JP2000106223A - 光電変換素子 - Google Patents
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光電変換特性および湿熱耐久性に優れた色素
増感された光電変換素子を提供する。 【解決手段】 本発明の光電変換素子は、導電性支持
体、該導電体支持体上に塗設された色素を吸着した半導
体微粒子含有層、ホール輸送層および対向電極を備える
色素増感された光電変換素子において、前記ホール輸送
層がチオフェン化合物を含むことを特徴とする。
増感された光電変換素子を提供する。 【解決手段】 本発明の光電変換素子は、導電性支持
体、該導電体支持体上に塗設された色素を吸着した半導
体微粒子含有層、ホール輸送層および対向電極を備える
色素増感された光電変換素子において、前記ホール輸送
層がチオフェン化合物を含むことを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、色素で増感された
半導体微粒子を用いた光電変換素子に関する。
半導体微粒子を用いた光電変換素子に関する。
【0002】
【従来の技術】太陽光発電は単結晶シリコン太陽電池、
多結晶シリコン太陽電池、アモルフアス太陽電池、テル
ル化カドミウムやセレン化インジウム銅(CIS)等の
化合物太陽電池が実用化もしくは主要な研究対象となっ
ているが、普及させる上で製造コスト、原材料確保等の
問題点克服が必要だと言われている。一方、大面積化や
低価格化を指向した有機材料を用いた太陽電池もこれま
でに多く提案されているが、変換効率が低く、耐久性も
悪いという問題があった。
多結晶シリコン太陽電池、アモルフアス太陽電池、テル
ル化カドミウムやセレン化インジウム銅(CIS)等の
化合物太陽電池が実用化もしくは主要な研究対象となっ
ているが、普及させる上で製造コスト、原材料確保等の
問題点克服が必要だと言われている。一方、大面積化や
低価格化を指向した有機材料を用いた太陽電池もこれま
でに多く提案されているが、変換効率が低く、耐久性も
悪いという問題があった。
【0003】こうした状況下で、Nature(第35
3巻、第737〜740頁、1991年)および米国特
許4927721号等に、色素によって増感された半導
体微粒子を用いた光電変換素子(以後、色素増感光電変
換素子と略す)、もしくはこれを作製するための材料お
よび製造技術が開示された。提案された素子は、ルテニ
ウム錯体の単層吸着によって分光増感されたこ酸化チタ
ン多孔質薄膜を作用電極とする湿式太陽電池である。こ
の方式は安価で高いエネルギー変換効率が得られる点で
有望だと考えられるが、ホール輸送層に電解質溶液用い
るため、長期にわたって使用すると電解液の枯渇もしく
は漏洩により光電変換効率が著しく低下したり、素子と
して機能しなくなることが懸念されている。このような
欠点を克服するため、国際特許93/20565号には
固体電解質を用いた光電変換素子が、また、特開平7−
288142号、Solid State Ionics.,89(199
6)263頁および特開平9−27352号明細書に架
橋ポリエチレンオキサイド系ゲル電解質を用いて固体化
した光電変換素子が記載されている。またSynthetic Me
tals,89,215−220(1997)には芳香族3
級アミンを用いて固体化した光電変換素子が記載されて
いる。しかしながら、これらの固体化された光電変換素
子は検討の結果、光電変換特性および湿熱耐久性が不十
分なレベルにあることが判明した。
3巻、第737〜740頁、1991年)および米国特
許4927721号等に、色素によって増感された半導
体微粒子を用いた光電変換素子(以後、色素増感光電変
換素子と略す)、もしくはこれを作製するための材料お
よび製造技術が開示された。提案された素子は、ルテニ
ウム錯体の単層吸着によって分光増感されたこ酸化チタ
ン多孔質薄膜を作用電極とする湿式太陽電池である。こ
の方式は安価で高いエネルギー変換効率が得られる点で
有望だと考えられるが、ホール輸送層に電解質溶液用い
るため、長期にわたって使用すると電解液の枯渇もしく
は漏洩により光電変換効率が著しく低下したり、素子と
して機能しなくなることが懸念されている。このような
欠点を克服するため、国際特許93/20565号には
固体電解質を用いた光電変換素子が、また、特開平7−
288142号、Solid State Ionics.,89(199
6)263頁および特開平9−27352号明細書に架
橋ポリエチレンオキサイド系ゲル電解質を用いて固体化
した光電変換素子が記載されている。またSynthetic Me
tals,89,215−220(1997)には芳香族3
級アミンを用いて固体化した光電変換素子が記載されて
いる。しかしながら、これらの固体化された光電変換素
子は検討の結果、光電変換特性および湿熱耐久性が不十
分なレベルにあることが判明した。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光電
変換特性および湿熱耐久性に優れた色素増感された光電
変換素子を提供することである。
変換特性および湿熱耐久性に優れた色素増感された光電
変換素子を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、導電性
支持体、該導電性支持体上に塗設された色素を吸着した
半導体微粒子含有層、ホール輸送層および対向電極を含
有する色素増感された光電変換素子において前記ホール
輸送層がチオフェン化合物を含むことを特徴とする光電
変換素子により達成された。
支持体、該導電性支持体上に塗設された色素を吸着した
半導体微粒子含有層、ホール輸送層および対向電極を含
有する色素増感された光電変換素子において前記ホール
輸送層がチオフェン化合物を含むことを特徴とする光電
変換素子により達成された。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の色素増感光電変換素子
は、導電性支持体、この導電性支持体上に塗設された色
素を吸着した半導体微粒子含有層(感光層)、ホール輸
送層、および対向電極を備える。
は、導電性支持体、この導電性支持体上に塗設された色
素を吸着した半導体微粒子含有層(感光層)、ホール輸
送層、および対向電極を備える。
【0007】導電性支持体は、金属のように支持体その
ものに導電性があるものか、または表面に導電剤層を有
するガラスもしくはプラスチックの支持体を使用するこ
とができる。金属支持体としては、ステンレススチー
ル、アルミニウムおよびその合金、チタンおよびその合
金、鉄およびその合金、銅およびその合金等の金属の薄
板およびその複合体を好ましく使用することができる。
表面に導電剤層を有するガラスもしくはプラスチックを
支持体として用いる場合、好ましい導電剤としては金属
(例えば白金、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウム、
インジウム等)、炭素、もしくは導電性の金属酸化物
(インジウム−スズ複合酸化物、酸化スズにフッ素をド
ープしたもの等)が挙げられる。この中でもフッ素をド
ーピングした二酸化スズからなる導電層を、低コストの
ソーダ石灰フロートガラスでできた透明基板上に堆積し
た導電性ガラスが特に好ましい。上記導電剤層の厚さ
は、0.01〜10μm 程度であることが好ましい。
ものに導電性があるものか、または表面に導電剤層を有
するガラスもしくはプラスチックの支持体を使用するこ
とができる。金属支持体としては、ステンレススチー
ル、アルミニウムおよびその合金、チタンおよびその合
金、鉄およびその合金、銅およびその合金等の金属の薄
板およびその複合体を好ましく使用することができる。
表面に導電剤層を有するガラスもしくはプラスチックを
支持体として用いる場合、好ましい導電剤としては金属
(例えば白金、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウム、
インジウム等)、炭素、もしくは導電性の金属酸化物
(インジウム−スズ複合酸化物、酸化スズにフッ素をド
ープしたもの等)が挙げられる。この中でもフッ素をド
ーピングした二酸化スズからなる導電層を、低コストの
ソーダ石灰フロートガラスでできた透明基板上に堆積し
た導電性ガラスが特に好ましい。上記導電剤層の厚さ
は、0.01〜10μm 程度であることが好ましい。
【0008】導電性支持体は表面抵抗が低い程よい。好
ましい表面抵抗の範囲としては100Ω/cm2以下であ
り、さらに好ましくは40Ω/cm2以下である。
ましい表面抵抗の範囲としては100Ω/cm2以下であ
り、さらに好ましくは40Ω/cm2以下である。
【0009】導電性支持体が実質的に透明である場合、
光の透過率は50%以上ある事が好ましく、70%以上
が特に好ましい。透明導電性支持体としてはガラスもし
くはプラスチックに導電性の金属酸化物を塗設したもの
が好ましい。このときの導電性金属酸化物の塗布量はガ
ラスもしくはプラスチックの支持体1m2当たり0.00
1〜20gが好ましい。透明導電性支持体を用いる場
合、光は支持体側から入射させることが好ましい。
光の透過率は50%以上ある事が好ましく、70%以上
が特に好ましい。透明導電性支持体としてはガラスもし
くはプラスチックに導電性の金属酸化物を塗設したもの
が好ましい。このときの導電性金属酸化物の塗布量はガ
ラスもしくはプラスチックの支持体1m2当たり0.00
1〜20gが好ましい。透明導電性支持体を用いる場
合、光は支持体側から入射させることが好ましい。
【0010】感光層に用いられる半導体微粒子としては
金属のカルコゲニド(例えば酸化物、硫化物、セレン化
物等)またはペロブスカイトの微粒子を使用することが
できる。金属のカルコゲニドとしては好ましくはチタ
ン、スズ、亜鉛、タングステン、ジルコニウム、ハフニ
ウム、ストロンチウム、インジウム、セリウム、イット
リウム、ランタン、バナジウム、ニオブ、もしくはタン
タルの酸化物、硫化カドミウム、セレン化カドミウム等
が挙げられる。ペロブスカイトとしては好ましくはチタ
ン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム等が挙げられ
る。これらのうち酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸
化タングステンが特に好ましい。
金属のカルコゲニド(例えば酸化物、硫化物、セレン化
物等)またはペロブスカイトの微粒子を使用することが
できる。金属のカルコゲニドとしては好ましくはチタ
ン、スズ、亜鉛、タングステン、ジルコニウム、ハフニ
ウム、ストロンチウム、インジウム、セリウム、イット
リウム、ランタン、バナジウム、ニオブ、もしくはタン
タルの酸化物、硫化カドミウム、セレン化カドミウム等
が挙げられる。ペロブスカイトとしては好ましくはチタ
ン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム等が挙げられ
る。これらのうち酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸
化タングステンが特に好ましい。
【0011】これらの半導体微粒子の粒径は、投影面積
を円に換算したときの直径を用いた平均粒径で1次粒子
として2〜200nmであることが好ましく、特に4〜1
00nmであることが好ましい。入射光を散乱させて光捕
獲率を向上させるために粒子サイズの大きな、例えば3
00nm程度の半導体粒子を混合することも本発明では好
ましく使用することができる。
を円に換算したときの直径を用いた平均粒径で1次粒子
として2〜200nmであることが好ましく、特に4〜1
00nmであることが好ましい。入射光を散乱させて光捕
