JP2001042539A - Photosensitive or heat-sensitive image forming material - Google Patents
Photosensitive or heat-sensitive image forming materialInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷用版材、
カラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルター
として使用できる感光又は感熱性画像形成材に関する。
特に、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線
レーザを走査することにより直接製版できる、いわゆる
ダイレクト製版可能な平版印刷用版材として使用可能な
ネガ型あるいはポジ型の感光又は感熱性画像形成材料に
関する。[0001] The present invention relates to a lithographic printing plate material,
The present invention relates to a photosensitive or heat-sensitive image forming material that can be used as a color proof, a photoresist and a color filter.
In particular, the present invention relates to a negative or positive photosensitive or heat-sensitive image forming material which can be used as a so-called direct plate making planographic printing plate material which can be directly made by scanning an infrared laser based on a digital signal from a computer or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に波長760nmから1200nmの赤外線を放
射する固体レーザおよび半導体レーザ(以下、「赤外線
レーザ」という場合がある。)は、高出力かつ小型のも
のが容易に入手できるようになった。これらの赤外線レ
ーザは、コンピュータ等のデジタルデータにより直接印
刷版を製版する際の記録光源として非常に有用である。
従って、このような赤外線記録光源に対し、感応性の高
い感光性樹脂組成物、即ち、赤外線照射により光化学反
応等が起こり、現像液に対する溶解性が大きく変化する
感光性樹脂組成物への要望が近年高まっている。2. Description of the Related Art In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers (hereinafter sometimes referred to as "infrared lasers") which emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm have high output and small size. Is now readily available. These infrared lasers are very useful as recording light sources when directly making a printing plate using digital data from a computer or the like.
Accordingly, there is a demand for a photosensitive resin composition having a high sensitivity to such an infrared recording light source, that is, a photosensitive resin composition in which a photochemical reaction or the like is caused by irradiation with infrared rays and the solubility in a developing solution is greatly changed. It is growing in recent years.
【0003】これら各種レーザ光に感応する記録材料に
ついては種々研究されており、代表的なものとして、感
光波長760nm以上の赤外線レーザで記録可能な材料
としては、米国特許第4708925号記載のポジ型記
録材料、特開平8−276558号に記載されている酸
触媒架橋型のネガ型記録材料等がある。また、300n
m〜700nmの紫外光または可視光レーザ対応型の記
録材料としては、米国特許2850445号及び特公昭
44−20189号公報に記載されている如き、ラジカ
ル重合型のネガ型記録材料等が多数ある。このような、
ラジカル重合を利用した記録材料は高感度化を達成する
ことができるが、酸素の重合阻害により大きく低感度化
する問題もあった。A variety of recording materials sensitive to these various laser beams have been studied. As a typical example, as a material recordable with an infrared laser having a photosensitive wavelength of 760 nm or more, a positive type material described in US Pat. Recording materials include acid-catalyzed crosslinkable negative recording materials described in JP-A-8-276558. Also, 300n
Examples of recording materials compatible with ultraviolet or visible light lasers having a wavelength of from m to 700 nm include a radical polymerization type negative recording material as described in U.S. Pat. No. 2,850,445 and JP-B-44-20189. like this,
Although the recording material using radical polymerization can achieve high sensitivity, there is a problem that the sensitivity is greatly reduced due to inhibition of polymerization of oxygen.
【0004】これらの画像形成材料はいずれも、アルミ
ニウム等の支持体上に単一の組成を有する1層の記録層
を形成してなるものである。均一な組成物からなる単層
の記録層では、感光物質の影響で光源からのエネルギー
線の作用が感光層の表面から支持体に向かって深部に進
むほど低下し、支持体界面近傍では最小となる傾向があ
る。また、露光に赤外線を用いる場合には、支持体裏面
への熱拡散の問題も関与して、この傾向はより一層強く
なる。この傾向を緩和するためには、記録層自体の感度
を向上させる手段をとることができるが、極端な高感度
化は高温環境下での保存安定性の低下をまねき、実用上
問題となるため、高感度であり保存安定性の良好な画像
形成材料が望まれていた。Each of these image forming materials is formed by forming a single recording layer having a single composition on a support such as aluminum. In a single recording layer composed of a uniform composition, the effect of the energy beam from the light source decreases as the depth of the light from the surface of the photosensitive layer toward the support decreases due to the influence of the photosensitive material, and the effect is minimal near the support interface. Tend to be. In addition, when infrared rays are used for exposure, the problem of heat diffusion to the back surface of the support is involved, and this tendency is further enhanced. To alleviate this tendency, it is possible to take measures to improve the sensitivity of the recording layer itself. However, extreme increase in sensitivity leads to a decrease in storage stability in a high-temperature environment, which is a practical problem. An image forming material having high sensitivity and good storage stability has been desired.
【0005】一方、300nm以下の短波長光及び電子
線により記録可能な材料は、特にフォトレジスト材料と
して重要である。近年では集積回路がその集積度をます
ます高め、超LSIなどの半導体基板の製造でもハーフ
ミクロン以下の線幅からなる超微細パターンの加工が必
要とされており、その必要性を満たすためにフォトリソ
グラフィーに用いられる露光装置の使用波長は益々短波
化し、遠紫外光やエキシマレーザ光(XeCl、Kr
F、ArFなど)が検討され、さらに電子線による超微
細パターンの形成が検討されるに至っている。特に電子
線は次世代のパターン形成技術の光源として有望しされ
ている。これらの画像形成材料全てに共通の課題として
は、上述の各種エネルギー照射部及び未照射部、即ち、
画像部、非画像部における、画像のON−OFFをいか
に拡大できるかであり、この点に関しては、先に述べた
単一の組成を有する記録層に関しては、例えば、ネガ型
の画像形成材料においては、支持体と画像部との密着性
不足の問題となり、ポジ型の画像形成材料においては画
像部現像性不足に起因する支持体への残膜の問題とな
る。さらに、前記した感度と保存安定性との両立という
観点においても、これらの点に関しては十分に満足なも
のは得られておらず、従来にはない新たな技術が求めら
れていた。[0005] On the other hand, a material recordable by short-wavelength light of 300 nm or less and an electron beam is particularly important as a photoresist material. In recent years, the degree of integration of integrated circuits has been further increased, and the processing of ultra-fine patterns having a line width of less than half a micron has been required even in the manufacture of semiconductor substrates such as VLSI. The wavelength used by an exposure apparatus used for lithography is becoming shorter and shorter, and far ultraviolet light or excimer laser light (XeCl, Kr
F, ArF, etc.), and the formation of an ultrafine pattern using an electron beam has been studied. In particular, electron beams are promising as light sources for next-generation pattern formation technology. As a problem common to all of these image forming materials, the above-described various energy irradiated portions and the non-irradiated portions, that is,
It is how the ON-OFF of the image can be enlarged in the image portion and the non-image portion. In this regard, regarding the recording layer having a single composition described above, for example, in a negative type image forming material, The problem is that the adhesion between the support and the image area is insufficient, and in the case of a positive type image forming material, the problem of a residual film on the support due to insufficient image area developability is caused. Further, from the viewpoint of achieving both the sensitivity and the storage stability as described above, a satisfactory technique has not been obtained in these respects, and a new technology which has not existed in the past has been required.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、赤外
線を照射する固体レーザ及び半導体レーザーを用いて、
直接コンピュータ等のデジタルデータから製版すること
ができ、高感度で、かつ、保存安定性の良好な感光又は
感熱性画像形成材料を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to use a solid-state laser and a semiconductor laser for irradiating infrared rays.
An object of the present invention is to provide a photosensitive or heat-sensitive image forming material which can be directly made from digital data of a computer or the like, has high sensitivity, and has good storage stability.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、画像形成
材料の記録層の層構成に着目して鋭意検討した結果、支
持体近傍に、通常の感度を有する記録層を設け、その上
層として、露光面近傍に、露光光源に対してより高感度
な記録層を配置することにより、赤外線レーザに対して
高感度で、且つ、保存安定性の良好な材料を得られるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明
の感光又は感熱性画像形成材料は、支持体上に、光又は
熱の作用により、水又はアルカリ水に対する可溶性が変
化する組成物からなる記録層を設けてなり、該記録層上
に、記録層と同じ機能を有し、且つ、記録層より光又は
熱の作用に対する感度が高い第2の層を設けることを特
徴とする。ここで、前記感光又は感熱性画像形成材料に
赤外線吸収剤を添加することで、赤外線レーザにより高
感度な記録が可能となる。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies focusing on the layer structure of the recording layer of the image forming material, and as a result, provided a recording layer having ordinary sensitivity near the support, By arranging a recording layer having higher sensitivity to the exposure light source near the exposure surface, it was found that a material having high sensitivity to infrared laser and good storage stability could be obtained. The invention has been completed. That is, the light-sensitive or heat-sensitive image forming material of the present invention comprises a support provided with a recording layer made of a composition whose solubility in water or alkaline water is changed by the action of light or heat. A second layer having the same function as the recording layer and having higher sensitivity to the action of light or heat than the recording layer. Here, by adding an infrared absorber to the photosensitive or heat-sensitive image forming material, high-sensitivity recording with an infrared laser becomes possible.
