JP2000294501A

JP2000294501A - 周辺露光装置及び方法

Info

Publication number: JP2000294501A
Application number: JP11103229A
Authority: JP
Inventors: Masanori Kato; 正紀加藤; Motoo Koyama; 元夫小山; Masami Seki; 昌美関; Takahiro Horikoshi; 崇広堀越; Tetsuo Kikuchi; 哲男菊池
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1999-04-09
Filing date: 1999-04-09
Publication date: 2000-10-20

Abstract

(57)【要約】【課題】露光光として４００ｎｍ以下の光を用いる場合
であっても、大型の基板に対しても比較的容易でかつ安
価で、更に耐久性に優れ、かつコストをかけずにスルー
プットを向上させる。【解決手段】角型基板に塗布された感光性材料上の所定
の回路パターンが転写される領域とは異なる領域に対し
て露光光を照射する周辺露光装置であって、露光光を供
給する光源と；該光源からの露光光を前記基板へ向ける
照明光学系と；前記光源と前記基板との間に配置され
て、前記基板上に前記露光光が照射される領域である露
光領域を制限するための露光領域可変手段と；を有す
る。そして、前記光源、前記照明光学系及び前記露光領
域可変手段と前記基板とを相対的に静止した状態で、前
記基板の前記異なる領域への露光を行うものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子や液晶
表示素子等のデバイスの製造に用いられる基板の周辺の
不要なレジスト等の感光性材料を露光し、除去する周辺
露光装置及び方法に関する。特に本発明は、液晶表示素
子等の角型の大型基板への周辺露光に好適な周辺露光装
置及び方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の周辺露光装置は、特開平
６−２８３４０６に記載されているような構成をしてい
る。超高圧水銀ランプを光源にもち、楕円鏡によりその
第二焦点位置に光ファイバーを配置し、この射出側の形
状スリット状に形成された光ファイバーにて基板上に露
光光を導き、露光を行う。この光ファイバーが基板上を
走査することにより露光を行うのである。走査方向に
は、走査するためのガイドがあり、ほぼ等速に光ファイ
バーが移動するように制御され、この光ファイバーの射
出側は、2分岐され、各射出端がスリット形状角型基板
の同方向を走査するように構成されている。また、基板
の走査と直交する方向を露光する場合には、基板を９０
°回転することにより露光を行う構成を採用している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年で
は、液晶表示素子には特に４００ｎｍ以下の光に感度を
強く持つ感光性樹脂等の特殊な感光性材料を用いられる
ケースが増えてきている。そして、基板は、年々大型化
の道を辿り、最近では、６００ｍｍ×７５０ｍｍ程度の
基板が多用されており、さらに大型の基板として、８０
０ミリ角程度や、１０００ミリ角程度の基板も検討され
ている。

【０００４】このように近年では、４００ｎｍ以下の光
を用いる必然性があり、更に１ｍ角のような大型の基板
に対応しなくてはならない要求がある。従来例で挙げた
ような周辺露光装置の場合には、光ファイバーを用いる
ため、特に４００ｎｍ以下の光を用いるには、ファイバ
ーの繊維を石英ファイバーにしなければなくなってしま
う。一般に石英ファイバーは、多成分ファイバーに比べ
て光の取込み角度も小さいため、ファイバーとして大型
な基板に対応するためには、長く太い石英ファイバーが
必要で高価になってしまう。また、基板自体の大型化に
より、当然周辺露光するための露光幅も大きなものに対
応する必要がある。例えば、基板の外周１００ｍｍを露
光するためには、少なくともファイバーの幅も１００ｍ
ｍの幅が必要になるのである。ファイバーのスリット形
状を例えば５ｍｍ×１００ｍｍとすると、ファイバーの
入射側の径Φ１は、射出側の２分岐を考慮すると、 Φ１＝２×√（２×５×１００／π）＝３５．７ｍｍとなり、基板の外周を露光するためには、長くて、径の
太いものとなり、高価で極まりないものになってしま
う。更に、従来例では、ファイバーが、基板上を走り回
るような構成であるため、ファイバー自体にストレスが
加わり断線してしまう可能性もでてくる。安価なもので
あれば、交換部品的に交換することも可能であるが、高
価であるがためにそれも難しい。

【０００５】さらに従来の周辺露光装置では、ファイバ
ーを走査するため、大型のガイドと等速スキャンさせる
ための機構が必要となり、これがコストを上げてしまう
要因となっていた。そして、走査することにより露光を
行うことから、スループットを短縮するためには、照度
を上げて、更に高速に走査する必要があり、メカ的に剛
性の高い構造とならざるを得なく、とても高価な機構
系、制御系が必要となってしまう。

【０００６】そこで、本発明は、上記の問題点に鑑み
て、露光光に４００ｎｍ以下の光を用いる場合であって
も、大型の基板に対しても比較的容易でかつ安価で、更
に耐久性に優れ、かつコストをかけずにスループットを
向上させることが可能な周辺露光装置を提供することを
目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明にかかる周辺露光装置は、角型基板に塗布
された感光性材料上の所定の回路パターンが転写される
領域とは異なる領域に対して露光光を照射する周辺露光
装置であって、露光光を供給する光源と；該光源からの
露光光を前記基板へ向ける照明光学系と；前記光源と前
記基板との間に配置されて、前記基板上に前記露光光が
照射される領域である露光領域を制限するための露光領
域可変手段と；を有する。そして、前記光源、前記照明
光学系及び前記露光領域可変手段と前記基板とを相対的
に静止した状態で、前記基板の前記異なる領域への露光
を行うものである。

【０００８】上述の構成に基づいて、前記照明光学系及
び前記露光領域可変手段により形成される前記露光領域
の長手方向は、前記基板の所定の辺よりも長く設定され
ることが好ましい。上記構成においては、前記照明光学
系及び前記露光領域可変手段により形成される前記露光
領域の短手方向は、前記露光領域が形成される前記基板
の辺と隣接する辺よりも短く設定されることが好まし
い。

【０００９】また、本発明においては、前記露光領域可
変手段は、第１露光領域可変手段と第２露光領域可変手
段とを少なくとも有することが好ましく、前記角型基板
の周辺部の少なくとも２つの領域を前記露光領域として
設定し、該少なくとも２つの露光領域を同時に露光する
ことが好ましい。また本発明において、前記照明光学系
は、第１照明光学系と第２照明光学系をと少なくとも有
することが好ましい。

【００１０】また、本発明の好ましい態様によれば、前
記照明光学系は、前記基板上の前記露光領域の照度を実
質的に均一にするためのオプティカルインテグレータを
有するものである。また、本発明の好ましい態様では、
前記角型基板をほぼ９０°ずつ回転させる基板回転機構
をさらに有し、前記露光領域可変手段により形成される
前記露光領域は、前記基板の長辺または短辺を横切るよ
うに形成され、前記基板の長辺または短辺への露光の後
に、前記基板回転機構により前記基板を回転させ、前記
基板の短辺または長辺への露光を行うものである。

【００１１】また、本発明によれば、前記露光領域は変
更可能に設けられることが好ましく、この変更可能な露
光領域の最大領域の前記基板の辺に直交する方向の幅
は、前記基板の長辺の長さと短辺の長さとの差の１／２
を包含する幅であることが好ましい。また、本発明によ
れば、前記照明光学系及び前記露光領域可変手段により
形成される前記露光領域は、前記基板の全ての辺に対し
て同時に形成されることが好ましい。

