JP2000219739A - 高導電性アニリン系ポリマーの製造法 - Google Patents
高導電性アニリン系ポリマーの製造法Info
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Abstract
優れた溶解性を示し、高導電性、高分子量、高純度で、
塗布性および膜強度が優れた高導電性アニリン系ポリマ
ーの製造法。 【解決手段】 スルホン酸基またはカルボキシル基置換
アニリン、そのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、
アンモニウム塩および置換アンモニウム塩よりなる群か
ら選ばれた少なくとも一種の化合物(イ)を、塩基性化
合物(ロ)と、溶剤(ハ)を含む溶液中で酸化剤で重合
し、アニリン系ポリマーを製造する方法において、上記
(イ)に対して酸化剤がモル比で等モル以上存在してい
る系にて重合を行う。
Description
アニリン系ポリマーの製造法に関する。本発明の方法で
得られるポリマーを主成分とする溶液は、スプレーコー
ト法、ディップコート法、ロールコート法、グラビアコ
ート法、リバースコート法、ロールブラッシュ法、エア
ーナイフコート法、カーテンコート法等の簡便な手法で
基材に塗布し導電体を形成することができる。また、導
電膜の接着性、塗膜強度を向上させるために塗布時に適
当なバインダーポリマーを混合して用いることもでき
る。
エステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンに代表さ
れるポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、ナイロン、
ポリスチレン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、フッ
素樹脂、ポリスルホン、ポリイミド、ポリウレタン、フ
ェノール樹脂、アミノ樹脂、シリコン樹脂、合成紙等の
各種プラスチックスおよびフィルム、紙、鉄、アルミニ
ウム、銅、亜鉛、ニッケル、ステンレス鋼等が挙げられ
る。塗布工程はこれら基材の製造工程、例えば一軸延伸
法、二軸延伸法、成形加工、エンボス加工等の工程前、
または工程中に行っても良く、これら処理工程が完了し
た基材に対して行うこともできる。
主成分とする組成物は、各種帯電防止、制電、コンデン
サー、電池、EMIシールド、化学センサー、非線形材
料、表示素子、防食剤、接着剤、繊維、帯電防止塗料、
電着塗料、メッキプライマー、静電塗料の下地、電気防
食、電池の蓄電能力向上などの分野へ適応可能である。
更に、本発明の方法で得られるポリマーは導電性の湿度
依存性がなく、透明性が高く、しかも延伸加工や成形加
工、エンボス加工等が可能なため、各種帯電防止用途へ
の適合性が優れている。
帯電防止剤の用途例としては、包装材料、磁気カード、
磁気テープ、磁気ディスク、写真フィルム、印刷材料、
離型フィルム、ヒートシールテープ、ICトレイ、IC
キャリアテープ、カバーテープ等が挙げられる。
リアニリンは良く知られているが、ほとんど全ての溶剤
に不溶であり、成形、加工に難点がある。また、アニリ
ンを電解酸化重合する方法(特開昭60−235831
号公報、J.PolymerSci.Polymer
Chem.Ed.、26,1531(1988))は、
電極上にポリアニリンフィルムを形成することが可能で
あるが、単離操作が煩雑になることや大量合成が困難で
あるという問題がある。
電性を発現する自己ドープ性でアルカリ可溶性のスルホ
ン化ポリアニリンとその合成法およびカルボキシル化ポ
リアニリンとその合成法が提案されている。
としては、アニリンとm−アミノベンゼンスルホン酸を
電気化学的に重合してスルホン化ポリアニリンを合成す
る方法(日本化学会誌,1985,1124、特開平0
2−166165号公報)、o−、m−またはp−アミ
ノベンゼンスルホン酸をそれぞれ単独で電気化学的に重
合してスルホン化ポリアニリンを合成する方法(日本化
学会第64秋季年会講演予稿集II 706(199
2))、アニリンとo−またはm−アミノベンゼンスル
ホン酸を化学的に重合してスルホン化ポリアニリンを合
成する方法(特開平1−301714号公報)、アミノ
ベンゼンスルホン酸系化合物又はアミノベンゼンスルホ
ン酸系化合物及びアニリン系化合物を含む単量体を化学
酸化重合する方法(特開平6−56987号公報)、化
学的あるいは電気化学的に重合して得られたエメラルデ
ィンタイプの重合体(ポリアニリン)を濃硫酸でスルホ
ン化する方法(特開昭58−210902号公報)、無
水硫酸/リン酸トリエチル錯体を用いてスルホン化する
方法(特開昭61−197633号公報)、発煙硫酸で
スルホン化する方法(J. Am. Chem. So
c.,(1991)113, 2665〜2671、
J. Am. Chem. Soc.,(1990)1
12,2800、WO91−06887)、ジフェニル
アミン−4−スルホン酸(ナトリウム塩)を化学的に重
合し、N−置換型のスルホン化ポリアニリン合成する方
法(Polymer,(1993)34,158〜16
2)などが知られている。
を電気化学的に重合してスルホン化ポリアニリンを合成
する方法(日本化学会誌,1985,1124、特開平
02−166165号公報)は、生成物が電極上に形成
されるため、単離操作が煩雑になることおよび大量合成
が困難であるという問題がある。
集II 706(1992)では、アミノベンゼンスルホ
ン酸の電解酸化による可溶性導電性高分子の合成法が説
明されているが、この方法も大量合成に適しているとは