【0008】本発明の作用は明確ではないが、本発明の
画像形成材料では、露光面近傍に、記録層と同様の機能
を有するより高感度な層を設けることにより、記録層の
表面において物性(溶解性)の大きな変化がおこり、こ
の影響が記録層全体の現像性を支配することになり、高
感度の記録を行なうことがでた。また、通常、高感度な
記録層を設けると高温保存時の安定性が低下する問題が
生じるが、この高温環境下での保存安定性の低下は、実
際には熱伝導性の良好な支持体界面における記録層の変
化に由来するところが大きく、このため、支持体近傍に
記録層として通常の感度を有する安定性の良好な記録層
を配置することで記録層全体がこの安定性に支配され、
結果的に、高温度下においても、良好な保存安定性を維
持することができた。従って、本層構成により高感度と
高温における保存安定性の両立を達成した。なお、本発
明において感光又は感熱性画像形成材料(以下、適宜、
単に画像形成材料と称する)は、光と熱の双方に感応す
る画像形成材料をも包含するものである。Although the function of the present invention is not clear, in the image forming material of the present invention, by providing a more sensitive layer having the same function as the recording layer in the vicinity of the exposed surface, physical properties on the surface of the recording layer can be improved. A large change in (solubility) occurred, and this influence governed the developability of the entire recording layer, and high-sensitivity recording could be performed. Usually, when a high-sensitivity recording layer is provided, there is a problem that the stability at the time of high-temperature storage is reduced. However, the storage stability under the high-temperature environment is actually reduced by a support having good thermal conductivity. It is largely attributable to the change of the recording layer at the interface, and therefore, by arranging a recording layer with good stability having normal sensitivity as the recording layer near the support, the entire recording layer is governed by this stability,
As a result, good storage stability could be maintained even at a high temperature. Therefore, both high sensitivity and storage stability at high temperatures were achieved by this layer configuration. In the present invention, the photosensitive or heat-sensitive image forming material (hereinafter, appropriately,
Simply referred to as an image forming material) includes an image forming material that is sensitive to both light and heat.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の画像形成材料は、支持体上に、記録に用
いる光又は熱に対する感度の異なる2層の記録層を積層
してあればよく、記録層の構成には特に制限はない。本
発明の画像形成材料において、好適に用い得る記録層の
例としては、ネガ型の記録層としては、公知のラジカル
重合系、酸触媒架橋系(カチオン重合も含む)記録層が
挙げられる。これらは、光照射や加熱により発生するラ
ジカル或いは酸が開始剤や触媒となり、記録層を構成す
る化合物が重合反応、架橋反応を生起し、硬化して画像
部を形成するものである。また、ポジ型の記録層として
は、公知の酸触媒分解系、相互作用解除系(感熱ポジ)
が挙げられる。これらは、光照射や加熱により発生する
酸や熱エネルギーそのものにより、層を形成していた高
分子化合物の結合が解除されるなどの働きにより水やア
ルカリ水に可溶性となり、現像により除去されて非画像
部を形成するものである。本発明は記録層相互間の感度
(反応性)の差異を利用した原理的なものであり記録層
を構成する感光或いは感熱材料の種類による影響を受け
ない。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The image-forming material of the present invention only needs to laminate two recording layers having different sensitivities to light or heat used for recording on a support, and the constitution of the recording layer is not particularly limited. In the image forming material of the present invention, examples of the recording layer that can be suitably used include a negative-type recording layer such as a known radical polymerization type and an acid-catalyzed crosslinking type (including cationic polymerization). In these, a radical or an acid generated by light irradiation or heating becomes an initiator or a catalyst, and a compound constituting the recording layer causes a polymerization reaction or a cross-linking reaction, and cures to form an image area. As the positive recording layer, known acid-catalyzed decomposition systems and interaction cancellation systems (thermosensitive positive)
Is mentioned. These become soluble in water or alkaline water by the action of releasing the bond of the polymer compound forming the layer by the acid or heat energy itself generated by light irradiation or heating, and are removed by development to become non-soluble. This forms an image portion. The present invention is based on a principle utilizing a difference in sensitivity (reactivity) between recording layers, and is not affected by the type of photosensitive or heat-sensitive material constituting the recording layer.
【0010】以下、本発明の画像形成材料の各構成につ
いて具体的に説明する。本発明の画像形成材料は、支持
体上に、光又は熱の作用により、水又はアルカリ水に対
する可溶性が変化する組成物からなる記録層を設けてな
るが、この記録層は、通常、不溶性、且つ、アルカリ水
可溶性の高分子を含有してなり、光又は熱の作用により
この層を構成する高分子の結合が切れ、或いは結合が強
化或いは新規に形成されて硬化することで、アルカリ現
像液に対する溶解性が増大或いは減少する層である。な
お、本発明においては、水不溶性、且つ、アルカリ水可
溶性の高分子を、適宜、単に「アルカリ水可溶性高分
子」と称する。本発明の画像形成材料により、ネガ型の
記録を行う場合には、記録層は光又は熱の作用によりア
ルカリ現像液に対する溶解性が減少する構成となり、上
記アルカリ水可溶性高分子に、さらに、酸により架橋す
る化合物と、熱により酸を発生する化合物と、を含有す
ればよい。また、ポジ型の記録を行なう場合には、光又
は熱の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大
する構成となり、前記アルカリ水可溶性高分子の可溶化
を促進するという観点から、赤外線吸収剤として、オニ
ウム塩型の赤外線吸収剤が好適に用いられる。Hereinafter, each constitution of the image forming material of the present invention will be specifically described. The image forming material of the present invention is provided with a recording layer made of a composition whose solubility in water or alkaline water is changed by the action of light or heat on a support, and this recording layer is generally insoluble, In addition, it contains an alkali-water-soluble polymer, and the bond of the polymer constituting this layer is broken by the action of light or heat, or the bond is strengthened or newly formed and cured, so that an alkali developer is obtained. This is a layer in which the solubility in is increased or decreased. In the present invention, a water-insoluble and alkaline water-soluble polymer is simply referred to as “alkali water-soluble polymer” as appropriate. When performing negative-type recording using the image-forming material of the present invention, the recording layer has a configuration in which the solubility in an alkali developing solution is reduced by the action of light or heat, and the above-mentioned alkaline water-soluble polymer is further added with an acid. And a compound capable of generating an acid by heat. Further, when performing positive recording, the solubility in an alkali developer is increased by the action of light or heat, and from the viewpoint of promoting the solubilization of the alkali water-soluble polymer, as an infrared absorber. An onium salt-type infrared absorber is preferably used.
【0011】本発明に用い得るバインダー高分子として
は、ネガ型またはポジ型のそれぞれの場合に適した公知
の高分子化合物を使用することができる。この場合、ネ
ガ型、ポジ型のそれぞれの場合に応じて、以下の高分子
化合物を使用することができる。ネガ型の画像形成材料
の記録層に使用できる好ましい高分子としては、ヒドロ
キシ基またはアルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水
素環を側鎖又は主鎖に有するポリマーが挙げられる。ア
ルコキシ基としては、感度の観点から、炭素数20個以
下のものが好ましい。また、芳香族炭化水素環として
は、原料の入手性から、ベンゼン環、ナフタレン環また
はアントラセン環が好ましい。これらの芳香族炭化水素
環は、ヒドロキシ基またはアルコキシ基以外の置換基、
例えば、ハロゲン基、シアノ基等の置換基を有していて
も良いが、感度の観点から、ヒドロキシ基またはアルコ
キシ基以外の置換基を有さない方が好ましい。As the binder polymer which can be used in the present invention, a known polymer compound suitable for each of the negative type and the positive type can be used. In this case, the following polymer compounds can be used depending on the case of each of the negative type and the positive type. Preferred polymers that can be used in the recording layer of the negative-type image forming material include polymers having an aromatic hydrocarbon ring directly bonded to a hydroxy group or an alkoxy group in a side chain or a main chain. As the alkoxy group, those having 20 or less carbon atoms are preferable from the viewpoint of sensitivity. As the aromatic hydrocarbon ring, a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring is preferable from the viewpoint of availability of raw materials. These aromatic hydrocarbon rings have a substituent other than a hydroxy group or an alkoxy group,
For example, it may have a substituent such as a halogen group or a cyano group, but preferably has no substituent other than a hydroxy group or an alkoxy group from the viewpoint of sensitivity.
【0012】本発明において、好適に用いることができ
るバインダーポリマーは、下記一般式(III)で表され
る構成単位を有するポリマー、又はノボラック樹脂等の
フェノール樹脂である。In the present invention, a binder polymer that can be suitably used is a polymer having a structural unit represented by the following general formula (III) or a phenol resin such as a novolak resin.
【0013】[0013]
【化1】 Embedded image
【0014】式中、Ar2 は、ベンゼン環、ナフタレン
環またはアントラセン環を示す。R 4 は、水素原子また
はメチル基を示す。R5 は、水素原子または炭素数20
個以下のアルコキシ基を示す。X1 は、単結合または、
C、H、N、O、Sより選ばれた1種以上の原子を含
み、かつ炭素数0〜20個の2価の連結基を示す。k
は、1〜4の整数を示す。Where ArTwoIs a benzene ring, naphthalene
A ring or an anthracene ring. R FourIs a hydrogen atom or
Represents a methyl group. RFiveIs a hydrogen atom or carbon number 20
Represents up to alkoxy groups. X1Is a single bond or
Containing one or more atoms selected from C, H, N, O, and S
And a divalent linking group having 0 to 20 carbon atoms. k
Represents an integer of 1 to 4.
【0015】まず、本発明において、好適に用いられる
一般式(III)で表される構成単位の例([BP−1]
〜[BP−6])を以下に挙げるが、本発明はこれに制
限されるものではない。First, in the present invention, preferred examples of the structural unit represented by the general formula (III) ([BP-1]
To [BP-6]) below, but the invention is not limited thereto.
【0016】[0016]
【化2】 Embedded image
【0017】[0017]
【化3】 Embedded image
【0018】これらの構成単位を有するポリマーは、対
応するモノマーを用い、従来公知の方法によりラジカル
重合することにより得られる。The polymer having these structural units can be obtained by radical polymerization using a corresponding monomer by a conventionally known method.
【0019】本発明では、バインダーポリマーとして、
一般式(III)で表される構成単位のみから成る単独重
合体を用いても良いが、この特定構成単位とともに、他
の公知のモノマーより誘導される構成単位を有する共重
合体を用いても良い。この際用いられる他の公知のモノ
マーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート等のアクリル酸エステル類;メチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート等のメタクリル酸エステル類;スチレン、アクリ
ロニトリル、および、アクリル酸、メタクリル酸等の酸
性基を有するモノマー;さらにp−スチレンスルホン酸
のナトリウム塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロ
パンスルホン酸のアルカリ金属塩、テトラアルキルアン
モニウム塩、3−スルホプロピルアクリレートのカリウ
ム塩等の強酸の塩を含有するモノマー等が挙げられる。In the present invention, as the binder polymer,
Although a homopolymer composed of only the structural unit represented by the general formula (III) may be used, a copolymer having a structural unit derived from another known monomer may be used together with the specific structural unit. good. Other known monomers used at this time include, for example, acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and benzyl acrylate; Methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2
-Methacrylic esters such as hydroxyethyl methacrylate and benzyl methacrylate; styrene, acrylonitrile, and monomers having an acidic group such as acrylic acid and methacrylic acid; and sodium salts of p-styrenesulfonic acid and 2-acrylamide-2-methyl Monomers containing a salt of a strong acid such as an alkali metal salt of propanesulfonic acid, a tetraalkylammonium salt, and a potassium salt of 3-sulfopropylacrylate are exemplified.
【0020】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式(III)で表される構成単位の割合は、50〜100
重量%であることが好ましく、さらに好ましくは60〜
100重量%である。また、本発明で使用されるポリマ
ーの重量平均分子量は好ましくは5000以上であり、
さらに好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分
子量は好ましくは1000以上であり、さらに好ましく
は2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均
分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好
ましくは1.1〜10の範囲である。The proportion of the structural unit represented by the general formula (III) contained in the copolymer using these is 50 to 100.
% By weight, more preferably 60 to 60% by weight.
100% by weight. The weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably 5,000 or more,
More preferably, it is in the range of 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably 1,000 or more, and more preferably in the range of 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably in the range of 1.1 to 10.