【００１２】また、本発明によれば、前記露光領域可変
手段は、前記基板の各辺に対応して設けられることが好
ましく、前記基板の各辺のうち少なくとも１つの辺に対
応する露光領域可変手段を選択的に設定または退避可能
に構成されるものである。この構成において、前記基板
を回転させる機構を有しないことが好ましい。また、本
発明によれば、複数の前記露光領域可変手段と、該複数
の露光領域可変手段を所望の位置に設定するための駆動
手段とを有することが好ましく、前記露光領域可変手段
は、光透過部と光遮光部とを有する光透過性の部材で形
成されることが好ましい。そして、前記複数の露光領域
可変手段を所定の位置に設定した後に、前記基板の各辺
のうちの少なくとも２辺に対して同時に露光を行うこと
が好ましい。

【００１３】また、本発明の別の態様では、角型基板の
全域を含む矩形の領域を照明する照明光学系部と、その
照射領域を部分的に遮光する可動ブラインド部と、その
角型感光基板を９０°回転させる回転機構とを有し、前
記可動ブラインドは互いに平行で所定方向に延びた形状
の可動エッジ部と、該２つの可動エッジ部の前記所定方
向を横切る方向で任意の位置に位置決めする駆動部と、
前記２つの可動エッジ部間を繋ぐ伸縮自在な遮光部材か
ら構成されるものである。

【００１４】上記別の態様において、前記可動ブライン
ド部は、前記２つの可動エッジ部と前記駆動部と前記遮
光部材とをそれぞれ有する第１及び第２の可動ブライン
ド部を含むことが好ましい。この好ましい態様におい
て、第１の可動ブラインド部中の可動エッジ部と、該第
１の可動ブラインド部中の可動エッジ部と対向配置され
る第２の可動ブラインド部中の可動エッジ部とは互いに
重ね合わされるように形成され、これにより第１及び第
２の可動ブラインドで１つの遮光領域を形成することが
好ましい。

【００１５】また、前記可動ブラインド部中の伸縮自在
な遮光部材は、折り畳み可能な蛇腹から構成されている
ことが好ましい。また、前記可動ブラインド部中の伸縮
自在な遮光部材は、巻き取りローラを使った幕から構成
されていることが好ましい。また、前記可動ブラインド
部中の伸縮自在な遮光部材は、前記ブラインド部の伸縮
自在な遮光物は、幕の引っ張り方向を変える回転ローラ
と幕をエッジ駆動方向と略垂直方向に引っ張る張力機構
から構成されるブラインドを使用することが好ましい。

【００１６】また、前記可動ブラインド部中の伸縮自在
な遮光部材は、スライドして重なり具合が変化する２枚
以上の重ね合わせた平板から構成されていることが好ま
しい。さて、本発明にかかる周辺露光方法は、前記感光
性材料を前記角型基板へ塗布する第１工程と、前記角型
基板上の前記感光性材料上の所定領域に回路パターンを
転写する第２工程と、上述の構成の何れかにかかる周辺
露光装置を用いて前記回路パターンが転写される領域に
対して露光光を照射する第３工程とを有するものであ
り、前記第３工程は、前記第２工程の前または後に実行
されるものである。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。図１は、本発明の第１実施形
態にかかる周辺露光装置を示す装置概略図である。図１
に示す周辺露光装置は、２組の光源１０Ａ，１０Ｂ及び
照射光学系１１Ａ〜１５Ａ，１１Ｂ〜１５Ｂを備えてお
り、これらは同一の構成であるため、以下においては、
一方の構成（符号Ａを付した方の組）についてのみ説明
する。

【００１８】図１において、光源としての超高圧水銀灯
１０Ａは、４００ｎｍ以下の波長の光（例えばｉ線（３
６５ｎｍ））を含む光を発する。そして、この光は、超
高圧水銀灯が第１焦点位置となるように設けられた楕円
鏡１１Ａにより反射され、４００ｎｍ以下の露光光のみ
を反射させるダイクロイックミラー１２Ａで反射された
後、楕円鏡１１Ａの第２焦点位置に光源像を形成する。
この第２焦点位置の近傍には、図示無きシャッターが設
けられており、このシャッターにより露光のＯＮ／ＯＦ
Ｆが制御される。

【００１９】楕円鏡１１Ａの第２焦点位置に形成される
光源像からの光は、コリメータレンズ１３Ａによりほぼ
コリメートされ、オプティカルインテグレータとしての
フライアイレンズ１４Ａに入射する。本実施形態におけ
るフライアイレンズ１４Ａは、所定の断面形状を有する
複数のレンズ素子を集積してなり、これらレンズ素子の
断面形状が基板上での照射領域と相似形状となってい
る。例えば基板上での照射領域が長方形状である場合に
は各レンズ素子の断面形状も長方形状となる。そして複
数のレンズ素子は通常、各々正レンズで構成され、それ
らの射出側に複数の光源像（２次光源）を形成する。フ
ライアイレンズ１４Ａを通過した光は、フライアイレン
ズ１４Ａに対して所定の角度に傾斜して配置された凹面
鏡１５Ａにて反射され、基板１７上へ光束が導かれる。
ここで、ここで、フライアイレンズ１４Ａの複数のレン
ズ素子の入射面の各々が、これら複数のレンズ素子及び
凹面鏡１５Ａによって所定倍率のもとで角型基板１７上
にそれぞれ結像する。本実施形態ではフライアイレンズ
１４Ａを構成する各々のレンズ素子の入射面が長方形状
であるため、角型基板１７上に形成される照射領域は長
方形状の領域となる。

【００２０】そして、凹面鏡１５Ａと角型基板１７との
間であって角型基板１７に近接した位置には、図中Ｘ方
向に延びた形状のブラインド１６Ａが配置されている。
このブラインド１６Ａは図中Ｙ方向に沿って移動可能に
設けられており、ブラインド１６Ａの移動により角型基
板１７上に形成される照射領域（露光領域）のＹ方向の
幅を可変にすることが可能である。

【００２１】さて、本実施形態では、角型基板１７のサ
イズが例えば７００〜１０００ｍｍぐらいの大型基板を
想定しており、照射光学系（特に凹面鏡１５Ａ）を小型
にするために、フライアイレンズ１４Ａと凹面鏡１５Ａ
の距離を可能な限り近づけている。そして、本実施形態
は周辺の不要なレジストを感光させるのが目的であるた
め、照射光学系としては、基板側を特にテレセントリッ
クにはしていない。

【００２２】この照射光学系にて露光できる領域（照射
領域）を例えば、７００×１００ｍｍの長方形状とした
場合を考える。この場合、基板１７上において、照射領
域の回路パターン側（照射光学系１１Ａ〜１５Ａの組で
考えると−Ｙ方向側）の端部（エッジ）を精度良く露光
することが必要となるが、この方向（Ｙ方向）は照射領
域の短手方向に相当し、照射光学系が基板側非テレセン
トリックであっても、像高が小さくなるため主光線の傾
き角は小さな範囲に収められる。

