JP2000329903A - Agent for antireflection film and production of antireflection film - Google Patents
Agent for antireflection film and production of antireflection filmInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は反射防止膜を製造す
るための反射防止膜用剤、および反射防止膜の製造法に
関し、詳しくは高屈折率層形成性の反射防止膜用剤、低
屈折率層形成性の反射防止膜用剤、およびこれらを用い
た反射防止膜の製造法に関し、透明性・密着性・反射防
止能・処理コスト・処理時間に優れた反射防止膜を得る
ことに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an agent for an antireflection film for producing an antireflection film and a method for producing the antireflection film. The present invention relates to an antireflection film agent having a rate layer forming property and a method for producing an antireflection film using the same, to obtain an antireflection film having excellent transparency, adhesion, antireflection ability, processing cost, and processing time.
【0002】[0002]
【従来の技術】ブラウン管や液晶モニター等、情報視認
用表示端末が普及するにつれて、使用環境における外部
光の反射により眼精疲労、視力低下等の諸問題が発生
し、このため外部光の映り込みが少ない情報視認用表示
端末が求めれられてきている。2. Description of the Related Art As display terminals for viewing information such as cathode ray tubes and liquid crystal monitors have become widespread, reflection of external light in a use environment causes various problems such as eyestrain and reduced visual acuity. There has been a demand for a display terminal for information viewing which has a small number of items.
【0003】従来、このような問題を解決するために反
射防止膜を情報視認用表示端末に直接施すことが行われ
ており、かかる反射防止膜は、膜厚をコントロールした
高屈折率層と低屈折率層の積層による入射光の干渉作用
を利用したものが一般的であった。Conventionally, in order to solve such a problem, an antireflection film is directly applied to a display terminal for information viewing. Such an antireflection film has a high refractive index layer whose thickness is controlled and a low refractive index layer. It was common to use the interference effect of incident light due to the stacking of the refractive index layers.
【0004】また、この反射防止膜は、厳密にコントロ
ールされた屈折率を有する高屈折率金属化合物と低屈折
率金属化合物とを交互に膜厚をコントロールしながら真
空蒸着法やスパッタリング法により積層することで達成
されてきたのが現状である。The antireflection film is formed by laminating a high-refractive index metal compound and a low-refractive index metal compound having a strictly controlled refractive index by a vacuum deposition method or a sputtering method while alternately controlling the film thickness. That is what has been achieved.
【0005】しかし、この方法では反射防止膜を施した
製品の製造には高価な真空蒸着装置やスパッタリング装
置を使用する必要があり、処理時間や処理コストがかか
りすぎるため、安価な情報視認用表示末端に適応するの
が困難であった。However, in this method, it is necessary to use an expensive vacuum evaporation apparatus or a sputtering apparatus to manufacture a product provided with an antireflection film, and it takes too much processing time and processing cost. It was difficult to adapt to the ends.
【0006】また、直接、蒸着法やスパッタリング法に
より積層することが困難な性質の情報視認用表示末端に
は適応できないという問題も有していた。There is also a problem that it cannot be applied to an information viewing display terminal having a property that it is difficult to directly laminate by a vapor deposition method or a sputtering method.
【0007】さらに、高屈折率金属又は金属酸化物等の
無機材料を反射防止処理を行う樹脂基材に蒸着・スパッ
タリング等の方法で形成する場合、両者が異種物質であ
ることに由来し、密着性が十分ではなく、剥離し易い問
題もあった。Further, when an inorganic material such as a high-refractive index metal or metal oxide is formed on a resin base material to be subjected to antireflection treatment by a method such as vapor deposition or sputtering, both materials are derived from different kinds of substances, and are adhered to each other. There was also a problem that the property was not sufficient and it was easy to peel off.
【0008】特開平5−2101号公報には、かかる手
段による反射防止膜の製造方法が開示されているが、処
理の煩雑さや、時間・コストの面で不利であることは前
述の通りである。また、特開平7−72305号公報に
は、低屈折率層を塗工・乾燥により作成する方法が記載
されている。しかし、かかる発明における低屈折率層は
膜強度が低く、耐久性に劣るものであり、高屈折率金属
層も蒸着法が採用され、処理の煩雑さ、量産効率の悪
さ、および高処理コストの点で不十分である。Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-2101 discloses a method for producing an antireflection film by such means, but it is disadvantageous in terms of processing complexity, time and cost as described above. . Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-72305 describes a method of forming a low refractive index layer by coating and drying. However, the low-refractive-index layer in this invention has low film strength and is inferior in durability, and the high-refractive-index metal layer is also formed by a vapor deposition method, which complicates processing, inefficient mass production, and increases processing cost. Inadequate in terms.
【0009】さらに、高屈折率層成分として特開平2−
113027号、特開平3−54226号、特開平3−
21638号および特開平3−41110号の各公報に
は、イオウを多量に含んでなる反応性樹脂が開示されて
いるが、このような製品を使用する場合、特殊な原料を
使用する必要性からコスト高となり、また、使用後の廃
棄や焼却の際にイオウ酸化物を大気中に放出するという
環境面でも悪影響があるため、問題があった。さらにま
た、樹脂屈折率を変更するためには、分子構造の変更を
行う必要があり、細かな屈折率の調整が困難であるとい
う問題も有していた。Further, as a component of a high refractive index layer, JP-A-2-
No. 113027, JP-A-3-54226, JP-A-3-54
JP-A-21638 and JP-A-3-41110 disclose reactive resins containing a large amount of sulfur. However, when such products are used, it is necessary to use special raw materials. There is a problem because the cost is increased, and there is also an adverse effect on the environment that sulfur oxides are released into the atmosphere upon disposal or incineration after use. Furthermore, in order to change the refractive index of the resin, it is necessary to change the molecular structure, and it is difficult to finely adjust the refractive index.
【0010】一方、低屈折率層の作成は、従来技術にお
いては、フッ化マグネシウム等のフッ素原子含有金属や
珪素金属または酸化珪素の蒸着・スパッタリングで達成
されるのが一般的であり、反射防止膜全体として処理時
間および処理コストの面で有利な方法が実用化されてい
ないというのが現状である。On the other hand, in the prior art, the formation of the low refractive index layer is generally achieved by vapor deposition / sputtering of a fluorine atom-containing metal such as magnesium fluoride, silicon metal or silicon oxide. At present, a method advantageous in terms of processing time and processing cost for the entire film has not been put to practical use.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、処理コスト、処理時間および処理の煩雑さがないと
いう面で優れている簡便な方法にて、処理基材との密着
性が良好でかつ透明性の高い反射防止膜を得ることので
きる反射防止膜用剤およびこれを用いた反射防止膜製造
方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a simple method which is excellent in terms of processing cost, processing time and no complicated processing, and has good adhesion to a processing substrate. An object of the present invention is to provide an antireflection film agent capable of obtaining a highly transparent antireflection film and a method for producing an antireflection film using the same.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の高屈折率層形成性の反射防止膜用剤は、必
須の成分として、エネルギー線重合性材料100重量
部、および該エネルギー線重合性材料に対してTiO2
換算で5〜300重量部の、平均粒子径5〜100nm
の有機溶剤分散型コロイダル酸化チタンを含有すること
を特徴とするものである。In order to solve the above-mentioned problems, the agent for forming an antireflection film having a high refractive index layer according to the present invention comprises, as essential components, 100 parts by weight of an energy ray polymerizable material, TiO 2 for energy ray polymerizable material
5 to 300 parts by weight in terms of average particle diameter 5 to 100 nm
Wherein the organic solvent-dispersed colloidal titanium oxide is contained.
【0013】本発明の高屈折率層形成性の反射防止膜用
剤においては、前記エネルギー線重合性材料が、(1)
カチオン重合性有機物質と、(2)エネルギー線感受性
カチオン重合開始剤とからなるものであってもよく、あ
るいはまた前記エネルギー線重合性材料が、(1)カチ
オン重合性有機物質と、(2)エネルギー線感受性カチ
オン重合開始剤と、(3)ラジカル重合性有機物質と、
(4)エネルギー線感受性ラジカル重合開始剤とからな
るものであってもよい。また、前記エネルギー線重合性
材料における、(1)カチオン重合性有機物質と(3)
ラジカル重合性有機物質との重量比(1):(3)は、
好ましくは10〜100:0〜90である。In the agent for an antireflection film capable of forming a high refractive index layer according to the present invention, the energy ray-polymerizable material is (1)
It may be composed of a cation polymerizable organic substance and (2) an energy ray-sensitive cation polymerization initiator, or the energy ray polymerizable material may be composed of (1) a cation polymerizable organic substance, and (2) An energy ray-sensitive cationic polymerization initiator, (3) a radically polymerizable organic substance,
(4) It may be composed of an energy ray-sensitive radical polymerization initiator. Further, in the energy ray polymerizable material, (1) a cationic polymerizable organic substance and (3)
The weight ratio with the radical polymerizable organic substance (1) :( 3) is
Preferably it is 10-100: 0-90.
【0014】また、本発明の低屈折率層形成性の反射防
止膜用剤は、必須の成分として、有機溶剤に対して次
式、 (式中、R1は直鎖でも分岐でもよい炭素原子数1〜3
のアルコキシ基、R2は直鎖でも分岐でもよい炭素原子
数1〜16であるフッ素原子含有炭化水素基、R3は炭
素原子数1〜3のアルキル基であり、R1、R2、R3
がそれぞれ複数存在する場合にはいずれも、同一であっ
ても異なっていてもよく、全R2中のフッ素原子数は3
以上であり、mは1〜3の数、nは1〜3の数であり、
かつm+n≦4である)で表されるフッ素含有シランカ
ップリング剤を溶解した溶液を加水分解処理したことを
特徴とするものである。The low-refractive-index layer-forming antireflection film agent of the present invention comprises, as an essential component, an organic solvent represented by the following formula: (Wherein, R 1 is a straight-chain or branched carbon atom having 1 to 3 carbon atoms.
R 2 is a fluorine-containing hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms which may be straight-chain or branched; R 3 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; R 1 , R 2 , R 3 3
May be the same or different, and the number of fluorine atoms in all R 2 is 3
M is a number of 1 to 3, n is a number of 1 to 3,
And m + n ≦ 4) in which a solution in which a fluorine-containing silane coupling agent is dissolved is subjected to hydrolysis treatment.
【0015】さらに、本発明の反射防止膜製造方法は、 イ)高屈折率層形成性の反射防止膜用剤を被反射防止体
表面に塗工する工程と、 ロ)高屈折率層形成性の反射防止膜用剤を塗工した被反
射防止体表面にエネルギー線を照射して塗工物を硬化さ
せ高屈折率層を形成する工程と、 ハ)該高屈折率層上に低屈折率層形成性の反射防止膜用
剤を塗工する工程と、 ニ)該低屈折率層形成性の反射防止膜用剤を塗工した塗
工物を硬化させ低屈折率層を形成する工程と、からなる
ことを特徴とするものである。Further, the method for producing an antireflection film according to the present invention comprises the steps of: a) applying an agent for forming an antireflection film having a high refractive index layer to the surface of the antireflection member; A step of irradiating the surface of the anti-reflective body coated with the agent for anti-reflection film with energy rays to cure the coated material to form a high refractive index layer; c) a low refractive index layer on the high refractive index layer A step of applying a layer-forming anti-reflection film agent; and d) a step of curing the coating material coated with the low-refractive-index layer-forming anti-reflection film agent to form a low-refractive-index layer. , Consisting of:
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】本発明の高屈折率層形成性の反射
防止膜用剤に使用する有機溶剤分散型コロイダル酸化チ
タンとは、酸化チタン粒子を有機溶剤に分散させたもの
である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The organic solvent-dispersed colloidal titanium oxide used in the antireflection film-forming agent of the present invention for forming a high refractive index layer is obtained by dispersing titanium oxide particles in an organic solvent.