【0021】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよ
いが、ランダムポリマーであることが好ましい。These polymers are random polymers,
Any of a block polymer and a graft polymer may be used, but a random polymer is preferred.
【0022】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラ
ン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げ
られる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用
いられる。Examples of the solvent used for synthesizing the polymer used in the present invention include tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, -Methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-
Examples include dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more.
【0023】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。As the radical polymerization initiator used for synthesizing the polymer used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.
【0024】次に、ノボラック類について述べる。本発
明で好適に用いられるノボラック樹脂は、フェノールノ
ボラック、o−、m−、p−の各種クレゾールノボラッ
ク、及びその共重合体、ハロゲン原子、アルキル基等で
置換されたフェノールを利用したノボラックが挙げられ
る。これらのノボラック樹脂の重量平均分子量は、好ま
しくは1000以上であり、さらに好ましくは2000
〜2万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは100
0以上であり、さらに好ましくは2000〜15000
の範囲である。多分散度は1以上が好ましくは、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。Next, novolaks will be described. The novolak resin preferably used in the present invention includes phenol novolak, o-, m-, p- various cresol novolaks, and copolymers thereof, novolaks using phenol substituted with a halogen atom, an alkyl group, and the like. Can be The weight average molecular weight of these novolak resins is preferably at least 1,000, more preferably 2,000.
And a number average molecular weight of preferably 100
0 or more, more preferably 2000 to 15000
Range. The polydispersity is preferably 1 or more, more preferably in the range of 1.1 to 10.
【0025】また、添加ポリマーとして、好適に使用で
きるノボラック樹脂としては、フェノールノボラック、
o−、m−、p−の各種クレゾールノボラック、及びそ
の共重合体、ハロゲン原子、アルキル基等で置換された
フェノールを利用したノボラックが挙げられる。これら
のノボラック樹脂の重量平均分子量は、1000以上で
あることが好ましく、2000〜200000万の範囲
にあることがより好ましい。数平均分子量は1000以
上であることが好ましく、2000〜150000の範
囲であることがより好ましい。多分散度は1以上が好ま
しく、1.1〜10の範囲であることがより好ましい。Novolak resins which can be suitably used as the additive polymer include phenol novolak,
Various cresol novolaks of o-, m-, and p-, and copolymers thereof, and novolaks using phenol substituted with a halogen atom, an alkyl group, or the like can be given. The weight average molecular weight of these novolak resins is preferably 1000 or more, and more preferably in the range of 2000 to 200,000,000. The number average molecular weight is preferably at least 1,000, more preferably in the range of 2,000 to 150,000. The polydispersity is preferably 1 or more, more preferably 1.1 to 10.
【0026】次に、ポジ型の画像形成材料に使用できる
高分子化合物としては、高分子中の主鎖および/または
側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体
またはこれらの混合物を包含する。中でも、下記(1)
〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖および/または
側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解
性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。Next, as the polymer compound usable for the positive type image forming material, a homopolymer containing an acidic group in a main chain and / or a side chain of the polymer, a copolymer thereof, or a copolymer thereof may be used. And mixtures. Above all, (1)
Those having an acidic group described in (6) in the main chain and / or side chain of the polymer are preferable in terms of solubility in an alkaline developer and development of dissolution inhibiting ability.
【0027】(1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2 NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。) 〔−SO2 NHCOR、−SO2 NHSO2 R、−CO
NHSO2 R〕 (4)カルボン酸基(−CO2 H) (5)スルホン酸基(−SO3 H) (6)リン酸基(−OPO3 H2 )(1) Phenol group (—Ar—OH) (2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R) (3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”) SO 2 NHCOR, -SO 2 NHSO 2 R, -CO
NHSO 2 R] (4) Carboxylic acid group (—CO 2 H) (5) Sulfonic acid group (—SO 3 H) (6) Phosphate group (—OPO 3 H 2 )
【0028】上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有
していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置
換基を有していてもよい炭化水素基を表す。In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. .
【0029】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ水可溶性高分子の中でも、(1)フェノ
ール基、(2)スルホンアミド基および(3)活性イミ
ド基を有するアルカリ水可溶性高分子が好ましく、特
に、(1)フェノール基または(2)スルホンアミド基
を有するアルカリ水可溶性高分子が、アルカリ性現像液
に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確
保する点から最も好ましい。Among the alkaline water-soluble polymers having an acidic group selected from the above (1) to (6), among the alkaline water-soluble polymers having (1) a phenol group, (2) a sulfonamide group and (3) an active imide group, A polymer is preferable, and an alkali water-soluble polymer having (1) a phenol group or (2) a sulfonamide group is most preferable in terms of sufficiently securing solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.
【0030】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ水可溶性高分子としては、例えば、以下
のものを挙げることができる。 (1)フェノール基を有するアルカリ水可溶性高分子と
しては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮
重合体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、
m−/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重
合体、フェノールとクレゾール(m−、p−、またはm
−/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドと
の縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガロールと
アセトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、
フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重
合体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側
鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を用いること
もできる。Examples of the alkali water-soluble polymer having an acidic group selected from the above (1) to (6) include the following. (1) Examples of the alkaline water-soluble polymer having a phenol group include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde,
Condensed polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol and cresol (m-, p- or m
-/ P- mixture) and a novolak resin such as a condensation polymer of formaldehyde, and a condensation polymer of pyrogallol and acetone. further,
Copolymers obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can also be used. Alternatively, a copolymer obtained by copolymerizing a compound having a phenol group in the side chain can be used.
【0031】フェノール基を有する化合物としては、フ
ェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。Examples of the compound having a phenol group include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, and hydroxystyrene having a phenol group.
【0032】アルカリ水可溶性高分子の重量平均分子量
は、5.0×102〜2.0×104 で、数平均分子量が
2.0×102 〜1.0×104 のものが、画像形成性
の点で好ましい。また、これらの高分子を単独で用いる
のみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。組み合わせる場合には、米国特許第4123279
号明細書に記載されているような、t−ブチルフェノー
ルとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチルフェノ
ールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、炭素数
3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールと
ホルムアルデヒドとの縮重合体を併用してもよい。Weight average molecular weight of alkaline water soluble polymer
Is 5.0 × 10Two~ 2.0 × 10Four And the number average molecular weight is
2.0 × 10Two~ 1.0 × 10FourWhat is image forming
It is preferred in terms of. In addition, these polymers are used alone
Not only can you use two or more kinds in combination
No. If combined, see US Pat. No. 4,123,279.
T-butyl phenol as described in US Pat.
And octylpheno
Number of carbon atoms, such as polycondensates of
A phenol having 3 to 8 alkyl groups as substituents;
A condensation polymer with formaldehyde may be used in combination.
【0033】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
水可溶性高分子としては、例えば、スルホンアミド基を
有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分と
して構成される重合体を挙げることができる。上記のよ
うな化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和
基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げら
れる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニ
ロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基
または置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低
分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式1〜5で表
される化合物が挙げられる。(2) Examples of the alkali water-soluble polymer having a sulfonamide group include a polymer having, as a main constituent, a minimum structural unit derived from a compound having a sulfonamide group. Examples of the compound as described above include a compound having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule. Among them, an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group, and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group, and a low-molecular compound having in the molecule are preferable, for example, represented by the following general formulas 1 to 5 Compounds.
【0034】[0034]
【化4】 Embedded image
【0035】〔式中、X1 、X2 は、それぞれ独立に−
O−または−NR27−を表す。R21、R24は、それぞれ
独立に水素原子または−CH3 を表す。R22、R25、R
29、R 32及びR36は、それぞれ独立に置換基を有してい
てもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキ
レン基、アリーレン基またはアラルキレン基を表す。R
23、R27及びR33は、それぞれ独立に水素原子、置換基
を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。
また、R26、R37は、それぞれ独立に置換基を有してい
てもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を表す。R 28、R30及び
R34は、それぞれ独立に水素原子または−CH3 を表
す。R31、R 35は、それぞれ独立に単結合、または置換
基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、
シクロアルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン
基を表す。Y3 、Y4 は、それぞれ独立に単結合、また
は−CO−を表す。〕[Where X is1, XTwoAre independently-
O- or -NR27Represents-. Rtwenty one, Rtwenty fourRespectively
Independently a hydrogen atom or -CHThreeRepresents Rtwenty two, Rtwenty five, R
29, R 32And R36Each independently has a substituent
An alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl
Represents a len group, an arylene group or an aralkylene group. R
twenty three, R27And R33Are each independently a hydrogen atom, a substituent
An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have
Represents a loalkyl group, an aryl group or an aralkyl group.
Also, R26, R37Each independently has a substituent
C1-C12 alkyl group, cycloalkyl
Represents an aryl group or an aralkyl group. R 28, R30as well as
R34Is independently a hydrogen atom or -CHThreeThe table
You. R31, R 35Are each independently a single bond or substituted
An alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may have a group,
Cycloalkylene, arylene or aralkylene
Represents a group. YThree, YFourAre each independently a single bond,
Represents -CO-. ]
【0036】一般式1〜5で表される化合物のうち、本
発明のポジ型平版印刷用材料では、特に、m−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノス
ルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用
することができる。Among the compounds represented by the general formulas 1 to 5, in the positive lithographic printing material of the present invention, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (P-Aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be suitably used.
【0037】(3)活性イミド基を有するアルカリ水可
溶性高分子としては、例えば、活性イミド基を有する化
合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成
される重合体を挙げることができる。上記のような化合
物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重
合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する
化合物を挙げることができる。(3) Examples of the alkali water-soluble polymer having an active imide group include a polymer having, as a main constituent, a minimum structural unit derived from a compound having an active imide group. Examples of such compounds include compounds having at least one active imide group represented by the following structural formula and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule.
【0038】[0038]
【化5】 Embedded image
【0039】具体的には、N−(p−トルエンスルホニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.
【0040】(4)カルボン酸基を有するアルカリ水可
溶性高分子としては、例えば、カルボン酸基と、重合可
能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合
物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体
を挙げることができる。 (5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子とし
ては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する
最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げること
ができる。 (6)リン酸基を有するアルカリ水可溶性高分子として
は、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分
子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成
単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができ
る。(4) Examples of the alkali water-soluble polymer having a carboxylic acid group include, for example, a minimum structural unit derived from a compound having one or more carboxylic acid groups and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Examples of the polymer may be a main component. (5) Examples of the alkali-soluble polymer having a sulfonic acid group include, as a main structural unit, a minimum structural unit derived from a compound having one or more sulfonic acid groups and one or more polymerizable unsaturated groups in a molecule. Polymer. (6) The alkaline water-soluble polymer having a phosphate group includes, for example, a minimum constituent unit derived from a compound having at least one phosphate group and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule as a main constituent component. The following polymer can be mentioned.