獲率を向上させるために粒子サイズの大きな、例えば3
00nm程度の半導体粒子を混合することも本発明では好
ましく使用することができる。
【0012】半導体微粒子を導電性支持体上に塗設する
方法としては、半導体微粒子の分散液またはコロイド溶
液を導電性支持体上に塗布する方法、半導体微粒子の前
駆体を導電性支持体上に塗布し空気中の水分によって加
水分解後縮合を進めることによって半導体微粒子膜を得
る方法(ゾル−ゲル法)などが挙げられる。半導体微粒
子の分散液を作成する方法としては前述のゾル−ゲル法
の他、乳鉢ですり漬す方法、ミルを使って粉砕しながら
分散する方法、あるいは半導体を合成する際に溶媒中で
微粒子として析出させそのまま使用する方法等が挙げら
れる。分散媒としては水または各種の有機溶媒(例えば
メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジクロロ
メタン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル等)が
挙げられる。分散の際、必要に応じてポリマー、界面活
性剤、酸(酢酸、硝酸など)、もしくはキレート剤(ア
セチルアセトンなど)等を分散助剤として用いてもよ
い。
方法としては、半導体微粒子の分散液またはコロイド溶
液を導電性支持体上に塗布する方法、半導体微粒子の前
駆体を導電性支持体上に塗布し空気中の水分によって加
水分解後縮合を進めることによって半導体微粒子膜を得
る方法(ゾル−ゲル法)などが挙げられる。半導体微粒
子の分散液を作成する方法としては前述のゾル−ゲル法
の他、乳鉢ですり漬す方法、ミルを使って粉砕しながら
分散する方法、あるいは半導体を合成する際に溶媒中で
微粒子として析出させそのまま使用する方法等が挙げら
れる。分散媒としては水または各種の有機溶媒(例えば
メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジクロロ
メタン、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル等)が
挙げられる。分散の際、必要に応じてポリマー、界面活
性剤、酸(酢酸、硝酸など)、もしくはキレート剤(ア
セチルアセトンなど)等を分散助剤として用いてもよ
い。
【0013】半導体微粒子含有層の表面積は多くの色素
を吸着できるよう大きいことが好ましい。半導体微粒子
層を支持体上に塗設した状態での表面積は、投影面積に
対して10倍以上である事が好ましく、さらに100倍
以上であることが好ましい。
を吸着できるよう大きいことが好ましい。半導体微粒子
層を支持体上に塗設した状態での表面積は、投影面積に
対して10倍以上である事が好ましく、さらに100倍
以上であることが好ましい。
【0014】一般に、半導体微粒子含有層の厚みが増大
するほど単位投影面積当たりの担持色素量が増えるため
光の捕獲率は高くなるが、生成した電子の拡散距離が増
すため電荷再結合によるロスも大きくなる。したがっ
て、半導体微粒子含有層には好ましい厚さが存在する
が、典型的には0.1〜100μm である。光電変換素
子として用いる場合は1〜30μm であることが好まし
く、さらに2〜25μm であることが好ましい。半導体
微粒子は支持体に塗布した後に粒子同士を電子的にコン
タクトさせ、塗膜強度の向上や基板との密着性を向上さ
せるために加熱処理することが好ましい。好ましい加熱
温度の範囲は40℃以上600℃未満である。
するほど単位投影面積当たりの担持色素量が増えるため
光の捕獲率は高くなるが、生成した電子の拡散距離が増
すため電荷再結合によるロスも大きくなる。したがっ
て、半導体微粒子含有層には好ましい厚さが存在する
が、典型的には0.1〜100μm である。光電変換素
子として用いる場合は1〜30μm であることが好まし
く、さらに2〜25μm であることが好ましい。半導体
微粒子は支持体に塗布した後に粒子同士を電子的にコン
タクトさせ、塗膜強度の向上や基板との密着性を向上さ
せるために加熱処理することが好ましい。好ましい加熱
温度の範囲は40℃以上600℃未満である。
【0015】また、加熱処理後、短絡電流密度を高める
目的で、例えば四塩化チタン水溶液を用いた化学メッキ
や三塩化チタン水溶液を用いた電気化学的メッキ処理を
行ってもよい。
目的で、例えば四塩化チタン水溶液を用いた化学メッキ
や三塩化チタン水溶液を用いた電気化学的メッキ処理を
行ってもよい。
【0016】なお、半導体微粒子の支持体1m2当たりの
塗布量は0.5〜400g、さらには2〜90gである
ことが好ましい。
塗布量は0.5〜400g、さらには2〜90gである
ことが好ましい。
【0017】本発明にしようする色素としては、金属錯
体色素、ポルフィリン、フタロシアニン、キサンテンお
よびポリメチン色素が挙げられる。これらのうち金属錯
体色素が特に好ましい。この色素は半導体微粒子の表面
に対する適当な結合基(interlockig group)を有して
いることが好ましい。好ましい結合基としては、COOH
基、SO3H基、シアノ基、-P(0)(OH)2基、-OP(0)(OH)
2基、または、オキシム、ジオキシム、ヒドロキシキノ
リン、サリチレートおよびαケトエノレートのようなπ
伝導性を有するキレート化基が挙げられる。この中でも
COOH基、-P(0)(OH)2基、-OP(0)(OH)2基が特に好まし
い。
体色素、ポルフィリン、フタロシアニン、キサンテンお
よびポリメチン色素が挙げられる。これらのうち金属錯
体色素が特に好ましい。この色素は半導体微粒子の表面
に対する適当な結合基(interlockig group)を有して
いることが好ましい。好ましい結合基としては、COOH
基、SO3H基、シアノ基、-P(0)(OH)2基、-OP(0)(OH)
2基、または、オキシム、ジオキシム、ヒドロキシキノ
リン、サリチレートおよびαケトエノレートのようなπ
伝導性を有するキレート化基が挙げられる。この中でも
COOH基、-P(0)(OH)2基、-OP(0)(OH)2基が特に好まし
い。
【0018】金属錯体色素はルテニウム錯体色素が好ま
しく、さらに下記一般式(6)される色素が好ましい。
しく、さらに下記一般式(6)される色素が好ましい。
【0019】一般式(6) (Yo)pRuBaBbBc pは0〜2であり、好ましくは2である。Ruはルテニ
ウムを表す。YoはCl、SCN、H2O、Br、I、CN、-NCO、お
よびSeCNから選択される配位子である。Ba、Bb、B
cはそれぞれ独立に以下のB−1〜B−8から選択され
る有機配位子である。
ウムを表す。YoはCl、SCN、H2O、Br、I、CN、-NCO、お
よびSeCNから選択される配位子である。Ba、Bb、B
cはそれぞれ独立に以下のB−1〜B−8から選択され
る有機配位子である。
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】ここでRaは水素原子、ハロゲン原子、炭
素原子数(以下C数という)1〜12個で置換もしくは
無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表
す。
素原子数(以下C数という)1〜12個で置換もしくは
無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表
す。
【0023】本発明に用いられるルテニウム錯体色素と
しては、例えば、米国特許第4,927,721号、同
4,684,537号、同5,084,365号、同
5,350,644号、同5,463,057号、同
5,525,440号および特開平7−249790号
明細書に記載の錯体色素が挙げられる。
しては、例えば、米国特許第4,927,721号、同
4,684,537号、同5,084,365号、同
5,350,644号、同5,463,057号、同
5,525,440号および特開平7−249790号
明細書に記載の錯体色素が挙げられる。
【0024】以下に本発明に使用する金属措体色素の好
ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
【0025】
【化8】
【0026】
【化9】
【0027】
【化10】
【0028】ポリメチン色素は下記一般式(7)もしく
は一般式(8)で表される色素が好ましい。
は一般式(8)で表される色素が好ましい。
【0029】一般式(7)
【0030】
【化11】
【0031】式中、Rb、Rfは水素原子、アルキル
基、アリール基、および複素環残基を、Rc〜Reは水
素原子もしくは置換基を表す。Rb〜Rfは互いに結合
して環を形成してもよい。X31、X32は窒素、酸素、硫
黄、セレン−テルルを表す。n11およびn13は0〜2の
整数を、n12は1〜6の整数を表す。一般式(7)で表
される化合物は分子全体の電荷に応じて対イオンを有し
てもよい。
基、アリール基、および複素環残基を、Rc〜Reは水
素原子もしくは置換基を表す。Rb〜Rfは互いに結合
して環を形成してもよい。X31、X32は窒素、酸素、硫
黄、セレン−テルルを表す。n11およびn13は0〜2の
整数を、n12は1〜6の整数を表す。一般式(7)で表
される化合物は分子全体の電荷に応じて対イオンを有し
てもよい。
【0032】一般式(8)
【0033】
【化12】
【0034】式中、Zaは合窒素複素環を形成するに必
要な非金属原子群を表す。Rgはアルキル基またはアリ
ール基である。Qは一般式(8)で表される化合物がメ
チン色素を形成するのに必要なメチン基またはポリメチ
ン基を表す。X33は電荷均衡対イオンを表し、n14は分
子の電荷を中和するのに必要な0以上10以下の数を表
す。
要な非金属原子群を表す。Rgはアルキル基またはアリ
ール基である。Qは一般式(8)で表される化合物がメ
チン色素を形成するのに必要なメチン基またはポリメチ
ン基を表す。X33は電荷均衡対イオンを表し、n14は分
子の電荷を中和するのに必要な0以上10以下の数を表
す。
【0035】一般式(8)で表わされる色素は好ましく
は以下の一般式(8−a)〜(8−d)で表わされる。
は以下の一般式(8−a)〜(8−d)で表わされる。
【0036】
【化13】
【0037】一般式(8−a)〜(8−d)にて、R21
〜R25、R26〜R29、R31〜R33、R41〜R43はそれぞ
れ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、複素環残
基を表し、Y11、Y12、Y21、Y22、Y31〜Y35、Y41
〜Y46はそれぞれ独立に酸素、硫黄、セレン、テルル、
-CR51R52-、-NR53-を表す。R51〜R53はそれぞれ独立
に水素原子、アルキル基、アリール基、複素環残基を表
わす。X- 33は、?(説明がありません。) Y23はO-、S-、Se-、Te-、-NR53 -を表す。V11、V12、
V21、V22、V31、V41はそれぞれ独立に置換基を表
し、n15、n31、n41はそれぞれ独立に1〜6の整数を
表す。
〜R25、R26〜R29、R31〜R33、R41〜R43はそれぞ
れ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、複素環残
基を表し、Y11、Y12、Y21、Y22、Y31〜Y35、Y41
〜Y46はそれぞれ独立に酸素、硫黄、セレン、テルル、
-CR51R52-、-NR53-を表す。R51〜R53はそれぞれ独立
に水素原子、アルキル基、アリール基、複素環残基を表
わす。X- 33は、?(説明がありません。) Y23はO-、S-、Se-、Te-、-NR53 -を表す。V11、V12、
V21、V22、V31、V41はそれぞれ独立に置換基を表
し、n15、n31、n41はそれぞれ独立に1〜6の整数を
表す。
【0038】以上のようなポリメチン色素の具体例はM.
