JP2000302701A - ガスハイドレートの製造装置および製法 - Google Patents
ガスハイドレートの製造装置および製法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 水と天然ガスのようなメタンを主成分とする
ガスからメタンハイドレートを工業的に連続して製造す
ることができる装置および製法を提供することにある。 【解決手段】 冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容
器内に水または不凍液を供給する手段と、該筒状容器の
中央部に挿入されたガス導入管と、該ガス導入管の中心
軸に挿入された回転軸と、該回転軸の駆動手段と、該回
転軸の下端に設けられたプロペラ型攪拌翼と、前記ガス
導入管の下端に前記攪拌翼の端部を囲むように設けられ
たガス分散部と、前記ガス導入管にメタンを主成分とす
るガスを導入する手段と、前記筒状容器内で生成したメ
タンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガス
ハイドレートの製造装置。
ガスからメタンハイドレートを工業的に連続して製造す
ることができる装置および製法を提供することにある。 【解決手段】 冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容
器内に水または不凍液を供給する手段と、該筒状容器の
中央部に挿入されたガス導入管と、該ガス導入管の中心
軸に挿入された回転軸と、該回転軸の駆動手段と、該回
転軸の下端に設けられたプロペラ型攪拌翼と、前記ガス
導入管の下端に前記攪拌翼の端部を囲むように設けられ
たガス分散部と、前記ガス導入管にメタンを主成分とす
るガスを導入する手段と、前記筒状容器内で生成したメ
タンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガス
ハイドレートの製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガスハイドレートの
製造装置および製法に関し、さらに詳しくは天然ガスの
ようなメタンを主成分とするガスと水からメタンハイド
レート（またはガスハイドレート）を工業的に製造する
ガスハイドレートの製造装置および製法に関するもので
ある。
製造装置および製法に関し、さらに詳しくは天然ガスの
ようなメタンを主成分とするガスと水からメタンハイド
レート（またはガスハイドレート）を工業的に製造する
ガスハイドレートの製造装置および製法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年、クリーンなエネルギー源や各種構
成原料として天然ガス等のメタンを主成分とするガスが
注目され、その貯蔵または輸送に利用する目的で天然ガ
ス等をガスハイドレートにする研究が行われている。メ
タンハイドレートは、水とメタンとからなるもので、そ
の生成には例えば温度３０３°Ｋで約８０ＭＰａ以上と
いう高圧を必要とする。しかもメタンハイドレートは、
その構造上不安定な物質であり、例えばメタンハイドレ
ートの水／メタン比（水和数）は、分子レベルの構造に
対するガス分子の占有率により決定される水和数（理論
上メタン分子１に対し水分子５．７５）と、マクロな非
結合水を含む水／メタン比のみかけの水和数を有してい
る。従来、メタンハイドレートは、圧力容器を用いてメ
タンと水を高圧、低温下で反応させる方法が行われてい
るが、この方法はあくまでも実験室的な方法であり、工
業的に連続して製造する方法は知られていなかった。
成原料として天然ガス等のメタンを主成分とするガスが
注目され、その貯蔵または輸送に利用する目的で天然ガ
ス等をガスハイドレートにする研究が行われている。メ
タンハイドレートは、水とメタンとからなるもので、そ
の生成には例えば温度３０３°Ｋで約８０ＭＰａ以上と
いう高圧を必要とする。しかもメタンハイドレートは、
その構造上不安定な物質であり、例えばメタンハイドレ
ートの水／メタン比（水和数）は、分子レベルの構造に
対するガス分子の占有率により決定される水和数（理論
上メタン分子１に対し水分子５．７５）と、マクロな非
結合水を含む水／メタン比のみかけの水和数を有してい
る。従来、メタンハイドレートは、圧力容器を用いてメ