言い難い。また、ペルオキソ二硫酸アンモニウムを酸化
剤としてアミノベンゼンスルホン酸を化学酸化重合を行
った場合は生成物は得られなかったと記されている。ま
た、J. Am. Chem. Soc.,(199
1)113, 2665〜2671によるとo−または
m−アミノベンゼンスルホン酸を化学的および電気化学
的に重合を試みたが成功しなかったと記されている。
アミノベンゼンスルホン酸系化合物またはアミノベンゼ
ンスルホン酸系化合物およびアニリン系化合物を含む単
量体を酸性、中性およびアルカリの何れの溶液でも、化
学酸化重合することにより水に可溶性の導電性ポリマー
が得られるとの記載がある。しかし、本発明者らの検討
では、フィルム形成するのに充分な分子量を有するポリ
マーを得るためには、塩基性化合物の存在下重合するこ
とが必須条件であり、酸性溶液および中性溶液ではフィ
ルム形成するのに充分な分子量を有するポリマーを得る
ことができなかった。
いては、すべて硫酸酸性溶液中での重合であり、アルカ
リ性溶液中での重合に関する実施例はなく、また酸性水
溶液中での重合に関する実施例においても、その分子量
の記載もないため、どのような物性のポリマーが得られ
たか明らかでない。
酸アンモニウムを用いて、プロトン酸を含む水溶液中お
よび水溶液中での重合を試みたところ、水に可溶なポリ
マーは得られるが、低分子量のためフィルムを形成する
ような実用的なポリマーは得られなかった。
ているアニリンとm−アミノベンゼンスルホン酸をペル
オキソ二硫酸アンモニウムで化学的に重合する方法およ
び特開平6−56987号公報で記載されているアニリ
ンとm−アミノベンゼンスルホン酸を過マンガン酸カリ
ウムで化学的に重合する方法を本発明者らが追試したと
ころ、芳香環5個に約1個のスルホン酸基が導入される
のみであり、導電性は示すが中性および酸性の水には完
全に不溶であり、アンモニア水などのアルカリ性水溶液
にもほとんど不溶であった。
の方法でスルホン化した場合も同公報7頁に記載されて
いるとおり、反応溶媒に対するポリアニリンの溶解性が
充分でなく分散状態で反応させているため、芳香環5個
に約1個のスルホン酸基しか導入されない。かくして得
られるスルホン酸基導入割合の小さいスルホン化ポリア
ニリンは、導電性および溶解性が充分でないという問題
がある。
c.,(1991)113,2665〜2671および
J. Am.Chem. Soc.,(1990)11
2,2800によると、ポリアニリンを発煙硫酸でスル
ホン化した場合、芳香環2個に約1個のスルホン酸基が
導入されると記されている。しかし、本方法でポリアニ
リンを充分にスルホン化しようとした場合、発煙硫酸に
対するポリアニリンの溶解性が充分でないため、発煙硫
酸が大過剰必要とされる。また、発煙硫酸にポリアニリ
ンを添加する際もポリマーが固化し易いという問題があ
る。更に、このような方法で合成された重合物およびそ
のスルホン化物は、アンモニアおよびアルキルアミン等
の塩基を含む水溶液には溶解するが水単独には溶解しな
いという問題もある。
158〜162によると、ジフェニルアミン−4−スル
ホン酸(ナトリウム塩)を重合した場合、アニリン骨格
に対してベンゼンスルホン酸が1個置換された構造のN
位置換型のスルホン化ポリアニリンが得られ、水単独に
も溶解するが、重合物の単離に超遠心分離操作が必要で
あると記されている。本発明者らが追試したところ、高
溶解性のため重合溶媒中からの重合物の取得収率は低い
ものであり、高速遠心分離操作を行わない場合、重合物
を単離することはできなかった。また、N位置換型のた
め、前述のJ.Am. Chem. Soc.,(19
91)113,2665〜2671の方法で合成した重
合体に比べ導電性は低いものであった。
ンの合成法としては、2−または3−カルボキシアニリ
ンまたはその塩を酸化重合し、次いで塩基性物質で処理
し、カルボキシル基が塩で得られる製造法(特開平4−
268331号公報)が提案されているが、酸化剤の使
用量が原料に対して2倍当量以上必要であり、導電性は
低い値である。このことよりモノマーの反応性が低く低
分子量のポリマーが生成していると考えられる。
ニル酸メチルエステル)をペルオキソ二硫酸アンモニウ
ムの存在下で酸性の水性媒体中で重合後、アルコール性
水酸化カリウムによってメチルエステルをケン化する合
成法(特開平5−226238号公報)が提案されてい
るが、反応が2段階となるため、操作が非常に煩雑であ
る。
ンを酸化剤としてペルオキソ二硫酸アンモニウムを用い
て、プロトン酸を含む水溶液中での重合を試みたとこ
ろ、生成物を得ることができなかった。また、本発明者
らはアニリンと2−カルボキシアニリンを酸化剤にペル
オキソ二硫酸アンモニウムを用いて、プロトン酸を含む
水溶液中での重合を試みたところ、共重合体が得られた
が溶解性、導電性も共に低いものであった。このことよ
り得られた共重合体は2−カルボキシアニリンの共重合
比率が低いものと考えられる。従って、ポリマーにドー
プ剤を添加することなく導電性を発現させ、溶解性を向
上させるためにはより多くのスルホン酸基またはカルボ
キシル基などの酸性基を主鎖の芳香環に導入する必要が
あるものと考えられる。
場合、特に親水性、疎水性いずれの基材にも塗布可能と
するためには、水および有機溶剤の両方に溶解性のある
ことが望まれる。ところが、ポリアニリンのスルホン化
物は、アルカリ水に対する溶解性はあるが、中性から酸
性を示す水溶液には不溶であり、また有機溶剤に対する
溶解性が十分とはいえない。
発明者らはアニリン、N−アルキルアニリンおよびフェ
ニレンジアミン類よりなる群から選ばれた少なくとも一
