JP2000323550A

JP2000323550A - 収納装置および基板処理装置

Info

Publication number: JP2000323550A
Application number: JP11126450A
Authority: JP
Inventors: Norihiko Hara; 典彦原; Yasuhito Kubota; 泰仁窪田; Hiroyuki Akiyama; 博之秋山
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1999-05-06
Filing date: 1999-05-06
Publication date: 2000-11-24

Abstract

(57)【要約】【課題】教示作業等、装置内での作業を行う際にも安
全性を確保し、且つ生産性向上にも寄与する。【解決手段】開口部８を有し、基板Ｐを搬送する搬送
装置１０を収納する収納装置において、開口部８が基板
Ｐの形状に対応した第１開口部８ａと、第１開口部８ａ
と連続して形成され、搬送装置１０に対応した第２開口
部８ｂとを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、開口部を介して基
板を搬送する搬送装置が収納される収納装置、および基
板を搬送する搬送装置を備え、基板に対して感光剤塗
布、現像等の処理を施す基板処理装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶ディスプレイパネル、プラズ
マディスプレイパネル等を製造するためのリソグラフィ
工程では、ガラス基板等の基板の大型化に伴う無人化の
要請から露光装置と他の基板処理装置、例えば、基板に
レジスト等の感光剤を塗布する塗布装置（コータ）や感
光剤が塗布された基板に現像を行う現像装置（デベロッ
パ）等とをインラインで接続したリソグラフィシステム
が多く用いられるようになってきた。

【０００３】この種のリソグラフィシステムでは、例え
ば、露光装置のチャンバ（収納装置）内に露光装置本
体、基板搬送装置、受け渡しポートを設け、感光剤塗布
機能、現像機能の双方を備えたコータ・デベロッパのチ
ャンバ（収納装置）内にコータ・デベロッパ本体、基板
搬送装置を設けた構成になっている。そして、コータ・
デベロッパで所定の処理が施された基板（例えば、ガラ
ス基板）は、コータ・デベロッパ側の基板搬送装置によ
って、両チャンバに設けられた開口部を介して露光装置
内の受け渡しポートへ搬入される。

【０００４】受け渡しポートにセットされた基板は、露
光装置側の基板搬送装置によって露光装置本体へ搬送さ
れ露光処理が施される。露光処理後に再度コータ・デベ
ロッパに搬送される基板は、上記と逆の順序で搬送され
る。他の基板は、露光装置から搬出されて検査工程等へ
送られる。

【０００５】ところで、上記のような露光装置やコータ
・デベロッパのチャンバには、各基板搬送装置に対する
教示作業やメンテナンス作業時に装置内に出入りするた
めの扉が設けられている。この教示作業とは、基板の受
け渡し位置、高さ等の座標を基板搬送装置に記憶させる
作業のことである。そして、上記リソグラフィシステム
では、この扉が開けられたときに、安全上、基板搬送装
置の作動を停止させる、いわゆるインタロック機能が用
意されている。

【０００６】このインタロック機能は、センサ等の扉開
閉検知手段と基板搬送装置とをリレー接点等で回路を構
成することにより、ソフトウェアを介在させることなく
基板搬送装置を停止させるものである。なお、インタロ
ック機能を備えていても、上記教示作業中は、基板搬送
装置が作動可能になっている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の収納装置および基板処理装置には、以下
のような問題が存在する。図１１に示すように、チャン
バに設けられた開口部Ｋは、基板Ｐが通過可能な幅Ｗ
と、一定の間隔をあけて下方から基板Ｐを支持する搬送
アームＦが通過可能、且つ受け渡しポートに対して基板
Ｐを受け渡すために下降するストローク分を見込んだ高
さＨとを有している。近年、液晶ディスプレイパネルが
大型化するのに伴って開口部Ｋの幅Ｗも大きくなってい
る。一方、基板Ｐは、重量化することを回避するために
薄型化されているため、開口部Ｋの高さＨも搬送時に発
生するたわみを考慮して大きくなっている。換言すれ
ば、幅Ｗおよび高さＨが大きくなることで開口部Ｋの開
口面積が拡大されつつある。

【０００８】そのため、一方の装置のチャンバ内で作業
者が教示作業等の作業を行う場合、作業中に搬送用開口
部Ｋから体の一部が突出してしまう可能性が高くなる。
この場合、他方のチャンバ内において基板搬送装置が作
動していると非常に危険であり、効果的な安全対策が望
まれていた。安全対策の一例としては、開口部Ｋに人体
を検知するためのセンサ等を取り付けたりする方策が考
えられるが、制御の複雑化やコストアップを招くことに
なってしまう。

【０００９】そこで、教示作業の安全に関しては、他方
の装置側の基板搬送装置の電源を落とすことで当該搬送
装置の作動を停止させる等の安全対策が取られている。
ところが、搬送装置を停止させると、他方の装置側の生
産効率が低下してしまうという問題が発生する。この問
題は、インライン接続された装置間に限らず一つの装置
内においても、例えば露光装置本体と基板搬送装置との
間や、コータ・デベロッパ本体と基板搬送装置との間で
も、隔壁に設けられた開口部を介して基板Ｐを搬送する
際には同様に発生するものである。そのため、安全性お
よび生産性の向上を両立させる装置の開発が望まれてい
た。また、コータ・デベロッパで大型基板を処理する際
の大型基板の搬送に関する開発も望まれていた。

【００１０】本発明は、以上のような点を考慮してなさ
れたもので、教示作業等、装置内での作業を行う際にも
安全性を確保し、且つ生産性向上にも寄与する収納装置
および基板処理装置を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、実施の形態を示す図１ないし図１０に対
応付けした以下の構成を採用している。本発明の収納装
置は、開口部（８）を有し、基板（Ｐ）を搬送する搬送
装置（１０）を収納する収納装置（５）において、開口
部（８）が基板（Ｐ）の形状に対応した第１開口部（８
ａ）と、第１開口部（８ａ）と連続して形成され、搬送
装置（１０）に対応した第２開口部（８ｂ）とを備える
ことを特徴とするものである。

【００１２】従って、本発明の収納装置では、開口部
（８）を介して基板（Ｐ）を収納装置（５）の外部また
は内部に搬送する際に、基板（Ｐ）を第１開口部（８
ａ）で通過させ、搬送装置（１０）を第２開口部（８
ｂ）で通過させることができる。第１開口部（８ａ）、
第２開口部（８ｂ）は、基板（Ｐ）および搬送装置（１
０）の形状にそれぞれ対応しているので、開口部（８）
としては必要最低限の開口面積に抑えることができる。
したがって、この収納装置（５）の開口部（８）近傍の
外部で作業を行っていても、作業者の人体の一部が開口
部（８）を介して収納装置（５）の内部に突出すること
を防止できるので、作業者の安全性を確保することがで
きる。この結果、作業中においても搬送装置（１０）を
停止させる必要もなくなり、生産性も向上する。