【0017】ここで使用される有機溶剤は、特に限定さ
れるものではないが、一例を示すと、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系
溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等のBTX系溶
剤、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノブチルエーテル等のセルソルブ系溶剤、酢酸メチル、
酢酸エチル等のエステル系溶剤、カルビトール系溶剤、
等の有機溶剤を挙げることができ、これらの有機溶剤は
1種又は2種以上の混合溶剤として使用することがで
き、好ましくは沸点200℃以下の有機溶剤がよく、ま
た、水分含有量が5重量%以下であることが望ましい。The organic solvent used here is not particularly limited, but examples thereof include ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene, and the like. BTX solvents such as toluene and xylene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, cellosolve solvents such as ethylene glycol monobutyl ether, methyl acetate,
Ester solvents such as ethyl acetate, carbitol solvents,
And the like. These organic solvents can be used as one kind or a mixture of two or more kinds, and preferably an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less is preferable. It is desirable that the content be not more than weight%.
【0018】有機溶剤中の酸化チタンの含量は任意であ
る。後述のエネルギー線重合性材料との割合においてT
iO2含量が所望範囲内であればよいので特に限定され
るものではないが、好ましくは1〜60重量%のTiO
2を含むものがよい。The content of titanium oxide in the organic solvent is arbitrary. T in terms of the ratio with the energy ray polymerizable material described later
iO 2 content is not limited particularly since it is within the desired range, preferably from 1 to 60 wt% TiO
2 is preferable.
【0019】TiO2分が少なすぎると高屈折率層を形
成しにくくなり、また多すぎると安定な分散液を得るの
が難しくなる。If the content of TiO 2 is too small, it becomes difficult to form a high refractive index layer, and if it is too large, it becomes difficult to obtain a stable dispersion.
【0020】有機溶剤に分散しているTiO2の平均粒
子径は5〜100nmであり、より望ましくは平均粒子
径7〜70nmである。平均粒子径が5mm未満の場合
には、安定したコロイド状を保てず、配合したエネルギ
ー線重合性組成物の安定性が悪化する。逆に100mm
を超えると、硬化膜の透明性が悪化するため、本発明の
特徴である透明性において不適当なものとなる。The average particle size of TiO 2 dispersed in the organic solvent is 5 to 100 nm, more preferably, 7 to 70 nm. When the average particle size is less than 5 mm, stable colloidal state cannot be maintained, and the stability of the compounded energy ray polymerizable composition is deteriorated. Conversely 100mm
If it exceeds, the transparency of the cured film is deteriorated, and the transparency which is a feature of the present invention becomes inappropriate.
【0021】本発明において使用する有機溶剤分散型コ
ロイダル酸化チタンは、酸化チタン粒子が有機溶剤中に
コロイド状に分散していることが必要であり、分散液と
して使用するものであるので、例えば、3000rpm
で30分間の遠心分離処理により、沈降物がTiO2含
有量の5重量%以下となるような安定した分散液を使用
することが好ましい。The organic solvent-dispersed colloidal titanium oxide used in the present invention requires that the titanium oxide particles be dispersed in an organic solvent in a colloidal state, and is used as a dispersion. 3000rpm
It is preferable to use a stable dispersion in which the sediment is 5% by weight or less of the TiO 2 content by centrifugation at 30 minutes.
【0022】この様な有機溶剤分散型コロイダル酸化チ
タンは、単にTiO2粉末を前述の有機溶剤に分散した
だけでは得ることはできない。TiO2粉末を単に分散
させたものを用いた場合、分散粒子が上記の粒子径範囲
から大幅に逸脱するため、透明性に優れた反射防止膜は
得られない。Such an organic solvent-dispersed colloidal titanium oxide cannot be obtained simply by dispersing TiO 2 powder in the aforementioned organic solvent. When a dispersion of TiO 2 powder is used, the dispersed particles greatly deviate from the above-mentioned particle size range, so that an antireflection film having excellent transparency cannot be obtained.
【0023】本発明に使用可能なこのような有機溶剤分
散型コロイダル酸化チタンは、例えば、特開平6−29
8533号公報に開示されているようなチタンアルコキ
シドを強酸中に滴下する方法や、特公2820251号
公報記載のような水性チタニアゾルの水分を溶剤置換す
ることによって得ることができる。また、一般市販品を
そのまま使用することも可能で、オプトレイク(触媒化
成(株)製)等の商標名で市販されているものも使用で
きる。Such an organic solvent-dispersed colloidal titanium oxide usable in the present invention is disclosed, for example, in JP-A-6-29.
It can be obtained by a method of dropping a titanium alkoxide into a strong acid as disclosed in JP-A-8533, or by replacing the water content of an aqueous titania sol with a solvent as described in JP-B-2820251. In addition, a general commercial product can be used as it is, and a product commercially available under a trade name such as Optrake (manufactured by Catalyst Chemicals, Inc.) can also be used.
【0024】本発明の高屈折率層形成性の反射防止膜用
剤は、エネルギー線重合性材料100重量部に対して、
前述の粒子径5〜100nmの有機溶剤分散型コロイダ
ル酸化チタンを、TiO2換算で5〜300重量部含有
するものである。The agent for forming a high refractive index layer of the present invention for an antireflection film is used in an amount of 100 parts by weight of the energy ray polymerizable material.
The organic solvent-dispersible colloidal titanium oxide of the aforementioned particle diameter 5 to 100 nm, those containing 5 to 300 parts by weight in terms of TiO 2.
【0025】かかるコロイダル酸化チタンが上記範囲量
未満であると屈折率が不足し高屈折率層を与えることが
できない。好ましくは、屈折率1.60以上を与える量
とするのがよい。また、上記範囲量を超えて配合すると
屈折率は高くなるが、硬化膜としての硬度が不足し、さ
らに透明性が低下するため、不適当なものとなる。If the amount of the colloidal titanium oxide is less than the above range, the refractive index is insufficient, and a high refractive index layer cannot be provided. Preferably, the amount is such that the refractive index is 1.60 or more. Further, if the amount is more than the above range, the refractive index is increased, but the hardness as a cured film is insufficient, and the transparency is further reduced, which is unsuitable.
【0026】本発明の高屈折率層形成性の反射防止膜用
剤に使用するエネルギー線重合性材料は、(1)カチオ
ン重合性有機物質と、(2)エネルギー線感受性カチオ
ン重合開始剤とからなるものであるか、あるいは上記
(1)、(2)に加えて、(3)ラジカル重合性有機物
質と、(4)エネルギー線感受性ラジカル重合開始剤と
からなるものとすることができる。The energy ray-polymerizable material used in the antireflection film forming agent having a high refractive index layer according to the present invention comprises (1) a cationic polymerizable organic substance and (2) an energy ray-sensitive cationic polymerization initiator. Or (3) a radically polymerizable organic substance and (4) an energy ray-sensitive radical polymerization initiator in addition to the above (1) and (2).
【0027】エネルギー線重合性材料に使用し得る
(1)カチオン重合性有機物質としては、例えば、エポ
キシ化合物、環状エーテル化合物、オキセタン化合物、
環状ラクトン化合物、環状アセタール化合物、環状チオ
エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニル
化合物などであり、これらの1種または2種以上を使用
することができる。中でも、入手するのが容易であり取
扱いに便利なエポキシ化合物が適している。かかるエポ
キシ化合物としては、芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポ
キシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂などが適している。The (1) cationically polymerizable organic substance that can be used for the energy ray polymerizable material includes, for example, epoxy compounds, cyclic ether compounds, oxetane compounds,
Examples thereof include a cyclic lactone compound, a cyclic acetal compound, a cyclic thioether compound, a spiro orthoester compound, and a vinyl compound, and one or more of these can be used. Among them, epoxy compounds that are easily available and convenient to handle are suitable. As such an epoxy compound, an aromatic epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin and the like are suitable.
【0028】芳香族エポキシ樹脂の具体例としては、少
なくとも1個の芳香族環を有する多価フェノールまた
は、そのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジル
エーテル、例えばビスフェノールA、ビスフェノール
F、またこれらに更にアルキレンオキサイドを付加させ
た化合物のグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹
脂、エポキシ化フルオレン樹脂、エポキシ化カルバゾー
ル樹脂等が挙げられる。Specific examples of the aromatic epoxy resin include a polyhydric phenol having at least one aromatic ring or a polyglycidyl ether of an alkylene oxide adduct thereof, such as bisphenol A and bisphenol F, and furthermore an alkylene oxide. Glycidyl ether, epoxy novolak resin, epoxidized fluorene resin, epoxidized carbazole resin and the like.
【0029】また、脂環族エポキシ樹脂の具体例として
は、少なくとも1個の脂環族環を有する多価アルコール
のポリグリシジルエーテルまたはシクロヘキセン、シク
ロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化すること
によって得られるシクロヘキセンオキサイド構造含有化
合物または、シクロペンテンオキサイド構造含有化合
物、またはビニルシクロヘキサン構造を有する化合物を
酸化剤でエポキシ化することによって得られるビニルシ
クロヘキサンオキサイド構造含有化合物が挙げられる。
例えば、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテ
ル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−
エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4−エ
ポキシ−1−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ
−1−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、6−メ
チル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−6−メ
チル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチ
ル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカル
ボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘ
キシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘ
キサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シク
ロヘキサン−メタジオキサン、ビス(3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキ
センジオキサイド、4 −ビニルエポキシシクロヘキサ
ン、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシ
ルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチル
シクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス(3,
4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエン
ジエポキサイド、エチレングリコールジ(3,4−エポ
キシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス
(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポ
キシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル等が
挙げられる。Specific examples of the alicyclic epoxy resin are obtained by epoxidizing a polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having at least one alicyclic ring or a compound containing cyclohexene or cyclopentene ring with an oxidizing agent. And a compound having a vinylcyclohexane oxide structure obtained by epoxidizing a compound having a cyclohexene oxide structure, a compound having a cyclopentene oxide structure, or a compound having a vinylcyclohexane structure with an oxidizing agent.
For example, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-
Epoxycyclohexyl carboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylcyclohexanecarboxylate, 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxy Cyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methyl Cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-metadioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene dioxide 4 - vinyl epoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl methyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl carboxylate, methylene bis (3,
4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylene glycol di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), dioctyl epoxyhexahydrophthalate, epoxyhexahydrophthalate And di-2-ethylhexyl acid.
