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JP2000105370A - Reflection plate as well as reflection type display element and its production - Google Patents

Reflection plate as well as reflection type display element and its production

Info

Publication number
JP2000105370A
JP2000105370A JP10275952A JP27595298A JP2000105370A JP 2000105370 A JP2000105370 A JP 2000105370A JP 10275952 A JP10275952 A JP 10275952A JP 27595298 A JP27595298 A JP 27595298A JP 2000105370 A JP2000105370 A JP 2000105370A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin layer
photosensitive resin
light
substrate
reflection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10275952A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisahide Wakita
尚英 脇田
Yasuhiko Yamanaka
泰彦 山中
Mariko Kawaguri
真理子 河栗
Hiroshi Yamazoe
博司 山添
Takeshi Karasawa
武 柄沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP10275952A priority Critical patent/JP2000105370A/en
Publication of JP2000105370A publication Critical patent/JP2000105370A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to improve the utilization efficiency of incident light and to brightly reflect the light to a direction within a prescribed angle range. SOLUTION: This display element has a reflection plate 1, a counter substrate 2 facing the reflection plate 1 and a liquid crystal layer 3 held between the reflection plate 1 and the counter substrate 2. The reflection plate 1 is disposed on a glass substrate 11 and the surface layer portion thereof has a photosensitive resin layer 9 formed as plural rugged surfaces inclining in a prescribed direction and a reflection film 10 disposed on the photosensitive resin layer 9. As a result, the reflection of the light in a specular reflection direction where mirroring-in occurs is averted and the reflection of the light in a direction where visibility is good is made possible.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶等の受光型光
変調媒体を備えた反射型表示素子に用いられる反射板、
並びに反射型表示素子及びその製造方法に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection plate used for a reflection type display device provided with a light receiving type light modulation medium such as a liquid crystal.
And a reflective display element and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子は、薄型・軽量という特性
を有していることから、携帯型の情報端末用ディスプレ
イ等に広範に用いられている。液晶は自ら発光しない受
光型素子である為、一般に、液晶パネルの背面に反射板
を配置し外光の反射を利用して表示させる反射型液晶表
示素子と、液晶パネルの背面にバックライトを配置し、
該バックライトの光を投射して表示させる透過型液晶表
示素子とに分類できる。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices have been widely used in portable information terminal displays and the like because of their thin and lightweight characteristics. Since liquid crystal is a light-receiving element that does not emit light by itself, in general, a reflective liquid crystal display element that arranges a reflective plate on the back of the liquid crystal panel and displays by utilizing the reflection of external light, and a backlight on the back of the liquid crystal panel And
It can be classified into a transmissive liquid crystal display element which displays by projecting the light of the backlight.

【0003】周知のように、液晶は数ボルトの低電圧で
駆動可能であり、又上記反射型液晶表示素子の場合で
は、バックライトを用いずに外光を利用して表示させる
為、極めて低消費電力である。反射型液晶表示素子は、
前述のように、液晶層の背面側にアルミニウム(Al)
又は銀(Ag)等からなる散乱反射板を配置した構造で
あるが、腕時計等の白黒表示をする反射型液晶表示素子
のように、ガラスの外側に偏光板付きの散乱反射板を設
けるものもある。
As is well known, a liquid crystal can be driven at a low voltage of several volts, and in the case of the above-mentioned reflective liquid crystal display element, display is performed by using external light without using a backlight. Power consumption. The reflective liquid crystal display element
As described above, aluminum (Al) is provided on the back side of the liquid crystal layer.
Or, a structure in which a scattering reflection plate made of silver (Ag) or the like is arranged, but there is also a structure in which a scattering reflection plate with a polarizing plate is provided outside the glass, such as a reflection-type liquid crystal display element for displaying black and white such as a wristwatch. is there.

【0004】ここで、日本国特開平4−243226号
公報には、バックライトを使用せずに外光を散乱反射板
にて散乱・反射して表示させる反射型液晶表示パネルが
開示されている。
Here, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-243226 discloses a reflective liquid crystal display panel in which external light is scattered / reflected by a scattering / reflecting plate without using a backlight for display. .

【0005】上記公報に記載の散乱反射板は、その反射
面の形状が均一で、かつ再現性よく形成されるべく、以
下に述べる方法にて製造されている。即ち、図12
(a)に示すように、ガラス基板101上にレジスト膜
102を塗布する。次に、図12(b)に示すように、
レジスト膜102を、所定の形状にパターニングされた
フォトマスク103で覆い露光する。続いて、露光され
たレジスト膜102を現像剤にて現像し、図12(c)
に示す多数の凸部104を形成する。該凸部104の断
面形状に於いて、その角は略直角となっている為、凸部
104の角を丸める必要がある。従って、熱処理を行う
ことにより、図12(d)に示すような形状とする。更
に、該凸部104が形成されたガラス基板101上にA
gを蒸着して反射膜106を形成する。
[0005] The scattering reflector described in the above publication is manufactured by the method described below in order to form the reflecting surface with a uniform shape with good reproducibility. That is, FIG.
As shown in (a), a resist film 102 is applied on a glass substrate 101. Next, as shown in FIG.
The resist film 102 is covered with a photomask 103 patterned into a predetermined shape and exposed. Subsequently, the exposed resist film 102 is developed with a developer, and FIG.
Are formed as shown in FIG. In the cross-sectional shape of the convex portion 104, the corner is substantially a right angle, so it is necessary to round the corner of the convex portion 104. Therefore, the shape as shown in FIG. 12D is obtained by performing the heat treatment. Further, A is formed on the glass substrate 101 on which the convex portions 104 are formed.
g is deposited to form a reflective film 106.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に記載の反射型液晶表示パネルに於ける反射板の凸部
は、フォトマスクを使用した通常のパターン化により形
成されており、その断面形状は対称となっている。この
結果、散乱反射板にて散乱・反射される光は、上記凸部
の形状に応じて観察者の視認方向、例えば基板の法線方
向以外の方向にも反射される。よって、外光を有効に利
用できない。
However, the projections of the reflection plate in the reflection type liquid crystal display panel described in the above publication are formed by ordinary patterning using a photomask, and the cross-sectional shape is It is symmetric. As a result, the light scattered / reflected by the scattering / reflecting plate is also reflected in a viewing direction of an observer, for example, in a direction other than the normal direction of the substrate, according to the shape of the projection. Therefore, external light cannot be used effectively.

【0007】具体的には、傾斜した凸部と凸部との間に
は、必ず基板面に平行な正反射面が存在しているが、入
射光がこの正反射面で正反射されると基板の法線方向に
は反射されない。しかも、ガラス等からなる対向基板面
では入射光の一部が正反射されて照明の映り込みが発生
するが、この映り込みの生じる方向と、反射光の光強度
の最も強い方向とが一致する為、最も明るい方向に於け
る表示の視認性が悪くなる。よって、観察者はやや暗い
方向から表示画面を見ることになり、最も明るい方向か
らの表示画面の観察ができないという問題点を有する。
More specifically, a regular reflection surface parallel to the substrate surface always exists between the inclined convex portions, and when incident light is regularly reflected by the regular reflection surface. It is not reflected in the normal direction of the substrate. Moreover, on the counter substrate surface made of glass or the like, a part of the incident light is specularly reflected to cause glare of illumination, and the direction in which the glare occurs coincides with the direction in which the reflected light has the highest light intensity. Therefore, visibility of display in the brightest direction is deteriorated. Therefore, the observer views the display screen from a slightly dark direction, and has a problem that the display screen cannot be observed from the brightest direction.

