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JP2000233947A - 薄膜の積層体を具備した透明基材 - Google Patents

薄膜の積層体を具備した透明基材

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JP2000233947A
JP2000233947A JP11300808A JP30080899A JP2000233947A JP 2000233947 A JP2000233947 A JP 2000233947A JP 11300808 A JP11300808 A JP 11300808A JP 30080899 A JP30080899 A JP 30080899A JP 2000233947 A JP2000233947 A JP 2000233947A
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Saint Gobain Vitrage SA
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 断熱性及び／又は太陽光保護窓の製造のため
の基材を提供する。 【解決手段】 本発明は、誘電体に基づく２つのコーテ
ィングの間に配置された赤外線反射能力を持つ少なくと
も１つの金属層（４、５）を有する薄膜の積層体（２−
８）を具備した透明基材（１）に関し、前記金属層の上
に配置された前記誘電体に基づくコーティング（６、
７、８）が、（ａ）屈折率ｎi-2 が最大で２．２の材料
の層、（ｂ）屈折率ｎi-1 が最小で０．３であり、最後
の層よりも屈折率が小さい材料の層、（ｃ）屈折率ｎi
が実質的にｎi-2 に等しい材料の最後の層、の順序で配
置された層を有することを特徴とする積層を具備した透
明基材とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２つの誘電体に基
づくコーティングの間に配置され、赤外線を反射する性
質を持ち、特に低放射率である少なくとも１つの金属層
を有する薄膜の積層体を具備した透明基材、特にガラス
で作られた透明基材に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】本発明
が目的とする主な用途は、断熱性及び／又は太陽光防護
窓の製造のためのそのような基材の使用である。
【０００３】これらは建築物及び乗り物の両方に適用す
ることを意図している。特に、空調の負荷の減少及び／
又は部屋と乗員区画の窓ガラス領域の継続的な増大によ
る過剰な熱を減少させることを目的としている。
【０００４】透明基材に熱的な性質、特に低放射率の性
質を与えるために、あるタイプの薄膜の積層体がよく知
られている。これは上述の必要とされる用途にふさわし
く、また金属層、特に銀層で作られており、金属酸化物
又は金属窒化物タイプの２つの誘電体に基づくコーティ
ングの間に配置された金属層を有している。この積層体
は通常、真空技術、例えばカソードスパッタリングを使
用する一連の堆積によって製造する。また、これは磁場
によって補助することができる。
【０００５】銀層の劣化を防止するための保護をする金
属オーバーコーティングを、この積層体に具備させても
よい。
【０００６】このタイプの積層体において、銀層は本質
的に、完成した窓の熱的、太陽光防護、及び／又は低放
射率の性質を支配しており、誘電体層は主に、干渉によ
って得られる窓の光学的な外観に影響を与える。更にそ
れらは、銀層を化学的及び／又は機械的攻撃から保護す
る機能を持つ。
【０００７】上述のタイプの積層体を具備した窓の製造