Okawara,T.Kitao,T.Hirasima, M.Matuoka著Organic
Colorants(Elsevier)等に詳しく記載されている。
Okawara,T.Kitao,T.Hirasima, M.Matuoka著Organic
Colorants(Elsevier)等に詳しく記載されている。
【0039】半導体微粒子に色素を吸着させる方法は色
素溶液中によく乾燥した半導体微粒子もしくは半導体粒
子層を含有する作用電極を数時間浸漬するか、もしくは
色素溶液を半導体粒子層を含有する作用電極に塗布して
吸着させる方法を用いることができる。色素の吸着は室
温で行ってもよいし、特開平7−249790号に記載
されているように加熱還流して行ってもよい。色素の吸
着は塗布前の半導体微粒子に対して行うことや、半導体
微粒子および色素を塗布と同時に吸着することができる
が、塗布後、半導体粒子を含有する作用電極に対して吸
着する方法が好ましい。塗布後、半導体粒子を含有する
作用電極に対して吸着する場合の好ましい吸着時間は1
分以上30時間未満である。未吸着の色素は吸着後、洗
浄によって除去することが好ましい。また、吸着色素量
を増大するため、前述の加熱処理を吸着前に行う事が好
ましい。好ましい加熱温度範囲は70℃以上600℃未
満であり、好ましい加熱処理時間は15秒以上4時間未
満である。加熱処理後半導体微粒子表面に水が吸着する
のを避けるため、すばやく色素を吸着させるのが好まし
い。
素溶液中によく乾燥した半導体微粒子もしくは半導体粒
子層を含有する作用電極を数時間浸漬するか、もしくは
色素溶液を半導体粒子層を含有する作用電極に塗布して
吸着させる方法を用いることができる。色素の吸着は室
温で行ってもよいし、特開平7−249790号に記載
されているように加熱還流して行ってもよい。色素の吸
着は塗布前の半導体微粒子に対して行うことや、半導体
微粒子および色素を塗布と同時に吸着することができる
が、塗布後、半導体粒子を含有する作用電極に対して吸
着する方法が好ましい。塗布後、半導体粒子を含有する
作用電極に対して吸着する場合の好ましい吸着時間は1
分以上30時間未満である。未吸着の色素は吸着後、洗
浄によって除去することが好ましい。また、吸着色素量
を増大するため、前述の加熱処理を吸着前に行う事が好
ましい。好ましい加熱温度範囲は70℃以上600℃未
満であり、好ましい加熱処理時間は15秒以上4時間未
満である。加熱処理後半導体微粒子表面に水が吸着する
のを避けるため、すばやく色素を吸着させるのが好まし
い。
【0040】また、本発明の光電変換素子に吸着する色
素は1程類でもよいし、光電変換の波長域を広くするた
め、数種混合して用いてもよい。色素の会合など色素問
相互作用は光捕獲率の低下など好ましくない作用を持つ
ことが多いので、色素問相互作用を低減するため可視域
光をほとんど吸収しない化合物を共吸着させてもよい。
共吸着させる化合物としてはカルボキシル基を有するス
テロイド化合物(例えばコール酸)等を好ましく使用す
ることができる。
素は1程類でもよいし、光電変換の波長域を広くするた
め、数種混合して用いてもよい。色素の会合など色素問
相互作用は光捕獲率の低下など好ましくない作用を持つ
ことが多いので、色素問相互作用を低減するため可視域
光をほとんど吸収しない化合物を共吸着させてもよい。
共吸着させる化合物としてはカルボキシル基を有するス
テロイド化合物(例えばコール酸)等を好ましく使用す
ることができる。
【0041】色素を吸着した後にアミン類を用いて半導
体微粒子の表面を処理してもよい。その場合の好ましい
アミン類としてはピリジン、4-tert-ブチルピリジン、
ポリビニルピリジン等である。これらが液体の場合はそ
のまま用いてもよいし有機溶媒に溶解して用いてもよ
い。
体微粒子の表面を処理してもよい。その場合の好ましい
アミン類としてはピリジン、4-tert-ブチルピリジン、
ポリビニルピリジン等である。これらが液体の場合はそ
のまま用いてもよいし有機溶媒に溶解して用いてもよ
い。
【0042】本発明のホール輸送層は、チオフェン化合
物を含有する。本発明で用いられるチオフェン化合物
は、一般式(1)〜(5)で表されるチオフェン化合物
であることが好ましい。
物を含有する。本発明で用いられるチオフェン化合物
は、一般式(1)〜(5)で表されるチオフェン化合物
であることが好ましい。
【0043】一般式(1)
【0044】
【化14】
【0045】一般式(1)において、Y1およびY2はそ
れぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までのア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を
表す。また、X1およびX2はそれぞれ独立に水素原子、
炭素原子数1から24までのアルキル基、アリール基、
-OR1基、-SR2基、-SeR3基、-TeR4基を表し、それぞれ同
じであっても異なっていても構わない。ここでX1とX2
は共に環を形成していても構わない。R1、R2、R3、
R4は水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル
基またはアルキレン基を表す。n1は1以上の整数を表
す。
れぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までのア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を
表す。また、X1およびX2はそれぞれ独立に水素原子、
炭素原子数1から24までのアルキル基、アリール基、
-OR1基、-SR2基、-SeR3基、-TeR4基を表し、それぞれ同
じであっても異なっていても構わない。ここでX1とX2
は共に環を形成していても構わない。R1、R2、R3、
R4は水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル
基またはアルキレン基を表す。n1は1以上の整数を表
す。
【0046】一般式(2)
【0047】
【化15】
【0048】一般式(2)において、Y3およびY4はそ
れぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までのア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を
表す。また、X3、X4、X5およびX6はそれぞれ独立に
水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、ア
リール基、-OR5基、-SR6基、-SeR7基、-TeR8基を表し、
それぞれ同じであっても異なっていても構わない。ここ
でX3とX4およびX5とX6は共に環を形成していても構
わない。R5、R6、R7、R8は水素原子、炭素原子数1
から24までのアルキル基またはアルキレンを表す。n
2は1以上の整数を表す。
れぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までのア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を
表す。また、X3、X4、X5およびX6はそれぞれ独立に
水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、ア
リール基、-OR5基、-SR6基、-SeR7基、-TeR8基を表し、
それぞれ同じであっても異なっていても構わない。ここ
でX3とX4およびX5とX6は共に環を形成していても構
わない。R5、R6、R7、R8は水素原子、炭素原子数1
から24までのアルキル基またはアルキレンを表す。n
2は1以上の整数を表す。
【0049】一般式(3)
【0050】
【化16】
【0051】一般式(3)において、Y5およびY6はそ
れぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までのア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を
表す。また、X7、X8、X9、X10、X11およびX12は
それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までの
アルキル基、アリール基、-OR9基、-SR10基、-SeR
11基、-TeR12基を表し、それぞれ同じであつても異なっ
ていても構わない。ここでX7とX8、X9とX10および
X11とX12は共に環を形成していても構わない。R9、
R10、R11、R12は水素原子、炭素原子数1から24ま
でのアルキル基またはアルキレン基を表す。n3は1以
上の整数を表す。
れぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までのア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を
表す。また、X7、X8、X9、X10、X11およびX12は
それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までの
アルキル基、アリール基、-OR9基、-SR10基、-SeR
11基、-TeR12基を表し、それぞれ同じであつても異なっ
ていても構わない。ここでX7とX8、X9とX10および
X11とX12は共に環を形成していても構わない。R9、
R10、R11、R12は水素原子、炭素原子数1から24ま
でのアルキル基またはアルキレン基を表す。n3は1以
上の整数を表す。
【0052】一般式(4)
【0053】
【化17】
【0054】一般式(4)において、Y7およびY8はそ
れぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までのア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を
表す。また、X13、X14、X15、X16、X17、X18、X
19およびX20はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1
から24までのアルキル基、アリール基、-OR13基、-SR
14基、-SeR15基、-TeR16基を表し、それぞれ同じであっ
ても異なっていても構わない。ここでX13とX14、X15
とX16、X17とX18およびX19とX20は共に環を形成し
ていても構わない。R13、R14、R15、R16は水素原
子、炭素原子数1から24までのアルキル基またはアル
キレン基を表す。n4は1以上の整数を表す。
れぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までのア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を
表す。また、X13、X14、X15、X16、X17、X18、X
19およびX20はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1
から24までのアルキル基、アリール基、-OR13基、-SR
14基、-SeR15基、-TeR16基を表し、それぞれ同じであっ
ても異なっていても構わない。ここでX13とX14、X15
とX16、X17とX18およびX19とX20は共に環を形成し
ていても構わない。R13、R14、R15、R16は水素原
子、炭素原子数1から24までのアルキル基またはアル
キレン基を表す。n4は1以上の整数を表す。
【0055】一般式(5)
【0056】
【化18】
【0057】一般式(5)において、Y9およびY10は
それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までの
アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子
を表す。また、X21、X22、X23、X24はそれぞれ独立
に水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、
アリール基、-OR17基、-SR16基、-SeR19基、-TeR20基を
表し、それぞれ同じであっても異なっていても構わな
い。ここでX21とX22、X23とX24は共に環を形成して
いても構わない。R17、R18、R19、R20は水素原子、
炭素原子数1から24までのアルキル基またはアルキレ
ン基を表す。L1は2価の連結基を表す。n5およびn6
は1以上の整数を表す。m1は0以上10未満の整数を
