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JP2000315382A - Magnetic random access memory circuit - Google Patents

Magnetic random access memory circuit

Info

Publication number
JP2000315382A
JP2000315382A JP11124765A JP12476599A JP2000315382A JP 2000315382 A JP2000315382 A JP 2000315382A JP 11124765 A JP11124765 A JP 11124765A JP 12476599 A JP12476599 A JP 12476599A JP 2000315382 A JP2000315382 A JP 2000315382A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
random access
access memory
cell
magnetic random
memory circuit
Prior art date
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Granted
Application number
JP11124765A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3427974B2 (en
Inventor
Sadahiko Miura
貞彦 三浦
Hideaki Numata
秀昭 沼田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP12476599A priority Critical patent/JP3427974B2/en
Priority to US09/563,751 priority patent/US6191972B1/en
Publication of JP2000315382A publication Critical patent/JP2000315382A/en
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Publication of JP3427974B2 publication Critical patent/JP3427974B2/en
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  • Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an MRAM circuit of which a characteristic does not depend on dispersion of the characteristic of a memory cell depending on a place on a wafer. SOLUTION: This circuit is provide with row decoders 102, 103 decoding one part of an address, column decoders 104, 105 decoding the residual part of the address, plural sense lines 21, 22, 21r, 22r, 24, 25 connected to decoding terminals of the row decoders 102, 103, plural word lines 2a-2c connected to the decoding terminals of the column decoders, plural memory cells 21a-21c, 22a-22c, 23a-23c, plural reference cells 2ra-2rc, and the memory cell and the reference cell are provided with a magnetic resistance element. The plural sense lines and plural word lines intersect in a matrix state, the plural memory cells are connected to the sense line and the word line of an intersection in the intersections relating to one part of sense lines out of the intersections of plural sense lines and plural word lines, the plural reference cells are connected to the sense line and the word line of the intersection in the intersections relating to the other sense lines.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ランダムアク
セスメモリ(MRAM : Magnetic Random Access Memo
ry)回路(以下「MRAM回路」という。)に関する。
The present invention relates to a magnetic random access memory (MRAM).
ry) circuit (hereinafter referred to as “MRAM circuit”).

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ランダムアクセスメモリにおいて
は、複数の記憶セルがワード線とビット線の交点に配置
されている。基本的には、記憶セルは絶縁層あるいは金
属層及びそれを挟んだ二枚の強磁性層から構成されてい
る。デジタル情報は強磁性層の磁化の向きによって表さ
れ、その情報は意図的に書き換えられない限り、無限に
保持される。記憶セルの状態を書き換えるために、ワー
ド電流とビット電流により閾値より大きな合成磁場を記
憶セルに印加し、強磁性層の磁化を反転させる。
2. Description of the Related Art In a magnetic random access memory, a plurality of storage cells are arranged at intersections of word lines and bit lines. Basically, the memory cell is composed of an insulating layer or a metal layer and two ferromagnetic layers sandwiching the insulating layer or the metal layer. Digital information is represented by the direction of magnetization of the ferromagnetic layer, and the information is held indefinitely unless intentionally rewritten. In order to rewrite the state of the storage cell, a combined magnetic field larger than a threshold is applied to the storage cell by a word current and a bit current to invert the magnetization of the ferromagnetic layer.

【0003】第1の技術として、米国特許第57485
19号及びIEEE Transaction On Components Packaging
and Manufacturing Technology-Part A Vol. 170 No.
3pp373- 379で開示されている、記憶セルとして巨大磁
気抵抗効果(GMR : giant magnetoresistive)素子
を用いて且つ簡単化されたMRAM回路を図6に示す。
このMRAM回路は一般的に半導体基板上に形成され、
他の回路が同一基板上に混載される。MRAM回路はメ
モリアレー(第1アレー604及び第2アレー60
5)、デコーダ(行デコーダ602及び列デコーダ60
3)及び比較器606より構成される。行デコーダ60
2と列デコーダ603は、アドレスバス601にそれぞ
れ接続されている。第1アレー604及び第2アレー6
05のうちの一方は読み出し時の参照セルとして用いら
れる。
A first technique is disclosed in US Pat. No. 5,785,485.
No. 19 and IEEE Transaction On Components Packaging
and Manufacturing Technology-Part A Vol. 170 No.
FIG. 6 shows a simplified MRAM circuit disclosed in 3pp373-379 using a giant magnetoresistive (GMR) element as a memory cell and simplified.
This MRAM circuit is generally formed on a semiconductor substrate,
Other circuits are mixed on the same substrate. The MRAM circuit includes a memory array (a first array 604 and a second array 60).
5), decoder (row decoder 602 and column decoder 60)
3) and a comparator 606. Row decoder 60
2 and the column decoder 603 are connected to the address bus 601 respectively. First array 604 and second array 6
One of 05 is used as a reference cell at the time of reading.