に関する改良は、それらを熱的及び光学的な性能に関し
て満足できるものに維持しつつ、それらの用途を増加さ
せた。しかしながら、光学的な点に関して、色彩的な外
観には更に改良の余地があり、特に反射の中立的な色に
関しては改良の余地がある。
【０００８】従って、本発明の目的は、改良された色彩
的な外観、特に反射における比較的中立な色を持つ上述
のタイプの薄膜の積層体を具備した基材を提供すること
である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、２つ
の誘電体に基づくコーティングの間に配置され、赤外線
を反射する性質を持ち、特に低放射率の少なくとも１つ
の金属層を有する薄膜の積層体を具備した透明基材、特
にガラスで作られた透明基材に関する。本発明によれ
ば、この金属層の上のこの誘電体に基づくコーティング
は、（ａ）屈折率ｎi-2 が最大で２．２の１又は複数の
材料を伴う１又は複数の層、（ｂ）屈折率ｎi-1 が最小
で０．３であり、後記最後の層の屈折率ｎi よりも屈折
率が小さい１又は複数の材料を伴う１又は複数の層、
（ｃ）屈折率ｎi が実質的にｎi-2 に等しい１又は複数
の材料を伴う１又は複数の最後の層、の順序で配置され
た一連の層を有する。
【００１０】本発明の明細書の記載においては、「積層
体の１又は複数の最後の層」とは基材から最も離れた積
層中の１又は複数の層を意味しており、これは周囲雰囲
気、例えば空気とと直接に接触している層を含む。
【００１１】本発明の解決手段は、全く予想外の利点を
与える。
【００１２】本発明が意図するタイプの積層体に大きな
反射防止効果を与えるためには、直接に保護金属層に接
触する層が、高屈折率の材料に基づく層である誘電体の
基づく上側コーティングを得ることが必要である。ここ
で、この高屈折率の材料は赤外線を反射する性質を持つ
金属層の「反射防止」をする利点を持つ。この上側のコ
ーティングは、好ましくは「屈折率勾配（ｉｎｄｅｘ
ｇｒａｄｉｎｇ）」で終わる。ここでこの「屈折率勾
配」は、周囲雰囲気、例えば空気と接触する最後の層
が、１．７程度の最も周囲雰囲気に近い屈折率を持つよ
うにする。
【００１３】これは、積層体の最後の層の物質と空気の
間の屈折率の差が小さくなると、積層体の最後の層と空
気の界面での反射も小さくなるという事実によって認め
られる。
【００１４】意外にも、本発明が意図するタイプの積層
体では、周囲雰囲気、例えば空気と接触している高屈折
率の最後の層の存在にも関わらず、本発明の順序を使用
することによって、所望の反射防止効果が得られた。
【００１５】更に、結果として、本発明の積層体を具備
した基材は反射において中立的な色を持ち、金属機能
層、例えば銀の厚さが幾何学的に大きい形状においても
このことがいえる。
【００１６】従って、そのような基材を組み合わせた窓
は、非常に美しく、且つ熱的に非常に良好な性能を持
つ。
【００１７】反射において満足できる色を得るために、
屈折率の勾配を有することが必要である従来技術の順序
と比較すると、本発明の積層体の順序には多くの利点が
ある。
【００１８】特に、本発明によれば最後の層が最も大き
い屈折率を持つので、積層体の機械的耐久性をかなり改
良する構成材料、例えばＳｎＺｎＯx に基づく材料、又
はその性質を変更しないで「温度処理が可能な（ｔｅｍ
ｐｅｒａｂｌｅ）」特徴を与える構成材料、例えばＳｉ
3 Ｎ4 に基づく材料を選択することが容易に可能であ
る。
【００１９】機能金属層は銀で作ることが有利である。
低放射率で光透過率が高い窓（特に、ＴL が少なくとも
７０〜８０％）を得ることが望まれている場合、特に寒
冷地域での建築物に適応させることを意図した窓の場
合、この層の厚さは７〜２０ｎｍでよく、特に９〜１５
ｎｍでよい。反対に、暖かい地域での建築物に適応させ
