JP2000213724A - ごみ焼却炉の制御方法及び装置 - Google Patents
ごみ焼却炉の制御方法及び装置Info
- Publication number
- JP2000213724A JP2000213724A JP11015255A JP1525599A JP2000213724A JP 2000213724 A JP2000213724 A JP 2000213724A JP 11015255 A JP11015255 A JP 11015255A JP 1525599 A JP1525599 A JP 1525599A JP 2000213724 A JP2000213724 A JP 2000213724A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- combustion gas
- target value
- concentration
- gas temperature
- incinerator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Incineration Of Waste (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】クロロベンゼン類および/またはクロロフェノ
ール類を指標としたダイオキシン抑制制御において、低
い濃度レベルのダイオキシン抑制を可能にする。 【解決手段】ごみ焼却炉の燃焼ガス中の炭化水素類およ
び/またはクロロベンゼン類および/またはクロロフェ
ノール類の目標値と燃焼ガスの滞留時間と燃焼ガス中の
酸素濃度とから燃焼ガス温度の目標値を設定し、前記排
ガス温度が前記目標値となるよう操作量を決定する。
ール類を指標としたダイオキシン抑制制御において、低
い濃度レベルのダイオキシン抑制を可能にする。 【解決手段】ごみ焼却炉の燃焼ガス中の炭化水素類およ
び/またはクロロベンゼン類および/またはクロロフェ
ノール類の目標値と燃焼ガスの滞留時間と燃焼ガス中の
酸素濃度とから燃焼ガス温度の目標値を設定し、前記排
ガス温度が前記目標値となるよう操作量を決定する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般廃棄物および
産業廃棄物を焼却処理するごみ焼却炉の運転制御方法お
よび運転制御装置に関する。
産業廃棄物を焼却処理するごみ焼却炉の運転制御方法お
よび運転制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ごみ焼却炉の燃焼制御技術に関する従来
技術としては、特開平10−220727号公報に記載されたも
のがある。この従来技術では、クロロベンゼン類および
/またはクロロフェノール類の濃度を計測し、その濃度
と酸素濃度および/または炉内温度に基づいて焼却炉へ
のごみの供給量および/または空気量の過不足を判定
し、ごみの供給量および/または空気量を調整してい
る。クロロベンゼン類および/またはクロロフェノール
類はCOに比べ、よりダイオキシンとの相関が強いと言
われている。したがって、クロロベンゼン類および/ま
たはクロロフェノール類の濃度を指標とした従来技術
は、COを指標としたダイオキシン抑制制御に比べ、よ
り低レベルにダイオキシンを抑制することができる可能
性がある。なお、上記および以下の説明において「およ
び/または」の表現は、どちらか一方または両方を意味
する。
技術としては、特開平10−220727号公報に記載されたも
のがある。この従来技術では、クロロベンゼン類および
/またはクロロフェノール類の濃度を計測し、その濃度
と酸素濃度および/または炉内温度に基づいて焼却炉へ
のごみの供給量および/または空気量の過不足を判定
し、ごみの供給量および/または空気量を調整してい
る。クロロベンゼン類および/またはクロロフェノール
類はCOに比べ、よりダイオキシンとの相関が強いと言
われている。したがって、クロロベンゼン類および/ま
たはクロロフェノール類の濃度を指標とした従来技術
は、COを指標としたダイオキシン抑制制御に比べ、よ
り低レベルにダイオキシンを抑制することができる可能
性がある。なお、上記および以下の説明において「およ
び/または」の表現は、どちらか一方または両方を意味
する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、燃焼ガ
ス中のクロロベンゼン類およびクロロフェノール類の燃
焼過程とCOの燃焼過程では異なる点がある。第1の違
いは燃焼速度である。クロロベンゼン類および/または
クロロフェノール類の燃焼速度は、COの燃焼速度に比
べて極端に遅い。例えば、ガス温度が900℃程度の条
件で99%燃焼させる場合、COの場合は、ほぼ瞬時に
燃焼するのに対して、クロロフェノールは秒オーダーの
時間が必要となる。第2の違いはガス中の酸素濃度によ
る影響である。CO濃度は酸素濃度による影響を受けや
すく、酸素濃度が減少するとCO濃度が著しく増加する
場合がある。それに対し、クロロベンゼン類および/ま
たはクロロフェノール類の濃度はCOに比べると、酸素
濃度による影響が小さい。
ス中のクロロベンゼン類およびクロロフェノール類の燃
焼過程とCOの燃焼過程では異なる点がある。第1の違
いは燃焼速度である。クロロベンゼン類および/または
クロロフェノール類の燃焼速度は、COの燃焼速度に比
べて極端に遅い。例えば、ガス温度が900℃程度の条
件で99%燃焼させる場合、COの場合は、ほぼ瞬時に
燃焼するのに対して、クロロフェノールは秒オーダーの
時間が必要となる。第2の違いはガス中の酸素濃度によ
る影響である。CO濃度は酸素濃度による影響を受けや
すく、酸素濃度が減少するとCO濃度が著しく増加する
場合がある。それに対し、クロロベンゼン類および/ま
たはクロロフェノール類の濃度はCOに比べると、酸素
濃度による影響が小さい。
【0004】上記従来技術では、このような特性の違い
を考慮していないため、非常に低い濃度レベルのクロロ
ベンゼン類および/またはクロロフェノール類に対して
は、十分に抑制することができない可能性がある。すな
わち、非常に低い濃度レベルのダイオキシンに対しては
その抑制効果が十分ではない可能性がある。
を考慮していないため、非常に低い濃度レベルのクロロ
ベンゼン類および/またはクロロフェノール類に対して
は、十分に抑制することができない可能性がある。すな
わち、非常に低い濃度レベルのダイオキシンに対しては
その抑制効果が十分ではない可能性がある。
【0005】また、上記従来技術では、クロロベンゼン
類および/またはクロロフェノール類の濃度を指標とし
ているが、ダイオキシンの発生にはその他にも影響を及
ぼす因子があると推察される。
類および/またはクロロフェノール類の濃度を指標とし
ているが、ダイオキシンの発生にはその他にも影響を及