【００２３】なお、照射光学系が非テレセントリックで
あることによるブラインド１６Ａの位置と、照射領域の
エッジの位置とのずれ（エッジのテレセン誤差）は以下
の手法で補正することができる。まず、ブラインド１６
ＡのＸＹ平面内での位置と、このブラインド１６Ａによ
り規定される照射領域の端部のＸＹ平面内での位置との
関係を予め求めておき、この関係を所定の記憶部へ記憶
させておく。そして、この記憶された関係にもどづい
て、実際の露光位置（照射領域の端部の位置）とブライ
ンド１６Ａの設定位置とのオフセット管理を行えば、よ
り正確な露光位置の管理を行うことが可能になる。

【００２４】また、凹面鏡１５Ａと基板１７との距離を
大きく設定し、凹面鏡１５Ａ自体の焦点距離を長く設定
すれば、基板１７上へ向かう光束の開口数（Ｎ．Ａ．）
を小さくでき、ブラインド１６Ａで制限される照射領域
のエッジのボケを少なくすることができる。また、本実
施形態では、凹面鏡１５Ａ，１５Ｂを用いた照射光学系
を例として記載したが、当然フライアイレンズのみから
なる照射光学系、フライアイレンズとレンズ系と平面鏡
とからなる照射光学系、フライアイレンズとレンズ系と
凹面鏡とからなる照射光学系や、フレネルレンズを用い
た照射光学系であっても構わない。

【００２５】また、通常凹面鏡や簡単なレンズ系の組み
合わせでは、非照射面上で像高が高くなると照度が低下
し、照度ムラが生ずる場合がある。このような場合に
は、レンズ系を用いて、ディストーションをマイナスに
することにより、周辺部での照度低下を防ぐ方が望まし
い。図２は、図１に示した照射光学系を備える周辺露光
装置の全体的な構成を示す斜視図である。

【００２６】図２において、光源１０Ａ，１０Ｂ、楕円
鏡１１Ａ，１１Ｂ、ダイクロイックミラー１２Ａ，１２
Ｂ、コリメータレンズ１３Ａ，１３Ｂ、及びフライアイ
レンズ１４Ａ，１４Ｂは、それぞれランプユニット１８
Ａ，１８Ｂの中に収納されている。そして、これらのラ
ンプユニット１８Ａ，１８Ｂは、周辺露光装置のフレー
ム（架台）１９に取り付けられている。フレーム１９
は、ＸＹ平面内において四角形状となっている梁部分
と、四角形状のそれぞれの頂点からＺ軸方向に伸びた形
状の４本の脚部分とからなる。そして、フレーム１９の
Ｙ方向に延びた２つの梁部分の下面にはガイド１９Ｌ，
１９Ｒが設けられており、２つのブラインド１６Ａ，１
６Ｂを保持する部材２０ＬＡ，２０ＬＢ，２０ＲＡ，２
０ＲＢは、これらのガイド１９Ｌ，１９Ｒに沿って±Ｙ
方向へ移動可能となるようにフレーム１９に設けられて
いる。

【００２７】次に、この図２を参照して露光動作につい
て説明する。まず、基板１７がローダーのアーム（ロー
ドアーム）２１により装置内に搬入される。ここで、図
２では不図示ではあるが、周辺露光装置内の基板載置位
置には、上下動可能（Ｚ方向に可動）なピンを備えた基
板ホルダが位置している。そして、ロードアーム２１は
基板ホルダ上のピンに基板を載置し、このロードアーム
２１が退避した後、基板ホルダ上のピンが下方に移動
し、基板１７がホルダ上に吸着される。また、基板ホル
ダまたはその周囲には、基板１７のＸＹ平面内での位置
決めを行うための基準ピンが設けられており、ロードア
ーム２１が基板ホルダ上のピンに基板を載置する際、基
板１７を基準ピンに押し当てて基板の位置合わせを行
う。

【００２８】なお、基板の位置合わせにあたっては、ポ
テンシヨメータ等により基板１７の位置を計測した後、
基板に補正をかけても構わないし、例えば、基板ホルダ
ごと回転調整したり、走査のためのガイド自身を回転調
整したり、ブラインドの位置により補正をかけても構わ
ない。この場合、基板ホルダをＸＹ方向及びＺ軸を中心
とする回転方向（θ方向）で微動可動となるように構成
しておく。

【００２９】ここで、照射光学系と基板１７との間に配
置されるブラインド１６Ａ，１６Ｂは、ロードアーム２
１による搬入時及び搬出時における基板１７との干渉を
避けるために、基板１７が載置される位置に対して１０
ｍｍ程度上方（＋Ｚ方向）に設置されている。なお、ブ
ラインド１６Ａ，１６Ｂと基板１７との間隔により照射
領域端部のボケ具合、すなわちエッジ精度が決定される
ため、厳しいエッジ精度が要求される際にはブラインド
１６Ａ，１６Ｂを基板１７に可能な限り近接させる必要
がある。このような場合には、基板１７の搬入時及び搬
出時にブラインド１６Ａ，１６Ｂが基板１７の搬入路
（搬出路）から外れた位置となるようにＸＹ平面内で退
避可能に構成する、あるいはブラインド１６Ａ，１６Ｂ
をＺ方向に可動に設けて基板１７と干渉しないように構
成すれば良い。

【００３０】次に、基板１７上での照射領域の幅（Ｙ方
向の幅）が所望の値となるように各ブラインド１６Ａ，
１６Ｂを移動させる。そして、ランプハウス１８Ａ，１
８Ｂ内のシャッタを開き、周辺露光を開始する。このと
きの露光量の制御（シャッタ開の時間の制御）は、基板
１７が載置される基板ホルダ面内の近傍に配置した照度
センサを用いて照度を計測し、基板１７に必要な露光量
を達成するための時間を算出することにより行われる。

【００３１】なお、照度センサは、上記のように基板ホ
ルダに隣接して設ける構成の代わりに、照明光学系１１
Ａ〜１５Ａ，１１Ｂ〜１５Ｂ中を通過する光の一部を取
り出して照度センサへ導くように構成しても良い。ま
た、基板ホルダ上に設けてもかまわない。また、照度を
計測する場合は、露光中モニタを行っても構わないが、
不要なレジストを感光させることが目的であるので、複
数枚毎に一度計測するような構成をとっても構わない。

【００３２】本実施形態では、２つの照射光学系を設け
ることにより、角型基板１７の互いに平行な２辺を同時
に露光することにより、スループットの向上を図ってい
る。次に基板１７自体を９０°回転させた後、ブライン
ド１６Ａ，１６Ｂにより照射領域の幅（Ｙ方向の幅）を
設定し、露光された２辺と直交する２辺に対して周辺露
光を行う。

【００３３】なお、基板１７の回転機構としては、例え
ば基板ホルダに設けられて、上下動（Ｚ方向）可能で、
かつＺ方向を中心として回転可能なセンターアップピン
を用いることができる。この場合、一方の２辺への周辺
露光が完了した後、センターアップピンをＺ方向で上へ
移動させて、基板１７を基板ホルダから浮かす。その
後、センターアップピンをＺ方向を中心として９０°回
転させた後に、Ｚ方向で下へ移動させて再び基板１７を
基板ホルダ上に吸着させる。