【0008】更に、上記公報に記載の反射型液晶表示装
置では、反射板に於ける凸部を形成する為に、所定の形
状にパターニングしたフォトマスクを用いて露光工程を
行うので、通常よりも製造工程が増加している。更に、
上記露光工程では、フォトマスクと、レジスト膜が形成
されたガラス基板との位置合わせが必要となるが、この
位置合わせが精度よく行われないと、歩留まりの低下を
招来し、コストの増加につながるという問題点を有す
る。
Further, in the reflection type liquid crystal display device described in the above publication, an exposure step is performed using a photomask patterned into a predetermined shape in order to form a convex portion in the reflection plate. Manufacturing processes are increasing. Furthermore,
In the above-mentioned exposure step, alignment between a photomask and a glass substrate on which a resist film is formed is required. However, if this alignment is not performed accurately, a reduction in yield is caused, leading to an increase in cost. There is a problem that.

【0009】本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされ
たものであり、その目的は反射特性に優れた反射板、そ
れを備えた反射型表示素子及びその製造方法を提供する
ことにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a reflection plate having excellent reflection characteristics, a reflection type display device having the same, and a method of manufacturing the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する為
に、請求項1に記載の発明は、基板上に設けられた感光
性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた反射膜とを
有する反射板に於いて、上記感光性樹脂層の表面は凹凸
面となっており、かつその凹凸面を構成する凹部又は凸
部はその断面形状が一定の方向に傾斜しており、反射光
を特定の方向に集光させる構造となっていることを特徴
とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 comprises a photosensitive resin layer provided on a substrate and a reflective resin layer provided on the photosensitive resin layer. In the reflection plate having a film, the surface of the photosensitive resin layer has an uneven surface, and the concave or convex portion constituting the uneven surface has a cross-sectional shape inclined in a certain direction, The reflected light is condensed in a specific direction.

【0011】上記の構成によれば、感光性樹脂層の表面
は凹凸面となっており、該凹凸面を構成する凹部又は凸
部はその断面形状が一定の方向に傾斜しているので、基
板面に平行な正反射面が存在しない。この結果、所定の
方向からある入射角にて入射した光の大部分を、正反射
方向ではなく観察者の視認方向、例えば基板の法線方向
に反射させることが可能となる。よって、入射光の利用
効率を向上させ、かつ所定の角度範囲内の方向に対して
明るく反射させることができる。
According to the above structure, the surface of the photosensitive resin layer has an uneven surface, and the concave or convex portion constituting the uneven surface has a cross-sectional shape inclined in a certain direction. There is no specular reflection plane parallel to the plane. As a result, it is possible to reflect most of the light incident from a predetermined direction at a certain incident angle, not in the specular reflection direction, but in the viewing direction of the observer, for example, in the normal direction of the substrate. Therefore, the utilization efficiency of the incident light can be improved, and the incident light can be reflected brightly in a direction within a predetermined angle range.

【0012】上記の課題を解決する為に、請求項2に記
載の発明は、基板上に設けられた感光性樹脂層と、該感
光性樹脂層上に設けられた反射膜とを有する反射板に於
いて、上記感光性樹脂層は、上記基板上に形成された感
光性樹脂材料に、該基板面に対して斜め方向からマスク
を介して露光し現像されることにより形成される第1感
光性樹脂層であって、上記斜め方向からの露光により一
定の方向に傾斜した非対称な断面形状を有する複数の凹
部又は凸部を備えた上記第1感光性樹脂層と、上記第1
感光性樹脂層上に、該第1感光性樹脂層の形状に沿うよ
うにして設けられた第2感光性樹脂層とを含んで構成さ
れることを特徴とする。
According to another aspect of the present invention, there is provided a reflector having a photosensitive resin layer provided on a substrate and a reflective film provided on the photosensitive resin layer. Wherein the photosensitive resin layer is formed by exposing and developing a photosensitive resin material formed on the substrate from an oblique direction with respect to the substrate surface through a mask. A first photosensitive resin layer having a plurality of concave or convex portions having an asymmetric cross-sectional shape inclined in a certain direction by the exposure from the oblique direction;
It is characterized by comprising a second photosensitive resin layer provided on the photosensitive resin layer along the shape of the first photosensitive resin layer.

【0013】上記の構成では、基板面に対して平行な正
反射面が反射板に形成されないように、感光性樹脂層
を、複数の凹部又は凸部を備えた第1感光性樹脂層と、
該第1感光性樹脂層上に設けられた第2感光性樹脂層と
の2層構造としている。これにより、第1感光性樹脂層
に於ける凹部又は凸部の各々が隔離している部分も緩や
かに傾斜した凹凸面とすることができる。
[0013] In the above configuration, the photosensitive resin layer includes a first photosensitive resin layer having a plurality of concave portions or convex portions so that a regular reflection surface parallel to the substrate surface is not formed on the reflector.
It has a two-layer structure with the second photosensitive resin layer provided on the first photosensitive resin layer. Thereby, the portions of the first photosensitive resin layer where the concave portions or the convex portions are separated can also be formed as a gently inclined uneven surface.

【0014】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の反射板に於いて、上記マスクは、上記基板と感光性樹
脂層との間に設けられ、所定の形状の光透過部を有する
遮光膜であることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the reflection plate according to the second aspect, the mask is provided between the substrate and the photosensitive resin layer, and a light transmitting portion having a predetermined shape is provided. A light-shielding film having

【0015】上記構成のように、基板と感光性樹脂層と
の間に設けられた遮光膜をマスクとして用いることによ
り、基板面に対して該基板側の斜め方向からの露光が可
能となる。上記の様な露光等を行うことにより、各々一
定の方向に均一に傾斜した複数の凹部又は凸部を制御性
よく形成することができる。しかも、同様のパターン形
状を有する遮光膜を形成すれば、再現性よくほぼ同一の
形状の凹部又は凸部を形成できる。この結果、一定の方
向に緩やかに傾斜した凹凸面を有する感光性樹脂層を形
成することができる。尚、遮光膜が金属薄膜等からなる
場合であっても、本発明では第2感光性樹脂層を第1感
光性樹脂層上に形成するので、反射膜と遮光膜との短絡
を防止できる。よって、上記第2感光性樹脂層は絶縁膜
としての機能も有している。
As described above, by using the light-shielding film provided between the substrate and the photosensitive resin layer as a mask, it becomes possible to expose the substrate surface from an oblique direction on the substrate side. By performing the above-described exposure and the like, it is possible to form a plurality of concave portions or convex portions each of which is uniformly inclined in a certain direction with good controllability. Moreover, if a light-shielding film having a similar pattern shape is formed, a concave portion or a convex portion having substantially the same shape can be formed with good reproducibility. As a result, a photosensitive resin layer having an uneven surface gently inclined in a certain direction can be formed. Even when the light-shielding film is made of a metal thin film or the like, the second photosensitive resin layer is formed on the first photosensitive resin layer in the present invention, so that a short circuit between the reflection film and the light-shielding film can be prevented. Therefore, the second photosensitive resin layer also has a function as an insulating film.

【0016】上記の課題を解決する為に、請求項4に記
載の発明は、請求項1、請求項2又は請求項3の何れか
1つに記載の反射板と、上記反射板に対向する対向基板
と、上記反射板及び対向基板間に挟持された光変調層と
を備えていることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a reflecting plate according to any one of the first, second, and third aspects, wherein the reflecting plate is opposed to the reflecting plate. It is characterized by comprising a counter substrate, and a light modulation layer sandwiched between the reflector and the counter substrate.