【0041】ポジ型画像形成材料に用いるアルカリ水可
溶性高分子を構成する、前記(1)〜(6)より選ばれ
る酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみであ
る必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2
種以上、または異なる酸性基を有する最小構成単位を2
種以上共重合させたものを用いることもできる。The minimum structural unit having an acidic group selected from the above (1) to (6), which constitutes the alkali water-soluble polymer used for the positive image forming material, need not be only one kind, but may be the same. The minimum structural unit having an acidic group of 2
2 or more minimum structural units having different or different acidic groups
Those copolymerized by more than one kind can also be used.
【0042】共重合の方法としては、従来知られてい
る、グラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共
重合法等を用いることができる。As the copolymerization method, conventionally known methods such as graft copolymerization, block copolymerization, and random copolymerization can be used.
【0043】前記共重合体は、共重合させる(1)〜
(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中
に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モ
ル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%
未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させるこ
とができない傾向がある。本発明の画像形成材料を、赤
外線レーザを用いて書き込みを行なう場合には、記録層
に赤外線吸収剤を含有することが感度の観点から好まし
い。赤外線吸収剤は吸収した赤外線を熱に変換する機能
を有しており、この際、ネガ型の記録材料では、発生し
た熱により後述の酸発生剤が分解して酸を発生し、記録
層内において架橋反応を生起させ、また、ポジ型の記録
材料では、レーザ走査により光化学反応等が起こり、現
像液に対する溶解性が大きく増加する。本発明において
使用される赤外線吸収剤は、波長760nmから120
0nmの赤外線を有効に吸収する染料又は顔料である。
好ましくは、波長760nmから1200nmに吸収極
大を有する染料又は顔料である。The above copolymers are copolymerized (1) to
It is preferred that the compound having an acidic group selected from (6) is contained in the copolymer in an amount of at least 10 mol%, more preferably at least 20 mol%. 10 mol%
If it is less than 3, the developing latitude tends to be insufficiently improved. When writing is performed on the image forming material of the present invention using an infrared laser, it is preferable from the viewpoint of sensitivity that the recording layer contains an infrared absorber. The infrared absorbing agent has a function of converting the absorbed infrared rays into heat. At this time, in the case of a negative recording material, the generated heat causes an acid generator described later to be decomposed to generate an acid, thereby causing an acid in the recording layer. In a positive recording material, a photochemical reaction or the like occurs by laser scanning, and the solubility in a developing solution is greatly increased. The infrared absorber used in the present invention has a wavelength of 760 nm to 120.
It is a dye or pigment that effectively absorbs 0 nm infrared light.
Preferably, the dye or the pigment has an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.
【0044】以下に、本発明の画像形成材料がネガ型記
録層を有する場合に好適に使用できる赤外線吸収剤につ
いて詳述する。染料としては、市販の染料及び例えば
「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)
等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタ
ロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、
ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられ
る。Hereinafter, the infrared absorber which can be suitably used when the image forming material of the present invention has a negative recording layer will be described in detail. As the dye, commercially available dyes and, for example, “Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970)
And the like can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squalilium dyes,
Dyes such as pyrylium salts and metal thiolate complexes are exemplified.
【0045】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.,
Cyanine dyes described in British Patent 434,875 and the like can be mentioned.
【0046】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also preferable. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used.
【0047】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。As another preferred example of the dye, US Pat. No. 4,756,993 discloses a compound represented by the formula (I):
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned.
【0048】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.
【0049】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。The pigment used in the present invention includes:
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used.
【0050】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。The pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyeing lake pigments,
Azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.
【0051】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).
【0052】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferable in terms of stability in the coating solution for the image recording layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable in terms of uniformity of the image recording layer.
【0053】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。これらの染料又は顔料
の添加量としては、記録層塗布液の全固形分に対して、
0.01〜30重量%程度であることが好ましい。As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986). As the amount of addition of these dyes or pigments, based on the total solid content of the recording layer coating solution,
It is preferably about 0.01 to 30% by weight.
【0054】次に、本発明の画像形成材料がポジ型の記
録層を有する場合に使用できる赤外線吸収剤について説
明する。ポジ型記録層に赤外線吸収剤を用いる場合に
は、特定の官能基を有するバインダーポリマーとの相互
作用によりポジ作用(未露光部は現像抑制され、露光部
では解除され、現像促進する。)を生じさせる必要があ
るため、その点でオニウム塩型構造のものが特に好まし
く、具体的には、前記のネガ型の場合に使用できる赤外
線吸収剤のうち、特にシアニン色素、ピリリウム塩が好
ましい。シアニン色素、ピリリウム塩の詳細については
前述の通りである。Next, an infrared absorbing agent which can be used when the image forming material of the present invention has a positive recording layer will be described. When an infrared absorbing agent is used for the positive recording layer, a positive action (development is suppressed in unexposed areas and released in exposed areas to accelerate development) by interaction with a binder polymer having a specific functional group. In view of this, an onium salt type structure is particularly preferable in that respect. Specifically, among the infrared absorbers usable in the case of the negative type, a cyanine dye and a pyrylium salt are particularly preferable. Details of the cyanine dye and pyrylium salt are as described above.
【0055】さらに、特願平10−237634号に記
載のアニオン性赤外線吸収剤も好適に使用することがで
きる。このアニオン性赤外線吸収剤は、実質的に赤外線
を吸収する色素の母核にカチオン構造が無く、アニオン
構造を有するものを指す。例えば、(a−1)アニオン
性金属錯体、(a−2)アニオン性カーボンブラック、
(a−3)アニオン性フタロシアニンが挙げられる。こ
こで、(a−1)アニオン性金属錯体とは、実質的に光
を吸収する錯体部の中心金属および配位子全体でアニオ
ンとなるものを指す。 (a−2)アニオン性カーボンブラックは、置換基とし
てスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等のアニオン
基が結合しているカーボンブラックが挙げられる。これ
らの基をカーボンブラックに導入するには、カーボンブ
ラック便覧第三版(カーボンブラック協会編、1995
年4月5日、カーボンブラック協会発行)第12頁に記
載されるように、所定の酸でカーボンブラックを酸化す
る等の手段をとればよい。 (a−3)アニオン性フタロシアニンは、フタロシアニ
ン骨格に、置換基として先に(a−2)の説明において
挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニオンとなっ
ているものを指す。さらに特願平10−237634号
の[0014]ないし[0105]に記載の[Ga-−
M−Gb]mXm+で示されるアニオン性赤外線吸収剤
〔Ga - はアニオン性置換基を表し、Gb は中性の置換
基を表す。Xm+は、プロトンを含む1〜m価のカチオン
を表し、mは1ないし6の整数を表す。〕を挙げること
ができる。Further, the anionic infrared absorber described in Japanese Patent Application No. 10-237634 can be preferably used. This anionic infrared absorbing agent refers to a dye that substantially has no anionic structure in the mother nucleus of a dye that absorbs infrared light and has an anionic structure. For example, (a-1) anionic metal complex, (a-2) anionic carbon black,
(A-3) Anionic phthalocyanine. Here, the (a-1) anionic metal complex refers to an anion in which the central metal and the ligand in the complex part that substantially absorbs light become anions. (A-2) Examples of the anionic carbon black include carbon black to which an anionic group such as a sulfonic acid, carboxylic acid, or phosphonic acid group is bonded as a substituent. In order to introduce these groups into carbon black, the Carbon Black Handbook Third Edition (edited by Carbon Black Association, 1995)
As described on page 12 of the Carbon Black Association of Japan on April 5, 2002, a method of oxidizing carbon black with a predetermined acid may be used. (A-3) Anionic phthalocyanine refers to an anionic phthalocyanine in which the anion group described above in the description of (a-2) is bonded to the phthalocyanine skeleton as a substituent to form an anion as a whole. Further, [Ga − −] described in [0014] to [0105] of Japanese Patent Application No. 10-237634.
M-Gb] an anionic infrared absorbing agent represented by m X m + [Ga-represents an anionic substituent, and Gb represents a neutral substituent. X m + represents a cation having 1 to m valences including a proton, and m represents an integer of 1 to 6. ].
【0056】また、本発明に用いられる赤外線吸収剤の
好適な例として、以下に、示す如きオニウム塩構造を有
する赤外線吸収剤が挙げられる。このような赤外線吸収
剤の具体例(A−1〜A−56)を示すが、本発明は、
これらに限られるものではない。Preferred examples of the infrared absorber used in the present invention include an infrared absorber having an onium salt structure as shown below. Specific examples (A-1 to A-56) of such an infrared absorber are shown, but the present invention
It is not limited to these.
【0057】[0057]
【化6】 Embedded image
【0058】[0058]
【化7】 Embedded image
【0059】[0059]
【化8】 Embedded image
【0060】[0060]
【化9】 Embedded image
【0061】[0061]
【化10】 Embedded image
【0062】[0062]
【化11】 Embedded image
【0063】[0063]
【化12】 Embedded image
【0064】[0064]
【化13】 Embedded image
【0065】[0065]
【化14】 Embedded image
【0066】[0066]
【化15】 Embedded image
【0067】[0067]
【化16】 Embedded image
【0068】[0068]
【化17】 Embedded image
【0069】[0069]
【化18】 Embedded image
【0070】[0070]
【化19】 Embedded image
【0071】[0071]
【化20】 Embedded image
【0072】A−1〜A−56の構造式中、T-とは、
1価の対アニオンを表し、好ましくは、ハロゲンアニオ
ン(F-、Cl-、Br-、I-)、ルイス酸アニオン(B
F4 -、PF6 -、SbCl6 -、ClO4 -)、アルキルスル
ホン酸アニオン、アリールスルホン酸アニオンである。
ここでいうアルキルとは、炭素原子数が1から20まで
の直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基を意味し、具
体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイ
コシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル
基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、
1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキ
シル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シ
クロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることがで
きる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直
鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭
素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ま
しい。また、ここでいうアリールとは、1個のベンゼン
環からなるもの、2又は3個のベンゼン撮が縮合環を形
成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成
したものを表し、具体例としては、フェニル基、ナフチ
ル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル
基、アセナブテニル基、フルオレニル基、を挙げること
ができ、これらの中でも、フェニル基、ナフチル基がよ
り好ましい。[0072] In the structural formulas of A-1~A-56, T - A,
Represents a monovalent counter anion, preferably a halogen anion (F − , Cl − , Br − , I − ), a Lewis acid anion (B
F 4 − , PF 6 − , SbCl 6 − , ClO 4 − ), an alkyl sulfonate anion and an aryl sulfonate anion.
