝人株式会
社製テクノーラ)に含浸した後、140℃で乾燥してプ
リプレグを作成した。なお、樹脂含浸量は、プリプレグ
の総重量に対して50%とした。
Comparative Example 2 A resin having the same composition as in Comparative Example 1 was dissolved in MEK to prepare
Was prepared. The amount of the curing agent is 1.
0 was set. This resin solution was impregnated into an aramid nonwoven fabric (Technola manufactured by Teijin Limited) and dried at 140 ° C. to prepare a prepreg. The resin impregnation amount was 50% based on the total weight of the prepreg.

【0044】吸湿率の測定 実施例1,2及び比較例2で製造したプリプレグを20
0℃で1時間硬化し3×10cmに切り出して吸湿率測
定用試験片とした。試験片を120℃で2〜3時間乾燥
した後、その初期重量を測定した。次に、この試験片を
85℃,85%RHの環境槽に入れ、所定時間後に取り
出して、その重量を測定した。この重量と初期重量の差
を初期重量で除し吸湿率を求めた。これらの結果を表4
に示す。
Measurement of Moisture Absorption The prepregs produced in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2
The composition was cured at 0 ° C. for 1 hour, cut into 3 × 10 cm, and used as a test piece for measuring moisture absorption. After the test piece was dried at 120 ° C. for 2-3 hours, its initial weight was measured. Next, this test piece was placed in an environmental bath at 85 ° C. and 85% RH, taken out after a predetermined time, and its weight was measured. The difference between this weight and the initial weight was divided by the initial weight to determine the moisture absorption. Table 4 shows these results.
Shown in

【0045】 表4 サンプル 吸湿率(24時間後) 吸湿率(48時間後) 実施例1 0.44% 0.44% 実施例2 0.66% 0.66% 比較例2 0.72% 0.72% Table 4 Sample Moisture absorption rate (after 24 hours) Moisture absorption rate (after 48 hours) Example 1 0.44% 0.44% Example 2 0.66% 0.66% Comparative example 2 0.72% 0 .72%

【0046】引き剥がし強度の測定 実施例1,2及び比較例2で製造したプリプレグを粗化
銅箔で挟み、200℃,55kg/cm2で1時間真空
熱プレスで加熱加圧した。これを1cm幅で短冊状にカ
ットして試験片とした。銅箔をチャックし90°引き剥
がし強度を測定した結果を表5に示す。
Measurement of Peeling Strength The prepregs produced in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 were sandwiched between roughened copper foils and heated and pressed by a vacuum hot press at 200 ° C. and 55 kg / cm 2 for 1 hour. This was cut into a strip having a width of 1 cm to obtain a test piece. Table 5 shows the results obtained by chucking the copper foil and peeling it at 90 ° to measure the strength.

【0047】表5 サンプル 90゜引き剥がし強度 実施例1 14.4N/cm 実施例2 5.8N/cm 比較例2 4.4N/cmTable 5 Sample 90 ° peeling strength Example 1 14.4 N / cm Example 2 5.8 N / cm Comparative Example 2 4.4 N / cm