ぼす因子があると推察される。
【0006】本発明の目的は、上記課題を解決し、ダイ
オキシンの発生をより低レベルに抑制可能な制御方法お
よび制御装置を提供することである。
オキシンの発生をより低レベルに抑制可能な制御方法お
よび制御装置を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の第1の手段は、ごみ焼却装置の制御方法であって、前
記ごみ焼却炉の燃焼ガス中の炭化水素類および/または
芳香族系有機塩素化合物の濃度の目標値と燃焼ガスの滞
留時間及び/または燃焼ガス中の酸素濃度とから燃焼ガ
ス温度の目標値を設定し、前記排ガス温度が前記目標値
となるよう操作量を決定することを特徴とするごみ焼却
炉の制御方法である。
の第1の手段は、ごみ焼却装置の制御方法であって、前
記ごみ焼却炉の燃焼ガス中の炭化水素類および/または
芳香族系有機塩素化合物の濃度の目標値と燃焼ガスの滞
留時間及び/または燃焼ガス中の酸素濃度とから燃焼ガ
ス温度の目標値を設定し、前記排ガス温度が前記目標値
となるよう操作量を決定することを特徴とするごみ焼却
炉の制御方法である。
【0008】上記課題を解決するための第2の手段は、
ごみ焼却炉の制御方法であって、前記ごみ焼却炉の燃焼
ガス温度と燃焼ガスの滞留時間と燃焼ガス中の酸素濃度
から、炭化水素類および/または芳香族系有機塩素化合
物の濃度を求める反応モデルを有し、前記反応モデルか
ら、未燃分を基準値以下に抑制する燃焼ガス温度と燃焼
ガス滞留時間と酸素濃度の関係を求め、前記関係を満た
すように、ごみ焼却炉の操作量を決定することを特徴と
するごみ焼却炉の制御方法である。
ごみ焼却炉の制御方法であって、前記ごみ焼却炉の燃焼
ガス温度と燃焼ガスの滞留時間と燃焼ガス中の酸素濃度
から、炭化水素類および/または芳香族系有機塩素化合
物の濃度を求める反応モデルを有し、前記反応モデルか
ら、未燃分を基準値以下に抑制する燃焼ガス温度と燃焼
ガス滞留時間と酸素濃度の関係を求め、前記関係を満た
すように、ごみ焼却炉の操作量を決定することを特徴と
するごみ焼却炉の制御方法である。
【0009】上記課題を解決するための第3の手段は、
ごみ焼却炉の制御装置であって、前記ごみ焼却炉の燃焼
ガス中の炭化水素類および/または芳香族系有機塩素化
合物の濃度の目標値を決定する未燃分濃度目標値決定部
と、燃焼ガスの滞留時間を決定する燃焼ガス滞留時間計
算部と、前記未燃分濃度目標値決定部で決定された前記
目標値と前記滞留時間計算部で計算された滞留時間とか
ら燃焼ガス温度目標値を計算する計算式により燃焼ガス
温度目標値を計算する燃焼ガス温度目標値計算部と、前
記燃焼ガス温度目標値と前記ごみ焼却炉の燃焼ガス温度
の偏差からごみ焼却炉の操作量を決定する操作量決定部
とを有することを特徴とするごみ焼却炉の制御装置であ
る。
ごみ焼却炉の制御装置であって、前記ごみ焼却炉の燃焼
ガス中の炭化水素類および/または芳香族系有機塩素化
合物の濃度の目標値を決定する未燃分濃度目標値決定部
と、燃焼ガスの滞留時間を決定する燃焼ガス滞留時間計
算部と、前記未燃分濃度目標値決定部で決定された前記
目標値と前記滞留時間計算部で計算された滞留時間とか
ら燃焼ガス温度目標値を計算する計算式により燃焼ガス
温度目標値を計算する燃焼ガス温度目標値計算部と、前
記燃焼ガス温度目標値と前記ごみ焼却炉の燃焼ガス温度
の偏差からごみ焼却炉の操作量を決定する操作量決定部
とを有することを特徴とするごみ焼却炉の制御装置であ
る。
【0010】また、前記計算式のパラメータは、ごみ焼
却炉の運転データのうち、前記計算式の入出力データを
利用して同定してもよい。
却炉の運転データのうち、前記計算式の入出力データを
利用して同定してもよい。
【0011】上記課題を解決するための第4の手段は、
ごみ焼却炉の制御装置において、前記ごみ焼却炉の燃焼
ガス中の炭化水素類および/または芳香族系有機塩素化
合物の濃度の目標値を決定する未燃分濃度目標値決定部
と、前記ごみ焼却炉に供給する空気量と燃焼ガス温度お
よび/または燃焼ガス酸素濃度と、炭化水素類および/
または芳香族系有機塩素化合物の濃度との関係を表わし
た反応モデルと、前記反応モデルを利用し、前記未燃分
濃度目標値決定部で決定された前記目標値から、前記炭
化水素類および/または芳香族系有機塩素化合物の濃度
を基準値以下に抑制するための燃焼ガス温度と前記空気
量および/または前記酸素濃度が満たすべき条件を求め
る目標条件計算部と、前記焼却炉で計測された燃焼ガス
温度と前記空気量および/または酸素濃度が、前記目標
条件計算部で求めた条件を満足するように、ごみ焼却炉
の操作量を決定する操作量決定部とを有することを特徴
とするごみ焼却炉の制御装置である。なお、前記反応モ
デルのモデルパラメータは、前記ごみ焼却炉の運転デー
タのうち、前記反応モデルの入出力データを利用して同
定しても良い。
ごみ焼却炉の制御装置において、前記ごみ焼却炉の燃焼
ガス中の炭化水素類および/または芳香族系有機塩素化
合物の濃度の目標値を決定する未燃分濃度目標値決定部
と、前記ごみ焼却炉に供給する空気量と燃焼ガス温度お
よび/または燃焼ガス酸素濃度と、炭化水素類および/
または芳香族系有機塩素化合物の濃度との関係を表わし
た反応モデルと、前記反応モデルを利用し、前記未燃分
濃度目標値決定部で決定された前記目標値から、前記炭
化水素類および/または芳香族系有機塩素化合物の濃度
を基準値以下に抑制するための燃焼ガス温度と前記空気
量および/または前記酸素濃度が満たすべき条件を求め
る目標条件計算部と、前記焼却炉で計測された燃焼ガス
温度と前記空気量および/または酸素濃度が、前記目標
条件計算部で求めた条件を満足するように、ごみ焼却炉
の操作量を決定する操作量決定部とを有することを特徴
とするごみ焼却炉の制御装置である。なお、前記反応モ
デルのモデルパラメータは、前記ごみ焼却炉の運転デー
タのうち、前記反応モデルの入出力データを利用して同
定しても良い。
【0012】上記課題を解決するための第5の手段は、
ごみ焼却炉と排ガス処理設備と燃焼ガス分析装置と制御
装置からなるごみ焼却システムにおいて、前記制御装置
が、第3の手段または第4の手段に記載した制御装置で
あり、前記燃焼ガス分析装置が、排ガス中の炭化水素類
および/または芳香族系有機塩素化合物の濃度と酸素濃
度を計測する装置であることを特徴とするごみ焼却シス
テムである。
ごみ焼却炉と排ガス処理設備と燃焼ガス分析装置と制御
装置からなるごみ焼却システムにおいて、前記制御装置
が、第3の手段または第4の手段に記載した制御装置で
あり、前記燃焼ガス分析装置が、排ガス中の炭化水素類
および/または芳香族系有機塩素化合物の濃度と酸素濃
度を計測する装置であることを特徴とするごみ焼却シス
テムである。
【0013】芳香族系有機塩素化合物は、たとえばクロ
ロベンゼン類,クロロフェノール類,ダイオキシンであ
る。
