JP2000290044A

JP2000290044A - 低反射ガラス板およびそれを用いた車両用低反射合わせガラス板

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Publication number: JP2000290044A
Application number: JP11095063A
Authority: JP
Inventors: Etsuo Ogino; 悦男荻野; Kenji Mori; 健次森; Daisuke Arai; 大介新井
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 1999-04-01
Filing date: 1999-04-01
Publication date: 2000-10-17

Abstract

(57)【要約】【課題】斜め入射光に対する反射防止機能を有し、さ
らにその表面のみならず裏面からの反射をも低減しうる
低反射ガラス板を提供することにある。【解決手段】ガラス板の一方の主面上に、光吸収膜、
高屈折率膜、および低屈折率膜を順次積層した低反射膜
を有する低反射ガラス板において、前記光吸収膜は金属
化合物よりなり、前記高屈折率膜はその屈折率ｎ_Hと幾
何学的膜厚ｄ_Hが、ｎ_H＝２．０〜２．５、ｄ_H＝６０〜
１５０ｎｍであり、前記低屈折率膜はその屈折率ｎ_Lと
幾何学的膜厚ｄ_Lが、ｎ_L＝１．４４〜１．４８、ｄ_L＝
８５〜１１０ｎｍとした低反射ガラス板であり、垂直入
射光および斜め入射光に対する可視光反射率を低減させ
た低反射ガラス板である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は低反射ガラス板に関
し、特に斜め入射光に対する反射防止も考慮された低反
射ガラス板であり、さらに曲げ加工や強化加工にも適用
される低反射ガラス板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光学部品やＣＲＴの表面、ディス
プレイ用フィルターの表面反射を低減するために、数多
くの反射防止膜の提案がなされている。

【０００３】その１つの解決手段として、光学薄膜を利
用した反射防止膜がある。この反射防止膜に関しては、
多くの解説書（例えば、吉田貞史、矢嶋弘義共著：
「薄膜・光デバイス」、(1994)、東京大学出版会、H.A.
Macleod:"Thin-Film Optical Filters,2nd Editon",Ada
m Hilger Ltd,Bristol, T.J.Coutts Edited:"ACTIVE AN
D PASSIVE THIN FILM DEVICES",p334-p344,(1978),ACAD
EMIC PRESS, H.K.PULKER:"Coatings on Glass",p399-p4
07,(1984),ELSEVIER,）や、ハンドブック（例えば、
「薄膜ハンドブック」、ｐ８１８〜、オーム社）によっ
て説明がなされている。

【０００４】さらに光学多層膜において、吸収膜として
金属膜を含む場合についても、上述した「薄膜・光デバ
イス」や「薄膜ハンドブック」で解説されている。

【０００５】ところで、特開平９−１５６９６４号に
は、ＣＲＴなどにおける反射防止技術として、基体上に
光吸収膜とシリカ膜の２層膜からなる光吸収性反射防止
体が開示されている。詳しくは、光吸収膜の幾何学的膜
厚が５〜２５ｎｍで、シリカ膜の幾何学的膜厚が７０〜
１１０ｎｍとしている。さらに、光吸収膜は、チタン、
ジルコニウム、およびハフニウムからなる群から選ばれ
る少なくとも１種の金属の窒化物を主成分とする膜であ
ることが示されている。

【０００６】さらに第２発明として、基体上に光吸収膜
と、高屈折率膜と、シリカ膜の３層膜からなる光吸収性
反射防止体が開示されている。詳しくは、光吸収膜の幾
何学的膜厚が１５〜２５ｎｍ、高屈折率膜の幾何学的膜
厚が１０〜４０ｎｍで、かつシリカ膜の幾何学的膜厚が
５０〜９０ｎｍとしている。

【０００７】上述の特開平９−１５６９６４号にはさら
に、上述の光吸収膜とシリカ膜との間に、酸化バリア層
と称して、幾何学的膜厚が１〜２０ｎｍの金属または金
属窒化物を主成分とする層を設けることが示されてい
る。具体的には、クロム、モリブデン、タングステン、
バナジウム、ニオブ、タンタル、亜鉛、ニッケル、パラ
ジウム、白金、アルミニウム、インジウム、スズ、およ
びシリコンからなる群から選ばれる少なくとも１種の金
属を主成分とする膜、またはこれらの窒化物を主成分と
する膜、あるいはチタン、ジルコニウム、およびハフニ
ウムからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属を主
成分とする膜が示されている。特に、シリコンまたはシ
リコンの窒化物を主成分とする膜が好ましいとされてい
る。

【０００８】同じく、ＣＲＴなどにおける反射防止技術
として、特開平１０−９６８０１号や特開平１０−２３
０５５８号にも、特開平９−１５６９６４号と同様の技
術が開示されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】一方、自動車などの車
両用に用いられる窓ガラスにおいても、低反射機能が求
められている。特に自動車のウインドシールドガラス
は、その構成上ダッシュボードが写り込むことになる。
この写り込みは、ドライバーにとって、窓ガラスを通じ
て外界からの情報を認知する際のノイズとなる。日射光
線が強いときはなおさら、この写り込みが顕著になる。

【００１０】また、デザイン上や空気力学上の要請によ
り、ウインドシールドガラスは、さらに傾斜して取り付
けられるようになってきている。したがって、ダッシュ
ボードの写り込みの影響は、ますますその度合を増して
きている。

【００１１】特に夜間において、ダッシュボードの計器
類や、ダッシュボードの周辺に設けられるカーナビゲー
ション装置などからの光の写り込みは、ドライバーにと
って非常に目障りになる。

【００１２】さらに、ヘッドアップディスプレイ装置
（ＨＵＤ）を装着した自動車でも、表示すべき情報以外
に写り込みがあると、その視認性を低下させることにな
る。

【００１３】自動車などの車両用に用いられる窓ガラス
などの透明基体において、低反射機能を付与するため、
光学薄膜による反射防止膜を形成するとき、以下のよう
な問題点がでてくる。

【００１４】すなわち、上述した解説書等で述べられて
いる反射防止膜は、透明体表面と垂直入射光に関する反
射防止を主として論じられている。斜め入射光に対する
反射防止や、透明体が板状であるときの裏面からの反射
を防止する機能に関しても、考慮された総合的な反射防
止膜については、なにも説明はされていない。