【００１３】また、本発明の基板処理装置は、基板
（Ｐ）に感光剤を塗布する塗布装置（９）と、感光剤が
塗布された基板（Ｐ）を現像する現像装置との少なくと
も一方と、基板（Ｐ）を搬送する搬送装置（１０）とを
備えた基板処理装置（２）において、搬送装置（１０）
は、外周部（４４）と、外周部（４４）の内側に一体的
に設けられ、基板（Ｐ）を支持する支持部（４１ａ）
と、支持部（４１ａ）に形成された複数の貫通孔（４
２）とを有する基板支持装置（３９）を備えていること
を特徴とするものである。

【００１４】従って、本発明の基板処理装置では、支持
部（４１ａ）に複数の貫通孔（４２）が形成されている
ことから、基板支持装置（３９）が支持部（４１ａ）に
おいて線接触または面接触して基板（Ｐ）を受ける構造
になっている。そのため、搬送装置（１０）により、塗
布装置（２）と現像装置との少なくとも一方から基板支
持装置（３９）と基板（Ｐ）とを一体で搬送する際に
は、基板（Ｐ）が大型化しても基板（Ｐ）にたわみが生
じることを防止することができる。したがって、開口部
（８）の大きさ設定に、基板（Ｐ）のたわみを考慮する
必要がなくなり、開口部（８）としては必要最低限の開
口面積に抑えることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の収納装置および基
板処理装置の第１の実施の形態を、図１ないし図４を参
照して説明する。ここでは、基板処理装置を基板に感光
剤を塗布するコータと、感光剤を塗布された基板に対し
て露光処理を施す露光装置とし、基板を液晶ディスプレ
イパネル製造に用いられる角形のガラス基板（例えば、
１０００ｍｍ×１０００ｍｍ、ｔ＝１．１ｍｍ）とし、
これらコータと露光装置とをインライン接続する場合の
例を用いて説明する。また、これらの図において、従来
例として示した図１１と同一の構成要素には同一符号を
付し、その説明を省略する。

【００１６】図２は、リソグラフィシステム（基板処理
システム）１の平面図である。リソグラフィシステム１
は、チャンバ（収納装置）５を有するコータ２およびチ
ャンバ４を有する露光装置（第２の基板処理装置）３を
隣接配置した構成になっている。チャンバ４の側壁４ａ
には、図１１に示したものとほぼ同形状の開口部Ｋが形
成されている。側壁４ａに対向するチャンバ５の側壁５
ａには、開口部Ｋに連通する開口部８が形成されてい
る。そして、これらコータ２と露光装置３とは、開口部
８、Ｋを介してインライン接続されている。

【００１７】コータ２は、チャンバ５内に収納された塗
布装置であるコータ本体（処理装置）９とロードアーム
（搬送装置）１０とシャッタ（遮蔽部材）３１とシャッ
タ開閉装置３２を備えている。コータ本体９は、ガラス
基板（基板）Ｐに対してレジスト等の感光剤を塗布する
処理を実施するものである。ロードアーム１０は、ガラ
ス基板Ｐを吸着保持した状態でＸＹ平面に沿って移動す
るとともにＺ方向に沿って昇降することで、コータ本体
９との間でガラス基板Ｐを搬送するとともに、開口部
８、Ｋを介して露光装置３との間でガラス基板Ｐを搬送
する構成になっている。

【００１８】図１に示すように、開口部８は、水平方向
（Ｘ方向）に延在するように形成された基板用開口（第
１開口部）８ａと、該基板用開口８ａと連続して形成さ
れ、基板用開口８ａから一定間隔をあけて下方に向けて
鉛直方向に並行配置されたアーム用開口（第２開口部）
８ｂ、８ｂとから構成されている。基板用開口８ａは、
ガラス基板Ｐの形状に対応して、長さＬがガラス基板Ｐ
の長さに若干のマージンを付加した寸法に設定され、幅
Ｗ１がガラス基板Ｐの厚さおよびたわみ量に若干のマー
ジンを付加した寸法に設定されている。アーム用開口８
ｂは、ロードアーム１０の形状に対応して、幅Ｗ２がロ
ードアーム１０のフォークの幅に若干のマージンを付加
した寸法に設定され、ガラス基板Ｐを受け渡す際に昇降
するストロークに若干のマージンを付加した寸法に長さ
Ｌ２が設定されている。

【００１９】シャッタ３１は、主に開口部８（および開
口部Ｋ）を遮蔽するものであって、開口部８の近傍に、
上下方向（Ｚ方向）に移動可能に配設されている。そし
て、このシャッタ３１は、上昇したときに開口部８（お
よび開口部Ｋ）を閉塞し、下降したときに該開口部８
（および開口部Ｋ）を開放する構成になっている。

【００２０】シャッタ開閉装置３２は、シャッタ３１を
移動させることで開口部８を開閉するものであって、図
３に示すように、シャッタ３１の下方に配置されてい
る。また、シャッタ開閉装置３２には、シャッタ開閉ス
イッチ３３が接続されている。シャッタ開閉スイッチ３
３は、シャッタ開閉装置３２を操作するものであって、
チャンバ５の外面に取り付けられている。

【００２１】一方、側壁５ａには、開口部８の上方近傍
に位置し、シャッタ３１の開閉状態を検知するシャッタ
開閉センサ３４が取り付けられている。このシャッタ開
閉センサ３４としては、近接センサ等が用いられる。

【００２２】露光装置３は、図３に示す液晶表示素子等
のパターンが形成されたマスクＭとガラス基板Ｐとを投
影光学系２２に対して相対走査することによって、マス
ク（レチクル）Ｍに形成されたパターンをガラス基板Ｐ
上に一括転写する処理を実施するものであって、チャン
バ５内に収納された基板搬送装置１１、露光装置本体１
２および受け渡しポート１４を備えている。

【００２３】なお、上記シャッタ３１とシャッタ開閉装
置３２と基板搬送装置１１と上記ロードアーム１０およ
び開口部８、Ｋとによって、コータ２と露光装置３との
間でガラス基板Ｐを搬送するための基板搬送システムが
構築されている。また、投影光学系２２の光軸方向をＺ
軸方向とし、該Ｚ軸に直交する面内でマスクＭとガラス
基板Ｐとを投影光学系２２に対して相対走査する走査方
向をＹ軸方向、このＹ軸方向に直交する非走査方向をＸ
軸方向として説明する。