表す。
それぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24までの
アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子
を表す。また、X21、X22、X23、X24はそれぞれ独立
に水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、
アリール基、-OR17基、-SR16基、-SeR19基、-TeR20基を
表し、それぞれ同じであっても異なっていても構わな
い。ここでX21とX22、X23とX24は共に環を形成して
いても構わない。R17、R18、R19、R20は水素原子、
炭素原子数1から24までのアルキル基またはアルキレ
ン基を表す。L1は2価の連結基を表す。n5およびn6
は1以上の整数を表す。m1は0以上10未満の整数を
表す。
【0058】上述の一般式(1)〜(5)で表されるチ
オフェン化合物の、Y1〜Y10、X1〜X24、R1〜R20
およびL1はさらに置換されていてもよく、アルキル基
(例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、
アリル、シクロヘキシル、ベンジル等)、アリール基
(例えばフェニル、ナフチルなど)、アシル基(例えば
ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル等)、オ
キシカルボニル基(例えばメトキシカルボニルt−ブト
キシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル等)、スルホニル基(例えばメチルスル
ホニル、フェニルスルホニル、p−トルエンスルホニル
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ベン
ジルオキシなど)、アリールオキシ基(例えばフェノキ
シ等)、アミノ基(例えばジメチルアミノ、ジフェニル
アミノ、N−メチルアニリノなど)、フッ素、メルカプ
ト基(例えばメチルチオ、フェニルチオなど)、シアノ
基、アミド基(例えばN−メチルアセトアミド等)、カ
ルバモイル基(例えばN,N−ジメチルカルバモイル
等)、アシルオキシ基(たとえばアセトキシ、ベンジル
オキシ等)、スルホンアミド基(N−メチルスルホンア
ミド等)、スルファモイル基(N,N−ジメチルスルフ
ァモイル等)、ウレタン基(N−メチルメトキシカルボ
ニルアミノ等)、ウレイド基(例えばN,N,N’−ト
リメチルウレイド等)などを好ましい置換基として使用
することができる。
オフェン化合物の、Y1〜Y10、X1〜X24、R1〜R20
およびL1はさらに置換されていてもよく、アルキル基
(例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチル、
アリル、シクロヘキシル、ベンジル等)、アリール基
(例えばフェニル、ナフチルなど)、アシル基(例えば
ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル等)、オ
キシカルボニル基(例えばメトキシカルボニルt−ブト
キシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル等)、スルホニル基(例えばメチルスル
ホニル、フェニルスルホニル、p−トルエンスルホニル
等)、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、ベン
ジルオキシなど)、アリールオキシ基(例えばフェノキ
シ等)、アミノ基(例えばジメチルアミノ、ジフェニル
アミノ、N−メチルアニリノなど)、フッ素、メルカプ
ト基(例えばメチルチオ、フェニルチオなど)、シアノ
基、アミド基(例えばN−メチルアセトアミド等)、カ
ルバモイル基(例えばN,N−ジメチルカルバモイル
等)、アシルオキシ基(たとえばアセトキシ、ベンジル
オキシ等)、スルホンアミド基(N−メチルスルホンア
ミド等)、スルファモイル基(N,N−ジメチルスルフ
ァモイル等)、ウレタン基(N−メチルメトキシカルボ
ニルアミノ等)、ウレイド基(例えばN,N,N’−ト
リメチルウレイド等)などを好ましい置換基として使用
することができる。
【0059】本発明で使用されるチオフェン化合物は、
特にチオフェン、3,4−エチレンジオキシチオフェ
ン、炭素原子数1以上18以下のアルキル基を3位置換
基として有するチオフェン、またはイソチアナフテンか
ら誘導される単位を含有することが好ましい。
特にチオフェン、3,4−エチレンジオキシチオフェ
ン、炭素原子数1以上18以下のアルキル基を3位置換
基として有するチオフェン、またはイソチアナフテンか
ら誘導される単位を含有することが好ましい。
【0060】また、式(1)〜(5)においてn1〜n
2は1以上1,000,000未満の整数が好ましく、
1以上500,000未満の整数であることがさらに好
ましい。
2は1以上1,000,000未満の整数が好ましく、
1以上500,000未満の整数であることがさらに好
ましい。
【0061】以下に本発明に好ましく使用できるチオフ
ェン系ホール輸送化合物を列挙するが、本発明はこれら
に限定されるものでない。
ェン系ホール輸送化合物を列挙するが、本発明はこれら
に限定されるものでない。
【0062】
【化19】
【0063】
【化20】
【0064】
【化21】
【0065】
【化22】
【0066】
【化23】
【0067】
【化24】
【0068】本発明の上記化合物を含有するホール輸送
層は、真空蒸着法、キャスト法、塗布法、スピンコート
法、浸漬法、電解重合法などにより色素を吸着した半導
体微粒子含有層の上に導入することができる。
層は、真空蒸着法、キャスト法、塗布法、スピンコート
法、浸漬法、電解重合法などにより色素を吸着した半導
体微粒子含有層の上に導入することができる。
【0069】真空蒸着法によりホール輸送層を形成する
場合、増感色素を担持した無機酸化物電極基板上に、一
般にボート加熱温度50〜400℃、真空度10-6〜1
0-3Pa、蒸着速度0.01〜50nm/sec、基板温度−5
0〜+300℃、膜厚5nm〜20μm の範囲で蒸着条件
を適宜選択し、蒸着することができる。
場合、増感色素を担持した無機酸化物電極基板上に、一
般にボート加熱温度50〜400℃、真空度10-6〜1
0-3Pa、蒸着速度0.01〜50nm/sec、基板温度−5
0〜+300℃、膜厚5nm〜20μm の範囲で蒸着条件
を適宜選択し、蒸着することができる。
【0070】塗布法によってホール輸送層を形成する場
合、本発明のチオフェン化合物を1種又は2種以上と、
必要によりNOPF6、SbCl5、I2、Br2、HClO4、(n−C4H9)4
ClO4、トリフルオロ酢酸、4−ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、1−ナフタレンスルホン酸、FeCl3、AuCl3、NOSb
F6、AsF5、NOBF4、LiBF4、H3[PMo12O40]、7,7,8,
8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)などのアクセプ
タードーピング剤やホールをトラップしにくいバインダ
ー樹脂や、レベリング剤等の塗布性改良剤などの添加剤
を添加し溶解した塗布溶液を調整し、スピンコート法、
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコ
ート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グ
ラビアコート法、或いは、米国特許第2681294号
記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート
法、又は米国特許第2761418号、同350894
7号、同2761791号記載の多層同時塗布方法等の
方法により塗布、乾煤してホール輸送層を形成すること
ができる。バインダー樹脂としては、チオフェン化合物
を含有する高分子、ポリスチレン、ポリシラン類、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエステル等が挙げ
られる。アクセプタードーピング剤の好ましい添加量は
0以上80重量%以下である。バインダー樹脂は添加量
が多いとホール移動度を低下させることが多いので50
重量%以下が好ましい。
合、本発明のチオフェン化合物を1種又は2種以上と、
必要によりNOPF6、SbCl5、I2、Br2、HClO4、(n−C4H9)4
ClO4、トリフルオロ酢酸、4−ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、1−ナフタレンスルホン酸、FeCl3、AuCl3、NOSb
F6、AsF5、NOBF4、LiBF4、H3[PMo12O40]、7,7,8,
8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ)などのアクセプ
タードーピング剤やホールをトラップしにくいバインダ
ー樹脂や、レベリング剤等の塗布性改良剤などの添加剤
を添加し溶解した塗布溶液を調整し、スピンコート法、
ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコ
ート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グ
ラビアコート法、或いは、米国特許第2681294号
記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート
法、又は米国特許第2761418号、同350894
7号、同2761791号記載の多層同時塗布方法等の
方法により塗布、乾煤してホール輸送層を形成すること
ができる。バインダー樹脂としては、チオフェン化合物
を含有する高分子、ポリスチレン、ポリシラン類、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエステル等が挙げ
られる。アクセプタードーピング剤の好ましい添加量は
0以上80重量%以下である。バインダー樹脂は添加量
が多いとホール移動度を低下させることが多いので50
重量%以下が好ましい。
【0071】本発明のチオフェン化合物は、電解重合に
よって色素を吸着した半導体微粒子含有層の上に導入す
ることもできる。電解重合を行う場合に使用する電解液
は、重合に供するチオフェン化合物、支持電解質、溶媒
から構成されるが、必要に応じ添加剤が加えられてもよ
い。電解重合に使用する溶媒は塩化メチレン、プロピレ
ンカーボネート、アセトニトリルなど電位窓の比較的広
い汎用有機溶剤を使用することができ、必要に応じ水や
その他の有機溶剤を加えて混合溶媒として使用すること
もできる。支持電解質としてはLiClO4、(n-C4H9)4NB
F4、(n-C4H9)4NPF4、p−トルエンスルホン酸塩、ドデ
シルベンゼンスルホン酸塩や以下の構造のポリマー電解
質などを好ましく使用することができる。
よって色素を吸着した半導体微粒子含有層の上に導入す
ることもできる。電解重合を行う場合に使用する電解液
は、重合に供するチオフェン化合物、支持電解質、溶媒
から構成されるが、必要に応じ添加剤が加えられてもよ
い。電解重合に使用する溶媒は塩化メチレン、プロピレ
ンカーボネート、アセトニトリルなど電位窓の比較的広
い汎用有機溶剤を使用することができ、必要に応じ水や
その他の有機溶剤を加えて混合溶媒として使用すること
もできる。支持電解質としてはLiClO4、(n-C4H9)4NB
F4、(n-C4H9)4NPF4、p−トルエンスルホン酸塩、ドデ
シルベンゼンスルホン酸塩や以下の構造のポリマー電解
質などを好ましく使用することができる。
【0072】
【化25】
【0073】
【化26】
【0074】式中、M+はH+、Na+、(n-C4H9)4N+、(n-C2H
5)4N+のいずれかを好ましく用いることができる。ま
た、組成比はいずれもモル比を表す。
5)4N+のいずれかを好ましく用いることができる。ま
た、組成比はいずれもモル比を表す。
【0075】電解重合を行う場合はガルバノスタチック
(定電流密度)とポテンシオスタチック(定電位)のい
ずれの方法によって行うこともできる。ガルバノスタチ
ックに重合を行う場合の好ましい電流密度範囲は0.0
001mA/cm2以上20mA/cm2以下である。ポテンシオス
タチックに重合を行う場合の好ましい電圧範囲は−0.