【００１５】まず、特に自動車のウインドシールドガラ
スでは、その構成上、斜め入射光に対する反射防止機能
が重要になってくる。上述の「薄膜ハンドブック」のｐ
８２１には、「反射防止膜の選択にあたっては、反射率
の入射角依存性も考慮しなければならない。一般に多層
膜になるほど小さい入射角度で反射率が増大し始めるた
め、多層反射防止膜を用いる場合に注意が必要であ
る。」との指摘がなされている。しかしながら、具体的
な解決方法等はなにも示されていない。

【００１６】つぎに、透明体裏面からの反射を低減しう
る反射防止膜を考えることにする。ｎ_ｓ＝１．５２のガ
ラス板では、その表面と裏面においてそれぞれ約４％の
反射が生じる。表面における反射については上述した反
射防止膜で、反射を防ぐことができる。しかし、裏面か
らの反射光を低減することを考えた場合、上述した反射
防止膜のみでは、例え光学薄膜の設計を変更したところ
で、それを達成することは不可能である。なぜなら、上
述した反射防止膜は、基本的に透明体である誘電体より
なる光学薄膜だからである。

【００１７】そこで、光学多層膜において吸収膜を含む
場合について検討してみる。このとき、可視光透過率を
問わなければ、金属膜を吸収膜として利用することがで
きる。しかし、自動車のウインドシールドガラスなどの
用途では、ある一定以上の可視光透過率を有することが
求められることがある。

【００１８】このような場合では、金属膜は吸収能が大
きすぎるため、可視光透過率が小さくなりすぎるので、
吸収膜として利用することができない。もし金属膜で可
視光透過率を満足しようとすると、非常に薄い膜厚とな
り、連続膜として形成できるか不明である。またこのよ
うな膜では、耐食性などの耐久性の観点からも問題があ
る。特に自動車や建築の用途では、耐久性の問題は重要
である。

【００１９】上述の特開平９−１５６９６４号では、光
吸収膜として、チタン、ジルコニウム、およびハフニウ
ムからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属の窒化
物を主成分とする膜であることが示されている。

【００２０】さらに、上述の特開平１０−９６８０１号
でも、光吸収膜として、金を含有する膜、金膜、金を５
０重量％以上含む合金膜、該合金の窒化物膜、該合金の
酸窒化物膜、該合金の炭化物膜または該合金の炭窒化物
膜や、銅を含有する膜、銅膜、銅窒化物膜、銅酸窒化物
膜、銅炭化物膜、銅炭窒化物膜、銅を５０重量％以上含
む合金膜、該合金の窒化物膜、該合金の酸窒化物膜、該
合金の炭化物膜または該合金の炭窒化物膜が示されてい
る。

【００２１】しかしながら、上述した特開平９−１５６
９６４号、特開平１０−９６８０１号や特開平１０−２
３０５５８号に開示された技術は、主としてＣＲＴなど
における反射防止技術であって、垂直方向からの入射光
の反射防止を目的としていると考えられ、斜め入射光に
関する反射防止についてはなにも触れられていない。

【００２２】また自動車用の窓ガラスは、通常曲げ加工
や合わせ加工が施されて適用されている。まずガラス板
に反射防止膜を形成し、その後これらの加工を施すと
き、反射防止膜は加熱工程を経ることになる。したがっ
て、反射防止膜には、耐熱性が求められることになる。

【００２３】以上述べたような課題を解決するために、
本発明の目的としては、板状透明体であるガラス板にお
いて、裏面からの反射を吸収し低減する光吸収膜と、高
屈折率膜および低屈折率膜からなる光学多層膜とを組み
合わせることによって、垂直入射光のみならず、斜め入
射光に対する反射防止機能をも有しうる低反射ガラス板
を提供することにある。

【００２４】また、耐熱性についても考慮された反射防
止膜を有する低反射ガラス板を提供することにある。

【００２５】さらにこれら低反射ガラス板を用いた自動
車用低反射ガラス板を提供することでもある。

【００２６】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、請求
項１として、ガラス板の一方の主面上に、光吸収膜、高
屈折率膜、および低屈折率膜を順次積層した低反射膜を
有する低反射ガラス板において、前記光吸収膜は金属化
合物よりなり、前記高屈折率膜はその屈折率ｎ_Hと幾何
学的膜厚ｄ_Hが、ｎ_H＝２．０〜２．５、ｄ_H＝６０〜１
５０ｎｍであり、前記低屈折率膜はその屈折率ｎ_Ｌと幾
何学的膜厚ｄ_Ｌが、ｎ_L＝１．４４〜１．４８、ｄ_L＝８
５〜１１０ｎｍとし、前記低反射膜面側からの垂直入射
光に対する可視光反射率が５％以下であり、前記低反射
膜面側からの６０°入射光（垂直を０°としたときの角
度）に対する可視光反射率が１２％以下であり、前記ガ
ラス板側からの垂直入射光に対する可視光反射率が１０
％以下であることを特徴とする低反射ガラス板である。

【００２７】また請求項２として、請求項１に記載の低
反射ガラス板において、前記光吸収膜の複素屈折率をＮ
₁＝ｎ₁−ｉ・ｋ₁（ｎ₁は屈折率の実数部、ｋ₁は屈折率
の虚数部で消衰係数を表わす）と表記したとき、波長５
５０ｎｍにおけるｎ₁とｋ₁が、１．６≦ｎ₁≦３．５、０．３≦ｋ₁≦２．０、でありかつ、前記光吸収膜の幾何学的な膜厚ｄ₁が、３ｎｍ≦ｄ₁≦２０ｎｍ、である低反射ガラス板である。

【００２８】さらに請求項３として、請求項１または２
に記載の低反射ガラス板において、前記光吸収膜は、Ｎ
ｉＳｉＯＮ（ニッケルシリサイドの酸窒化物）、ＳｉＣ
（炭化珪素），ＳｉＣＯＮ（炭化珪素の酸窒化物），お
よびＴｉ，Ｚｒ，Ｔａ，Ｎｂの窒化物あるいは酸窒化物
のうちのいずれかの材料を主成分とする低反射ガラス板
である。

【００２９】また請求項４として、請求項１から３いず
れかに記載の低反射ガラス板において、前記低反射ガラ
ス板の可視光透過率が７０％以上である低反射ガラス板
である。

【００３０】さらに請求項５として、請求項１から３い
ずれかに記載の低反射ガラス板において、前記光吸収膜
と前記高屈折率膜の間に、さらに酸素遮断性能を有する
膜を設けた低反射ガラス板である。

【００３１】また請求項６として、請求項５に記載の低
反射ガラス板において、前記ガラス板と前記光吸収膜の
間に、さらに酸素遮断性能を有する膜を設けた低反射ガ
ラス板である。