【0030】脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、脂
肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付
加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸の
ポリグリシジルエステル、脂肪族長鎖不飽和炭化水素を
酸化剤で酸化することによって得られるエポキシ含有化
合物、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタク
リレートのホモポリマー、グリシジルアクリレートまた
はグリシジルメタクリレートのコポリマー等が挙げられ
る。代表的な化合物として、1,4−ブタンジオールジ
グリシジルエーテル,1,6−ヘキサンジオールジグリ
シジルエーテル,グリセリンのトリグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペン
タエルスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエ
チレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピ
レングリコールのジグリシジルエーテルなどの多価アル
コールのグリシジルエーテル。また、プロピレングリコ
ール,グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種また
は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することによ
って得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジル
エーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル
が挙げられる。さらに、脂肪族高級アルコールのモノグ
リシジルエーテルやフェノール,クレゾール,ブチルフ
ェノール、またこれらにアルキレンオキサイドを付加す
ることによって得られるポリエーテルアルコールのモノ
グリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステ
ル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチ
ル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化アマニ
油、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。Specific examples of the aliphatic epoxy resin include a polyglycidyl ether of an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof, a polyglycidyl ester of an aliphatic long-chain polybasic acid, and an aliphatic long-chain unsaturated hydrocarbon. And glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate homopolymer, glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate copolymer, and the like. Representative compounds include 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylolpropane, tetraglycidyl ether of sorbitol, dipentaerthry Glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as tall hexaglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, and polypropylene glycol diglycidyl ether. Further, polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as propylene glycol and glycerin, and diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids can be mentioned. Can be Furthermore, monoglycidyl ethers of aliphatic higher alcohols, phenol, cresol, butylphenol, monoglycidyl ethers of polyether alcohols obtained by adding alkylene oxides to these, glycidyl esters of higher fatty acids, epoxidized soybean oil, epoxy stearin Octyl acid, butyl epoxystearate, epoxidized linseed oil, epoxidized polybutadiene, and the like.
【0031】(1)カチオン重合性有機物質のエポキシ
化合物以外の具体例としては、トリメチレンオキサイ
ド、3,3−ジメチルオキセタン、3,3−ジクロロメ
チルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオ
キセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタ
ン、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニルメ
トキシ)メチル〕ベンゼン等のオキセタン化合物、テト
ラヒドロフラン、2,3−ジメチルテトラヒドロフラン
等のオキソフラン化合物、トリオキサン、1,3−ジオ
キソラン、1,3,6−トリオキサンシクロオクタン等
の環状アセタール化合物、β−プロピオラクトン、ε−
カプロラクトン等の環状ラクトン化合物、エチレンスル
フィド、チオエピクロロヒドリン等のチイラン化合物、
1,3−プロピンスルフィド、3,3−ジメチルチエタ
ン等のチエタン化合物、テトラヒドロチオフェン誘導体
等の環状チオエーテル化合物、エチレングリコールジビ
ニルエーテル、アルキルビニルエーテル、3,4−ジヒ
ドロピラン−2−メチル(3,4−ジヒドロピラン−2
−カルボキシレート)、トリエチレングリコールジビニ
ルエーテル等のビニル化合物、エポキシ化合物とラクト
ンの反応によって得られるスピロオルソエステル化合
物、ビニルシクロヘキセン、イソブチレン、ポリブタジ
エン等のエチレン性不飽和化合物および上記化合物の誘
導体等が挙げられる。(1) Specific examples of cationically polymerizable organic substances other than epoxy compounds include trimethylene oxide, 3,3-dimethyloxetane, 3,3-dichloromethyloxetane, 3-methyl-3-hydroxymethyloxetane, Oxetane compounds such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane and 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene; oxofuran compounds such as tetrahydrofuran and 2,3-dimethyltetrahydrofuran; trioxane; Acetal compounds such as 1,3-dioxolan, 1,3,6-trioxanecyclooctane, β-propiolactone, ε-
Cyclic lactone compounds such as caprolactone, ethylene sulfide, thiirane compounds such as thioepichlorohydrin,
Thietane compounds such as 1,3-propyne sulfide and 3,3-dimethylthiethane, cyclic thioether compounds such as tetrahydrothiophene derivatives, ethylene glycol divinyl ether, alkyl vinyl ether, 3,4-dihydropyran-2-methyl (3, 4-dihydropyran-2
-Carboxylate), vinyl compounds such as triethylene glycol divinyl ether, spiro orthoester compounds obtained by reacting epoxy compounds with lactones, ethylenically unsaturated compounds such as vinylcyclohexene, isobutylene, polybutadiene, and derivatives of the above compounds. Can be
【0032】なお、本発明においては、(1)カチオン
重合性有機物質として、上述したカチオン重合性物質の
うち1種または2種類以上の化合物を配合して使用する
ことができる。In the present invention, (1) one or more compounds of the above-mentioned cationically polymerizable substances can be blended and used as the cationically polymerizable organic substance.
【0033】また、これらに限定されるものではない
が、(1)カチオン重合性有機物質のうち好ましいもの
は、1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有す
る脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、エポキシ化フル
オレン樹脂、エポキシ化カルバゾール樹脂である。Although not limited thereto, preferred among (1) cationically polymerizable organic substances are alicyclic epoxy resins having at least two or more epoxy groups per molecule, bisphenol A Epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, epoxidized fluorene resin, and epoxidized carbazole resin.
【0034】エネルギー線重合性材料に使用し得る
(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤として
は、エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる
物質を放出することが可能な化合物であり、特に好まし
いものは、照射によってルイス酸を放出するオニウム塩
である複塩、またはその誘導体である。かかる化合物の
代表的なものとしては一般式、 [A]t+[B]t− で表される陽イオンと陰イオンの塩を挙げることができ
る。The (2) energy ray-sensitive cationic polymerization initiator which can be used for the energy ray polymerizable material is a compound capable of releasing a substance which initiates cationic polymerization by irradiation with energy rays. A double salt that is an onium salt that releases a Lewis acid upon irradiation, or a derivative thereof. Representative examples of such compounds include salts of cations and anions represented by the general formula [A] t + [B] t- .
【0035】ここで、陽イオンAt+はオニウムである
のが好ましく、その構造は例えば、 [(R11)aZ]t+ で表すことができる。Here, the cation At + is preferably onium, and its structure can be represented by, for example, [(R 11 ) a Z] t + .
【0036】更にここで、R11は炭素数が1〜60であ
り、炭素以外の原子をいくつ含んでもよい有機の基であ
る。aは1〜5なる整数である。a個のR11は各々独立
で、同一でも異なっていてもよい。また、少なくとも1
つは、芳香環を有する上記の如き有機の基であることが
好ましい。ZはS、N、Se、Te、P、As、Sb、
Bi、O、I、Br、Cl、F、N=Nからなる群から
選ばれる原子あるいは原子団である。また、陽イオンA
t+中のZの原子価をzとしたとき、t=a−zなる関
係が成り立つことが必要である。Further, R 11 is an organic group having 1 to 60 carbon atoms and which may contain any number of atoms other than carbon. a is an integer of 1 to 5. In a number of R 11 are each independently, it may be the same or different. Also, at least one
One is preferably an organic group having an aromatic ring as described above. Z is S, N, Se, Te, P, As, Sb,
An atom or atomic group selected from the group consisting of Bi, O, I, Br, Cl, F, and N = N. Also, cation A
When the valence of Z in t + is z, it is necessary that the relationship t = az is satisfied.
【0037】また、陰イオンBt−は、ハロゲン化物錯
体であるのが好ましく、その構造は例えば、 [LXb]t− で表すことができる。Further, the anion B t-is preferably a halide complex, and its structure, for example, can be represented by [LX b] t-.
【0038】更にここで、Lはハロゲン化物錯体の中心
原子である金属または半金属(Metalloid)であり、
B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、
In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等であ
る。Xはハロゲンであ る。bは3〜7なる整数であ
る。また、陰イオンBt−中のLの原子価をpとしたと
き、t=b−pなる関係が成り立つことが必要である。Here, L is a metal or metalloid which is the central atom of the halide complex,
B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca,
In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co and the like. X is halogen. b is an integer of 3 to 7. Further, when the valence of L in the anion B t− is p, it is necessary that the relationship t = bp holds.
【0039】上記一般式の陰イオン[LXb]t−の具
体例としてはテトラフルオロボレート(BF4)−、ヘ
キサフルオロホスフェート(PF6)−、ヘキサフルオ
ロアンチモネート(SbF6)−、ヘキサフルオロアル
セネート(AsF6)−、ヘキサクロロアンチモネート
(SbCl6)−等が挙げられる。Specific examples of the anion [LX b ] t- in the above general formula include tetrafluoroborate (BF 4 ) − , hexafluorophosphate (PF 6 ) − , hexafluoroantimonate (SbF 6 ) − , hexafluoro Arsenate (AsF 6 ) − , hexachloroantimonate (SbCl 6 ) − and the like.
【0040】また、陰イオンBt−は、 [LXb−1(OH)]t− で表される構造のものも好ましく用いることができる。
L、X、bは上記と同様である。また、その他用いるこ
とができる陰イオンとしては、過塩素酸イオン(ClO
4)−、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO
3)−、フルオロスルホン酸イオン(FSO3)−、ト
ルエンスルホン陰酸イオン、トリニトロベンゼンスルホ
ン酸陰イオン等が挙げられる。As the anion B t− , one having a structure represented by [LX b-1 (OH)] t− can also be preferably used.
L, X and b are the same as above. Other anions that can be used include perchlorate ion (ClO
4 ) − , trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO
3 ) − , fluorosulfonic acid ion (FSO 3 ) − , toluenesulfonic acid anion, trinitrobenzenesulfonic acid anion and the like.
【0041】また、陰イオンBt−として、テトラキス
(ペンタフルオロフェニル)ボレートも好ましく使用す
ることができる。Further, as t- anion B, it is possible to also use preferably tetrakis (pentafluorophenyl) borate.
【0042】本発明では、この様なオニウム塩のなかで
も、芳香族オニウム塩を使用するのが特に有効である。
中でも、特開昭50−151997号、特開昭50−1
58680号公報に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭
50−151997号、特開昭52−30899号、特
開昭56−55420号、特開昭55−125105号
公報等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭50
−158698号公報記載のVA族芳香族オニウム塩、
特開昭56−8428号、特開昭56−149402
号、特開昭57−192429号公報等に記載のオキソ
スルホキソニウム塩、特開昭49−17040号記載の
芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4139655号明
細書記載のチオビリリウム塩等が好ましい。また、その
他好ましいものとしては、鉄/アレン錯体やアルミニウ
ム錯体/光分解珪素化合物系開始剤等も挙げられる。In the present invention, it is particularly effective to use an aromatic onium salt among such onium salts.
Among them, JP-A-50-151997 and JP-A-50-1
Aromatic halonium salts described in JP-A-58680, and VIA aromatics described in JP-A-50-151997, JP-A-52-30899, JP-A-56-55420, JP-A-55-125105 and the like. Group onium salt, JP-A-50
A VA-group aromatic onium salt described in JP-A-1558698;
JP-A-56-8428, JP-A-56-149402
And oxosulfoxonium salts described in JP-A-57-192429, aromatic diazonium salts described in JP-A-49-17040, and thiobrillium salts described in U.S. Pat. No. 4,139,655 are preferred. Other preferable examples include an iron / allene complex and an aluminum complex / photolytic silicon compound-based initiator.