【００３４】さて、基板１７のサイズが７００×８００
ｍｍの長方形状である場合を考える。基板１７の中心で
基板を回転させて互いに直交する辺への露光を行う場
合、８００ｍｍ側の辺（基板１７の長辺）を露光する場
合の照射領域の位置と、７００ｍｍ側の辺（基板１７の
短辺）を露光する場合の照射領域の位置とのＹ方向での
差は、それぞれ５０ｍｍずつとなる。例えば８００ｍｍ
側の辺を周辺露光した後に基板１７を回転させて７００
ｍｍ側の辺を周辺露光する場合には、照射領域の位置を
片側５０ｍｍずつ内側へ移動させる必要がある。

【００３５】この場合、長辺側の照射領域と短辺側の照
射領域との双方を照明光学系のＹ方向の移動無しで露光
できるように、照射領域の（Ｙ方向の）最大幅（ブライ
ンド１６Ａ，１６Ｂが照射領域に重ならないときの照射
領域の幅）を、基板１７上で必要とされる照射領域の幅
と、角型基板１７の長辺と短辺との長さの差の１／２と
の和よりも大きく設定し、ブラインド１６Ａ，１６Ｂの
移動可能な範囲を角型基板１７の長辺と短辺との長さの
差の１／２との和よりも大きくすれば良い。

【００３６】例えば７００×８００ｍｍの基板の外周８
０ｍｍをこの周辺露光装置で露光する場合は、まず、８
００ｍｍ側の辺への露光をブラインド１６Ａ，１６Ｂで
８０ｍｍになるように設定した後に露光する。次に基板
１７を９０°回転させて７００ｍｍ側を露光する。この
場合には、基板１７の中心を回転軸として回転させれ
ば、基板の短辺は８００ｍｍ側の辺と比べて片側５０ｍ
ｍ内側に位置することになる。この場合、ブラインド１
６Ａ，１６ＢをＹ方向へ移動させて、この基板１７の短
辺より５０ｍｍ内側に照射領域の端部が位置するように
設定し、露光を開始する。すなわち、８００ｍｍ側（長
辺側）を露光したときのブラインド１６Ａ，１６Ｂの位
置よりも更に、５０ｍｍ内側にブラインド１６Ａ，１６
Ｂを設定し、露光を行えば良いため、基板１７の回転に
伴う照明光学系の移動が無くてすむ。

【００３７】しかしながら、この場合には、縦横比の大
きな基板を露光する場合には実質的に露光に寄与する光
量が少なくなってしまうため、照射光学系全体を露光幅
と直交する方向に移動させるための駆動機構とガイドを
設けて、Ｙ方向に移動可能にすれば良い。また、照射光
学系の一部、例えば凹面鏡１５Ａ，１５ＢをＹ方向に移
動可能とし、フライアイレンズ１４Ａ，１４Ｂからの光
束のＹＺ平面における傾きを変更可能としても良く、ま
た凹面鏡１５Ａ，１５ＢをＸ方向を軸として回転可能と
しても良い。

【００３８】次に図３及び図４を参照して、第１実施形
態の変形例について説明する。この変形例は、基板の周
辺部のみに露光を行うだけではなく、基板の中央部に対
しても露光を行う例である。これは、基板自体に２面パ
ネルを形成する場合や、４面パネルを形成する場合にお
ける周辺露光となる。なお、基板の中央部であっても形
成される回路パターンの領域に対しては周辺部となるた
め、以下では基板の中央部への露光であっても周辺露光
と称する。

【００３９】図３に示す変形例は、図１及び図２に示し
た第１実施形態の周辺露光装置に、もう一組の照射光学
系を設けたものである。図３には、追加された照射光学
系及びブラインド１６Ａ，１６Ｂを示している。図３に
おいて、光源１０Ｃ、楕円鏡１１Ｃ、ダイクロイックミ
ラー１２Ｃ、コリメータレンズ１３Ｃ、及びフライアイ
レンズ１４Ｃは、第１実施形態で説明した構成と同一で
あるため、ここでは説明を省略する。図３に示す照射光
学系において、図１に示した照射光学系と異なる点は、
凹面鏡１５Ｃが固定されているのではなく、図中Ｘ方向
（照射領域の長手方向）を軸として回転可能に設けられ
ている点である。なお、図３には、図１で示したブライ
ンド１６Ａ，１６Ｂの端部とはＹ方向において反対側の
端部を示している。前述のように、ブラインド１６Ａ，
１６ＢはそのＹ方向の位置を任意に設定することが可能
であるため、凹面鏡１５Ｃの回転と、ブラインド１６
Ａ，１６Ｂの移動とを連動させれば、基板１７上での照
射領域のＹ方向の位置及びＹ方向の幅を任意に設定する
ことができる。

【００４０】次にこの変形例の露光動作について説明す
る。一例として、図４に示す如き露光パターンの場合に
は、まず、基板１７を装置内に搬入し、基板１７の周辺
部の領域１７１と基板１７の周辺部の領域１７２への露
光を行う。この時の露光幅は、ブラインド１６Ａ，１６
Ｂにより任意に設定可能である。この２辺（領域１７
１，１７２）のの露光の後、基板１７を９０°回転さ
せ、基板１７の周辺部の領域１７３，１７４への露光を
行う。

【００４１】次に、周辺部の照射光学系１１Ａ〜１５
Ａ，１１Ｂ〜１５Ｂ内のシャッタを閉じて光束をカット
し、基板１７の中央部に配置された照射光学系１１Ｃ〜
１５Ｃを用いて基板１７の中央部の領域１７５を露光す
る。このとき、ブラインド１６Ａ，１６Ｂにて中央部の
領域１７５の露光幅を設定しておく。このように、中央
部の光学系のシャッターをオープンすることにより中央
部の露光を開始する。この中央部の領域１７５への露光
が完了したら、基板１７を９０°回転させて元の位置に
もどして、更に中央部の領域１７６を露光する。こうし
て時分割にて４回の露光を行うことにより基板１７の中
央部への露光も可能になる。

【００４２】また、上述の変形例では、中央部の領域１
７５，１７６への露光を行う照射光学系中の凹面鏡１５
Ｃを照射領域の長辺方向を軸とする回転方向へ回転可能
として、照射領域の位置をその長辺方向と直交する方向
に移動可能としたが、周辺部の領域１７１〜１７４への
露光を行う照射光学系中の凹面鏡１５Ａ，１５Ｂを回転
可能として周辺部の領域１７１〜１７４のみならず、中
央部の領域１７５，１７６に対しても露光を行えるよう
に構成しても構わない。この場合には、あらためて中央
部の露光の為に光学系を用いることをせずにすむといっ
た利点がある。

【００４３】なお、上述の露光動作では、周辺部の領域
１７１〜１７４への露光と、中央部の領域１７５，１７
６への露光とを別の動作にて行ったが、中央部の照射光
学系１１Ｃ〜１５Ｃのみに対応するブラインドを配置す
るスペースが確保できれば、３つの照射光学系を同時に
用いて、領域１７１，１７２，１７６への露光を同時に
行った後に基板を９０°回転させ、領域１７３，１７
４，１７５への露光を同時に行うこともできる。このよ
うにすれば、周辺露光のスループットを向上できる利点
がある。