ロベンゼン類,クロロフェノール類,ダイオキシンであ
る。
【0014】
【発明の実施の形態】図1に本発明の実施例を示す。本
実施例はごみ焼却装置1,燃焼ガス分析装置2,制御装
置3からなる。
実施例はごみ焼却装置1,燃焼ガス分析装置2,制御装
置3からなる。
【0015】ごみ焼却装置1はごみ焼却炉11と排ガス
処理装置12からなる。ごみ焼却炉11では投入したご
みを乾燥,燃焼させる。その結果、ごみは焼却灰と排ガ
スとなる。焼却灰は随時焼却炉から搬出され、排ガスは
ごみ焼却装置1内に設置された排ガス処理装置12に送
られて処理される。また、ごみ焼却装置1には燃焼ガス
流量,炉内温度などを計測するための各種センサーが取
付けられており、計測した値は制御装置3に送られる。
処理装置12からなる。ごみ焼却炉11では投入したご
みを乾燥,燃焼させる。その結果、ごみは焼却灰と排ガ
スとなる。焼却灰は随時焼却炉から搬出され、排ガスは
ごみ焼却装置1内に設置された排ガス処理装置12に送
られて処理される。また、ごみ焼却装置1には燃焼ガス
流量,炉内温度などを計測するための各種センサーが取
付けられており、計測した値は制御装置3に送られる。
【0016】燃焼ガス分析装置2では、燃焼ガス中に含
まれる各種ガス成分が測定される。本実施例では、O2
の濃度と未燃分の濃度を計測した。ここでは未燃分とは
炭化水素類及びクロロフェノール類を示す。ただし、未
燃分はクロロベンゼン類など他の未燃分であっても構わ
ない。また、ここでは燃焼ガスは炉内燃焼ガス,炉内出
口ガス,排ガス処理装置出口ガスの総称として使用して
いる。
まれる各種ガス成分が測定される。本実施例では、O2
の濃度と未燃分の濃度を計測した。ここでは未燃分とは
炭化水素類及びクロロフェノール類を示す。ただし、未
燃分はクロロベンゼン類など他の未燃分であっても構わ
ない。また、ここでは燃焼ガスは炉内燃焼ガス,炉内出
口ガス,排ガス処理装置出口ガスの総称として使用して
いる。
【0017】制御装置3は未燃分濃度目標値設定部31
と燃焼ガス滞留時間計算部32と燃焼ガス温度目標値計
算部33と操作量決定部34からなる。未燃分濃度目標
値設定部31では、ダイオキシンの排出規制値から目標
となる未燃分の濃度を算出し、未燃分濃度の目標値に設
定する。燃焼ガス滞留時間計算部32では、ごみ焼却炉
の空気量および燃焼ガス温度から燃焼ガスの滞留時間を
計算する。燃焼ガス温度目標値計算部33では、未燃分
濃度目標値設定部31で設定した未燃分濃度目標値と燃
焼ガス滞留時間計算部32で計算した燃焼ガスの滞留時
間と未燃分の燃焼速度式とから燃焼ガス温度の目標値を
計算する。操作量決定部34では、燃焼ガス温度目標値
と実際の燃焼ガス温度の偏差からごみ焼却装置の操作量
である燃焼空気量,燃焼空気温度および各ストーカ速度
を決定し、各操作量の設定値としてごみ焼却装置1に渡
す。このようにして操作量を決定することで燃焼反応速
度が遅い炭化水素類やクロロフェノール類あるいはダイ
オキシン類を抑制することができる。
と燃焼ガス滞留時間計算部32と燃焼ガス温度目標値計
算部33と操作量決定部34からなる。未燃分濃度目標
値設定部31では、ダイオキシンの排出規制値から目標
となる未燃分の濃度を算出し、未燃分濃度の目標値に設
定する。燃焼ガス滞留時間計算部32では、ごみ焼却炉
の空気量および燃焼ガス温度から燃焼ガスの滞留時間を
計算する。燃焼ガス温度目標値計算部33では、未燃分
濃度目標値設定部31で設定した未燃分濃度目標値と燃
焼ガス滞留時間計算部32で計算した燃焼ガスの滞留時
間と未燃分の燃焼速度式とから燃焼ガス温度の目標値を
計算する。操作量決定部34では、燃焼ガス温度目標値
と実際の燃焼ガス温度の偏差からごみ焼却装置の操作量
である燃焼空気量,燃焼空気温度および各ストーカ速度
を決定し、各操作量の設定値としてごみ焼却装置1に渡
す。このようにして操作量を決定することで燃焼反応速
度が遅い炭化水素類やクロロフェノール類あるいはダイ
オキシン類を抑制することができる。
【0018】次に、本実施例についてより詳細に説明す
る。
る。
【0019】ごみ焼却炉11の概略図を図2に示す。ご
み焼却炉11では、ごみホッパ114に入れられたごみは
給塵装置110によりストーカ上に運ばれる。ストーカ
は乾燥ストーカ111,燃焼ストーカ112及び後燃焼
ストーカー113の3つに分かれている。乾燥ストーカ
111では、主に投入ごみの水分を蒸発させる。燃焼ス
トーカ112では、乾燥したごみを燃焼させる。後燃焼
ストーカー113では燃焼ストーカー112で燃やし切
れなかったごみを完全に燃焼させる。燃焼後の灰は、灰
ピット(図示せず)に一旦堆積した後、埋め立てまたは
溶融処理される。
み焼却炉11では、ごみホッパ114に入れられたごみは
給塵装置110によりストーカ上に運ばれる。ストーカ
は乾燥ストーカ111,燃焼ストーカ112及び後燃焼
ストーカー113の3つに分かれている。乾燥ストーカ
111では、主に投入ごみの水分を蒸発させる。燃焼ス
トーカ112では、乾燥したごみを燃焼させる。後燃焼
ストーカー113では燃焼ストーカー112で燃やし切
れなかったごみを完全に燃焼させる。燃焼後の灰は、灰
ピット(図示せず)に一旦堆積した後、埋め立てまたは
溶融処理される。
【0020】乾燥ストーカ111,燃焼ストーカ11
2、および後燃焼ストーカー113には下部から、それ
ぞれ乾燥用空気,燃焼用空気,後燃焼用空気が吹き込ま
れるようになっている。空気はファン131により送り
込まれるが、その途中に、エアヒーター133を介して
燃焼ガスの一部あるいは蒸気(図示せず)と熱交換して昇
温する。乾燥ストーカ111,燃焼ストーカ112及び
後燃焼ストーカー113への空気量は空気流量計152
により計測される。これらの空気量は燃焼制御装置3か
ら送られる設定値になるようファン131とそれぞれの
ストーカへの配分量を調節する空気ダンパ121の開度
によって制御されている。ただし、このマイナー制御系
は図示していない。また、それぞれの空気の温度は空気
温度センサー153により計測される。空気温度も制御
装置3から送られる設定値になるように図示していない
マイナー制御系により制御されている。このマイナー制
御系の操作端はエアヒーターにより加熱された空気と加
熱されていない空気の配分をかえる温度調節用空気ダン
パ124である。
2、および後燃焼ストーカー113には下部から、それ
ぞれ乾燥用空気,燃焼用空気,後燃焼用空気が吹き込ま
れるようになっている。空気はファン131により送り
込まれるが、その途中に、エアヒーター133を介して
燃焼ガスの一部あるいは蒸気(図示せず)と熱交換して昇
温する。乾燥ストーカ111,燃焼ストーカ112及び
後燃焼ストーカー113への空気量は空気流量計152
により計測される。これらの空気量は燃焼制御装置3か
ら送られる設定値になるようファン131とそれぞれの
ストーカへの配分量を調節する空気ダンパ121の開度