ることを意図しており、太陽光防護機能を持つ反射窓が
望ましい場合、銀層は比較的厚く、例えば２０〜２５ｎ
ｍでよい（これは明らかに、かなり低い光透過率、例え
ば６０％未満の光透過率を持つ窓を結果としてもたら
す）。
【００２０】好ましくは、赤外光線を反射する性質を持
つ層のすぐ上に接触して配置される保護金属層を本発明
の積層体に提供する。
【００２１】提供される保護層は、ニオブＮｂ、チタン
Ｔｉ、クロムＣｒ、ニッケルＮｉから選択される１つの
金属、又はこれらの金属の少なくとも２つの合金、特に
ニッケルとクロムの合金（Ｎｉ／Ｃｒ）に基づいてお
り、且つ幾何学的な厚さが２ｎｍ以下であることが有利
である。この態様では、層を構成している金属又は合金
は、パラジウムＰｄでドープすることができる。反応性
スパッタリングによって次の層を堆積させる場合、この
保護層は機能層を保護する「犠牲」層としての機能を果
たす。
【００２２】赤外線を反射する機能を持つ金属層の下に
配置される誘電体に基づくコーティングは、少なくとも
２つの層の重なりであることが有利である。これは２つ
の層でよく、特に２つの金属酸化物層が重なり、又は窒
化物層、例えばＡｌＮ又はＳｉ3 Ｎ4 と金属酸化物層、
例えばＳｎＯ2 、ＺｎＯ、ＴｉＯ2 との重なりでよい。
好ましくは、前記コーティングと前記金属反射層とは直
接接触している。好ましい態様は、赤外線を反射する性
質を持つ前記層と接触している酸化亜鉛ＺｎＯ、随意に
アルミニウムでドーピングした酸化亜鉛ＺｎＯ：Ａｌに
基づく濡れ（ｗｅｔ）層を持つコーティングからなる。
好ましくは、コーティングは濡れ層を有する２つの層を
持っている。濡れ層の幾何学的な厚さは、好ましくは５
〜４０ｎｍ、特に１５〜３０ｎｍである。そのような厚
さでは、その濡れ機能に加えて、この濡れ層は、機能層
の上側に配置された第１の誘電体コーティングと組み合
わさって積層体の光学的な外観を調整する機能を果た
す。この濡れ層は、部分的に結晶化した酸化亜鉛に基づ
いていることが有利なことがある。
【００２３】そのような層は、キャリアー基材を曲げ又
は温度処理タイプの熱処理にかけた場合に、積層体が光
学的な損傷を受けることを避けられるようにする。
【００２４】本発明の１つのかなり有利な特徴では、積
層体の１又は複数の最後の層は、酸化スズＳｎＯ2 、酸
化亜鉛、スズ及び亜鉛の混合酸化物ＳｎＺｎＯx のうち
のいずれか１つから選択される金属酸化物の層であって
もよい。またこれは、窒化ケイ素Ｓｉ3 Ｎ4 、随意にア
ルミニウムでドープした窒化ケイ素Ｓｉ3 Ｎ4 ：Ａｌ、
窒化アルミニウムＡｌＮのうちのいずれか１つから選択
される金属窒化物でよく、随意に酸素拡散バリアーであ
ってよい。
【００２５】最後に、これはキャリアー層、随意に酸素
拡散バリアーであってよい。これはＳｉＣ、ＴｉＣ、Ｃ
ｒＣ、ＴａＣのうちのいずれか１つの材料から選択され
る。
【００２６】上述のように、そのような層は積層体の耐
久性を改良し及び／又は「温度処理が可能な」特徴を与
えることを可能にする。
【００２７】この最後の層の幾何学的な厚さは好ましく
は、５〜２０ｎｍである。有利には、積層体の最後の層
のうちの１つに接触させてそのすぐ下側に配置された層
の屈折率ｎi-1 は、１．７５未満である。
【００２８】この層は好ましくは、酸化ケイ素Ｓｉ
Ｏ2 、酸化アルミニウムＡｌ2 Ｏ3 、又はこれら２つの
酸化物の混合物Ａｌ2 Ｏ3 ：ＳｉＯ2 に基づいている。
【００２９】本発明の他の特徴では、最後の層のうちの
１つのすぐ下に接触して配置された層の下の層の屈折率
ｎi-2 は、積層体の最後の層の屈折率に近くなるように
選択し、好ましくは２程度である。
【００３０】従って、本発明の定義を満たす積層は以下