【００４４】また、上記実施形態では、照射光学系に凹
面鏡を用いたが、凹面鏡に限ることなく、例えばレンズ
系と平面鏡、レンズ系と凹面鏡、レンズ系と凸面鏡、更
にはレンズのみの構成や、フレネルレンズを用いても当
然構わない。また、上述の実施形態ではオプティカルイ
ンテグレータとしてフライアイレンズを適用したが、射
出面の形状が照射領域と相似形のロッドインテグレータ
（内面反射型インテグレータ）や、ランダムに束ねられ
たファイバー束（ランダムファイバー束）をオプティカ
ルインテグレータとして用いても構わない。また、ファ
イバーにて光束を整形する場合には射出端を矩形にして
拡大光学系にてファイバー端をリレーする構成とするの
が望ましい。また、フライアイレンズを直接楕円鏡の第
２焦点位置近傍に配置して、リレーレンズ無で、フライ
アイレンズのみで、基板を照明しても構わない。

【００４５】図５は、照射光学系をレンズ系のみで構成
し、オプティカルインテグレータとしてロッド型（内面
反射型）インテグレータを用いた場合の変形例である。
図５において、光源１０及び楕円鏡１１は、前述の第１
実施形態と同様である。そして、楕円鏡１１の第２焦点
位置近傍に入射端面が位置するようにロッド型インテグ
レータ２２を配置する。ロッド型インテグレータ２２に
入射する楕円鏡からの光は、このロッド型インテグレー
タ２２の内面で反射を繰り返し、その射出面にほぼ均一
な照度分布を形成する。ロッド型インテグレータ２２の
射出側には、その射出面の像を被照射面としての基板１
７上に形成するためのリレー光学系２３が配置されてお
り、基板１７上にはロッド型インテグレータ２２の射出
面の像である照射領域が形成される。なお、本変形例で
は、リレー光学系２２の倍率は拡大倍率としている。ま
た、ロッド型インテグレータの射出面の形状は基板１７
上の照射領域と相似形状に形成している。図５の例では
リレー光学系として屈折型光学系（レンズのみの光学
系）を適用したが、前述したようにフレネルレンズ、凹
面鏡等を組み合わせて構成しても構わない。また、図５
の例では、照射光学系１１，２２，２３を折れ曲がりの
無い光軸に沿って直線的に配置したが、照射光学系の光
路中に光路折り曲げミラーを設けて、その光路を適宜折
り曲げても良い。例えば、光路折り曲げミラーは、リレ
ー光学系２３と基板１７との間の光路中、リレー光学系
２３中、リレー光学系２３とロッド型インテグレータ２
２との間の光路中、ロッド型インテグレータ２２と楕円
鏡１１との間の光路中などの少なくとも１つの位置に配
置することができる。また、ロッド型インテグレータ２
２自体に光路折り曲げ機能を持たせるために、Ｌ字形状
としても良い。なお、上述の変形例のようにＹ方向にお
ける中央の照射光学系では、周辺の照射光学系との光路
の干渉を避けるために光路折り曲げミラーにより照射光
学系の光軸をＸＺ平面内で折り曲げることが好ましい。

【００４６】また、オプティカルインテグレータとして
は、ランダムに束ねられたファイバー束（ランダムファ
イバー束）でも良い。この場合、ランダムファイバー束
は、図５のロッド型インテグレータと同じ位置に配置す
ることになるが、ファイバー束を構成する単繊維が基板
１７上に転写されないように、このファイバー束の射出
端と基板１７との共役関係を若干ずらすこと、言いかえ
ると、基板１７上にファイバー射出端のディフォーカス
像を形成することが好ましい。なお、ファイバー束を用
いる場合でも、その射出端全体の形状を基板１７上に形
成される照射領域の形状と相似形状とすることが良い。

【００４７】次に、図６を参照して第２実施形態につい
て説明する。第２実施形態の周辺露光装置は、１つの照
射光学系で基板の全面を照射するものである。なお、図
６では第１実施形態の周辺露光装置と同じ機能を有する
部材には同じ符号を付してある。図６に示す例における
照射光学系自体の構成は、前述の第１実施形態の照射光
学系と同様の構成であり、光源、楕円鏡、コリメートレ
ンズ、フライアイインテグレータ及び凹面鏡を有してい
る。ここで、第１実施形態の照射光学系とは異なる点
は、凹面鏡２４からの照明光が、基板全体を照明できる
ように構成されている点である。また、第２実施形態の
ブラインド１６Ａ，１６Ｂ自体の構成は、第１実施形態
と同様であるが、これらのブラインド１６Ａ，１６Ｂの
（Ｙ方向における）間に、基板１７の中央部に対して露
光させないための遮光部材を配置している。このブライ
ンド１６Ａ，１６ＢのＹ方向への移動により、基板１７
上への露光領域を可変にしている。

【００４８】第２実施形態では、上述のように１つの光
源を用いることにより、部品点数の削減を行い、装置の
コストダウンを図っている。さらに、第１実施形態と比
較すると、ランプの交換時も光源が１つであることか
ら、ダウンタイムを最小にすることも可能である。第２
実施形態における露光動作は、ブラインド１６Ａ，１６
ＢのＹ方向の位置を設定した後に基板１７の対向する２
辺への露光を行い、その後、基盤１７を９０°回転させ
た後にブラインド１６Ａ，１６ＢのＹ方向の位置を設定
し、露光済みの２辺と交わる方向の２辺への露光を行う
ものである。このように、第２実施形態では、基板１７
を９０°回転することにより基板の４辺への露光を可能
にしているが、４つのブラインドを基板の各辺毎に対応
させて配置することも可能である。このように４つのブ
ラインド（各辺毎のブラインド）を設ける場合には、例
えば、基板１７の互いに平行な２つの辺（対向する２つ
の辺）に対して照射領域を２つのブラインドで設定した
後にこれら２辺に対して露光を行う。このとき露光され
るべき辺と交わる方向のブラインドは、照射領域外へ退
避させておけば良い。その後、露光済みの辺と平行に延
びるブラインドを照射領域外へ退避させ、露光済みの辺
と交わる方向のブラインドを用いて、露光済みの２辺と
交わる２辺の照射領域を設定し露光する。このように構
成すれば、基板１７の９０°回転は不要になる。

【００４９】次に、図７を参照して、第２実施形態の変
形例について説明する。図７において、前述の第１及び
第２実施形態と同様の機能を有する部材には同じ符号を
付してある。なお、図７（ａ）は第２実施形態の第１の
変形例を示し、図７（ｂ）は第２の変形例を示す。これ
ら図７（ａ），（ｂ）に示す第２実施形態の変形例で
は、ブラインド１６Ａ，１６Ｂ間に位置する遮光部材を
光反射性の部材で構成し、さらに反射された光束を基板
１７へ向けて反射させることにより、光量ロスの低減を
図るものである。

【００５０】図７（ａ）に示す第１の変形例において、
第２実施形態と異なる点は、遮光部材２５の代わりに平
面鏡２６を設け、この平面鏡２６にて上方（＋Ｚ方向）
へ反射された光束を基板１７の照射領域へ向けて反射さ
せる反射部材２７Ａ，２７Ｂを設けた点である。これに
より、第２実施形態では遮光部材２５で遮光されてロス
となっていた光束が、本変形例では基板１７の照射領域
へ導かれるため、光量ロスの低減が図れ、仮に同じ出力
の光源を用いる場合で比較すれば露光時間の短縮を図る
ことができる。なお、平面鏡２６の代わりに、凹面鏡や
凸面鏡、さらには図中Ｘ方向に稜線を持ち凹面鏡側に凸
となる屋根型反射面を用いることも可能である。なお、
凸面鏡や屋根型反射面を用いる場合には、さらに多くの
光量を反射部材２７Ａ，２７Ｂへ導くことが可能である
ため、さらなる露光時間の短縮、すなわちスループット
の向上を図ることができる。