によって制御されている。ただし、このマイナー制御系
は図示していない。また、それぞれの空気の温度は空気
温度センサー153により計測される。空気温度も制御
装置3から送られる設定値になるように図示していない
マイナー制御系により制御されている。このマイナー制
御系の操作端はエアヒーターにより加熱された空気と加
熱されていない空気の配分をかえる温度調節用空気ダン
パ124である。
【0021】また、ストーカー上部は二次空気吹き込み
ノズル134が取り付けられている。二次空気吹き込み
ノズル134から供給される二次空気により未燃分を多
く含むガスと高温のガスが混合される。また二次空気か
ら燃焼ガスに酸素が補給される。その結果、ほとんどの
可燃性物質を燃焼できる。二次空気の吹込み量(吹込み
速度)は二次空気用ファン132と二次空気用ダンパ1
29の開度により調節される。燃焼ガスは炉出口付近で
は800度から900度の高温となっている。燃焼ガス
温度および、炉壁温度は炉内温度センサー151により
計測されている。高温の燃焼ガスから炉壁を保護するた
め、燃焼ガス温度または炉壁温度が基準値以下となるよ
う、ガス冷却装置(図示せず)で水を噴霧しガス温度を
低下させる場合もある。焼却炉出口にはボイラーが設置
されており、ボイラーで熱交換され500度程度まで温
度が下げられる。ごみ焼却炉から排出された排ガスは排
ガス処理装置12に送られ、処理される。
ノズル134が取り付けられている。二次空気吹き込み
ノズル134から供給される二次空気により未燃分を多
く含むガスと高温のガスが混合される。また二次空気か
ら燃焼ガスに酸素が補給される。その結果、ほとんどの
可燃性物質を燃焼できる。二次空気の吹込み量(吹込み
速度)は二次空気用ファン132と二次空気用ダンパ1
29の開度により調節される。燃焼ガスは炉出口付近で
は800度から900度の高温となっている。燃焼ガス
温度および、炉壁温度は炉内温度センサー151により
計測されている。高温の燃焼ガスから炉壁を保護するた
め、燃焼ガス温度または炉壁温度が基準値以下となるよ
う、ガス冷却装置(図示せず)で水を噴霧しガス温度を
低下させる場合もある。焼却炉出口にはボイラーが設置
されており、ボイラーで熱交換され500度程度まで温
度が下げられる。ごみ焼却炉から排出された排ガスは排
ガス処理装置12に送られ、処理される。
【0022】本実施例では、制御装置3より、給塵装置
110,各ストーカー111〜113,空気ダンパ12
1,温度調節用空気ダンパ124,二次空気用ダンパ1
29,ファン131および二次空気用ファン132に制
御信号(設定値)が送られている。この制御信号により
図示していないマイナー制御系が働き、給塵速度,各ス
トーカー速度,各空気温度および各空気流量が制御され
る。
110,各ストーカー111〜113,空気ダンパ12
1,温度調節用空気ダンパ124,二次空気用ダンパ1
29,ファン131および二次空気用ファン132に制
御信号(設定値)が送られている。この制御信号により
図示していないマイナー制御系が働き、給塵速度,各ス
トーカー速度,各空気温度および各空気流量が制御され
る。
【0023】次に燃焼ガス分析装置2について説明す
る。
る。
【0024】燃焼ガス分析装置2は、各種ガス分析装置
および高精度未燃分計測装置よりなる。各種ガス分析装
置21では、試料ガスを前処理した後、O2 などのガス
成分を測定する。本実施例では、燃焼ガス分析装置2は
排ガス処理装置12と煙突(図示せず)の間に設置し
た。したがって、燃焼ガス分析装置2に取り込まれた試
料ガスは排ガス処理装置12内の集塵装置(図示せず)
によりダストの大半は除去されている。O2 などのガス
成分の測定には一般的に使用される連続分析計を利用し
た。
および高精度未燃分計測装置よりなる。各種ガス分析装
置21では、試料ガスを前処理した後、O2 などのガス
成分を測定する。本実施例では、燃焼ガス分析装置2は
排ガス処理装置12と煙突(図示せず)の間に設置し
た。したがって、燃焼ガス分析装置2に取り込まれた試
料ガスは排ガス処理装置12内の集塵装置(図示せず)
によりダストの大半は除去されている。O2 などのガス
成分の測定には一般的に使用される連続分析計を利用し
た。
【0025】高精度未燃分計測装置では採取したガスを
安定にかつ一定流量でモニタ部に送り込む必要がある。
また、途中で分析対象物質が吸着したり凝縮して損失す
ることがないようにしなければならない。したがって、
その前処理は各種ガス分析装置とは違ったものになる。
高精度未燃分計測装置の構成を図3に示す。高精度未燃
分計測装置は主に3つの部位より成り立っている。
安定にかつ一定流量でモニタ部に送り込む必要がある。
また、途中で分析対象物質が吸着したり凝縮して損失す
ることがないようにしなければならない。したがって、
その前処理は各種ガス分析装置とは違ったものになる。
高精度未燃分計測装置の構成を図3に示す。高精度未燃
分計測装置は主に3つの部位より成り立っている。
【0026】採取された試料ガスを搬送し、前処理する
ガス前処理部221,採取した試料ガス中から測定対象
物資を検出するモニタ部222、さらに検出,取得した
データを処理するデータ処理部223である。ガス前処
理部221は全体をヒーターにより100度〜200度
程度に加熱され、排ガス中の不純物や非灰を取り除く。
モニタ部222は送り込まれた資料ガス中の分析対象物
質を選択的にかつ高い効率でイオン化を行い、中間圧力
室などを経て質量分析部222bで質量分析し、分析対
象物質を検出(モニタ)する。本実施例では、炭化水素
類,クロロフェノール類を分析対象物質とし、大気圧化
学イオン源によりイオン化した。ただし炭化水素類を分
析対象物質とする場合は正にイオン化し、クロロフェノ
ール類を分析対象物質とする場合は負にイオン化した。
検出された信号はデータ処理部223に送られ、必要に
応じて検量線から濃度に換算され、制御装置3に送られ
る。
ガス前処理部221,採取した試料ガス中から測定対象
物資を検出するモニタ部222、さらに検出,取得した
データを処理するデータ処理部223である。ガス前処
理部221は全体をヒーターにより100度〜200度
程度に加熱され、排ガス中の不純物や非灰を取り除く。
モニタ部222は送り込まれた資料ガス中の分析対象物
質を選択的にかつ高い効率でイオン化を行い、中間圧力
室などを経て質量分析部222bで質量分析し、分析対
象物質を検出(モニタ)する。本実施例では、炭化水素
類,クロロフェノール類を分析対象物質とし、大気圧化
学イオン源によりイオン化した。ただし炭化水素類を分
析対象物質とする場合は正にイオン化し、クロロフェノ
ール類を分析対象物質とする場合は負にイオン化した。
検出された信号はデータ処理部223に送られ、必要に
応じて検量線から濃度に換算され、制御装置3に送られ
る。
【0027】データ処理部223では、質量分析部22