種の化合物と、アミノベンゼンスルホン酸とを酸性溶媒
中酸化剤を用いて共重合させ、更にスルホン化剤により
スルホン化することを特徴とするアニリン系共重合体ス
ルホン化物の製造法を提案した(特開平5−17898
9号公報)。しかし、この方法においても濃硫酸中でス
ルホン化する操作を必要とし、廃酸の処理が大きな問題
として残る。
れも下式(3)の構造を持つと推定される。
およびスルホン酸基よりなる群から選ばれ、R′は水素
または炭素数1〜24のアルキル基よりなる群から選ば
れ、スルホン酸基の割合はスルホン酸基が芳香環に対し
て40〜80%の含有量であり、xは0〜1の任意の数
を表わし、nは重合度を示す2〜1500の数であ
る。)
キルアニリンおよびフェニレンジアミン類よりなる群か
ら選ばれた少なくとも一種の化合物とアルコキシ基置換
アミノベンゼンスルホン酸とを共重合させることによ
り、廃棄物を大量に発生させるスルホン化操作を省略す
ることを特徴とするアニリン系共重合体の製造法(特開
平6−293828号公報)を提案した。しかし、この
方法において得られる共重合体においても水単独には溶
解しないという問題が残されていた。
れも下式(4)の構造を持つと推定される。
たははR21は、それぞれ水素、アルコキシ基およびスル
ホン酸基よりなる群から選ばれ、スルホン酸基の割合は
スルホン酸基が芳香環に対して25〜50%の含有量で
あり、同一芳香環にアルコキシ基およびスルホン酸基を
含有しており、R′は水素または炭素数1〜4のアルキ
ル基よりなる群から選ばれ、xは0〜1の任意の数を表
し、nは重合度を示す2〜1500の数である。)
ニリンまたはカルボキシル基置換アニリンなどの酸性基
置換アニリンを、塩基性化合物含む溶液中で重合するこ
とを特徴とする可溶性アニリン系導電ポリマーとその製
造方法(特開平7−196791号公報、特開平7−3
24132号公報)を提案した。本方法は、従来スルホ
ン酸基またはカルボキシル基を有するアニリン類はそれ
単独では重合しにくいと云う定説に反し、高分子量の重
合体の製造が可能である。しかも、得られた可溶性導電
ポリマーは、酸性からアルカリ性の何れの水溶液にも優
れた溶解を示す。しかし、この方法においても、副反応
の併発や、それに基づくと考えられるオリゴマー成分の
副生は完全には抑制されず、これがポリマー中への不純
物混入の要因および導電性向上の妨げとなっている。ま
た、これら不純物の除去工程が煩雑になるという課題点
も有している。
れも下式(5)の構造を持つと推定される。
基、それらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、ア
ンモニウム塩および置換アンモニウム塩から選ばれた一
つの基であり、B1〜B4は、水素、炭素数1〜4の直
鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖または
分岐のアルコシキ基、酸性基、水酸基、ニトロ基および
ハロゲン基よりなる群から選ばれた一つの基を示す。x
は、0〜1の任意の数を表し、nは重合度を示す2〜5
000の数である。)
いかなるpHの水または有機溶剤に対してもすぐれた溶
解性を示すと共に、高導電性で高分子量且つ、分子量分
布が狭く、高純度な、成膜性に優れたアニリン系ポリマ
ーの簡便な製造方法を提供することにある。
性と溶解性を有するポリアニリンとして芳香環に対する
スルホン酸基および/またはカルボキシル基などの酸性
基導入割合の大きい酸性基置換ポリアニリンの簡便な製
法を鋭意検討した結果、従来法では塩基性化合物を含む
モノマー溶液中に酸化剤を滴下する反応方法をとってい
るため重合初期の系内pHが塩基性となり、このため原
料モノマーである酸性基置換アニリンがアゾ化等の副反
応を起こしやすく、このアゾ化反応によりオリゴマー成
分が生成することを解明した。更に、塩基性化合物を含
むスルホン基置換アニリンおよび/またはカルボキシル
基置換アニリンなどの酸性基置換アニリンに対して酸化
剤が等モル以上存在する系で酸化重合することにより、
前記副反応が抑制され、高純度且つ、分子量分布が単分
散に近いポリマーが得られることを見出した。また、本
反応では副反応が生じにくいため、不純物や、オリゴマ
ー成分が生成しにくく、この結果、平均分子量が向上
し、導電性が大きく向上し、かつ色調、成膜性も改善さ
れたポリマーが製造可能であることを見出して本発明に
到達した。
1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜2
4の直鎖または分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、
ニトロ基およびハロゲンよりなる群から選ばれ、その少
なくとも一つは酸性基を示す。また、ここで酸性基とは
スルホン酸基またはカルボキシル基を示す)で表される
酸性基置換アニリン、そのアルカリ金属塩、アルカリ土
類金属塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩よ
りなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物(イ)
を、塩基性化合物(ロ)と、溶剤(ハ)を含む溶液中で
酸化剤で重合し、一般式(2)
24の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜4の直
鎖または分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、ニトロ
基およびハロゲンよりなる群から選ばれ、その内少なく