【0004】第2の従来技術として、米国特許第564
0343号で開示されている、磁気トンネル接合(MT
J : Magnetic Tunnel Junction)素子を記憶セルとし
て用いて、それぞれのワード線とセンス線の交点に一つ
の記憶セルを配したメモリアレーをもつMRAM回路を
図7に示す。このMRAM回路は行デコーダ701、7
02と列デコーダ703、704とこれらに接続される
交点に磁気トンネル接合素子を有するマトリックス回路
より構成されている。このMRAM回路は、記憶情報を
センス電流の大小に対応させて動作するが、この開示に
おいて、電圧の検出方法、比較器(センスアンプ)への
接続方法については記述されていない。
A second prior art is disclosed in US Pat.
No. 0343, a magnetic tunnel junction (MT
J: Magnetic Tunnel Junction) FIG. 7 shows an MRAM circuit having a memory array in which one memory cell is arranged at the intersection of each word line and sense line using an element as a memory cell. This MRAM circuit includes row decoders 701 and 7
02, column decoders 703 and 704, and a matrix circuit having magnetic tunnel junction elements at intersections connected to these. Although this MRAM circuit operates in accordance with the stored information in accordance with the magnitude of the sense current, this disclosure does not describe a method of detecting a voltage or a method of connecting to a comparator (sense amplifier).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】第1の従来技術では、
記憶セルと参照セルそれぞれに別のワードラインが必要
なため、記憶セルアレイと参照セルアレイが分離され、
あるいはそれらの距離が離れている。そのため、それぞ
れの比較信号に寄生要素が含まれ易く、充分な動作マー
ジンの実現が困難であった。そのため、記憶セルのウェ
ハー上での特性の均一性が要求された。また、記憶セル
面積が大きいので、集積化、小型化が困難であった。更
に、第1の従来技術では、1つのアドレスに対し2個の
セルが必要であるため、記憶セル面積が大きく、集積
化、小型化が困難であった。
In the first prior art,
Since a separate word line is required for each of the storage cell and the reference cell, the storage cell array and the reference cell array are separated,
Or they are far apart. Therefore, each comparison signal easily includes a parasitic element, and it is difficult to realize a sufficient operation margin. Therefore, uniformity of the characteristics of the storage cell on the wafer has been required. In addition, since the memory cell area is large, integration and miniaturization are difficult. Further, in the first prior art, since two cells are required for one address, the storage cell area is large, and it is difficult to integrate and reduce the size.

【0006】本発明はウエハー上での場所に依存する磁
気抵抗素子の特性のばらつきに特性が依存しないMRA
M回路を提供することを目的とする。また、本発明は、
配線抵抗の影響を極力排除した感度の高い読み出しが可
能なMRAM回路を提供することを目的とする。更に、
本発明は、集積化のために有効な回路構成を有するMR
AM回路を提供することを目的とする。
The present invention provides an MRA in which the characteristics do not depend on the variation in the characteristics of the magnetoresistive element depending on the location on the wafer.
It is an object to provide an M circuit. Also, the present invention
It is an object of the present invention to provide an MRAM circuit capable of highly sensitive reading while eliminating the influence of wiring resistance as much as possible. Furthermore,
The present invention relates to an MR having an effective circuit configuration for integration.
An object of the present invention is to provide an AM circuit.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明による磁気ランダ
ムアクセスメモリ回路は、アドレスの一部をデコードす
る行デコーダと、前記アドレスの残りの部分をデコード
する列デコーダと、前記行デコーダのデコード端子に接
続される複数のセンス線と、前記列デコーダのデコード
端子に接続される複数のワード線と、複数の記憶セル
と、複数の参照セルと、を備え、前記記憶セルと前記参
照セルは磁気抵抗素子を備え、前記複数のセンス線と前
記複数のワード線はマトリックス状に交差し、前記複数
のセンス線と前記複数のワード線の交点のうち、一部の
センス線に係る交点において前記複数の記憶セルが交点
のセンス線とワード線に接続され、他のセンス線に係る
交点において前記複数の参照セルが交点のセンス線とワ
ード線に接続されることを特徴とする。
A magnetic random access memory circuit according to the present invention comprises a row decoder for decoding a part of an address, a column decoder for decoding the remaining part of the address, and a decode terminal of the row decoder. A plurality of sense lines connected thereto, a plurality of word lines connected to a decode terminal of the column decoder, a plurality of storage cells, and a plurality of reference cells, wherein the storage cells and the reference cells are magnetoresistive. An element, the plurality of sense lines and the plurality of word lines intersect in a matrix, and among the intersections of the plurality of sense lines and the plurality of word lines, the plurality of A storage cell is connected to a sense line and a word line at an intersection, and the plurality of reference cells are connected to a sense line and a word line at the intersection at an intersection related to another sense line. And wherein the door.

【0008】また、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリ回路は、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路
において、前記記憶セルと前記参照セルは前記磁気抵抗
素子に直列に接続されるダイオードを更に備えることを
特徴とする。
Further, the magnetic random access memory circuit according to the present invention is characterized in that in the above magnetic random access memory circuit, the storage cell and the reference cell further include a diode connected in series to the magnetoresistive element. I do.

【0009】更に、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリ回路は、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路
において、前記記憶セルと前記参照セルは前記磁気抵抗
素子に直列に接続されるトランジスタを更に備えること
を特徴とする。
Further, the magnetic random access memory circuit according to the present invention is characterized in that in the above magnetic random access memory circuit, the storage cell and the reference cell further include a transistor connected in series to the magnetoresistive element. I do.

【0010】更に、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリ回路は、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路
において、前記行デコーダは2つあり、前記列デコーダ
は2つあり、前記複数の一対のセンス線の各々は、前記
2つの行デコーダの各々のデコード端子間を接続し、前
記複数のワード線の各々は、前記2つの列デコーダの各
々のデコード端子間を接続することを特徴とする。
Further, in the magnetic random access memory circuit according to the present invention, in the above magnetic random access memory circuit, there are two row decoders, two column decoders, and each of the plurality of pairs of sense lines is , The decoding terminals of the two row decoders are connected to each other, and the plurality of word lines are connected to the decoding terminals of the two column decoders.

