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JP2000214506A - 放射光線源及び撮像システム - Google Patents

放射光線源及び撮像システム

Info

Publication number
JP2000214506A
JP2000214506A JP11312673A JP31267399A JP2000214506A JP 2000214506 A JP2000214506 A JP 2000214506A JP 11312673 A JP11312673 A JP 11312673A JP 31267399 A JP31267399 A JP 31267399A JP 2000214506 A JP2000214506 A JP 2000214506A
Authority
JP
Japan
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radiation
imaging system
thz
conversion member
frequency
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11312673A
Other languages
English (en)
Inventor
Donald Dominic Arnone
ドナルド・ドミニク・アーノン
Craig Michael Ciesla
クライグ・マイケル・シーズラ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Europe Ltd
Original Assignee
Toshiba Research Europe Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from GB9824058A external-priority patent/GB2343964B/en
Application filed by Toshiba Research Europe Ltd filed Critical Toshiba Research Europe Ltd
Publication of JP2000214506A publication Critical patent/JP2000214506A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/108Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
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    • H01S3/1106Mode locking
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Abstract

(57)【要約】 【課題】望ましい周波数の出射放射光線が効率的に得ら
れる放射光線源と、これを使用した撮像システムを提供
する。 【解決手段】放射光線源は、1つ若しくは複数の入力ビ
ーム7の照射に応答して放射光線ビーム53を出射する
ための周波数変換部材C2を具備する。出射されたビー
ム53は1つ若しくは複数の入力ビーム7と異なる周波
数を有する。1つ若しくは複数の入力ビーム7は全てレ
ーザ共振器(ミラーM3、M4、M5、M6、及び出力
カップラ23で規定される)内で生成される。周波数変
換部材C2はこのレーザ共振器内に配設される。この放
射光線源を使用して撮像システムが構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は放射光線源及び放射
光線源を使用した撮像システムの分野に関する。より具
体的には、本発明はテラヘルツ(THz)周波数範囲で
駆動される放射光線源に関する。
【0002】
【従来の技術】幾つかの商業的に重要な波長バンドにお
いて電磁放射光線を生成する上で困難さが生じ、その1
つはテラヘルツ周波数範囲、即ち100GHz〜20T
Hzである。
【0003】このような周波数の信号を生成する可能な
方法は、非線形光学効果を使用することである。入射放
射光線で照射される材料内の偏光Pは、材料を励起する
電界Eに関連して、べき級数として次のように表現可能
となる。 P=χ(1) E +χ(2) 2 +χ(3) 3 …… 通常、高次の項は無視できるほど小さいと仮定されるた
め、P∝Eという関係が使用される。この近似は大きな
Eには適用されない。非線形光学はこれらの高次の項に
関係する。
【0004】もし、材料が2つの異なる周波数で照射さ
れると、入力周波数の和(和周波発生として知られ
る)、入力周波数の差(差周波発生として知られる)で
ある周波数を材料が出射することを第2次項が可能とす
る。第2次感受性はまた、材料が単一入力周波数で照射
された時、異なる光学周波数の発生をもたらす。例え
ば、第2高調波発生が自己和発生からもたらされる。光
学パラメトリック変換において、2つの周波数が入力周
波数から発生される。
【0005】更に、第3次項χ(3) 3 もまた、第3高
調波周波数及び他の第3次項を生成するように励起可能
となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、特に差周波
数発生の分野、例えば、2つの可視周波数ωvis1及びω
vis2のビームが、非線形差周波数発生ωTHz =ωvis1
ωvis2を介して、THz放射光線ωTHz に変換される場
合に関する。
【0007】差周波数発生を使用したTHz放射光線の
発生は、商業的に有用なパワーレベルでTHz放射光線
を生成するために、大きなパワー密度の入力放射光線が
必要となるか、或いはTHz信号が増幅されなければな
らないという課題がある。
【0008】ωvis1及びωvis2からωTHz への変換効率
ρは次式で与えられる。
【0009】
【数1】
【0010】ここで、Aはビームの面積、dは第2次非
線形光学係数、ηはωvis における屈折率、Lは非線形
結晶の長さである。また、ここで、ωvis =ωvis1≒ω
vis2であり、Δk=k(ωvis2)−k(ωvis1 )−k
(ωTHz ):(運動量変換を表す)である。
【0011】公知のレーザ共振器の外から、非常に高い
パワー密度をωvis の入力ビームに供給することは困難
で且つ高価となる。増幅器を使用して入力放射光線若し
くは出射THz信号のいずれかを増幅することは光線源
の嵩及びコストを増加させる。これは確かに寸法及びコ
ストを増加させ、可能性のある商業的適用におけるTH
z撮像システムの普及を現在妨げている。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような問題
に鑑みてなされ、第1の視点において放射光線源が適用
され、これは、1つ若しくは複数の入力ビームの照射に
応答して放射光線ビームを出射するための周波数変換部
材を具備し、前記出射されたビームは前記1つ若しくは
複数の入力ビームと異なる周波数を有することと、前記
1つ若しくは複数の入力ビームは全てレーザ共振器内で
生成されると共に、前記周波数変換部材は前記レーザ共
振器内に配設されることと、を特徴とする。
【0013】本発明において、周波数変換部材は1つ若
しくは複数の入力ビームのレーザ共振器内に実際に配置
され、従って、共振器内構造という用語が使用される。
従って、入力ビームの高パワーはレーザ共振器内でアク
セスされ、大きなTHzパワーをもたらし、ここで、高
い入力ビームパワーを実現するために共振器の外に配設
された嵩張り且つ高価な増幅器に頼る必要がない。
【0014】以下の説明において、1つ若しくは複数の
入力ビームはωvis1、ωvis2等、より一般的にはωvis
の周波数を有するものとして言及され、何故なら一般的
にω vis1≒ωvis2である。出射ビームはωTHz の周波数
を有するものとして言及される。しかし、THz信号が
出射されることが望ましいが、他の波長の放射光線も、
本発明の放射光線源を使用することにより生成可能であ
ることを容易に理解できるであろう。特に、放射光線
は、中赤外(20THz〜90THz)、近赤外(90
THz〜300THz)及びミリメートル波/マイクロ
波周波数(100GHz〜10GHz)を含むことがで
きる。ミリメートル波から中赤外の範囲の周波数の強力
な成分を伴う広いバンド幅の信号が本発明により達成可
能で、これは撮像及び分光学において広範囲の応用が可
能となる。
【0015】レーザ共振器内のωvis の入力ビームの強
度は、このレーザ共振器の外側におけるその値を(1−
R)-1だけ超え、ここで、Rは入力ビーム自身のための
共振器内のミラー(ωvis における)の最低反射率であ
る。もしR=1であると、共振器内の強度向上は非常に
大きく、従って、共振器内に周波数変換部材を配置する
ことにより発生されるωTHz のTHzパワーのいずれも
また大幅に増強される。
【0016】本装置は、ωvis に代えてωTHz のレーザ
の総使用可能パワーを抽出すると共に、100%の変換