【0017】上記の構成によれば、請求項1、請求項2
又は請求項3の何れか1つに記載の反射板を備えている
ので、反射板には入射光に対して正反射を引き起こす正
反射面が存在しない。一般に、対向基板表面では、入射
光が正反射することにより映り込みが生じる。上記反射
板は、この映り込みが視認される方向に反射光が集中す
るのを防止し、観察者の視認方向、例えば基板の法線方
向等に最も光を反射させることができる。よって、上記
反射板を備えた反射型表示素子は、明るく視認性の良好
な表示画面を有する。
According to the above construction, claims 1 and 2 are provided.
Alternatively, since the reflection plate is provided with the reflection plate according to any one of the third aspects, the reflection plate does not have a regular reflection surface that causes regular reflection of incident light. In general, reflection occurs on the surface of a counter substrate due to specular reflection of incident light. The reflection plate prevents the reflected light from being concentrated in the direction in which the reflection is visually recognized, and can reflect the light most in the viewing direction of the observer, for example, in the normal direction of the substrate. Therefore, the reflective display element provided with the reflective plate has a display screen which is bright and has good visibility.

【0018】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の反射型表示素子に於いて、上記光変調層は、液晶層か
らなることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the reflective display device according to the fourth aspect, the light modulation layer comprises a liquid crystal layer.

【0019】上記構成のように、光変調層として液晶層
を設けることにより、反射型の液晶表示素子にも適用可
能である。このような反射型の液晶表示素子は、明るく
視認性の良好な表示画面を実現することができる。
By providing a liquid crystal layer as a light modulation layer as described above, the present invention can be applied to a reflection type liquid crystal display device. Such a reflection type liquid crystal display element can realize a bright display screen with good visibility.

【0020】上記の課題を解決する為に、請求項6に記
載の発明は、基板上に設けられた感光性樹脂層、及び該
感光性樹脂層上に設けられた反射膜を含んで構成される
反射板と、上記反射板に対向する対向基板と、上記反射
板及び対向基板間に挟持された光変調層とを備えた反射
型表示素子の製造方法に於いて、上記基板上に、感光性
樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、上記基板面に対し
て斜め方向から、所定の形状の光透過部を備えたマスク
を介して上記感光性樹脂層に光を照射して露光する露光
工程と、上記露光された感光性樹脂層を現像することに
より、一定の方向に傾斜した非対称な断面形状を有する
凹部又は凸部を、該感光性樹脂層に形成する凹凸部形成
工程と、上記感光性樹脂層を熱処理することにより、上
記凹部又は凸部の角を曲面状にする熱処理工程と、上記
感光性樹脂層上に、光反射性の反射膜を形成する反射膜
形成工程とを含むことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a photosensitive resin layer provided on a substrate, and a reflective film provided on the photosensitive resin layer. A reflective plate, a counter substrate facing the reflector, and a light modulating layer sandwiched between the reflector and the counter substrate. Forming a photosensitive resin layer, and exposing the photosensitive resin layer to light by irradiating the photosensitive resin layer with light through a mask having a light transmitting portion having a predetermined shape from an oblique direction with respect to the substrate surface. Process, by developing the exposed photosensitive resin layer, a concave or convex portion having an asymmetric cross-sectional shape inclined in a certain direction, the uneven portion forming step of forming the photosensitive resin layer, By heat-treating the photosensitive resin layer, the concave or convex portions A heat treatment step of the curved and in the photosensitive resin layer, characterized in that it comprises a reflective film forming step of forming a light reflection of the reflection film.

【0021】上記の方法によれば、上記した露光工程を
行うことにより、一定の方向に均一に傾斜した凹部又は
凸部を、マスクの形状に応じて制御性よく形成すること
ができる。しかも、同様のパターン形状を有する遮光膜
を形成すれば、再現性よくほぼ同一の形状の凹部又は凸
部を形成できる。この結果、ほぼ同様の反射・散乱特性
を有する反射板を備えた反射型表示素子が量産可能とな
る。
According to the above method, by performing the above-described exposure step, a concave portion or a convex portion uniformly inclined in a certain direction can be formed with good controllability according to the shape of the mask. Moreover, if a light-shielding film having a similar pattern shape is formed, a concave portion or a convex portion having substantially the same shape can be formed with good reproducibility. As a result, it becomes possible to mass-produce a reflective display element provided with a reflector having substantially the same reflection and scattering characteristics.

【0022】請求項7に記載の発明は、請求項6に記載
の反射型表示素子の製造方法に於いて、上記樹脂層形成
工程に先だって、上記基板上に所定の形状となるように
遮光膜を形成する遮光膜形成工程を行い、上記露光工程
では、上記遮光膜をマスクとして用いて、上記基板の裏
面側から光照射し、更に、上記熱処理工程の後に、上記
感光性樹脂層上に他の感光性樹脂層を形成する工程を行
うことを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, in the method of manufacturing a reflective display element according to the sixth aspect, prior to the resin layer forming step, a light shielding film is formed on the substrate so as to have a predetermined shape. Performing a light-shielding film forming step of forming a light-irradiating step from the back side of the substrate using the light-shielding film as a mask in the exposure step; Forming a photosensitive resin layer.

【0023】上記方法のように、基板と感光性樹脂層と
の間に設けられた遮光膜をマスクとして用いることによ
り、基板側の斜め方向から露光が可能となる。従って、
感光性樹脂層に凹部又は凸部を形成する為のフォトマス
クを使用する必要がないので、従来のようなフォトマス
クと基板との位置合わせに伴う歩留まりの低下を抑制で
きる。よって、コストの増加も抑制できる。
As described above, by using a light-shielding film provided between the substrate and the photosensitive resin layer as a mask, exposure can be performed from an oblique direction on the substrate side. Therefore,
Since it is not necessary to use a photomask for forming a concave portion or a convex portion in the photosensitive resin layer, it is possible to suppress a decrease in yield due to the conventional alignment between the photomask and the substrate. Therefore, an increase in cost can be suppressed.

【0024】更に、感光性樹脂層上に他の感光性樹脂層
を形成することにより、該感光性樹脂層に於ける凹部又
は凸部間の正反射面を緩やかに傾斜した曲面状にするこ
とができる。よって、入射光の大部分を、正反射方向で
はなく観察者の視認方向に反射させることが可能とな
る。又、遮光膜が、例えば金属薄膜からなる場合には、
感光性樹脂層上に直接反射膜を形成すると、該遮光膜と
反射膜とが短絡する可能性があるが、上記のように感光
性樹脂層の上に他の感光性樹脂層を形成することで、上
記短絡の防止も可能となる。上記他の感光性樹脂層の材
料としては絶縁性のものであれば特に限定されるもので
はなく、上記感光性樹脂層と同一の材料でもよく、或い
は異なる材料でもよい。
Further, by forming another photosensitive resin layer on the photosensitive resin layer, the regular reflection surface between the concave portions or the convex portions in the photosensitive resin layer is formed into a gently inclined curved surface. Can be. Therefore, most of the incident light can be reflected not in the specular reflection direction but in the viewing direction of the observer. When the light shielding film is made of, for example, a metal thin film,
If the reflection film is formed directly on the photosensitive resin layer, the light-shielding film and the reflection film may be short-circuited. However, as described above, it is necessary to form another photosensitive resin layer on the photosensitive resin layer. Thus, the short circuit can be prevented. The material of the other photosensitive resin layer is not particularly limited as long as it is insulating, and may be the same material as the photosensitive resin layer or a different material.