【0011】更に、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリ回路は、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路
において、書き込み時に、前記2つの行デコーダは、選
択された行のセンス線に書き込むべき情報の値に対応し
た方向の電流を流し、前記2つの列デコーダは、選択さ
れた列のワード線に所定の方向の電流を流すことを特徴
とする。
Further, in the magnetic random access memory circuit according to the present invention, in the above magnetic random access memory circuit, at the time of writing, the two row decoders correspond to the value of information to be written to the sense line of the selected row. A current in a predetermined direction, and the two column decoders supply a current in a predetermined direction to a word line in a selected column.

【0012】更に、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリ回路は、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路
において、読み出し時に、前記行デコーダと前記列デコ
ーダは、選択された行と選択された列との交点にある記
憶セルと所定の行と前記選択された列との交点にある参
照セルに同一の値の電流を流すことを特徴とする。
Further, in the magnetic random access memory circuit according to the present invention, in the above magnetic random access memory circuit, at the time of reading, the row decoder and the column decoder are at the intersection of a selected row and a selected column. A current having the same value is supplied to a reference cell at an intersection of a storage cell, a predetermined row, and the selected column.

【0013】更に、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリ回路は、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路
において、読み出し時に、選択された行と選択された列
との交点にある記憶セルのセンス線側の端子の電圧と前
記所定の行と前記選択された列との交点にある参照セル
のセンス線側の端子の電圧とを比較する比較手段を更に
備えることを特徴とする。
Further, in the magnetic random access memory circuit according to the present invention, in the magnetic random access memory circuit described above, at the time of reading, the terminal of the memory cell at the intersection of the selected row and the selected column on the sense line side is connected. The image processing apparatus further includes comparing means for comparing a voltage with a voltage of a terminal on a sense line side of a reference cell at an intersection of the predetermined row and the selected column.

【0014】更に、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリ回路は、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路
において、前記比較手段は、比較器と、各々が前記比較
器の2つの入力端子の各々に接続される2本の補助線
と、前記2本の補助線の一方を選択された行の記憶セル
が接続されるセンス線と接続するための複数のトランジ
スタと、前記2本の補助線の他方を前記所定の行の参照
セルが接続されるセンス線と接続するための1又は2以
上のトランジスタと、を備えることを特徴とする。
Further, in the magnetic random access memory circuit according to the present invention, in the above magnetic random access memory circuit, the comparing means includes a comparator and two input terminals respectively connected to two input terminals of the comparator. Two auxiliary lines, a plurality of transistors for connecting one of the two auxiliary lines to a sense line connected to a memory cell of a selected row, and the other of the two auxiliary lines One or more transistors for connection to a sense line to which a reference cell in a row is connected.

【0015】更に、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリは、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路にお
いて、読み出し時に、読み出す記憶セルと該読み出す記
憶セルのある列と前記所定の行との交点にある参照セル
に電流を流す手段と、読み出す記憶セルと該読み出す記
憶セルのある列と前記所定の行との交点にある参照セル
に電流を流したときのこれらにおける電圧降下を四端子
法により検出する手段を備えることを特徴とする。
Further, in the magnetic random access memory according to the present invention, in the magnetic random access memory circuit described above, at the time of reading, a memory cell to be read and a reference cell at an intersection of a column of the memory cell to be read and the predetermined row are read. Means for flowing a current, and means for detecting a voltage drop in a reference cell at an intersection of a storage cell to be read and a column of the storage cell to be read and the predetermined row by a four-terminal method when the current flows in the reference cell. It is characterized by the following.

【0016】更に、本発明による磁気ランダムアクセス
メモリ回路は、上記の磁気ランダムアクセスメモリ回路
において、前記磁気抵抗素子はスピントンネル素子であ
ることを特徴とする。
Furthermore, a magnetic random access memory circuit according to the present invention is characterized in that, in the above magnetic random access memory circuit, the magnetoresistive element is a spin tunnel element.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
1乃至図5を参照して詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

【0018】[実施形態1]まず本発明の実施形態1に
ついて説明する。
[First Embodiment] First, a first embodiment of the present invention will be described.

【0019】図1は実施形態1によるMRAM回路を示
す。このMRAM回路はメモリアレー106、デコーダ
30、比較器107により構成される。メモリアレー1
06は複数の記憶セル21a、21b、21c、22
a、22b、22c、23a、23b、23c、及び参
照セル2ra、2rb、2rcより構成され、これらの
記憶セルはワード線2a、2b、2cとセンス線21、
22、2r、23の交点に配置されている。
FIG. 1 shows an MRAM circuit according to the first embodiment. This MRAM circuit includes a memory array 106, a decoder 30, and a comparator 107. Memory array 1
06 denotes a plurality of storage cells 21a, 21b, 21c, 22
a, 22b, 22c, 23a, 23b, 23c, and reference cells 2ra, 2rb, 2rc. These memory cells are composed of word lines 2a, 2b, 2c and sense lines 21,
It is arranged at the intersection of 22, 2r and 23.