【００２４】受け渡しポート１４は、コータ本体９で感
光剤を塗布されたガラス基板Ｐおよび露光装置本体１２
で露光処理が施されたガラス基板Ｐの受け渡しが行われ
るものであって、ガラス基板Ｐを下方から吸着支持する
矩形配置された４本の支持軸１３を備えている。支持軸
１３は、ロードアーム１０および基板搬送装置１１が受
け渡しポート１４へ向けて移動した際にもロードアーム
１０および基板搬送装置１１とそれぞれ干渉しない位置
に配置されている。また、この受け渡しポート１４にお
いて支持軸１３で支持されたガラス基板Ｐは、所定温度
に調整されるようになっている。

【００２５】基板搬送装置１１は、ガラス基板Ｐを吸着
保持した状態でＸＹ平面に沿って移動するとともにＺ方
向に沿って昇降することで、受け渡しポート１４との間
でガラス基板Ｐを搬送するとともに、露光装置本体１２
との間でガラス基板Ｐを搬送する構成になっている。

【００２６】露光装置本体１２は、照明光学系２０、マ
スクステージ２１、投影光学系２２および基板ステージ
２３を主体として構成されている。照明光学系２０は、
光源ユニット、シャッタ、２次光源形成光学系、ビーム
スプリッタ、集光レンズ系、視野絞り、および結像レン
ズ系等（いずれも不図示）から構成され、露光用照明光
によってマスクＭ上の矩形（あるいは円弧状）の照明領
域を均一な照度で照明する。

【００２７】マスクステージ２１は、リニアモータ等か
ら成るマスク駆動機構２４によってＹ軸方向（図３にお
ける紙面直交方向）に駆動される。また、マスクステー
ジ２１は、不図示のモータ等の駆動装置によってＸＹ面
内で微少駆動可能に構成されている。このマスクステー
ジ２１には、マスクＭが真空吸着等によって固定されて
いる。マスクステージ２１のＸＹ面内の位置は、位置検
出装置であるマスク用レーザ干渉計システム２５によっ
て所定の分解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で
計測される。

【００２８】投影光学系２２としては、等倍の正立正像
を投影する複数（図３では五つ）の投影光学系ユニット
ＰＬ１〜ＰＬ５をいわゆる千鳥状に配置したものが用い
られている。なお、このような複数組の等倍正立の投影
光学系ユニットを用いた投影光学系の詳細は公知である
ので、ここでは詳細な説明を省略する。従って、照明光
学系２０からの露光用照明光によってマスクＭ上の照明
領域が照明されると、マスクＭの照明領域部分の回路パ
ターンの等倍像がガラス基板Ｐ上の、前記照明領域に共
役な露光領域に投影されるようになっている。

【００２９】基板ステージ２３は、投影光学系２２の下
方に配置され、ステージベース２６上をリニアモータ等
を含む基板駆動機構２７によってＹ軸方向（あるいはＸ
Ｙ二次元方向）に駆動される。この基板ステージ２３の
上面には、基板ホルダ２８を介してガラス基板Ｐが吸着
保持されるようになっている。この基板ステージ２３の
ＸＹ面内の位置は、移動鏡２９を介して位置検出装置で
ある基板用レーザ干渉計システム３０によって所定の分
解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される
構成になっている。

【００３０】また、チャンバ４の受け渡しポート１４近
傍には、チャンバ４内へ出入りするための開口部３６が
外部に開口するように形成されている。そして、開口部
３６には、該開口部３６を開閉する扉３７が設けられて
いる。扉３７には、該扉３７の開閉状態を検知する近接
センサ等の扉開閉センサ３８が取り付けられている。

【００３１】上記の構成の収納装置および基板処理装置
の作用について以下に説明する。まず、リソグラフィシ
ステム１によるガラス基板Ｐに対する一連の処理動作に
ついて説明する。

【００３２】コータ２のコータ本体９で表面に感光剤が
塗布されたガラス基板Ｐは、ロードアーム１０によって
下面側を吸着保持されて、図２に示すように開口部８に
対向する位置へ搬送される。この動作に同期して、シャ
ッタ開閉装置３２の駆動によりシャッタ３１が下降して
開口部８、Ｋを開放する。ここで、シャッタ３１が開い
たことをシャッタ開閉センサ３４が検知すると、ロード
アーム１０はガラス基板Ｐを保持した状態で、開口部
８、Ｋを介してチャンバ４内へ進入する。このとき、ガ
ラス基板Ｐは、開口部８において基板用開口８ａを通過
し、ロードアーム１０はアーム用開口８ｂ、８ｂを通過
する。

【００３３】ロードアーム１０は、ガラス基板Ｐが受け
渡しポート１４の上方へ到達すると下降してガラス基板
Ｐを支持軸１３上に当接させるとともに、ガラス基板Ｐ
への吸着を解除した後に再度下降する。同時に支持軸１
３がガラス基板Ｐを吸着することでガラス基板Ｐが受け
渡される。ロードアーム１０は、所定量下降した後に−
Ｙ方向へ移動して、チャンバ４内から退避して開口部
Ｋ、８を介してチャンバ５内に戻る。

【００３４】ガラス基板Ｐの受け渡しの際、ロードアー
ム１０は開口部８内に留まっているが、アーム用開口８
ｂ、８ｂがロードアーム１０の昇降に対応して鉛直方向
に形成されているので、ロードアーム１０の昇降は支障
なく行われる。

【００３５】ガラス基板Ｐが受け渡しポート１４にセッ
トされると、基板搬送装置１１はガラス基板Ｐに接触し
ない位置まで下降した後に、受け渡しポート１４へ向け
て移動する。そして、基板搬送装置１１は、ガラス基板
Ｐを保持すべき位置まで到達すると上昇してガラス基板
Ｐを下面側から吸着する。同時に、支持軸１３がガラス
基板Ｐに対する吸着を解除することでガラス基板Ｐが基
板搬送装置１１に受け渡される。

【００３６】基板搬送装置１１は、ガラス基板Ｐと支持
軸１３とが所定量離間するまで上昇すると、ガラス基板
Ｐを吸着保持した状態で＋Ｘ方向へ移動する。そして、
Ｚ軸周りに回転してガラス基板Ｐを露光装置本体１２に
対向させた後に＋Ｙ方向へ移動する。ガラス基板Ｐが基
板ステージ２３のほぼ真上に到達すると、基板搬送装置
１１は下降してガラス基板Ｐを基板ホルダ２８上に載置
する。この際、ガラス基板Ｐへの吸着は解除される。こ
の後、基板搬送装置１１は、−Ｙ方向へ移動して基板ス
テージ２３から退避する。

【００３７】ガラス基板Ｐが基板ステージ２３にセット
されると、干渉計システム２５、３０の計測値をモニタ
しつつ、マスク駆動機構２４、基板駆動機構２７を介し
てマスクステージ２１と基板ステージ２３とを同期移動
して、Ｙ軸方向に沿って同一速度で同一方向に投影光学
系２２に対して相対走査する。これにより、マスクＭ上
のパターン領域全域の回路パターンが、表面に感光剤が
塗布されたガラス基板Ｐ上に転写される。なお、露光処
理が終了したガラス基板Ｐは、上記と逆の手順で搬出さ
れる。