とも一つは酸性基を示す。また、ここで酸性基とはスル
ホン酸基またはカルボキシル基を示す)で表される構造
単位を含有する平均重合度n=10以上且つ、重量平均
分子量5000以上であるアニリン系ポリマーを製造す
る方法において、上記(イ)に対して酸化剤がモル比で
等モル以上存在している系にて重合を行うことを特徴と
する高導電性アニリン系ポリマーの製造法に関する。
り詳細に説明する。本発明で用いる酸性基置換アニリ
ン、そのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモ
ニウム塩および置換アンモニウム塩から選ばれた少なく
とも一種の化合物(イ)として最も代表的なものは、ス
ルホン酸基置換アニリンまたはカルボキシル基置換アニ
リンである。アミノベンゼンスルホン酸誘導体は、アミ
ノ安息香酸誘導体に比べ導電性が高い傾向を示し、一
方、アミノ安息香酸誘導体は、アミノベンゼンスルホン
酸誘導体と比較して溶解性が高い傾向を示す。これらの
誘導体は、目的に合わせ任意の割合で混合して用いるこ
ともできる。
m−またはp−アミノベンゼンスルホン酸、アニリン−
2,6−ジスルホン酸、アニリン−2,5−ジスルホン
酸、アニリン−3,5−ジスルホン酸、アニリン−2,
4−ジスルホン酸、アニリン−3,4−ジスルホン酸等
のアミノベンゼンスルホン酸類、メチルアミノベンゼン
スルホン酸、エチルアミノベンゼンスルホン酸,n−プ
ロピルアミノベンゼンスルホン酸、iso−プロピルア
ミノベンゼンスルホン酸、n−ブチルアミノベンゼンス
ルホン酸、sec−ブチルアミノベンゼンスルホン酸、
t−ブチルアミノベンゼンスルホン酸等のアルキル基置
換アミノベンゼンスルホン酸類、メトキシアミノベンゼ
ンスルホン酸、エトキシアミノベンゼンスルホン酸、プ
ロポキシアミノベンゼンスルホン酸等のアルコキシ基置
換アミノベンゼンスルホン酸類、ヒドロキシ基置換アミ
ノベンゼンスルホン酸類、ニトロ基置換アミノベンゼン
スルホン酸類、フルオロアミノベンゼンスルホン酸、ク
ロロアミノベンゼンスルホン酸、ブロムアミノベンゼン
スルホン酸等のハロゲン基置換アミノベンゼンスルホン
酸類などを挙げることができる。このなかではアミノベ
ンゼンスルホン酸類、アルキル基置換アミノベンゼンス
ルホン酸類、アルコキシ基置換アミノベンゼンスルホン
酸類、ヒドロキシ基置換アミノベンゼンスルホン酸類な
どが実用上好ましい。なお、これらのスルホン酸基置換
アニリンはそれぞれ単独で用いても、また2種以上を任
意の割合で混合して用いても良い。
−,m−またはp−アミノベンゼンカルボン酸、アニリ
ン−2,6−ジカルボン酸、アニリン−2,5−ジカル
ボン酸、アニリン−3,5−ジカルボン酸、アニリン−
2,4−ジカルボン酸、アニリン−3,4−ジカルボン
酸等のアミノベンゼンカルボン酸類、メチルアミノベン
ゼンカルボン酸、エチルアミノベンゼンカルボン酸,n
−プロピルアミノベンゼンカルボン酸、iso−プロピ
ルアミノベンゼンカルボン酸、n−ブチルアミノベンゼ
ンカルボン酸、sec−ブチルアミノベンゼンカルボン
酸、t−ブチルアミノベンゼンカルボン酸等のアルキル
基置換アミノベンゼンカルボン酸類、メトキシアミノベ
ンゼンカルボン酸、エトキシアミノベンゼンカルボン
酸、プロポキシアミノベンゼンカルボン酸等のアルコキ
シ基置換アミノベンゼンカルボン酸類、ヒドロキシ基置
換アミノベンゼンカルボン酸類、ニトロ基置換アミノベ
ンゼンカルボン酸類、フルオロアミノベンゼンカルボン
酸、クロロアミノベンゼンカルボン酸、ブロムアミノベ
ンゼンカルボン酸等のハロゲン基置換アミノベンゼンカ
ルボン酸類などを挙げることができる。このなかではア
ミノベンゼンカルボン酸類、アルキル基置換アミノベン
ゼンカルボン酸類、アルコキシ基置換アミノベンゼンカ
ルボン酸類、ヒドロキシ基置換アミノベンゼンカルボン
酸類などが実用上好ましい。これらのカルボキシル基置
換アニリンはそれぞれ単独で用いても、また2種以上を
任意の割合で混合して用いても良い。
アニリンの置換基の位置と組合わせの具体例を表1に示
す。
属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩および置換
アンモニウム塩から選ばれた一つの基を示し、 B: メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−
プロピル基、n−ブチル基 、sec−ブチル基、t−
ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、
n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキ
シ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などのアル
コキシ基、ヒドロキシ基、フルオロ基、クロロ基、ブロ
ム基などのハロゲン基から選ばれた一つの基を示し、 H:水素を示す。
金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、アル
カリ土類金属としては、マグネシウム、カルシウムなど
が例示できる。
ンモニウム類、環式飽和アンモニウム類、環式不飽和ア
ンモニウム類などが挙げられる。
(6)
基よりなる群から独立して選ばれた基である。)で表さ
れる。例えば、メチルアンモニウム、ジメチルアンモニ
ウム、トリメチルアンモニウム、エチルアンモニウム、
ジエチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、メチ