2からの信号を増幅器223aにより増幅し、さらに必
要であれば演算器223bで演算処理する。
2からの信号を増幅器223aにより増幅し、さらに必
要であれば演算器223bで演算処理する。
【0028】次に、制御装置3について説明する。制御
装置3は未燃分濃度目標値設定部31と燃焼ガス滞留時
間計算部32と燃焼ガス温度目標値計算部33と操作量
決定部34からなる。
装置3は未燃分濃度目標値設定部31と燃焼ガス滞留時
間計算部32と燃焼ガス温度目標値計算部33と操作量
決定部34からなる。
【0029】未燃分濃度目標値設定部31では、ダイオ
キシン濃度の規制値から目標となる未燃分の濃度を算出
する。ダイオキシン濃度と未燃分である炭化水素類また
はクロロフェノール類の濃度との相関関係は予め求めて
おく。文献に記載されている相関関係式を用いても良い
が、炉によって特性が異なる可能性があるため、炉毎に
関係式を求めておくことが望ましい。ただし、ダイオキ
シン類は炭化水素類やクロロフェノール類よりも燃焼速
度が遅いと考えられる。したがって、目標となる炭化水
素類やクロロフェノール類の濃度は、そのことを考慮し
てより低い濃度に設定することが望ましい。
キシン濃度の規制値から目標となる未燃分の濃度を算出
する。ダイオキシン濃度と未燃分である炭化水素類また
はクロロフェノール類の濃度との相関関係は予め求めて
おく。文献に記載されている相関関係式を用いても良い
が、炉によって特性が異なる可能性があるため、炉毎に
関係式を求めておくことが望ましい。ただし、ダイオキ
シン類は炭化水素類やクロロフェノール類よりも燃焼速
度が遅いと考えられる。したがって、目標となる炭化水
素類やクロロフェノール類の濃度は、そのことを考慮し
てより低い濃度に設定することが望ましい。
【0030】燃焼ガス滞留時間計算部32では、ごみ焼
却炉の空気量および燃焼ガス温度から燃焼ガスの滞留時
間を計算する。ここでは、次の式で平均滞留時間を求め
た。 τ=(V/Gg)・(273/(273+Tg)) …(1) ただし、ここで、τ:平均滞留時間[s],V:焼却炉
炉内容積[m3 ],Tg:燃焼ガス温度[℃],Gg:
供給空気量(1次空気+2次空気)である。燃焼ガス温
度目標値計算部33では、未燃分濃度目標値設定部31
で設定した未燃分濃度目標値と燃焼ガス滞留時間計算部
32で計算した燃焼ガスの滞留時間と未燃分の燃焼速度
式とから燃焼ガス温度の目標値を計算する。燃焼速度式
は次のように与えた。
却炉の空気量および燃焼ガス温度から燃焼ガスの滞留時
間を計算する。ここでは、次の式で平均滞留時間を求め
た。 τ=(V/Gg)・(273/(273+Tg)) …(1) ただし、ここで、τ:平均滞留時間[s],V:焼却炉
炉内容積[m3 ],Tg:燃焼ガス温度[℃],Gg:
供給空気量(1次空気+2次空気)である。燃焼ガス温
度目標値計算部33では、未燃分濃度目標値設定部31
で設定した未燃分濃度目標値と燃焼ガス滞留時間計算部
32で計算した燃焼ガスの滞留時間と未燃分の燃焼速度
式とから燃焼ガス温度の目標値を計算する。燃焼速度式
は次のように与えた。
【0031】 k=Aexp(−E/RTg) …(2) ただし、ここでk:反応速度定数,R:ガス定数であ
る。またA,Eは係数で、物質を指定すると決定される
値である。本実施例では、文献値よりA,Eを求めた。
ただし、燃焼ガス分析装置2で計測した未燃分濃度,滞
留時間およびガス温度から最小二乗法により求めてもよ
い。
る。またA,Eは係数で、物質を指定すると決定される
値である。本実施例では、文献値よりA,Eを求めた。
ただし、燃焼ガス分析装置2で計測した未燃分濃度,滞
留時間およびガス温度から最小二乗法により求めてもよ
い。
【0032】時刻tにおける未燃分の濃度をC(t)と
すると、 C(t)=C(0)exp(−kt) …(3) と表される。ただし、ここでkは上記の反応速度定数で
あるため、Tgの関数となっている。したがって上記
(3)式は滞留時間τ、仮定した未燃分の初期濃度C
(0)、および未燃分濃度の目標値C(τ)を与えると
Tgの方程式となる。本実施例では、この方程式を解い
て求めたTgをガス温度目標値とした。ただし、上記
(1)式に示したように滞留時間τはTgの関数となっ
ておりTgが増加すると滞留時間τが減少する。例え
ば、計測したガス温度Tg1から滞留時間τ1を求め、
滞留時間がτ1であることを前提に目標ガス温度Tg2
を求めたとする。Tg2がTg1より大きいと、ガス温
度がTg2になった場合の滞留時間τ2はτ1より小さ
くなってしまう。したがって、滞留時間が短くなり、反
応が十分に進行しない。その結果、燃焼ガス中には、目
標とした未燃分の濃度よりも大きな濃度の未燃分が残っ
てしまう。そこで本実施例では図4に示したアルゴリズ
ムにより収束計算した。すなわち、実機ガス温度Tg1
より滞留時間τ1を求め、τ1よりガス温度目標値Tg
2を求める。次にTg2よりτ2を求め、τ2とτ1の
偏差が十分小さければ、ガス温度目標値をTg2とす
る。そうでなければτ1=τ2として再度Tg2を求
め、τ2とτ1の偏差が十分小さくなるまで繰り返す。
すると、 C(t)=C(0)exp(−kt) …(3) と表される。ただし、ここでkは上記の反応速度定数で
あるため、Tgの関数となっている。したがって上記
(3)式は滞留時間τ、仮定した未燃分の初期濃度C
(0)、および未燃分濃度の目標値C(τ)を与えると
Tgの方程式となる。本実施例では、この方程式を解い
て求めたTgをガス温度目標値とした。ただし、上記
(1)式に示したように滞留時間τはTgの関数となっ
ておりTgが増加すると滞留時間τが減少する。例え
ば、計測したガス温度Tg1から滞留時間τ1を求め、
滞留時間がτ1であることを前提に目標ガス温度Tg2
を求めたとする。Tg2がTg1より大きいと、ガス温
度がTg2になった場合の滞留時間τ2はτ1より小さ
くなってしまう。したがって、滞留時間が短くなり、反
応が十分に進行しない。その結果、燃焼ガス中には、目
標とした未燃分の濃度よりも大きな濃度の未燃分が残っ
てしまう。そこで本実施例では図4に示したアルゴリズ
ムにより収束計算した。すなわち、実機ガス温度Tg1
より滞留時間τ1を求め、τ1よりガス温度目標値Tg
2を求める。次にTg2よりτ2を求め、τ2とτ1の
偏差が十分小さければ、ガス温度目標値をTg2とす
る。そうでなければτ1=τ2として再度Tg2を求
め、τ2とτ1の偏差が十分小さくなるまで繰り返す。
【0033】本実施例では、このように燃焼ガス温度目
標値計算部33で収束計算を行った。しかし、制御周期
が比較的短い場合、燃焼ガス温度目標値計算部33で収
束計算させなくてもよい。この場合は実機ガス温度デー
タが逐次燃焼ガス滞留時間計算部に入力されるため、ガ
ス温度の目標値も逐次更新されることになる。
標値計算部33で収束計算を行った。しかし、制御周期