【００３８】続いて、メンテナンスや基板搬送装置１１
に対する教示等でチャンバ４内で作業を行う際の手順を
説明する。なお、このメンテナンスとは、例えば基板搬
送装置１１においてガラス基板Ｐがたわんでいたり、ガ
ラス基板Ｐの位置がずれている時の修正作業であり、教
示作業とは露光処理を実施するに先だって、予め基板搬
送装置１１にガラス基板Ｐの受け渡し位置、高さ等の座
標を記憶させるための作業である。

【００３９】まず、シャッタ開閉スイッチ３３を操作す
ることで、シャッタ開閉装置３２を介してシャッタ３１
を上昇させ、開口部８を閉塞する。シャッタ３１が開口
部８を閉塞すると、作業者は扉３７を開けて開口部３６
からチャンバ４内へ入る。そして、手動操作により基板
搬送装置１１に対してメンテナンス作業等を実施する。
ここで、開口部８は、基板用開口８ａ、アーム用開口８
ｂの必要最低限の開口面積しか有していないので、この
開口部８を介して人体の一部がチャンバ５内に突出する
ことはなく、作業者の安全が確保される。また、万一、
衣服等がチャンバ５から突出しても、シャッタ３１が設
置されているのでこの場合も安全性が確保される。

【００４０】ここで、扉３７が開けられた時点で扉開閉
センサ３８が扉３７の開状態を検知するが、シャッタ３
１が閉じていて、且つ扉３７が開いていることから、露
光装置本体１２における露光処理は停止させるが、コー
タ本体９における感光剤塗布処理は継続することができ
る。この場合、コータ２から露光装置３へのガラス基板
Ｐの搬送は行われないため、感光剤塗布処理が完了した
ガラス基板Ｐはロードアーム１０によって、コータ２内
に設けられたバッファ（不図示）へ一時的に搬送されて
取り置きされる。

【００４１】なお、このメンテナンス作業中に、万一不
測の事態によりシャッタ３１が開き、シャッタ開閉セン
サ３４がこれを検知したときに、コータ２における感光
剤塗布処理およびロードアーム１０の駆動を停止させる
ことで、インタロックが機能して作業者の安全を確保す
ることができる。

【００４２】メンテナンス作業が完了し作業者がチャン
バ４から退出して扉３７を閉じると、扉開閉センサ３８
が扉３７の閉状態を検知する。また、作業者がシャッタ
開閉スイッチ３３を操作することで、シャッタ開閉装置
３２を介してシャッタ３１が下降し、開口部８を開放す
る。この結果、露光処理を開始させるとともに、ロード
アーム１０による通常の搬送を再開させることができ
る。

【００４３】本実施の形態の収納装置および基板処理装
置では、開口部８がガラス基板Ｐおよびロードアーム１
０に対応した開口８ａ、８ｂで形成されており、必要最
低限の面積しか開口していないので、作業者がチャンバ
４内の開口部８近傍で作業を行っても体の一部が開口部
８から突出してしまうことを防止でき、安全性を向上さ
せることができる。また、チャンバ４内における作業
を、シャッタ３１が開口部８を閉塞した状態で実施する
ことにより、ロードアーム１０がチャンバ４内に進入し
てきたり、作業者の衣服の一部がチャンバ５内へ突出す
ることも規制され、作業者の安全を一層確実に確保する
ことができる。

【００４４】したがって、本実施の形態の収納装置およ
び基板処理装置では、露光装置３で作業が行われている
場合でも、コータ２の電源を落とす必要がなくなるの
で、コータ２における感光剤塗布処理を継続することが
可能になり、生産性を向上させることができる。これ
は、メンテナンス作業等をコータ２で実施する場合も同
様である。すなわち、本実施の形態では、コータ２と露
光装置３とがインライン接続された場合であっても、一
方の装置で安全に教示作業等の作業を行うことができ、
さらにこの間、他方の装置での基板処理工程を継続する
ことができ、生産効率を大幅に向上させることができ
る。

【００４５】また、開口部Ｋを従来と同様の大きさに設
定し、開口部８のみに基板用開口８ａとアーム用開口８
ｂとを設けたので、露光装置３としては、ロードアーム
１０の形状に拘わらず対応可能であり、汎用性が拡が
る。

【００４６】なお、上記実施の形態において、基板用開
口８ａとアーム用開口８ｂとをコータ２の開口部８のみ
に設ける構成としたが、これに限られず、露光装置３の
開口部Ｋのみに設ける構成や、開口部８、Ｋの双方に設
けるような構成であってもよい。また、開口部８を側壁
５ａに直接形成する構成としたが、これに限定されるこ
となく、例えば、側壁５ａに開口部Ｋと同程度の開口を
形成しておき、基板用開口８ａとアーム用開口８ｂとを
有するパネルを、この開口と開口８ａ、８ｂとが連通す
るように側壁５ａに着脱自在に取り付けるような構成で
あってもよい。この場合、パネルを交換することによ
り、ロードアーム１０、ガラス基板Ｐの大きさの変更に
容易に対応することができ、汎用性を高めることができ
る。さらに、開口部８を開口部Ｋと同程度の大きさに設
定するとともに、シャッタ３１を、複数のシャッタ構成
体からなり、各構成体が側壁５ａに沿って２次元的に移
動可能な構成とし、各構成体の移動により開口の大きさ
を変更して基板用開口８ａとアーム用開口８ｂを形成し
たり、開口を閉塞して安全性を高めるような構成にして
もよい。

【００４７】また、上記実施の形態において、基板用開
口８ａを水平方向に延在する形状としたが、ガラス基板
Ｐが大きく且つ薄いため、非常に大きなたわみが発生す
る場合は、図４に示すように、ガラス基板Ｐのたわみ形
状に対応するように基板用開口８ａを形成することが望
ましい。この場合も、基板用開口８ａを必要最低限の開
口面積に抑えることができ、作業者の安全性を確保する
ことが可能になる。

【００４８】図５ないし図１０は、本発明の収納装置お
よび基板処理装置の第２の実施の形態を示す図である。
これらの図において、図１ないし図４に示す第１の実施
の形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付
し、その説明を省略する。第２の実施の形態と上記の第
１の実施の形態とが異なる点は、開口部８の構成、ガラ
ス基板Ｐを搬送する際の支持方法、およびこれに付随す
るコータ本体９と露光装置本体１２の構成である。