5V(vs Ag/AgCl)以上5V(vs Ag/AgCl)以下であ
る。
(定電流密度)とポテンシオスタチック(定電位)のい
ずれの方法によって行うこともできる。ガルバノスタチ
ックに重合を行う場合の好ましい電流密度範囲は0.0
001mA/cm2以上20mA/cm2以下である。ポテンシオス
タチックに重合を行う場合の好ましい電圧範囲は−0.
5V(vs Ag/AgCl)以上5V(vs Ag/AgCl)以下であ
る。
【0076】対向電極層は本発明のホール輸送層の上に
金属(例えば白金、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウ
ム、マグネシウム、インジウム等)、炭素、もしくは導
電性の金属酸化物(インジウム−スズ複合酸化物、酸化
スズにフッ素をドープしたもの等)を蒸着、スパッタリ
ング、塗布、スクリーン印刷等の方法により形成される
ことが好ましい。この中でも白金、金、銀、マグネシウ
ム、アルミニウム等の金属を含有する対向電極層が特に
好ましい。上記対向電極層の厚さは、0.002〜50
μm 程度であることが好ましい。
金属(例えば白金、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウ
ム、マグネシウム、インジウム等)、炭素、もしくは導
電性の金属酸化物(インジウム−スズ複合酸化物、酸化
スズにフッ素をドープしたもの等)を蒸着、スパッタリ
ング、塗布、スクリーン印刷等の方法により形成される
ことが好ましい。この中でも白金、金、銀、マグネシウ
ム、アルミニウム等の金属を含有する対向電極層が特に
好ましい。上記対向電極層の厚さは、0.002〜50
μm 程度であることが好ましい。
【0077】対向電極層は表面抵抗が低い程よい。好ま
しい表面抵抗の範囲としては80Ω/cm2以下であり、さ
らに好ましくは20Ω/cm2以下である。
しい表面抵抗の範囲としては80Ω/cm2以下であり、さ
らに好ましくは20Ω/cm2以下である。
【0078】感光層に光が到達するためには、前述の導
電性支持体と対向電極の少なくとも一方は実質的に透明
でなければならない。本発明の光電変換素子において
は、導電性支持体が透明であり太陽光を支持体側から入
射させてもよいし、対向電極側から入射させてもよい。
導電性支持体が透明であり太陽光を支持体側から入射さ
せる場合、対向電極は光を反射する性質を有することが
好ましい。また、太陽光を対向電極側から入射させる場
合、対向電極は遮光面積の小さな例えばスクリーン印刷
型フロント電極、buried contact、interdigiated back
contact、pointcontactなどの対向電極を用いるか、も
しくは透明対向電極を使用することが好ましい。その場
合の好ましい遮光面積は50%以下である。
電性支持体と対向電極の少なくとも一方は実質的に透明
でなければならない。本発明の光電変換素子において
は、導電性支持体が透明であり太陽光を支持体側から入
射させてもよいし、対向電極側から入射させてもよい。
導電性支持体が透明であり太陽光を支持体側から入射さ
せる場合、対向電極は光を反射する性質を有することが
好ましい。また、太陽光を対向電極側から入射させる場
合、対向電極は遮光面積の小さな例えばスクリーン印刷
型フロント電極、buried contact、interdigiated back
contact、pointcontactなどの対向電極を用いるか、も
しくは透明対向電極を使用することが好ましい。その場
合の好ましい遮光面積は50%以下である。
【0079】太陽光の捕獲効率を向上するため、太陽光
の入射する素子表面に例えばフッ素系ポリマーなどの反
射防止層を形成したり、反射表面粗化処理を施すことも
好ましく使用することができる。
の入射する素子表面に例えばフッ素系ポリマーなどの反
射防止層を形成したり、反射表面粗化処理を施すことも
好ましく使用することができる。
【0080】感光層は目的に応じて設計され単層構成で
も多層構成でもよい。一層の感光層中の色素は一種類で
も多種類でもよい。
も多層構成でもよい。一層の感光層中の色素は一種類で
も多種類でもよい。
【0081】また、本発明の光電変換素子では構成物の
酸化劣化を防止するために素子の側面をエポキシ樹脂や
エチレン−酢酸ビニル(EVA)などのポリマーや接着
剤等で密封してもよい。
酸化劣化を防止するために素子の側面をエポキシ樹脂や
エチレン−酢酸ビニル(EVA)などのポリマーや接着
剤等で密封してもよい。
【0082】本発明の光電変換素子をモジュール化する
場合は、単結晶シリコン太陽電池おけるinter connecti
onのようにシリーズコネクションを行うこともできる
し、アモルファスシリコン太陽電池におけるレーザース
クライビングやSCAF(Series-Connection through
Apertures formed on Film)等の手法を用いてシリーズ
コネクションを行うこともできる。本発明の光電変換素
子から形成したモジュールが大型の場合はガラス、EV
A、テドラーフィルムとともにアルミフレームに組み込
みスーパーストレート型モジュールとしてもよいし、モ
ジュールが小型の場合はサブストレート型モジュールと
してもよい。
場合は、単結晶シリコン太陽電池おけるinter connecti
onのようにシリーズコネクションを行うこともできる
し、アモルファスシリコン太陽電池におけるレーザース
クライビングやSCAF(Series-Connection through
Apertures formed on Film)等の手法を用いてシリーズ
コネクションを行うこともできる。本発明の光電変換素
子から形成したモジュールが大型の場合はガラス、EV
A、テドラーフィルムとともにアルミフレームに組み込
みスーパーストレート型モジュールとしてもよいし、モ
ジュールが小型の場合はサブストレート型モジュールと
してもよい。
【0083】
【実施例】以下に本発明の色素増感光電変換素子につい
て実施例によって具体的に説明するが本発明はこれらに
限定されない。 1.二酸化チタン分散液の調製 内側をテフロンコーティングした内容積200mlのステ
ンレス製ベッセルに二酸化チタン(日本アエロジル社
Degussa P−25)15g、水45g、分散剤
(アルドリッチ社製、Triton X−100)1
g、直径0.5mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社
製)30gを入れ、サンドグラインダーミル(アイメッ
クス社製)を用いて1500rpmにて2時間分散した。
分散物からジルコニアビーズをろ過して除いた。
て実施例によって具体的に説明するが本発明はこれらに
限定されない。 1.二酸化チタン分散液の調製 内側をテフロンコーティングした内容積200mlのステ
ンレス製ベッセルに二酸化チタン(日本アエロジル社
Degussa P−25)15g、水45g、分散剤
(アルドリッチ社製、Triton X−100)1
g、直径0.5mmのジルコニアビーズ(ニッカトー社
製)30gを入れ、サンドグラインダーミル(アイメッ
クス社製)を用いて1500rpmにて2時間分散した。
分散物からジルコニアビーズをろ過して除いた。
【0084】2.色素を吸着したTiO2電極(電極A)の