【００３２】さらに請求項７として、請求項５または６
に記載の低反射ガラス板において、前記酸素遮断性能を
有する膜は、主成分として窒化珪素からなる、あるいは
ＳｉＮ_xＯ_1-xと表わされる酸窒化珪素からなり、前記Ｘ
の値が０．６≦Ｘ＜１．０である低反射ガラス板であ
る。

【００３３】また請求項８として、請求項１から３いず
れかに記載の低反射ガラス板において、前記高屈折率膜
は、酸化チタン，酸化タンタル，酸化ニオブ，酸化錫か
ら選ばれた材料を少なくとも１種以上を主成分とする膜
である低反射ガラス板である。

【００３４】さらに請求項９として、請求項１から３い
ずれかに記載の低反射ガラス板において、前記低屈折率
膜は、酸化珪素を主成分とする膜である低反射ガラス板
である。

【００３５】また以上の低反射ガラス板を用いた合わせ
ガラス板として、請求項１から９いずれかに記載の低反
射ガラス板の他方の面と、前記ガラス板と別の透明ガラ
ス板を、熱可塑性樹脂製中間膜で接着した車両用低反射
合わせガラス板であって、該合わせガラス板の可視光透
過率が７０％以上であり、低反射膜の形成面を車両の室
内側とすることを特徴とする車両用低反射合わせガラス
板である。

【００３６】まず光吸収膜としては、適度な可視光透過
率を有しかつ耐久性が求められるので、金属ではなく、
金属化合物が適切である。具体的な材料としては、Ｎｉ
ＳｉＯＮ（ニッケルシリサイドの酸窒化物）、ＳｉＣ
（炭化珪素），ＳｉＣＯＮ（炭化珪素の酸窒化物），お
よびＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｎｂの窒化物あるいは酸
窒化物などが例示できる。

【００３７】上述したＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｎｂな
どの遷移金属の窒化物あるいは酸窒化物よりなる薄膜
は、金属膜のような強い吸収がなく、請求項２に記載し
た光学定数の範囲に入る材料である。またそれらは、優
れた耐久性，耐熱性を有するので好ましい材料である。

【００３８】つぎに高屈折率膜は、ｎ_H＝２．０〜２．
５の屈折率を有する材料であればよい。具体的には、ｎ
＝２．０〜２．５の屈折率を有する材料としては、Ｉｎ
₂Ｏ₃(2.0)、Ｎｄ₂Ｏ₃(2.1)、ＺｒＯ₂(2.1)、ＣｅＯ₂(2.
2)、ＴｉＯ₂(2.2〜2.7)、ＺｎＳ(2.35)、Ｔａ₂Ｏ₅(2.
1)、Ｎｂ₂Ｏ₅(2.2)、ＳｎＯ₂(2.0)などが挙げられる。
特にＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＳｎＯ₂は、優れた
耐久性あるいは耐熱性の点で好ましく用いられる。

【００３９】さらに低屈折率膜は、ｎ_L＜１．５の屈折
率を有する材料であればよい。さらにｎ_L＝１．４４〜
１．４８の屈折率を有する材料が好ましい。具体的に
は、ｎ＜１．５の材料としては、ＭｇＦ₂(1.38)、Ｓｉ
Ｏ₂(1.46)などが挙げられが，耐久性や耐擦傷性の観点
でＳｉＯ₂が好ましい。

【００４０】また、酸素遮断性能を有する膜は、ＳｉＮ
_xＯ_1-xと表わされる窒化珪素あるいは酸窒化珪素を主成
分とする膜が好ましい。

【００４１】なお上述した特開平９−１５６９６４号や
特開平１０−９６８０１号では、光吸収膜とシリカ膜と
の間に、酸化バリア層と称して、幾何学的膜厚が１〜２
０ｎｍのＳｉまたはＳｉＮxの層が設けられている。こ
のバリア層に関する説明では、このバリア層は光学的に
は意味を持たないとされている。そのためその幾何学的
膜厚は、１〜２０ｎｍとされ、特に約５ｎｍ以下にすべ
きとしている。

【００４２】しかし本発明における酸素遮断膜では、後
述の実施例より明らかなように、その幾何学的膜厚は６
ｎｍ以上であり、５０ｎｍ以上であっても差し支えな
い。

【００４３】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。（第１実施形態）まず本発明の第１実施形態は、実質的
にガラス板上に光吸収膜、高屈折率膜、および低屈折率
膜を順次積層した低反射膜で構成される低反射ガラス板
である。

【００４４】（実施例１）図１を参照して、第１実施形
態を説明する。まずガラス基板２として、フロート法に
よって製造された通常の組成のソーダライムガラス基板
を準備した。このガラス基板を通常の手法で洗浄乾燥し
て、以下の実施例や比較例に供した。

【００４５】まず、光吸収層３を形成する。前記ガラス
基板２を、複数のチャンバーを有するインライン型マグ
ネトロンスパッタリング装置内に、ホルダーを介してセ
ットする。つぎに、チャンバー内をロータリーポンプ
と、クライオポンプあるいはターボポンプを用いて、１
０^-6Torrまで排気する。つづいて、ＮｉＳｉ合金ターゲ
ットを用い、Ｏ₂とＮ₂の混合ガスをチャンバー内に導入
し３mmTorrのガス圧で、反応性スパッタリングによりＮ
ｉＳｉＯＮ膜を形成した。

【００４６】つぎに高屈折率膜４を形成する。光吸収層
の形成された前記基板を、前記スパッタリング装置の別
のチャンバーで、Ｔｉ金属ターゲットを用い、Ｏ₂ガス
をチャンバー内に導入し３mmTorrのガス圧で、反応性ス
パッタリングによりＴｉＯ₂膜を形成した。

【００４７】さらに低屈折率膜５を形成する。高屈折率
膜の形成された前記基板を、前記スパッタリング装置の
さらに別のチャンバーで、Ｓｉ金属ターゲットを用い、
Ｏ₂ガスをチャンバー内に導入し３mmTorrのガス圧で、
反応性スパッタリングによりＳｉＯ₂膜を形成した。

【００４８】このようにして、ガラス板の一方の主面上
に、光吸収膜、高屈折率膜、および低屈折率膜を順次積
層した低反射膜１０を有する低反射ガラス板１を作製し
た（図１参照）。なお、各膜の膜厚は、表１に示したと
おりである。