【0048】実施例3 実施例1と同じ手順で作成したプリプレグの両面に、ポ
リエチレンテレフタレート(PET)フィルムをラミネ
ートした。次に、炭酸ガスレーザーで、プリプレグの所
定の箇所をビア加工し、ビアに導電性ペーストを充填し
た。ここで用いた導電性ペーストは、導電物質としての
平均粒径が2μmの銅粉(85%)とバインダ樹脂とし
ての無溶剤型のエポキシ樹脂(残部)からなり、銅粉と
バインダ樹脂を三本ロールにて混練して調製したもので
ある。この導電性ペーストが充填されたプリプレグの両
面からPETを剥離した後、プリプレグを銅箔で挟み、
200℃、55kg/cm2で1時間、真空熱プレスで
加熱加圧した後、内層用回路パターンをエッチングによ
って形成し、両面板を構成した。上記と同じ方法で作成
したビアに導電性ペーストが充填されたプリプレグで、
前記両面板の両面を挟み、さらに両方のプリプレグの外
面に銅箔を積層し、前記と同じ条件で熱圧着した後、外
層用回路パターンをエッチングによって形成し、4層構
造のプリント配線基板を得た。なお、前記の一連の工程
を繰り返すことにより、任意の層数のプリント配線基板
を得ることができる。
Example 3 A polyethylene terephthalate (PET) film was laminated on both sides of a prepreg prepared in the same procedure as in Example 1. Next, a predetermined portion of the prepreg was processed with a via using a carbon dioxide gas laser, and the via was filled with a conductive paste. The conductive paste used here consisted of copper powder (85%) having an average particle size of 2 μm as a conductive substance and solventless epoxy resin (remainder) as a binder resin, and three pieces of copper powder and binder resin were used. It is prepared by kneading with a roll. After peeling PET from both sides of the prepreg filled with the conductive paste, sandwich the prepreg with copper foil,
After heating and pressurizing with a vacuum hot press at 200 ° C. and 55 kg / cm 2 for 1 hour, an inner layer circuit pattern was formed by etching to form a double-sided board. A prepreg filled with conductive paste in vias created in the same way as above,
A copper foil is laminated on both surfaces of the double-sided board and copper foil is further laminated on the outer surfaces of both prepregs. After thermocompression bonding under the same conditions as above, a circuit pattern for an outer layer is formed by etching to obtain a printed wiring board having a four-layer structure. Was. Note that a printed wiring board having an arbitrary number of layers can be obtained by repeating the above series of steps.

【0049】実施例4 実施例2と同じ手順で作成したプリプレグを使用した以
外は、実施例3と同じ製造方法で4層構造のプリント配
線基板を作成した。
Example 4 A printed wiring board having a four-layer structure was prepared in the same manner as in Example 3, except that a prepreg prepared in the same procedure as in Example 2 was used.

【0050】比較例3 比較例2と同じ手順で作成したプリプレグを使用した以
外は、実施例3と同じ製造方法で4層構造のプリント配
線基板を作成した。
Comparative Example 3 A printed wiring board having a four-layer structure was prepared in the same manner as in Example 3, except that a prepreg prepared in the same procedure as in Comparative Example 2 was used.

【0051】吸湿率の測定 実施例3,4及び比較例3で製造した4層構造のプリン
ト配線基板を85℃,85%RHで保持した場合の吸湿
率をプリプレグと同様に測定した。これらの結果を表6
に示す。
Measurement of Moisture Absorption Rate The moisture absorption rate when the printed wiring boards having the four-layer structure manufactured in Examples 3, 4 and Comparative Example 3 were held at 85 ° C. and 85% RH was measured in the same manner as the prepreg. Table 6 shows these results.
Shown in

【0052】 表6 サンプル 吸湿率(24時間後) 吸湿率(48時間後) 実施例3 0.66% 0.66% 実施例4 1.20% 1.20% 比較例3 1.30% 1.30%Table 6 Samples Moisture absorption rate (after 24 hours) Moisture absorption rate (after 48 hours) Example 3 0.66% 0.66% Example 4 1.20% 1.20% Comparative Example 3 1.30% 1 .30%

【0053】以上の実施例1〜4および比較例1〜3に
ついて得られた表4〜表6に示す結果を考察する。表4
に示す結果より、実施例1,2、比較例2のプリプレグ
を比較すると、フェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂
を添加すると吸湿率は若干下がり、フェノール性水酸基
含有ポリアミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル共
重合体を添加すると大幅に吸湿率は下がった。吸湿率と
誘電率との関係は直線関係にあることが知られており、
吸湿率の低いプリプレグは、誘電特性にも優れていると
言える。また、表6に示すプリント基板の結果も表4の
プリプレグと同様の傾向であった。
Consider the results shown in Tables 4 to 6 obtained for Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 above. Table 4
From the results shown in the above, comparing the prepregs of Examples 1 and 2 and Comparative Example 2, when the phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin was added, the moisture absorption decreased slightly, and when the phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer was added. The moisture absorption rate has dropped significantly. It is known that the relationship between the moisture absorption and the dielectric constant is a linear relationship,
It can be said that a prepreg having a low moisture absorption has excellent dielectric properties. The results for the printed circuit boards shown in Table 6 also had the same tendency as the prepregs in Table 4.