効率を得られるように配設可能となる。
【0017】しかし、レーザ共振器内に配設された周波
数変換部材は、ωvis において共振器内で追加のロスを
必然的にもたらす。これは、共振器内におけるパワー密
度(P(ωvis ))の現象をもたらす。
【0018】入力ビーム(レーザ)共振器内のミラーの
一方は出力カップラに相当し、入力ビームの殆どを反射
してレーザ共振器中へ戻し、ωvis における共振器内の
レーザ作用可能とする(他の成分と共に)。周波数変換
部材が挿入された時に生じる共振器内のωvis における
パワーのいかなるロスもキャンセルするように、出力カ
ップラの反射率が変化(増加)される。もしωvis で入
力ビームパワーが必要でないと、出力カップラの反射率
Rは100%に理想的に設定され、ωvis におけるパワ
ーの全てが共振器内に残り、周波数変換部材からのTH
z発生に寄与するようになされる。しかし、多くの実際
の撮像及び分光システムはωvis 及びω THz の両者にお
いてシステムからの出力を必要とし、この場合、望まし
くはRは、ωvis において、90〜100%に設定され
る。
【0019】出力結合手段(カップラ)が、1つ若しく
は複数のビームが最初に周波数変換部材に入る側に対し
て反対側、或いは入る側に配設可能となる。
【0020】パワーの低下が共振器の外へ出るωvis
レーザ出力において生じる。これは、より強力なTHz
光線源を形成する上で、直接の利害事項ではない出力カ
ップラは、出射放射光線に対して実質的にゼロ反射率を
有すると共に1つ若しくは複数の入力ビームの放射光線
に対して高い反射率を有する部材により望ましくは形成
される。望ましくは、この高反射率は90〜100%で
ある。従って、出力カップラは、THz放射光線が共振
器から出るのは可能であるが、入力ビーム放射光線を光
学共振器内に閉じ込め、周波数変換部材から更なるTH
z放射光線を発生させる。
【0021】出力カップラは本発明に係る光線源がTH
z放射光線及び入力ビーム放射光線の両者を出射するこ
とができるように構成される(この利点は本明細書にお
いて撮像システムを参照して後に記述する)。
【0022】望ましくは、出力カップラは、1つ若しく
は複数の入力ビームを発生させるレーザ素子へTHz放
射光線が反射されて戻される前に、THz放射光線が共
振器から出射されるように配設される。
【0023】THz放射光線を生成するため、周波数変
換部材は望ましくは非線形結晶からなり、これは、望ま
しくは、1つ若しくは複数の入力ビームにより提供され
る2つの周波数の差に実質的に等しい周波数を出射する
ように構成される。
【0024】入射放射光線は材料の第2次非線形性を介
して時間依存性の偏光を発生させる。この機構の単純化
された見方は、スプリング上にある材料内の電子を想像
することである。入射放射光線は、入射周波数、それ等
の和及び差に対応する周波数で電子を振動させる。振動
は、スプリング振動の非線形特性により、和及び差周波
数で生じる。
【0025】どの周波数が出射されるかは、基本周波数
における材料の非線形係数と、差周波数における発生/
変換放射光線と非線形偏光との間の位相整合と、に依存
する。
【0026】2つの可視光子ωvis1及びωvis2からのT
Hz発生の効率は、2つのキー材料特性により支配さ
れ、これは以下のように要約される。
【0027】1.第2次感受性χ(2) χ(2) の大きさ
はTHz電界への可視電界の変換強度を決定し、微視レ
ベルの電気ポテンシャルの非対象性の程度に関連する。
これは、発生THzパワーがω THz で発振する材料ρ
(ωTHz )の偏光に比例する事実から明らかで、次の式
により与えられる。
【0028】ρ(ωTHz )∝χ(2) vis1vis2 周波数変換部材として適当な大きなχ(2) を有する結晶
は次の通りである。
【0029】LiIO3 、NH4 2 PO4 、ADP、
KH2 PO4 、KH2 AsO4 、石英、AlPO4 、Z
nO、CdS、GaP、GaAs、BaTiO3 、Li
TaO3 、LiNbO3 、Te、Se、ZnTe、Zn
Se、Ba2 NaNb5 15、AgAsS3 、淡紅銀
鉱、CdSe、CdGeAs2 、AgGaSe2 、Ag
SbS3 、ZnS、BBO、KTP、及びDAST(4
−N−メチルスチルバゾリウム)等の有機結晶。
【0030】2.可視及びTHzフィールドにおける屈
折率(η及びη):これ等は、結晶を通して協調的
に干渉する必要のある、光学的に誘起された非線形偏光
及び発生THz間の位相整合の程度を支配する。η
ηとの間の大きな差を有する材料は低変換光率を伴
う。位相整合は、周波数変換部材により発生されるk
(ωTHz )の運動量のTHz光子と、k(ωvis )にお
ける若しくは近い運動量の可視光子との間で運動量kが
保存されることを保証する。入射放射光線の差周波数か
らのTHz放射光線を発生させる位相整合は次の式によ
り表される。
【0031】Δk=k(ωvis +ωTHz )−k
(ωvis )−k(ωTHz )≒0 光誘起非線形偏光と、発生THz電界とが同一位相にあ
る距離の基準であるコヒーレント長lc は次式で定義さ
れる。 lc =πc/(ωTHz |ηvis −ηTHz |) ここで、ηvis は可視周波数における材料の屈折率であ
り、ηTHz はTHz周波数における材料の屈折率であ
る。
【0032】従って、効率的なTHz発生のために必要
な長いコヒーレント長のためには、ηvis −ηTHz は小
さくなくてはならない。しかし、無機非線形光学材料は
大きな屈折率非整合を有し、従って、lc は数ミクロン
よりも大きくないであろう。
【0033】従って、本発明に係る前記周波数変換部材
は更に、前記1つ若しくは複数の入力ビームによる照射
に応答して前記周波数変換部材内を伝播する、少なくと
も2つの異なる周波数の信号の間の位相整合を増強する
ための位相整合手段を具備し、前記位相整合手段は、前
記入力放射光線ビームのある方向成分に沿ってその屈折
率において空間的変化を有することが望ましい。
【0034】ある材料は、複屈折特性による位相整合を
先天的にある程度有する。この場合、同材料の少なくも
ある長さに亘って位相整合が達成可能となる。しかし、
位相整合をある程度可能とし、従って、材料を周波数コ
ンバータとして完全に作用させるような複屈折若しくは
他の特性を、大きな光学非線形性を伴う多くの材料は有
していない。
【0035】望ましくは、前記位相整合手段は、異なる
周波数における屈折率の変化を減少するように、前記周
波数変換部材内に配設される。
【0036】或いは、若しくは屈折率の空間的変化に加
えて、前記位相整合手段は、前記1つ若しくは複数の入
力ビームの軸に沿った、周波数変換非線形係数の周期的
変調によっても実現することができる。
【0037】望ましくは、2つの周波数成分を提供する
単一入力ビームが存在する。これはパルスレーザにより
達成可能となる。望ましくは、パルスレーザは10fs
〜10psのパルス幅を有する。
【0038】周波数変換部材によるロスは、入力放射光
線の偏光及び周波数のため、もし周波数変換部材がブル
ースター角でカットされると、減少させることができ
る。代わりに、周波数変換部材はωvis におけるロスを
減少させるように非反射被覆を施すことができる。望ま
しくは、周波数変換部材もまた、光子吸収等の機構によ
るωTHz における吸収が最小の材料からなる。
【0039】望ましくは、2つの異なる周波数成分がパ
ルスレーザ光線源により提供される。THzへの最適な
変換を得るのに、入力ビーム間のモード整合及びビーム
重複が必要であるため、パルスレーザ光線源が望まし
い。この問題は、もし単一ビームが両周波数成分(ω
vis1及びωvis2)を供給すると、回避することができ
る。また、パルスレーザにより得られるより高い電界
は、偏光項の非線形性(漸進的に小さくなる)にアクセ
スすることを可能とすると共に、パルスレーザにより生
成される放射光線パルスは、広範囲に亘る差周波発生に
とって理想的である、多数の異なる周波数を本質的に含
む。
【0040】本発明の第1の視点に係る放射光線源は特
にTHz撮像システムにおいて有用である。従来のTH
z撮像システムは、応用するのに十分に大きいTHzパ
ワーを生成するのに、レーザ共振器外部の増幅器が必要
となるため、嵩張るものであった。このような外部増幅
器は、嵩張り、非常に高価で、且つ操作が非常に難し
い。更に、このような増幅器の追加は、パルス繰返し周
波数の低下をもたらし、これは、THz撮像及びその品
質に関連する信号対ノイズ比を低下させる。これ等の視
点は、寸法、コスト、使用容易性、像品質、及び像獲得
時間に関連し、THz撮像の広範囲な使用を妨げてい
た。従って、本発明の第1の視点に係る光線源を使用す
る撮像システムは、当該システムが、(a)よりコンパ
クトである、(b)より安価である、(c)よりユーザ
フレンドリである、(d)より高いパルス繰返し周波数
及びより高いTHzパワーレベル故に、より良好な信号
対ノイズ比を提供可能である、(e)より速いデータ獲
得時間を提供可能で、ビデオフレームレートでTHz像
の収集が可能となる、等の重要な利点を提供する。