【0043】これらの芳香族オニウム塩のなかでも特に
好ましいのは、陽イオンとして、 または (式中、Rは夫々同一でも異なっていてもよい水素原
子、ハロゲン原子、あるいは酸素原子またはハロゲン原
子を含んでもよい炭化水素基、もしくは置換基がついて
もよいアルコキシ基、Arは1以上の水素原子が置換さ
れていてもよいフェニル基である。)で表される化合物
および(トリルクミル)ヨードニウム、ビス(ターシャ
リブチルフェニル)ヨードニウム、トリフェニルスルホ
ニウム等からなるものが挙げられる。例えば、4,4’
−ビス(ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルフ
ォニオ)フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホ
スフェート、4−(4−ベンゾイル−フェニルチオ)フ
ェニル−ジ−(4−フルオロフェニル)スルホニウムヘ
キサフルオロホスフェート、4,4’−ビス(ジ(β−
ヒドロキシエトキシ)フェニルスルフォニオ)フェニル
スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、4,
4’−ビス(ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルス
ルホニオ)フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロ
アンチモネート、4,4’−ビス(ジフルオロフェニル
スルホニオ)フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオ
ロホスフェート、4,4’−ビス(ジフルオロフェニル
スルホニオ)フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオ
ロアンチモネート、4,4’−ビス(フェニルスルホニ
オ)フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフ
ェート、4,4’−ビス(フェニルスルホニオ)フェニ
ルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、
4−(4−ベンゾイルフェニルチオ)フェニル−ジ−
(4−(β−ヒドロキシエトキシ)フェニル)スルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、4−(4−ベンゾイ
ルフェニルチオ)フェニル−ジ−(4−(β−ヒドロキ
シエトキシ)フェニル)スルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、4−(4−ベンゾイルフェニルチオ)フ
ェニル−ジ−(4−フルオロフェニル)スルホニウムヘ
キサフルオロホスフェート、4−(4−ベンゾイルフェ
ニルチオ)フェニル−ジ−(4−フルオロフェニル)ス
ルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−(4−
ベンゾイルフェニルチオ)フェニル−ジフェニルスルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート、4−(4−ベンゾ
イルフェニルチオ)フェニル−ジフェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、4−(フェニルチオ)
フェニル−ジ−(4−(β−ヒドロキシエトキシ)フェ
ニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4−
(フェニルチオ)フェニル−ジ−(4−(β−ヒドロキ
シエトキシ)フェニル)スルホニウムヘキサフルオロア
ンチモネート、4−(フェニルチオ)フェニル−ジ−
(4−フルオロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、4−(フェニルチオ)フェニル−ジ−
(4−フルオロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート 4−(フェニルチオ)フェニル−ジフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロホスフェート、4−(フェニルチオ)
フェニル−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモネート、4−(2−クロロ−4−ベンゾイルフェニ
ルチオ)フェニルビス(4−フルオロフェニル)スルホ
ニウムヘキサフルオロホスフェート、4−(2−クロロ
−4−ベンゾイルフェニルチオ)フェニルビス(4−フ
ルオロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、4−(2−クロロ−4−ベンゾイルフェニルチ
オ)フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホ
スフェート、4−(2−クロロ−4−ベンゾイルフェニ
ルチオ)フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、4−(2−クロロ−4−ベンゾイル
フェニルチオ)フェニルビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4−
(2−クロロ−4−ベンゾイルフェニルチオ)フェニル
ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、(トリルクミル)ヨード
ニウムヘキサフルオロホスフェート、(トリルクミル)
ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、(トリル
クミル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボレート、ビス(ターシャリブチルフェニル)ヨ
ードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス(ターシ
ャリブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアン
チモネート、ビス(ターシャリブチルフェニル)ヨード
ニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレー
ト、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジル−4−ヒド
ロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモネート、ベンジルジメチルスルホニウムヘキサフル
オロホスフェート、ベンジルジメチルスルホニウムヘキ
サフルオロアンチモネート、p−クロロベンジル−4−
ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、p−クロロベンジル−4−ヒドロキシフ
ェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト、4−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート、4−アセトキシフェニルジメ
チルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−
メトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホニウ
ムヘキサフルオロホスフェート、4−メトキシカルボニ
ルオキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、4−エトキシカルボニルオキシフェニ
ルジメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
4−エトキシカルボニルオキシフェニルジメチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、α−ナフチルメ
チルジメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェー
ト、α−ナフチルメチルジメチルスルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、α−ナフチルメチルテトラメチ
レンスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、α−ナ
フチルメチルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオ
ロアンチモネート、シンナミルジメチルスルホニウムヘ
キサフルオロホスフェート、シンナミルジメチルスルホ
ニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミルテト
ラメチレンスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、
シンナミルテトラメチレンスルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、N−(α−フェニルベンジル)−2−
シアノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、N−
(α−フェニルベンジル)−2−シアノピリジニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、N−シンナミル−2−シ
アノピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、N−シ
ンナミル−2−シアノピリジニウムヘキサフルオロアン
チモネート、N−(α−ナフチルメチル)−2−シアノ
ピリジニウムヘキサフルオロホスフェート、N−(α−
ナフチルメチル)−2−シアノピリジニウムヘキサフル
オロアンチモネート、N−ベンジル−2−シアノピリジ
ニウムヘキサフルオロホスフェート、N−ベンジル−2
−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート等
を挙げることができる。Among these aromatic onium salts, particularly preferred are those as cations Or (Wherein, R represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group optionally containing an oxygen atom or a halogen atom, or an alkoxy group optionally having a substituent, and Ar represents one or more hydrogen atoms. And a compound represented by the formula: (tolylcumyl) iodonium, bis (tertiarybutylphenyl) iodonium, triphenylsulfonium and the like. For example, 4,4 '
-Bis (di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio) phenylsulfide-bis-hexafluorophosphate, 4- (4-benzoyl-phenylthio) phenyl-di- (4-fluorophenyl) sulfonium hexafluorophosphate, 4, 4′-bis (di (β-
Hydroxyethoxy) phenylsulfonio) phenylsulfide-bis-hexafluorophosphate, 4,
4′-bis (di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio) phenylsulfide-bis-hexafluoroantimonate, 4,4′-bis (difluorophenylsulfonio) phenylsulfide-bis-hexafluorophosphate, 4,4 '-Bis (difluorophenylsulfonio) phenylsulfide-bis-hexafluoroantimonate, 4,4'-bis (phenylsulfonio) phenylsulfide-bis-hexafluorophosphate, 4,4'-bis (phenylsulfonio) Phenyl sulfide-bis-hexafluoroantimonate,
4- (4-benzoylphenylthio) phenyl-di-
(4- (β-hydroxyethoxy) phenyl) sulfonium hexafluorophosphate, 4- (4-benzoylphenylthio) phenyl-di- (4- (β-hydroxyethoxy) phenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, 4- (4 -Benzoylphenylthio) phenyl-di- (4-fluorophenyl) sulfonium hexafluorophosphate, 4- (4-benzoylphenylthio) phenyl-di- (4-fluorophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, 4- (4-
Benzoylphenylthio) phenyl-diphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4- (4-benzoylphenylthio) phenyl-diphenylsulfonium hexafluoroantimonate, 4- (phenylthio)
Phenyl-di- (4- (β-hydroxyethoxy) phenyl) sulfonium hexafluorophosphate,
(Phenylthio) phenyl-di- (4- (β-hydroxyethoxy) phenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, 4- (phenylthio) phenyl-di-
(4-fluorophenyl) sulfonium hexafluorophosphate, 4- (phenylthio) phenyl-di-
(4-fluorophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate 4- (phenylthio) phenyl-diphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4- (phenylthio)
Phenyl-diphenylsulfonium hexafluoroantimonate, 4- (2-chloro-4-benzoylphenylthio) phenylbis (4-fluorophenyl) sulfonium hexafluorophosphate, 4- (2-chloro-4-benzoylphenylthio) phenylbis (4-fluorophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, 4- (2-chloro-4-benzoylphenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4- (2-chloro-4-benzoylphenylthio) phenyldiphenylsulfonium hexafluoro Antimonate, 4- (2-chloro-4-benzoylphenylthio) phenylbis (4-hydroxyphenyl) sulfonium hexafluorophosphate,
(2-chloro-4-benzoylphenylthio) phenyl bis (4-hydroxyphenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, (tolylcumyl) iodonium hexafluorophosphate, (tolylcumyl )
Iodonium hexafluoroantimonate, (tolylcumyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (tertiarybutylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (tertiarybutylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate, bis (tertiarybutylphenyl) Iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, benzyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, p -Chlorobenzyl-4-
Hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, p-chlorobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-
Methoxycarbonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, 4-methoxycarbonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-ethoxycarbonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluorophosphate,
4-ethoxycarbonyloxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, α-naphthylmethyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, α-naphthylmethyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, α-naphthylmethyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate, α-naphthylmethyltetra Methylenesulfonium hexafluoroantimonate, cinnamyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, cinnamyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, cinnamyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate,
Cinnamyltetramethylenesulfonium hexafluoroantimonate, N- (α-phenylbenzyl) -2-
Cyanopyridinium hexafluorophosphate, N-
(Α-phenylbenzyl) -2-cyanopyridinium hexafluoroantimonate, N-cinnamyl-2-cyanopyridinium hexafluorophosphate, N-cinnamyl-2-cyanopyridinium hexafluoroantimonate, N- (α-naphthylmethyl)- 2-cyanopyridinium hexafluorophosphate, N- (α-
Naphthylmethyl) -2-cyanopyridinium hexafluoroantimonate, N-benzyl-2-cyanopyridinium hexafluorophosphate, N-benzyl-2
-Cyanopyridinium hexafluoroantimonate.
【0044】また、これらの(2)エネルギー線感受性
カチオン重合開始剤の好ましい使用量は、カチオン重合
性有機物質100重量部に対して0.1〜50重量%、
より好ましくは1.0〜20重量%で調整するのがよ
い。(1)カチオン重合性有機物質100重量部に対し
て、(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の配
合量が0.1重量%未満であると硬化が不十分となるこ
とがあり、表面硬度の低下を招き、好ましくない。ま
た、50重量%を超えて配合しても、諸特性の向上はな
く、表面硬度の低下を招くおそれがあるので好ましくな
い。The preferred amount of the (2) energy ray-sensitive cationic polymerization initiator used is 0.1 to 50% by weight based on 100 parts by weight of the cationically polymerizable organic substance.
More preferably, the content is adjusted to 1.0 to 20% by weight. If (2) the amount of the energy ray-sensitive cationic polymerization initiator is less than 0.1% by weight based on 100 parts by weight of the cationically polymerizable organic substance, the curing may be insufficient and the surface hardness may be insufficient. Is undesirably caused. Further, if the content exceeds 50% by weight, various properties are not improved and the surface hardness may be lowered, which is not preferable.