【0054】表5に示す結果より、実施例1,2、比較
例2のプリプレグを比較すると、プリプレグに粗化銅箔
を圧着硬化させたときの90゜引き剥がし強度はフェノ
ール性水酸基含有ポリアミド樹脂を添加すると若干上が
り、フェノール性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体を添加すると大幅に上が
った。
From the results shown in Table 5, when the prepregs of Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 are compared, the 90 ° peeling strength when the roughened copper foil is press-cured and cured on the prepreg has a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin. Was slightly increased, and increased significantly when a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer was added.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明のプリプレグ及びプリント配線基
板の作成方法によれば、従来のワニス含浸法に比べ、生
産効率の向上、製造設備の大幅な簡略化が可能になる。
得られるプリプレグも低吸湿性かつ誘電特性に優れ、ひ
いては低吸湿性かつ誘電特性に優れたプリント配線基板
を得ることができる。
According to the method for producing a prepreg and a printed wiring board of the present invention, the production efficiency can be improved and the production equipment can be greatly simplified as compared with the conventional varnish impregnation method.
The obtained prepreg also has a low hygroscopic property and excellent dielectric properties, and as a result, a printed wiring board with low hygroscopic property and excellent dielectric properties can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F072 AB06 AB09 AB28 AB29 AD02 AD03 AD23 AD44 AE01 AG03 AH12 AH21 AJ04 AK05 AL13 4J002 AC07Y BG10Y CD00W CL00X CL06X FA04X FD146 GQ00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 4F072 AB06 AB09 AB28 AB29 AD02 AD03 AD23 AD44 AE01 AG03 AH12 AH21 AJ04 AK05 AL13 4J002 AC07Y BG10Y CD00W CL00X CL06X FA04X FD146 GQ00

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エポキシ樹脂(a)、硬化剤(b)、並び
にフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂(c)及び/
又はフェノール性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体(d)を含有するエポキ
シ樹脂組成物のシートを基材に密着させ、次いで熱融
着、含浸させてなることを特徴とするプリプレグの製造
方法。
An epoxy resin (a), a curing agent (b), and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) and / or
Alternatively, a method for producing a prepreg, comprising: adhering a sheet of an epoxy resin composition containing a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (d) to a substrate, followed by heat fusion and impregnation. .
【請求項2】基材が、ガラス織布、ガラス不織布、全芳
香族ポリエステル不織布、アラミド織布およびアラミド
不織布からなる群から選択された少なくとも1種である
請求項1記載のプリプレグの製造方法。
2. The method for producing a prepreg according to claim 1, wherein the substrate is at least one selected from the group consisting of glass woven fabric, glass nonwoven fabric, wholly aromatic polyester nonwoven fabric, aramid woven fabric, and aramid nonwoven fabric.
【請求項3】基材が、アラミド織布およびアラミド不織
布からなる群から選択された少なくとも1種である請求
項1に記載のプリプレグの製造方法。
3. The method for producing a prepreg according to claim 1, wherein the substrate is at least one selected from the group consisting of aramid woven fabric and aramid nonwoven fabric.
【請求項4】請求項1乃至3の何れか1項に記載のプリ
プレグの少なくとも一方の面に金属箔を熱圧着する工
程、回路パターンを形成する工程を含んでなることを特
徴とするプリント配線基板の製造方法。
4. A printed wiring comprising a step of thermocompression bonding a metal foil to at least one surface of the prepreg according to any one of claims 1 to 3, and a step of forming a circuit pattern. Substrate manufacturing method.
【請求項5】エポキシ樹脂(a)、硬化剤(b)、並び
にフェノール性水酸基含有ポリアミド樹脂(c)及び/
又はフェノール性水酸基含有ポリアミド−ポリブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体(d)を含有するエポキ
シ樹脂組成物のシート。
5. An epoxy resin (a), a curing agent (b), and a phenolic hydroxyl group-containing polyamide resin (c) and / or
Or a sheet of an epoxy resin composition containing a phenolic hydroxyl group-containing polyamide-polybutadiene-acrylonitrile copolymer (d).
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