【００４９】図５および図６に示すように、チャンバ４
の側壁４ａには、内部へ向けて突出する突部４ｂが設け
られている。また、チャンバ５の側壁５ａには、内部へ
向けて突出する突部５ｂが突部４ｂとほぼ対向する位置
に設けられている。突部４ｂには、該突部４ｂを貫通し
て開口部Ｋが形成されている。同様に、突部５ｂには、
該突部５ｂを貫通して、開口部Ｋに連通する開口部８が
形成されている。図７に示すように、各開口部Ｋ、８
は、従来と同様の大きさの矩形形状に形成されている。

【００５０】なお、図８に示すように、ガラス基板Ｐ
は、ロードアーム１０に備えられた基板支持トレー（基
板支持装置）３９に支持されて搬送される構成にしても
よい。基板支持トレー３９は、ガラス基板Ｐよりも一回
り大きな矩形の外枠４０と、この外枠４０の内部に所定
間隔で格子状に張り巡らせた複数本の線状部材４１とを
備えるものである。外枠４０の両側には、ロードアーム
１０に保持されるつば部４５が片側二つ、合計四つ外側
に向けて延出している。これら複数本の線状部材４１に
よって構成される各格子の内部には、矩形の貫通孔４２
が複数形成されている。これら複数本の線状部材４１
は、相互に溶接され、あるいは格子状に組み合わされる
とともに、外枠４０に溶接されて固着している。

【００５１】図９には、この基板支持トレー３９の一部
が拡大して示されている。この図に示すように、各線状
部材４１の外枠４０側の端部近傍には、外枠４０より一
回り小さなガラス基板Ｐの外周部に係合する段部４３が
それぞれ形成され、各線状部材４１に形成された段部４
３によって、ガラス基板Ｐを所定位置に位置決めする位
置決め部が構成されている。本実施の形態では、外枠４
０と各線状部材４１の段部４３から外側の部分（すなわ
ち、一段高い部分）４１ｂとによって、外周部４４が構
成され、各線状部材４１の段部４３より内側の部分４１
ａによって、支持部が構成されている。以下の説明で
は、便宜上この支持部を指す符合として４１ａを用い
る。

【００５２】上記支持部４１ａを構成する各線状部材４
１の断面の形状、寸法等は特に問わず、例えば断面が円
形、矩形、細長い矩形等どのような形状であってもよ
い。また、支持部４１ａは、上記のように複数本の線状
部材４１を格子状に配置し、これらを溶接や接着により
連結して格子面を形成してもよいが、これに限らず、一
体成形によって格子状に形成してもよい。また、格子の
間隔は、ガラス基板Ｐが大きくたわんで破損しないよう
に、ガラス基板Ｐの大きさ及び厚さに応じて決定されて
いる。このように、基板支持トレー３９は、外枠４０と
線状部材４１との組み合わせ（一体成形を含む）により
形成されるので、その素材として剛性の高い鉄等の金属
を用いることにより、軽量高剛性にすることが可能にな
り、速やかな搬送が可能になる。

【００５３】なお、基板支持トレー３９の構成は、上記
構成に限定されることなく、例えば、支持部を所定間隔
で同一方向に配置された複数本の線状部材のみで形成し
てもよく、外周部を矩形の板状部材の中央を矩形に貫通
させた矩形枠状の単一の部材により形成してもよく、あ
るいは内部を所々貫通させて所々に貫通孔を形成した一
枚の板によって構成してもよい。要は、外周部と、外周
部の内側に一体的に設けられた支持部とを備え、その支
持部に複数の貫通孔が形成されていれば足りる。また、
図９の段部４３のうちの適当に選択した３〜４ヶ所に対
応する位置（ガラス基板Ｐの四辺のうちの少なくとも三
辺に対向する位置）に上方に向けて突設されたストッ
パ、例えば位置決めピンによって位置決め部を構成して
もよい。

【００５４】また、基板支持トレー３９に対するガラス
基板Ｐの受け渡しは、不図示の基板受け渡し装置で行わ
れる。例えば、この基板受け渡し装置は、上下動可能な
支持棒を含み、基板支持トレー３９の上方で一旦ガラス
基板Ｐを支持し、下降してガラス基板Ｐを基板支持トレ
ー３９に移載するようなものでよい。この装置による作
業は、広い空間のある場所で多数の支持棒によりガラス
基板Ｐがたわまないように安全に行えばよい。

【００５５】図８に戻り、コータ本体９にはベース４６
上に、基板支持トレー３９を介してガラス基板Ｐを保持
する基板ホルダ（保持部）４７が配設されている。基板
ホルダ４７の上面には、格子状の支持部４１ａに対応し
て、該支持部４１ａが埋め込まれる程度の深さを有する
格子状の溝４７ａが形成されている。基板ホルダ４７の
上面は、ガラス基板Ｐが載置された際に当該ガラス基板
Ｐのたわみを除去するように平面度よく仕上げられてい
る。また、基板ホルダ４７の上面には、ガラス基板Ｐを
この面に倣わせて密着させるための吸気孔が複数の開口
部４２に対応して設けられている。さらに、基板ホルダ
１４の周辺部には、基板支持トレー３９の外枠４０の下
面を吸着固定するための吸気孔も設けられている。各吸
気孔は、真空ポンプに配管（いずれも不図示）を介して
接続されている。

【００５６】一方、図示はしていないが、露光装置本体
１２の基板ステージ２３に配設された基板ホルダ２８も
上記コータ本体９の基板ホルダ４７と同様に格子状の溝
が形成されている。

【００５７】上記の構成のロードアーム１０によるガラ
ス基板Ｐの搬送動作について説明する。まず、コータ本
体９の基板ホルダ４７へガラス基板Ｐを搬送する動作を
説明する。

【００５８】ロードアーム１０を駆動して、ガラス基板
Ｐを基板支持トレー３９と一体的に基板ホルダ４７の上
方まで移動させる。このとき、支持部４１ａの格子を構
成する各線状部材４１と、基板ホルダ４７上の溝４７ａ
とが対向するようにロードアーム１０の位置を調整す
る。

【００５９】次に、ロードアーム１０を所定量下降させ
る。その結果、支持部４１ａの格子を構成する各線状部
材４１が基板ホルダ４７の溝４７ａに嵌まり、支持部４
１ａが基板ホルダ４７の上面より下方に下がり、ガラス
基板Ｐのみが基板ホルダ４７の上面に接触した状態とな
る。ここで、真空ポンプによる負圧吸引が開始され、基
板ホルダ１４に複数の貫通孔４２に対応して形成された
各吸気孔を介してガラス基板Ｐの下面が基板ホルダ４７
に吸着されて固定される。このとき、基板支持トレー３
９の外枠４０の一部も基板ホルダ４７に吸着されて固定
される。

【００６０】基板ホルダ４７上へのガラス基板Ｐの受け
渡しが完了すると、図１０に示すように、ロードアーム
１０を＋Ｙ方向に移動させて基板ホルダ４７上から退避
させる。かくして、基板ホルダ４７へのガラス基板Ｐの
搬送が完了する。