【0045】エネルギー線重合性材料に使用し得る
(3)ラジカル重合性有機物質は、好ましくは、1分子
中に少なくとも1個以上の不飽和二重結合を有する化合
物である。The (3) radically polymerizable organic substance that can be used for the energy ray polymerizable material is preferably a compound having at least one or more unsaturated double bonds in one molecule.
【0046】かかる化合物としては、例えばアクリレー
ト化合物、メタクリレート化合物、アリルウレタン化合
物、不飽和ポリエステル化合物、スチレン系化合物等が
挙げられる。Examples of such compounds include acrylate compounds, methacrylate compounds, allyl urethane compounds, unsaturated polyester compounds, styrene compounds and the like.
【0047】(3)ラジカル重合性有機物質の中でもメ
タ(アクリル)基を有する化合物は、合成、入手が容易
で、かつ取り扱いも容易であり、好ましい。例えば、エ
ポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリ
レート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエー
テル(メタ)アクリレート、アルコール類の(メタ)ア
クリル酸エステルが挙げられる。(3) Among radically polymerizable organic substances, compounds having a meta (acrylic) group are preferable because they are easy to synthesize and obtain and easy to handle. For example, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, and (meth) acrylate esters of alcohols may be mentioned.
【0048】ここで、エポキシ(メタ)アクリレートと
は、例えば、従来公知の芳香族エポキシ樹脂、脂環式エ
ポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂などと、(メタ)アク
リル酸とを反応させて得られるアクリレートである。こ
れらのエポキシアクリレートのうち、特に好ましいもの
は、芳香族エポキシ樹脂のアクリレートであり、少なく
とも1個の芳香核を有する多価フェノールまたはそのア
ルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテル
を、(メタ)アクリル酸と反応させて得られる(メタ)
アクリレートである。例えば、ビスフェノールA、また
はそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロロヒドリ
ンとの反応によって得られるグリシジルエーテルを、
(メタ)アクリル酸と反応させて得られる(メタ)アク
リレート、エポキシノボラック樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応して得られる(メタ)アクリレート等が挙げら
れる。ウレタン(メタ)アクリレートとして好ましいも
のは、1種または2種以上の水酸基含有ポリエステルや
水酸基含有ポリエーテルに水酸基含有(メタ)アクリル
酸エステルとイソシアネート類を反応させて得られる
(メタ)アクリレートや、水酸基含有(メタ)アクリル
酸エステルとイソシアネート類を反応させて得られる
(メタ)アクリレート等である。Here, the epoxy (meth) acrylate is, for example, an acrylate obtained by reacting a conventionally known aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin or the like with (meth) acrylic acid. It is. Among these epoxy acrylates, particularly preferred is an acrylate of an aromatic epoxy resin, in which a polyglycidyl ether of a polyhydric phenol having at least one aromatic nucleus or an alkylene oxide adduct thereof is reacted with (meth) acrylic acid. (Meta) obtained by reacting
Acrylate. For example, glycidyl ether obtained by reacting bisphenol A or an alkylene oxide adduct thereof with epichlorohydrin,
(Meth) acrylate obtained by reacting with (meth) acrylic acid, and (meth) acrylate obtained by reacting epoxy novolak resin with (meth) acrylic acid are exemplified. Preferred as urethane (meth) acrylates are (meth) acrylates obtained by reacting one or more hydroxyl-containing polyesters or hydroxyl-containing polyethers with hydroxyl-containing (meth) acrylates and isocyanates, (Meth) acrylates obtained by reacting the contained (meth) acrylic acid ester with isocyanates.
【0049】ここで使用する水酸基含有ポリエステルと
して好ましいものは、1種または2種以上の多価アルコ
ールと、1種または2種以上の多塩基酸との反応によっ
て得られる水酸基含有ポリエステルであって、脂肪族多
価アルコールとしては、例えば1,3−ブタンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、ト
リメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリト
ール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられる。多塩
基酸としては、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、無
水フタル酸、トリメリット酸などが挙げられる。Preferred as the hydroxyl group-containing polyester used here is a hydroxyl group-containing polyester obtained by reacting one or more polyhydric alcohols with one or more polybasic acids, Examples of the aliphatic polyhydric alcohol include 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol,
Neopentyl glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polybutylene glycol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, dipentaerythritol and the like can be mentioned. Examples of the polybasic acid include adipic acid, terephthalic acid, phthalic anhydride, trimellitic acid and the like.
【0050】水酸基含有ポリエーテルとして好ましいも
のは、多価アルコールに1種または2種以上のアルキレ
ンオキサイドを付加することによって得られる水酸基含
有ポリエーテルであって、多価アルコールとしては、前
述した化合物と同様のものが例示できる。アルキレンオ
キサイドとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロ
ピレンオキサイド、ブチレンオキサイドが挙げられる。Preferred as the hydroxyl group-containing polyether are hydroxyl group-containing polyethers obtained by adding one or more alkylene oxides to a polyhydric alcohol. The same thing can be illustrated. Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide, propylene oxide, and butylene oxide.
【0051】水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルと
して好ましいものは、多価アルコールと(メタ)アクリ
ル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有(メ
タ)アクリル酸エステルであって、多価アルコールとし
ては、前述した化合物と同様のものが例示できる。Preferred as the hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester is a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester obtained by an esterification reaction between a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid. The same compounds as those described above can be exemplified.
【0052】かかる水酸基含有(メタ)アクリル酸のう
ち、二価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル
化反応によって得られる水酸基含有(メタ)アクリル酸
エステルは特に好ましく、例えば2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレートが挙げられる。Among such hydroxyl group-containing (meth) acrylic acids, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate obtained by an esterification reaction between a dihydric alcohol and (meth) acrylic acid is particularly preferred, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. A) acrylate.
【0053】イソシアネート類としては、分子中に少な
くとも1個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ま
しく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの2
価のイソシアネート化合物が特に好ましい。As the isocyanates, compounds having at least one isocyanate group in the molecule are preferable, and isocyanates such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate.
Valent isocyanate compounds are particularly preferred.
【0054】ポリエステル(メタ)アクリレートとして
好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと(メタ)ア
クリル酸とを反応させて得られるポリエステル(メタ)
アクリレートである。ここで使用する水酸基含有ポリエ
ステルとして好ましいものは、1種または2種以上の多
価アルコールと、1種または2種以上の1塩基酸、多塩
基酸とのエステル化反応によって得られる水酸基含有ポ
リエステルであって、多価アルコールとしては、前述し
た化合物と同様のものが例示できる。1塩基酸として
は、例えばギ酸、酢酸、酪酸、安息香酸が挙げられる。
多塩基酸としては、例えばアジピン酸、テレフタル酸、
無水フタル酸、トリメリット酸が挙げられる。The preferred polyester (meth) acrylate is a polyester (meth) obtained by reacting a hydroxyl group-containing polyester with (meth) acrylic acid.
Acrylate. Preferred as the hydroxyl group-containing polyester used here is a hydroxyl group-containing polyester obtained by an esterification reaction of one or more polyhydric alcohols with one or more monobasic acids or polybasic acids. As the polyhydric alcohol, those similar to the aforementioned compounds can be exemplified. Examples of the monobasic acid include formic acid, acetic acid, butyric acid, and benzoic acid.
Examples of polybasic acids include adipic acid, terephthalic acid,
Examples include phthalic anhydride and trimellitic acid.
【0055】ポリエーテル(メタ)アクリレートとして
好ましいものは、水酸基含有ポリエーテルと、メタ(ア
クリル)酸とを反応させて得られるポリエーテル(メ
タ)アクリレートである。ここで使用する水酸基含有ポ
リエーテルとして好ましいものは、多価アルコールに1
種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加するこ
とによって得られる水酸基含有ポリエーテルであって、
多価アルコールとしては、前述した化合物と同様のもの
が例示できる。アルキレンオキサイドとしては、例え
ば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチ
レンオキサイドが挙げられる。Preferred as the polyether (meth) acrylate is a polyether (meth) acrylate obtained by reacting a hydroxyl group-containing polyether with meth (acrylic) acid. Preferred as the hydroxyl group-containing polyether to be used here is one of polyhydric alcohols.
A hydroxyl-containing polyether obtained by adding one or more alkylene oxides,
Examples of the polyhydric alcohol include the same compounds as those described above. Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide, propylene oxide, and butylene oxide.
【0056】アルコール類の(メタ)アクリル酸エステ
ルとして好ましいものは、分子中に少なくとも1個の水
酸基を持つ芳香族または脂肪族アルコール、およびその
アルキレンオキサイド付加体と(メタ)アクリル酸とを
反応させて得られる(メタ)アクリレートであり、例え
ば、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)ア
クリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリ
ル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリ
レート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー
ト、イソボニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メ
タ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)
アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリ
レート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキ
サイド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリ
レート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ(メタ)アクリレート、ε−カプロラクトン変性
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、
フルオレン誘導体ジ(メタ)アクリレート、カルバゾー
ル誘導体ジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これ
らのラジカル重合性有機物質は、1種或いは2種以上を
所望の性能に応じて配合して使用することができる。Preferred as (meth) acrylic acid esters of alcohols are aromatic or aliphatic alcohols having at least one hydroxyl group in the molecule, and an alkylene oxide adduct thereof reacted with (meth) acrylic acid. (Meth) acrylate obtained by, for example, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, Stearyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth)
Acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate,
Neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide-modified tri Methylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ε-caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate,
Examples thereof include fluorene derivative di (meth) acrylate and carbazole derivative di (meth) acrylate. One or more of these radically polymerizable organic substances can be used in combination according to desired performance.
【0057】エネルギー線重合性材料に使用し得る
(4)ネルギー線感受性ラジカル重合開始剤としては、
エネルギー照射によってラジカル重合を開始させること
が可能な化合物であり、アセトフェノン系化合物、ベン
ジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサント
ン系化合物などのケトン系化合物が好ましい。(4) The energy ray-sensitive radical polymerization initiator which can be used for the energy ray-polymerizable material includes:
It is a compound capable of initiating radical polymerization by energy irradiation, and is preferably a ketone-based compound such as an acetophenone-based compound, a benzyl-based compound, a benzophenone-based compound, and a thioxanthone-based compound.
【0058】アセトフェノン系化合物としては、例え
ば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、4’−イソ
プロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノ
ン、2−ヒドロキシメチル−2−メチルプロピオフェノ
ン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−
1−オン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−タ
ーシャリブチルジクロロアセトフェノン、p−ターシャ
リブチルトリクロロアセトフェノン、p−アジドベンザ
ルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フ
ェニル]−2−モルフォリノプロパノン−1、2−ベン
ジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフ
ェニル)−ブタノン−1、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。Examples of the acetophenone compounds include diethoxyacetophenone and 2-hydroxy-2-
Methyl-1-phenylpropan-1-one, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-hydroxymethyl-2-methylpropiophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenyl Ethane
1-one, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-azidobenzalacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- [4- ( Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, Benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether and the like.
【0059】ベンジル系化合物としては、ベンジル、ア
ニシル等が挙げられる。Examples of the benzyl compound include benzyl, anisyl and the like.