のようなタイプである。ガラス／ＳｎＯ2 又はＳｉ3 Ｎ
4 ：Ａｌ又はＡｌＮ／ＺｎＯ又はＺｎＯ：Ａｌ／Ａｇ／
Ｔｉ又はＮｉＣｒ／ＺｎＯ又はＳｎＯ2 ／ＳｉＯ2 又は
Ａｌ2 Ｏ3 又はＳｉＯ2 ：Ａｌ2 Ｏ3 ／ＳｎＯ2 又はＺ
ｎＯ又はＳｎＺｎＯX 又はＡｌＮ又はＳｉ3 Ｎ4 ：Ａｌ
又は（ＡｌＮ／Ｓｉ3 Ｎ4 ：Ａｌ）又は（Ｓｉ3 Ｎ4 ：
Ａｌ／ＡｌＮ）又は（ＳｎＯ2 ／ＳｎＺｎＯX ）
【００３１】本発明の基材では、放射率が最大で０．０
５であることも重要である。
【００３２】ここまでで説明してきた発明は、非常に多
くの用途に適用することができる。これは特に、低放射
率の太陽光防護多重ガラス、特に２重ガラスであって、
上述の基材を有し、本発明の積層体が面２及び／又は面
３に、また適用できる場合には面５にあるガラスを包含
する。
【００３３】本発明は、上述の少なくとも１つの基材を
有する低放射率又は太陽光防護２重ガラス、特に光透過
率ＴL が少なくとも７２％の２重ガラスにも関する。
【００３４】２つのガラス板を有するそのような２重ガ
ラスは、この２つのガラス板を空気の層によって隔てた
ときは係数Ｋが１．４Ｗ／Ｋ・ｍ2 以下であり、これら
のガラス板をアルゴンの層によって隔てたときはこの係
数Ｋが１．１Ｗ／Ｋ・ｍ2 以下であることも注目され
る。
【００３５】
【発明の実施の形態】他の細部及び有利な特徴は、以下
の限定をしない例の詳細な説明を読むことによって明ら
かになる。以下の例は図１及び図２を参照しながら説明
する。ここで、例１は比較例であり、例２は本発明に従
って行った。
【００３６】これらの２つの例において、連続的な薄層
の堆積は、磁場で補助するカソードスパッタリング技術
を使用して行った。本発明の範囲では、得られる層の厚
さを適当に制御する任意の他の技術を使用して行うこと
も当然に可能である。
【００３７】ここでは、薄膜の積層体を堆積させる基材
は、ＰＬＡＮＩＬＵＸという名称でＳＡＩＮＴ−ＧＯＢ
ＡＩＮ ＶＩＴＲＡＧＥ社が販売しているタイプのシリ
カ−ソーダ−ライムガラスで作られた基材である。
【００３８】［例１］−（比較例） ヨーロッパ特許出願第０８１８２５０号明細書の記載に
よれば、図１では、基材１の上に、酸素及びＮａ+ イオ
ンの拡散に対するＳｎＯ2 に基づくバリアー層２、酸化
亜鉛ＺｎＯに基づく濡れ層３、そして銀の層４、チタン
Ｔｉの保護層５、酸化亜鉛ＺｎＯに基づく層６、そして
最後にＳｉ3 Ｎ4 に基づく酸素バリアー層７がある。物
質の厚さの割合は様々な値でよいことに注意すべきであ
る。
【００３９】従って、この積層体は以下のタイプであ
る。 ガラス／ＳｎＯ2 ／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／Ｓｉ
3 Ｎ4
【００４０】以下の表１は、厚さが４ｍｍの基材上の積
層のそれぞれの層の厚さをナノメートル単位で示してい
る。
【表１】
【００４１】この積層体を作るために、それぞれの層の
堆積に推薦される堆積条件は以下のようなものである。 →酸化スズＳｎＯ2 に基づく層２は、アルゴン／酸素雰
囲気において１．５×１０-3ｍｂａｒ（１．５×１０-1
Ｐａ）の圧力で、スズターゲットを使用して堆積させ
た。 →酸化亜鉛ＺｎＯに基づく層３及び６は、アルゴン／酸
素雰囲気において８×１０-3ｍｂａｒ（８×１０-1Ｐ
ａ）の圧力で、亜鉛ターゲットを使用して堆積させた。 →銀Ａｇの層４は、アルゴン雰囲気において８×１０-3
ｍｂａｒ（８×１０-1Ｐａ）の圧力で、銀ターゲットを
使用して堆積させた。 →チタンＴｉの層５は、アルゴン雰囲気において８×１
０-3ｍｂａｒ（８×１０ -1Ｐａ）の圧力で、チタンター
ゲットを使用して堆積させた。 →窒化ケイ素Ｓｉ3 Ｎ4 の層７は、アルゴン／窒素雰囲