【0041】従って、第2の視点において、本発明は放
射光線源及び検出器を具備する撮像システムを提供し、
前記放射光線源は、1つ若しくは複数の入力ビームの照
射に応答して放射光線ビームを出射するための周波数変
換部材を具備し、前記出射されたビームは前記1つ若し
くは複数の入力ビームと異なる周波数を有することと、
前記1つ若しくは複数の入力ビームは全てレーザ共振器
内で生成されると共に、前記周波数変換部材は前記レー
ザ共振器内に配設されることと、を特徴とする。
【0042】前記放射光線源は、本発明の第1の視点を
参照して述べたように構成可能であることが理解できる
であろう。撮像システムは、基本的に3つ主セクショ
ン、即ち、撮像用放射光線(THzビーム及び可視検出
ビーム)を生成する発生セクション、サンプルの像形成
を行うための撮像セクション、及び撮像セクションを一
旦通過した放射光線を検出するための検出セクション、
を具備する。発生セクションは、本発明の第1の視点に
係る光線源により提供される。
【0043】望ましくは、透過光学系に関連する下記の
ロスを最小化するように、透過光学系に代えて可能なミ
ラーが使用される。
【0044】(i)誘電体(例えばエアとレンズとの)
界面における振幅パターン歪曲及び周波数依存性屈折ロ
ス、(ii)周波数依存性吸収ロス、(iii)ある角
度におけるレンズ表面上のパワーの低下による光電界分
布の歪曲及び回折効果。
【0045】望ましくは、THz放射光線は軸外れ放物
面(OAP)ミラーによってサンプル上へ導かれる。こ
のようなミラーにおいて、ミラーの表面を横切る入射及
び反射ビーム間に一定の位相差が存在する。
【0046】より望ましくは、偶数のOAPミラーが使
用され、これ等の各隣接対はそれ等の焦点距離の合計だ
け離間される。この構成において、列の第2ミラーから
の反射後、ビームウエストの寸法(ビーム軸に直角な方
向の最小ビーム径)は周波数独立となる。これはまた、
ミラーの配列内に偶数の光学素子が存在するとして、ミ
ラーの配列の最後の光学素子についてもいえる。
【0047】THzパルスは多数の周波数成分から形成
され、パルス内の全てのTHz周波数のために撮像ビー
ムの寸法は一定に維持することが必要であるため、この
構成はTHz撮像にとって特に有利である。同様な考慮
は、撮像の主題である対象物から収集されたTHz放射
光線を検出セクションに導くためにも適用される。
【0048】代わりに、若しくはOAPミラーに加え
て、コンデンサコーンも使用可能で、これは、黄銅若し
くは銅からなり、内側が高度に研磨され、電解メッキ及
び/または金/銀蒸着コーティングが付設される。これ
等は、撮像されるサンプルの隣に望ましくは配置され
る。より望ましくは、サンプルの数波長内、即ち50〜
100μm内である。望ましくは、コーンは約2mmの
入口開口径と50〜100μmの出口開口とを有する。
【0049】レンズもまた追加可能で、望ましくは、こ
れ等は、非分散材料、例えば、高密度ポリエチレン(H
DPE)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、
及び高抵抗シリコン、から選択される。これ等の材料
は、THzパルスの時間的広がりを回避するように非分
散性のものであることが望ましい。
【0050】望ましくは、撮像システムは、撮像される
サンプルを支持する駆動ステージを具備する。ステージ
はビーム軸に直交する2方向において可動であることが
望ましい。
【0051】望ましくは、検出器は非線形結晶で、AC
ポッケルス効果を使用してTHz放射光線を検出するよ
うに構成される。ここで、検出器は、THzビームの照
射に応答して第1入力ビームの偏光ベクトルを回転さ
せ、回転された偏光ベクトルを伴うビームを出射するよ
うに構成される。
【0052】第1入力ビームは参照ビームとして考える
ことができ、第2ビームは検出されたビームである。検
出器へ入る前、参照ビーム及び検出ビームの偏光は、こ
れ等が互いに平行で且つ変調領域の通常光軸及び異常光
軸の両者に沿った成分を有するように、回転される。
【0053】参照ビーム及び検出ビームは、望ましく
は、検出器へ入る前に直線偏光される。しかし、これら
の一方若しくは両者は円偏光も可能となる。
【0054】検出器は、検出されるべきビーム(もし存
在すれば)が参照ビームの偏光をある角度回転させるよ
うに構成される。もし検出ビームが存在しなければ、参
照ビームは、これが検出器結晶を通過する間、幾分楕円
に偏光する可能性がある。この効果を補償するため、検
出器結晶から出射されたビームは、望ましくは、光学修
正回路に通される。
【0055】望ましくは、光学修正回路は直線(若しく
は楕円)偏光ビームを円偏光ビームに変換する。
【0056】出射された直線(若しくは楕円)偏光ビー
ムは、望ましくは、可変リターデーション波長板、例え
ば1/4波長板により円偏光ビームに変換される。望ま
しくは、この円偏光ビームは、次に、円偏光の放射光線
を2つの直線成分に分割する偏光分波器(例えばウォラ
ストンプリズム)に導入される。もし検出ビームが存在
しないと、これ等の直性成分は等しい。もし検出ビーム
が存在すると、これ等の直性成分は互いに等しくない。
【0057】望ましくは、プリズムからの2つの出力ビ
ームは、平衡化分割フォトダイオードアセンブリに入射
され、これは、2つのビーム間で大きさの相違がある場
合、非ゼロ出力信号を生成する。
【0058】代わりに、参照ビームは検出器へ入る前に
円偏光化可能である。これは、参照ビームが検出器に入
る前の参照ビームの通路上に、可変リターデーション波
長板を配設すると共に、もし可変リターデーション波長
板が1/4波長板であれば、1/2波長板により、検出
器の後の可変リターデーション波長板を置換えることに
より、達成可能となる。検出されるべきビーム(もし存
在すれば)は、円偏光された参照ビームを楕円偏光ビー
ムに変える。楕円偏光ビームは次に、上述のウォラスト
ンプリズム等により2つの成分に分離される。
【0059】プリズム及び平衡化分割フォトダイオード
構成の変更例は、2つの直交ニコル偏光子を検出器の各
側に使用する。参照ビームは第1の偏光子を通され、T
Hzビームと共に検出結晶を透過される。もしTHzビ
ームが存在すると、参照ビームの偏光は、第2偏光子の
透過方向にビームが成分を有するように、回転される。
もしTHzビームが存在しないと、参照ビームの偏光は
回転されず、従って、第2偏光子によりブロックされ
る。
【0060】参照ビームは、望ましくは、発生セクショ
ンにより生成される。像情報を担持する放射光線は、次
に、参照ビームを使用して検出器により検出される。望
ましくは、入力ビーム及び参照ビーム間の時間変化を提
供する制御システムが配設される。この制御システムは
発生若しくは参照ビーム通路のいずれかに挿入可能とな
る。
【0061】この制御システムは駆動ミラーを具備可能
で、これは、参照ビームの光路長を増加若しくは減少さ
せるために、ビーム軸に沿って前後に振動可能である。
【0062】このシステムはまた、検出システムに入る
前に、参照ビームの断面積を拡大するための光学系も具
備することができる。望ましくは、参照ビームの断面積
は撮像用放射光線のそれより大きく、撮像ビーム断面の
全てが検出されることが保証されるようにする。検出セ
クションはまた、参照ビームの面積以上の検出面積を有
するCCDカメラを具備することができる。従って、C
CDカメラは2次元像を読み、撮像中にサンプルを動か
す必要がない。
【0063】代わりに、制御システムは、参照ビームの
パルス幅を伸長するように構成されたグレーティング対
を具備することができる。光学ファイバケーブルもま
た、参照ビームのパルス幅を伸長するように構成可能と
なる。これ等は、パルス参照ビームの異なる波長成分
が、非常に異なる時間で検出結晶を通過するようにす
る。
【0064】検出セクションは波長を分散させるため、
グレーティング分光計を具備することができる。検出セ
クションはまた、分光計からの空間的分布を記録するた
め、CCDカメラを具備することができる。
【0065】差周波数発生若しくは検出のいずれかのた
めの良好な非線形特性を有する可能な材料は、GaAs
若しくはSi系半導体である。より望ましくは、結晶構
造が使用される。以下に、他の可能な材料の例を示す。
【0066】NH4 2 PO4 、ADP、KH2
4 、KH2 AsO4 、石英、AlPO 4 、ZnO、C
dS、GaP、BaTiO3 、LiTaO3 、LiNb
3 、Te、Se、ZnTe、ZnSe、Ba2 NaN
5 15、AgAsS3 、淡紅銀鉱、CdSe、CdG
eAs2 、AgGaSe2 、AgSbS3 、ZnS、及
びDAST(4−N−メチルスチルバゾリウム)等の有
機結晶。
【0067】一般的に、非中心対称結晶が第2次非線形
効果のために使用される。第3次非線形効果は、種々の
異なる結晶において強度の変化を伴って見出される。
【0068】
【発明の実施の形態】図1は従来のパルスレーザを示
し、例えば、ここでは、レーザ媒体としてTi:サファ
イア結晶C1に基づくパルスレーザの概略を示す(T
i:サファイアに代わる結晶の例として、Cr:LiS