が比較的短い場合、燃焼ガス温度目標値計算部33で収
束計算させなくてもよい。この場合は実機ガス温度デー
タが逐次燃焼ガス滞留時間計算部に入力されるため、ガ
ス温度の目標値も逐次更新されることになる。
【0034】算部に入力されるため、ガス温度の目標値
も逐次更新されることになる。
も逐次更新されることになる。
【0035】操作量決定部34では、燃焼ガス温度目標
値と実際の燃焼ガス温度の偏差およびごみ焼却装置の状
態量からごみ焼却装置の操作量を決定する。本実施例で
は次のように操作量を決定した。
値と実際の燃焼ガス温度の偏差およびごみ焼却装置の状
態量からごみ焼却装置の操作量を決定する。本実施例で
は次のように操作量を決定した。
【0036】1)燃焼ガス温度の偏差から燃焼ストーカ
へ供給する空気量および燃焼空気温度を決定する。ただ
し、燃焼ストーカに供給する空気量を変更しても、1次
空気の量および2次空気の量の総量は一定とする。
へ供給する空気量および燃焼空気温度を決定する。ただ
し、燃焼ストーカに供給する空気量を変更しても、1次
空気の量および2次空気の量の総量は一定とする。
【0037】2)ボイラー蒸気量と蒸発量基準値の偏差
から各ストーカ速度を決定する。
から各ストーカ速度を決定する。
【0038】上記1)2)はそれぞれ偏差が0になるよう
にフィードバック制御している。上記1)の制御では、
空気量の変更を優先する。ただし、極端に空気量の配分
を変更すると、焼却炉の運転に支障をきたす場合があ
る。したがって、空気量の配分はある決められた範囲内
で行う。決められた範囲内で空気量を操作しても、ガス
温度の目標値との偏差を0にできない場合に空気温度を
変更する。また上記2)は、安定にごみ焼却装置を運転
するための制御である。例えばガス温度を上昇させるた
めに空気量を増加させた場合に、ごみ燃焼量が増加し、
焼却炉内のごみ量が減少する。この状態が継続すると、
ごみ量が減少しすぎて「ごみ枯れ」がおこる可能性があ
る。そこで、ごみ供給速度に基づいた蒸発量基準値と実
際のボイラ蒸発量を比較し、実際の蒸発量が大きい場合
はごみ供給不足と判断し、ごみ供給量を増加させる。た
だし、燃焼むらなどによっても蒸発量は変動する可能性
があるため、フィードバック制御する場合には、制御パ
ラメータを上手く調整する必要がある。ただし本制御装
置3は、未燃分濃度が目標値以下の場合は動作させなく
てもよい。
にフィードバック制御している。上記1)の制御では、
空気量の変更を優先する。ただし、極端に空気量の配分
を変更すると、焼却炉の運転に支障をきたす場合があ
る。したがって、空気量の配分はある決められた範囲内
で行う。決められた範囲内で空気量を操作しても、ガス
温度の目標値との偏差を0にできない場合に空気温度を
変更する。また上記2)は、安定にごみ焼却装置を運転
するための制御である。例えばガス温度を上昇させるた
めに空気量を増加させた場合に、ごみ燃焼量が増加し、
焼却炉内のごみ量が減少する。この状態が継続すると、
ごみ量が減少しすぎて「ごみ枯れ」がおこる可能性があ
る。そこで、ごみ供給速度に基づいた蒸発量基準値と実
際のボイラ蒸発量を比較し、実際の蒸発量が大きい場合
はごみ供給不足と判断し、ごみ供給量を増加させる。た
だし、燃焼むらなどによっても蒸発量は変動する可能性
があるため、フィードバック制御する場合には、制御パ
ラメータを上手く調整する必要がある。ただし本制御装
置3は、未燃分濃度が目標値以下の場合は動作させなく
てもよい。
【0039】次に本発明の第2の実施例について述べ
る。
る。
【0040】図5に本発明の第2の実施例を示す。第2
の実施例が第1の実施例と異なる点は、燃焼ガス滞留時
間計算部32および燃焼ガス温度目標値33が反応モデ
ル35および目標条件計算部36になった点である。す
なわち、反応モデル35と目標条件計算部36で目標と
する燃焼ガス温度と空気量などの関係を目標条件として
決定し、この目標条件になるように操作量決定部34で
ごみ焼却炉11の操作量を決定する。以下に反応モデル
35,目標条件計算部36,操作量決定部34について
説明する。
の実施例が第1の実施例と異なる点は、燃焼ガス滞留時
間計算部32および燃焼ガス温度目標値33が反応モデ
ル35および目標条件計算部36になった点である。す
なわち、反応モデル35と目標条件計算部36で目標と
する燃焼ガス温度と空気量などの関係を目標条件として
決定し、この目標条件になるように操作量決定部34で
ごみ焼却炉11の操作量を決定する。以下に反応モデル
35,目標条件計算部36,操作量決定部34について
説明する。
【0041】反応モデル35は燃焼ガス温度,空気量を
入力とし、未燃分濃度を出力するモデルである。本実施
例では、反応式ベースでモデル化した。モデルで用いた
式は第1の実施例の説明の中で記載した(1)式〜
(3)式である。これらの式を整理すると、未燃分濃度
は燃焼ガス温度Tgと空気量(総量)Ggで表わされ
る。(ただし、初期濃度C(0)は変化しないと仮定し
ている)すなわち、燃焼ガス温度Tgと空気量Ggを入
力として未燃分の濃度を出力するモデルとなる。このよ
うに、本実施例では、反応速度式をベースにモデル化し
たが、ニューロモデルなどの非線形回帰モデルでモデル
化しても良い。
入力とし、未燃分濃度を出力するモデルである。本実施
例では、反応式ベースでモデル化した。モデルで用いた
式は第1の実施例の説明の中で記載した(1)式〜
(3)式である。これらの式を整理すると、未燃分濃度
は燃焼ガス温度Tgと空気量(総量)Ggで表わされ
る。(ただし、初期濃度C(0)は変化しないと仮定し
ている)すなわち、燃焼ガス温度Tgと空気量Ggを入
力として未燃分の濃度を出力するモデルとなる。このよ
うに、本実施例では、反応速度式をベースにモデル化し
たが、ニューロモデルなどの非線形回帰モデルでモデル
化しても良い。
【0042】次に目標条件計算部36について説明す
る。ここでは、未燃分濃度目標値決定部31により決定
された未燃分濃度の目標値を反応モデル式35に入力
し、未燃分濃度が目標値以下となるために燃焼ガス温度
と空気量が満足すべき条件を求める。本実施例のように
反応モデル35が燃焼ガス温度と空気量を変数として含
む式で表わされている場合、上記条件は不等式として表
現される。ニューロモデルで反応モデル35を構築した
場合は、燃焼ガス温度と空気量を反応モデル35に試行
錯誤的に入力し、未燃分濃度が目標値以下となる条件を
探索する必要がある。
る。ここでは、未燃分濃度目標値決定部31により決定
された未燃分濃度の目標値を反応モデル式35に入力
し、未燃分濃度が目標値以下となるために燃焼ガス温度
と空気量が満足すべき条件を求める。本実施例のように
反応モデル35が燃焼ガス温度と空気量を変数として含
む式で表わされている場合、上記条件は不等式として表
現される。ニューロモデルで反応モデル35を構築した
場合は、燃焼ガス温度と空気量を反応モデル35に試行