【0025】請求項8に記載の発明は、請求項7に記載
の反射型表示素子の製造方法に於いて、上記露光工程で
は、所定の方向から入射する入射光を、上記基板に対し
て垂直方向に反射させる為に、上記入射する方向と上記
基板面に対して対称となる方向から光を照射することを
特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a reflective display element according to the seventh aspect, in the exposing step, incident light incident from a predetermined direction is perpendicular to the substrate. In order to reflect light in a direction, light is emitted from a direction symmetrical with respect to the substrate surface with respect to the incident direction.

【0026】上記の方法によれば、ある方向から入射し
てくる光、例えば最も利用に適した入射光を、観察者の
視認方向に反射させたい場合には、該入射光の入射方向
と基板に対して対称となるような方向から露光すればよ
い。これにより、所望の反射特性を有する反射板を容易
に製造することが可能となる。
According to the above-described method, when light incident from a certain direction, for example, incident light most suitable for use, is desired to be reflected in the viewing direction of the observer, the incident direction of the incident light and the substrate Exposure may be performed from a direction that is symmetric with respect to. This makes it possible to easily manufacture a reflection plate having desired reflection characteristics.

【0027】上記の課題を解決する為に、請求項9に記
載の発明に於いて、基板の上に反射膜が設けられた反射
板と、上記反射板に対向する対向基板と、上記反射板及
び対向基板間に挟持された光変調層とを備えた反射型表
示素子の製造方法に於いて、上記基板上に、感光性樹脂
層を形成する第1樹脂層形成工程と、上記基板の法線方
向から、所定の形状の光透過部を備えたマスクを介して
該感光性樹脂層を露光する露光工程と、上記露光された
感光性樹脂層を現像することにより、対称な断面形状を
有する複数の凹部又は凸部を、該感光性樹脂層に形成す
る凹凸部形成工程と、上記基板を熱処理することによ
り、上記感光性樹脂層に於ける凹部又は凸部の角を曲面
状にする熱処理工程と、上記感光性樹脂層上に、流動性
を有する他の感光性樹脂層を形成する第2樹脂層形成工
程と、上記基板を傾斜させた状態で、上記他の感光性樹
脂層を熱処理する熱処理工程と、上記他の感光性樹脂層
上に、上記反射膜を形成する反射膜形成工程とを含むこ
とを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, a reflection plate having a reflection film provided on a substrate, a counter substrate facing the reflection plate, and a reflection plate are provided. And a light modulating layer sandwiched between a counter substrate and a method for manufacturing a reflective display element, the method comprising: forming a first resin layer on the substrate, forming a photosensitive resin layer on the substrate; An exposure step of exposing the photosensitive resin layer through a mask having a light transmitting portion of a predetermined shape from a linear direction, and developing the exposed photosensitive resin layer to have a symmetrical cross-sectional shape. Forming a plurality of recesses or protrusions in the photosensitive resin layer, and performing a heat treatment on the substrate to heat-treat the substrate so that the corners of the recesses or protrusions in the photosensitive resin layer are curved. Process and another photosensitive material having fluidity on the photosensitive resin layer. A second resin layer forming step of forming a resin layer, a heat treatment step of heat treating the other photosensitive resin layer while the substrate is tilted, and forming the reflective film on the other photosensitive resin layer. Forming a reflective film.

【0028】上記の方法によれば、対称な断面形状を有
する複数の凹部又は凸部を備えた感光性樹脂層に、流動
性を有する他の感光性樹脂層を形成することにより、緩
やかな曲面を有する凹凸面が形成される。従って、複数
の凹部又は凸部間で正反射面の存在しない反射板を形成
することができ、ある入射角で入射した光の大部分を、
観察者の視認方向、例えば基板の法線方向に反射可能な
反射板を製造することができる。
According to the above-mentioned method, a gently curved surface is formed by forming another photosensitive resin layer having fluidity on a photosensitive resin layer having a plurality of concave portions or convex portions having a symmetrical sectional shape. Is formed. Therefore, it is possible to form a reflector having no regular reflection surface between a plurality of concave portions or convex portions, and most of the light incident at a certain incident angle,
It is possible to manufacture a reflection plate that can reflect light in the direction of the viewer's view, for example, in the normal direction of the substrate.

【0029】請求項10に記載の発明は、請求項9に記
載の反射型表示素子の製造方法に於いて、上記露光工程
にて、光の照射を上記基板側から行う場合には、上記第
1樹脂層形成工程の前に、上記基板上に上記マスクとし
ての遮光膜を所定の形状となるように形成する遮光膜形
成工程を含むことを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a reflective display element according to the ninth aspect, in the exposing step, when the light irradiation is performed from the substrate side, The method may further include, before the one resin layer forming step, a light shielding film forming step of forming the light shielding film as the mask on the substrate so as to have a predetermined shape.

【0030】上記方法のように、基板と感光性樹脂層と
の間に設けられた遮光膜をマスクとして用いることによ
り、感光性樹脂層に凹部又は凸部を形成する為のフォト
マスクを使用する必要がなくなる。この結果、従来のよ
うなフォトマスクと基板との位置合わせに伴う歩留まり
の低下を抑制できる。よって、コストの増加も抑制でき
る。
As in the above method, a photomask for forming a concave portion or a convex portion in the photosensitive resin layer is used by using a light-shielding film provided between the substrate and the photosensitive resin layer as a mask. Eliminates the need. As a result, it is possible to suppress a decrease in yield due to the conventional alignment between the photomask and the substrate. Therefore, an increase in cost can be suppressed.

【0031】尚、遮光膜が、例えば金属薄膜からなる場
合には、基板上に設けられた感光性樹脂層の上に直接反
射膜を形成すると、該遮光膜と反射膜との短絡の可能性
がある。よって、本発明のように遮光膜をマスクとして
使用する場合には、上記遮光膜と反射膜との短絡防止の
観点から感光性樹脂層の上に、更に絶縁機能を有する他
の感光性樹脂層等を形成する必要がある。上記他の感光
性樹脂層の材料としては絶縁性のものであれば特に限定
されるものではなく、上記感光性樹脂層と同一の材料で
もよく、或いは異なる材料でもよい。
When the light-shielding film is made of, for example, a metal thin film, if a reflection film is formed directly on the photosensitive resin layer provided on the substrate, there is a possibility of short-circuit between the light-shielding film and the reflection film. There is. Therefore, when a light-shielding film is used as a mask as in the present invention, another photosensitive resin layer having an insulating function is further provided on the photosensitive resin layer from the viewpoint of preventing short-circuit between the light-shielding film and the reflective film. Etc. must be formed. The material of the other photosensitive resin layer is not particularly limited as long as it is insulating, and may be the same material as the photosensitive resin layer or a different material.

【0032】請求項11に記載の発明は、請求項7又は
請求項8に記載の反射型表示素子の製造方法に於いて、
上記遮光膜形成工程に於ける遮光膜は、上記光変調層を
駆動させる為の非線形素子、及び該非線形素子に電気的
に接続される配線と共に形成することを特徴とする。
[0032] According to an eleventh aspect of the present invention, in the method of manufacturing a reflective display element according to the seventh or eighth aspect,
The light-shielding film in the light-shielding film forming step is characterized by being formed together with a non-linear element for driving the light modulation layer and a wiring electrically connected to the non-linear element.