【００４９】なお、上述した各膜は、反応性スパッタリ
ングによって作製しているので、その膜中に導入された
ガスを含んでいる。

【００５０】（実施例２〜６）実施例２は、実施例１と
同様の膜構成で、各膜の膜厚を変化させた例である。ま
たは、実施例３と４は、高屈折率膜として、Ｔａ金属タ
ーゲットを用い、Ｏ ₂ガスをチャンバー内に導入し３mmT
orrのガス圧で、反応性スパッタリングによりＴａ₂Ｏ₅
膜を形成した例である。その他の膜は、実施例１と同様
である。

【００５１】さらに、実施例５と６は、高屈折率膜とし
て、Ｓｎ金属ターゲットを用い、Ｏ ₂ガスをチャンバー
内に導入し３mmTorrのガス圧で、反応性スパッタリング
によりＳｎＯ₂膜を形成した例である。その他の膜は、
実施例１と同様である。以上のようにして低反射ガラス
板を作製した。それぞれの実施例における各膜の膜厚
は、表１に示したとおりである。なお表中のＭＦＬは、
緑色を有するフロートガラス板のことを表わす。

【００５２】なお実施例１〜６において、光吸収膜であ
るＮｉＳｉＯＮ膜のｎ₁、ｋ₁は、それぞれ１．８１、
０．４８であった。また上記実施例１〜６の各膜形成に
あたっては、反応に必要なガス雰囲気でスパッタリング
を行ったが、必要に応じてＡｒガスを混合することも可
能である。この場合、その膜中にはＡｒガスも含むこと
になる。

【００５３】

【表１】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実膜構成施低屈折率膜/高屈折率膜/(遮断膜)/光吸収膜/(遮断膜)/ガラス基板例 (nm) (nm) (nm) (nm) (nm) (板厚 mm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− １ＳｉＯ₂ / ＴｉＯ₂ / −− / NiSiON / −− / ＭＦＬ 95.9 / 96.6 / −− / 14.3 / −− / 4.2 ２ＳｉＯ₂ / ＴｉＯ₂ / −− / NiSiON / −− / ＭＦＬ 99.3 / 93.3 / −− / 6.0 / −− / 4.2 ３ＳｉＯ₂ / Ｔａ₂Ｏ₅ / −− / NiSiON / −− / ＭＦＬ 94.2 / 93.0 / −− / 12.4 / −− / 4.2 ４ＳｉＯ₂ / Ｔａ₂Ｏ₅ / −− / NiSiON / −− / ＭＦＬ 88.9 / 95.1 / −− / 10.3 / −− / 4.2 ５ＳｉＯ₂ / ＳｎＯ₂ / −− / NiSiON / −− / ＭＦＬ 96.2 / 97.2 / −− / 12.1 / −− / 4.2 ６ＳｉＯ₂ / ＳｎＯ₂ / −− / NiSiON / −− / ＭＦＬ 88.9 / 99.6 / −− / 9.8 / −− / 4.2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− ＭＦＬ：緑色フロートガラス

【００５４】以上のようにして作製したガラス基板の光
学特性を、表２に示す。なおガラス基板ＭＦＬ４．２の
可視光透過率は、８０．６％である。光学特性の測定
は，積分球付き可視域分光光度計で透過スペクトルある
いは反射スペクトルを測定し，ＪＩＳＲ３０１６の
算出方法に基づいて可視光透過率および可視光反射率を
算出した。なお、斜め入射光に対する反射防止機能の評
価を、膜面側の６０°入射光（垂直を０°としたときの
角度）の反射率によって行った。

【００５５】

【表２】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実透過率膜面側反射率ガラス面側反射率施Ｔvis(％) Ｒfvis(％)０° Ｒfvis(％)６０° Ｒgvis(％)０° 例 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− １７４．８４．０８．９６．９２７６．０４．１９．２６．７３７５．９３．９８．８６．６４７７．３３．７９．３５．９５７６．１３．９８．５６．５６７７．６３．５９．１５．６ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− ＊Ｔvis(％)：可視光透過率、Ｒfvis(％)０°：膜面側の垂直入射光の可視光反射率、Ｒfvis(％)６０°：膜面側の６０°入射光の可視光反射率、Ｒgvis(％)０°：ガラス面側の垂直入射光の可視光反射率、

【００５６】表２より明らかなように、本発明の第１実
施形態である実施例１〜６の低反射ガラス板は、いずれ
も可視光透過率が７４％以上であり、さらに低反射膜面
側からの垂直入射光に対する可視光反射率が４％以下で
あり、前記低反射膜面側からの６０°入射光に対する可
視光反射率が１０％以下であり、前記ガラス板側からの
垂直入射光に対する可視光反射率が７％以下である。

【００５７】以上のように、本発明の第１実施形態の低
反射ガラス板は、優れた可視光透過率を有しながら、垂
直入射光に対する反射防止機能のみならず、斜め入射光
に対しても反射防止機能を有した低反射ガラス板であ
る。

【００５８】（第２実施形態）まず本発明の第２実施形
態は、ガラス基板上に光吸収膜、高屈折率膜、および低
屈折率膜を順次積層した低反射膜で構成される低反射ガ
ラス板において、光吸収膜と高屈折率膜の間に酸素遮断
膜を設けたものである（図２参照）。

【００５９】（実施例７〜１３）図２を参照して、第２
実施形態を説明する。基本的な作製方法は、第１実施形
態に準じる。ガラス基板２には、通常のソーダライム組
成のフロート性能によるガラス板（ＦＬと表わす）およ
び上述のＭＦＬを用いた。光吸収膜３としては、ＮｉＳ
ｉＯＮ膜のほかに、ＳｉＣ膜、ＳｉＣＯＮ膜、およびＴ
ｉＮ膜を形成した。さらに、酸素遮断膜６としては、Ｓ
ｉＮ膜を形成した。

【００６０】光吸収膜３としてのＳｉＣ膜は、ＳｉＣセ
ラミックスターゲットを用い、Ａｒガスをチャンバー内
に導入し３mmTorrのガス圧で、スパッタリングを行い形
成した。ＳｉＣＯＮ膜は同じく、ＳｉＣセラミックスタ
ーゲットを用い、Ｏ₂とＮ₂の混合ガスをチャンバー内に
導入し３mmTorrのガス圧で、反応性スパッタリングによ
り形成した。またＴｉＮ膜は、Ｔｉ金属ターゲットを用
い、Ｎ_２ガスをチャンバー内に導入し３mmTorrのガス圧
で、反応性スパッタリングにより形成した。