作製 フッ素をドープした酸化スズをコーティングした導電性
ガラス(日本板硝子製TCO;表面抵抗10Ω/□,3
0cm×30cm×1.1mm)を20mm×20mmの大きさに
切断加工したもの)の導電面側にガラス棒を用いて上記
の分散液を塗布した。この際導電面側の一部(端から3
mm)に粘着テープを張ってスペーサーとし、粘着テープ
が両端に来るようにガラスを並べて一度に8枚づつ塗布
した。塗布後、粘着テープを剥離し、室温で1日間風乾
した。次に、このガラスを電気炉(ヤマト科学製マッフ
ル炉FP−32型)に入れ、450℃にて30分間焼成
した。ガラスを取り出し6分間冷却した後、表1に示す
本発明の色素のエタノール溶液(3×10-4モル/リッ
トル)に室温で12時間浸漬した。色素の染着したガラ
スを4−tert−ブチルピリジンに15分間浸漬した後、
エタノールで洗浄し自然乾燥させた。
作製 フッ素をドープした酸化スズをコーティングした導電性
ガラス(日本板硝子製TCO;表面抵抗10Ω/□,3
0cm×30cm×1.1mm)を20mm×20mmの大きさに
切断加工したもの)の導電面側にガラス棒を用いて上記
の分散液を塗布した。この際導電面側の一部(端から3
mm)に粘着テープを張ってスペーサーとし、粘着テープ
が両端に来るようにガラスを並べて一度に8枚づつ塗布
した。塗布後、粘着テープを剥離し、室温で1日間風乾
した。次に、このガラスを電気炉(ヤマト科学製マッフ
ル炉FP−32型)に入れ、450℃にて30分間焼成
した。ガラスを取り出し6分間冷却した後、表1に示す
本発明の色素のエタノール溶液(3×10-4モル/リッ
トル)に室温で12時間浸漬した。色素の染着したガラ
スを4−tert−ブチルピリジンに15分間浸漬した後、
エタノールで洗浄し自然乾燥させた。
【0085】3.チオフェン化合物(T−31;3,4
−エチレンジオキシチオフェンダイマー)の合成 撹拌装置、温度計、還流冷却管を装着した1000mlの
ガラス製三口フラスコに、無水テトラヒドロフラン75
0ml、3,4−エチレンジオキシチオフェン25g
(0.15mol)をそれぞれ添加し、窒素気流下で撹拌
しながらアセトン/ドライアイス浴で内温が−70℃と
なるまで冷却する。この後1.6mol/l n−ブチルリ
チウムヘキサン溶液113cc(0.18mol)をシリン
ジで5分間かけて反応系に滴下した。25分後、無水塩
化銅23.5g(0.17mol)を添加してそのまま3
時間程度撹拌を継続して反応を行った。反応液を水10
Lに添加し、生成物を濾過した後、乾燥し、シリカゲル
クロマトグラフィー(移動相;塩化メチレン)により精
製し、黄白色結晶の3,4−エチレンジオキシチオフェ
ンダイマーを17.9g(収率約72%)を得た。
−エチレンジオキシチオフェンダイマー)の合成 撹拌装置、温度計、還流冷却管を装着した1000mlの
ガラス製三口フラスコに、無水テトラヒドロフラン75
0ml、3,4−エチレンジオキシチオフェン25g
(0.15mol)をそれぞれ添加し、窒素気流下で撹拌
しながらアセトン/ドライアイス浴で内温が−70℃と
なるまで冷却する。この後1.6mol/l n−ブチルリ
チウムヘキサン溶液113cc(0.18mol)をシリン
ジで5分間かけて反応系に滴下した。25分後、無水塩
化銅23.5g(0.17mol)を添加してそのまま3
時間程度撹拌を継続して反応を行った。反応液を水10
Lに添加し、生成物を濾過した後、乾燥し、シリカゲル
クロマトグラフィー(移動相;塩化メチレン)により精
製し、黄白色結晶の3,4−エチレンジオキシチオフェ
ンダイマーを17.9g(収率約72%)を得た。
【0086】4.ホール輸送層を含有する光電変換素子
の作製 以下の3種類の方法のいずれかの方法を用いて、表1記
載のチオフェン化合物からホール輸送層、対向電極を形
成し、光電変換素子を作製した。
の作製 以下の3種類の方法のいずれかの方法を用いて、表1記
載のチオフェン化合物からホール輸送層、対向電極を形
成し、光電変換素子を作製した。
【0087】(塗布法)表1記載のチオフェン化合物溶
液(濃度5wt% )を調整し、色素を吸着したTiO2電極
(電極A)上にスピンコートした(1000rpm、30s
ec)。この後、金もしくは白金を蒸著し、対向電極層を
形成し、光電変換素子を得た。
液(濃度5wt% )を調整し、色素を吸着したTiO2電極
(電極A)上にスピンコートした(1000rpm、30s
ec)。この後、金もしくは白金を蒸著し、対向電極層を
形成し、光電変換素子を得た。
【0088】(蒸着法)色素を吸着したTiO2電極(電極
A)(2cm×2cm)を真窒蒸着装置〔日本真空技術
(株)製〕の基板ホルダーに固定し、モリブデン製の抵
抗加熱ボートに表1記載のチオフェン化合物600mgを
入れた。真空チャンバー内を1×10-4Paまで減圧した
のち、該オフェン化合物入りのボートを加熱して0.1
〜0.3nm/秒の速度で堆積させ、膜厚100nmの正孔
輸送層を製膜した。この後、金もしくは白金を蒸着し、
対向電極層を形成し、光電変換素子を得た。
A)(2cm×2cm)を真窒蒸着装置〔日本真空技術
(株)製〕の基板ホルダーに固定し、モリブデン製の抵
抗加熱ボートに表1記載のチオフェン化合物600mgを
入れた。真空チャンバー内を1×10-4Paまで減圧した
のち、該オフェン化合物入りのボートを加熱して0.1
〜0.3nm/秒の速度で堆積させ、膜厚100nmの正孔
輸送層を製膜した。この後、金もしくは白金を蒸着し、
対向電極層を形成し、光電変換素子を得た。
【0089】(電解重合法)色素を吸着したTiO2電極
(電極A)(2cm×2cm)、白金線対向電極およびAg/A
gCl参照電極を表1記載のチオフェン化合物を50mM、
過塩素酸リチウム0.1Mのプロピレンカーボネート溶
液20mlの入った電気化学セルに浸積した。電極A、対
向電極、参照電極をPOTENTIOSTAT/GALVANOSATAT HA−5
05(HOKUTO DENKO Ltd.製)に接続し、重合量が75mC
/cm2となるまでガルバノスタチックに電解重合(電流密
度を1mA/cm2)を行った。この後、金もしくは白金を蒸
着し、対向電極層を形成し、光電変換素子を得た。
(電極A)(2cm×2cm)、白金線対向電極およびAg/A
gCl参照電極を表1記載のチオフェン化合物を50mM、
過塩素酸リチウム0.1Mのプロピレンカーボネート溶
液20mlの入った電気化学セルに浸積した。電極A、対
向電極、参照電極をPOTENTIOSTAT/GALVANOSATAT HA−5
05(HOKUTO DENKO Ltd.製)に接続し、重合量が75mC
/cm2となるまでガルバノスタチックに電解重合(電流密
度を1mA/cm2)を行った。この後、金もしくは白金を蒸
着し、対向電極層を形成し、光電変換素子を得た。
【0090】本実施例ににより、図1に示したとおり、
導電性ガラス1(ガラス上に導電層2が設層されたも
の)TiO2電極3、色素層4、ホール輸送層5、対向電極
層6が順に積層された光電変換素子が作製された。
導電性ガラス1(ガラス上に導電層2が設層されたも
の)TiO2電極3、色素層4、ホール輸送層5、対向電極
層6が順に積層された光電変換素子が作製された。
【0091】
【表1】
【0092】5.光電変換効率の測定 500Wのキセノンランプ(ウシオ製)の光をAM1.