錯誤的に入力し、未燃分濃度が目標値以下となる条件を
探索する必要がある。
【0043】最後に操作量決定部34について説明す
る。第2の実施例では、操作量とガス温度の関係を表わ
した非線形回帰モデルを用いて操作量を決定した。具体
的には、まず、各ストーカ速度と各ストーカへの空気量
および2次空気量を入力してガス温度を出力するモデル
を構築し、実機データによりモデルを同定する。同定し
たモデルに各操作量を入力することにより、ガス温度の
挙動が分かる。また、空気量は各ストーカへの空気量お
よび2次空気量の合計から計算できる。したがって、こ
の非線形回帰モデルに試行錯誤的に操作量の侯補を入力
することで、目標条件計算部36で求めた条件を満足す
る操作量を決定することができる。
る。第2の実施例では、操作量とガス温度の関係を表わ
した非線形回帰モデルを用いて操作量を決定した。具体
的には、まず、各ストーカ速度と各ストーカへの空気量
および2次空気量を入力してガス温度を出力するモデル
を構築し、実機データによりモデルを同定する。同定し
たモデルに各操作量を入力することにより、ガス温度の
挙動が分かる。また、空気量は各ストーカへの空気量お
よび2次空気量の合計から計算できる。したがって、こ
の非線形回帰モデルに試行錯誤的に操作量の侯補を入力
することで、目標条件計算部36で求めた条件を満足す
る操作量を決定することができる。
【0044】また、非線形回帰モデルを利用し、各操作
量とガス温度の感度を解析し、感度の高い操作量を選択
してフィードバック制御を施してもよい。あるいは、第
1の実施例で説明したように、空気量の総量を一定に固
定したまま、燃焼ストーカ上の空気配分を変更する制御
アルゴリズムでもよい。
量とガス温度の感度を解析し、感度の高い操作量を選択
してフィードバック制御を施してもよい。あるいは、第
1の実施例で説明したように、空気量の総量を一定に固
定したまま、燃焼ストーカ上の空気配分を変更する制御
アルゴリズムでもよい。
【0045】
【発明の効果】以上のように、燃焼ガスの滞留時間を考
慮して操作量を決定するため、炭化水素類,クロロフェ
ノール類およびダイオキシン類などの燃焼速度が遅い未
燃分をより低レベルに抑制することができる。
慮して操作量を決定するため、炭化水素類,クロロフェ
ノール類およびダイオキシン類などの燃焼速度が遅い未
燃分をより低レベルに抑制することができる。
【図1】本発明の実施例の構成を表す図。
【図2】ごみ焼却炉の概要を表す図。
【図3】高精度未燃分計測装置の概要を表す図。
【図4】燃焼モデルの構成を表す図。
【図5】第2の実施例を表す図。
1…ごみ焼却装置、2…燃焼ガス分析装置、3…制御装
置、11…ごみ焼却炉、12…排ガス処理装置、31…
未燃分目標値決定部、32…燃焼ガス滞留時間計算部、
33…燃焼ガス温度目標値計算部、34…操作量決定
部、35…反応モデル、36…目標条件計算部、221
…ガス前処理部、222…モニタ部、222a…大気圧化学
イオン源、222b…質量分析部、223…データ処理
部、223a…増幅器、223b…データ処理装置。
置、11…ごみ焼却炉、12…排ガス処理装置、31…
未燃分目標値決定部、32…燃焼ガス滞留時間計算部、
33…燃焼ガス温度目標値計算部、34…操作量決定
部、35…反応モデル、36…目標条件計算部、221
…ガス前処理部、222…モニタ部、222a…大気圧化学
イオン源、222b…質量分析部、223…データ処理
部、223a…増幅器、223b…データ処理装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野村 政英 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 斉藤 忠良 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 水本 守 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 武川 茂樹 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器事業部内 Fターム(参考) 3K062 AA01 AB01 BA02 CB08 DA01 DA21 DA22 DA23 DB06 DB08 DB09
Claims (8)
- 【請求項1】ごみ焼却炉の制御方法において、 前記ごみ焼却炉の燃焼ガス中の炭化水素類と芳香族系有
機塩素化合物から選ばれた少なくとも1つの濃度の目標
値と燃焼ガスの滞留時間とから燃焼ガス温度の目標値を
設定し、 前記排ガス温度が前記目標値となるよう操作量を決定す
ることを特徴とするごみ焼却炉の制御方法。 - 【請求項2】ごみ焼却炉の制御方法において、 前記ごみ焼却炉の燃焼ガス中の炭化水素類と芳香族系有
機塩素化合物から選ばれた少なくとも1つの濃度の目標
値と燃焼ガスの滞留時間と燃焼ガス中の酸素濃度とから
燃焼ガス温度の目標値を設定し、 前記排ガス温度が前記目標値となるよう操作量を決定す
ることを特徴とするごみ焼却炉の制御方法。 - 【請求項3】ごみ焼却炉の制御方法において、 前記ごみ焼却炉の燃焼ガス温度と燃焼ガスの滞留時間と
燃焼ガス中の酸素濃度から、炭化水素類と芳香族系有機
塩素化合物から選ばれた少なくとも1つの濃度を求める
反応モデルを有し、 前記反応モデルから、未燃分を基準値以下に抑制する燃
焼ガス温度と燃焼ガス滞留時間と酸素濃度の関係を求
め、前記関係を満たすように、ごみ焼却炉の操作量を決
定することを特徴とするごみ焼却炉の制御方法。 - 【請求項4】ごみ焼却炉の制御装置において、 前記ごみ焼却炉の燃焼ガス中の炭化水素類と芳香族系有
機塩素化合物から選ばれた少なくとも1つの濃度の目標
値を決定する未燃分濃度目標値決定部と、 燃焼ガスの滞留時間を計算する燃焼ガス滞留時間計算部
と、 前記未燃分濃度目標値決定部で決定された前記目標値と
前記滞留時間計算部で計算された滞留時間とから燃焼ガ
ス温度目標値を計算する計算式により燃焼ガス温度目標
値を計算する燃焼ガス温度目標値計算部と、 前記燃焼ガス温度目標値と前記ごみ焼却炉の燃焼ガス温
度の偏差からごみ焼却炉の操作量を決定する操作量決定
部とを有することを特徴とするごみ焼却炉の制御装置。 - 【請求項5】ごみ焼却炉の制御装置において、 前記ごみ焼却炉の燃焼ガス中の炭化水素類とクロロベン
ゼン類およびクロロフェノール類から選ばれた少なくと
も1つの目標値を決定する未燃分濃度目標値決定部と、 前記ごみ焼却炉に供給する空気量と燃焼ガス温度および
/または燃焼ガス酸素濃度と、炭化水素類と芳香族系有
機塩素化合物から選ばれた少なくとも1つの濃度との関
係を表わした反応モデルと、 前記反応モデルを利用し、前記未燃分濃度目標値決定部
で決定された前記目標値から、前記炭化水素類と芳香族
系有機塩素化合物から選ばれた少なくとも1つの濃度を