The alkyl herein refers to a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group. Group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group,
Tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group,
Examples thereof include a 1-methylbutyl group, an isohexyl group, a 2-ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a 2-norbornyl group. Among them, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable. In addition, the aryl referred to herein refers to those composed of one benzene ring, those formed by condensing two or three benzene rings, and those formed by condensing a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenabutenyl group, and a fluorenyl group. Of these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferred.
【0073】本発明の画像形成材料をポジ型として用い
る場合にも、上記の赤外線吸収剤の添加量はネガ型の画
像形成材料において述べたのと同様の方法で決定するこ
とができる。When the image forming material of the present invention is used as a positive type, the amount of the infrared absorbing agent to be added can be determined by the same method as described for the negative type image forming material.
【0074】本発明に係るポジ型の記録層には、さらに
感度および現像ラチチュードを向上させる目的で、上記
のシアニン色素、ピリリウム塩、アニオン系色素以外の
他の染料または顔料等(前述したネガ型の感光性樹脂組
成物に使用できる赤外線吸収剤)を含有させることもで
きる。In order to further improve the sensitivity and the development latitude, a dye or pigment other than the above-mentioned cyanine dyes, pyrylium salts and anionic dyes is used in the positive recording layer according to the present invention. (An infrared absorber that can be used in the photosensitive resin composition of the present invention).
【0075】本発明の画像形成材料を赤外線レーザの照
射により画像形成に必要な程度に、アルカリ現像液に対
する溶解性が減少するネガ型の記録材料として用いる場
合には、記録層としては、公知のネガ型記録材料に用い
られるものが特に制限なく使用できる。When the image-forming material of the present invention is used as a negative-type recording material whose solubility in an alkali developing solution is reduced to the extent necessary for image formation by irradiation with infrared laser, a known recording layer can be used. What is used for a negative recording material can be used without particular limitation.
【0076】ネガ型記録層には、露光部におけるアルカ
リ水可溶高分子化合物のアルカリ水溶解性を低下させる
ために、光または熱により分解して酸を発生する酸発生
剤及び発生した酸により架橋反応を生起させ、バインダ
ー高分子を硬化させる酸架橋剤を含有させる。The negative-type recording layer contains an acid generator which decomposes by light or heat to generate an acid and a generated acid in order to reduce the solubility of the alkali water-soluble polymer compound in the exposed portion in the alkaline water. An acid crosslinking agent which causes a crosslinking reaction and cures the binder polymer is contained.
【0077】酸発生剤としては、200〜500nmの
波長の光照射又は100℃以上の加熱により酸を発生す
る化合物を意味し、光カチオン重合の光開始剤、光ラジ
カル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あ
るいはマイクロレジスト等に使用されている公知の酸発
生剤等、公知の熱分解して酸を発生する化合物、及びそ
れらの混合物等が挙げられる。発生する酸としては、ス
ルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸であることが
好ましい。The acid generator means a compound which generates an acid upon irradiation with light having a wavelength of 200 to 500 nm or heating at 100 ° C. or higher, and includes a photoinitiator for photocationic polymerization, a photoinitiator for photoradical polymerization, and a dye. Examples of such compounds include known photodecolorants, photochromic agents, and known acid generators used in microresist and the like, known compounds that generate an acid upon thermal decomposition, and mixtures thereof. The generated acid is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid and hydrochloric acid.
【0078】本発明において好適に用いられる酸発生剤
としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニ
ウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。
具体的には、米国特許4,708,925号や特開平7
−20629号に記載されている化合物を挙げることが
できる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好まし
い。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,
147号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,6
32,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開
平1−102456号及び特開平1−102457号の
各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、
米国特許5,135,838号や米国特許5,200,
544号に記載されているベンジルスルホナート類も好
ましい。さらに、特開平2−100054号、特開平2
−100055号及び特願平8−9444号に記載され
ている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類
も好ましい。他にも、特開平7−271029号に記載
されている、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類
も好ましい。これらの化合物は単独で使用してもよく、
また2種以上を組み合わせて使用してもよい。The acid generator preferably used in the present invention includes onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, diazonium salts and the like.
More specifically, U.S. Pat.
-20629. Particularly, an iodonium salt, a sulfonium salt, and a diazonium salt having a sulfonate ion as a counter ion are preferable. As diazonium salts, US Pat. No. 3,867,
No. 147, U.S. Pat. No. 2,6
The diazonium compounds described in JP-A-32,703 and the diazo resins described in JP-A-1-102456 and JP-A-1-102457 are also preferable. Also,
U.S. Pat. No. 5,135,838 and U.S. Pat.
Benzyl sulfonates described in US Pat. No. 544 are also preferred. Further, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
Active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in JP-A-100055 and Japanese Patent Application No. 8-9444 are also preferable. Besides, haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferable. These compounds may be used alone,
Also, two or more kinds may be used in combination.
【0079】本発明において、これらの酸発生剤は、記
録層全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは
0.1〜25重量%、より好ましくは0.5〜20重量
%の割合で添加される。添加量が0.01重量%未満の
場合は、画像が得られず、また、添加量が50重量%を
超える場合は、印刷時に非画像部に汚れが発生するた
め、いずれも好ましくない。In the present invention, these acid generators are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 25% by weight, more preferably 0.5 to 20% by weight based on the total solid content of the recording layer. It is added in proportions. When the addition amount is less than 0.01% by weight, no image is obtained, and when the addition amount is more than 50% by weight, the non-image portion is stained during printing.
【0080】また、酸架橋剤としては、特願平9−23
4406号に記載のメチロール化合物、或いは、アルコ
キシメチル化合物、レゾール樹脂等のほか、特願平11
−151412号に記載の以下のものが挙げられる。 (i)アルコキシメチル基もしくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基もしくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 (i)アルコキシメチル基もしくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキ
シメチル基、アセトキシメチル基、もしくはアルコキシ
メチル基でポリ置換されている芳香族化合物及び複素環
化合物が挙げられる。同出願の[化14]および[化1
5]に記載のものが好ましく挙げられる。前記化学式
中、L1〜L8は、それぞれ独立にメトキシメチル、エト
キシメチル等のように炭素数18以下のアルコキシ基で
置換されたヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基
を表す。As the acid crosslinking agent, Japanese Patent Application No. 9-23 / 1997
No. 4406, a methylol compound, an alkoxymethyl compound, a resole resin and the like.
The followings described in JP-A-151412 are exemplified. (I) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group (ii) a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group (iii) an epoxy compound (i) an alkoxymethyl Examples of the aromatic compound substituted with a group or a hydroxymethyl group include an aromatic compound and a heterocyclic compound poly-substituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group, or an alkoxymethyl group. [Formula 14] and [Formula 1]
5] are preferably mentioned. In the above formula, L 1 to L 8 each independently represent a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group substituted with an alkoxy group having 18 or less carbon atoms, such as methoxymethyl, ethoxymethyl and the like.
【0081】(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基もしくはN−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開(以下、EP−Aと
記載する)第0,133,216号、西独特許第3,6
34,671号、同第3,711,264号に開示され
た単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A
第0,212,482号明細書に開示されたアルコキシ
置換化合物等が挙げられる。更に好ましい例としては、
例えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル
基、N−アルコキシメチル基もしくはN−アシルオキシ
メチル基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が
挙げられ、中でもN−アルコキシメチル誘導体が特に好
ましい。(Ii) Compounds having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group include those described in European Patent Publication No. 0,133,216 (hereinafter referred to as EP-A). West German Patent No. 3,6
No. 34,671, No. 3,711,264, monomer and oligomer-melamine-formaldehyde condensate and urea-formaldehyde condensate, EP-A
And the alkoxy-substituted compounds disclosed in Japanese Patent No. 0,212,482. As a more preferred example,
For example, a melamine-formaldehyde derivative having at least two free N-hydroxymethyl groups, N-alkoxymethyl groups or N-acyloxymethyl groups is exemplified, and among them, N-alkoxymethyl derivatives are particularly preferred.
【0082】(iii)エポキシ化合物としては、一つ以
上のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第4,026,705号、英国特
許第1,539,192号の各明細書に記載され、使用
されているエポキシ樹脂を挙げることができる。(Iii) Examples of the epoxy compound include monomer, dimer, oligomer, and polymer epoxy compounds containing one or more epoxy groups. For example, a reaction product of bisphenol A with epichlorohydrin, a reaction product of a low molecular weight phenol-formaldehyde resin with epichlorohydrin and the like can be mentioned. Other examples include epoxy resins described and used in U.S. Pat. No. 4,026,705 and British Patent 1,539,192.
【0083】以上の(i)〜(iii)の本発明に用いる
ことのできる架橋剤は、ネガ型記録層全固形分に対し、
5〜80重量%、好ましくは10〜75重量%、より好
ましくは20〜70重量%の範囲である。架橋剤の添加
量が5重量%未満であると、得られる平版印刷版用原版
の感光層の耐久性が悪化し、また、80重量%を超える
と、保存時の安定性の観点から好ましくない。The crosslinking agents (i) to (iii) which can be used in the present invention are based on the total solid content of the negative recording layer.
It is in the range of 5 to 80% by weight, preferably 10 to 75% by weight, more preferably 20 to 70% by weight. If the amount of the crosslinking agent is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the resulting lithographic printing plate precursor will be deteriorated. If it exceeds 80% by weight, it is not preferable from the viewpoint of storage stability. .
【0084】さらに、酸架橋剤として、前記特願平11
−151412号の[0078]ないし[0084]に
示されるフェノール誘導体が挙げられる。Further, as an acid crosslinking agent, Japanese Patent Application No.
And phenol derivatives represented by [0078] to [0084] of JP-A-151412.
【0085】本発明の画像形成材料の記録層には、さら
に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加しても
よい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像
の着色剤として使用することができる。具体的には、オ
イルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイ
ルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルー
BOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、
オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上
オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブル
ー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチ
ルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレッ
ト、ローダミンB(CI145170B)、マラカイト
グリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI5
2015)、アイゼンスピロンブルーC−RH(保土ヶ
谷化学(株)製)等、及び特開昭62−293247号
に記載されている染料を挙げることができる。The recording layer of the image forming material of the present invention may further contain, if necessary, various compounds in addition to the above. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY,
Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000) , Methylene blue (CI5
2015), Aizen Spiron Blue C-RH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), and the dyes described in JP-A-62-293247.
【0086】これらの染料を添加することにより、画像
形成後、画像部と非画像部の区別が明瞭となるため、添
加する方が好ましい。なお、添加量は、記録層全固形分
に対し0.01〜10重量%の範囲が好ましい。By adding these dyes, the distinction between an image area and a non-image area becomes clear after image formation, and thus it is preferable to add them. The addition amount is preferably in the range of 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the recording layer.