気において８×１０-3ｍｂａｒ（８×１０-1Ｐａ）の圧
力で、８％のアルミニウムでドープしたケイ素ターゲッ
トを使用して堆積させた。
【００４２】出力及び基材を動かす速度は、上述の所望
の厚さを得るために、それ自体は既知の様式で調節し
た。
【００４３】以下の表２は、光透過率の値ＴL をパーセ
ントで、光反射の値ＲL をパーセントで、反射について
（Ｌ、ａ* 、ｂ* ）表色系のａ* （Ｒ）及びｂ* （Ｒ）
の値を無次元で、並びに、放射率の値εを無次元で表
す。これらの測定の全ては、Ｄ 65光源を参照して行っ
た。
【表２】
【００４４】上記の基材１をその後、厚さが４ｍｍのも
う１つの裸のガラス基材と共に二重ガラスとして組み立
てて、中間のアルゴン層を１５ｍｍにして、薄膜の積層
体を面（ｆａｃｅ）３にした。
【００４５】以下の表３は、この二重ガラスに関して、
同じ特徴ＴL 、ＲL 、ａ* （Ｒ）、ｂ* （Ｒ）、及びε
の値を示し、並びに係数Ｋの値をＷ／Ｋ・ｍ2 を表す。
【表３】
【００４６】［例２］−（本発明の態様） 図２で示される薄膜の積層体は、比較例１のものと同様
であるが、但し、屈折率が１．４５に等しいＳｉＯ2 に
基づく層８を、酸化亜鉛ＺｎＯに基づく層６と積層体の
窒化ケイ素Ｓｉ3 Ｎ4 に基づく最後の層７との間に配置
している。
【００４７】従って、この積層体は以下のタイプであ
る。 ガラス／ＳｎＯ2 ／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｔｉ／ＺｎＯ／Ｓｉ
Ｏ2 ／Ｓｉ3 Ｎ4
【００４８】本発明のＳｉＯ2 に基づく層８の厚さは１
７ｎｍである。ここではＳｉ3 Ｎ4オーバーコーティン
グの厚さが１２ｎｍであることを除いて、他の層の厚さ
は比較例１の層の厚さと同じである。
【００４９】ＳｉＯ2 に基づくこの層８は、アルゴン／
酸素雰囲気において約１．５×１０ -3ｍｂａｒ（１．５
×１０-1Ｐａ）の圧力で、プラズマ補助反応性スパッタ
リングによって堆積させた。
【００５０】以下の表４は、この例に関するモノリシッ
ク基材１のＴL 、ＲL 、ａ* （Ｒ）、ｂ* （Ｒ）、及び
εの値をそれぞれ表す。
【表４】
【００５１】この基材１をその後、同じ厚さ、つまり４
ｍｍのもう１枚の透明ガラス基材と共に二重ガラスとし
て組み立てて、中間のアルゴン層を１５ｍｍにして、本
発明の積層体がこの二重ガラスの面３になるようにし
た。
【００５２】以下の表５は、この二重ガラスに関して、
同じ特徴ＴL 、ＲL 、ａ* （Ｒ）、ｂ* （Ｒ）、及びε
の値を示し、並びに係数Ｋの値をＷ／Ｋ・ｍ2 を表す。
【表５】
【００５３】分光光度的な値及び熱的な性能に関する様
々な表の値を、従来技術による比較例と本発明による例
のそれぞれに関して比較することによって、以下のこと
が容易に理解できる。→本発明の積層体は、反射が比較
的中立的な色の、色彩的な外観が比較的良好なガラス基
材を与える。これは、非常に小さいａ* 及びｂ* の値に
よって裏付けられる。→光学的な改良は、熱的な性能に
好ましくない影響を与えない。
【００５４】更に、機械的な耐久性試験は、本発明の積
層体が比較的良い耐久性を持つことを示した。
【００５５】最後に、本発明の積層体は劣化を伴わず
に、曲げ及び／又は温度処理タイプの熱処理を受けるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、従来技術の薄膜の積層体を具備した基
材を示す図である。
【図２】図２は、本発明の薄膜の積層体を具備した基材
を示す図である。
【符号の説明】
１…基材 ２…ＳｎＯ2 のバリアー層 ３…酸化亜鉛ＺｎＯに基づく濡れ層 ４…銀の層 ５…チタンの保護層 ６…酸化亜鉛に基づく層 ７…Ｓｉ3 Ｎ4 に基づく酸素バリアー層 ８…ＳｉＯ2 の層