aF及びCr:LiSGaF:Cr:YAG及びCr:
ホルステライトが含まれる。代わりに、光学ファイバに
基づく共振器も可能である)。レーザ結晶C1はレーザ
共振器1内に収容され、レーザ共振器1は一端のダイク
ロイックミラーM4と他端の出力カップラ9とにより規
定される。ポンプビーム3はレーザ結晶C1へ導かれ
る。ポンプビーム3はレーザ結晶C1内で遷移を励起
し、結晶C1は次にコヒーレント光ビーム、即ち入力ビ
ーム7を出射する。入力ビーム7はダイクロイックミラ
ーM3、M4及び出力カップラ9により結晶C1へ反射
されて戻され、結晶C1内で更なる遷移を励起し、結晶
C1は更に、周波数ωvis の入力ビーム7でコヒーレン
ト放射光線を出射する。
【0069】ポンプビーム3はブルースター窓5を透過
し、ミラーM4及び出力カップラ9により規定されるレ
ーザ共振器1中へ、ステアリングミラーM1、M2を介
して導かれる。ポンプビーム3はミラーM3、M4を通
過可能で、これ等により反射されない。結晶C1により
生成された入力ビーム7はミラーM3、M4及び出力カ
ップラ9により結晶へ反射されて戻される。入力ビーム
7の通路内の種々の光学成分を通してビームを操作する
と共に集束させるため、他のミラーも共振器内に配設す
ることができる。この例において、ポンプビーム3は緑
で、入力ビームは赤である。ミラーM3は、結晶C1
と、遠い側で出力カップラ9により終端すると共に近い
側でミラーM4により終端するレーザ共振器11の残り
と、の間で入力ビーム7を操作するように配置される。
【0070】出力カップラ9は90〜100%の反射率
Rを有し、その正確な値は本発明の特定の適用により決
まる。適度に増強されたレベルのωTHz におけるTHz
放射光線が取扱可能であると共に、参照ビームのために
ωvis における出力も必要な撮像システムにおいて、R
は約90%で維持されることが望ましい。最大量のTH
zパワーが必要な適用において、R≒100%が使用さ
れる。この特定の例において、Rは約90%である。こ
れは、出力カップラ9に到達する光の90%が共振器中
へ反射されて戻され、入力ビームの10%が共振器から
出ることを意味する。これは共振器1内のパワーを維持
する。
【0071】このような出力カップラ9は、ωvis の入
力ビームにおいて、500mWの平均出力レベル及び7
5kWのピークパワーを達成することができる。共振器
内パワー(共振器内の一方向パワー)は750kWのオ
ーダである(5ワットの平均パワー)。平均パワーレベ
ルが10〜100mW若しくはそれ未満の、THz撮像
のために使用される電気光学的検出システムが典型的に
は利用される。従って、Rは非常に増加し、より大きな
値の共振器内パワーP(ωvis )をもたらす。従って、
THz撮像システムにおいて使用されるTHz放射光線
の電気光学的検出に必要な、妥当な程度の出力パワー
(pextωvis ))を維持しながら、増強されたP
(ωTHz )が達成可能となる。
【0072】レーザはまたモードロック手段11を有す
る。例えば、この手段11はレーザ共振器内でロスの周
期的変調を生成する音響光学的変調器とすることができ
る。この変調器の周波数は、往復周波数、即ちc/2L
により規定されるレーザ共振器のwrt、の半分である。
ここで、cは光の速度、Lは共振器の長さである。これ
は、wrtのレーザから安定した一連のパルスを生成す
る。当業者であれば、使用可能な代替モードロック構成
を見出すことができるであろう。
【0073】レーザ共振器内の正の群速度分散効果はパ
ルスの時間的な広がり若しくはチャーピングをもたら
す。レーザ共振器内に負の群速度分散を導入することに
より、パルス持続期間を制御するため、パルス幅調節及
び波長調整手段10が配設される。一例は、レーザ共振
器パルスに負の群速度分散を提供するように配設された
4つのプリズムを使用し、これらプリズムは波長選択も
可能なように配設される。代替の設計は共振器内のチャ
ープド誘電体ミラーを使用し、ここで、ミラーコーティ
ングが必要な負の群速度分散に対応する。ミラーコーテ
ィングはまた、レーザ波長を決定する。分散制御に続い
て、数ps〜少数fsの範囲のパルス幅達成され、69
0〜1000nmの範囲に亘る、典型的には800nm
を中心とする、典型的な可視/近赤外波長が可能とな
る。
【0074】図2は周波数変換部材C2を収容するよう
に変更された図1の共振器を示す。C1からのコヒーレ
ント入力ビーム7の発生は図1で記載したそれと同一で
ある。従って、その詳細はここで再記しない。
【0075】出力カップラ9に代え、第2出力カップ2
3が配設される。この出力カップラは入力ビーム7に対
して95〜100%の反射率を有する一方、必要なTH
z出力に対してゼロの反射率で100%の透過率を有す
る。入力ビーム7は、ステアリングミラー25を介して
出力カップラ23へ、正常外入射において反射される。
【0076】出力カップラは入力ビーム7を非線形結晶
である結晶C2へ反射する。入力ビーム7はレンズL1
を介して結晶C2上で集束される。結晶C1から出射さ
れた入力ビーム7は、ミラーM3、M4、M5、M6、
及び出力カップラ23により規定される閉鎖ループ内で
反射される。従って、共振器は、両結晶C1、C2へ入
力ビーム7を反射し続け、ミラーM3、M4、M5、M
6、及び出力カップラ23により規定される共振器内の
パワーを維持する。
【0077】結晶C2から出射されたTHz放射光線は
出力カップラ23を介して伝送される。出力カップラ2
3はTHz放射光線に対してゼロの反射率を有するべき
であり、何故なら、THz放射光線が共振器内で結晶C
1へ反射して戻されるのは望ましくなく、また、できる
だけ多くのTHz信号を抽出することが望ましいからで
ある。
【0078】出力カップラ23は、理想的にはωTHz
放射光線を弱めることなく通す一方、共振器内の高いP
(ωvis )を確保するようにωvis で高反射率を有する
ようなダイクロイックミラーとすることができる。
【0079】出力カップラのための可能な材料は、高度
に研磨されたシリコン若しくは誘電体被覆シリコン、G
e/Zn/Sコーティング等を有するzカット石英を含
む。入射角は可視及び/またはTHz放射光線のために
正常な表面に対して平行でないようにすることができ
る。THzビームは可視ビームよりも直径が大きくなり
やすいため、zカット石英基板上に載置された反射防止
コーティングを有する出力カプラの中心に、小径(<2
mm)銀(若しくは他の金属性の)層を使用することが
可能である。銀ミラーは、基本のパワーの全てを反射す
る(R(ωvis )=100%)一方、大きなTHzビー
ムの殆どがその周りを通過する(R(ωTH z )≒0%)
のに十分な小さな径を有する。
【0080】C2は大きな第2次非線形係数を有する非
線形結晶で、パルス入力ビーム7の2つの周波数成分の
差である周波数を出射するように構成される。ここで、
結晶は、レーザ共振器の外部で励起された時、THz波
長への可視波長光の良好な変換効率を有するものとして
示されていたZnTeからなる。従って、共振器の外部
に配置された周波数変換結晶のための、ωvis における
可視範囲内の約300mWの入力パワーレベルのため
に、THz内の数μWの平均パワーレベルが生成され
る。更に、共振器内の結晶により、より高いパワーレベ
ルが達成される。
【0081】ロスを最小化するため、C2は、可視放射
光線ωvis1及びωvis2の偏光及び周波数のため、ブルー
スター角でカットされる。代わりに、若しくはブルース
ター角でのカットに加えて、C2はこれらのロスを最小
化するように反射防止コーティング可能である。
【0082】ZnTeは結晶C2のために良い材料であ
り、何故なら、ZnTeは、超高速レーザであるTi:
サファイアの中心波長であるところの、800nmにお
ける透明性及び光子吸収等の機構において、ωTHz にお
いて最小の吸収を有するからである。代わりに、GaA
sが透明な波長において駆動されるパルスレーザ光線源
と共に、GaAsが使用可能で、例えば、Cr:LiS
aF、若しくはCr:YAGが結晶C1のために使用可
能である。
【0083】C2の長さもシステムのために最適化され
るべきである。位相整合周波数変換は結晶の全長に亘っ
て最適に生じる。実際には、有用な長さは、光誘起非線
形偏光と、発生THz電界とが同一位相にある距離の基
準であるコヒーレント長lcによって与えられ、これは
次式で定義される。 lc =πc/(ωTHz |ηvis −ηTHz |) 光学系L1及びM6は入力ビーム7が結晶C2上に集束
されるように配設される。これ等及び他の部品の配置
は、結晶C2内で入力及びTHzビームの空間的ウオー
クオフ(walk-off)がないように設定される。この後者
の点は、空間モードの高品質が保証されると共に、長い
相互作用長に有利であり、即ち全距離lcが利用される
ことを保証する。L1は、ωTHz において可能な限り非
吸収/非反射であり、また、ωvis のために反射防止コ
ーティングされる。このような反射防止コーティング付
きTPX若しくはzカット石英の材料は、L1のような
ダイクロイック透過光学系の可能な候補である。