【0087】また、本発明の記録層中には、現像条件に
対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251
740号や特開平3−208514号に記載されている
ような非イオン界面活性剤や特開昭59−121044
号、特開平4−13149号に記載されているような両
性界面活性剤を添加することができる。In the recording layer of the present invention, JP-A-62-251 describes a method for increasing the stability of processing under development conditions.
Non-ionic surfactants such as described in JP-A-740-740 and JP-A-3-208514 and JP-A-59-121044.
And an amphoteric surfactant described in JP-A-4-13149 can be added.
【0088】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether and the like.
【0089】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.).
【0090】非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の
記録層中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ま
しく、より好ましくは0.1〜5重量%である。The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the recording layer is preferably from 0.05 to 15% by weight, more preferably from 0.1 to 5% by weight.
【0091】さらに、本発明の画像形成材料の記録層中
には、必要に応じ塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。Further, a plasticizer may be added to the recording layer of the image forming material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and the like are used.
【0092】本発明の画像形成材料においては、通常上
記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する
ことにより記録層を形成する。ここで使用する溶媒とし
ては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独又は混合して使用される。溶
媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、1
〜50重量%であることが好ましい。本発明に係る記録
層の塗布量(固形分)は用途によって異なるが、0.0
1〜3.0g/m2の範囲に調整される。塗布する方法
としては、種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カー
テン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少
なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記
録膜の被膜特性は低下する。In the image forming material of the present invention, a recording layer is usually formed by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene,
Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is 1
Preferably, it is about 50% by weight. The coating amount (solid content) of the recording layer according to the present invention varies depending on the application, but is 0.0%.
It is adjusted to a range of 1 to 3.0 g / m 2 . Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.
【0093】本発明における記録層には、塗布性を良化
するための界面活性剤、例えば、特開昭62−1709
50号に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添
加することができる。好ましい添加量は、全記録層固形
分中0.01〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜
0.5重量%である。The recording layer in the present invention may have a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-1709.
A fluorine-based surfactant as described in No. 50 can be added. A preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight based on the total solid content of the recording layer, and more preferably 0.05 to 1% by weight.
0.5% by weight.
【0094】次に、前記記録層の上層として設けられ
る、記録層と同じ機能を有し、且つ、該記録層より光又
は熱の作用に対する感度が高い第2の層(以下、適宜、
高感度層と称する)について説明する。この高感度層は
支持体上に形成された前記記録層に隣接して形成される
ことが好ましい。本発明の高感度層には、前記記録層と
同じ基本画像形成原理を用いている記録材料系をより高
感度化したものを利用してもよく、例えば、記録層とし
て、ラジカル重合系に比べれば感度の低い酸触媒架橋系
の記録層を形成し、その上層に、より高感度なラジカル
重合系からなる高感度層を設ける構成などの、異種記録
材料系を組み合わせたものを使用してもよい。界面での
融合性や製造適性の点では、高感度層には、記録層と同
じ記録材料系ののものを用いることが好ましい。また、
記録層と高感度層との光又は熱に対する感度の差は少な
くとも1.3倍程度あることが好ましい。感度の差異が
1.3倍未満であると積層構造を構成したことにより得
られる効果が不充分となる。記録層及び高感度層の感度
は、単独の層を形成し、それぞれ同じ条件で感度を測定
して求めることができる。Next, a second layer provided as an upper layer of the recording layer and having the same function as the recording layer and having higher sensitivity to the action of light or heat than the recording layer (hereinafter referred to as a
(Highly sensitive layer) will be described. This high-sensitivity layer is preferably formed adjacent to the recording layer formed on the support. For the high-sensitivity layer of the present invention, a recording material based on the same basic image forming principle as the recording layer may be used with a higher sensitivity.For example, the recording layer may be compared with a radical polymerization type. If a low-sensitivity acid-catalyzed cross-linking recording layer is formed, and a combination of different recording material systems is used, such as a configuration in which a high-sensitivity layer composed of a more sensitive radical polymerization system is provided thereon, Good. From the viewpoint of interface fusibility and production suitability, it is preferable to use the same recording material as the recording layer for the high-sensitivity layer. Also,
It is preferable that the difference in sensitivity to light or heat between the recording layer and the high-sensitivity layer is at least about 1.3 times. If the difference in sensitivity is less than 1.3 times, the effect obtained by forming the laminated structure becomes insufficient. The sensitivity of the recording layer and the sensitivity layer can be determined by forming a single layer and measuring the sensitivity under the same conditions.
【0095】次に同種の記録材料系を用いた場合の、高
感度層における一般的な記録層の高感度化法を述べる。
方法としては、例えば、高感度層を構成するバインダー
の現像性を、導入する親水性基、疎水性基の変更や分子
量の変更などの手段によって調整し、より高感度化する
方法、高感度層中に含まれる感光又は感熱性の化合物の
濃度を調整し(増加させ)、より高感度化する方法、高
感度層内で、光又は熱の作用により生じる反応あるいは
物性変化を促進するような、赤外線吸収剤等の如きいわ
ゆる増感助剤を添加し、より高感度化する方法などが挙
げられる。本発明に係る高感度層の塗布量(固形分)は
用途によって異なるが、0.01〜3.0g/m2の範
囲に調整される。Next, a description will be given of a general method of increasing the sensitivity of a recording layer in the case of using the same kind of recording material system.
Examples of the method include, for example, a method of adjusting the developability of a binder constituting the high-sensitivity layer by a means such as a change of a hydrophilic group or a hydrophobic group to be introduced or a change of a molecular weight, thereby increasing the sensitivity, A method for adjusting (increasing) the concentration of a photosensitive or heat-sensitive compound contained therein to increase the sensitivity, such as promoting a reaction or a change in physical properties caused by the action of light or heat in a high-sensitivity layer. There is a method of adding a so-called sensitizing aid such as an infrared absorber to increase the sensitivity. The coating amount (solid content) of the high-sensitivity layer according to the present invention varies depending on the application, but is adjusted in the range of 0.01 to 3.0 g / m 2 .
【0096】本発明に係る記録層及び高感度層を塗布可
能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例
えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、
金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラス
チックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)、上記のような金属がラミネート若しくは蒸着され
た紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。The support on which the recording layer and the high-sensitivity layer according to the present invention can be coated is a dimensionally stable plate, for example, paper, plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.). Laminated paper,
Metal plates (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate,
Cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or vapor-deposited.
【0097】好ましい支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板、及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、さらにアルミニウムがラミネート又は
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で支持体として用
いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜
0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4m
m、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。Preferred examples of the support include a polyester film and an aluminum plate. Among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in aluminum alloys include silicon, iron, manganese,
Copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The total content of foreign elements in the alloy is 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used as the support in the present invention is approximately 0.1 mm to
About 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 m
m, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.
【0098】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界
面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用い
ることができる。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方
法がある。また、特開昭54−63902号に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
できる。Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove the rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating current or a direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.
【0099】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化被膜
を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸又はそれらの混酸が用
いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によっ
て適宜決められる。The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if necessary, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. You. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. . The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.
【0100】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には、電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
被膜の量は1.0g/m2 より少ないと耐膜性が不十分
であったり、非画像部に傷が付き易くなって、特に平版
印刷用原版の場合、印刷時に傷の部分にインキが付着す
る、いわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used and thus cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70.degree.
Current density 5 to 60 A / dm 2, voltage 1 to 100 V, which is an electrolyzing time of 10 seconds to 5 minutes. If the amount of the anodic oxide coating is less than 1.0 g / m 2 , the film resistance is insufficient or the non-image area is easily scratched. So-called "scratch stains" to which ink adheres easily occur.
【0101】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明で使用
可能な親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、同第3,181,461号、同第3,280,
734号及び同第3,902,734号に開示されてい
るようなアルカリ金属シリケート(例えば、ケイ酸ナト
リウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体
がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電
解処理される。他に、特公昭36−22063号に開示
されているフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第3,
276,868号、同第4,153,461号、同第
4,689,272号に開示されているようなポリビニ
ルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。After the anodic oxidation treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. U.S. Pat. No. 2,714,075 discloses a hydrophilic treatment that can be used in the present invention.
No. 66, No. 3,181,461, No. 3,280,
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluorozirconate disclosed in JP-B-36-22063, U.S. Pat.
276,868, 4,153,461, and 4,689,272, and the like, such as a method of treating with polyvinyl phosphonic acid.
【0102】前記記録層を塗布する前に、必要に応じて
支持体上に下塗層を設けることができる。下塗層成分と
しては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキ
シメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2
−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホ
ン酸類;置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナ
フチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホス
ホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン
酸等の有機ホスホン酸;置換基を有してもよいフェニル
リン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロ
リン酸等の有機リン酸;置換基を有してもよいフェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフ
ィン酸及びグリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン
酸;グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸類;及びトリ
エタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有する
アミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用
いてもよい。また、前述したジアゾニウム化合物を下塗
りすることも好ましい。有機下塗層の被覆量は、2〜2
00mg/m2 が適当であり、好ましくは5〜100m
g/m2 である。上記の被覆量が2mg/m2 よりも少
ないと十分な膜性が得られず、200mg/m2 より大
きくても同様である。Before applying the recording layer, an undercoat layer may be provided on the support, if necessary. Various organic compounds are used as a component of the undercoat layer. For example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic,
Phosphonic acids having an amino group such as -aminoethylphosphonic acid; organic acids such as phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid which may have a substituent; Phosphonic acid; organic phosphoric acid such as phenylphosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent; phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, and alkylphosphinic acid which may have a substituent; It is selected from organic phosphinic acids such as glycerophosphinic acid; amino acids such as glycine and β-alanine; and hydrochlorides of amines having a hydroxyl group such as hydrochloride of triethanolamine. Is also good. It is also preferable to undercoat the aforementioned diazonium compound. The coating amount of the organic undercoat layer is 2 to 2
00 mg / m 2 is appropriate, preferably 5 to 100 m
g / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient film properties cannot be obtained, and the same is true even if the coating amount is more than 200 mg / m 2 .
【0103】この有機下塗層は、次のような方法で設け
ることができる。水またはメタノール、エタノール、メ
チルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合
溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウ
ム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また、後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
で、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50
℃、さらに、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、本発明の記録層を
平版印刷用原版として用いる場合には、調子再現性改良
のために黄色染料を添加することもできる。This organic undercoat layer can be provided by the following method. A method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied to an aluminum plate and dried to form a water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone. This is a method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in a solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washed and dried with water or the like to provide an organic undercoat layer. In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight.
At an immersion temperature of 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C.
° C, and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
The pH can be adjusted to a range of 1 to 12 with a basic substance such as triethylamine or potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. When the recording layer of the present invention is used as a lithographic printing plate precursor, a yellow dye may be added for improving tone reproducibility.