【００５１】図７（ｂ）に示す第２の変形例では、遮光
部材２５の（Ｙ方向における）外側に、斜めに配置され
た反射ブラインド２８Ａ，２８Ｂを設けた点である。こ
のとき、基板１７上に形成される照射領域の内側の端部
は、反射ブラインド２８Ａ，２８Ｂのエッジ部分（端
部）により規定される。そして、反射ブラインド２８
Ａ，２８Ｂの反射面にて反射された光束が、基板１７上
の照射領域へ反射されるように、各反射ブラインド２８
Ａ，２８Ｂの傾きを設定する。この構成では、反射ブラ
インド２８Ａ，２８Ｂ自体を図中Ｙ方向に沿って移動さ
せることにより、基板１７上の照射領域の端部のＹ方向
の位置を設定できるが、このとき反射ブラインド２８
Ａ，２８Ｂの傾きも変化させて、常に反射ブラインド２
８Ａ，２８Ｂでの反射光束が照射領域へ導かれるように
構成することが好ましい。

【００５２】また、第２の変形例において、照射光学系
による最大照射領域を基板１７のサイズよりも小さく設
定しておき、反射ブラインド２８Ａ，２８Ｂの反射光束
のみを基板１７へ導くように（凹面鏡２４から直接に基
板１７へ導かれる光束がないように）構成しても良い。
この場合、斜設された反射ブラインド２８Ａ，２８Ｂの
下部分のＹ方向の位置を固定し、反射ブラインド２８
Ａ，２８Ｂの上部を上下動させる（反射ブラインド２８
Ａ，２８Ｂの下部分を軸として回転可能に設ける）こと
により、基板１７上での照射領域のＹ方向の幅を変更す
ることが可能となる。

【００５３】なお、上述の第１及び第２の変形例では、
基板１７の対向する２辺への露光を行う構成で説明した
が、基板１７の４辺（全辺）への露光を行う構成の場合
でも各変形例は適用できる。この場合、図７（ａ）の例
では、平面鏡２６と凹面鏡２４との間の光路を挟み、か
つ反射部材２７Ａ，２７Ｂを結ぶ直線と直交する方向に
沿って２つの反射部材を設け、平面鏡２６にて反射され
た光束をこの２つの反射部材で基板１７上の残りの２辺
へそれぞれ導くように構成すれば良い。なお、この場合
には、Ｘ方向に延びた稜線を持つ屋根型反射面ではな
く、凹面鏡側に凸を向けた錐型（角錐型、円錐型）の反
射面或いは凸面鏡を併用することにより、さらに光利用
効率の向上を図れる。また、図７（ｂ）の例では、角錐
形状の一部を形成するように４つの反射ブラインドを斜
設すれば良い、次に、図８を参照して、ブラインド部分
の変形例について説明する。図８は、ブラインドを遮光
部と透過部とを有する光透過性の基板（ガラス板）で構
成した例を示す。

【００５４】図８（ａ）〜（ｄ）に示すように、ブライ
ンドは、それぞれ遮光部３０Ａ〜３０Ｄが表面上に設け
られた４枚のガラス基板２９Ａ〜２９Ｄを有する。図８
（ｅ）に示すように、これらのガラス基板２９Ａ〜２９
Ｄは、Ｚ方向において重なるように保持部材３１Ａ〜３
１Ｄにて独立に保持される。そして、図８（ｆ）に示す
ように、各保持部材３１Ａ〜３１Ｄは、それぞれのガラ
ス基板２９Ａ〜２９Ｄが独立にＸＹ平面内で移動可能と
なるようにガイド３２に取り付けられている。

【００５５】これら各保持部材３１Ａ〜３１ＤのＸＹ平
面の移動により、４枚のガラス基板２９Ａ〜２９Ｄの遮
光部３０Ａ〜３０Ｄが重なった領域の大きさ、形状を可
変にできる。ここで、ガラス基板２９Ａ，２９Ｂ（遮光
部３０Ａ，３０Ｂ）と、ガラス基板２９Ｃ，２９Ｄ（遮
光部３０Ｃ，３０Ｄ）とのＹ方向における位置関係を調
整することにより、角型基板１７のＸ方向に延びた辺
（短辺）に対する照射領域のＹ方向の幅を調整すること
ができる。そして、ガラス基板２９Ａ，２９Ｄ（遮光部
３０Ａ，３０Ｄ）と、ガラス基板２９Ｂ，２９Ｃ（遮光
部３０Ｂ，３０Ｃ）とのＸ方向における位置関係を調整
することにより、角型基板１７のＹ方向に延びた辺（長
辺）に対する照射領域のＸ方向の幅を調整することがで
きる。このとき、各ガラス基板２９Ａ〜２９Ｄ（遮光部
３０Ａ〜３０Ｄ）のＸＹ方向の位置を独立に設定するこ
とが可能であるので、角型基板１７の周辺に形成される
照射領域の幅、縦横比を変更することができる。

【００５６】図８に示すブラインドは、第２実施形態に
示した単一の光源と照射光学系とを組合わせて基板１７
の４辺（全辺）を一括露光するものに適用できる。この
とき、図８に示すブラインドでは、ブラインド（ガラス
基板２９Ａ〜２９Ｄ、遮光部３０Ａ〜３０Ｄ）を駆動す
る機構自体を、ＸＹ平面において基板１７よりも外側に
設けることが可能であるため、この駆動機構が基板１７
へ向かう光（照射光）をさえぎらない。従って、基板１
７の４辺（全辺）を同時に露光することが可能となり、
飛躍的にスループットを向上させることが可能である。
なお、スループットがさほど要求されない場合には、同
じスループットにすることにより、ランプ自体を多少低
出力のランプにすることも可能になる。

【００５７】なお、図８に示すブラインドは、第１実施
形態に示した複数の光源と照射光学系とを組合わせて基
板１７上の複数箇所に照射領域を形成するものと組合わ
せることも可能である。次に図９〜図１２を参照して第
３実施形態について説明する。図９は第３実施形態にか
かる周辺露光装置のＹＺ平面図であり、図１０は図９の
周辺露光装置におけるブラインド部を示すＹＺ平面図、
そして図１１は図９の周辺露光装置におけるブラインド
部近傍を示すＸＹ平面図である。

【００５８】図９では、前述の第１及び第２実施形態と
同様の機能を有する部材には同じ符号を付してある。図
９において、光源としての超高圧水銀灯１０からの光
は、光源１０の発光部が第１焦点位置となるように位置
決めされた楕円鏡１２により集光され、所定の波長（例
えば４００ｎｍ以下の波長）のみを反射するダイクロイ
ックミラー１２を介して照射ユニット３３へ導かれる。
この照射ユニット３３内には、例えば楕円鏡１２の第２
焦点位置に形成される光源像からの光をコリメートする
コリメータレンズ（オプティカルインテグレータ）、コ
リメータされた光から複数の光源像からなる２次光源を
形成するフライアイレンズ、フライアイレンズによる２
次光源からの光を集光するコンデンサレンズ系などが収
められている。なお、照射ユニット３３としては、楕円
鏡１２からの光をコリメートせずに、楕円鏡１２の第２
焦点位置に形成される光源像をフライアイレンズに直接
投射する構成、楕円鏡１２による光源像をリレー光学系
でフライアイレンズ内に再結像させる構成、オプティカ
ルインテグレータとして図５に示したようなロッド型イ
ンテグレータを用いる構成なども適用できる。