【0084】図12は図2の光線源の変更例を示す。ミ
ラーM6が出力カップラとして使用され、図2の出力カ
ップラ23の必要性を排除している。これは、可視パル
スがC2を最初に通る際に、これにより出力THzパル
スが発生されるようにする。
【0085】図2において、可視パルスがC2を2回通
る際に、これにより2つのTHzパルスが発生される。
ある場合、これ等のパルスは破壊的に干渉し合い、従っ
て、THzジェネレータの効率を低下させる。図12は
この問題に対処している。更に、THzパルスは、共振
器を出る前に、ミラーM6(即ち単一素子)を通過する
だけであり、従って、ωTHz における吸収効果及び分散
を減少させる。
【0086】図13は図2及び図12の更なる変更例を
示す。この構成は、パルス分散/長さ及び波長を制御す
るため、共振器1内でチャープド誘電体ミラーMC1、
MC2を使用し、従って、図2のパルス長調節手段10
の必要性を排除している。図13において、ミラーMC
1、MC2は、パルスを短くするのに必要な負の群速度
分散を生成するように、チャープド誘電体コーティング
を有する。モードロック手段11は依然必要である。
【0087】図2、図12、及び図13において、2つ
の周波数がビーム7によって提供される。これ等は2つ
の別のビームを使用することにより生じる問題に光明を
与える。例えば、V Petrov and F. Seifert Optic lett
er, 19, 40-42 (1994)を参照する。ここで、2つのパル
スレーザが使用され、ωvis1及びωvis2の2つのビーム
が異なる起源から生じ、即ち、同じビームの部分ではな
いという事実により、非最適化ビームオーバーラップに
よる問題が見出されている。この設計はまた、ビームの
一方(例えばωvis1)が共振器内に起源せず、従って、
ωvis1において可能なパワーが大幅に低下し、異なる周
波数放射光線のパワーに、対応の低下が生じるという問
題も抱えている。
【0088】このTHz光線源はTHz撮像システムに
おいて使用可能である。図3はTHz撮像システムの基
本構成を示す。このシステムは、3つのセクション、即
ち、発生セクション(ジェネレータ)31、撮像セクシ
ョン33、及び検出セクション35に単純化される。可
視パルスレーザ37により供給されるTHzエミッタを
使用することにより、発生セクション31内でTHz放
射光線が発生される。
【0089】THzビーム39が発生セクション31か
ら出射され、撮像セクション33のサンプル41へ導か
れる。THzビーム39は次に、更なる光学系45を介
して、検出セクション35に導かれる。図3のシステム
は、近接場撮像システムの例で、ここで、撮像されるサ
ンプルはTHz光線源の直ぐ陰に配置される。
【0090】検出セクションは、可視光信号及びACポ
ッケルス効果を介して、検出されたTHz信号内に担持
される情報を読む。この可視光は理想的にはビームスプ
リッタ47を介してレーザ37から得られる。時間遅延
ライン34を介して時間遅延がTHzパルスに付加され
る。このシステムはコンピュータ36により制御される
(即ちサンプル41の動作の制御、時間遅延34、及び
検出信号処理)。
【0091】ACポッケルス効果の詳細は、図5を参照
して詳述される。
【0092】本発明に係る撮像システムは図4を参照し
て記述される。ここで、単純化のため、システムの検出
部分の詳細は省略する。これ等は図5を参照して記述さ
れる。
【0093】THz発生セクションはボックス51内の
成分により示される。発生システム51の個々の成分は
図2、図12、図13を参照して記述済みである。従っ
て、これ等の詳細は図4の記載から省略する。撮像シス
テムは発生セクション51から出射されるTHzパルス
及び可視光パルスの両者を必要とする。従って、出力カ
ップラ23は、いくらかの可視放射光線がTHz発生セ
クション51から出射されるように、可視放射光線に対
して100%反射率を有するべきではない。
【0094】発生システムからの出射THzビーム53
及び可視ビーム55はビームスプリッタ57に入射す
る。このビームスプリッタ57はTHzビーム53の透
過を許容するが、可視光ビーム55をミラー59へ反射
し、ミラー59はビーム55を光学遅延ライン61へ反
射する。遅延されたビーム55は次に、THz検出ユニ
ット63へ入力される。
【0095】THzビーム53は撮像セクション52中
で且つサンプル65上へ、THz撮像光学系67を介し
て導かれる。サンプル65は駆動X−Y並進ステージ
(図示せず)上に配置され、サンプル65の全てが撮像
されるようになされる(X−Y平面はビーム軸に直交す
る)。サンプルからの撮像情報を担持するTHz放射光
線69は、THz撮像光学系71を介して、THz検出
システム63中へ反射される。
【0096】THz放射光線69と共に、可視放射光線
55の存在は、単一窒素パージユニット内で実施される
撮像及び電気光学的検出を可能とする。
【0097】サンプル65は、PCコンピュータ(図示
せず)により制御されるX−Y駆動並進ステージ(図示
せず)上に載置される。対象物の各セクション(画素)
が次に撮像される。この技術の空間解像度を改良するた
め、軸外れ放物面ミラー、コンデンサコーン、及びレン
ズが、回折限界点へビームを集束させるために使用可能
となる。コンデンサコーンの近接場にサンプルを載置す
ることにより、回折限界は克服され、約50μmの空間
解像度が達成可能となる。撮像システムは、検出回路の
性質及び撮像される対象物の性質に依存し、このような
対象物を伴ってまたは伴わずに機能する。撮像セクショ
ンのこれらの変更例は図6乃至図9を参照して記述され
る。
【0098】図5は検出システムの詳細を示す。撮像情
報を担持するTHzビーム69及び可視光ビーム55は
THz検出システムに入力される。可視光ビーム55は
検出結晶73に入射する参照ビームとして機能する。参
照ビーム55は直線偏光され、この偏光は検出結晶73
の通常及び異常光軸の両者に沿った成分を有するように
配向される。これ等の軸は、結晶73の通常及び異常光
軸に沿って夫々別の屈折率no 及びne を有する。第2
(THz)放射光線ビーム69がない場合、直線偏光参
照ビーム55は、その偏光に無視できる程度の変化を伴
って検出結晶73を通過する。
【0099】ここで明確にしたい点は、偏光が回転され
る角度Θが無視できる程度であることである。しかし、
直線偏光ビームは僅かに楕円となることができる。この
効果は可変リターデーション波長板、例えば1/4波長
板81により補償される。
【0100】出射ビーム77は1/4波長板81を使用
して円偏光ビーム83に変換される。次に、ウォラスト
ンプリズム79(若しくは直交偏光成分を分離する等価
のデバイス)により、これが2直線偏光ビームに分割さ
れ、偏光ビームの2つの直交成分が平衡化分割フォトダ
イオード85へ導かれる。平衡化分割フォトダイオード
信号は、2つのダイオード間の出力の差がゼロとなるよ
うに、波長板81を使用して調節される。
【0101】しかし、検出器73が、参照ビームだけで
なく、第2次ビーム69(この場合、THz範囲の周波
数のビーム)も検出すると、偏光が回転される角度Θは
無視できない程度となる。これは、THz電界が、軸n
e 、no の1つに沿って可視(基本)放射光線の屈折率
を変更するからである。これは検出器73後の可視フィ
ールドが楕円となることをもたらし、従って、プリズム
79により分離された偏光成分は等しくなくなる。出力
ダイオード間の電圧の差は検出電圧を付与する。
【0102】参照ビーム55及びTHzビーム69は、
結晶を通過する間は同位相にあるべきである。そうでな
いと、偏光回転Θが不明確となる。従って、検出結晶7
3は明確な信号を生成するように位相整合手段を有す
る。
【0103】図6は完成したTHz撮像システムを示
す。検出セクション63及びTHz発生セクション51
の個々の成分は図2、図12、図13及び図5を参照し
て記述済みであり、従って、これ等については再記しな
い。
【0104】図6図示の全ての部材は36インチ×36
インチの寸法の光学ブレットボード上に配置される。必
要な唯一の外部ユニットはダイオードレーザのための電
源及び発生セクション51のための冷却ユニットであ
る。
【0105】撮像セクション91は、X−Y平面上を、
即ち、THz放射光線の入射ビームに直角な2つの直交
軸に沿って可動な駆動ステージを有する。
【0106】撮像セクション91は2つのミラーM11
及びM12を有する。ミラーM12はTHzビーム53
をサンプル65へ導く。ミラー11は、サンプル65を
透過するTHz放射光線を検出結晶73へ反射するよう
に配置される。ミラーM11、M12は軸外れ放物面
(OAP)ミラーである。このようなミラーは、入射及
び反射ビーム間の位相差がミラー上の全ての点において
同じであるように構成される。軸外れ放物面をもたらす
パラメータはミラーの焦点長により特徴付けられる。
【0107】光学遅延セクション93もまた示される。
発生セクションから出射された可視光ビームはビームス
プリッタ57により遅延セクション93へ反射される。
遅延セクション93はビーム軸に沿って可動なコーナー