【００６１】つぎに、酸素遮断膜６としてのＳｉＮ膜
は、Ｓｉ金属ターゲットを用い、Ｎ₂ガスをチャンバー
内に導入し３mmTorrのガス圧で、反応性スパッタリング
により形成した。なお、ＳｉＮ膜の成膜時には、特にＯ
₂は導入していない。しかしながら、Ｓｉは酸素と非常
に結合しやすいため、スパッタリング法で成膜を行う
と、チャンバー内に残存している酸素を取り込んで（酸
素と反応して）しまい、ＳｉＮＯ膜となってしまう。上
述したスパッタリング法によると、膜中に約２０％の酸
素を含んでいることを分析によって確認した。また、Ｓ
ｉの酸素との結合力の強さ故に、酸素遮断膜として機能
しているともいえる。

【００６２】つぎに第１実施形態と同様にして、高屈折
率膜４および低屈折率膜５を順次積層し、低反射膜１０
を形成した。

【００６３】さらに、曲げ加工や強化加工などにおける
加熱を想定して、得られた低反射ガラス板の耐熱性を調
べるために、低反射ガラス板を焼成炉で６３０℃で１０
分間、焼成した。なお、ソーダライムガラス板の曲げ加
工や強化加工は、約６００℃以上に加熱して行われてい
る。以上のようにして低反射ガラス板２０を作製した。

【００６４】なお実施例７〜１５において、光吸収膜で
あるＮｉＳｉＯＮ膜、ＳｉＣ膜、ＳｉＣＯＮ膜、および
ＴｉＮ膜をのｎ₁、ｋ₁は、表３に示したようであった。
また、それぞれの実施例における各膜の膜厚は、表４に
示したとおりである。

【００６５】

【表３】

【００６６】

【表４】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実膜構成施低屈折率膜/高屈折率膜/(遮断膜)/光吸収膜/(遮断膜)/ガラス基板例 (nm) (nm) (nm) (nm) (nm) (板厚 mm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− ７ＳｉＯ₂ / ＴｉＯ₂ / ＳｉＮ / NiSiON / −− / ＦＬ 99.5 / 96.5 / 7.5 / 16.8 / −− / 3.0 ８ＳｉＯ₂ / ＴｉＯ₂ / ＳｉＮ / ＳｉＣ / −− / ＦＬ 93.1 / 80.6 / 8.5 / 6.3 / −− / 3.0 ９ＳｉＯ₂ / ＴｉＯ₂ / ＳｉＮ / SiCON / −− / ＦＬ 92.2 / 68.3 / 13.4 / 15.2 / −− / 3.0 10 ＳｉＯ₂ / ＴｉＯ₂ / ＳｉＮ / ＴｉＮ / −− / ＦＬ 99.3 / 92.7 / 17.3 / 5.2 / −− / 3.0 11 ＳｉＯ₂ / ＴｉＯ₂ / ＳｉＮ / NiSiON / −− / ＭＦＬ 99.1 / 94.6 / 8.0 / 12.8 / −− / 4.2 12 ＳｉＯ₂ / Ｔａ₂Ｏ₅ / ＳｉＮ / NiSiON / −− / ＭＦＬ 95.6 / 93.7 / 6.4 / 7.0 / −− / 4.2 13 ＳｉＯ₂ / Ｔａ₂Ｏ₅ / ＳｉＮ / NiSiON / −− / ＭＦＬ 105.5 / 94.6 / 30.5 / 10.3 / −− / 4.2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− ＦＬ：フロートガラス

【００６７】以上のようにして作製した低反射ガラス板
の光学特性を、表５に示す。なおガラス基板ＦＬ３．０
の可視光透過率は、８９．８％である。

【００６８】

【表５】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実透過率膜面側反射率ガラス面側反射率施Ｔvis(％) Ｒfvis(％)０° Ｒfvis(％)６０° Ｒgvis(％)０° 例 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− ７７６．０４．０９．２８．４８８０．７４．０９．５８．３９８４．０４．２１０．４６．９ 10 ７２．０４．０９．１９．０ 11 ７５．３４．２９．０６．６ 12 ７５．８４．１８．９６．８ 13 ７６．７４．０８．９６．０ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００６９】表４より明らかなように、本発明の第２実
施形態である実施例７〜１３の低反射ガラス板は、いず
れも可視光透過率が７２％以上であり、さらに低反射膜
面側からの垂直入射光に対する可視光反射率が４％以下
であり、前記低反射膜面側からの６０°入射光に対する
可視光反射率が１１％以下であり、前記ガラス板側から
の垂直入射光に対する可視光反射率が９％以下である。

【００７０】以上のように、本発明の第２実施形態の低
反射ガラス板は、優れた可視光透過率を有しながら、垂
直入射光に対する反射防止機能のみならず、斜め入射光
に対しても反射防止機能を有した低反射ガラス板であ
る。またさらに、耐熱性をも兼ね備えた低反射ガラス板
である。酸素遮断膜６を、光吸収膜３と高屈折率膜の間
に設けているので、低反射ガラス板が加熱されたとき
や、高屈折率膜４および低屈折率膜５を形成する際に、
雰囲気からの酸素を遮断することができる。

【００７１】（第３実施形態）まず本発明の第３実施形
態は、上述の第２実施形態において、ガラス基板２と光
吸収膜３の間に、さらに酸素遮断膜６を設けたものであ
る（図３参照）。

【００７２】（実施例１４〜１５）図３を参照して、第
３実施形態を説明する。基本的な作製方法は、第２実施
形態に準じる。ガラス基板２と光吸収膜３の間に設けた
酸素遮断膜６としてのＳｉＮ膜は、第２実施形態で述べ
た方法と同様である。まず、ガラス基板上２に酸素遮断
膜６、光吸収膜３、酸素遮断膜６、高屈折率膜４、およ
び低屈折率膜５を順次積層し、低反射膜１０を形成し、
低反射ガラス板３０を作製した。やはり低反射ガラス板
３０の耐熱性を調べるために、低反射ガラス板３０を焼
成炉で６３０℃で１０分間、焼成した。低反射膜の各構
成および膜厚を表６に、その光学特性を表７に示す。

【００７３】

【表６】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実膜構成施低屈折率膜/高屈折率膜/(遮断膜)/光吸収膜/(遮断膜)/ガラス基板例 (nm) (nm) (nm) (nm) (nm) (板厚 mm) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 14 ＳｉＯ₂ / Ｔａ₂Ｏ₅ / ＳｉＮ / NiSiON / ＳｉＮ / ＭＦＬ 99.9 / 149.2 / 42.8 / 14.9 / 28.5 / 4.2 15 ＳｉＯ₂ / Ｔａ₂Ｏ₅ / ＳｉＮ / NiSiON / ＳｉＮ / ＭＦＬ 104.9 / 104.7 / 13.3 / 11.4 / 54.6 / 4.2 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００７４】