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ２つの誘電体に基づくコーティングの間
    に配置されており、赤外線を反射する性質を持ち、特に
    低放射率である少なくとも１つの金属層を有する薄膜の
    積層体を具備した透明基材、特にガラスで作られた透明
    基材であって、 前記金属層の上に配置された前記誘電体に基づくコーテ
    ィングが、 （ａ）屈折率ｎi-2 が最大で２．２の１又は複数の材料
    の１又は複数の層、 （ｂ）屈折率ｎi-1 が最小で０．３であり、屈折率が後
    記最後の層の屈折率ｎ i よりも小さい１又は複数の材料
    の１又は複数の層、 （ｃ）屈折率ｎi が実質的にｎi-2 に等しい１又は複数
    の材料の１又は複数の最後の層、の順序で堆積した一連
    の層を有することを特徴とする、薄膜の積層体を具備し
    た透明基材。
  2. 【請求項２】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層
    が、銀Ａｇに基づく層であることを特徴とする請求項１
    に記載の基材。
  3. 【請求項３】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層
    が、下側の誘電体に基づくコーティングに直接に接触し
    ていることを特徴とする請求項１又は２に記載の基材。
  4. 【請求項４】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層
    の幾何学的な厚さが７〜２０ｎｍ、特に９〜１５ｎｍで
    あって低放射率の性質を基材に与え、又は２０〜２５ｎ
    ｍで太陽光防護の性質を基材に与えることを特徴とする
    請求項１〜３のうちの１項に記載の基材。
  5. 【請求項５】 保護金属層が、赤外線を反射する性質を
    持つ前記金属層のすぐ上に接触して配置されたことを特
    徴とする請求項１〜４のうちの１項に記載の基材。
  6. 【請求項６】 前記保護金属層が、ニオブＮｂ、チタン
    Ｔｉ、クロムＣｒ、又はニッケルＮｉから選択される単
    一の金属、又はこれらの金属のうちの少なくとも２つの
    ものの合金、特にニオブとクロムの合金（Ｎｂ／Ｃｒ）
    又はニッケルとクロムの合金（Ｎｉ／Ｃｒ）に基づいて
    おり、且つ好ましくはこの層の幾何学的な厚さが２ｎｍ
    以下であることを特徴とする請求項５に記載の基材。
  7. 【請求項７】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層
    の下側に配置された誘電体に基づく前記コーティング
    が、少なくとも２つの層、特に２つの金属酸化物の層、
    又はＡｌＮ若しくはＳｉ3 Ｎ4 を含む窒化物層とＳｎＯ
    2 、ＺｎＯ、ＴｉＯ2 を含む金属酸化物との重なりであ
    り、好ましくはこのコーティングと赤外線を反射する性
    質を持つ前記金属層が直接に接触していることを特徴と
    する請求項１〜６のうちのいずれか１項に記載の基材。
  8. 【請求項８】 赤外線を反射する性質を持つ前記金属層
    の下の誘電体に基づくコーティングが、赤外線を反射す
    る性質を持つ前記金属層と接触している酸化亜鉛Ｚｎ
    Ｏ、随意にアルミニウムでドーピングした酸化亜鉛Ｚｎ
    Ｏ：Ａｌに基づく濡れ層を持ち、且つ好ましくはこの濡
    れ層を含む２つの層を有することを特徴とする請求項７
    に記載の基材。
  9. 【請求項９】 前記濡れ層の幾何学的な厚さが、５〜４