【００６１】続いて、コータ本体９の基板ホルダ４７か
ら露光装置本体１２の基板ホルダ２８上へガラス基板Ｐ
を搬送する動作について説明する。ガラス基板Ｐへのレ
ジスト塗布処理が終了すると、ロードアーム１０を図１
０に示す位置から、基板ホルダ４７上に載置された基板
支持トレー３９下方で基板ホルダ４７のＸ方向両側にロ
ードアーム１０を＋Ｙ方向側から挿入する。これと同時
に、真空ポンプによる負圧吸引が解除され、基板ホルダ
４７によるガラス基板Ｐの吸着が解除される。

【００６２】次に、ロードアーム１０を所定量上方（＋
Ｚ方向）に移動させると、ロードアーム１０は基板支持
トレー３９のつば部４５に当接し、さらに上方に移動す
るとつば部４５を介してガラス基板Ｐを支持する基板支
持トレー３９が基板ホルダ４７の上方に持ち上げられ、
支持部４１ａと溝部４７ａの嵌合（あるいは係合）が解
除される。

【００６３】支持部４１ａと溝部４７ａとの嵌合解除が
完了する位置まで基板支持トレー３９が持ち上げられた
時点で、ロードアーム１０を＋Ｙ方向へ移動させ、ガラ
ス基板Ｐを保持した基板支持トレー３９を基板ホルダ４
７上から退避させる。そして、このロードアーム１０を
Ｚ軸周りに回転するとともに、Ｚ方向に昇降して基板支
持トレー３９を開口部８に対向させる。この動作に同期
して、シャッタ開閉装置３２の駆動によりシャッタ３１
が下降して開口部８、Ｋを開放する。ここで、シャッタ
３１が開いたことをシャッタ開閉センサ３４が検知する
と、ロードアーム１０は図７に示すように、基板支持ト
レー３９を介してガラス基板Ｐを保持した状態で、開口
部８、Ｋを介してチャンバ４内へ進入する。

【００６４】ロードアーム１０は、基板支持トレー３９
が受け渡しポート１４の上方へ到達すると下降して、ガ
ラス基板Ｐを基板支持トレー３９ごと支持軸１３上に載
置する。このとき、支持軸１３は、基板支持トレー３９
の外枠４０を下面側から支持するように配置される。こ
の移載の際に、支持軸１３はガラス基板Ｐを吸着するこ
とでガラス基板Ｐが受け渡される。ロードアーム１０
は、所定量下降した後に−Ｙ方向へ移動して、チャンバ
４内から退避して開口部Ｋ、８を介してチャンバ５内に
戻る。

【００６５】ガラス基板Ｐが受け渡しポート１４にセッ
トされると、基板搬送装置１１はガラス基板Ｐに接触し
ない位置まで下降した後に、受け渡しポート１４へ向け
て移動する。そして、基板搬送装置１１は、ガラス基板
Ｐを保持すべき位置まで到達すると上昇して基板支持ト
レー３９のつば部４５を下面側から吸着する。同時に、
支持軸１３がガラス基板Ｐに対する吸着を解除すること
で基板支持トレー３９が基板搬送装置１１に受け渡され
る。

【００６６】この後、基板搬送装置１１は、上記第１の
実施の形態と同様に、基板支持トレー３９を介してガラ
ス基板Ｐを露光装置本体１２の基板ホルダ２８上に載置
する。ここでも、コータ本体９における基板ホルダ４７
と同様に、基板支持トレー３９の支持部４１ａを構成す
る各線状部材４１を基板ホルダ２８の溝（不図示）に嵌
めることで、ガラス基板Ｐの下面を基板ホルダ２８に吸
着固定する。かくして、ガラス基板Ｐが、コータ本体９
の基板ホルダ４７から露光装置本体１２の基板ホルダ２
８上へ搬送される。

【００６７】本実施の形態の収納装置では、開口部８、
Ｋがチャンバ４、５に設けられた突部４ｂ、５ｂに貫通
して形成されているので、開口部８、Ｋの長さが大きく
なり、開口部８、Ｋの開口面積が従来と同様に比較的大
きい場合でも、作業者がチャンバ４内の開口部８近傍で
作業を行っても、体の一部が開口部８から突出してしま
うことを防止でき、作業者の安全性を向上させることが
できる。また、チャンバ４内における作業を、シャッタ
３１が開口部８を閉塞した状態で実施することにより、
ロードアーム１０がチャンバ４内に進入してきたり、作
業者の衣服の一部がチャンバ５内へ突出することも規制
され、作業者の安全を一層確実に確保することができ
る。

【００６８】また、本実施の形態の基板処理装置では、
ロードアーム１０が基板支持トレー３９を備えているの
で、ガラス基板Ｐの面を点ではなく、線で受ける構造で
あることからガラス基板Ｐのほぼ全面を均等に保持する
ことが可能になり、ガラス基板Ｐが大型化しても搬送時
にガラス基板Ｐにたわみが生じることを効果的に防止で
きる。したがって、開口部８、Ｋの開口面積を必要最低
限に抑えることも可能になり、作業者の安全性をより確
実に確保することができる。また、ガラス基板Ｐの交換
時にガラス基板Ｐにたわみが生じないので、基板ホルダ
４７、２８上面の部分的な摩耗が生じることを効果的に
防止でき、これにより基板ホルダ４７、２８の上面を平
面度よく維持することが可能になる。さらに、基板ホル
ダ４７の上面の、基板支持トレー３９の貫通孔４２に対
応した位置に、ほぼ均等に多数の吸気孔を設けることが
できるので、ガラス基板Ｐをほぼ全面に亙って均一に吸
着することが可能になり、ガラス基板Ｐの平坦度を向上
させることも可能になる。また、ガラス基板Ｐと基板支
持トレー３９とを一体的に搬送する方法が採用されてい
るので、複数枚のガラス基板Ｐを同時に搬送することも
可能である。

【００６９】なお、上記実施の形態において、開口部
８、Ｋの開口面積を従来と同様の大きさとする構成にし
たが、突部４ｂ、５ｂに第１の実施の形態と同様に、ガ
ラス基板Ｐに対応した基板用開口８ａ、およびロードア
ーム１０に対応したアーム用開口８ｂを有する開口８、
Ｋを形成する構成であってもよい。