【0033】上記遮光膜は光に対して遮光性を有してい
れば、本来的にどの様な薄膜であってもよい。従って、
上記方法のように、非線形素子及び該非線形素子に電気
的に接続される配線等と同様の材料とするのであれば、
別途遮光膜を形成する為の工程を行わずに、上記非線形
素子及び配線等と同時に形成することができる。これに
より、製造工程の増加を抑制し簡便に遮光膜を形成する
ことができる。
The light-shielding film may be essentially any thin film as long as it has light-shielding properties. Therefore,
As in the above method, if the same material as the nonlinear element and the wiring etc. electrically connected to the nonlinear element,
The non-linear element, the wiring, and the like can be formed at the same time without performing a separate step of forming a light-shielding film. Thereby, the increase in the number of manufacturing steps can be suppressed, and the light-shielding film can be easily formed.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)本発明の実施の
形態1について、図1ないし図6に基づいて説明すれば
以下のとおりである。但し、説明に不要な部分は省略
し、又、説明を容易にする為に拡大或いは縮小等して図
示した部分がある。以上のことは以下の図面に対しても
同様である。
(Embodiment 1) Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to FIGS. However, parts unnecessary for description are omitted, and some parts are shown enlarged or reduced for ease of description. The above applies to the following drawings.

【0035】図1は、本実施の形態1に係る反射型液晶
表示素子の要部を示す断面模式図である。図2は、上記
反射型液晶表示素子の1画素に於ける概略を示す平面図
である。上記反射型液晶表示素子は、図1に示すよう
に、反射板1と、対向基板2(表示面側)と、該反射板
1及び対向基板2間に挟持された光変調層としての液晶
層3とを有する。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a main part of the reflective liquid crystal display element according to the first embodiment. FIG. 2 is a plan view schematically showing one pixel of the reflective liquid crystal display device. As shown in FIG. 1, the reflection type liquid crystal display element includes a reflection plate 1, a counter substrate 2 (display surface side), and a liquid crystal layer as a light modulation layer sandwiched between the reflection plate 1 and the counter substrate 2. And 3.

【0036】上記反射板1は、ガラス基板11上に、T
FT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)4
と、絶縁膜5と、遮光膜7と、感光性樹脂層9と、反射
膜10と、配向膜12とが設けられて構成されている。
The reflecting plate 1 is provided on a glass substrate 11 with T
FT (Thin Film Transistor) 4
, An insulating film 5, a light-shielding film 7, a photosensitive resin layer 9, a reflective film 10, and an alignment film 12.

【0037】上記ガラス基板11上には、上記TFT4
と、絶縁膜5とが形成されている。上記絶縁膜5上には
上記遮光膜7が形成されている。更に、上記TFT4、
絶縁膜5及び遮光膜7上には、上記感光性樹脂層9が形
成されている。上記感光性樹脂層9上には、該感光性樹
脂層9の形状に沿った反射膜10が形成されている。更
に、上記反射膜10上には配向膜12が形成されてい
る。
On the glass substrate 11, the TFT 4
And an insulating film 5 are formed. The light shielding film 7 is formed on the insulating film 5. Further, the above TFT4,
The photosensitive resin layer 9 is formed on the insulating film 5 and the light shielding film 7. On the photosensitive resin layer 9, a reflection film 10 is formed along the shape of the photosensitive resin layer 9. Further, an alignment film 12 is formed on the reflection film 10.

【0038】上記TFT4は、上記ガラス基板11上
に、絶縁膜5と、アモルファスシリコン膜(以下、a−
Si膜と略称する。)14と、ゲート電極6g、ソース
電極6s及びドレイン電極6dの3つの電極とが設けら
れて構成されている。上記絶縁膜5は、例えばSiO2
からなる絶縁膜である。上記ゲート電極6gは、ガラス
基板11上に設けられており、図2に示すゲート線21
に電気的に接続されている。上記a−Si膜14は、上
記絶縁膜5を介して該ゲート電極6gの上に位置するよ
うに形成されており、かつ所定の形状にパターニングさ
れた半導体層である。上記ソース電極6sは、所定の形
状にパターニングされることにより、配線パターンを構
成しているソース線22と電気的に接続されている。上
記ドレイン電極6dは、上記感光性樹脂層9に設けられ
たコンタクトホール20を介して、上記反射膜10と電
気的に接続されている。
The TFT 4 comprises an insulating film 5 and an amorphous silicon film (hereinafter a-
Abbreviated as Si film. ) 14, and three electrodes of a gate electrode 6g, a source electrode 6s, and a drain electrode 6d. The insulating film 5 is made of, for example, SiO 2
An insulating film made of The gate electrode 6g is provided on the glass substrate 11 and has a gate line 21 shown in FIG.
Is electrically connected to The a-Si film 14 is a semiconductor layer formed so as to be located on the gate electrode 6g with the insulating film 5 interposed therebetween, and patterned into a predetermined shape. The source electrode 6s is electrically connected to the source lines 22 forming the wiring pattern by being patterned into a predetermined shape. The drain electrode 6d is electrically connected to the reflection film 10 via a contact hole 20 provided in the photosensitive resin layer 9.

【0039】上記遮光膜7は遮光性を有する金属薄膜、
例えばアルミニウムからなる。又、遮光膜7には、図2
に示すように、直径6〜10μm程度の円形状の光透過
部8…が、配線やTFT4等の素子が形成されていない
領域に、ランダムとなるように設けられている。上記光
透過部8…の形状は、上記した円形状に限定されるもの
ではなく、どの様な形状であってもよい。
The light shielding film 7 is a metal thin film having a light shielding property,
For example, it is made of aluminum. In addition, the light shielding film 7 has
As shown in FIG. 3, circular light transmitting portions 8 having a diameter of about 6 to 10 μm are provided at random in a region where elements such as wiring and TFT 4 are not formed. The shape of the light transmitting portions 8 is not limited to the circular shape described above, and may be any shape.

【0040】上記感光性樹脂層9は、例えばアクリル系
のポジ型レジスト剤(日本合成(株)製)からなる。上
記感光性樹脂層9の表面は微細な凹凸面となっており、
凹面及び凸面の位置はランダムとなっている。しかも、
該凹凸面は、ガラス基板11の法線に対して表示画面の
下方向(X’方向)に傾斜角ψ=約19.5度で傾斜し
ている(図3参照)。よって、ガラス基板11と平行な
面、即ち正反射面が存在しない。又、凹面と凸面との面
積割合はほぼ同じである。更に、上記感光性樹脂層9の
最大膜厚は、例えば3μm程度である。その一方、最も
膜厚の薄い凹面の部分に於いても1μm程度の膜厚を有
している。このように、凹面に於いても所定の膜厚を有
しているのは、反射膜10と遮光膜7との短絡を防止す
る為である。
The photosensitive resin layer 9 is made of, for example, an acrylic positive resist agent (manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.). The surface of the photosensitive resin layer 9 has a fine uneven surface,
The positions of the concave and convex surfaces are random. Moreover,
The uneven surface is inclined at an inclination angle ψ of about 19.5 degrees in the downward direction (X ′ direction) of the display screen with respect to the normal line of the glass substrate 11 (see FIG. 3). Therefore, there is no plane parallel to the glass substrate 11, that is, a regular reflection plane. The area ratio between the concave surface and the convex surface is almost the same. Further, the maximum thickness of the photosensitive resin layer 9 is, for example, about 3 μm. On the other hand, the concave portion having the smallest thickness has a thickness of about 1 μm. The reason why the concave surface has the predetermined thickness is to prevent a short circuit between the reflection film 10 and the light shielding film 7.

【0041】上記反射膜10は、光反射性を有する金属
薄膜、例えばAlからなる。又、該反射膜10の、少な
くとも凹凸面が形成されている領域は、画素電極として
機能する。上記反射膜10の材料としては、上記Alの
他に、銀(Ag)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)
や複数の金属薄膜が積層された多層膜等が挙げられる。
又、上記反射膜10の膜厚は、0.2μm〜0.4μm
程度である。
The reflection film 10 is made of a light-reflective metal thin film, for example, Al. Further, at least a region of the reflection film 10 on which the uneven surface is formed functions as a pixel electrode. As a material of the reflection film 10, in addition to the Al, silver (Ag), chromium (Cr), nickel (Ni)
And a multilayer film in which a plurality of metal thin films are stacked.
The thickness of the reflection film 10 is 0.2 μm to 0.4 μm.
It is about.