キューブミラーM9を有する。ビームはミラーM8を介
してコーナーキューブミラーM9へ導かれる。ビームは
コーナーキューブミラーM9からミラーM10へ反射さ
れる。コーナーキューブミラーM9は数10Hzの振動
周波数でビーム方向に沿って前後に振動される。これ
は、必要に応じて、可視ビーム55の通路長を増加及び
減少する。ClarkODL-150システムがミラーを駆動するた
めに使用可能で、これは150psの遅延が可能であ
る。次に、出射ビームはミラーM11で出射THzビー
ムと組合わされる。代わりに、THz及び可視ビーム
は、ビームスプリッタ、例えばペリクルビームスプリッ
タを使用して共直線的に組合わせ可能となる。このよう
なデバイスはM11の前または後に配置可能で、M11
内の穴の必要性を排除する。
【0108】図7は図6の撮像セクション91の変更例
を示す。THzビーム53が伝送される延長通路長は、
水蒸気を除去し、従って像の品質を向上させるため、窒
素でパージされる。
【0109】THz周波数領域内の長い波長に関連する
回折効果により、THzビーム53及び撮像付与の断面
寸法は十分に大きくなく、これは平行平面であるものと
して取扱われる。もし回折効果が、スカラーフィールド
分布により代表可能であるように放射光線が近軸である
とすると、ガウスビームモード光学系及び光学技術が使
用可能となる。システム設計の最も単純なケースは、基
本モードがビームプロファイルを支配すると仮定するこ
とである。従来のTHz放射光線及びシステム(フーリ
エ変換機、遠赤外レーザ、若しくはGunnダイオード)に
適用されるガウスモード光学系及び設計は、THz撮像
システムに適用可能で、重要である。
【0110】良好な品質の像を得るため、THz撮像シ
ステムを構成する時、多数の設計ルール若しくはガイド
ラインに従うべきである。レンズ等の透過光学系のた
め、焦点距離に対するレンズの厚さ及び焦点距離に対す
る径の比が0.2未満であることを保証することによ
り、幾何的ロスは最小に維持される。もしこれが満足さ
れると、レンズ内のロスは、吸収及び反射によるものが
主となる。この場合、材料の選択が重要となる。
【0111】パルシステムにおいて生じる必要条件は、
パルスの広がりが生じないように材料が非分散的である
ことである。これ等の必要条件が与えられると、高密度
ポリエチレン(HDPE)、ポリテトラフルオロエチレ
ン(PTFE)、高抵抗シリコン(Si)、及びTPX
等が最高の材料であり、また、旋盤により加工可能であ
る。THz周波数で低吸収及び低分散を組合わせるいか
なる材料も、その形状がレンズを作成するのに適してい
ることを条件として、透過光学系を作成するための望ま
しい候補となる。レンズの反射ロスはTHz周波数にお
いて周波数に強く依存するようになる。従って、パルス
バンド幅に亘る全ての周波数が同じ反射(及び吸収)ロ
スを受けることが保証されるように、レンズ設計に留意
する必要がある。
【0112】理想的には、透過光学系に関連する下記の
ロスを含むロスの数を最小とするため、透過光学系(レ
ンズ)に代えることが可能な場合は常に反射光学系(ミ
ラー)が使用される。(i)誘電体(例えばエアとレン
ズとの)界面における振幅パターン歪曲及び周波数依存
性屈折ロス、(ii)周波数依存性吸収ロス、(ii
i)ある角度におけるレンズ表面上のパワーの低下によ
るフィールド分布の歪曲及び回折効果。
【0113】撮像における重要な別の特性(ガウスモー
ドビーム光学系に特定されず)は、もし2つのミラーが
それ等の焦点距離の合計だけ離間されると、第2ミラー
からの反射後の光軸上における、ビームウエストの寸法
(ビーム軸に直角な方向の最小ビーム径)は周波数独立
となる。これはまた、ミラーの配列内に偶数の集束素子
が存在するとして、ミラーの配列の最後のミラー(集束
素子)についてもいえる。これはTHz撮像にとって特
に有利であり、何故なら、パルスは広範囲の周波数成分
から形成され、また、種々(x、y)の点において且つ
パルス内の全てのTHz周波数において、像が記録され
る間、光軸上の固定位置に対象物を維持することが望ま
しいからである。これは、THzパルスのスペクトル範
囲(バンド幅)が中赤外及びより高い周波数へ増加する
ことから、THz撮像にとって特に重要である。
【0114】図7のシステムは1/eの直径を有するビ
ーム(ビームの基本ガウスモード)を生成し、同直径は
THz周波数範囲のサンプルにおいて1〜2mmである
(例えば300GHz、直径2mm)。図6の2つのミ
ラーと異なり、図7のシステムにおいて、6つのミラー
と2つのレンズとが使用される。図7のビーム方向は図
6のそれと逆である。撮像セクションにおいて、ビーム
はまず反射されて第1OAPミラー101を離れて第2
OAPミラー103へ進み、次に第3OAPミラー10
5へ進む。第2及び第3OAPミラー103、105
は、夫々250nmの焦点距離を有する。これ等は50
0nm離間される。
【0115】ビームは第3OAPミラー105から、焦
点距離10mmで直径10mmの平凸レンズ107へ反
射される。第3OAPミラー105は平凸レンズ107
から260nm(即ち、これらの焦点距離の合計)だけ
離間される。レンズ107はポリエチレン若しくは高抵
抗Siから形成される。レンズ107は、サンプル10
9が載置される駆動ステージ(図示せず)から10mm
の距離に配置される。ビームは、焦点距離の合計だけ互
いに離間された偶数の集束光学系及びミラー(101、
103、105、及び107)を通過する。従って、サ
ンプルにおけるビームウエストは周波数独立となる。こ
こで、約300GHz(0.30THz)の周波数範囲
における周波数に依存せず、ビーム径は2mmに選択さ
れる。
【0116】一旦ビームがサンプル65を通過すると、
透過THz放射光線は第2平凸レンズ111へ入射す
る。平凸レンズ107、111は光学特性が同一であ
る。レンズ111はTHz放射光線を第4OAPミラー
113へ集束させる。第4OAPミラー113は250
mmの焦点距離を有し、THzビームを第5OAPミラ
ー115へ反射する。第5OAPミラー115もまた2
50mmの焦点距離を有し、第4OAPミラー113か
ら500mm(即ち、第4及び第5OAPミラーの焦点
距離の合計)だけ離間して配置される。
【0117】ビームは第5OAPミラー115から第6
OAPミラー117へ反射される。第6OAPミラーは
30mmの焦点距離を有し、第5OAPミラーから28
0mm(即ち、第5及び第6OAPミラーの焦点距離の
合計)だけ離間して配置される。
【0118】第6OAPミラー117には穴119が形
成される。可視光ビーム55はこの穴を通され、検出の
ためにTHzビーム69と組合わされる。
【0119】空間解像度の更なる改良は、コンデンサコ
ーン(黄銅若しくは銅からなり、内側が高度に研磨さ
れ、電解メッキ及び/または金/銀蒸着コーティングが
付設される)を、図8図示の如く、撮像されるサンプル
に隣接して挿入することにより達成可能となる。図8に
おいて、コンデンサコーン121、123が、サンプル
125の各側で、サンプル125と平凸レンズ127、
129の夫々との間に配置される。平凸レンズは図7を
参照して述べたものと同じである。これ等は10mmの
焦点距離を有し、コンデンサコーン121、123から
10mmの距離に配置される。コーンは2mmの典型的
な入口開口と50〜100μmの出口開口とを有する。
【0120】サンプル125は、コンデンサコーン12
1の出口開口から数波長内、例えば約100μm内に典
型的には配置され、回折限界スポット寸法より小さいサ
ンプルにおけるTHzスポット寸法を実現するため、近
接場撮像技術が使用可能となるようにされる。
【0121】設計のその他の利点は、ビームウエスト寸
法が開口入口で周波数から独立し、パルス内の全ての周
波数がコンデンサコーン中へ適合することである。
【0122】平凸レンズ127、129、コンデンサコ
ーン123、121、及びサンプル125は、OAPミ
ラー131、133間に配置される。これ等のミラーは
250mmの焦点距離を有する。THzビーム53はO
APミラー131から平凸レンズ127へ反射され、平
凸レンズ127によりコンデンサコーン121へ集束さ
れる。ビーム53はコンデンサコーンの最も広い開口を
通して入り、最も狭い開口を通して出て、サンプル12
5へ至る。一旦ビーム53がサンプル125を通過する
と、これは、コンデンサコーン123に入り、その最も
狭い開口を通してコンデンサコーン123を出て、平凸
レンズ129へ至る。次に、ビームはOAPミラー13
3から検出結晶73へ反射される。OAPミラー133
は穴135を有する。ジェネレータからの可視光はミラ
ー133においてTHzビーム69と組合わされる。図
8の光学的構成は、図7の構成のように、多数の他のミ
ラーと共に使用することもできることに留意すべきであ
る。しかし、種々の異なる焦点距離がミラー133、1
31のために可能である。
【0123】また、ここで使用されるコンデンサコーン
の構成は、既に説明したビーム寸法及びミラー配置に類
似のガイドラインを使用して、図7のシステムへ容易に
挿入することができる。