5フィルター(Orie1社製)およびシャープカット
フィルター(Kenko L−42)を通す事により紫
外線を含まない模擬太陽光を発生させた。この光の強度
は86mW/cm2であった。
5フィルター(Orie1社製)およびシャープカット
フィルター(Kenko L−42)を通す事により紫
外線を含まない模擬太陽光を発生させた。この光の強度
は86mW/cm2であった。
【0093】本発明の光電変換素子の導電性ガラスと対
向電極層にそれぞれ、導線を接続し、模擬太陽光を照射
し、発生した電流を電流電圧測定装置(ケースレーSMU
238型)にて測定した。これにより求められた開放
電圧(Voc)、短絡電流密度(Jsc)、形状因子(ff)、
および変換効率(η)と、80℃かつ相対湿度100%
雰囲気の中に120時間放置後の短絡電流密度(Wet
サーモ後Jsc)および短絡電流密度の低下率を一括し
て表2に記載した。
向電極層にそれぞれ、導線を接続し、模擬太陽光を照射
し、発生した電流を電流電圧測定装置(ケースレーSMU
238型)にて測定した。これにより求められた開放
電圧(Voc)、短絡電流密度(Jsc)、形状因子(ff)、
および変換効率(η)と、80℃かつ相対湿度100%
雰囲気の中に120時間放置後の短絡電流密度(Wet
サーモ後Jsc)および短絡電流密度の低下率を一括し
て表2に記載した。
【0094】〔比較例1〕比較用光電変換素子A 前述の実施例で作製した色増感されたTiO2電極基板(電
極A;2cm×2cm)をこれと同じ大きさの白金蒸着ガラ
スと重ねあわせた(図1参照)。次に、両ガラスの隙間
に毛細管現象を利用して電解液(アセトニトリルと3−
メチル−2−オキサゾリジノンの体積比90対10の混
合物を溶媒とした沃素0.05モル/リットル、ヨウ化
リチウム0.5モル/リットルの溶液)を染み込ませて
比較用光電変換素子Aを作製した。
極A;2cm×2cm)をこれと同じ大きさの白金蒸着ガラ
スと重ねあわせた(図1参照)。次に、両ガラスの隙間
に毛細管現象を利用して電解液(アセトニトリルと3−
メチル−2−オキサゾリジノンの体積比90対10の混
合物を溶媒とした沃素0.05モル/リットル、ヨウ化
リチウム0.5モル/リットルの溶液)を染み込ませて
比較用光電変換素子Aを作製した。
【0095】〔比較例2〕比較用光電変換素子B 前述の実施例と同様に色増感されたTiO2電極基板(電極
A;2cm×2cm)上に、ヘキサエチレングリコールメタ
クリル酸エステル(日本油脂化学社製ブレンマーPE3
50)1gと、エチレングリコール1gと、重合開始剤
として、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−
プロパン−1−オン(日本チバガイギー社製 グロキュ
ア1173)20mgを含有した混合溶液に、ヨウ化リチ
ウム500mgを溶解し10分間真空脱気して、塗布し
た。次に、前記の混合溶液を塗布した多孔性物質を減圧
下に置くことで、多孔性物質中の気泡を除きモノマーの
浸透を促した後、紫外光照射により重合して高分子化合
物の均一なゲルを多孔性物質の細孔内に存在させた。こ
のようにして得られた物質をヨウ素雰囲気下に、30分
間曝して高分子化合物中にヨウ素を拡散させて比較用光
電変換素子Bを得た。
A;2cm×2cm)上に、ヘキサエチレングリコールメタ
クリル酸エステル(日本油脂化学社製ブレンマーPE3
50)1gと、エチレングリコール1gと、重合開始剤
として、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−
プロパン−1−オン(日本チバガイギー社製 グロキュ
ア1173)20mgを含有した混合溶液に、ヨウ化リチ
ウム500mgを溶解し10分間真空脱気して、塗布し
た。次に、前記の混合溶液を塗布した多孔性物質を減圧
下に置くことで、多孔性物質中の気泡を除きモノマーの
浸透を促した後、紫外光照射により重合して高分子化合
物の均一なゲルを多孔性物質の細孔内に存在させた。こ
のようにして得られた物質をヨウ素雰囲気下に、30分
間曝して高分子化合物中にヨウ素を拡散させて比較用光
電変換素子Bを得た。
【0096】〔比較例3〕比較用光電変換素子C 前述の実施例と同様に色増感されたTiO2電極基板(電極
A;2cm×2cm)上に、N,N’−ジフェニル−N、
N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミンを0.5μm 蒸着してホ
ール輸送層を形成した。この後、実施例と同様に金を蒸
着し、比較用光電変換素子Cを得た。
A;2cm×2cm)上に、N,N’−ジフェニル−N、
N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミンを0.5μm 蒸着してホ
ール輸送層を形成した。この後、実施例と同様に金を蒸
着し、比較用光電変換素子Cを得た。
【0097】これらの比較用電池についても、上記実施
例と同様の測定を行い短絡電流密度の低下率等を求め
た。その結果を表2に示した。
例と同様の測定を行い短絡電流密度の低下率等を求め
た。その結果を表2に示した。
【0098】
【表2】
【0099】比較用光電変換素子A、B、Cと比べ本発
明の実施例では高温高湿下における光電変換特性の劣化
が少ないことが明らかである。
明の実施例では高温高湿下における光電変換特性の劣化
が少ないことが明らかである。
【0100】
【発明の効果】本発明により高温高湿下における特性劣
化が少ない光電変換素子が得られた。
化が少ない光電変換素子が得られた。
【図1】実施例で作成した光電変換素子の層構成を示す
断面図である。
断面図である。
1 ガラス支持体 2 導電層 3 TiO2電極 4 色素層 5 ホール輸送層 6 対向電極層
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成10年12月25日(1998.12.
25)
25)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】こうした状況下で、Nature(第35
3巻、第737〜740頁、1991年)および米国特
許4927721号等に、色素によって増感された半導
体微粒子を用いた光電変換素子(以後、色素増感光電変
換素子と略す)、もしくはこれを作製するための材料お
よび製造技術が開示された。提案された素子は、ルテニ
ウム錯体の単層吸着によって分光増感された二酸化チタ
ン多孔質薄膜を作用電極とする湿式太陽電池である。こ
の方式は安価で高いエネルギー変換効率が得られる点で
有望だと考えられるが、ホール輸送層に電解質溶液用い
るため、長期にわたって使用すると電解液の枯渇もしく
は漏洩により光電変換効率が著しく低下したり、素子と
して機能しなくなることが懸念されている。このような
欠点を克服するため、国際特許93/20565号には
固体電解質を用いた光電変換素子が、また、特開平7−
288142号、Solid State Ionic
s.,89(1996)263頁および特開平9−27
352号明細書に架橋ポリエチレンオキサイド系ゲル電
解質を用いて固体化した光電変換素子が記載されてい
る。またSynthetic Metals,89,2
15−220(1997)には芳香族3級アミンを用い
て固体化した光電変換素子が記載されている。しかしな
がら、これらの固体化された光電変換素子は検討の結
果、光電変換特性および湿熱耐久性が不十分なレベルに
あることが判明した。
3巻、第737〜740頁、1991年)および米国特
許4927721号等に、色素によって増感された半導
体微粒子を用いた光電変換素子(以後、色素増感光電変
換素子と略す)、もしくはこれを作製するための材料お
よび製造技術が開示された。提案された素子は、ルテニ
ウム錯体の単層吸着によって分光増感された二酸化チタ
ン多孔質薄膜を作用電極とする湿式太陽電池である。こ
の方式は安価で高いエネルギー変換効率が得られる点で
有望だと考えられるが、ホール輸送層に電解質溶液用い
るため、長期にわたって使用すると電解液の枯渇もしく
は漏洩により光電変換効率が著しく低下したり、素子と
して機能しなくなることが懸念されている。このような
欠点を克服するため、国際特許93/20565号には
固体電解質を用いた光電変換素子が、また、特開平7−
288142号、Solid State Ionic
s.,89(1996)263頁および特開平9−27
352号明細書に架橋ポリエチレンオキサイド系ゲル電
解質を用いて固体化した光電変換素子が記載されてい
る。またSynthetic Metals,89,2
15−220(1997)には芳香族3級アミンを用い
て固体化した光電変換素子が記載されている。しかしな
がら、これらの固体化された光電変換素子は検討の結
果、光電変換特性および湿熱耐久性が不十分なレベルに
あることが判明した。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0018
【補正方法】変更
【補正内容】
【0018】金属錯体色素はルテニウム錯体色素が好ま
しく、さらに下記一般式(6)で表される色素が好まし
い。
しく、さらに下記一般式(6)で表される色素が好まし
い。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】以下に本発明に使用する金属錯体色素の好
ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0037
【補正方法】変更
【補正内容】
【0037】一般式(8−a)〜(8−d)にて、R
21〜R25、R26〜R29、R31〜R33、R
41〜R43はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、
アリール基、複素環残基を表し、Y11、Y12、Y
21、Y22、Y31〜Y35、Y41〜Y46はそれ
ぞれ独立に酸素、硫黄、セレン、テルル、−CR51R
52−、−NR53−を表す。R51〜R53はそれぞ
れ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、複素環残
基を表わす。Y23はO−、S−、Se−、Te−、−
NR53 −を表す。V11、V12、V21、V22、
V31、V41はそれぞれ独立に置換基を表し、
n15、n31、n41はそれぞれ独立に1〜6の整数
を表す。
21〜R25、R26〜R29、R31〜R33、R
41〜R43はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、
アリール基、複素環残基を表し、Y11、Y12、Y
21、Y22、Y31〜Y35、Y41〜Y46はそれ
ぞれ独立に酸素、硫黄、セレン、テルル、−CR51R
52−、−NR53−を表す。R51〜R53はそれぞ
れ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、複素環残
基を表わす。Y23はO−、S−、Se−、Te−、−
NR53 −を表す。V11、V12、V21、V22、
V31、V41はそれぞれ独立に置換基を表し、
n15、n31、n41はそれぞれ独立に1〜6の整数
を表す。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0040
【補正方法】変更
【補正内容】
【0040】また、本発明の光電変換素子に吸着する色
素は1種類でもよいし、光電変換の波長域を広くするた
め、数種混合して用いてもよい。色素の会合など色素間
相互作用は光捕獲率の低下など好ましくない作用を持つ
ことが多いので、色素間相互作用を低減するため可視域
光をほとんど吸収しない化合物を共吸着させてもよい。
共吸着させる化合物としてはカルボキシル基を有するス
テロイド化合物(例えばコール酸)等を好ましく使用す
ることができる。
素は1種類でもよいし、光電変換の波長域を広くするた
め、数種混合して用いてもよい。色素の会合など色素間
相互作用は光捕獲率の低下など好ましくない作用を持つ
ことが多いので、色素間相互作用を低減するため可視域
光をほとんど吸収しない化合物を共吸着させてもよい。
共吸着させる化合物としてはカルボキシル基を有するス
テロイド化合物(例えばコール酸)等を好ましく使用す
ることができる。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0070
【補正方法】変更
【補正内容】
【0070】塗布法によってホール輸送層を形成する場
合、本発明のチオフェン化合物を1種又は2種以上と、
必要によりNOPF6、SbCl5、I2、Br2、H
ClO4、(n−C4H9)4ClO4、トリフルオロ
酢酸、4−ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフタレ
ンスルホン酸、FeCl3、AuCl3、NOSb