【００５９】この照射ユニット３３からの光は、光路折
り曲げミラーとしての平面鏡３４にて反射されて、基板
１７の全面を覆う領域を照射する。本実施形態において
も、基板１７の直上には、照射光学系からの光を制限
（遮光）して基板１７上に所望の形状の照射領域を形成
するための可動ブラインド部３５Ａ，３５Ｂが設けられ
ている。

【００６０】図１０を参照して可動ブラインド部３５
Ａ，３５Ｂについて説明する。なお、本実施形態におけ
る可動ブラインド部３５Ａ，３５Ｂの構成は同一である
ため、ここでは一方の可能ブラインド部３５Ａの構成に
ついてのみ説明する。図１０において、可動ブラインド
部３５Ａは、Ｙ方向に沿って直線的に延びたリニアガイ
ド３６にガイドされてＹ方向へ移動可能に設けられた２
つの可動エッジ部３５１Ａ，３５２Ａと、これら２つの
可動エッジ部３５１Ａ，３５２Ａの間に設けられてＹ方
向の幅が伸縮自在に設けられた折畳式蛇腹（ベローズ）
３５３Ａとを有する。この構成により、可動エッジ部３
５１Ａ，３５２Ａの間を通って基板１７へ向かう光は折
畳式蛇腹３５３Ａにて遮光され、かつ可動エッジ部３５
１Ａ，３５２ＡのＹ方向における外側（可動エッジ部３
５１Ａの＋Ｙ方向側及び可動エッジ部３５２Ａの−Ｙ方
向側）を通過する光が基板１７へ導かれる。従って、可
動エッジ部３５１Ａ，３５２ＡのＹ方向への移動によ
り、基板１７上の照射領域のＹ方向の幅を可変にでき
る。なお、可動エッジ部３５２Ａ及び可動エッジ部３５
１Ｂの間の間隔を調整することにより、基板１７の中央
部付近に形成される照射領域のＹ方向の幅を調整でき、
可動エッジ部３５２Ａ、３５１Ｂを重ねあわせることに
より、基板１７の中央部への露光を行わないこともでき
る。このとき、可動エッジ部３５２Ａ，３５１Ｂの端部
に形成されるブレード３５２０Ａ，３５１０ＢのＺ方向
の高さを僅かに異ならせておくことが好ましい。

【００６１】図１１を参照して、基板１７と、可動ブラ
インド３５Ａ，３５Ｂを駆動させる機構との位置関係に
ついて説明する。図１１において、基板１７が載置され
る位置を挟んで２つのリニアガイド３６Ｌ，３６Ｒが設
けられている。ここで、各可動エッジ部３５１Ａ，３５
１Ｂ，３５２Ａ，３５２Ｂのそれぞれは、これら各リニ
アガイド３６Ｌ，３６ＲによりＹ方向へ可動となるよう
にガイドされている。そして、各リニアガイドの外側に
は、モータ３７１ＬＡ，３７１ＬＢ，３７１ＲＡ，３７
１ＲＢ及び送りねじ３７２ＬＡ，３７２ＬＢ，３７２Ｒ
Ａ，３７２ＲＢを収納してなる駆動部３７Ｌ，３７Ｒが
設けられている。ここで、可動エッジ部３５１Ａの＋Ｘ
方向の端部はモータ３７１ＬＡにより回転駆動される送
りねじ３７２ＬＡを介して駆動される。同様に、可動エ
ッジ部３５１Ｂの−Ｘ方向の端部は送りねじ３７２ＲＡ
を介したモータ３７１ＲＡにより駆動され、可動エッジ
部３５２Ａの＋Ｘ方向の端部は送りねじ３７２ＬＢを介
したモータ３７１ＬＢにより駆動され、そして可動エッ
ジ部３５２Ｂの−Ｘ方向の端部は送りねじ３７２ＲＢを
介したモータ３７１ＲＢにより駆動される。

【００６２】さて、図９に戻って、第３実施形態の周辺
露光装置は角型基板を９０°ずつ回転させる基板回転部
３８を有しており、基板の９０°回転の前後で露光を行
うことにより、前述の図４に示したような田の字型の露
光領域（照射領域）を基板１７上に形成することができ
る。この図４の照射領域を得るための露光動作につき簡
単に説明する。まず、可動ブラインド３５Ａ，３５Ｂの
Ｙ方向の位置を所望の位置に設定した後、照射光学系を
介して照射領域１７１，１７２，１７６への露光を行
う。その後、基板回転部３８により基板１７を９０°回
転させ、さらに可動ブラインド３５Ａ，３５ＢのＹ方向
の位置を所望の位置に設定し、照射光学系を介して照射
領域１７３，１７４，１７５への露光を行う。

【００６３】なお、第３実施形態では、Ｙ方向へ独立移
動可能な可動エッジ部３５１Ａ，３５１Ｂ，３５２Ａ，
３５２Ｂの間を折畳式蛇腹３５３Ａ，３５３Ｂからなる
遮光部材で覆う構成としたが、図１２に示す構成も可能
である。ここで、図１２（ａ）は、可動エッジ部３５１
Ａ，３５２Ａの間と可動エッジ部３５１Ｂ，３５２Ｂの
間とを、幕状の遮光部材３５４Ａ，３５４Ｂで覆い、可
動エッジ部３５１Ａ，３５２Ａの間隔及び可動エッジ部
３５１Ｂ，３５２Ｂの間隔の変更に対応するために幕状
の遮光部材３５４Ａ，３５４Ｂを巻き取る巻き取りロー
ラ３５５Ａ，３５５Ｂを設けた変形例を示す。

【００６４】図１２（ｂ）は、図１２（ａ）の巻き取り
ローラ３５５Ａ，３５５Ｂに代えて、回転ローラ３５６
Ａ，３５６Ｂと、幕状の遮光部材３５４Ａ，３５４Ｂの
端部に張力を与える張力機構（引張ばね）３５７Ａ，３
５７Ｂを設けたものである。そして、図１２（ｃ）は、
可動エッジ部３５１Ａ，３５２Ａ上に内側へ延びた平板
状の遮光板３５８Ａ，３５９Ａを形成し、かつ可動エッ
ジ部３５１Ｂ，３５２Ｂ上に内側へ伸びた平板状の遮光
板３５８Ｂ，３５９Ｂを形成したものである。このと
き、遮光板３５８Ａ，３５９ＡのＺ方向の高さを互いに
若干異ならしめ、かつ遮光板３５８Ｂ，３５９ＢのＺ方
向の高さを互いに若干異ならしめている。なお、この図
１２（ｃ）の変形例では、可動エッジ部３５１Ａ，３５
２Ａの間及び可動エッジ部３５１Ｂ，３５２Ｂの間を覆
うように遮光板を設けているが、可動エッジ部３５２
Ａ，３５１Ｂの間をも覆うように遮光板３５９Ａ，３５
８Ｂを形成しても良い。このときには、可動エッジ部３
５２Ａ，３５１Ｂ間に形成される照射領域の幅を可変に
できるだけではなく、この間（基板１７の中央部付近）
に照射領域を形成させないようにもできる。