ルエチルアンモニウム、ジエチルメチルアンモニウム、
ジメチルエチルアンモニウム、プロピルアンモニウム、
ジプロピルアンモニウム、イソプロピルアンモニウム、
ジイソプロピルアンモニウム、ブチルアンモニウム、ジ
ブチルアンモニウム、メチルプロピルアンモニウム、エ
チルプロピルアンモニウム、メチルイソプロピルアンモ
ニウム、エチルイソプロピルアンモニウム、メチルブチ
ルアンモニウム、エチルブチルアンモニウム、テトラメ
チルアンモニウム、テトラメチロールアンモニウム、テ
トラエチルアンモニウム、テトラn−ブチルアンモニウ
ム、テトラsec−ブチルアンモニウム、テトラt−ブ
チルアンモニウムなどを例示することができる。なかで
も、R22〜R25のうち1つが水素、他の3つが炭素数1
〜4のアルキル基の場合が最も好ましく、次いでR22〜
R25のうち2つが水素、他の2つが炭素数1〜4のアル
キル基の場合が好ましい。
ジニウム、ピロリジニウム、モルホリニウム、ピペラジ
ニウムおよびこれらの骨格を有する誘導体などが例示さ
れる。
ジニウム、α−ピコリニウム、β−ピコリニウム、γ−
ピコリニウム、キノリニウム、イソキノリニウム、ピロ
リニウム及びこれらの骨格を有する誘導体などが例示さ
れる。
(ロ)としては、アンモニア、脂式アミン類、環式飽和
アミン類、環式不飽和アミン類、無機塩基などが用いら
れる。特に脂式アミン類、環式飽和アミン類、環式不飽
和アミン類などが好ましい。
式(7)
なる群から独立して選ばれた基である。)で示される化
合物、または一般式(8)
ルキル基よりなる群から独立して選ばれた基である。)
で表されるアンモニウムヒドロキシド化合物を挙げるこ
とができる。
ピロリジン、モルホリン、ピペラジンおよびこれらの骨
格を有する誘導体ならびにこれらのアンモニウムヒドロ
キシド化合物などが好ましく用いられる。
α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、キノリ
ン、イソキノリン、ピロリンおよびこれらの骨格を有す
る誘導体ならびにこれらのアンモニウムヒドロキシド化
合物などが好ましく用いられる。
ものとしては、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、エチルメチルアミン、エチルジメチルアミ
ン、ジエチルメチルアミン、ピリジン、α−ピコリン、
β−ピコリン、γ−ピコリン等が挙げられ、これらのも
のを用いた場合、特に高導電性且つ高純度なポリマーを
得ることができる。また、これらの塩基性化合物(ロ)
は、2種以上をそれぞれ任意の割合で混合して用いるこ
ともできる。
mol/l以上、好ましくは0.1〜10.0mol/
l、特に好ましくは0.2〜8.0mol/lの範囲で
用いられる。この際、0.1mol/l以下の場合、得
られるポリマーの収率が低下し、10.0mol/l以
上の場合、導電性が低下する場合がある。
(イ)と塩基性化合物(ロ)との重量比は(イ):
(ロ)=1:100〜100:1、好ましくは10:9
0〜90:10が用いられる。ここで、塩基性化合物の
割合が低いと反応性が低下し導電性も低下することがあ
る。逆に割合が高い場合は得られるポリマー中の酸性基
と塩基性化合物が塩を形成する割合が高くなり導電性が
低下することがある。
共存下で、酸化剤により酸化重合することにより行う。
溶剤との混合溶媒が用いられ、混合溶媒を用いる場合の
混合比は任意であるが通常、水:水溶性有機溶剤=1:
100〜100:1が好ましく用いられる。また、ここ
でいう水溶性有機溶剤は水と混合するものであれば特に
限定はないが、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、アセトン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド等が好ましく用いられる。
電位が0.6V以上である酸化剤であれば特に限定され
ないが、ペルオキソ二硫酸、ペルオキソ二硫酸アンモニ
ウム、ペルオキソ二硫酸ナトリウムおよびペルオキソ二
硫酸カリウムなどのペルオキソ二硫酸類、過酸化水素等
が好ましく用いられる。これらの酸化剤を2種以上併用
しても何ら差し支えない。酸化剤の使用量はモノマー1
モルに対して1〜5モル、好ましくは1〜3モル用いら
れる。またこの際、触媒として鉄、銅などの遷移金属化
合物を添加することも有効である。
(イ)に対して酸化剤がモル比で等モル以上存在してい
る系にて重合を行うことが重要である。具体的には、酸
化剤溶液中にモノマー溶液を滴下する反応方法、酸化剤
が等モル以上になるようなモル比で酸化剤溶液とモノマ
ー溶液を同時に滴下する方法、あるいはそれらを適宜組
み合わせた方法などが挙げられる。
で行うことが好ましい。更に好ましくはpH6以下であ
る。ここで、重合反応系内のpHが7を超えると、副反
応が進行しやすくなり、その結果、不純物、オリゴマー
成分が生成し、導電性、成膜性、純度が低下する場合が
ある。
系内にプロトン酸を添加することができる。プロトン酸
としては、塩酸、硝酸、硫酸、ホウ化フッ素酸等の鉱酸
類、トリフルオロメタンスルホン酸等の超強酸類、メタ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、トルエン
スルホン酸、カンファスルホン酸等の有機スルホン酸
類、およびポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、
ポリビニルスルホン酸、ポリ−2−メチルプロパン−2
−アクリルアミドスルホン酸等の高分子酸類などが挙げ
られ、好ましくは、塩酸、硝酸、硫酸、p−トルエンス