F6、AsF5、NOBF4、LiBF4、H3[PM
o12O40]7,7,8,8−テトラシアノキノジメ
タン(TCNQ)などのアクセプタードーピング剤やホ
ールをトラップしにくいバインダー樹脂や、レベリング
剤等の塗布性改良剤などの添加剤を添加し溶解した塗布
溶液を調整し、スピンコート法、ディップコート法、エ
アーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコー
ト法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、或い
は、米国特許第2681294号記載のホッパーを使用
するエクストルージョンコート法、又は米国特許第27
61418号、同3508947号、同2761791
号記載の多層同時塗布方法等の方法により塗布、乾燥し
てホール輸送層を形成することができる。バインダー樹
脂としては、チオフェン化合物を含有する高分子、ポリ
スチレン、ポリシラン類、ポリカーボネート、ポリアリ
レート、ポリエステル等が挙げられる。アクセプタード
ーピング剤の好ましい添加量は0以上80重量%以下で
ある。バインダー樹脂は添加量が多いとホール移動度を
低下させることが多いので50重量%以下が好ましい。
合、本発明のチオフェン化合物を1種又は2種以上と、
必要によりNOPF6、SbCl5、I2、Br2、H
ClO4、(n−C4H9)4ClO4、トリフルオロ
酢酸、4−ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフタレ
ンスルホン酸、FeCl3、AuCl3、NOSb
F6、AsF5、NOBF4、LiBF4、H3[PM
o12O40]7,7,8,8−テトラシアノキノジメ
タン(TCNQ)などのアクセプタードーピング剤やホ
ールをトラップしにくいバインダー樹脂や、レベリング
剤等の塗布性改良剤などの添加剤を添加し溶解した塗布
溶液を調整し、スピンコート法、ディップコート法、エ
アーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコー
ト法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、或い
は、米国特許第2681294号記載のホッパーを使用
するエクストルージョンコート法、又は米国特許第27
61418号、同3508947号、同2761791
号記載の多層同時塗布方法等の方法により塗布、乾燥し
てホール輸送層を形成することができる。バインダー樹
脂としては、チオフェン化合物を含有する高分子、ポリ
スチレン、ポリシラン類、ポリカーボネート、ポリアリ
レート、ポリエステル等が挙げられる。アクセプタード
ーピング剤の好ましい添加量は0以上80重量%以下で
ある。バインダー樹脂は添加量が多いとホール移動度を
低下させることが多いので50重量%以下が好ましい。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0073
【補正方法】変更
【補正内容】
【0073】
【化26】
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0088
【補正方法】変更
【補正内容】
【0088】(蒸着法)色素を吸着したTiO2電極
(電極A)(2cm×2cm)を真空蒸着装置〔日本真
空技術(株)製〕の基板ホルダーに固定し、モリブデン
製の抵抗加熱ボートに表1記載のチオフェン化合物60
0mgを入れた。真空チャンバー内を1×10−4Pa
まで減圧したのち、該オフェン化合物入りのボートを加
熱して0.1〜0.3nm/秒の速度で堆積させ、膜厚
100nmの正孔輸送層を製膜した。この後、金もしく
は白金を蒸着し、対向電極層を形成し、光電変換素子を
得た。
(電極A)(2cm×2cm)を真空蒸着装置〔日本真
空技術(株)製〕の基板ホルダーに固定し、モリブデン
製の抵抗加熱ボートに表1記載のチオフェン化合物60
0mgを入れた。真空チャンバー内を1×10−4Pa
まで減圧したのち、該オフェン化合物入りのボートを加
熱して0.1〜0.3nm/秒の速度で堆積させ、膜厚
100nmの正孔輸送層を製膜した。この後、金もしく
は白金を蒸着し、対向電極層を形成し、光電変換素子を
得た。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0089
【補正方法】変更
【補正内容】
【0089】(電解重合法)色素を吸着したTiO2電
極(電極A)(2cm×2cm)、白金線対向電極およ
びAg/AgCl参照電極を表1記載のチオフェン化合
物を50mM、過塩素酸リチウム0.1Mのプロピレン
カーボネート溶液20mlの入った電気化学セルに浸漬
した。電極A、対向電極、参照電極をPOTENTIO
STAT/GALVANOSATAT HA−505
(HOKUTO DENKOLtd.製)に接続し、重
合量が75mC/cm2となるまでガルバノスタチック
に電解重合(電流密度を1mA/cm2)を行った。こ
の後、金もしくは白金を蒸着し、対向電極層を形成し、
光電変換素子を得た。
極(電極A)(2cm×2cm)、白金線対向電極およ
びAg/AgCl参照電極を表1記載のチオフェン化合
物を50mM、過塩素酸リチウム0.1Mのプロピレン
カーボネート溶液20mlの入った電気化学セルに浸漬
した。電極A、対向電極、参照電極をPOTENTIO
STAT/GALVANOSATAT HA−505
(HOKUTO DENKOLtd.製)に接続し、重
合量が75mC/cm2となるまでガルバノスタチック
に電解重合(電流密度を1mA/cm2)を行った。こ
の後、金もしくは白金を蒸着し、対向電極層を形成し、
光電変換素子を得た。
Claims (9)
- 【請求項1】 導電性支持体、該導電体支持体上に塗設
された色素を吸着した半導体微粒子含有層、ホール輸送
層および対向電極を備える色素増感された光電変換素子
において、前記ホール輸送層がチオフェン化合物を含む
ことを特徴とする光電変換素子。 - 【請求項2】 前記チオフェン化合物が下記の一般式
(1)で表されるチオフェン化合物である請求項1の光
電変換素子。 一般式(1) 【化1】 一般式(1)において、Y1およびY2はそれぞれ独立に
水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、ハロゲン原子を表す。また、
X1およびX2はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1
から24までのアルキル基、アリール基、−OR1基、
−SR2基、−SeR3基、−TeR4基を表し、それぞ
れ同じであっても異なっていても構わない。ここでX1
とX2は共に環を形成していても構わない。R1,R2,
R3,R4は水素原子、炭素原子数1から24までのアル
キル基またはアルキレン基を表す。n1は1以上の整数
を表す。 - 【請求項3】 前記チオフェン化合物が下記一般式
(2)で表されるチオフェン化合物である請求項1の光
電変換素子。 一般式(2) 【化2】 一般式(2)において、Y3およびY4はそれぞれ独立に
水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、ハロゲン原子を表す。また、
X3,X4,X5およびX6はそれぞれ独立に水素原子、炭
素原子数1から24までのアルキル基、アリール基、−
OR5基、−SR6基、−SeR7基、−TeR8基を表
し、それぞれ同じであっても異なっていても構わない。
ここでX3とX4およびX5とX6は共に環を形成していて
も構わない。R5,R6,R7,R8は水素原子、炭素原子
数1から24までのアルキル基またはアルキレン基を表
す。n2は1以上の整数を表す。 - 【請求項4】 前記チオフェン化合物が下記一般式
(3)で表されるチオフェン化合物である請求項1の光
電変換素子。 一般式(3) 【化3】 一般式(3)において、Y5およびY6はそれぞれ独立に
水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、ハロゲン原子を表す。また、
X7,X8,X9,X10,X11およびX12はそれぞれ独立
に水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、
アリール基、−OR9基、−SR10、−SeR11基、−
TeR12基を表し、それそれ同じであっても異なってい
ても構わない。ここでX7とX8、X9とX10およびX11
とX12は共に環を形成していても構わない。R9,
R10,R11,R12は水素原子、炭素原子数1から24ま
でのアルキル基またはアルキレン基を表す。n3は上記
1以上の整数を表す。 - 【請求項5】 前記チオフェン化合物が下記一般式
(4)で表されるチオフェン化合物である請求項1の光
電変換素子。。 一般式(4) 【化4】 一般式(4)において、Y7およびY8はそれぞれ独立に
水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、ア
リール基、アラルキル基、ハロゲン原子を表す。また、
X13,X14,X15,X16,X17,X18,X19およびX20
はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1から24まで
のアルキル基、アリール基、−OR13基、−SR14基、
−SeR15基、−TeR16基を表し、それそれ同じであ
っても異なっていても構わない。ここでX13とX14、X
15とX16、X17とX18およびX19とX20は共に環を形成
していても構わない。R13,R14,R15,R16は水素原
子、炭素原子数1から24までをアルキル基またはアル
キレン基を表す。n4は1以上の整数を表す。 - 【請求項6】 前記チオフェン化合物が下記一般式
(5)で表されるチオフェン化合物である請求項1の光
電変換素子。 一般式(5) 【化5】 一般式(5)において、Y9およびY10はそれぞれ独立
に水素原子、炭素原子数1から24までのアルキル基、
アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子を表す。ま
た、X21,X22,X23、X24はそれぞれ独立に水素原
子、炭素原子数1から24までのアルキル基、アリール
基、−OR17基、−SR18基、−SeR19基、−TeR
20基を表し、それそれ同じであっても異なっていても構
わない。ここでX21とX22、X23とX24は共に環を形成
していても構わない。R17、R18、R19、R20は水素原
子、炭素原子数1から24までのアルキル基またはアル
キレン基を表す。L1は2価の連結基を表す。n5および
n6は1以上の整数を表す。m1は0以上10未満の整数
を表す。 - 【請求項7】 前記チオフェン化合物が、チオフェン、
3,4−エチレンジオキシチオフェン、炭素原子数1以
上18以下のアルキル基を3位置換基として有するチオ
フェンまたはイソチアナフテンから誘導される単位を含
有する請求項1〜6のいずれかの光電変換素子。 - 【請求項8】 前記色素がルテニウム錯体色素またはポ
リメチン色素である請求項1〜7のいずれかの光電変換
素子。 - 【請求項9】 前記半導体微粒子含有層が二酸化チタン
微粒子から構成されることを特徴とする請求項1〜8の
いずれかの光電変換素子。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10291395A JP2000106223A (ja) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | 光電変換素子 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10291395A JP2000106223A (ja) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | 光電変換素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000106223A true JP2000106223A (ja) | 2000-04-11 |
Family
ID=17768358
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10291395A Pending JP2000106223A (ja) | 1998-09-29 | 1998-09-29 | 光電変換素子 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000106223A (ja) |
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