【0020】デコーダセットは、行デコーダ102、1
03と列デコーダ104、105より構成されており、
これらはアドレスバス101に接続されている。列デコ
ーダ104はスイッチトランジスター111、112、
113、121、122、123を有しており、これら
のオン/オフによりワード線2a、2b、2cを書き込
み状態又はグランドレベル状態にスイッチさせる。行デ
コーダ102はスイッチトランジスタ131、132、
133、134、141、142、143、144を含
んでおり、センス線21、22、2r、23を行デコー
ダ102内の所定の回路に接続させる。
The decoder set includes the row decoders 102, 1
03 and column decoders 104 and 105,
These are connected to the address bus 101. The column decoder 104 includes switch transistors 111 and 112,
The word lines 2a, 2b, and 2c are switched to a write state or a ground level state by turning on / off these switches. The row decoder 102 includes switch transistors 131 and 132,
133, 134, 141, 142, 143, and 144, and connects the sense lines 21, 22, 2r, and 23 to a predetermined circuit in the row decoder 102.

【0021】センス線(補助線)24の一端はパストラ
ンジスター151、152、154を経由してセンス線
21、22、23に接続されている。センス線24の他
端は比較器107のプラス側入力端子に接続されてい
る。センス線(補助線)25の一端はパストランジスタ
153を経由してセンス線2rに接続されている。セン
ス線25の他端は比較器107のマイナス側入力端子に
接続されている。
One end of the sense line (auxiliary line) 24 is connected to the sense lines 21, 22, 23 via pass transistors 151, 152, 154. The other end of the sense line 24 is connected to the plus input terminal of the comparator 107. One end of the sense line (auxiliary line) 25 is connected to the sense line 2r via the pass transistor 153. The other end of the sense line 25 is connected to the negative input terminal of the comparator 107.

【0022】参照符号21a、21b、21c、22
a、22b、22c、23a、23b、23cは記憶セ
ルである。参照符号2ra、2rb、2rcが付されて
いるのは参照セルであり、これらを記憶セルの近傍に配
置することにより配線抵抗の影響を軽減することが可能
となる。
Reference numerals 21a, 21b, 21c, 22
a, 22b, 22c, 23a, 23b, and 23c are storage cells. Reference cells 2ra, 2rb, and 2rc are reference cells, and by arranging them near the storage cells, the influence of wiring resistance can be reduced.

【0023】図2は記憶セル21aの構造を示す。他の
記憶セル21b、21c、22a、22b、22c、2
3a、23b、23c、及び参照セル2ra、2rb、
2rcも記憶セル21aと同じ構造を有する。
FIG. 2 shows the structure of the memory cell 21a. Other storage cells 21b, 21c, 22a, 22b, 22c, 2
3a, 23b, 23c and reference cells 2ra, 2rb,
2rc also has the same structure as the storage cell 21a.

【0024】記憶セル21aは第一強磁性層81と第二
強磁性層82が絶縁層83を介して積層されている。強
磁性層81、82には例えばNi−Fe−Coのような
強磁性材料を用い、絶縁層83には例えばAl23を用
いる。これらの3つの層81,82、83はスピントン
ネル効果素子を構成している。また、絶縁層83とセン
ス線21との間には層間絶縁膜84が配設される。ワー
ド線2aは第一強磁性層81の下に配置し、その電流に
より発生した磁場をスピントンネル効果素子に印加す
る。センス線21は第二強磁性層82に接続される。
In the memory cell 21a, a first ferromagnetic layer 81 and a second ferromagnetic layer 82 are stacked via an insulating layer 83. For the ferromagnetic layers 81 and 82, for example, a ferromagnetic material such as Ni-Fe-Co is used, and for the insulating layer 83, for example, Al 2 O 3 is used. These three layers 81, 82, 83 constitute a spin tunnel effect element. An interlayer insulating film 84 is provided between the insulating layer 83 and the sense line 21. The word line 2a is arranged below the first ferromagnetic layer 81, and applies a magnetic field generated by the current to the spin tunnel effect element. The sense line 21 is connected to the second ferromagnetic layer 82.

【0025】強磁性層81、82への情報の書き込み
は、ワード線にワード電流を、センス線にセンス電流を
流し、それらにより発生した合成磁界が強磁性層81、
82の磁化の向きを反転させることにより行われる。記
憶セル21aの情報の読み出しはワード線2aとセンス
線21間の電圧を検出することにより行われる。
To write information into the ferromagnetic layers 81 and 82, a word current is applied to the word lines and a sense current is applied to the sense lines, and the resultant magnetic field generated by the word lines is applied to the ferromagnetic layers 81 and 82.
This is performed by reversing the direction of magnetization of 82. Reading of information from the memory cell 21a is performed by detecting a voltage between the word line 2a and the sense line 21.