【００７０】また、上記実施の形態では、基板用開口、
アーム用開口を有する開口部や突部を貫通する開口部
を、コータ２と露光装置３との間でガラス基板Ｐ搬送す
る際の開口部としたが、露光装置本体１２と基板搬送装
置１１との間に設けられた隔壁に開口部を設ける場合
や、コータ本体９とロードアーム１０との間に設けられ
た隔壁に開口部を設ける場合にも適用可能である。この
場合、露光装置３においては、露光装置本体１２の基板
ステージ２３にガラス基板Ｐのローディング（搬送）ポ
ジションを検知する位置センサを設けるとともに、隔壁
に開口部を開閉するシャッタおよびシャッタの開放状態
を検知する開センサを設け、この位置センサの検知結果
に同期してシャッタが開くようにし、基板搬送装置１１
側では基板ステージ２３にアクセスする際に位置センサ
と開センサとの検知結果に対してＡＮＤを取るようにす
る。これにより、露光装置本体１２で作業を行う場合の
作業者の安全を確保することができる。同様に、コータ
２においても、コータ本体９の基板ホルダ４７にガラス
基板Ｐのローディングポジションを検知する位置センサ
を設けるとともに、隔壁に開口部を開閉するシャッタお
よびこのシャッタの開放状態を検知する開センサを設
け、この位置センサの検知結果に同期してシャッタが開
くようにし、ロードアーム１０側では基板ホルダ４７に
アクセスする際に位置センサと開センサとの検知結果に
対してＡＮＤを取るようにする。これにより、コータ本
体９で作業を行う場合の作業者の安全を確保することが
できる。

【００７１】また、上記実施の形態では、シャッタ３１
をチャンバ５内に設ける構成としたが、チャンバ４内に
設ける構成や、双方に設ける構成、さらにはチャンバ
４、５間の隙間に設けるような構成であってもよい。

【００７２】また、上記実施の形態において、基板支持
トレー３９の線状部材４１を格子状に形成する構成とし
たが、これに限られず、例えば六角形の貫通孔が形成さ
れるハニカム（ｈｏｎｅｙｃｏｍｂ）状であってもよ
い。この場合、基板ホルダ４７や基板ホルダ２８の上面
に形成される溝もハニカム状にすればよい。

【００７３】収納装置としては、露光装置本体１２やコ
ータ本体９を収納するものに限られず、ガラス基板Ｐに
対する異物の有無や露光されたパターンを検査する検査
装置や、ガラス基板Ｐに転写されたパターンの周辺部を
露光して現像工程でレジストを除去するための周辺露光
装置や、ガラス基板Ｐに処理工程等のタイトルを露光処
理で形成するタイトラー等を収納するものであってもよ
い。基板処理装置としても同様に、露光装置３やコータ
２に限らず、上記周辺露光装置やタイトラー、さらにレ
ジストが塗布されて露光処理が施されたガラス基板Ｐに
現像処理を行うデベロッパ（現像装置）であってもよ
く、またコータとデベロッパが一体に構成されたコータ
・デベロッパであってもよい。

【００７４】なお、基板としては、液晶ディスプレイパ
ネル用のガラス基板Ｐの他に、半導体デバイス用の半導
体ウエハ、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、ある
いは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版
（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。

【００７５】露光装置３としては、マスクＭとガラス基
板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを露光するス
テップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキ
ャニング・ステッパー；USP5,473,410）の他に、マスク
Ｍとガラス基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパター
ンを露光し、ガラス基板Ｐを順次ステップ移動させるス
テップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッ
パー）にも適用することができる。

【００７６】露光装置３の種類としては、ガラス基板Ｐ
に液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置に
限られず、半導体製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッ
ド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクルなどを製造す
るための露光装置などにも広く適用できる。

【００７７】また、照明光学系２０の光源として、超高
圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、
ｈ線（４０４．ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦ
エキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ
（１９３ｎｍ）、Ｆ₂レーザ（１５７ｎｍ）のみなら
ず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができ
る。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱
電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ₆）、タ
ンタル（Ｔａ）を用いることができる。また、ＹＡＧレ
ーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。

【００７８】投影光学系２２の倍率は、等倍のみならず
縮小系および拡大系のいずれでもよい。また、投影光学
系２２としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用い
る場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過す
る材料を用い、Ｆ₂レーザやＸ線を用いる場合は反射屈
折系または屈折系の光学系にし（マスクＭも反射型タイ
プのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学
系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を
用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状
態にすることはいうまでもない。また、投影光学系２２
を用いることなく、マスクＭとガラス基板Ｐとを密接さ
せてマスクＭのパターンを露光するプリキシミティ露光
装置にも適用可能である。

【００７９】基板ステージ２３やマスクステージ２１に
リニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）
を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型お
よびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮
上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージ２１、
２３は、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイ
ドを設けないガイドレスタイプであってもよい。

【００８０】ステージ２１、２３の駆動機構２４、２７
としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二
次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電
磁力によりステージを駆動する平面モータを用いてもよ
い。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいず
れか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユ
ニットとの他方をステージの移動面側に設ければよい。

【００８１】基板ステージ２３の移動により発生する反
力は、特開平８−１６６４７５号公報（USP5,528,118）
に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的
に床（大地）に逃がしてもよい。マスクステージ２１の
移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号
公報（US S/N 08/416,558）に記載されているように、
フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしても
よい。

【００８２】複数の光学素子から構成される照明光学系
２０および投影光学系２２をそれぞれ露光装置本体１２
に組み込んでその光学調整をするとともに、多数の機械
部品からなるマスクステージ２１や基板ステージ２３を
露光装置本体１２に取り付けて配線や配管を接続し、さ
らに総合調整（電気調整、動作確認等）をすることによ
り本実施の形態の露光装置３を製造することができる。
なお、露光装置３の製造は、温度およびクリーン度等が
管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

【００８３】液晶表示素子や半導体デバイス等のデバイ
スは、各デバイスの機能・性能設計を行うステップ、こ
の設計ステップに基づいたマスクＭを製作するステッ
プ、ガラス基板Ｐ、ウエハ等を製作するステップ、前述
した実施の形態の露光装置３によりマスクＭのパターン
をガラス基板Ｐ、ウエハに露光するステップ、各デバイ
スを組み立てるステップ、検査ステップ等を経て製造さ
れる。

【００８４】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る収
納装置は、開口部が、基板の形状に対応した第１開口部
と、第１開口部と連続して形成され搬送装置に対応した
第２開口部とを備える構成となっている。これにより、
この収納装置では、開口部が必要最低限の面積しか開口
していないので、作業者の体の一部が開口部から内部へ
突出することが防止され、作業者の安全を確実に確保す
ることができる。そのため、開口部近傍の外部で作業を
行う際にも搬送装置により基板の搬送を継続することが
可能になり、生産性を向上させることができるという効
果も得られる。

【００８５】請求項２に係る収納装置は、第１開口部が
基板のたわみ形状に対応して形成される構成となってい
る。これにより、この収納装置では、基板が大きく且つ
薄いために非常に大きなたわみが発生する場合でも、開
口部を必要最低限の開口面積に抑えることができ、作業
者の安全性をより確保することが可能になる。