タンと水を高圧、低温下で反応させる方法が行われてい
るが、この方法はあくまでも実験室的な方法であり、工
業的に連続して製造する方法は知られていなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、水と
天然ガスのようなメタンを主成分とするガスからメタン
ハイドレートを工業的に連続して製造することができる
装置および製法を提供することにある。
天然ガスのようなメタンを主成分とするガスからメタン
ハイドレートを工業的に連続して製造することができる
装置および製法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本願で特許請求される発明は以下の通りである。 （１）冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容器内に水
または不凍液を供給する手段と、該筒状容器の中央部に
挿入されたガス導入管と、該ガス導入管の中心軸に挿入
された回転軸と、該回転軸の駆動手段と、該回転軸の下
端に設けられたプロペラ型撹拌翼と、前記ガス導入管の
下端に前記撹拌翼の端部を囲むように設けられたガス分
散部と、前記ガス導入管にメタンを主成分とするガスを
導入する手段と、前記筒状容器内で生成したメタンハイ
ドレートを外部へ排出する手段とを有するガスハイドレ
ートの製造装置。 （２）前記筒状容器はメタンを主成分とするガスの供給
口を有し、かつ前記ガス導入管の上端が前記筒状容器内
の空間部に開口している（１）記載のガスハイドレート
の製造装置。
に、本願で特許請求される発明は以下の通りである。 （１）冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容器内に水
または不凍液を供給する手段と、該筒状容器の中央部に
挿入されたガス導入管と、該ガス導入管の中心軸に挿入
された回転軸と、該回転軸の駆動手段と、該回転軸の下
端に設けられたプロペラ型撹拌翼と、前記ガス導入管の
下端に前記撹拌翼の端部を囲むように設けられたガス分
散部と、前記ガス導入管にメタンを主成分とするガスを
導入する手段と、前記筒状容器内で生成したメタンハイ
ドレートを外部へ排出する手段とを有するガスハイドレ
ートの製造装置。 （２）前記筒状容器はメタンを主成分とするガスの供給
口を有し、かつ前記ガス導入管の上端が前記筒状容器内
の空間部に開口している（１）記載のガスハイドレート
の製造装置。
【０００５】（３）冷却手段を有する筒状容器と、該筒
状容器内に水または不凍液を供給する手段と、該筒状容
器の中央部に挿入された回転軸と、該回転軸の中心に設
けられたガス導入孔と、該回転軸の駆動手段と、該回転
軸の下端に設けられた案内羽根を内蔵した撹拌翼と、前
記ガス導入孔にメタンを主成分とするガスを導入する手
段と、前記筒状容器内で生成したメタンハイドレートを
外部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造
装置。 （４）前記生成メタンハイドレートの排出手段は、前記
筒状容器の側部に設けられた水または不凍液の排出口
と、該排出口に生成メタンハイドレートをかき寄せる手
段である（１）ないし（３）のいずれかに記載のガスハ
イドレートの製造装置。 （５）（１）ないし（４）のいずれかに記載の装置を用
い、筒状容器内の反応温度および圧力を１〜４℃、３０
〜１００気圧として、前記ガス導入管を通してメタンを
主成分とするガスを供給し、周速度を０．５〜２０ｍ／
ｓで前記撹拌翼を回転させ、水または不凍液と前記ガス
を撹拌翼に吸引して衝突させ、メタンハイドレートを合
成することを特徴とするガスハイドレートの製法。
状容器内に水または不凍液を供給する手段と、該筒状容
器の中央部に挿入された回転軸と、該回転軸の中心に設
けられたガス導入孔と、該回転軸の駆動手段と、該回転
軸の下端に設けられた案内羽根を内蔵した撹拌翼と、前
記ガス導入孔にメタンを主成分とするガスを導入する手
段と、前記筒状容器内で生成したメタンハイドレートを
外部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造
装置。 （４）前記生成メタンハイドレートの排出手段は、前記
筒状容器の側部に設けられた水または不凍液の排出口
と、該排出口に生成メタンハイドレートをかき寄せる手