ルホン酸等が用いられる。
い範囲であれば特に限定されないが、モル比でプロトン
酸:酸化剤=0.01:100〜50:100が好まし
く、0.01:100〜45:100が特に好ましい。
ここで、プロトン酸の添加量が多いと、モノマー溶液を
滴下した際にモノマーの析出が生じ、反応進行の妨げと
なり、その結果、不純物、オリゴマー成分が生成し、導
電性、成膜性、純度が低下することがある。
造する際の重合系内の攪拌としては、通常は攪拌動力
0.01〜5kw/m3 で行うことが好ましい。
好ましくはマイナス15〜50℃、最も好ましくはマイ
ナス10〜40℃の範囲が適用される。ここで、50℃
を越える温度では副反応の進行や、主鎖の酸化還元構造
の変化により導電性が低下することがある。また、マイ
ナス15℃未満では反応時間が長びくことがある。
ルホン酸基またはカルボキシル基は遊離酸、アルカリ金
属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩および置換
アンモニウム塩よりなる群から独立して選ばれた基であ
る。従ってこれらの基が単一ではなく混在した状態のポ
リマーも得ることができる。
合された場合、単離されたポリマー中のスルホン酸基ま
たはカルボキシル基は、ほとんどがナトリウム塩になっ
ている。同様に、アンモニア存在下で重合した場合、ス
ルホン酸基またはカルボキシル基の大部分はアンモニウ
ム塩であり、トリメチルアミン存在下で重合した場合、
大部分はトリメチルアンモニウム塩であり、キノリン存
在下で重合した場合、大部分はキノリニウム塩の形で得
られる。このように酸性基の一部ないし全部が塩を形成
しているポリマーは、酸含有溶液で処理することによっ
て、更に高純度なポリマーとすることができる。
るが、反応液中には未反応のモノマーが溶解している。
この際用いる分離装置としては、減圧濾過、加圧濾過、
遠心分離、遠心濾過等が用いられるが、特に遠心分離、
遠心濾過などの分離装置を用いた場合高純度のものが得
られやすく好ましい。
チルアルコール、エチルアルコール、iso−プロピル
アルコール、n−プロピルアルコール、t−ブチルアル
コール等のアルコール類、アセトン、アセトニトリル、
N,N−ジメチルフォルムアミド,N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシドを用いた場合高純度のものが
得られ、特にメチルアルコール、エチルアルコール、i
so−プロピルアルコール、アセトン、アセトニトリル
を用いた場合効果的である。
たはカルボキシ基を含有するアニリン系ポリマーの重量
平均分子量は5000〜3240000、好ましくは5
000〜1000000、特に好ましくは10000〜
500000である。
ことなく、単なる水、アンモニアおよびアルキルアミン
等の塩基または酢酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウ
ム等の塩基性塩を含む水、塩酸および硫酸等の酸を含む
水またはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール等の溶媒やそれらの混合物に溶解する
ことができる。
は共重合体は、一般式(9)で示したフェニレンジアミ
ン構造(還元型)とキノジイミン構造(酸化型)を有し
ていると云われている。
素数1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1
〜24の直鎖または分岐のアルコキシ基、水酸基、ニト
ロ基、およびハロゲンよりなる群から選ばれ、その内少
なくとも一つは酸性基を示す。また、ここで酸性基とは
スルホン酸基またはカルボキシル基を示す。この中でも
特に各芳香環の4つの置換基の内少なくとも二つはそれ
ぞれ酸性基又はアルコキシ基を有するものが好まし
い。)このフェニレンジアミン構造(還元型)とキノジ
イミン構造(酸化型)は、酸化もしくは還元により任意
の比率で可逆的に変換させることが可能である。フェニ
レンジアミン構造とキノジイミン構造の比率:xは、
0.2<x<0.8の範囲が導電性および溶解性の面か
ら好ましく、0.3<x<0.7がより好ましい。
式(2)で表される以外の構造単位として、可溶性、導
電性及び性状に影響を及ぼさない限り、置換または無置
換のアニリン、チオフェン、ピロール、フェニレン、ビ
ニレン、二価の他の不飽和基及び二価の飽和基の少なく
とも一種の構造単位を含んでも良い。この場合、一般式
(2)の繰り返し単位の含有率、即ち芳香環に対して酸
性基の置換した繰り返し単位の含有率は70%以上含ま
れることが好ましく、更に好ましくは80%以上、最も
好ましくは90%以上である。芳香環に対して酸性基の
置換した繰り返し単位の含有率が70%未満では水に対
する溶解性が不十分となることがある。
ペクトルはパーキンエルマー製(モデル1600)の装
置を用いて測定した。分子量分布及び分子量の測定に
は、水系のGPCカラムを用いて、GPC測定(ポリス
チレンスルホン酸換算)を行った。カラムは、水系のも
のを2種類連結して用いた。また、溶離液には0.01
mol/lリン酸緩衝液を用いた。pHの測定はガラス
電極を用いて行った。導電性は、導電率の測定には4端
子法、表面抵抗の測定には2端子法を用いた。撹拌動力
の測定は撹拌機の消費電力より求めた。なお、ここで言
う撹拌動力とは、シール損失等を引いた重合溶液に実際
にかかる動力を示す。
を0℃で4mol/l濃度のトリエチルアミンの水:ア
セトニトリル3:7溶液30mlに溶解し、ペルオキソ
二硫酸アンモニウム100mmolを含む水:アセトニ