【0026】図3は記憶セルの抵抗(これには出力電圧
が対応する。)と印加した磁界との関係を示す。横軸は
印加磁界の方向と強度を示す。縦軸は記憶セル21aの
抵抗値を示す。図3に示すように、記憶セルの抵抗と印
加した磁界との関係はヒステレシス特性を示す。ゼロ磁
場におけるセル21aの抵抗値は磁場ベクトル方向によ
らず、同じ値を示す。磁場をゼロからH1に増加させる
と、合成磁界により記憶セルの片側の強磁性層の磁化方
向のみ回転して、記憶セルの2つの強磁性層の磁化方向
は互いに逆向きとなり、抵抗が増加する。合成磁界強度
がH1からH2に向かって増加し、H2に達すると、磁化
方向が変化していなかった側の磁化方向も回転し、H2
において抵抗が減少する。同様に反対方向の磁場の印加
によってもゼロ磁場、H3、H4において同様な現象が起
こる。
FIG. 3 shows the relationship between the resistance of the memory cell (this corresponds to the output voltage) and the applied magnetic field. The horizontal axis indicates the direction and intensity of the applied magnetic field. The vertical axis indicates the resistance value of the memory cell 21a. As shown in FIG. 3, the relationship between the resistance of the storage cell and the applied magnetic field shows hysteresis characteristics. The resistance value of the cell 21a at zero magnetic field shows the same value regardless of the magnetic field vector direction. Increasing the magnetic field from zero to H 1, rotating only the magnetization direction of one side of the ferromagnetic layer of the memory cell by a synthetic magnetic field, the magnetization directions of two ferromagnetic layers of the memory cell is opposite to each other, the resistance increases I do. Combined magnetic field strength is increasing from H 1 to H 2, reaches the H 2, also rotates the magnetization direction of the side where the magnetization direction has not changed, H 2
, The resistance decreases. Similarly, a similar phenomenon occurs in the zero magnetic field, H 3 , and H 4 by applying a magnetic field in the opposite direction.

【0027】記憶セル21aへの情報の書き込み方法を
について次に説明する。
Next, a method for writing information to the memory cell 21a will be described.

【0028】センス線21を選択するために、トランジ
スタ131、141を導通状態にする。またワード線2
aを選択するためにトランジスタ111、121を導通
状態にする。記憶セル21aに”1”の情報を書き込む
場合は、センス電流92とワード電流91をそれぞれセ
ンス線21、ワード線2aに流す。逆に、記憶セル21
aに”0”の情報を書き込む場合は、センス電流92と
は逆向きのセンス電流93と同一のワード電流91をそ
れぞれセンス線21、ワード線2aに流す。
In order to select the sense line 21, the transistors 131 and 141 are turned on. Word line 2
The transistors 111 and 121 are turned on to select a. When writing information "1" into the memory cell 21a, a sense current 92 and a word current 91 are supplied to the sense line 21 and the word line 2a, respectively. Conversely, the memory cell 21
When writing the information “0” to “a”, the same word current 91 as the sense current 93 opposite to the sense current 92 is supplied to the sense line 21 and the word line 2a, respectively.

【0029】参照セル2ra、2rb、2rcも記憶セ
ル21aへの情報の書き込み方法と同様の方法で所定の
値に磁化させることにより、その抵抗値を最小値と最大
値の間の値とする。
The reference cells 2ra, 2rb, and 2rc are also magnetized to a predetermined value by the same method as that for writing information to the memory cell 21a, so that the resistance value is set to a value between the minimum value and the maximum value.

【0030】記憶セル21aからの情報の読み出し方法
について次に説明する。
Next, a method for reading information from the memory cell 21a will be described.

【0031】センス線21、2rとワード線2aを選択
するためにトランジスタ131、133、121を導通
状態にする。次に定電流を記憶セル21a及び参照セル
2raに流す。センス電流Isはトランジスタ131、
センス線21、記憶セル21a、ワード線2a、トラン
ジスタ121を経て行デコーダ102と列デコーダ10
5の間を流れる。一方、参照センス電流Irはトランジ
スタ133、センス線2r、記憶セル2ra、ワード線
2a、トランジスタ121を経て行デコーダ102と列
デコーダ105の間を流れる。その状態でトランジスタ
151、153を導通状態とし、記憶セル21a及び参
照セル2raのセンス線側の電位を比較器107で検出
する。これは所謂四端子法に基づいた方法である。つま
り、電流が流れる経路と電圧を検出する経路とを別々に
設ける測定方法である。四端子法に関しては、例えば、
「実験化学講座9電気・磁気(第4版)」(日本化学会
編)の第165頁〜第167頁に記載されている。記憶
セル21aと参照セル2raは近接して配設されるので
配線抵抗の広域的なばらつきの影響は小さく、比較器1
07で検出される記憶セル21a及び参照セル21ra
のセンス線側の電位は、各々記憶セル21a及び参照セ
ル21raの抵抗値に比例する。比較器107に入力さ
れた電位の差分に対応して判定された2値情報がビット
線26に出力される。
The transistors 131, 133 and 121 are turned on to select the sense lines 21 and 2r and the word line 2a. Next, a constant current is applied to the storage cell 21a and the reference cell 2ra. The sense current Is is a transistor 131,
The row decoder 102 and the column decoder 10 pass through the sense line 21, the memory cell 21a, the word line 2a, and the transistor 121.
Flow between 5 On the other hand, the reference sense current Ir flows between the row decoder 102 and the column decoder 105 via the transistor 133, the sense line 2r, the memory cell 2ra, the word line 2a, and the transistor 121. In this state, the transistors 151 and 153 are turned on, and the comparator 107 detects the potential on the sense line side of the storage cell 21a and the reference cell 2ra. This is a method based on the so-called four-terminal method. That is, this is a measurement method in which a path through which current flows and a path through which voltage is detected are separately provided. Regarding the four-terminal method, for example,
"Experimental Chemistry Course 9 Electric and Magnetic (4th Edition)" (edited by The Chemical Society of Japan), pages 165 to 167. Since the storage cell 21a and the reference cell 2ra are arranged close to each other, the influence of the wide variation in the wiring resistance is small, and the comparator 1
07 storage cell 21a and reference cell 21ra
Are in proportion to the resistance values of the storage cell 21a and the reference cell 21ra, respectively. Binary information determined according to the difference between the potentials input to the comparator 107 is output to the bit line 26.