【0060】ベンゾフェノン系化合物としては、例えば
ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒ
ラーケトン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェ
ノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾ
イル−4’−メチルジフェニルスルフィドなどが挙げら
れる。Examples of the benzophenone compound include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, Michler's ketone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide and the like. No.
【0061】チオキサントン系化合物としては、チオキ
サントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオ
キサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロ
ピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン
等が挙げられる。Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 2,4-diethylthioxanthone.
【0062】これらの(4)エネルギー線感受性ラジカ
ル重合開始剤は、1種あるいは2種以上のものを所望の
性能に応じて配合して使用することができる。One or more of these (4) energy ray-sensitive radical polymerization initiators can be used in combination according to the desired performance.
【0063】以上のような(4)エネルギー線感受性ラ
ジカル重合開始剤は、(3)ラジカル重合性有機物質に
対して、好ましくは0.05〜10重量%、より好まし
くは0.1〜10重量%配合される。この範囲を上回る
と十分な強度が得られないことがあり、下回ると樹脂が
十分硬化しない場合がある。The above (4) energy ray-sensitive radical polymerization initiator is preferably used in an amount of 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, based on (3) the radically polymerizable organic substance. %. If it exceeds this range, sufficient strength may not be obtained, and if it is below this range, the resin may not be sufficiently cured.
【0064】エネルギー線重合性材料における、(1)
カチオン重合性有機物質と(3)ラジカル重合性有機物
質の重量比(1):(3)は10〜100:0〜90で
あることが好ましい。(1)カチオン重合性有機物質の
含有量が10重量%未満、即ち、ラジカル重合性有機物
質(4)の含有量が90重量%を超えて含まれる場合に
は、高屈折率層が薄膜であることから、酸素阻害により
硬化時の架橋が十分進まなくなり、弱い硬化膜となって
不適当なものとなる。故に、少なくとも(1)カチオン
重合性有機物質はエネルギー線重合性材料中に10重量
%以上含まれていることがよく、より好ましくはエネル
ギー線重合性材料中に(1)カチオン重合性有機物質は
20重量%以上含まれていた方がより、酸素阻害の影響
が少なくなるため好ましい。In the energy ray polymerizable material, (1)
The weight ratio (1) :( 3) of the cationically polymerizable organic substance and (3) the radically polymerizable organic substance is preferably from 10 to 100: 0 to 90. (1) When the content of the cationically polymerizable organic substance is less than 10% by weight, that is, when the content of the radically polymerizable organic substance (4) is more than 90% by weight, the high refractive index layer is formed of a thin film. Because of this, the crosslinking at the time of curing does not proceed sufficiently due to oxygen inhibition, and a weak cured film becomes unsuitable. Therefore, at least (1) the cation polymerizable organic substance is preferably contained in the energy ray polymerizable material in an amount of 10% by weight or more, and more preferably (1) the cation polymerizable organic substance is contained in the energy ray polymerizable material. It is preferred that the content be 20% by weight or more because the influence of oxygen inhibition is reduced.
【0065】また、本発明に使用するエネルギー線重合
性材料は、必要に応じて1分子中に2個以上の水酸基を
有する有機化合物とともに使用することができる。例え
ば、多価アルコール、水酸基含有ポリエーテル、水酸基
含有ポリエステル、多価フェノールなどの1分子中に2
個以上の水酸基を有する有機化合物を配合することによ
って、硬化塗膜の機械強度を高めることができる。The energy ray polymerizable material used in the present invention can be used together with an organic compound having two or more hydroxyl groups in one molecule, if necessary. For example, two molecules per molecule of a polyhydric alcohol, a hydroxyl group-containing polyether, a hydroxyl group-containing polyester, a polyhydric phenol, etc.
By blending an organic compound having at least two hydroxyl groups, the mechanical strength of the cured coating film can be increased.
【0066】多価アルコールの例としては、エチレング
リコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエ
リスリトール、ジペンタエリスルトール、1,3−ブタ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサ
ンジオールなどが挙げられる。Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, dipentaerythritol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol and the like.
【0067】水酸基含有ポリエーテルとは、1種または
2種以上の多価アルコールまたは多価フェノールに1種
または2種以上のアルキレンオキサイドを付加して得ら
れる化合物である。これに用いられる多価アルコールの
例としては、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパ
ン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリ
スルトール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタン
ジオール、1,6−ヘキサンジオールなどが挙げられ
る。多価フェノールの例としてはビスフェノールA、ビ
スフェノールF、フェノールノボラック樹脂、クレゾー
ルノボラック樹脂などが挙げられる。またアルキレンオ
キサイドの例としては、ブチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、エチレンオキサイド等が挙げられる。The hydroxyl group-containing polyether is a compound obtained by adding one or more alkylene oxides to one or more polyhydric alcohols or polyphenols. Examples of the polyhydric alcohol used for this include ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, dipentaerythritol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol. , 1,6-hexanediol and the like. Examples of the polyhydric phenol include bisphenol A, bisphenol F, phenol novolak resin, and cresol novolak resin. Examples of the alkylene oxide include butylene oxide, propylene oxide, and ethylene oxide.
【0068】水酸基含有ポリエステルとは、1種または
2種以上の多価アルコールや多価フェノールと1種また
は2種以上の1塩基酸や多塩基酸とのエステル化反応に
よって得られる水酸基含有ポリエステル、および1種ま
たは2種以上の多価アルコールや多価フェノールと1種
または2種以上のラクトン類とのエステル化反応によっ
て得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコ
ールや多価フェノールの例としては前述のものと同様の
ものが挙げられる。1塩基酸としては例えば、ギ酸、酢
酸、酪酸、安息香酸などが挙げられる。多塩基酸として
は、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、トリメリット
酸などが挙げられる。ラクトン類としてはβープロピオ
ラクトン、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクトンな
どが挙げられる。The hydroxyl group-containing polyester is a hydroxyl group-containing polyester obtained by an esterification reaction of one or more polyhydric alcohols or polyphenols with one or more monobasic acids or polybasic acids. And a hydroxyl-containing polyester obtained by an esterification reaction of one or more polyhydric alcohols or phenols with one or more lactones. Examples of the polyhydric alcohol and the polyhydric phenol include the same as those described above. Examples of the monobasic acid include formic acid, acetic acid, butyric acid, and benzoic acid. Examples of the polybasic acid include adipic acid, terephthalic acid, trimellitic acid and the like. Lactones include β-propiolactone, γ-butyrolactone, ε-caprolactone, and the like.
【0069】多価フェノールとは、芳香環に直接結合し
た水酸基を1分子中に2個以上含有する化合物であり、
前述のものと同様のものが挙げられる。The polyhydric phenol is a compound containing two or more hydroxyl groups directly bonded to an aromatic ring in one molecule.
The same as those described above can be used.
【0070】本発明の低屈折率層形成性の反射防止膜用
剤に使用するフッ素含有シランカップリング剤は、次
式、 (式中、R1は直鎖でも分岐でもよい炭素原子数1〜3
のアルコキシ基、R2は直鎖でも分岐でもよい炭素原子
数1〜16であるフッ素原子含有炭化水素基、R3は炭
素原子数1〜3のアルキル基であり、R1、R2、R3
がそれぞれ複数存在する場合にはいずれも、同一であっ
ても異なっていてもよく、全R2中のフッ素原子数は3
以上であり、mは1〜3の数、nは1〜3の数であり、
かつm+n≦4である)で表されるフッ素含有シランカ
ップリング剤である。The fluorine-containing silane coupling agent used in the low-refractive index layer-forming antireflection film agent of the present invention has the following formula: (Wherein, R 1 is a straight-chain or branched carbon atom having 1 to 3 carbon atoms.
R 2 is a fluorine-containing hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms which may be straight-chain or branched; R 3 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; R 1 , R 2 , R 3 3
May be the same or different, and the number of fluorine atoms in all R 2 is 3
M is a number of 1 to 3, n is a number of 1 to 3,
And m + n ≦ 4).
【0071】上記式中のR1〜R3の少なくとも1つは
アルコキシ基であり、少なくとも1つはフッ素原子を含
む炭化水素基である必要がある。At least one of R 1 to R 3 in the above formula must be an alkoxy group, and at least one must be a hydrocarbon group containing a fluorine atom.
【0072】前述の条件を満たすならば、R1〜R3は
各々同一構造でもよく、異種構造でもよい。フッ素原子
を含む炭化水素基は直鎖でも分岐でもよく、炭素原子数
1〜16である炭化水素鎖に全R2として少なくとも3
個以上のフッ素原子を含有する。If the above conditions are satisfied, R 1 to R 3 may have the same structure or different structures. Hydrocarbon group containing a fluorine atom may be linear or branched, at least 3 as the total R 2 hydrocarbon chain is from 1 to 16 carbon atoms
Contains more than one fluorine atom.
【0073】更に、このフッ素含有シランカップリング
剤中に含有されるフッ素原子の含有量3重量%以上であ
ることが屈折率低下の点でより好ましく、更に屈折率が
1.40以下を与える量とするのがよい。Further, the content of fluorine atoms contained in the fluorine-containing silane coupling agent is more preferably 3% by weight or more from the viewpoint of lowering the refractive index, and furthermore an amount giving a refractive index of 1.40 or less. It is good to do.
【0074】本発明の低屈折率層形成性の反射防止膜用
剤は、上記低屈折率成分たるフッ素含有シランカップリ
ング剤を有機溶剤に溶解した後、加水分解処理したもの
である。The agent for forming an antireflection film having a low refractive index layer according to the present invention is obtained by dissolving the fluorine-containing silane coupling agent as a low refractive index component in an organic solvent and then subjecting the agent to hydrolysis treatment.
【0075】ここで使用し得る有機溶剤としては、特に
限定されるものではないが、例えば、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等の有機溶剤を好ましいものとし
て挙げることができる。The organic solvent that can be used here is not particularly limited, but preferred examples thereof include organic solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methanol, ethanol, and isopropanol.
【0076】有機溶剤に対するフッ素含有シランカップ
リング剤の溶解量は任意である。即ち、有機溶剤は低屈
折率層を形成する際に除去(蒸発)されるので、フッ素
含有シランカップリング剤量が所望とする低屈折率層厚
となるように調製すればよい。The amount of the fluorine-containing silane coupling agent dissolved in the organic solvent is arbitrary. That is, since the organic solvent is removed (evaporated) when the low refractive index layer is formed, the organic solvent may be adjusted so that the amount of the fluorine-containing silane coupling agent has a desired low refractive index layer thickness.