段である（１）ないし（３）のいずれかに記載のガスハ
イドレートの製造装置。 （５）（１）ないし（４）のいずれかに記載の装置を用
い、筒状容器内の反応温度および圧力を１〜４℃、３０
〜１００気圧として、前記ガス導入管を通してメタンを
主成分とするガスを供給し、周速度を０．５〜２０ｍ／
ｓで前記撹拌翼を回転させ、水または不凍液と前記ガス
を撹拌翼に吸引して衝突させ、メタンハイドレートを合
成することを特徴とするガスハイドレートの製法。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面により詳細に
説明する。図１は、本発明のメタンハイドレートの製造
装置の一実施例を示す説明図、図２は図１の製造装置に
おける筒状容器の説明図である。
説明する。図１は、本発明のメタンハイドレートの製造
装置の一実施例を示す説明図、図２は図１の製造装置に
おける筒状容器の説明図である。
【０００７】この装置は、冷却ジャケット３を有する筒
状容器１と、該筒状容器１内に水または不凍液を供給す
るライン５と、該筒状容器１の中央部に挿入されたガス
導入管１２と、該ガス導入管１２の中心軸に挿入された
回転軸１３と、該回転軸の駆動手段１０と、該回転軸１
３の下端に設けられたプロペラ型撹拌翼２４と、前記ガ
ス導入管１２の下端に前記撹拌翼２４を囲むように設け
られたガス分散部１５と、前記筒状容器１内にメタンを
主成分とするガス（天然ガス）を供給するライン８と、
前記筒状容器内で生成したメタンハイドレート９を外部
へ排出するための排出口７と、該排出口７へ生成したメ
タンハイドレートをかき寄せるかき寄せ機１４とから主
として構成される。ガス導入管１２はその上端部が容器
内の空塔部に開口するとともに、その下端部にはガス分
散部１５が設けられている。ガス分散部１５は、図３に
示すように、周縁部を支持棒２１で支持された一対の円
板１５Ａ、１５Ｂからなり、これらの間に撹拌翼２４が
配置される。撹拌翼の回転によって吸引された水または
不凍液が衝突し、混合した気液が円板の周囲に微細気泡
として分散させるようになっている。図中、２および６
は冷却ジャケットへの冷媒の供給および排出ライン、４
は水または不凍液の抜き出しライン、１０は駆動ヒータ
ー、１１は水または不凍液の供給ライン、１６は、筒状
容器内の液レベルを検知するためのレベル計、１７は生
成したメタンハイドレートの排出ライン、１８はメタン
ハイドレートの冷却器、１９はメタンハイドレートの貯
蔵容器を示す。なお、図中ＦＲは流量調節器、ＴＲは温
度調節器、ＬＲはレベル調節器をそれぞれ示す。
状容器１と、該筒状容器１内に水または不凍液を供給す
るライン５と、該筒状容器１の中央部に挿入されたガス
導入管１２と、該ガス導入管１２の中心軸に挿入された
回転軸１３と、該回転軸の駆動手段１０と、該回転軸１
３の下端に設けられたプロペラ型撹拌翼２４と、前記ガ
ス導入管１２の下端に前記撹拌翼２４を囲むように設け
られたガス分散部１５と、前記筒状容器１内にメタンを
主成分とするガス（天然ガス）を供給するライン８と、
前記筒状容器内で生成したメタンハイドレート９を外部
へ排出するための排出口７と、該排出口７へ生成したメ
タンハイドレートをかき寄せるかき寄せ機１４とから主
として構成される。ガス導入管１２はその上端部が容器
内の空塔部に開口するとともに、その下端部にはガス分
散部１５が設けられている。ガス分散部１５は、図３に
示すように、周縁部を支持棒２１で支持された一対の円
板１５Ａ、１５Ｂからなり、これらの間に撹拌翼２４が
配置される。撹拌翼の回転によって吸引された水または
不凍液が衝突し、混合した気液が円板の周囲に微細気泡
として分散させるようになっている。図中、２および６
は冷却ジャケットへの冷媒の供給および排出ライン、４
は水または不凍液の抜き出しライン、１０は駆動ヒータ
ー、１１は水または不凍液の供給ライン、１６は、筒状
容器内の液レベルを検知するためのレベル計、１７は生
成したメタンハイドレートの排出ライン、１８はメタン
ハイドレートの冷却器、１９はメタンハイドレートの貯
蔵容器を示す。なお、図中ＦＲは流量調節器、ＴＲは温
度調節器、ＬＲはレベル調節器をそれぞれ示す。
【０００８】筒状容器１は圧力容器からなり、容器内の
圧力および温度は、メタンハイドレートが生成する反応
温度および圧力に保持される。これらの温度および圧力
としては、通常、１℃〜４℃、３０〜１００気圧の範囲