【００８６】請求項３に係る収納装置は、収納装置が基
板に所定の処理を行う処理装置を収納する構成となって
いる。これにより、この収納装置では、開口部近傍の外
部で作業を行う際にも搬送装置による基板の搬送および
処理装置による基板の処理を継続することが可能にな
り、生産性を向上させることができるという効果が得ら
れる。

【００８７】請求項４に係る収納装置は、開口部が突部
を貫通して形成される構成となっている。これにより、
この収納装置では、開口部の長さが大きくなり、開口部
の開口面積が比較的大きい場合でも、作業者の体の一部
が開口部から突出してしまうことを防止でき、作業者の
安全性を向上させることができる。

【００８８】請求項５に係る収納装置は、遮蔽部材が開
口部の少なくとも一部を遮蔽する構成となっている。こ
れにより、この収納装置では、搬送装置が開口部から突
出してきたり、作業者の衣服の一部が収納装置内へ突出
することも規制され、作業者の安全を一層確実に確保で
きるという効果が得られる。

【００８９】請求項６に係る基板処理装置は、搬送装置
が外枠、基板を支持する支持部、支持部に形成された複
数の貫通孔を有する基板支持装置を備える構成となって
いる。これにより、この基板処理装置では、基板が大型
化しても搬送時に基板にたわみが生じることを効果的に
防止できる。また、基板ホルダに、ほぼ均等に多数の吸
気孔を設けることができるので、基板をほぼ全面に亙っ
て均一に吸着することが可能になり、基板の平坦度が向
上するという効果も得られる。

【００９０】請求項７に係る基板処理装置は、塗布装置
と現像装置との少なくとも一方が基板支持装置を保持す
る保持部を有する構成となっている。これにより、この
基板処理装置では、基板に対する感光剤の塗布処理と、
露光された基板の現像処理との少なくとも一方を行う際
に、基板を平坦に支持する基板支持装置を保持部により
保持するので、保持部上面の部分的な摩耗が生じること
を効果的に防止でき、保持部の上面を平面度よく永く維
持することが可能になる。

【００９１】請求項８に係る基板処理装置は、基板支持
装置の形状に対応した開口部を有し、基板処理装置を収
納する収納装置を備える構成となっている。これによ
り、この基板処理装置では、開口部が必要最低限の面積
しか開口していないので、作業者の体の一部が開口部か
ら収納装置の内部へ突出することが防止され、作業者の
安全を確実に確保することができる。また、開口部近傍
の外部で作業を行う際にも基板処理を継続することが可
能になり、生産性を向上させることができるという効果
も得られる。

【００９２】請求項９に係る基板処理装置は、搬送装置
が開口部を介してインライン接続された第２の基板処理
装置に基板を搬送する構成となっている。これにより、
この基板処理装置では、第２の基板処理装置において作
業者が作業を行う際にも作業者の体の一部が開口部から
収納装置の内部へ突出することが防止され、作業者の安
全を確実に確保できるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、基板用開口およびアーム用開口を備えた開口部の正
面図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態を示す図であっ
て、コータと露光装置とが開口部を介してインライン接
続されたリソグラフィシステムの断面平面図である。

【図３】図２における断面正面図である。

【図４】本発明の収納装置を構成する開口部の別の形
態を示す正面図である。

【図５】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、コータと露光装置とが開口部を介してインライン接
続されたリソグラフィシステムの断面平面図である。

【図６】図５における断面正面図である。

【図７】本発明の収納装置を構成する開口部が突部に
形成されている正面図である。

【図８】本発明の第２の実施の形態を示す図であっ
て、ガラス基板が基板支持トレーを介してロードアーム
に保持された外観斜視図である。

【図９】同基板支持トレーの要部の詳細図である。

【図１０】同ガラス基板が、基板支持トレーごと基板
ホルダに載置された外観斜視図である。

【図１１】従来技術による開口部の一例を示す正面図
である。

【符号の説明】

Ｐガラス基板（基板）２コータ（塗布装置）３露光装置（第２の基板処理装置）４ｂ、５ｂ突部５チャンバ（収納装置）８開口部８ａ基板用開口（第１開口部）８ｂアーム用開口（第２開口部）９コータ本体（処理装置）１０ロードアーム（搬送装置）３１シャッタ（遮蔽部材）３９基板支持トレー（基板支持装置）４２貫通孔４１ａ支持部４４外周部４７基板ホルダ（保持部）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者秋山博之東京都千代田区丸の内３丁目２番３号株式会社ニコン内Ｆターム(参考） 5F031 CA05 FA02 FA11 FA12 FA15 GA43 GA47 GA49 KA06 LA07 MA26 MA27 NA02 NA08 NA09 PA18 5F046 AA21 BA03 CB20 CB25 CC01 CC02 CC16 CC18 CD01 CD05 CD06 JA22

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】開口部を有し、基板を搬送する搬送装置
を収納する収納装置において、前記開口部は、前記基板の形状に対応した第１開口部
と、前記第１開口部と連続して形成され、前記搬送装置に対
応した第２開口部とを備えることを特徴とする収納装
置。
【請求項２】請求項１記載の収納装置において、前記第１開口部は、前記基板のたわみ形状に対応して形
成されていることを特徴とする収納装置。
【請求項３】請求項１または請求項２記載の収納装置
において、前記収納装置は、前記基板に所定の処理を行う処理装置
を収納することを特徴とする収納装置。
【請求項４】請求項１から請求項３のいずれか一項記
載の収納装置において、前記収納装置は突部を有しており、前記開口部は前記突
部を貫通して形成されていることを特徴とする収納装
置。
【請求項５】請求項１から請求項４のいずれか一項記
載の収納装置において、前記開口部の少なくとも一部を遮蔽する遮蔽部材を備え
たことを特徴とする収納装置。
【請求項６】基板に感光剤を塗布する塗布装置と、前
記感光剤が塗布された基板を現像する現像装置との少な
くとも一方と、前記基板を搬送する搬送装置とを備えた
基板処理装置において、前記搬送装置は、外周部と、該外周部の内側に一体的に
設けられ、前記基板を支持する支持部と、前記支持部に
形成された複数の貫通孔とを有する基板支持装置を備え
ていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】請求項６記載の基板処理装置において、前記塗布装置と前記現像装置との少なくとも一方は、前
記基板支持装置を保持する保持部を有していることを特
徴とする基板処理装置。
【請求項８】請求項６または７記載の基板処理装置に
おいて、前記基板支持装置の形状に対応した開口部を有し、前記
基板処理装置を収納する収納装置を備えたことを特徴と
する基板処理装置。
【請求項９】請求項８記載の基板処理装置において、前記搬送装置は、前記開口部を介してインライン接続さ
れた第２の基板処理装置に前記基板を搬送することを特
徴とする基板処理装置。