トリル3:7溶液100ml中に冷却下で滴下した。こ
のときのモノマー溶液滴下速度は100mmol/h
r、攪拌動力0.7kw/m3 反応時の最高到達温度は
モノマー滴下0.5当量時で、15℃であった。また、
反応系内のpHは滴下開始時がpH3、滴下終了時がp
H1.5であり、pH最低値1.0を示した際のモノマ
ー滴下当量は0.6当量であった。滴下終了後25℃で
12時間更に攪拌したのち、反応生成物を遠心濾過器に
て濾別後、メチルアルコールにて洗浄後乾燥し、重合体
粉末17gを得た。このものの体積抵抗値は0.2S/
cmであった。また、この重合体中に含まれる、残留モ
ノマーである2−アミノアニソール−4−スルホン酸は
0.2%、副生塩であるトリエチルアミン硫酸塩は、
0.05%であった。
温で攪拌溶解し導電性組成物を調製した。このようにし
て得られた溶液をガラス基板上にスピンコート法により
塗布し、100℃で乾燥させた。膜厚0.2μm表面の
平滑な表面抵抗値3×104Ω/□のフィルムが得られ
た。測定の結果、数平均分子量MN25000、重量平
均分子量MW27000、Z平均分子量28000、分
散度MW/MN=1.08、MZ/MW=1.04であ
った。
水溶液または0.1mol/lのアンモニア水に、ポリ
マーを少量ずつ加えて溶解しなくなったところで濾過
し、溶解量を求めたところ、実施例1にて合成した導電
性ポリマーの溶解性は、 水 370mg/ml 0.1モル/リットルの硫酸水溶液 310mg/ml 0.1モル/リットルのアンモニア水 420mg/ml であった。
olを10℃で4mol/l濃度のトリメチルアミンの
水:アセトニトリル5:5溶液25mlに溶解し、ペル
オキソ二硫酸アンモニウム100mmolを含む水:ア
セトニトリル5:5溶液100ml中に冷却下で滴下し
た。このときのモノマー溶液滴下速度は50mmol/
hr、攪拌動力1.0kw/m3 、反応時の最高到達温
度はモノマー滴下0.4当量時で、20℃であった。ま
た、反応系内のpHは滴下開始時がpH3、滴下終了時
がpH2であり、pH最低値1.0を示した際のモノマ
ー滴下当量は0.4当量であった。滴下終了後25℃で
12時間更に攪拌したのち、反応生成物を遠心濾過器に
て濾別後、メチルアルコールにて洗浄後乾燥し、重合体
粉末13gを得た。このものの体積抵抗値は0.18S
/cmであった。また、この重合体中に含まれる、残留
モノマーである2−メチル−4−アミノベンゼンスルホ
ン酸は0.5%、副生塩であるトリメチルアミン硫酸塩
は、0.1%であった。
ナス3℃で2mol/l濃度のトリエチルアミンの水:
アセトン3:7溶液500mlに溶解し、ペルオキソ二
硫酸アンモニウム1molと硫酸1gを含む水:アセト
ン3:7溶液1000ml中に冷却下で滴下した。この
ときのモノマー溶液滴下速度は1mol/hr、攪拌動
力1.5kw/m3 、反応時の最高到達温度はモノマー
滴下0.7当量時で、20℃であった。また、反応系内
のpHは滴下開始時がpH1、滴下終了時がpH1であ
り、pH最低値0.8を示した際のモノマー滴下当量は
0.7当量であった。滴下終了後25℃で12時間更に
攪拌したのち、反応生成物を遠心濾過器にて濾別後、メ
チルアルコールにて洗浄後乾燥し、重合体粉末750g
を得た。このものの体積抵抗値は0.25S/cmであ
った。また、この重合体中に含まれる、残留モノマーで
ある2−アミノアニソール−4−スルホン酸は0.15
%、副生塩であるトリエチルアミン硫酸塩は、0.1%
であった。
molをマイナス3℃で4mol/l濃度のトリエチル
アミンの水:イソプロパノール3:7溶液1250ml
に溶解し、ペルオキソ二硫酸アンモニウム5molと塩
酸1gを含む水:イソプロパノール7:3溶液4000
ml中に冷却下で滴下した。このときのモノマー溶液滴
下速度は2mol/hr、攪拌動力0.1kw/m3 、
反応時の最高到達温度はモノマー滴下0.2当量時で、
10℃であった。また、反応系内のpHは滴下開始時が
pH1、滴下終了時がpH1.4であり、pH最低値
0.9を示した際のモノマー滴下当量は0.7当量であ
った。滴下終了後25℃で12時間更に攪拌したのち、
反応生成物を遠心濾過器にて濾別後、メチルアルコール
にて洗浄後乾燥し、重合体粉末14gを得た。このもの
の体積抵抗値は0.15S/cmであった。また、この
重合体中に含まれる、残留モノマーであるヒドロキシア
ミノベンゼンスルホン酸は0.2%、副生塩であるトリ
エチルアミン硫酸塩は、0.1%であった。
molを5℃で、2mol/l濃度のピリジンの水:メ
チルアルコール3:7溶液50mlに溶解し、ペルオキ
ソ二硫酸アンモニウム100mmolを含む水:メチル
アルコール3:7溶液100ml中に冷却下で滴下し
た。このときのモノマー滴下速度は50mmol/h
r、撹拌動力0.8kw/m3 、反応時の最高到達温度
は、モノマー滴下0.5当量で、13℃であった。ま
た、反応系内のpHは、滴下開始時がpH3、滴下終了
時がpH3であり、pH最低値1.5を示した際のモノマ
ー滴下当量は0.5当量であった。滴下終了後25℃で
12時間更に撹拌したのち、反応生成物を遠心濾過器に
て濾別後、メチルアルコールにて洗浄後乾燥し、重合体
粉末8gを得た。このものの体積抵抗値は0.1S/c
mであった。また、この重合体中に含まれる、残留モノ
マーであるアントラニル酸は0.2%、副生塩であるピ
リジンの硫酸塩は,0.1%であった。
を25℃で、4mol/l濃度のアンモニア水溶液30
mlに溶解し、その中へペルオキソ二硫酸アンモニウム
100mmolを含む水溶液100mlを滴下した。こ
のときの酸化剤滴下速度は100mmol/hr、撹拌