が好ましい。ガス分散部１５としては、図３に示したも
の以外に原料ガスと水または不凍液を均一に混合、分散
できるものであればどのような形状のものでもよい。不
凍液としては、エチレングリコール等の不凍液のように
水を含有する不凍液であればどのようなものでもよい。
筒状容器内で減少した水または不凍液は、補給ライン５
から系内に補給され、排出口７の液レベルが保持され
る。
圧力および温度は、メタンハイドレートが生成する反応
温度および圧力に保持される。これらの温度および圧力
としては、通常、１℃〜４℃、３０〜１００気圧の範囲
が好ましい。ガス分散部１５としては、図３に示したも
の以外に原料ガスと水または不凍液を均一に混合、分散
できるものであればどのような形状のものでもよい。不
凍液としては、エチレングリコール等の不凍液のように
水を含有する不凍液であればどのようなものでもよい。
筒状容器内で減少した水または不凍液は、補給ライン５
から系内に補給され、排出口７の液レベルが保持され
る。
【０００９】上記の装置系統において、原料ガスとして
天然ガスおよび水または不凍液がライン８および５から
重量比で約１：６の割合で筒状容器１内に供給される。
筒状容器１内には予め水または不凍液がライン５から供
給され、排出口７のレベルまで満たされている。駆動モ
ーター１０により、回転軸１２および回転翼２４を周速
度０．５〜２０ｍ／ｓで高速回転させると、原料ガスは
ガス導入管１２を通って下方に吸引され、撹拌翼の背部
から高速撹拌される水または不凍液中に混入し、微細気
泡となって周囲の水または不凍液中と接触し、メタンハ
イドレートを生成する。生成したメタンハイドレートの
結晶９は、水または不凍液上に浮上し、かき寄せ機１４
によりかき寄せられ、排出口７から外部に排出される。
得られたメタンハイドレート結晶を含む水または不凍液
は、ライン１７から冷却器１８に一旦収容され、ここで
メタンハイドレート結晶粒子１９を分離した後、残りの
水または不凍液はライン２２を通って元の筒状容器内に
戻される。このようにしてメタンハイドレートを連続的
に高収率で製造することができる。
天然ガスおよび水または不凍液がライン８および５から
重量比で約１：６の割合で筒状容器１内に供給される。
筒状容器１内には予め水または不凍液がライン５から供
給され、排出口７のレベルまで満たされている。駆動モ
ーター１０により、回転軸１２および回転翼２４を周速
度０．５〜２０ｍ／ｓで高速回転させると、原料ガスは
ガス導入管１２を通って下方に吸引され、撹拌翼の背部
から高速撹拌される水または不凍液中に混入し、微細気
泡となって周囲の水または不凍液中と接触し、メタンハ
イドレートを生成する。生成したメタンハイドレートの
結晶９は、水または不凍液上に浮上し、かき寄せ機１４
によりかき寄せられ、排出口７から外部に排出される。
得られたメタンハイドレート結晶を含む水または不凍液
は、ライン１７から冷却器１８に一旦収容され、ここで
メタンハイドレート結晶粒子１９を分離した後、残りの
水または不凍液はライン２２を通って元の筒状容器内に
戻される。このようにしてメタンハイドレートを連続的
に高収率で製造することができる。
【００１０】次に図４は、本発明の他の実施例を示すガ
スハイドレートの製造装置のガス分散部１５の斜視図、
図５はそのＶ−Ｖ線に沿った矢視方向断面図である。図
１および２に示した装置と異なる点は、ガス導入管１２
の代わりに回転軸１３として図５に示すように中空のも
のを用い、図４に示すように、中空の回転軸の下端を拡
径して傘状の上蓋部２９を形成し、この上蓋部２９と中
央に孔あき部２８を有する下蓋部３０とを複数の案内羽
根２６で支持し、撹拌翼（または遠心ポンプ）を形成し
たことである。
スハイドレートの製造装置のガス分散部１５の斜視図、
図５はそのＶ−Ｖ線に沿った矢視方向断面図である。図
１および２に示した装置と異なる点は、ガス導入管１２
の代わりに回転軸１３として図５に示すように中空のも
のを用い、図４に示すように、中空の回転軸の下端を拡
径して傘状の上蓋部２９を形成し、この上蓋部２９と中
央に孔あき部２８を有する下蓋部３０とを複数の案内羽
根２６で支持し、撹拌翼（または遠心ポンプ）を形成し
たことである。
【００１１】このような構成において、回転軸１３を周
速度０．５〜２０ｍ／ｓで高速回転させると、水は不凍
液が翼の下部、すなわち下蓋部３０の孔あき部２８から