【0104】以上のようにして、本発明の画像形成材料
は、平版印刷用原版として用いることができる。この画
像形成材料は赤外線レーザで記録することが好ましい。As described above, the image forming material of the present invention can be used as a lithographic printing original plate. This image forming material is preferably recorded by an infrared laser.
【0105】本発明の画像形成材料が前記ポジ型或いは
ネガ型の記録層を有する場合には、露光後に水又はアル
カリ現像液による現像処理が行なわれる。現像処理は露
光後すぐに行ってもよいが、露光工程と現像工程の間に
加熱処理を行ってもよい。加熱処理をする場合その条件
は、60℃〜150℃の範囲内で5秒〜5分間行うこと
が好ましい。加熱方法としては、従来公知の種々の方法
を用いることができる。例えば、パネルヒーターやセラ
ミックヒーターにより記録材料と接触しつつ加熱する方
法、及びランプや温風による非接触の加熱方法等が挙げ
られる。この加熱処理により、レーザ照射時、記録に必
要なレーザエネルギーを減少させることができる。In the case where the image forming material of the present invention has the above-mentioned positive or negative recording layer, after the exposure, development processing with water or an alkali developing solution is performed. The development treatment may be performed immediately after the exposure, or a heat treatment may be performed between the exposure step and the development step. When performing the heat treatment, it is preferable that the heat treatment is performed within a range of 60 ° C. to 150 ° C. for 5 seconds to 5 minutes. As a heating method, various conventionally known methods can be used. For example, a method of heating while contacting the recording material with a panel heater or a ceramic heater, and a non-contact heating method with a lamp or hot air are used. By this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.
【0106】アルカリ性水溶液を用いる場合、現像液及
び補充液としては従来より知られているアルカリ水溶液
が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウ
ム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭
酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナ
トリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム
等の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルア
ミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチル
アミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソ
プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロ
ピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ
イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、
エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機
アルカリ剤も用いられる。When an alkaline aqueous solution is used, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used as a developer and a replenisher. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, potassium Inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine,
Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.
【0107】これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液の一例は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸
塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
M2 O(Mは、アルカリ金属を表す)の比率と濃度によ
って現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特
開昭54−62004号、特公昭57−7427号に記
載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用い
られる。These alkaline agents are used alone or in combination of two or more. An example of a particularly preferable developer among these alkaline agents is an aqueous solution of a silicate such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali metal oxide M 2 O (M represents an alkali metal). The alkali metal silicates described in JP-A-54-62004 and JP-B-57-7427 are effectively used.
【0108】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充
液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク
中の現像液を交換することなく、多量の記録層を処理で
きることが知られている。本発明においてもこの補充方
式が好ましく適用される。When developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution is added to the developing solution to replace the developing solution in the developing tank for a long time. And it is known that a large number of recording layers can be processed. This replenishment system is also preferably applied in the present invention.
【0109】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された記録層は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の記録層を印刷用版材として
使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組
み合わせて用いることができる。The recording layer developed using the developing solution and the replenisher described above is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. You. As the post-processing when the recording layer of the present invention is used as a printing plate material, these processings can be used in various combinations.
【0110】近年、特に製版・印刷業界においては、製
版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動
現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般
に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装
置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの
印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処
理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するもの
である。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に
液中ガイドロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させ
て処理する方法も知られている。このような自動処理に
おいては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充
液を補充しながら処理することができる。In recent years, especially in the plate making and printing industries, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate material, each processing solution tank, and a spray device. The developing process is performed by spraying each pumped processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method is also known in which a printing plate material is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like into a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like.
【0111】また、実質的に未使用の処理液で処理す
る、いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。Also, a so-called disposable processing method in which the processing is performed with a substantially unused processing solution can be applied.
【0112】上記のようにして得られた画像形成材料を
平版印刷版として用いる場合には、所望により不感脂化
ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができる。
より一層耐刷力を向上させる目的でバーニング処理が施
してもよい。平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。When the image-forming material obtained as described above is used as a lithographic printing plate, it can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum if desired.
Burning treatment may be performed for the purpose of further improving printing durability. When burning a lithographic printing plate, before burning, JP-B 61-2518 and 55-280
No. 62, JP-A-62-131859 and JP-A-61-1596.
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in each of the publications No. 55.
【0113】整面液が塗布された平版印刷版原版は、必
要に応じて乾燥された後バーニングプロセッサー(例え
ば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニ
ングプロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱さ
れる。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成して
いる成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で
1〜20分の範囲が好ましい。The lithographic printing plate precursor to which the surface conditioning liquid has been applied is dried, if necessary, and then heated at a high temperature using a burning processor (for example, BP-1300, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Heated. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but are preferably in the range of 180 to 300 ° C. and 1 to 20 minutes.
【0114】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来より行われてい
る処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等
を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどの
いわゆる不感脂化処理を省略することができる。The burn-processed lithographic printing plate can be subjected to a conventional treatment such as washing with water or gumming if necessary. When a liquid is used, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.
【0115】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.
【0116】[0116]
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに制限されるものではない。 〔支持体の作製〕厚さ0.30mmのアルミニウム板
(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと400メッシュのパミストン−
水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄し
た。このアルミニウム板を45℃の25%水酸化ナトリ
ウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、
さらに2%HNO3 に20秒間浸漬して水洗した。この
時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次に、この板を7%H2 SO4 を電解液として電流
密度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化被膜を
設けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下
記下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥
後の被覆量は10mg/m2 であった。EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. [Preparation of Support] An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.30 mm was washed with trichlorethylene and degreased, and then a nylon brush and a 400 mesh pamistone were used.
The surface was grained using a water suspension and washed well with water. This aluminum plate was immersed in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C. for 9 seconds to perform etching and washing with water.
Further, it was immersed in 2% HNO 3 for 20 seconds and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, this plate was provided with a 3 g / m 2 DC anodic oxide coating at a current density of 15 A / dm 2 using 7% H 2 SO 4 as an electrolyte, and then washed and dried. Next, the following undercoat liquid was applied to this aluminum plate, and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 .
【0117】 <下塗り液> ・β−アラニン ・・・・0.10g ・メタノール ・・・40.0 g ・純水 ・・・60.0 g<Undercoat liquid> β-alanine 0.10 g methanol 40.0 g pure water 60.0 g
【0118】(実施例1〜5:ネガ型画像形成材料)上
記支持体の上に、下記に示す組成のネガ型記録層(酸触
媒架橋層)形成溶液1を塗布し、100℃で3分間乾燥
した。乾燥後の重量は0.5g/m2であった。続い
て、下記に示す組成のネガ型高感度層形成溶液1を塗布
し、130℃で30秒間乾燥してネガ型の画像形成材料
を得て、実施例1〜5とした。乾燥後の重量はトータル
で2.0g/m2であった。(Examples 1 to 5: Negative-type image forming material) A negative-type recording layer (acid-catalyzed cross-linked layer) forming solution 1 having the following composition was applied on the above support, and the solution was applied at 100 ° C for 3 minutes. Dried. The weight after drying was 0.5 g / m 2 . Subsequently, a negative-type high-sensitivity layer forming solution 1 having the following composition was applied, and dried at 130 ° C. for 30 seconds to obtain a negative-type image forming material. The weight after drying was 2.0 g / m 2 in total.
【0119】 (ネガ型記録層(酸触媒架橋層)形成溶液1) ・表1の架橋剤[X] 0.8 g ・表1の高分子[Y] 1.5 g ・表1の酸発生剤[Z] 0.20g ・表1の赤外線吸収剤[A] 0.15g ・着色剤 0.015g (AIZEN SPLON BLUE C-RH:保土ヶ谷化学(株)製) ・フッ素系界面活性剤 0.06 g (メカ゛ファックF-177:大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケト 10.0 g ・γ−ブチロラクトン 10.0 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0 g(Negative Recording Layer (Acid Catalyst Cross-Linked Layer) Forming Solution 1) Crosslinking Agent [X] in Table 1 0.8 g Polymer Y in Table 1 1.5 g Acid Generation in Table 1 0.20 g of agent [Z]-0.15 g of infrared absorber [A] in Table 1-0.015 g of colorant (AIZEN SPLON BLUE C-RH: manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.)-Fluorosurfactant 0.06 g (Mecha @ Fac F-177: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 10.0 g of methyl ethyl keto 10.0 g of γ-butyrolactone 7.0 g of 1-methoxy-2-propanol
【0120】 (ネガ型高感度層形成溶液1) ・表1の架橋剤[B] 0.8 g ・表1の高分子[C] 1.5 g ・表1の酸発生剤[Z] 0.20g ・表1の赤外線吸収剤[A] 0.30g ・フッ素系界面活性剤 0.06 g (メカ゛ファックF-177:大日本インキ化学工業(株)製) ・酢酸エチル 15.0 g ・メタノール 5.0 g(Negative-Type Highly Sensitive Layer Forming Solution 1) Crosslinking agent [B] in Table 1 0.8 g Polymer 1.5 in Table 1 [C] 1.5 g Acid generator [Z] 0 in Table 1 .20 g ・ Infrared absorbent [A] in Table 1 0.30 g ・ Fluorine surfactant 0.06 g (Mechanical Fac F-177: manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ・ Ethyl acetate 15.0 g ・5.0 g of methanol
【0121】[0121]
【化21】 Embedded image
【0122】[0122]
【化22】 Embedded image
【0123】[0123]
【化23】 Embedded image
【0124】[0124]
【化24】 Embedded image
【0125】[0125]
【表1】 [Table 1]
【0126】(比較例1〜5)実施例1で用いたのと同
様の上記下塗済み支持体の上に、前記記録層(酸触媒架
橋層)形成溶液1において架橋剤、高分子、赤外線吸収
剤などを下記表2に記載の処方としたものを塗布し、10
0℃で3分間乾燥して、支持体上に単一組成の記録層の
みを形成した画像形成材料を得て比較例1〜5とした。
乾燥後の重量は0.5g/m2であった。(Comparative Examples 1 to 5) On the same subbed support as used in Example 1, a cross-linking agent, a polymer, and infrared absorption Applying the formulation shown in Table 2 below,
It dried at 0 degreeC for 3 minutes, and obtained the image forming material which formed only the recording layer of a single composition on the support body, and set it as Comparative Examples 1-5.
The weight after drying was 0.5 g / m 2 .