【0077】しかし、極端にフッ素含有シランカップリ
ング剤が少ないと粘度との関係で、所望とする低屈折率
層厚を与えるだけの量を簡便な塗工工程では被低屈折率
層形成体上に配置することがむずかしくなり、また、極
端にフッ素含有シランカップリング剤が多いと簡便な塗
工工程ではムラになりやすいので、特に限定されるもの
ではないものの、概ね、3〜10重量%程度であること
が好ましい。However, if the amount of the fluorine-containing silane coupling agent is extremely small, an amount sufficient to give a desired low refractive index layer thickness is required in a simple coating step because of the viscosity. It is difficult to arrange in a simple coating process if the amount of the fluorine-containing silane coupling agent is extremely large, so that it is not particularly limited, but generally about 3 to 10% by weight. It is preferred that
【0078】また、ここでの加水分解処理は、特に限定
されず、本発明の目的を阻害しない範囲内でシランカッ
プリング剤加水分解物を得る従来公知の方法を任意に用
いればよく、例えば、酢酸、塩酸、硫酸等の酸成分を少
量添加し、20〜30分間室温にて攪拌処理することに
よって目的とする加水分解液を簡便に得ることができ
る。The hydrolysis treatment here is not particularly limited, and any conventionally known method for obtaining a hydrolyzate of a silane coupling agent may be used as long as the object of the present invention is not impaired. By adding a small amount of an acid component such as acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid and the like and stirring the mixture at room temperature for 20 to 30 minutes, the desired hydrolyzed liquid can be easily obtained.
【0079】次に、本発明の反射防止膜製造方法は、
イ)上記の高屈折率層形成性の反射防止膜用剤を被反射
防止体表面に塗工する工程と、ロ)高屈折率層形成性の
反射防止膜用剤を塗工した被反射防止体表面にエネルギ
ー線を照射して塗工物を硬化させ高屈折率層を形成する
工程と、ハ)該高屈折率層上に上記低屈折率層形成性の
反射防止膜用剤を塗工する工程と、ニ)該低屈折率層形
成性の反射防止膜用剤を塗工し、塗工物を硬化させ低屈
折率層を形成する工程と、からなるものである。Next, the method for producing an antireflection film according to the present invention comprises:
A) a step of applying the above-mentioned agent for forming an antireflection film having a high refractive index layer to the surface of an antireflection body; Irradiating the surface of the body with energy rays to cure the coating to form a high-refractive-index layer; and c) coating the low-refractive-index layer-forming antireflection film agent on the high-refractive-index layer. And d) applying the low-refractive-index-layer-forming antireflection-coating agent and curing the coating to form a low-refractive-index layer.
【0080】ここで、被反射防止体は高屈折率層形成性
の反射防止膜用剤中の有機溶剤に十分な耐性を有するも
のであれば任意の材料を使用することができるが、好ま
しくは150℃以上の耐熱性を有するものが、高屈折率
層や低屈折率層を形成する際の有機溶剤除去(乾燥)に
あたって加熱処理を行うことができ、好ましい。Here, as the antireflection target, any material can be used as long as it has sufficient resistance to the organic solvent in the antireflection film forming agent having a high refractive index layer. Those having a heat resistance of 150 ° C. or more can be subjected to a heat treatment in removing (drying) an organic solvent when forming a high refractive index layer or a low refractive index layer, and thus it is preferable.
【0081】高屈折率層形成性の反射防止膜用剤の塗工
方法は、特に限定されるものではないが、塗工膜厚がコ
ントロール出来る方法がよく、スピンコート法、グラビ
ア塗工法等が好ましい方法として挙げられる。The method of applying the antireflection film forming agent having a high refractive index layer is not particularly limited, but is preferably a method capable of controlling the coating film thickness, such as spin coating or gravure coating. It is mentioned as a preferred method.
【0082】この際、高屈折率層形成性の反射防止膜用
剤は、必要であれば有機溶剤で希釈することができ、例
えば上記したような酸化チタン粒子の分散に使用した有
機溶剤を好ましく使用することができる。At this time, the antireflection film forming agent having a high refractive index layer can be diluted with an organic solvent if necessary. For example, the organic solvent used for dispersing the titanium oxide particles as described above is preferable. Can be used.
【0083】本発明の方法において、高屈折率層形成性
の反射防止膜用剤は活性エネルギー線を照射することに
より重合し、硬化する。この活性エネルギー線として
は、例えば、紫外線、電子線、エックス線、放射線、高
周波等が挙げられ、紫外線が最も経済的であり好まし
い。紫外線の光源としては、紫外線レーザー、水銀ラン
プ、特に(超)高圧水銀ランプ、キセノンランプ、アル
カリ金属ランプ、市販の無電極ランプ(例えば、Fus
ion社製のVバルブ(商品名)、Dバルブ(商品
名))などがある。本発明の光重合性組成物の重合・硬
化にあたって位置選択性の必要な場合には、集光性が良
好なレーザー光線(特に発振波長300nm〜450n
m)が好ましい。また、位置選択性があまりない場合に
は、水銀ランプ等が経済的で好ましい。In the method of the present invention, the agent for forming an antireflection film having a high refractive index layer is polymerized and cured by irradiation with active energy rays. Examples of the active energy rays include ultraviolet rays, electron beams, X-rays, radiation, and high frequencies, and ultraviolet rays are the most economical and preferable. Examples of the ultraviolet light source include an ultraviolet laser, a mercury lamp, particularly a (ultra) high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, an alkali metal lamp, and a commercially available electrodeless lamp (for example, Fus)
ion valve (trade name), D valve (trade name)) and the like. When position selectivity is required for polymerization and curing of the photopolymerizable composition of the present invention, a laser beam having a good light-collecting property (especially an oscillation wavelength of 300 nm to 450 nm) is used.
m) is preferred. If the position selectivity is not so high, a mercury lamp or the like is economical and preferable.
【0084】尚、高屈折率層形成性の反射防止膜用剤塗
工後、硬化に先立ち、該高屈折率層形成性の反射防止膜
用剤中の有機溶剤を除去(乾燥)させることが好まし
い。After applying the antireflection film forming agent having a high refractive index layer, the organic solvent in the antireflection film forming agent having a high refractive index layer may be removed (dried) prior to curing. preferable.
【0085】かかる有機溶剤の除去(乾燥)は室温に放
置することでも行うことができるが、被反射防止体が耐
熱性を有するものである場合は、加熱(例えば40〜1
00℃で数分間程度)することで迅速に行うことができ
る。The removal (drying) of the organic solvent can be carried out by leaving it at room temperature. However, when the antireflection member has heat resistance, heating (for example, 40 to 1) is performed.
(For several minutes at 00 ° C.).
【0086】次に、低屈折率層形成性の反射防止膜用剤
の塗工方法も、特に限定されるものではないが、塗工膜
厚がコントロール出来る方法がよく、スピンコート法、
グラビア塗工法等が好ましい方法として挙げられるが、
簡便には高屈折率層を形成した被塗工対象物をフッ素含
有シランカップリング剤の加水分解液中に浸漬するディ
ッピング法によっても達成できる。The method of applying the antireflection film forming agent having a low refractive index layer is also not particularly limited, but a method capable of controlling the applied film thickness is preferable.
Gravure coating method and the like are mentioned as preferred methods,
It can also be easily achieved by a dipping method in which the object to be coated on which the high refractive index layer is formed is dipped in a hydrolyzed solution of a fluorine-containing silane coupling agent.
【0087】塗工された低屈折率層の硬化は有機溶剤の
除去(乾燥)によって達成され、方法は特に限定される
ものではなく、室温に放置することでも行うことができ
るが、80〜150℃において1〜30分間の熱処理
が、迅速性および簡便性等の面で優れている。The curing of the coated low refractive index layer is achieved by removing (drying) the organic solvent, and the method is not particularly limited. The method can be carried out by leaving it at room temperature. Heat treatment at 1 ° C. for 1 to 30 minutes is excellent in terms of quickness and simplicity.
【0088】本発明の反射防止膜製造方法において、高
屈折率層と低屈折率層のそれぞれの膜厚は、従来の反射
防止膜における高屈折率層と低屈折率層との関係と同様
にすればよい。In the method for manufacturing an antireflection film of the present invention, the thickness of each of the high refractive index layer and the low refractive index layer is the same as the relationship between the high refractive index layer and the low refractive index layer in the conventional antireflection film. do it.
【0089】具体的には、例えば、高屈折率層を10〜
5,000nm、好ましくは50〜3,000nm、低
屈折率層を5〜5,000nm、好ましくは25〜1,
500nmとなるようにし、各層の膜厚を入射光が干渉
を起こす最適な膜厚に調整すればよい。Specifically, for example, when the high refractive index layer is
5,000 nm, preferably 50 to 3,000 nm, and the low refractive index layer has a thickness of 5 to 5,000 nm, preferably 25 to 1,
The thickness may be adjusted to 500 nm, and the thickness of each layer may be adjusted to an optimum thickness that causes interference of incident light.
【0090】ここで、膜厚の調製は各層塗工時の固形分
調整、すなわち溶剤希釈倍率の変更によって容易に達成
できる。Here, the adjustment of the film thickness can be easily achieved by adjusting the solid content at the time of coating each layer, that is, by changing the solvent dilution ratio.
【0091】また、入射光が干渉を起こす最適な膜厚
は、入射光の波長をλとすると、高屈折率層の光学膜厚
においてλ/2とし、低屈折率層の光学膜厚においてλ
/4となり、この関係に近いほど好ましい。Further, when the wavelength of the incident light is λ, the optimum film thickness at which the incident light causes interference is λ / 2 in the optical film thickness of the high refractive index layer and λ / 2 in the optical film thickness of the low refractive index layer.
/ 4, and the closer to this relationship, the better.
【0092】なお、光学膜厚とは、膜の屈折率と膜厚の
積で表され、計算により必要な実塗工膜厚を算出して前
述の方法で塗工すれば良い。The optical film thickness is represented by the product of the refractive index of the film and the film thickness. The required actual coating film thickness is calculated by calculation, and the film may be coated by the above-described method.
【0093】[0093]
【実施例】次に本発明を実施例に基づき説明する。下記
の表1および2に示す配合組成の高屈折率層形成性の反
射防止膜用剤および低屈折率層形成性の反射防止膜用剤
を調製し、以下の評価を行った。得られた結果を表1お
よび2に併記する。また、本発明における評価サンプル
の作製方法および評価方法を以下に記載する。なお、以
降、高屈折率層形成性の反射防止膜用剤を高屈折率溶
液、その硬化膜を高屈折率膜と略し、同様に低屈折率層
形成性の反射防止膜用剤を低屈折率溶液、その硬化膜を
低屈折率膜と略す。Next, the present invention will be described with reference to examples. Agents for forming a high refractive index layer and an antireflection film having a low refractive index layer having the composition shown in Tables 1 and 2 below were prepared and evaluated as follows. The obtained results are also shown in Tables 1 and 2. In addition, a method for producing an evaluation sample and an evaluation method according to the present invention are described below. Hereinafter, the agent for an antireflection film having a high refractive index layer is abbreviated as a high refractive index solution, and the cured film thereof is abbreviated as a high refractive index film. The refractive index solution and its cured film are abbreviated as a low refractive index film.