吸引されると同時に原料ガスはガス同入孔２７から導入
され、下方に吸引され、前記水または不凍液中に混入
し、微細気泡となって周囲の水または不凍液中と接触
し、メタンハイドレートを生成する。生成したメタンハ
イドレート９は、先の実施例と同様に水または不凍液上
に浮上し、かき寄せ機１４によりかき寄せられ、排出口
７から外部に排出される。以下、本発明の具体的実施例
を述べる。
速度０．５〜２０ｍ／ｓで高速回転させると、水は不凍
液が翼の下部、すなわち下蓋部３０の孔あき部２８から
吸引されると同時に原料ガスはガス同入孔２７から導入
され、下方に吸引され、前記水または不凍液中に混入
し、微細気泡となって周囲の水または不凍液中と接触
し、メタンハイドレートを生成する。生成したメタンハ
イドレート９は、先の実施例と同様に水または不凍液上
に浮上し、かき寄せ機１４によりかき寄せられ、排出口
７から外部に排出される。以下、本発明の具体的実施例
を述べる。
【００１２】
【実施例】実施例１ 図１に示す装置で、回転軸およびガス分散部を図４およ
び５のように構成した装置（筒状容器の容量１５リット
ル）に予めライン１１から水を供給して排出口７のレベ
ルに保持した。次に天然ガス供給ライン８を天然ガスボ
ンベ（図示せず）に連結し、天然ガスと水との供給割合
を１：６とし、ライン８および５から容器内に供給し、
次いでガス分散部１５の回転軸１３を高速回転させた。
ガスは、ガス導入管２７を通って撹拌翼に供給され、下
方から吸引される水または不凍液と衝突すると同時に周
囲に分散し、微細気泡となって水と反応し、メタンハイ
ドレートを生成する。製造条件および結果を下記に示
す。
び５のように構成した装置（筒状容器の容量１５リット
ル）に予めライン１１から水を供給して排出口７のレベ
ルに保持した。次に天然ガス供給ライン８を天然ガスボ
ンベ（図示せず）に連結し、天然ガスと水との供給割合
を１：６とし、ライン８および５から容器内に供給し、
次いでガス分散部１５の回転軸１３を高速回転させた。
ガスは、ガス導入管２７を通って撹拌翼に供給され、下
方から吸引される水または不凍液と衝突すると同時に周
囲に分散し、微細気泡となって水と反応し、メタンハイ
ドレートを生成する。製造条件および結果を下記に示
す。
【００１３】 ガス導入孔２７の内径 ： ５ｍｍ 上蓋および下蓋の径 ： ５０ｍｍ 案内羽根の枚数 ： １２枚 筒状容器内の温度 ： １〜３℃ 筒状容器内の圧力 ： ４０〜６０ｋｇ／ｃｍ2 冷却ジャケットの冷媒 ： エチレングリコール メタンハイドレートの製造速度 ： ３〜７ｋｇ／ｈｏｕｒ 上記に示すように、メタンハイドレートを高収率で連続
的に製造することができた。
的に製造することができた。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、メタンを主成分とする
ガスと水または不凍液とを連続的に反応させ、メタンハ
イドレートを工業的に製造することができる。
ガスと水または不凍液とを連続的に反応させ、メタンハ
イドレートを工業的に製造することができる。
【図１】本発明のメタンハイドレートの製造装置の一実
施例を示す説明図。
施例を示す説明図。
【図２】図１の筒状容器の拡大説明図。
【図３】図１の装置に用いたガス分散部の部分斜視図。
【図４】本発明の他の実施例を示すガスハイドレートの
製造装置のガス分散部の斜視図。
製造装置のガス分散部の斜視図。
【図５】図４のＶ−Ｖ線に沿った矢視方向断面図。
１…筒状容器、２…冷媒入口ライン、３…冷却ジャケッ
ト、４…水または不凍液抜き出しライン、５…水または
不凍液供給ライン、６…冷媒出口ライン、７…メタンハ
イドレート排出口、８…天然ガス供給ライン、９…メタ
ンハイドレート、１０…駆動用モーター、１２…回転
軸、１３…ガス導入孔、１４…かき寄せ機、１５…ガス
分 散部、１６…液面レベル計、１８…冷却器、１９
…メタンハイドレート、２４…撹拌翼。
ト、４…水または不凍液抜き出しライン、５…水または
不凍液供給ライン、６…冷媒出口ライン、７…メタンハ
イドレート排出口、８…天然ガス供給ライン、９…メタ
ンハイドレート、１０…駆動用モーター、１２…回転
軸、１３…ガス導入孔、１４…かき寄せ機、１５…ガス
分 散部、１６…液面レベル計、１８…冷却器、１９