【0032】また、図4に示すように記憶セルとしてセ
ンス線とワード線の間にスピントンネル効果素子401
とダイオード402を直列につないだ記憶セルを用いる
ことにより、記憶セル間の選択性が更に向上する。すな
わち、選択されていない記憶セルに電流が流れることに
よる選択されている記憶セルへの選択されていない記憶
セルによる影響を減少することができる。
As shown in FIG. 4, a spin tunnel effect element 401 is provided between a sense line and a word line as a memory cell.
And a diode 402 connected in series, the selectivity between the storage cells is further improved. That is, it is possible to reduce the influence of the unselected storage cell on the selected storage cell due to the current flowing through the unselected storage cell.

【0033】[実施形態2]次に本発明の実施形態2に
ついて説明する。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the present invention will be described.

【0034】図5は本発明の実施形態2によるMRAM
回路を示す。このMRAM回路はメモリアレー506、
デコーダセット、比較器107より構成される。メモリ
アレー20は複数の記憶セル31a、31b、31c、
32a、32b、32c、33a、33b、33c及び
参照セル3ra、3rb、3rcより構成される。これ
らの記憶セルと参照セルは、直列に接続されるスピント
ンネル効果素子とパストランジスタとより構成され、ワ
ード線2a、2b、2cとセンス線21、22、23、
2rの交点に配置されている。
FIG. 5 is an MRAM according to the second embodiment of the present invention.
1 shows a circuit. This MRAM circuit includes a memory array 506,
It comprises a decoder set and a comparator 107. The memory array 20 includes a plurality of storage cells 31a, 31b, 31c,
32a, 32b, 32c, 33a, 33b, 33c and reference cells 3ra, 3rb, 3rc. These storage cells and reference cells are composed of a spin tunnel effect element and a pass transistor connected in series, and include word lines 2a, 2b, 2c and sense lines 21, 22, 23,
It is arranged at the intersection of 2r.

【0035】本実施形態における記憶セルへの情報の書
き込み方法は実施形態1と同様であるので説明を省略す
る。
The method for writing information to the storage cells in this embodiment is the same as that in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0036】記憶素子31aからの情報の読み出し方法
について次に説明する。
Next, a method for reading information from the storage element 31a will be described.

【0037】センス線21、2rとワード線2aを選択
するためにトランジスタ131、133、121を導通
状態にする。次に、配線71を高電位状態とし、配線7
1に接続されているトランジスタを導通状態にする。次
に、定電流を記憶セル31a及び参照セル3raに流
す。センス電流Isはトランジスタ131、センス線2
1、記憶セル31a、ワード線2a、トランジスタ12
1を経て行デコーダ102と列デコーダ105の間を流
れる。一方、参照センス電流Irはトランジスタ13
3、センス線2r、記憶セル3ra、ワード線2a、ト
ランジスタ121を経て行デコーダ102と列デコーダ
105の間を流れる。その状態でトランジスタ151、
153を導通状態とし、記憶セル31a及び参照セル3
raのセンス線側の電位を比較器107で検出する。こ
れは所謂四端子法に基づいた方法である。
The transistors 131, 133 and 121 are turned on to select the sense lines 21 and 2r and the word line 2a. Next, the wiring 71 is set to a high potential state,
The transistor connected to 1 is turned on. Next, a constant current is applied to the storage cell 31a and the reference cell 3ra. The sense current Is is supplied to the transistor 131 and the sense line
1, storage cell 31a, word line 2a, transistor 12
1 flows between the row decoder 102 and the column decoder 105. On the other hand, the reference sense current Ir is
3, flows between the row decoder 102 and the column decoder 105 via the sense line 2r, the memory cell 3ra, the word line 2a, and the transistor 121. In that state, the transistor 151,
153 is turned on, and the storage cell 31a and the reference cell 3
The comparator 107 detects the potential of ra on the sense line side. This is a method based on the so-called four-terminal method.

【0038】記憶セル31aと参照セル3raとは近接
して配設されるので配線抵抗の影響は小さく、比較器1
07で検出される記憶セル31a及び参照セル3raの
センス線側の電位は、記憶セル31a及び参照セル3r
aのセンス線側の抵抗値に比例する。比較器107に入
力された電位の差分に対応して判定された2値情報がビ
ット線26に出力される。
Since the memory cell 31a and the reference cell 3ra are arranged close to each other, the influence of wiring resistance is small, and the comparator 1
07, the potential on the sense line side of the storage cell 31a and the reference cell 3ra is equal to the potential of the storage cell 31a and the reference cell 3r.
a is proportional to the resistance value on the sense line side. Binary information determined according to the difference between the potentials input to the comparator 107 is output to the bit line 26.

【0039】なお、上記の実施形態では、参照セル行は
1行のみであるとしたが、所定数の記憶セル行列毎に参
照セル行を配設して、MRAM回路全体に複数の参照セ
ル行が含まれるようにしても良い。
In the above embodiment, the reference cell row is only one row. However, a reference cell row is provided for each of a predetermined number of storage cell matrices, and a plurality of reference cell rows are provided in the entire MRAM circuit. May be included.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によるMR
AM回路の特性は、記憶セルと参照セルを近接して配設
することにより、ウエハー上での記憶セル及び参照セル
の広域的な特性のばらつきに依存せずに安定する。
As described above, the MR according to the present invention is used.
By arranging the storage cell and the reference cell close to each other, the characteristics of the AM circuit can be stabilized without depending on the wide-area variation in the characteristics of the storage cell and the reference cell on the wafer.