【0127】[0127]
【表2】 [Table 2]
【0128】(比較例6〜10)実施例1で用いたのと
同様の上記下塗済み支持体の上に、前記高感度層形成溶
液1において架橋剤、高分子、赤外線吸収剤などを下記
表3に記載の処方としたものを塗布し、130℃で30
秒間乾燥して、支持体上に比較例1〜5における記録層
よりも、より高感度な単一組成の記録層のみを形成した
画像形成材料を得て比較例6から10とした。乾燥後の
重量は1.5g/m2であった。(Comparative Examples 6 to 10) On the same subbed support as used in Example 1, a cross-linking agent, a polymer, an infrared absorber and the like in the high-sensitivity layer forming solution 1 were prepared as shown in the following table. Apply the formulation as described in 3 above,
After drying for 2 seconds, image forming materials were obtained in which only a recording layer having a single composition with higher sensitivity was formed on the support than the recording layers in Comparative Examples 1 to 5, and Comparative Examples 6 to 10 were obtained. The weight after drying was 1.5 g / m 2 .
【0129】[0129]
【表3】 [Table 3]
【0130】(実施例6〜10:ポジ型画像形成材料)
上記実施例1で用いたのと同様の下塗済み支持体上に、
下記の感熱ポジ型記録層形成溶液2を塗布し、100℃
で3分間乾燥した。乾燥後の重量は0.5g/m2であ
った。続いて、下記のポジ型高感度層形成溶液2を塗布
し、130℃で30秒間乾燥した。乾燥後の重量はトー
タルで2.0g/m2であった。(Examples 6 to 10: Positive image forming material)
On the same subbed support as used in Example 1 above,
The following heat-sensitive positive recording layer forming solution 2 is applied,
For 3 minutes. The weight after drying was 0.5 g / m 2 . Subsequently, the following positive-type high-sensitivity layer forming solution 2 was applied and dried at 130 ° C. for 30 seconds. The weight after drying was 2.0 g / m 2 in total.
【0131】 (感熱ポジ型記録層形成溶液2) ・表4の高分子[P] 2.0 g ・表4の赤外線吸収剤[A] 0.15g ・着色剤 0.015g (AIZEN SPLON BLUE C-RH:保土ヶ谷化学(株)製) ・フッ素系界面活性剤 0.06 g (メカ゛ファックF-177:大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 10.0g ・γ−ブチロラクトン 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0g(Thermal positive recording layer forming solution 2) ・ Polymer [P] in Table 4 2.0 g ・ Infrared absorbent [A] in Table 4 0.15 g ・ Colorant 0.015 g (AIZEN SPLON BLUE C -RH: Hodogaya Chemical Co., Ltd.)-Fluorine surfactant 0.06 g (Mechanical Fac F-177: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)-Methyl ethyl ketone 10.0 g-γ-butyrolactone 10.0 g- 1-methoxy-2-propanol 7.0 g
【0132】 (ポジ型高感度層形成溶液2) ・表4の高分子[Q] 2.0g ・表4の赤外線吸収剤[R] (表4記載の量(g)) ・表4の添加剤[S] (表4記載の量(g)) ・フッ素系界面活性剤 0.06 g (メカ゛ファックF-177:大日本インキ化学工業(株)製) ・酢酸エチル 15.0 g ・メタノール 15.0 g(Positive high-sensitivity layer forming solution 2) 2.0 g of polymer [Q] in Table 4 • Infrared absorbent [R] in Table 4 (Amount (g) described in Table 4) • Addition of Table 4 Agent [S] (Amount (g) shown in Table 4)-Fluorosurfactant 0.06 g (Mechanical Fac F-177: manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)-Ethyl acetate 15.0 g-Methanol 15.0 g
【0133】[0133]
【化25】 Embedded image
【0134】[0134]
【化26】 Embedded image
【0135】[0135]
【化27】 Embedded image
【0136】[0136]
【表4】 [Table 4]
【0137】(比較例11〜15)実施例1で用いたの
と同様の上記下塗済み支持体の上に、前記感熱ポジ型記
録層形成溶液2において架橋剤、高分子、赤外線吸収剤
などを下記表5に記載の処方としたものを塗布し、100
℃で3分間乾燥して、支持体上に単一組成の記録層のみ
を形成した画像形成材料を得て比較例11〜15とし
た。乾燥後の重量は0.5g/m2であった。(Comparative Examples 11 to 15) On the same undercoated support as used in Example 1, a crosslinking agent, a polymer, an infrared absorber and the like were added in the heat-sensitive positive recording layer forming solution 2. Apply the formulation shown in Table 5 below and apply 100
C. for 3 minutes to obtain an image forming material in which only a recording layer having a single composition was formed on a support, and Comparative Examples 11 to 15 were obtained. The weight after drying was 0.5 g / m 2 .
【0138】[0138]
【表5】 [Table 5]
【0139】(比較例16〜20)実施例1で用いたの
と同様の上記下塗済み支持体の上に、前記ポジ型高感度
層形成溶液2において架橋剤、高分子、赤外線吸収剤な
どを下記表6に記載の処方としたものを塗布し、100℃
で3分間乾燥して、支持体上に比較例11〜15におけ
る記録層よりも、より高感度な単一組成の記録層のみを
形成した画像形成材料を得て比較例16〜20とした。
乾燥後の重量は1.5g/m2であった。(Comparative Examples 16 to 20) On the same undercoated support as used in Example 1, a cross-linking agent, a polymer, an infrared absorbing agent and the like were added in the positive-type high-sensitivity layer forming solution 2. Applying the formulation shown in Table 6 below, 100 ° C
For 3 minutes to obtain an image forming material in which only a recording layer having a higher sensitivity than a recording layer of Comparative Examples 11 to 15 was formed on a support, and Comparative Examples 16 to 20 were obtained.
The weight after drying was 1.5 g / m 2 .
【0140】[0140]
【表6】 [Table 6]
【0141】<画像形成材料の感度評価>得られたネガ
型画像形成材料実施例1〜10及び比較例1〜20を波
長830nm〜850nm程度の赤外線を発生する半導
体レーザで走査露光した。露光後ネガ型感材に関しては
パネルヒーターにて130℃で60秒間加熱処理し、ポ
ジ型感材に関しては加熱処理をせずに、続いて富士写真
フィルム(株)製現像液、DP−4(1:7の水希釈
液)にて現像した。この際得られた画像の線幅とレーザ
出力、光学系でのロス及び走査速度を基に記録に必要な
エネルギー量を算出し、感度を示す指標とした。<Evaluation of Sensitivity of Image Forming Material> The obtained negative type image forming materials of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 20 were subjected to scanning exposure with a semiconductor laser emitting infrared rays having a wavelength of about 830 nm to 850 nm. After the exposure, the negative photosensitive material was subjected to a heat treatment at 130 ° C. for 60 seconds with a panel heater, and the positive photosensitive material was not subjected to the heat treatment. (1: 7 water dilution). At this time, the amount of energy required for recording was calculated based on the line width and laser output of the obtained image, the loss in the optical system, and the scanning speed, and used as an index indicating sensitivity.
【0142】<保存安定性の評価>前記の各画像形成材
料について、レーザ露光前に高温条件下(60℃)に3
日間放置し、その後、この保存後の画像形成材料を波長
830nm〜850nm程度の赤外線を発生する半導体
レーザで走査露光した。続いて富士写真フィルム(株)
製現像液、DP−4(1:8の水希釈液)にて現像し
た。この際得られた感光材料を印刷版として用いハイデ
ルKOR−D機で印刷時の非画像部の汚れを調査した。
保存安定性の悪いものは非画像部が汚れる。これらの評
価結果を表7に示す。<Evaluation of Storage Stability> Each of the above image forming materials was subjected to a high temperature condition (60 ° C.) before laser exposure.
After standing for a day, the image forming material after storage was subjected to scanning exposure with a semiconductor laser that generates infrared rays having a wavelength of about 830 nm to 850 nm. Next, Fuji Photo Film Co., Ltd.
Developing was performed using a developing solution DP-4 (a 1: 8 water diluent). The photosensitive material obtained at this time was used as a printing plate, and the stain on the non-image area during printing was investigated with a Heidel KOR-D machine.
Those with poor storage stability have non-image areas stained. Table 7 shows the results of these evaluations.
【0143】[0143]
【表7】 [Table 7]
【0144】表7に明らかなように、本発明の画像形成
材料は、感度に優れ、また、高温度下の環境においても
現像性の低下に起因する非画像部の汚れが見られず、保
存安定性に優れていることがわかった。As is clear from Table 7, the image-forming material of the present invention is excellent in sensitivity, and shows no stain on the non-image area due to a decrease in developability even in a high temperature environment. It turned out to be excellent in stability.
【0145】[0145]
【発明の効果】本発明の画像形成材料は、赤外線を照射
する固体レーザまたは半導体レーザーを用いてコンピュ
ータ等のデジタルデータから直接記録することができ、
高感度を達成しうるとともに、保存安定性にも優れる。The image-forming material of the present invention can be recorded directly from digital data of a computer or the like using a solid-state laser or semiconductor laser radiating infrared rays.
High sensitivity can be achieved, and storage stability is excellent.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/26 511 G03F 7/26 511 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AB03 AB09 AB13 AC08 AD01 AD03 BE00 CB14 CB15 CB17 CB29 CB45 CB52 CC17 DA13 DA31 FA10 FA17 2H096 AA06 AA23 AA28 BA01 BA09 EA04 GA08 KA02 2H114 AA04 AA15 BA01 BA05 FA15 GA05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03F 7/26 511 G03F 7/26 511 F-term (Reference) 2H025 AA00 AA01 AB03 AB09 AB13 AC08 AD01 AD03 BE00 CB14 CB15 CB17 CB29 CB45 CB52 CC17 DA13 DA31 FA10 FA17 2H096 AA06 AA23 AA28 BA01 BA09 EA04 GA08 KA02 2H114 AA04 AA15 BA01 BA05 FA15 GA05
Claims (2)
又はアルカリ水に対する可溶性が変化する組成物からな
る記録層を設けてなり、該記録層上に、記録層と同じ機
能を有し、且つ、記録層より光又は熱の作用に対する感
度が高い第2の層を設けることを特徴とする感光又は感
熱性画像形成材料。1. A recording layer comprising a composition whose solubility in water or alkaline water is changed by the action of light or heat on a support, and having the same function as the recording layer on the recording layer. A photosensitive or heat-sensitive image forming material comprising a second layer having a higher sensitivity to the action of light or heat than the recording layer.
線吸収剤を含有し、赤外線レーザにより記録が可能であ
ることを特徴とする請求項1に記載の感光又は感熱性画
像形成材料。2. The photosensitive or heat-sensitive image-forming material according to claim 1, wherein the photosensitive or heat-sensitive image-forming material contains an infrared absorbing agent and can be recorded by an infrared laser.
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JP11212476A JP2001042539A (en) | 1999-07-27 | 1999-07-27 | Photosensitive or heat-sensitive image forming material |
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---|---|
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JP (1) | JP2001042539A (en) |
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- 1999-07-27 JP JP11212476A patent/JP2001042539A/en active Pending
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