【0124】また、2つの軸外れ放物面ミラーのみを利
用する、図9のような類似のカップリングシステムが可
能であることに留意すべきである。これ等は、ビームの
通路長を減少させ、従って、ビーム通路内の水蒸気若し
くは他の吸収ガスによるロスを最小にする。しかし、周
波数独立ビームウエストを形成するため及び/またはよ
り高い空間解像度を実現するため、透過光学系が必要と
なる。
【0125】図9において、THzビーム53がOAP
ミラー141からサンプル143へ反射される。OAP
ミラー141の焦点距離は30mmで、サンプル143
はOAPミラー141から30mmの距離に配置され
る。必要であれば、図8で記述したレンズやコンデンサ
コーン等の更なる光学成分がミラー141とサンプル1
43との間に追加可能である。
【0126】一旦ビーム53がサンプル143を通過す
ると、これは撮像情報を書込まれ、ビーム69となる。
ビーム69はOAPミラー145から検出結晶へ反射さ
れる。OAPミラーには穴147が形成され、これは、
検出のために可視ビーム55がTHzビーム69と混合
されることを可能とする。
【0127】図10は撮像の別の例を示す。発生及び撮
像セクションは図2、図12、図13、図3、図4及び
図6乃至図9を参照して記述済みである。これ等成分の
詳細についてはここで再記しない。図10において、図
6の遅延セクションが、グレーティング対若しくは光学
ファイバ151に置換され、これは可視パルスをチャー
プし、その時間幅を50fsから20psへ伸長する。
可視パルス内の異なる波長成分は異なる時間で検出結晶
73を通過する。
【0128】従って、グレーティング分光計153が波
長を空間的に分散するために使用され、また、CCDカ
メラ155が空間的分散を記録するために使用される
時、(例えば)X方向の各画素は、異なる波長及び、従
って、異なる時間に対応する。その結果、CCD155
上のX方向の所与の画素列は、検出結晶73内を共伝播
すると共に、パルス中の異なる時間において異なる量だ
け可視ビームの偏光を回転させ、THzビームの時間依
存波形を効果的に測定する。従って、撮像される対象物
中の透過は、CCDアレイの一方向に沿った時間の関数
としてプロットされる。従って、参照ビーム55の偏光
の回転は、検出結晶73の各側に配置された直交ニコル
偏光子161、163により測定される。
【0129】撮像された対象物は次に、2次元THz像
を発展させるため、一般的な方法で、並進ステージ上で
Y方向に移動される。代わりに、プローブビームが円筒
形レンズによりサンプル上のライン(例えばX方向が4
00μm、Y方向が10mm)に集束される場合、サン
プルのY軸に沿ったTHz透過がCCDのY方向に沿っ
た画素により測定可能で、即ち、並進ステージのY方向
の動作に頼ることなく、Y方向において対象物を撮像す
るため、CCDのY画素が次に使用可能となる。次に、
並進ステージをX方向に移動することにより、像の全て
が完成する。もし、より高い信号対ノイズ比に影響する
ように、この共振器内設計において十分なTHzパワー
が可能であれば、これ等の能力の両者(CCDのX軸に
沿った時間遅延の測定、及び機械的動作無しのY軸方向
の撮像情報)は、より速い獲得時間をもたらす。その結
果、よりコンパクトなシステムにおいて、より速いデー
タの獲得及びより安いコストの可能性が得られる。
【0130】このシステムの主な利点は、並進ステージ
のような移動部分無しですばやくデータが獲得できるこ
とである。このシステムを使用すると、(a)対象物の
Y方向に沿った撮像、及び(b)時間遅延の形成で制限
されていた、時間領域のサンプリング、の両者が非常に
速く、後は、CCDカメラの速度と、像の適当な信号対
ノイズ比(SNR)を得るようにカメラから出力される
多数のフレームを平均化する必要性とのみにより制限さ
れる。上記後者は、この技術の応用及び、従って、リヤ
ルタイム撮像の実現を制限する主な原因である。1/4
波長板がCCDへ総プローブパワーの半分ほどの強さの
バックグランド光を導入することから、図5に概略が示
される平衡化分割フォトダイオード検出機構が最早使用
できないという事実により、低SNRが部分的にもたら
される。このシナリオにおける小信号検出は、もしCC
Dカメラが使用されると、光子ショットノイズにより克
服される。カメラにおける「周囲」光レベルを減少させ
るため、直交ニコル偏光子が使用され、ここで、CCD
上の信号はTHz電界が無いとゼロに低下する。このよ
うな検出システムはCCDのために最適であるが、特
に、後者の場合にロックイン検出が使用されると、図5
のシステムのような高い信号対ノイズ比を提供しない。
【0131】このSNRの問題を克服するため、再生増
幅器(図示せず)が使用され、これにより、非線形的に
THzパルスを発生させる光学ピークパワーを押上げ、
大きなTHz強度がもたらされる。しかし、このような
システムは多くの欠点を抱えている。再生増幅器は非常
に高価(約2000万円)であると共に、大きくて嵩張
る。また、増幅器を駆動する第2ポンプレーザが必要と
なる。更に、このようなシステムは低反復率(50Hz
〜250kHz)で運転され、平均パワーの相対的低下
をもたらす。ここで設計される明るい共振器内光線源は
これらの欠点を全て克服する。この共振器内設計は、従
って、ビデオフレームレート(約38フレーム/秒)で
のTHz像、即ち、所謂「THzムービー」を実現する
のに十分に高い信号対ノイズ比で、十分に速くデータを
獲得することができるTHz撮像システムの実現への大
きな一歩となる。
【0132】図11は図10の撮像システムの別の例を
示す。図11において、(図10の)駆動ステージが冗
長となる。代わりに、CCDカメラ155の撮像エリア
が検出結晶73の撮像エリアと整合する。このエリアは
典型的には数mm2 である。参照ビーム55が光学系1
70(例えば、望遠若しくは類似の光学系)により拡張
され、参照ビームがTHzビームよりも大きな断面積を
有し、理想的にはCCDカメラ155内の全ての画素を
満たすようにされる。(X−Y平面内のサンプル65を
透過するTHzパワーに比例する)X−Y平面内の参照
ビームの回転された偏光の分布が、CCDカメラの画素
に転写され、CCD若しくはCCDカメラ155の出力
に取付けられたコンピュータスクリーン(図示せず)上
に、対象物のTHz像が現れるようになる。このシステ
ムの時間遅延は光学遅延ライン(図6を参照して記述し
た)により形成される。これは本システムの唯一の機械
的動作部分である。
【0133】
【発明の効果】本発明によれば、望ましい周波数の出射
放射光線が効率的に得られる放射光線源と、これを使用
した撮像システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】モードロックパルスレーザを示す概略図。
【図2】本発明の第1の視点に係る放射光線源を示す
図。
【図3】テラヘルツ撮像システムを示す概略図。
【図4】本発明の第2の視点に係る撮像システムを示す
図。
【図5】図3図示の撮像システムと共に使用可能な検出
セクションを示す概略図。
【図6】図5図示の検出セクションを伴う図4図示の撮
像システムを示す図。
【図7】図6図示の撮像セクションの変更例を示す図。
【図8】図6図示の撮像セクションの変更例を示す図。
【図9】図6図示の撮像セクションの変更例を示す図。
【図10】本発明の第2の視点に係る撮像システムの別
の実施の形態を示す図。
【図11】本発明の第2の視点に係る撮像システムの更
に別の実施の形態を示す図。
【図12】本発明の第1の視点に係る放射光線源を示す
図。
【図13】本発明の第1の視点に係る放射光線源を示す
図。
【符号の説明】
1…レーザ共振器 3…ポンプビーム 7…入力ビーム 23…出力カップラ 25…ステアリングミラー C1…レーザ結晶 C2…周波数変換部材結晶 M3、M4、M5、M6…ミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ドナルド・ドミニク・アーノン イギリス国、シービー4 0ダブリュイ ー、ケンブリッジ、ミルトン・ロード、ケ ンブリッジ・サイエンス・パーク 260、 ケンブリッジ・リサーチ・ラボラトリー トーシバ・リサーチ・ヨーロップ・リミテ ッド内 (72)発明者 クライグ・マイケル・シーズラ イギリス国、シービー4 0ダブリュイ ー、ケンブリッジ、ミルトン・ロード、ケ ンブリッジ・サイエンス・パーク 260、 ケンブリッジ・リサーチ・ラボラトリー トーシバ・リサーチ・ヨーロップ・リミテ ッド内

Claims (38)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1つ若しくは複数の入力ビームの照射に応
    答して放射光線ビームを出射するための周波数変換部材
    を具備し、前記出射されたビームは前記1つ若しくは複
    数の入力ビームと異なる周波数を有することと、前記1
    つ若しくは複数の入力ビームは全てレーザ共振器内で生
    成されると共に、前記周波数変換部材は前記レーザ共振
    器内に配設されることと、を特徴とする放射光線源。