【表７】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実透過率膜面側反射率ガラス面側反射率施Ｔvis(％) Ｒfvis(％)０° Ｒfvis(％)６０° Ｒgvis(％)０° 例 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 14 ７５．４４．０９．０５．３ 15 ７６．３４．０９．０６．３ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００７５】表６より明らかなように、本発明の第３実
施形態である実施例１４〜１５の低反射ガラス板は、い
ずれも可視光透過率が７５％以上であり、さらに低反射
膜面側からの垂直入射光に対する可視光反射率が４％以
下であり、前記低反射膜面側からの６０°入射光に対す
る可視光反射率が９％以下であり、前記ガラス板側から
の垂直入射光に対する可視光反射率が７％以下である。

【００７６】以上のように、本発明の第３実施形態の低
反射ガラス板は、優れた可視光透過率を有しながら、垂
直入射光に対する反射防止機能のみならず、斜め入射光
に対しても反射防止機能を有した低反射ガラス板であ
る。またさらに、耐熱性をも兼ね備えた低反射ガラス板
である。酸素遮断膜６を、ガラス基板２と光吸収膜３の
間に設けているので、加熱時におけるガラス基板２から
の酸素も遮断することができる。

【００７７】上述した第１実施形態から第３実施形態に
示した結果から、以下のことが把握できる。

【００７８】まず、光吸収膜について述べる。ＮｉＳｉ
ＯＮ膜、ＳｉＣ膜、ＳｉＣＯＮ膜、およびＴｉの窒化物
からなる光吸収膜を用いることによって、７２％以上の
可視光透過率と、裏面反射の影響を押さえた反射防止機
能を併せて実現することができる。

【００７９】さらに光吸収膜のｎ₁とｋ₁を、それぞれ、
１．６≦ｎ₁≦３．５、０．３≦ｋ₁≦２．０、の範囲と
し、光吸収膜の幾何学的な膜厚ｄ₁を、３ｎｍ≦ｄ₁≦２
０ｎｍ、とすることによって、優れた可視光透過率を有
しながら、さらに裏面反射の影響を押さえた反射防止機
能を併せて実現することができる。

【００８０】なお、ｄ₁については、ｄ₁が３ｎｍ未満で
あると、膜の光吸収量が小さくなってしまい、ガラス板
の裏面（反射防止膜形成面の反対側）から膜面側に来る
反射光強度が小さくすることができない。逆にｄ₁が２
０ｎｍを越えてしまうと、可視光透過率が低くなってし
まう。

【００８１】つぎに、ｎ_H＝２．０〜２．５の高屈折率
膜と、ｎ_L＝１．４４〜１．４８の低屈折率膜からなる
光学多層膜は、それぞれの幾何学的膜厚ｄ_H、ｄ_Lを、ｄ
_H＝６０〜１５０ｎｍとｄ_L＝８５〜１１０ｎｍとし、さ
らに上記光吸収膜と組み合わせることによって、垂直入
射光と斜め入射光に対する可視光反射率を低減すること
が可能となる。

【００８２】また、酸素遮断膜として、ＳｉＮ膜を用い
ることにより、約６３０℃の加熱工程に耐えうる低反射
ガラス板とすることができる。さらに、本発明の第２お
よび３実施形態からわかるように、本発明において、耐
熱性を付与する酸素遮断膜の厚みについて、特に２０ｎ
ｍ以下などという制限はない。したがって、酸素遮断膜
の厚みを増すことによって、耐熱性をさらに向上するこ
とが可能である。

【００８３】酸素遮断膜の酸素遮断性能からいうと、窒
化珪素膜が優れている。しかし、酸窒化珪素膜でもその
目的を達成しうる。酸窒化珪素膜を、ＳｉＮ_xＯ_1-xと表
わしたとき、Ｘの値は大きいほど、酸素遮断性能が大き
くなるので、好ましい。Ｘが０．６未満であると、酸素
遮断膜としての酸素遮断性能を満足しない。また、この
組成の範囲ではＳｉＮＯ膜の光学定数の変化は、反射特
性を左右しないことを確認している。

【００８４】（比較例）上述した実施例１〜６までの低
反射ガラス板の耐熱性を調べるために、焼成炉で６３０
℃で１０分間焼成し、比較例１〜６とした。その結果を
表８に示す。

【００８５】

【表８】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 比透過率膜面側反射率ガラス面側反射率較Ｔvis(％) Ｒfvis(％)０° Ｒfvis(％)６０° Ｒgvis(％)０° 例 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− １８０．５５．５１１．２８．５２８１．９５．８１２．３８．３３７９．９５．３１０．８８．１４８１．３５．５１２．９８．２５８２．１５．９１２．３８．６６８３．０５．３１２．７８．４ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００８６】これらの比較例では、酸素遮断膜を有しな
いので、光吸収膜が酸化されてしまい、光吸収能が低下
してしまっている。したがって、可視光透過率は約６％
上昇している。さらに、膜面の垂直入射光に対する可視
光反射率は、１．４〜２．０％上昇し、すべて５％を上
回っている。また、膜面の６０°入射光に対する可視光
反射率も、２．０〜３．８％上昇し、１２％を越えるも
のが多くなっている。さらに、ガラス板側の垂直入射光
に対する可視光反射率も、１．５〜２．３％上昇し、い
ずれも８％を越えている。以上の比較例は、優れた可視
光透過率を有しているが、垂直入射光および斜め入射光
に対する反射防止機能は十分ではなかった。

【００８７】ところで、以上の実施例および比較例で
は、各膜をスパッタリング法によって形成したが、これ
に限られることなく、蒸着法によって形成してもよい。

【００８８】なお以上の実施例では、吸収膜の上に設け
る光学多層膜として、高屈折率膜と低屈折率膜の２層に
よる例であったが、これの代わりに３層以上の光学多層
膜を利用することも可能である。一般にＮ層多層膜で
は、Ｎ個の波長で反射率を０にすることができるので、
層数を増やすことによって反射防止の効果を高めること
ができる。

【００８９】しかしながら、上述した「薄膜ハンドブッ
ク」にも指摘されているように、多層膜になるほど小さ
い入射角度で反射率が増大し始めるために、３層以上の
光学多層膜を利用することは必ずしも得策でない。ま
た、３層以上多層膜を成膜することは工程が増え、コス
ト上昇にもつながるので、あまり好ましいことではな
く、２層による構成がより好ましい。