動力0.1kw/m3 、反応時の最高到達温度は、酸化
剤滴下0.2当量時の55℃であった。また、反応系内
のpHは、滴下開始時がpH11、滴下終了時がpH3で
あり、pH最低値1.5を示した際の酸化剤滴下当量は
0.2当量であった。滴下終了後25℃で12時間更に
撹拌したのち、反応生成物を濾過器にて濾別洗浄後乾燥
し、重合体粉末8gを得た。このものの体積抵抗値は<
0.0001S/cmであった。また、この重合体中に
含まれる、残留モノマーである2―アミノアニソールー
4―スルホン酸は6%、副生塩である硫酸アンモニウム
は8%であった。
温で撹拌溶解し導電性組成物を調製した。このようにし
て得られた溶液をガラス基板上にスピンコート法により
塗布し、100℃で乾燥させたが、均一な膜は得られな
かった。得られた膜の導電性は1×109 Ω/□であっ
た。分子量測定の結果、数平均分子量MN1400、重
量平均分子量MW8000、Z平均分子量3300、分
散度MW/MN=5.7であった。
molを25℃で、6mol/l濃度のピペリジン水溶
液50mlに撹拌溶解し、その中へペルオキソ二硫酸ア
ンモニウム100mmolを含む水溶液100mlを滴
下した。このときの酸化剤滴下速度は50mmol/h
r、撹拌動力0.3kw/m3 、反応時の最高到達温度
は、酸化剤滴下0.3当量時で35℃であった。また、
反応系内のpHは、滴下開始時がpH12、滴下終了時
がpH7であり反応は塩基性下で進行した。また、pH最
低値7になった際の酸化剤滴下当量は0.3当量であっ
た。滴下終了後25℃で12時間更に撹拌したのち、反
応生成物を濾過器にて濾別洗浄後乾燥し、重合体粉末3
gを得た。このものの体積抵抗値は0.001S/cm
であった。また、この重合体中に含まれる、残留モノマ
ーであるアントラニル酸は9%、副生塩であるピリジン
の硫酸塩は,7%であった。
リンを既知法(J.Am.Chem.Soc.,(19
91)、113,2665−2666)に従って合成し
た。前記スルホン化ポリアニリン3重量部を100重量
部の0.2モル/リットル硫酸水溶液に室温にて攪拌溶
解し導電性組成物を調製した。このようにして得られた
溶液をガラス基材上にスピンコート法により塗布した
が、0.2モル/リットルの硫酸水溶液に不溶性であっ
たため、膜は形成されなかった。
ともに、高純度、且つ分子量分布が単分散に近い、如何
なるpHの水または有機溶剤に対しても優れた溶解性を
示すアニリン系ポリマーが得られる。また、本反応では
副反応が生じにくいため、不純物や、オリゴマー成分が
生成しにくく、この結果、平均分子量が向上し、導電性
が大きく向上し、且つ色調、成膜性も改善された高導電
性で高純度なアニリン系ポリマーを簡便な製造法で得る
ことができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 は水素、炭素数
1〜24の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜2
4の直鎖または分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、
ニトロ基およびハロゲンよりなる群から選ばれ、その少
なくとも一つは酸性基を示す。また、ここで酸性基とは
スルホン酸基またはカルボキシル基を示す。)で表され
る酸性基置換アニリン、そのアルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩、アンモニウム塩および置換アンモニウム塩
よりなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物(イ)
を、塩基性化合物(ロ)と、溶剤(ハ)を含む溶液中で
酸化剤で重合し、一般式(2) 【化2】 (式中、R6 ,R7 ,R8 ,R9 は水素、炭素数1〜2
4の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜24の直
鎖または分岐のアルコキシ基、酸性基、水酸基、ニトロ
基およびハロゲンよりなる群から選ばれ、その内少なく
とも一つは酸性基を示す。また、ここで酸性基とはスル
ホン酸基またはカルボキシル基を示す。)で表される構
造単位を含有する平均重合度n=10以上且つ、重量平
均分子量5000以上であるアニリン系ポリマーを製造
する方法において、上記(イ)に対して酸化剤がモル比
で等モル以上存在している系にて重合を行うことを特徴
とする高導電性アニリン系ポリマーの製造法。 - 【請求項2】 重合系のpHを7以下に保つことを特徴
とする請求項1記載の高導電性アニリン系ポリマーの製
造法。 - 【請求項3】 酸化剤溶液中に酸性基置換アニリン、そ
のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム
塩および置換アンモニウム塩からなる群から選ばれた少
なくとも一種の化合物(イ)、塩基性化合物(ロ)並び
に溶剤(ハ)の混合液を加えることを特徴とする請求項
1または2記載の高導電性アニリン系ポリマーの製造
法。 - 【請求項4】 重合系内にプロトン酸(ニ)を共存させ
て重合することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項
記載の高導電性アニリン系ポリマーの製造法。 - 【請求項5】 重合中の反応温度を50℃以下に保つこ
とを特徴とする請求項1〜4の何れか1項記載の高導電
性アニリン系ポリマーの製造法。
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