【0094】評価サンプルの作製:表面易密着処置PE
Tフィルム(東レ(株)製ルミラーU−98)にメチル
エチルケトンにて希釈した高屈折率溶液をバーコーター
にて塗工し、80℃で3分間の乾燥処理後、高圧水銀灯
にて1000mJ/cm2のエネルギー線を照射し、硬
化処理した。あらかじめ、メタノールに希釈し、酢酸に
て加水分解処理した低屈折率溶液に、前述の高屈折率膜
を形成したポリエチレンテレフタレート(PET)フィ
ルムを浸漬し、30mm/分の速度で引き上げた。10
0℃で30分間の硬化処理を行い、試験サンプルとし
た。フッ素含有シランカップリング剤はメタノールで希
釈して5重量%液とした。Preparation of Evaluation Sample: Surface Easy Treatment PE
A high refractive index solution diluted with methyl ethyl ketone was applied to a T film (Lumirror U-98 manufactured by Toray Industries, Inc.) using a bar coater, dried at 80 ° C. for 3 minutes, and then 1000 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. And irradiated with an energy ray for curing. The polyethylene terephthalate (PET) film on which the high refractive index film was formed was immersed in a low refractive index solution which had been previously diluted with methanol and hydrolyzed with acetic acid, and pulled up at a speed of 30 mm / min. 10
A curing treatment was performed at 0 ° C. for 30 minutes to obtain a test sample. The fluorine-containing silane coupling agent was diluted with methanol to make a 5% by weight liquid.
【0095】屈折率測定:23℃においてアツベ式屈折
率計にて測定した。表1および2には高屈折率溶液およ
び低屈折率溶液の測定値を記した。Refractive index measurement: Measured at 23 ° C. with an Atsube refractometer. Tables 1 and 2 show the measured values of the high refractive index solution and the low refractive index solution.
【0096】反射率測定:試験サンプルの反射防止膜側
より波長500〜700nmの光を垂直に入射させ、分
光光度計にて反射率、透過率を測定し、それより可視光
領域の平均反射率、平均透過率を求めた。Reflectance measurement: Light having a wavelength of 500 to 700 nm was vertically incident from the antireflection film side of the test sample, and the reflectance and transmittance were measured with a spectrophotometer, and the average reflectance in the visible light region was measured therefrom. And the average transmittance.
【0097】密着性:セロハンテープによる碁盤目剥離
試験にて評価した。全く剥離しなかった場合は「○」、
低屈折率膜と高屈折率膜の間で剥離した場合は「×」、
基材と反射防止膜が剥離した場合は「××」と記載し
た。Adhesion: Evaluated by a cross-cut peeling test using a cellophane tape. If no peeling occurred, "○",
"X" when peeled between the low refractive index film and the high refractive index film,
When the substrate and the antireflection film were peeled off, it was described as “XX”.
【0098】また、表1および2中の使用材料はそれぞ
れ下記に示すものである。 エポキシ樹脂1:3,4−エポキシシクロヘキシルメチ
ル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート エポキシ樹脂2:ビスフェノールA型エポキシ樹脂 エポキシ樹脂3:ビスフェノキシフルオレンジエポキシ
ド アクリル樹脂1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート アクリル樹脂2:ビスフェノキシフルオレンジアクリレ
ート 溶剤分散型コロイダル酸化チタン:メチルイソブチルケ
トン分散(TiO2含有量20重量%、平均粒子径25
nm、(触媒化成(株)製オプトレイク)) 光カチオン重合開始剤:4,4’−ビス(ジ(β−ヒド
ロキシエトキシ)フェニルスルフォニオ)フェニルスル
フィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート 光ラジカル重合開始剤:1−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン フッ素含有シランカップリング剤I:ヘプタデカフルオ
ロデシルメチルジメトキシシラン フッ素含有シランカップリング剤II:ヘプタデカフルオ
ロデシルトリメトキシシラン フッ素含有シランカップリング剤III:トリフルオロプ
ロピルトリメトキシシランThe materials used in Tables 1 and 2 are as follows. Epoxy resin 1: 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate Epoxy resin 2: Bisphenol A type epoxy resin Epoxy resin 3: Bisphenoxyfluorene epoxide Acrylic resin 1: Dipentaerythritol hexaacrylate Acrylic resin 2 : Bisphenoxyfluorene acrylate Solvent-dispersed colloidal titanium oxide: Dispersed in methyl isobutyl ketone (TiO 2 content 20% by weight, average particle diameter 25)
nm, (Catalyst Kasei Co., Ltd. Optics) Photocationic polymerization initiator: 4,4′-bis (di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio) phenylsulfide-bis-hexafluoroantimonate Photoradical polymerization Initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone Fluorine-containing silane coupling agent I: Heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane Fluorine-containing silane coupling agent II: Heptadecafluorodecyltrimethoxysilane Fluorine-containing silane coupling agent III: Trifluoropropyl Trimethoxysilane
【0099】[0099]
【表1】 [Table 1]
【0100】[0100]
【表2】 *160にて硬化せず[Table 2] * Not cured at 160
【0101】[0101]
【発明の効果】本発明によれば、処理コスト、処理時間
および処理の煩雑さがないという面で優れている簡便な
方法にて、処理基材との密着性が良好でかつ透明性の高
い反射防止膜を得ることのできる。According to the present invention, the adhesion to the treated substrate is good and the transparency is high by a simple method which is excellent in that the treatment cost, the treatment time and the complexity of the treatment are eliminated. An antireflection film can be obtained.
─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成11年6月8日(1999.6.8)[Submission date] June 8, 1999 (1999.6.8)
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0020[Correction target item name] 0020
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0020】有機溶剤に分散しているTiO2の平均粒
子径は5〜100nmであり、より望ましくは平均粒子
径7〜70nmである。平均粒子径が5nm未満の場合
には、安定したコロイド状を保てず、配合したエネルギ
ー線重合性組成物の安定性が悪化する。逆に100nm
を超えると、硬化膜の透明性が悪化するため、本発明の
特徴である透明性において不適当なものとなる。The average particle size of TiO 2 dispersed in the organic solvent is 5 to 100 nm, more preferably, 7 to 70 nm. If the average particle size is less than 5 nm , stable colloidal state cannot be maintained, and the stability of the compounded energy ray polymerizable composition will be deteriorated. Conversely, 100 nm
If it exceeds, the transparency of the cured film is deteriorated, and the transparency which is a feature of the present invention becomes inappropriate.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 立川 裕之 東京都荒川区東尾久七丁目2番35号 旭電 化工業株式会社内 Fターム(参考) 2K009 AA02 AA05 BB24 CC03 CC23 CC24 CC33 CC34 DD05 4F071 AA33 AA42 AA44 AA80 AB18 AC13 AC16 AD02 AE02 AE06 AF29 AF30 AF31 AH19 BA02 BB02 BB13 BC01 BC02 BC17 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Hiroyuki Tachikawa 7-35 Higashiogu, Arakawa-ku, Tokyo Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. F-term (reference) 2K009 AA02 AA05 BB24 CC03 CC23 CC24 CC33 CC34 DD05 4F071 AA33 AA42 AA44 AA80 AB18 AC13 AC16 AD02 AE02 AE06 AF29 AF30 AF31 AH19 BA02 BB02 BB13 BC01 BC02 BC17
Claims (6)
材料100重量部、および該エネルギー線重合性材料に
対してTiO2換算で5〜300重量部の平均粒子径5
〜100nmの有機溶剤分散型コロイダル酸化チタンを
含有することを特徴とする高屈折率層形成性の反射防止
膜用剤。An essential component is 100 parts by weight of an energy ray-polymerizable material, and an average particle size of 5 to 300 parts by weight based on TiO 2 with respect to the energy ray-polymerizable material.
A high refractive index layer-forming antireflection coating agent comprising an organic solvent-dispersed colloidal titanium oxide having a thickness of from 100 to 100 nm.
カチオン重合性有機物質と、(2)エネルギー線感受性
カチオン重合開始剤とからなる請求項1記載の高屈折率
層形成性の反射防止膜用剤。2. The method according to claim 1, wherein the energy ray polymerizable material is (1)
2. The agent for an antireflection film having a high refractive index layer according to claim 1, comprising a cationically polymerizable organic substance and (2) an energy ray-sensitive cationic polymerization initiator.
カチオン重合性有機物質と、(2)エネルギー線感受性
カチオン重合開始剤と、(3)ラジカル重合性有機物質
と、(4)エネルギー線感受性ラジカル重合開始剤とか
らなる請求項1記載の高屈折率層形成性の反射防止膜用
剤。3. The method according to claim 1, wherein the energy ray polymerizable material is (1)
2. The high refractive index according to claim 1, comprising a cationically polymerizable organic substance, (2) an energy ray-sensitive cationic polymerization initiator, (3) a radically polymerizable organic substance, and (4) an energy ray-sensitive radical polymerization initiator. Layer-forming antireflective coating agent.
(1)カチオン重合性有機物質と(3)ラジカル重合性
有機物質との重量比(1):(3)が10〜100:0
〜90である請求項3に記載の高屈折率層形成性の反射
防止膜用剤。4. In the energy ray polymerizable material,
The weight ratio (1) :( 3) of (1) the cationically polymerizable organic substance to (3) the radically polymerizable organic substance is 10 to 100: 0.
The antireflection coating agent according to claim 3, which has a refractive index of from 90 to 90.
式、 (式中、R1は直鎖でも分岐でもよい炭素原子数1〜3
のアルコキシ基、R2は直鎖でも分岐でもよい炭素原子
数1〜16であるフッ素原子含有炭化水素基、R3は炭
素原子数1〜3のアルキル基であり、R1、R2、R3
がそれぞれ複数存在する場合にはいずれも、同一であっ
ても異なっていてもよく、全R2中のフッ素原子数は3
以上であり、mは1〜3の数、nは1〜3の数であり、
かつm+n≦4である)で表されるフッ素含有シランカ
ップリング剤を溶解した溶液を加水分解処理したことを
特徴とする低屈折率層形成性の反射防止膜用剤。5. An essential component for an organic solvent is represented by the following formula: (Wherein, R 1 is a straight-chain or branched carbon atom having 1 to 3 carbon atoms.
R 2 is a fluorine-containing hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms which may be straight-chain or branched; R 3 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; R 1 , R 2 , R 3 3
May be the same or different, and the number of fluorine atoms in all R 2 is 3
M is a number of 1 to 3, n is a number of 1 to 3,
And a solution in which a fluorine-containing silane coupling agent represented by the formula (m + n ≦ 4) is dissolved, and subjected to hydrolysis treatment.
載の高屈折率層形成性の反射防止膜用剤を被反射防止体
表面に塗工する工程と、 ロ)高屈折率層形成性の反射防止膜用剤を塗工した被反
射防止体表面にエネルギー線を照射して塗工物を硬化さ
せ高屈折率層を形成する工程と、 ハ)該高屈折率層上に請求項5記載の低屈折率層形成性
の反射防止膜用剤を塗工する工程と、 ニ)該低屈折率層形成性の反射防止膜用剤を塗工した塗
工物を硬化させ低屈折率層を形成する工程と、からなる
ことを特徴とする反射防止膜製造方法。6. A) a step of applying the agent for forming an antireflection film capable of forming a high refractive index layer according to any one of claims 1 to 4 on the surface of an antireflection object; and b) a high refractive index. A step of irradiating the surface of the anti-reflective body coated with the layer-forming anti-reflection film agent with energy rays to cure the coating to form a high refractive index layer; c) forming a high refractive index layer on the high refractive index layer 6. A step of applying the low-refractive-index layer-forming antireflection film agent according to claim 5; and d) curing the coating material coated with the low-refractive-index layer-forming antireflection film agent. Forming a refractive index layer.
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