【００９０】（応用形態）つぎに本発明の応用形態とし
ての、合わせガラスについて説明する（図４参照）。

【００９１】（応用例１）まず、上述した実施例１〜６
の低反射ガラス板を用いる場合は、酸素遮断膜を有しな
いので、耐熱性に欠ける。したがって、低反射膜を形成
した後に、加熱することができない。

【００９２】そこでまず、所望のサイズに切断し端面を
研磨加工した２枚のガラス板２，２’を用意した。この
２枚のガラス板をリング型にセットし、加熱炉で曲げ加
工を施した。さらに熱可塑性の中間膜７として、ポリビ
ニルブチラール（ＰＶＢ）膜を挟み込み、オートクレー
ブで接着して、合わせガラス板４０とした（図４参
照）。

【００９３】つぎに、この合わせガラス板の室内側面
に、上述したスパッタリング法により、光吸収膜３、高
屈折率膜４、および低屈折率膜５を順次積層した低反射
膜１０を形成し、車両用低反射合わせガラス板４０を作
製した。

【００９４】（応用例２）つぎに、上述した実施例７〜
１５の低反射ガラス板を用いる場合は、酸素遮断膜を設
けているので、耐熱性を有している。したがって、低反
射膜を形成した後に、加熱することができる。

【００９５】そこでまず、上述したスパッタリング法に
より、ガラス基板２上に光吸収膜３、酸素遮断膜６、高
屈折率膜４、および低屈折率膜５を順次積層し、低反射
ガラス板１を作製した。またさらに、ガラス基板２と光
吸収膜３との間に、酸素遮断膜６を設けてもよい。

【００９６】つづいて、この低反射ガラス板を所望のサ
イズに切断し端面を研磨加工した。さらに別の通常のガ
ラス板２’を用意し、所望のサイズに切断し端面を研磨
加工した。この２枚のガラス板２，２’をリング型にセ
ットし、加熱炉で曲げ加工を施した。さらに中間膜７と
してＰＶＢ膜を挟み込み、オートクレーブで接着して、
車両用低反射合わせガラス板４０を作製した。

【００９７】応用例１、２で作製した車両用低反射合わ
せガラス板４０を、実際の車両のウインドシールドに組
み込んで、反射防止の効果の確認をした。なおいずれの
合わせガラス板もその可視光透過率は、７０％以上であ
った。その結果、この合わせガラス板４０は、垂直方向
のみならず、斜め方向の反射が十分に押さえられてお
り、写り込みは目障りとなるレベルではなかった。ま
た、可視光透過率もウインドシールドとしての規格を満
足するものであった。

【００９８】さらに以上の開示から、以下の発明も把握
することができる。ガラス板の一方の主面上に、光吸収
膜、高屈折率膜、および低屈折率膜を順次積層した低反
射膜を有する低反射ガラス板において、前記光吸収膜
は、ＮｉＳｉＯＮ（ニッケルシリサイドの酸窒化物）、
ＳｉＣ（炭化珪素）、ＳｉＣＯＮ（炭化珪素の酸窒化
物）、ＴａやＮｂの窒化物あるいは酸窒化物、およびＴ
ｉやＺｒの酸窒化物のうちのいずれかの材料を主成分と
する膜であることを特徴とする低反射ガラス板。

【００９９】

【発明の効果】以上説明してきたように本発明は、ガラ
ス板の一方の主面上に、光吸収膜、高屈折率膜、および
低屈折率膜を順次積層した低反射膜を有する低反射ガラ
ス板において、前記光吸収膜は金属化合物よりなり、前
記高屈折率膜はその屈折率ｎ_Hと幾何学的膜厚ｄ_Hが、ｎ
_H＝２．０〜２．５、ｄ_H＝６０〜１５０ｎｍであり、前
記低屈折率膜はその屈折率ｎ_Lと幾何学的膜厚ｄ_Lが、ｎ
_L＝１．４４〜１．４８、ｄ_L＝８５〜１１０ｎｍとした
低反射ガラス板であるので、前記低反射膜面側からの垂
直入射光に対する可視光反射率が５％以下、前記低反射
膜面側からの６０°入射光（垂直を０°としたときの角
度）に対する可視光反射率が１２％以下、前記ガラス板
側からの垂直入射光に対する可視光反射率が１０％以下
となり、垂直入射光と斜め入射光に対する可視光反射率
を低減することが可能な低反射ガラス板である。

【０１００】また請求項２の低反射ガラス板において
は、請求項１の効果に加えて、前記光吸収膜の複素屈折
率をＮ₁＝ｎ₁−ｉ・ｋ₁（ｎ₁は屈折率の実数部、ｋ₁は
屈折率の虚数部で消衰係数を表わす）と表記したとき、
波長５５０ｎｍにおけるｎ₁とｋ₁が、１．６≦ｎ₁≦
３．５、０．３≦ｋ₁≦２．０、でありかつ、前記光吸
収膜の幾何学的な膜厚ｄ₁を、３ｎｍ≦ｄ₁≦２０ｎｍ、
としたので、高い可視光透過率を保ちつつ低反射性能を
付与した低反射ガラス板である。

【０１０１】さらに請求項３の低反射ガラス板において
は、請求項１または２の効果に加えて、前記光吸収膜
を、ＮｉＳｉＯＮ（ニッケルシリサイドの酸窒化物）、
ＳｉＣ（炭化珪素），ＳｉＣＯＮ（炭化珪素の酸窒化
物），およびＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｎｂの窒化物あ
るいは酸窒化物のうちのいずれかの材料を主成分とする
膜で構成したので、良好な可視光透過率を有する低反射
ガラス板である。

【０１０２】また請求項４の低反射ガラス板において
は、請求項１から３の効果に加えて、可視光透過率を７
０％以上としたので、例えば自動車のウインドシールド
用のガラス板に供することのできる低反射ガラス板であ
る。

【０１０３】さらに請求項５の低反射ガラス板において
は、請求項１から３の効果に加えて、前記光吸収膜と前
記高屈折率膜の間に、さらに酸素遮断性能を有する膜を
設けたので、前記光吸収膜の酸化を防ぐことができ、耐
熱性に優れた低反射ガラス板である。

【０１０４】また請求項６の低反射ガラス板において
は、請求項５の効果に加えて、前記ガラス板と前記光吸
収膜の間に、さらに酸素遮断性能を有する膜を設けたの
で、さらに前記光吸収膜の酸化を防ぐことができ、耐熱
性に優れた低反射ガラス板である。