【0042】上記配向膜12は、例えばポリイミド樹脂
からなり、近傍の液晶分子を所定の方向に配向させる。
The alignment film 12 is made of, for example, a polyimide resin and aligns nearby liquid crystal molecules in a predetermined direction.

【0043】上記対向基板2上には、インジウム錫酸化
物(ITO:Indium Tin Oxide)からなる透明電極15
が設けられている。該対向基板2としては特に限定され
るものではないが、本実施の形態に於いては、ガラス基
板11と同様の材料を使用している。
On the counter substrate 2, a transparent electrode 15 made of indium tin oxide (ITO) is formed.
Is provided. The counter substrate 2 is not particularly limited, but in this embodiment, the same material as the glass substrate 11 is used.

【0044】上記液晶層3は、カイラルネマチック液晶
に黒色の二色性染料を溶解させたゲストホスト液晶を含
んで構成される。
The liquid crystal layer 3 comprises a guest-host liquid crystal in which a black dichroic dye is dissolved in a chiral nematic liquid crystal.

【0045】次に、本実施の形態に係る反射型液晶表示
素子の製造方法について説明する。図4は上記反射板1
の製造工程を説明する為の断面模式図である。
Next, a method of manufacturing the reflection type liquid crystal display device according to the present embodiment will be described. FIG.
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing process of FIG.

【0046】先ず、図4(a)に示すように、従来公知
の方法にて、ガラス基板11上に、ゲート電極6g、絶
縁膜5及びa−Si膜14を形成する。更に、例えばス
パッタ法等により、上記絶縁膜5上に、アルミニウム薄
膜を膜厚が200nmとなるように成膜する。続いて、
該アルミニウム薄膜をフォトリソグラフィ及びエッチン
グにより所定の形状にパターニングすることにより、ソ
ース電極6s、ドレイン電極6d及び遮光膜7を形成す
る(遮光膜形成工程)。ここで、上記遮光膜7には直径
6〜10μm程度の円形状の光透過部8…が、配線や素
子のない領域にランダムに設けられる様にパターニング
される。上記のような形状の遮光膜7を形成するには、
上記フォトリソグラフィ法にて使用するフォトマスク
に、該遮光膜7のパターン形状を付加するだけでよく、
従って新たにマスク数を増やす必要がない。
First, as shown in FIG. 4A, a gate electrode 6g, an insulating film 5, and an a-Si film 14 are formed on a glass substrate 11 by a conventionally known method. Further, an aluminum thin film is formed on the insulating film 5 so as to have a thickness of 200 nm by, for example, a sputtering method. continue,
The source electrode 6s, the drain electrode 6d, and the light-shielding film 7 are formed by patterning the aluminum thin film into a predetermined shape by photolithography and etching (light-shielding film forming step). Here, the light-shielding film 7 is patterned such that circular light-transmitting portions 8 having a diameter of about 6 to 10 μm are randomly provided in a region where there are no wires or elements. In order to form the light shielding film 7 having the above shape,
It is only necessary to add the pattern shape of the light shielding film 7 to the photomask used in the photolithography method,
Therefore, it is not necessary to newly increase the number of masks.

【0047】次に、図4(b)に示すように、上記TF
T4、絶縁膜5及び遮光膜7上に、アクリル系のポジレ
ジスト剤をスピンナー等にて塗布して、膜厚が2μmの
第1感光性樹脂層19を形成する(樹脂層形成工程)。
続いて、ドレイン電極6dに対応する位置に光透過部が
設けられたフォトマスク31を介して、第1感光性樹脂
層19側から紫外線を露光する。更に、遮光膜7をマス
クとして、ガラス基板11側の、該ガラス基板11の法
線に対して30度傾斜した方向から紫外線を露光する
(露光工程)。これにより、第1感光性樹脂層19に於
ける凹部19aの深さ方向が、ガラス基板11の法線に
対して傾斜させて形成できる。ここで、上記凹部19a
のガラス基板11に対する傾斜角は、30度よりも小さ
くなる。これは、ガラス基板11の屈折率(例えば、約
1.5)が、空気の屈折率(1.0)よりも大きい為
に、経路V1を進行する紫外線がガラス基板11に入射
すると屈折され、その進行方向が経路V2に変更される
からである。よって、実際には、フレネルの法則より入
射角19.5度の紫外線が照射されることになる。
Next, as shown in FIG.
An acrylic positive resist agent is applied on T4, the insulating film 5, and the light-shielding film 7 with a spinner or the like to form a first photosensitive resin layer 19 having a thickness of 2 μm (resin layer forming step).
Subsequently, ultraviolet light is exposed from the first photosensitive resin layer 19 side via a photomask 31 provided with a light transmitting portion at a position corresponding to the drain electrode 6d. Further, using the light-shielding film 7 as a mask, ultraviolet light is exposed from a direction on the glass substrate 11 side which is inclined by 30 degrees with respect to a normal to the glass substrate 11 (exposure step). Thereby, the depth direction of the concave portion 19 a in the first photosensitive resin layer 19 can be formed so as to be inclined with respect to the normal line of the glass substrate 11. Here, the concave portion 19a
Becomes smaller than 30 degrees with respect to the glass substrate 11. This is because the refractive index (for example, about 1.5) of the glass substrate 11 is larger than the refractive index (1.0) of air, so that when the ultraviolet light traveling along the path V1 enters the glass substrate 11, it is refracted, This is because the traveling direction is changed to the route V2. Therefore, actually, ultraviolet rays having an incident angle of 19.5 degrees are irradiated according to Fresnel's law.

【0048】尚、参考までに述べると、紫外線を斜め方
向から露光するのであれば、通常のフォトマスクを介し
て第1感光性樹脂層19側から紫外線を露光するという
方法も考えられる。しかし、このような方法の場合、所
望のパターン形成が困難であるという不都合が生じる。
即ち、通常の露光機は、基板とフォトマスクとを水平に
保持した状態で露光し、光線が基板に対して垂直に入射
するように使用する。従って、露光機は、上記のような
状態で斜め方向から露光する場合を想定して使用するも
のではない。特に、投影型の露光機では、斜め方向から
照射すると焦点が基板面の一部分にしか合わない。従っ
て、焦点が合わない他の領域については、フォトマスク
に於ける光透過部の形状に則して紫外線を露光すること
ができず、所望の形状にパターニングできない。しかし
ながら、本実施の形態に於いては、ガラス基板11と第
1感光性樹脂層19との間に設けられた遮光膜7をマス
クとしているので、通常の露光機でも裏面側から露光す
ることにより、所望のパターン形成を容易に行うことが
できる。
For reference, if ultraviolet rays are to be exposed from an oblique direction, a method of exposing the ultraviolet rays from the first photosensitive resin layer 19 side through a normal photomask may be considered. However, such a method has a disadvantage that it is difficult to form a desired pattern.
That is, an ordinary exposure machine performs exposure while keeping the substrate and the photomask horizontal, and uses the light so as to be incident perpendicularly to the substrate. Therefore, the exposure machine is not used on the assumption that the exposure is performed in an oblique direction in the above state. In particular, in a projection type exposure apparatus, when the light is irradiated from an oblique direction, the focal point is focused only on a part of the substrate surface. Therefore, the other region out of focus cannot be exposed to ultraviolet rays in accordance with the shape of the light transmitting portion in the photomask, and cannot be patterned into a desired shape. However, in the present embodiment, the light-shielding film 7 provided between the glass substrate 11 and the first photosensitive resin layer 19 is used as a mask. Thus, a desired pattern can be easily formed.