基準値以下に抑制するための燃焼ガス温度と前記空気量
および/または前記酸素濃度が満たすべき条件を求める
目標条件計算部と、 前記焼却炉で計測された燃焼ガス温度と前記空気量およ
び/または酸素濃度が、前記目標条件計算部で求めた条
件を満足するように、ごみ焼却炉の操作量を決定する操
作量決定部とを有することを特徴とするごみ焼却炉の制
御装置。 - 【請求項6】請求項4記載のごみ焼却炉制御装置におい
て、 前記ごみ焼却炉の運転データのうち、前記計算式の入出
力データを利用し、前記計算式のパラメータを同定する
ことを特徴とするごみ焼却炉制御装置。 - 【請求項7】請求項5記載のごみ焼却炉制御装置におい
て、 前記ごみ焼却炉の運転データのうち、前記反応モデルの
入出力データを利用し、前記反応モデルのモデルパラメ
ータを同定することを特徴とするごみ焼却炉制御装置。 - 【請求項8】ごみ焼却炉と排ガス処理設備と燃焼ガス分
析装置と制御装置からなるごみ焼却システムにおいて、 前記制御装置が、請求項4または請求項5記載の制御装
置であり、 前記燃焼ガス分析装置が、排ガス中の炭化水素類と芳香
族系有機塩素化合物から選ばれた少なくとも1つの濃度
と酸素濃度を計測する装置であることを特徴とするごみ
焼却システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11015255A JP2000213724A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | ごみ焼却炉の制御方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11015255A JP2000213724A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | ごみ焼却炉の制御方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000213724A true JP2000213724A (ja) | 2000-08-02 |
Family
ID=11883758
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11015255A Pending JP2000213724A (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | ごみ焼却炉の制御方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000213724A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010127926A (ja) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Ind Technol Res Inst | 燃料の濃度の計測装置および方法 |
JP2022010199A (ja) * | 2017-03-10 | 2022-01-14 | 荏原環境プラント株式会社 | プロセス管理支援装置および方法 |
-
1999
- 1999-01-25 JP JP11015255A patent/JP2000213724A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010127926A (ja) * | 2008-12-01 | 2010-06-10 | Ind Technol Res Inst | 燃料の濃度の計測装置および方法 |
US8460936B2 (en) | 2008-12-01 | 2013-06-11 | Industrial Technology Research Institute | Apparatus and method of measuring concentration of fuel |
JP2022010199A (ja) * | 2017-03-10 | 2022-01-14 | 荏原環境プラント株式会社 | プロセス管理支援装置および方法 |
JP7262554B2 (ja) | 2017-03-10 | 2023-04-21 | 荏原環境プラント株式会社 | プロセス管理支援装置および方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100304244B1 (ko) | 쓰레기소각로의연소제어방법및그장치 | |
JP6927127B2 (ja) | 廃棄物焼却方法 | |
JP5411779B2 (ja) | 汚泥焼却炉の温度制御装置および汚泥焼却炉の温度制御方法 | |
JP5452906B2 (ja) | 燃焼炉の燃焼制御システムおよびその燃焼制御方法 | |
JP3668405B2 (ja) | ごみ焼却炉の制御方法及び装置 | |
JP2000213724A (ja) | ごみ焼却炉の制御方法及び装置 | |
JP2000097422A (ja) | 廃棄物焼却プラント及びその制御装置並びに制御方法と廃棄物焼却炉のガス組成分布予測方法 | |
JP4099195B2 (ja) | ボイラ設備を持たないごみ焼却炉の燃焼制御方式 | |
JP3466555B2 (ja) | ごみ焼却プラントの燃焼制御方法及び装置 | |
JPH1054531A (ja) | ごみ層厚指標の推定方法及びこれを利用したごみ焼却炉の燃焼制御方式 | |
JPS6116889B2 (ja) | ||
JP2000018549A (ja) | 焼却プラント運転制御方法及び運転制御装置 | |
JP2009019814A (ja) | 火葬炉の燃焼制御システムおよび火葬炉の燃焼制御方法 | |
JP4230925B2 (ja) | 発熱量推定装置及び発熱量推定方法並びに燃焼制御装置 | |
JP7075021B1 (ja) | ごみ焼却処理施設の燃焼制御装置及び燃焼制御方法 | |
JP3668010B2 (ja) | ごみ焼却設備及びその制御方法 | |
JPH0366566B2 (ja) | ||
JP3839304B2 (ja) | 廃棄物熱分解装置及びその制御方法 | |
JPH09126433A (ja) | 焼却炉の燃焼制御装置 | |
JPH11257634A (ja) | ごみ焼却炉における燃焼制御装置の運転支援装置 | |
JP3844333B2 (ja) | ボイラ設備を持たないごみ焼却炉の燃焼制御方式 | |
JP2000205542A (ja) | ごみ焼却装置の運転制御方法及び運転制御装置 | |
JP3850206B2 (ja) | 燃焼制御方法及び燃焼制御装置 | |
JP2004132563A (ja) | 焼却炉及び焼却炉の運転方法 | |
JPH1151353A (ja) | ごみ焼却炉の燃焼診断装置および燃焼制御装置 |