【００６５】なお、図１０及び図１２に示したブライン
ド部は、上述の第１及び第２実施形態の周辺露光装置に
も適用可能である。また、第３実施形態では２つの可動
ブラインド部を設けた構成としたが、第２実施形態のよ
うに１つの可動ブラインド部としても良い。以上の通
り、本発明の各実施形態によれば、露光光として４００
ｎｍ以下の光を用いて露光する場合であっても、石英の
ファイバーのみで構成する場合に比べて、ファイバー自
体の価格が安く、更に、ファイバーが基板上を走り回る
ような構成とは異なり、ファイバー自体にストレスが加
わり断線するといったこともない。さらには、ファイバ
ーを走査するための大型のガイドと等速スキャンさせる
ための機構が不要となり、大幅なコストダウンと安定し
た周辺露光装置が実現する。また、固定的に光学系が配
置してあるので、スループットをアップさせるために
は、ランプパワーをアップすれば、照度アップとなり、
容易にスループットを向上させることも可能になる。

【００６６】なお、上記各実施形態は４００ｎｍ以下の
露光光を用いることを前提としているが、本発明は４０
０ｎｍ以下の露光光を用いる装置のみには限定されな
い。

【００６７】

【発明の効果】上述の構成の如き本発明によれば、長い
石英ファイバーを用いることなく、露光幅の拡大を容易
にできるため、安価に構成することが可能になり、ファ
イバー自体を移動させないため、耐久性にすぐれ、かつ
安価な周辺露光装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態にかかる周辺露光装置の
概略的な構成を示す平面図である。

【図２】第１実施形態にかかる周辺露光装置の全体構成
を示す斜視図である。

【図３】第１実施形態の変形例にかかる周辺露光装置の
要部を示す平面図である。

【図４】第１実施形態の変形例にかかる周辺露光装置を
用いて基板上に形成される照射領域の一例を示す平面図
である。

【図５】第１実施形態の変形例を示す平面図である。

【図６】本発明の第２実施形態にかかる周辺露光装置の
全体構成を示す斜視図である。

【図７】第２実施形態にかかる周辺露光装置の変形例を
示す図である。

【図８】第２実施形態にかかる周辺露光装置の変形例の
要部を示す図である。

【図９】本発明の第３実施形態にかかる周辺露光装置の
概略的な構成を示す図である。

【図１０】第３実施形態にかかる周辺露光装置の要部を
示す図である。

【図１１】第３実施形態にかかる周辺露光装置を示す平
面図である。

【図１２】第３実施形態の変形例にかかる周辺露光装置
の要部を示す図である。

【符号の説明】

１０Ａ，１０Ｂ：光源１６Ａ，１６Ｂ：ブラインド（露光領域可変手段）１７：基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者堀越崇広東京都千代田区丸の内３丁目２番３号株式会社ニコン内 (72)発明者菊池哲男東京都千代田区丸の内３丁目２番３号株式会社ニコン内Ｆターム(参考） 2H097 AA02 AA04 AA08 BB01 CA05 CA07 CA12 LA10 LA12 5F046 AA05 AA06 CA07 CB05 CB13 CC03 CC05 CC06 DA02 DA30 DB01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】角型基板に塗布された感光性材料上の所定
の回路パターンが転写される領域とは異なる領域に対し
て露光光を照射する周辺露光装置であって、露光光を供給する光源と、該光源からの露光光を前記基板へ向ける照明光学系と、前記光源と前記基板との間に配置されて、前記基板上に
前記露光光が照射される領域である露光領域を制限する
ための露光領域可変手段とを有し、前記光源、前記照明光学系及び前記露光領域可変手段と
前記基板とを相対的に静止した状態で、前記基板の前記
異なる領域への露光を行うことを特徴とする周辺露光装
置。
【請求項２】前記照明光学系及び前記露光領域可変手段
により形成される前記露光領域の長手方向は、前記基板
の所定の辺よりも長く設定されることを特徴とする請求
項１記載の周辺露光装置。
【請求項３】前記照明光学系及び前記露光領域可変手段
により形成される前記露光領域の短手方向は、前記露光
領域が形成される前記基板の辺と隣接する辺よりも短く
設定されることを特徴とする請求項２記載の周辺露光装
置。
【請求項４】前記露光領域可変手段は、第１露光領域可
変手段と第２露光領域可変手段とを少なくとも有し、前記角型基板の周辺部の少なくとも２つの領域を前記露
光領域として設定し、該少なくとも２つの露光領域を同
時に露光することを特徴とする請求項１乃至３の何れか
一項記載の周辺露光装置。
【請求項５】前記照明光学系は、第１照明光学系と第２
照明光学系とを少なくとも有することを特徴とする請求
項４記載の周辺露光装置。
【請求項６】前記照明光学系は、前記基板上の前記露光
領域の照度を実質的に均一にするためのオプティカルイ
ンテグレータを有することを特徴とする請求項１乃至５
の何れか一項記載の周辺露光装置。
【請求項７】前記角型基板をほぼ９０°ずつ回転させる
基板回転機構をさらに有し、前記露光領域可変手段により形成される前記露光領域
は、前記基板の長辺または短辺を横切るように形成さ
れ、前記基板の長辺または短辺への露光の後に、前記基板回
転機構により前記基板を回転させ、前記基板の短辺また
は長辺への露光を行うことを特徴とする請求項１乃至６
の何れか一項記載の周辺露光装置。
【請求項８】前記露光領域は変更可能に設けられ、該変
更可能な露光領域の最大領域の前記基板の辺に直交する
方向の幅は、前記基板の長辺の長さと短辺の長さとの差
の１／２を包含する幅であることを特徴とする請求項１
乃至７の何れか一項記載の周辺露光装置。
【請求項９】前記照明光学系及び前記露光領域可変手段
により形成される前記露光領域は、前記基板の全ての辺
に対して同時に形成されることを特徴とする請求項１乃
至６の何れか一項記載の周辺露光装置。
【請求項１０】前記露光領域可変手段は、前記基板の各
辺に対応して設けられ、前記基板の各辺のうち少なくとも１つの辺に対応する露
光領域可変手段を選択的に設定または退避可能に構成さ
れることを特徴とする請求項１乃至９の何れか一項記載
の周辺露光装置。
【請求項１１】複数の前記露光領域可変手段と、該複数
の露光領域可変手段を所望の位置に設定するための駆動
手段とを有し、前記露光領域可変手段は、光透過部と光遮光部とを有す
る光透過性の部材で形成され、前記複数の露光領域可変手段を所定の位置に設定した後
に、前記基板の各辺のうちの少なくとも２辺に対して同
時に露光を行うことを特徴とする請求項１乃至９記載の
周辺露光装置。
【請求項１２】前記感光性材料を前記角型基板へ塗布す
る第１工程と、前記角型基板上の前記感光性材料上の所定領域に回路パ
ターンを転写する第２工程と、請求項１乃至１１の何れか一項記載の周辺露光装置を用
いて前記回路パターンが転写される領域に対して露光光
を照射する第３工程とを有し、前記第３工程は、前記第２工程の前または後に実行され
ることを特徴とする周辺露光方法。