【0049】又、本発明に係る反射型表示素子の製造方
法に於いて、その技術的思想は、フォトマスクと基板と
を密着させて露光する密着露光法を排除するものではな
い。この方法を採用しても、微細な凹部を有する第1感
光性樹脂層19を形成することが可能である。しかしな
がら、フォトマスクとガラス基板11とが接触すること
により、該フォトマスクやガラス基板11に異物や傷が
付いたりするという点で、上記した様な裏面からの露光
が優れている。しかも、フォトマスクを使用した露光工
程では、フォトマスクとガラス基板11との位置合わせ
の際に厳密な精度要求が求められ、歩留まり低下の一因
となっていたが、上記した裏面からの露光ではその歩留
まりの低下も抑制できる。よって、コストの増加も抑制
できる。又、フォトマスクとガラス基板11との距離を
近接させて露光するプロキシミティ露光法を採用するこ
とも可能である。この方法の場合、密着露光で問題とな
るフォトマスクとガラス基板11との接触は避けること
ができるが、パターン形成の可能な範囲内で該フォトマ
スクとガラス基板11との間隔を考慮する必要がある。
Further, in the method of manufacturing a reflective display element according to the present invention, the technical idea does not exclude a contact exposure method in which a photomask and a substrate are brought into close contact with each other for exposure. Even if this method is adopted, it is possible to form the first photosensitive resin layer 19 having fine concave portions. However, the exposure from the back surface as described above is excellent in that the photomask and the glass substrate 11 come into contact with each other, and thus the photomask and the glass substrate 11 are liable to have foreign matters and scratches. In addition, in the exposure process using a photomask, strict accuracy requirements are required when the photomask and the glass substrate 11 are aligned, which has been a cause of a decrease in yield. The decrease in the yield can be suppressed. Therefore, an increase in cost can be suppressed. It is also possible to adopt a proximity exposure method in which exposure is performed with the distance between the photomask and the glass substrate 11 reduced. In this method, contact between the photomask and the glass substrate 11, which is a problem in contact exposure, can be avoided. However, it is necessary to consider the distance between the photomask and the glass substrate 11 within a range where pattern formation is possible. is there.

【0050】続いて、上記露光工程の後、露光された第
1感光性樹脂層19を現像液等にて現像する(凹凸部形
成工程)。これにより、図4(c)に示すように、ドレ
イン電極6dが位置する部分には、深さ方向がガラス基
板11の法線方向と一致するコンタクトホール20’が
形成される。一方、第1感光性樹脂層19に於ける配線
やTFT4等の位置しない領域には、深さ方向がガラス
基板11の法線に対して傾斜角19.5度となるように
傾斜した、複数の凹部19aが形成される。
Subsequently, after the above-mentioned exposure step, the exposed first photosensitive resin layer 19 is developed with a developing solution or the like (a step of forming uneven portions). Thereby, as shown in FIG. 4C, a contact hole 20 'whose depth direction coincides with the normal direction of the glass substrate 11 is formed in the portion where the drain electrode 6d is located. On the other hand, in a region of the first photosensitive resin layer 19 where wirings, TFTs 4 and the like are not located, a plurality of inclined portions whose depth direction is inclined at 19.5 degrees with respect to a normal line of the glass substrate 11 are formed. Is formed.

【0051】次に、反射膜の反射・散乱特性を適正化す
る為に、上記凹部19aに於ける角を滑らかな曲面状に
する必要がある。本実施の形態に於いては、凹部19a
の角を、例えば180度の熱処理にて滑らかな曲面とし
た(熱処理工程)。ここで、熱処理の温度は、130℃
〜200℃の範囲内であることが好ましい。更に、上記
の様に、単に熱処理を行って凹部19aの角を丸めるだ
けでは深さ方向に於ける傾斜面の角度が大きすぎる為、
図4(d)に示すように、第1感光性樹脂層19と同じ
材料からなる第2感光性樹脂層29を該第1感光性樹脂
層19上に塗布する(第2樹脂層形成工程)。
Next, in order to optimize the reflection / scattering characteristics of the reflection film, it is necessary to make the corner in the concave portion 19a a smooth curved surface. In the present embodiment, the concave portion 19a
Was made a smooth curved surface by, for example, heat treatment at 180 degrees (heat treatment step). Here, the temperature of the heat treatment is 130 ° C.
It is preferable that it is in the range of -200 ° C. Furthermore, as described above, simply performing the heat treatment to round the corners of the concave portion 19a causes the angle of the inclined surface in the depth direction to be too large.
As shown in FIG. 4D, a second photosensitive resin layer 29 made of the same material as the first photosensitive resin layer 19 is applied on the first photosensitive resin layer 19 (second resin layer forming step). .

【0052】次に、前記でコンタクトホール20’を開
口したのと同様の工程を行うことにより、再度ドレイン
電極6dに対応する位置を開口し、コンタクトホール2
0を形成する。
Next, by performing the same process as that for opening the contact hole 20 ′, the position corresponding to the drain electrode 6 d is opened again, and the contact hole 2 ′ is opened.
0 is formed.

【0053】続いて、第2感光性樹脂層29の熱ダレが
大きく発生しない程度の温度、例えば130℃で3時間
オーブンにて加熱し、該第2感光性樹脂層29を硬化さ
せる。これにより、多数の微細な凹凸面を有する感光性
樹脂層9が形成される。
Subsequently, the second photosensitive resin layer 29 is heated in an oven at a temperature at which heat sagging of the second photosensitive resin layer 29 does not significantly occur, for example, at 130 ° C. for 3 hours to cure the second photosensitive resin layer 29. Thereby, the photosensitive resin layer 9 having a large number of fine uneven surfaces is formed.

【0054】更に、図4(f)に示すように、上記感光
性樹脂層9上に、膜厚が200nmとなるようにアルミ
ニウムを蒸着することにより、反射膜10を形成する
(反射膜形成工程)。ここで、遮光膜7と反射膜10と
は、第2感光性樹脂層29の存在により短絡が防止され
る。次に、上記反射膜10上にポリイミド樹脂を塗布し
てラビング処理等を行い配向膜12形成する。
Further, as shown in FIG. 4F, a reflective film 10 is formed on the photosensitive resin layer 9 by evaporating aluminum so as to have a thickness of 200 nm. ). Here, short circuit between the light shielding film 7 and the reflection film 10 is prevented by the presence of the second photosensitive resin layer 29. Next, a polyimide resin is applied on the reflective film 10 and a rubbing treatment or the like is performed to form an alignment film 12.

【0055】一方、対向基板2上には、従来公知の方法
にて透明電極15を形成し、該透明電極15上に、上記
と同様にして配向膜12を形成する。
On the other hand, a transparent electrode 15 is formed on the counter substrate 2 by a conventionally known method, and an alignment film 12 is formed on the transparent electrode 15 in the same manner as described above.

【0056】続いて、上記ガラス基板11と対向基板2
とを貼り合わせた後、カイラルネマチック液晶に黒の二
色性染料を溶解させたゲストホスト液晶を液晶注入口よ
り注入して液晶層3を形成する。以上により本実施の形
態に係る反射型液晶表示素子を製造することができる。
Subsequently, the glass substrate 11 and the opposite substrate 2
Then, a guest-host liquid crystal in which a black dichroic dye is dissolved in a chiral nematic liquid crystal is injected from a liquid crystal injection port to form a liquid crystal layer 3. As described above, the reflective liquid crystal display device according to the present embodiment can be manufactured.