  2. 【請求項2】前記周波数変換部材は光学的非線形部材で
    あることを特徴とする請求項1に記載の放射光線源。
  3. 【請求項3】前記周波数変換部材は、前記1つ若しくは
    複数の入力ビームの2つの周波数成分の差に実質的に等
    しい周波数の放射光線を出射するように構成されること
    を特徴とする請求項2に記載の放射光線源。
  4. 【請求項4】前記周波数変換部材は、100GHz〜2
    0Thzの範囲の周波数の放射光線を出射するように構
    成されることを特徴とする請求項3に記載の放射光線
    源。
  5. 【請求項5】2つの周波数成分を有する単一入力ビーム
    が提供されることを特徴とする請求項1乃至4のいずれ
    かに記載の放射光線源。
  6. 【請求項6】前記単一入力ビームはパルスビームである
    ことを特徴とする請求項5に記載の放射光線源。
  7. 【請求項7】前記パルスビームは10fs〜10psの
    範囲のパルス幅を有することを特徴とする請求項6に記
    載の放射光線源。
  8. 【請求項8】前記周波数変換部材は、LiIO3 、NH
    4 2 PO4 、ADP、KH2 PO 4 、KH2 As
    4 、石英、AlPO4 、ZnO、CdS、GaP、G
    aAs、BaTiO3 、LiTaO3 、LiNbO3
    Te、Se、ZnTe、ZnSe、Ba2 NaNb5
    15、AgAsS3 、淡紅銀鉱、Cd、Se、CdSe、
    CdGeAs2 、AgGaSe2 、AgSbS3 、Zn
    S、BBO、KTP、DAST(4−N−メチルスチル
    バゾリウム)、及びL4 NbO3 の少なくとも1つを具
    備することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記
    載の放射光線源。
  9. 【請求項9】前記周波数変換部材は、前記1つ若しくは
    複数の入力ビームによる照射に応答して前記周波数変換
    部材内を伝播する、少なくとも2つの異なる周波数の信
    号の間の位相整合を増強するための位相整合手段を具備
    し、前記位相整合手段は、前記1つ若しくは複数の入力
    ビームのある方向成分に沿ってその屈折率において空間
    的変化を有することを特徴とする請求項1乃至8のいず
    れかに記載の放射光線源。
  10. 【請求項10】前記周波数変換部材は結晶性で、前記1
    つ若しくは複数の入力ビームの周波数成分の1つのため
    にブルースター角でへき開されることを特徴とする請求
    項1乃至9のいずれかに記載の放射光線源。
  11. 【請求項11】前記周波数変換部材は、前記1つ若しく
    は複数の入力ビームの周波数成分の1つにおける反射を
    低下させるように配設された反射防止コーティングを有
    する請求項1乃至10のいずれかに記載の放射光線源。
  12. 【請求項12】前記レーザ素子を照射する前記出射ビー
    ムを停止するために素子が配設されることを特徴とする
    請求項1乃至11のいずれかに記載の放射光線源。
  13. 【請求項13】前記出射ビームを透過すると共に、前記
    1つ若しくは複数の入力ビームを反射することができる
    出力カップラが配設されることを特徴とする請求項1乃
    至12のいずれかに記載の放射光線源。
  14. 【請求項14】前記出力カップラは、前記出射ビームに
    対して実質的に0%の反射率を有し、前記1つ若しくは
    複数の入力ビームに対して90〜100%の反射率を有
    することを特徴とする請求項13に記載の放射光線源。
  15. 【請求項15】前記出力カップラは、前記1つ若しくは
    複数の入力ビームが最初に前記周波数変換部材に入る側
    に対して反対の、前記周波数変換部材の側上に配置され
    ることを特徴とする請求項13または14に記載の放射
    光線源。
  16. 【請求項16】前記光線源は、前記周波数変換部材から
    出射されるビームと少なくとも1つ若しくは複数の入力
    ビームの両者を出射するように構成されることを特徴と
    する請求項1乃至15のいずれかに記載の放射光線源。
  17. 【請求項17】対象物及び検出器へ撮像用放射光線ビー
    ムを供給するための請求項1乃至16のいずれかに記載
    の光線源を具備することを特徴とする撮像システム。
  18. 【請求項18】撮像される対象物を支持するための駆動
    ステージを具備することを特徴とする請求項17に記載
    の撮像システム。
  19. 【請求項19】前記撮像用放射光線は、少なくとも1つ
    の軸外れ放物面ミラーによりサンプル上へ導かれること
    を特徴とする請求項17または18に記載の撮像システ
    ム。
  20. 【請求項20】前記撮像用放射光線は、偶数の軸外れ放
    物面ミラーによりサンプル上へ導かれ、前記ミラーの各
    隣接対はそれ等の焦点距離の合計だけ離間されることを
    特徴とする請求項19に記載の撮像システム。
  21. 【請求項21】コンデンサコーンを更に具備することを
    特徴とする請求項17乃至20のいずれかに記載の撮像
    システム。
  22. 【請求項22】前記コンデンサコーンはサンプルから5
    0〜150μm内に配置されることを特徴とする請求項
    21に記載の撮像システム。
  23. 【請求項23】高密度ポリエチレン(HDPE)、ポリ
    テトラフルオロエチレン(PTFE)、及び高抵抗シリ
    コンの1つ若しくは複数から形成されたレンズ更に具備
    することを特徴とする請求項17乃至22のいずれかに
    記載の撮像システム。
  24. 【請求項24】前記検出器は非線形結晶を具備すること
    を特徴とする請求項17乃至23のいずれかに記載の撮
    像システム。
  25. 【請求項25】前記周波数変換部材により出射されるも
    のとは異なる波長を有する参照ビームを使用して、前記
    非線形結晶により前記撮像用放射光線が検出されること
    を特徴とする請求項24に記載の撮像システム。
  26. 【請求項26】前記参照ビームは1つ若しくは複数の入
    力ビームに対応することを特徴とする請求項25に記載
    の撮像システム。
  27. 【請求項27】前記非線形結晶は、前記撮像用放射光線
    が入射されると、前記参照ビームの偏光平面を回転させ
    るように構成されることを特徴とする請求項25または
    26に記載の撮像システム。
  28. 【請求項28】前記参照ビームの偏光の回転は、波長
    板、プリズム及び平衡化分割フォトダイオードアセンブ
    リにより検出されることを特徴とする請求項27に記載
    の撮像システム。
  29. 【請求項29】前記参照ビームの偏光の回転は、前記非
    線形結晶の前後に配置された2つの直交ニコル偏光子に
    より検出されることを特徴とする請求項27に記載の撮
    像システム。
  30. 【請求項30】前記参照ビームのための遅延手段を更に
    具備することを特徴とする請求項25乃至29のいずれ
    かに記載の撮像システム。
  31. 【請求項31】前記遅延手段は、前記参照ビームの光路
    長を増加若しくは減少させるために振幅可能なミラーを
    具備することを特徴とする請求項30に記載の撮像シス
    テム。
  32. 【請求項32】前記参照ビームのパルス幅を増加させる
    ための手段を更に具備することを特徴とする請求項25
    乃至29のいずれかに記載の撮像システム。
  33. 【請求項33】前記パルス幅を増加させるための手段は
    グレーティング対を具備することを特徴とする請求項3
    2に記載の撮像システム。
  34. 【請求項34】前記パルス幅を増加させるための手段は
    光学ファイバを具備することを特徴とする請求項32に
    記載の撮像システム。
  35. 【請求項35】グレーティング分光計を更に具備するこ
    とを特徴とする請求項32乃至34のいずれかに記載の
    撮像システム。
  36. 【請求項36】CCDカメラを更に具備することを特徴
    とする請求項35に記載の撮像システム。
  37. 【請求項37】前記検出器の結晶における前記撮像用放
    射光線の断面積よりも大きくなるように、前記参照ビー
    ムの断面積を増加させるように、光学素子が配設される
    ことを特徴とする請求項25乃至34のいずれかに記載
    の撮像システム。
  38. 【請求項38】前記参照ビームの断面積と同程度の検出
    面積を有するCCDカメラを更に具備することを特徴と
    する請求項37に記載の撮像システム。
JP11312673A 1998-11-03 1999-11-02 放射光線源及び撮像システム Pending JP2000214506A (ja)

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