【0041】また、本発明によれば、電圧検出法として
4端子法に基づいた測定法を用いることにより、配線抵
抗等の影響を極めて排除した感度の高い情報の読み出し
が可能となる。
Further, according to the present invention, by using a measurement method based on the four-terminal method as a voltage detection method, highly sensitive information can be read out while the influence of wiring resistance and the like is extremely eliminated.

【0042】更に、配線を微細化して配線抵抗が増大し
ても、配線抵抗による影響が少ないので、本発明による
MRAM回路を高集積化することが可能となる。
Furthermore, even if the wiring resistance is increased by miniaturizing the wiring, the influence of the wiring resistance is small, so that the MRAM circuit according to the present invention can be highly integrated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1による磁気ランダムアクセ
スメモリ回路の構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a magnetic random access memory circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】記憶セル及び参照セルとして用いられる磁気抵
抗素子の構造を示す断面図及び平面図である。
2A and 2B are a cross-sectional view and a plan view illustrating a structure of a magnetoresistive element used as a storage cell and a reference cell.

【図3】磁気抵抗素子の抵抗対磁界との関係を示すグラ
フである。
FIG. 3 is a graph showing a relationship between a resistance of a magnetoresistive element and a magnetic field.

【図4】本発明の実施形態1による磁気ランダムアクセ
スメモリ回路の記憶セル及び参照セルの第2の例の回路
図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a second example of storage cells and reference cells of the magnetic random access memory circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態2による磁気ランダムアクセ
スメモリ回路の構成を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a magnetic random access memory circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図6】第1の従来例による磁気ランダムアクセスメモ
リの構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a magnetic random access memory according to a first conventional example.

【図7】第2の従来例による磁気ランダムアクセスメモ
リの構成を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a magnetic random access memory according to a second conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2a、2b、2c ワード線 21、21r、22、22r、24、25 センス線 21a、21b、21c、22a、22b、22c、2
3a、23b、23c記憶セル 2ra、2rb、2rc 参照セル 26 ビット線 31a、31b、31c、32a、32b、32c、3
3a、33b、33c記憶セル 3ra、3rb、3rc 参照セル 111、112、113、121、122、123 ト
ランジスタ 131、132、133、134 トランジスタ 141、142、143、144 トランジスタ 101 アドレス線 102、103 行デコーダ 104、105 列デコーダ 106、506 メモリーアレー 107 比較器
2a, 2b, 2c Word lines 21, 21r, 22, 22r, 24, 25 Sense lines 21a, 21b, 21c, 22a, 22b, 22c, 2
3a, 23b, 23c Storage cell 2ra, 2rb, 2rc Reference cell 26 Bit line 31a, 31b, 31c, 32a, 32b, 32c, 3
3a, 33b, 33c Storage cell 3ra, 3rb, 3rc Reference cell 111, 112, 113, 121, 122, 123 Transistor 131, 132, 133, 134 Transistor 141, 142, 143, 144 Transistor 101 Address line 102, 103 Row decoder 104, 105 column decoder 106, 506 memory array 107 comparator

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年4月30日(1999.4.3
0)
[Submission date] April 30, 1999 (1999.4.3)
0)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】発明の名称[Correction target item name] Name of invention

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【発明の名称】 磁気ランダムアクセスメモリ回路[Title of the Invention] Magnetic random access memory circuit