【０１０５】さらに請求項７の低反射ガラス板において
は、請求項５と６の効果に加えて、前記酸素遮断性能を
有する膜は、主成分として窒化珪素からなる、あるいは
ＳｉＮ_xＯ_1-xと表わされる酸窒化珪素からなり、前記Ｘ
の値を０．６≦Ｘ＜１．０としたので、大気あるいはガ
ラス板から光吸収膜への酸素の進入を極めて低く抑える
ことができるため、曲げ工程や強化工程などの加熱工程
に耐えうる耐熱性を有した低反射ガラス板である。

【０１０６】また請求項８の低反射ガラス板において
は、請求項１から３の効果に加えて、前記高屈折率膜
は、酸化チタン，酸化タンタル，酸化ニオブ，酸化錫か
ら選ばれた材料を少なくとも１種以上を主成分とする膜
としたので、化学的耐久性（耐薬品性）あるいは機械的
耐久性（耐擦傷性）を有した低反射ガラス板である。

【０１０７】さらに請求項９の低反射ガラス板において
は、請求項１から３の効果に加えて、前記低屈折率膜
は、酸化珪素を主成分とする膜としたので、化学的，機
械的耐久性に優れた低反射ガラス板である。

【０１０８】また以上の低反射ガラス板を用いた合わせ
ガラス板として、請求項１から９いずれかに記載の低反
射ガラス板の他方の面と、前記ガラス板と別の透明ガラ
ス板を、熱可塑性樹脂製中間膜で接着した車両用低反射
合わせガラス板で、該合わせガラス板の可視光透過率が
７０％以上であり、低反射膜の形成面を車両の室内側と
したので、斜め入射光に対しても優れた低反射機能と、
良好な可視光透過率を有し、さらに耐久性に優れた車両
用低反射合わせガラス板である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態を説明する断面図であ
る。

【図２】本発明の第２実施形態を説明する断面図であ
る。

【図３】本発明の第３実施形態を説明する断面図であ
る。

【図４】本発明の応用実施形態を説明する断面図であ
る。

【符号の説明】

１，２０，３０：低反射ガラス板、２，２’：ガラス基板、３：光吸収膜、４：高屈折率膜、５：低屈折率膜、６：酸素遮断膜、７：中間膜、１０：低反射膜、４０：低反射ガラス板を用いた合わせガラス板、

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者新井大介大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号日本板硝子株式会社内Ｆターム(参考） 2K009 AA06 AA07 BB02 CC03 CC06 CC14 DD04 EE00 4G059 AA01 AB19 AC04 AC09 AC18 GA02 GA04 GA12 4G061 AA02 AA20 BA02 CB05 CD03 CD19 DA38

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス板の一方の主面上に、光吸収膜、
高屈折率膜、および低屈折率膜を順次積層した低反射膜
を有する低反射ガラス板において、前記光吸収膜は金属
化合物よりなり、前記高屈折率膜はその屈折率ｎ_Hと幾
何学的膜厚ｄ_Hが、ｎ_H＝２．０〜２．５、ｄ_H＝６０〜１５０ｎｍであり、
前記低屈折率膜はその屈折率ｎ_Lと幾何学的膜厚ｄ_Lが、ｎ_L＝１．４４〜１．４８、ｄ_L＝８５〜１１０ｎｍと
し、前記低反射膜面側からの垂直入射光に対する可視光
反射率が５％以下であり、前記低反射膜面側の６０°入
射光（垂直を０°としたときの角度）に対する可視光反
射率が１２％以下であり、前記ガラス板側からの垂直入
射光に対する可視光反射率が１０％以下であることを特
徴とする低反射ガラス板。
【請求項２】請求項１に記載の低反射ガラス板におい
て、前記光吸収膜の複素屈折率をＮ₁＝ｎ₁−ｉ・ｋ₁（ｎ₁は
屈折率の実数部、ｋ₁は屈折率の虚数部で消衰係数を表
わす）と表記したとき、波長５５０ｎｍにおけるｎ₁と
ｋ₁が、１．６≦ｎ₁≦３．５、０．３≦ｋ₁≦２．０、でありかつ、前記光吸収膜の幾何学的な膜厚ｄ₁が、３ｎｍ≦ｄ₁≦２０ｎｍ、である低反射ガラス板。
【請求項３】請求項１または２に記載の低反射ガラス
板において、前記光吸収膜は、ＮｉＳｉＯＮ（ニッケルシリサイドの
酸窒化物）、ＳｉＣ（炭化珪素），ＳｉＣＯＮ（炭化珪
素の酸窒化物），およびＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｎｂ
の窒化物あるいは酸窒化物のうちのいずれかの材料を主
成分とする低反射ガラス板。
【請求項４】請求項１から３いずれかに記載の低反射
ガラス板において、前記低反射ガラス板の可視光透過率
が７０％以上である低反射ガラス板。
【請求項５】請求項１から３いずれかに記載の低反射
ガラス板において、前記光吸収膜と前記高屈折率膜の間
に、さらに酸素遮断性能を有する膜を設けた低反射ガラ
ス板。
【請求項６】請求項５に記載の低反射ガラス板におい
て、前記ガラス板と前記光吸収膜の間に、さらに酸素遮
断性能を有する膜を設けた低反射ガラス板。
【請求項７】請求項５または６に記載の低反射ガラス
板において、前記酸素遮断性能を有する膜は、主成分として窒化珪素
からなる、あるいはＳｉＮ_xＯ_1-xと表わされる酸窒化珪
素からなり、前記Ｘの値が０．６≦Ｘ＜１．０である低
反射ガラス板。
【請求項８】請求項１から３いずれかに記載の低反射
ガラス板において、前記高屈折率膜は、酸化チタン，酸化タンタル，酸化ニ
オブ，酸化錫から選ばれた材料を少なくとも１種以上を
主成分とする膜である低反射ガラス板。
【請求項９】請求項１から３いずれかに記載の低反射
ガラス板において、前記低屈折率膜は、酸化珪素を主成分とする膜である低
反射ガラス板。
【請求項１０】請求項１から９いずれかに記載の低反
射ガラス板の他方の面と、前記ガラス板と別の透明ガラ
ス板を、熱可塑性樹脂製中間膜で接着した車両用低反射
合わせガラス板であって、該合わせガラス板の可視光透過率が７０％以上であり、
低反射膜の形成面を車両の室内側とすることを特徴とす
る車両用低反射合わせガラス板。