…メタンハイドレート、２４…撹拌翼。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永田 健一 東京都中央区築地５丁目６番４号 三井造 船株式会社内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AA04 AC90 AD33 AD40
Claims (5)
- 【請求項１】 冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容
器内に水または不凍液を供給する手段と、該筒状容器の
中央部に挿入されたガス導入管と、該ガス導入管の中心
軸に挿入された回転軸と、該回転軸の駆動手段と、該回
転軸の下端に設けられたプロペラ型撹拌翼と、前記ガス
導入管の下端に前記撹拌翼の端部を囲むように設けられ
たガス分散部と、前記ガス導入管にメタンを主成分とす
るガスを導入する手段と、前記筒状容器内で生成したメ
タンハイドレートを外部へ排出する手段とを有するガス
ハイドレートの製造装置。 - 【請求項２】 前記筒状容器はメタンを主成分とするガ
スの供給口を有し、かつ前記ガス導入管の上端が前記筒
状容器内の空間部に開口している請求項１記載のガスハ
イドレートの製造装置。 - 【請求項３】 冷却手段を有する筒状容器と、該筒状容
器内に水または不凍液を供給する手段と、該筒状容器の
中央部に挿入された回転軸と、該回転軸の中心に設けら
れたガス導入孔と、該回転軸の駆動手段と、該回転軸の
下端に設けられた案内羽根を内蔵した撹拌翼と、前記ガ
ス導入孔にメタンを主成分とするガスを導入する手段
と、前記筒状容器内で生成したメタンハイドレートを外
部へ排出する手段とを有するガスハイドレートの製造装
置。 - 【請求項４】 前記生成メタンハイドレートの排出手段
は、前記筒状容器の側部に設けられた水または不凍液の
排出口と、該排出口に生成メタンハイドレートをかき寄
せる手段である請求項１ないし３のいずれかに記載のガ
スハイドレートの製造装置。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の装
置を用い、筒状容器内の反応温度および圧力を１〜４
℃、３０〜１００気圧として、前記ガス導入管を通して
メタンを主成分とするガスを供給し、周速度を０．５〜
２０ｍ／ｓで前記撹拌翼を回転させ、水または不凍液と
前記ガスを撹拌翼に吸引して衝突させ、メタンハイドレ
ートを合成することを特徴とするガスハイドレートの製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11850199A JP4313461B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | ガスハイドレートの製造装置および製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11850199A JP4313461B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | ガスハイドレートの製造装置および製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000302701A true JP2000302701A (ja) | 2000-10-31 |
| JP4313461B2 JP4313461B2 (ja) | 2009-08-12 |
Family
ID=14738242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11850199A Expired - Lifetime JP4313461B2 (ja) | 1999-04-26 | 1999-04-26 | ガスハイドレートの製造装置および製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4313461B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1999
- 1999-04-26 JP JP11850199A patent/JP4313461B2/ja not_active Expired - Lifetime
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