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アドレスの一部をデコードする行デコー
ダと、 前記アドレスの残りの部分をデコードする列デコーダ
と、 前記行デコーダのデコード端子に接続される複数のセン
ス線と、 前記列デコーダのデコード端子に接続される複数のワー
ド線と、 複数の記憶セルと、 複数の参照セルと、 を備え、 前記記憶セルと前記参照セルは磁気抵抗素子を備え、 前記複数のセンス線と前記複数のワード線はマトリック
ス状に交差し、 前記複数のセンス線と前記複数のワード線の交点のう
ち、一部のセンス線に係る交点において前記複数の記憶
セルが交点のセンス線とワード線に接続され、他のセン
ス線に係る交点において前記複数の参照セルが交点のセ
ンス線とワード線に接続されることを特徴とする磁気ラ
ンダムアクセスメモリ回路。
A row decoder for decoding a part of the address; a column decoder for decoding the remaining part of the address; a plurality of sense lines connected to a decode terminal of the row decoder; A plurality of word lines connected to terminals, a plurality of storage cells, and a plurality of reference cells, wherein the storage cells and the reference cells include a magnetoresistive element, the plurality of sense lines and the plurality of words. The lines cross in a matrix, and among the intersections of the plurality of sense lines and the plurality of word lines, the plurality of storage cells are connected to the sense lines and the word lines at the intersections at intersections related to some of the sense lines, 2. The magnetic random access memory circuit according to claim 1, wherein the plurality of reference cells are connected to the sense line and the word line at the intersection at another intersection.
【請求項2】 請求項1に記載の磁気ランダムアクセス
メモリ回路において、前記記憶セルと前記参照セルは前
記磁気抵抗素子に直列に接続されるダイオードを更に備
えることを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ回
路。
2. The magnetic random access memory circuit according to claim 1, wherein said storage cell and said reference cell further include a diode connected in series with said magnetoresistive element. .
【請求項3】 請求項1に記載の磁気ランダムアクセス
メモリ回路において、前記記憶セルと前記参照セルは前
記磁気抵抗素子に直列に接続されるトランジスタを更に
備えることを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ回
路。
3. The magnetic random access memory circuit according to claim 1, wherein said storage cell and said reference cell further include a transistor connected in series to said magnetoresistive element. .
【請求項4】 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の
磁気ランダムアクセスメモリ回路において、前記行デコ
ーダは2つあり、前記列デコーダは2つあり、前記複数
の一対のセンス線の各々は、前記2つの行デコーダの各
々のデコード端子間を接続し、前記複数のワード線の各
々は、前記2つの列デコーダの各々のデコード端子間を
接続することを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ
回路。
4. The magnetic random access memory circuit according to claim 1, wherein there are two row decoders, two column decoders, and each of said plurality of pairs of sense lines. Is connected between respective decode terminals of said two row decoders, and each of said plurality of word lines is connected between respective decode terminals of said two column decoders. .
【請求項5】 請求項4に記載の磁気ランダムアクセス
メモリ回路において、書き込み時に、前記2つの行デコ
ーダは、選択された行のセンス線に書き込むべき情報の
値に対応した方向の電流を流し、前記2つの列デコーダ
は、選択された列のワード線に所定の方向の電流を流す
ことを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ回路。
5. The magnetic random access memory circuit according to claim 4, wherein at the time of writing, the two row decoders pass a current in a direction corresponding to a value of information to be written to a sense line of a selected row, A magnetic random access memory circuit, wherein the two column decoders supply a current in a predetermined direction to a word line of a selected column.
【請求項6】 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
磁気ランダムアクセスメモリ回路において、読み出し時
に、前記行デコーダと前記列デコーダは、選択された行
と選択された列との交点にある記憶セルと所定の行と前
記選択された列との交点にある参照セルに同一の値の電
流を流すことを特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ
回路。
6. The magnetic random access memory circuit according to claim 1, wherein at the time of reading, the row decoder and the column decoder operate at an intersection of a selected row and a selected column. A magnetic random access memory circuit characterized in that a current of the same value flows through a reference cell at an intersection of a certain storage cell, a predetermined row, and the selected column.
【請求項7】 請求項6に記載の磁気ランダムアクセス
メモリ回路において、 読み出し時に、選択された行と選択された列との交点に
ある記憶セルのセンス線側の端子の電圧と前記所定の行
と前記選択された列との交点にある参照セルのセンス線
側の端子の電圧とを比較する比較手段を更に備えること
を特徴とする磁気ランダムアクセスメモリ回路。
7. The magnetic random access memory circuit according to claim 6, wherein at the time of reading, a voltage of a terminal on a sense line side of a memory cell at an intersection of a selected row and a selected column and the predetermined row A magnetic random access memory circuit, further comprising comparing means for comparing a voltage of a terminal on a sense line side of a reference cell at an intersection of the selected cell and the selected column.
【請求項8】 請求項7に記載の磁気ランダムアクセス
メモリ回路において、前記比較手段は、比較器と、各々
が前記比較器の2つの入力端子の各々に接続される2本
の補助線と、前記2本の補助線の一方を選択された行の
記憶セルが接続されるセンス線と接続するための複数の
トランジスタと、前記2本の補助線の他方を前記所定の
行の参照セルが接続されるセンス線と接続するための1
又は2以上のトランジスタと、を備えることを特徴とす
る磁気ランダムアクセスメモリ回路。
8. The magnetic random access memory circuit according to claim 7, wherein said comparing means includes: a comparator; and two auxiliary lines each connected to each of two input terminals of said comparator. A plurality of transistors for connecting one of the two auxiliary lines to a sense line to which a memory cell of a selected row is connected, and a reference cell of the predetermined row connecting the other of the two auxiliary lines. 1 for connecting to the sense line
Or, a magnetic random access memory circuit comprising: two or more transistors.
【請求項9】 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の
磁気ランダムアクセスメモリ回路において、読み出し時
に、読み出す記憶セルと該読み出す記憶セルのある列と
前記所定の行との交点にある参照セルに電流を流す手段
と、読み出す記憶セルと該読み出す記憶セルのある列と
前記所定の行との交点にある参照セルに電流を流したと
きのこれらにおける電圧降下を四端子法により検出する
手段を備えることを特徴とする磁気ランダムアクセスメ
モリ回路。
9. The magnetic random access memory circuit according to claim 1, wherein at the time of reading, a reference at an intersection of a storage cell to be read, a column of the storage cell to be read, and the predetermined row. Means for passing a current through the cell, and means for detecting a voltage drop in the memory cell to be read and a voltage drop in the reference cell at an intersection of a certain column of the memory cell to be read and the predetermined row by a four-terminal method. A magnetic random access memory circuit comprising:
【請求項10】 請求項1乃至9のいずれか1項に記載
の磁気ランダムアクセスメモリ回路において、前記磁気
抵抗素子はスピントンネル素子であることを特徴とする
磁気ランダムアクセスメモリ回路。
10. The magnetic random access memory circuit according to claim 1, wherein said magnetoresistive element is a spin tunnel element.
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