    ０ｎｍ、特に１５〜３０ｎｍであることを特徴とする請
    求項８に記載の基材。
  10. 【請求項１０】 前記濡れ層が、少なくとも部分的に結
    晶化した酸化亜鉛に基づいていることを特徴とする請求
    項８及び９のいずれか１項に記載の基材。
  11. 【請求項１１】 前記積層体の最後の層が、窒化ケイ素
    Ｓｉ3 Ｎ4 、随意にアルミニウムでドープした窒化ケイ
    素Ｓｉ3 Ｎ4 ：Ａｌ、窒化アルミニウムＡｌＮ、酸化ス
    ズＳｎＯ2 、スズと亜鉛の混合酸化物ＳｎＺｎＯx 、及
    びＳｉＣ、ＴｉＣ、ＣｒＣ、ＴａＣを包含する炭化物の
    うちのいずれか１つから選択される材料の層であること
    を特徴とする請求項１〜１０のうちのいずれか１項に記
    載の基材。
  12. 【請求項１２】 前記積層体の最後の層の幾何学的な厚
    さが、５〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜
    １１のうちのいずれか１項に記載の基材。
  13. 【請求項１３】 前記積層体の最後の層のうちの１つに
    接触してすぐ下側に配置された層の屈折率ｎi-1 が、
    １．７５未満であることを特徴とする請求項１〜１２の
    うちのいずれか１項に記載の基材。
  14. 【請求項１４】 前記最後の層のうちの１つに接触して
    すぐ下側に配置された層が、酸化ケイ素ＳｉＯ2 、酸化
    アルミニウムＡｌ2 Ｏ3 、又はこれら２つの酸化物の混
    合物Ａｌ2 Ｏ3 ：ＳｉＯ2 に基づくことを特徴とする請
    求項１〜１３のうちのいずれか１項に記載の基材。
  15. 【請求項１５】 前記積層体の前記最後の層のうちの１
    つに接触してすぐ下側に配置された前記層の下の層の屈
    折率ｎi-2 が、前記積層体の前記最後の層の屈折率ｎi
    に近く、好ましくは２程度であることを特徴とする請求
    項１〜１４のうちのいずれか１項に記載の基材。
  16. 【請求項１６】 前記積層体が、 ガラス／ＳｎＯ2 又はＳｉ3 Ｎ4 ：Ａｌ又はＡｌＮ／Ｚ
    ｎＯ又はＺｎＯ：Ａｌ／Ａｇ／Ｔｉ又はＮｉＣｒ／Ｚｎ
    Ｏ又はＳｎＯ2 ／ＳｉＯ2 又はＡｌ2 Ｏ3 又はＳｉ
    Ｏ2 ：Ａｌ2 Ｏ3 ／ＳｎＯ2 又はＺｎＯ又はＳｎＺｎＯ
    X 又はＡｌＮ又はＳｉ3 Ｎ4 ：Ａｌ又は（ＡｌＮ／Ｓｉ
    3 Ｎ4 ：Ａｌ）又は（Ｓｉ3 Ｎ4 ：Ａｌ／ＡｌＮ）又は
    （ＳｎＯ2 ／ＳｎＺｎＯX ）であることを特徴とする請
    求項１〜１５のうちのいずれか１項に記載の基材。
  17. 【請求項１７】 放射率εが最大で０．０５であること
    を特徴とする請求項１〜１６のうちのいずれか１項に記
    載の基材。
  18. 【請求項１８】 請求項１〜１７のうちのいずれか１項
    に記載の基材を有し、前記薄膜の積層体が面２及び／又
    は面３、及び適当である場合は面５にされている低放射
    率又は太陽光防護の多重ガラス、特に２重ガラス。
  19. 【請求項１９】 光透過率ＴL が少なくとも７２％であ
    ることを特徴とする請求項１〜１７のうちのいずれか１
    項に記載の基材を少なくとも１つ有する低放射率２重ガ
    ラス。
  20. 【請求項２０】 ２枚のガラス板を空気の層によって隔
    てたときは係数Ｋが１．４Ｗ／Ｋ・ｍ2 以下であり、２
    枚のガラス板をアルゴンの層によって隔てたときはこの
    係数Ｋが１．１Ｗ／Ｋ・ｍ2 以下である請求項１９に記
    載の２重ガラス。
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