【0057】次に、上記の様にして作製された反射型液
晶表示素子に、通常の駆動回路(図示しない)等を接続
して得られる反射型ディスプレイの動作原理について説
明する。図5は、反射型ディスプレイに於ける光の反射
・散乱状態を説明する為の断面模式図である。図6は、
上記反射型ディスプレイに於ける反射・散乱特性を示す
グラフである。
Next, the principle of operation of a reflective display obtained by connecting a normal driving circuit (not shown) and the like to the reflective liquid crystal display device manufactured as described above will be described. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining a light reflection / scattering state in the reflective display. FIG.
4 is a graph showing reflection / scattering characteristics in the reflective display.

【0058】上記反射型ディスプレイは、駆動回路等に
より電圧が印加されると表示画面が白色表示となり、電
圧無印加時には黒色表示となる。ここで、電圧印加時に
於ける、反射型ディスプレイの反射特性について考察す
る。
In the above-mentioned reflection type display, when a voltage is applied by a drive circuit or the like, the display screen becomes white display, and when no voltage is applied, the display screen becomes black display. Here, the reflection characteristics of the reflection type display when a voltage is applied will be considered.

【0059】例えば、図5に示すように、ガラス基板1
1に対する垂直面内を進行する光が、該ガラス基板11
の法線に対して表示画面の上方向から入射角α=−30
度で反射型ディスプレイに入射する場合を考える。この
入射角α=−30度で入射する光は、対向基板2の屈折
率(例えば、約1.5)が空気の屈折率(1.0)より
も大きい為に、該対向基板2に入射する際に屈折する
(図6参照)。従って、反射膜10に到達する入射光の
入射角は実際には小さくなる。この入射光が液晶層3を
透過して反射膜10に到達すると、該反射膜10にて主
にガラス基板11の法線方向に散乱・反射される。更
に、反射された光は液晶層3にて変調され、反射型ディ
スプレイから出射する。尚、上記入射光が30度よりも
小さい角度で反射型ディスプレイに入射しても、ガラス
基板11の法線方向に主に散乱・反射されるのは以下の
理由による。即ち、凹部は前述のように、ガラス基板1
1側の斜め30度の方向から裏面露光されることにより
形成されている。しかし、紫外線は実際にはガラス基板
11に入射する際に屈折されるので、上記凹部は基板面
に対する角度30度よりもやや小さい角度で傾斜するこ
とになる。従って、実際には、30度よりも小さい入射
角度で入射した光を、ガラス基板11の法線方向に散乱
・反射させるような特性となっているのである。
For example, as shown in FIG.
Light traveling in a vertical plane to the glass substrate 11
Incident angle α = −30 from the top of the display screen with respect to the normal
Consider the case where the light is incident on a reflective display in degrees. The light incident at an incident angle α = −30 degrees is incident on the counter substrate 2 because the refractive index (for example, about 1.5) of the counter substrate 2 is larger than the refractive index (1.0) of air. When it is refracted (see FIG. 6). Therefore, the incident angle of the incident light that reaches the reflective film 10 is actually small. When this incident light passes through the liquid crystal layer 3 and reaches the reflective film 10, the incident light is scattered and reflected mainly in the normal direction of the glass substrate 11 by the reflective film 10. Further, the reflected light is modulated by the liquid crystal layer 3 and emitted from the reflective display. Even if the incident light enters the reflective display at an angle smaller than 30 degrees, it is mainly scattered and reflected in the normal direction of the glass substrate 11 for the following reason. That is, as described above, the recess is formed in the glass substrate 1.
It is formed by exposing the back surface from an oblique direction of 30 degrees on one side. However, since the ultraviolet rays are actually refracted when entering the glass substrate 11, the concave portions are inclined at an angle slightly smaller than 30 degrees with respect to the substrate surface. Therefore, in practice, the light has a characteristic of scattering and reflecting light incident at an incident angle smaller than 30 degrees in the normal direction of the glass substrate 11.

【0060】ここで、断面形状が対称となっている凸部
を備えた反射板を有する比較用の反射型ディスプレイ
と、本実施の形態に係る反射型ディスプレイとの、電圧
印加時に於ける反射率の角度依存性を測定した。上記比
較用の反射型ディスプレイについては、以下のようにし
て作製した。即ち、本発明に係る反射膜10の製造方法
に於いて、遮光膜7をマスクとして、ガラス基板11側
の該ガラス基板11に対して斜め30度の方向から紫外
線を露光していたが、比較用の反射型ディスプレイにつ
いては、紫外線を垂直方向から露光した。他の工程につ
いては、前記と同様にして比較用の反射型ディスプレイ
を作製した。
Here, the reflectance at the time of applying a voltage between the reflective display for comparison having a reflector having a convex portion having a symmetrical cross-sectional shape and the reflective display according to the present embodiment. Was measured for angle dependence. The reflective display for comparison was produced as follows. That is, in the method of manufacturing the reflective film 10 according to the present invention, the glass substrate 11 on the glass substrate 11 side was exposed to ultraviolet light obliquely at an angle of 30 degrees using the light shielding film 7 as a mask. UV light was exposed from the vertical direction for the reflective display for use. Regarding the other steps, a reflective display for comparison was produced in the same manner as described above.

【0061】以上のようにして作製した比較用の反射型
ディスプレイと、本実施の形態に係る反射型ディスプレ
イとの反射・散乱特性を示すグラフを図7に示す。測定
方法は、以下の通りである。即ち、ガラス基板11に於
ける法線を0度として、表示画面の上方向から−30度
の入射角で入射させ、電圧印加時に於ける出射光の輝度
を、出射角θを種々変化させながら輝度計にて測定し
た。この結果、図7から明らかなように、比較用の反射
型ディスプレイ(曲線B)については出射角が+30度
の場合に、反射率がピークとなり、反射光の輝度が最も
高いことが分かる。これは以下に述べる理由による。即
ち、比較用の反射型ディスプレイに於ける反射板には、
基板面と平行な正反射面が存在する為、−30度で入射
した光は+30度で正反射する。一方、対向基板にて正
反射する光も反射角+30度で反射する為、反射型ディ
スプレイから出射する光と重複し、表示画面の視認性が
悪い。従って、観察者は視認性の悪い正反射方向を回避
して反射型ディスプレイを観察する傾向にある。これに
対して、本実施の形態に係る反射型ディスプレイでは、
曲線Aに示すように、出射角が0度のとき、即ち表示画
面の法線上に於いて反射率がピークとなり、反射光の輝
度が最も高いことが分かる。これは、反射膜10で反射
される光の大部分が、ガラス基板11の法線方向に出射
する為である。通常、観察者は表示画面の法線方向から
表示画面を見ようとするが、本実施の形態に係る反射型
ディスプレイの法線方向に於ける反射率Rf2は、比較
用の反射型ディスプレイの反射率Rf1と比べて約3倍
であり、格段に輝度が向上し視認性が向上していること
が分かる。
FIG. 7 is a graph showing the reflection and scattering characteristics of the comparative display manufactured as described above and the reflective display according to the present embodiment. The measuring method is as follows. That is, assuming that the normal line on the glass substrate 11 is 0 degree, the light is incident at an incident angle of −30 degrees from the upper direction of the display screen, and the luminance of the emitted light when applying a voltage is varied while changing the emitted angle θ. It was measured with a luminance meter. As a result, as is apparent from FIG. 7, the reflectance of the reflective display for comparison (curve B) peaks when the emission angle is +30 degrees, and the luminance of the reflected light is the highest. This is for the following reasons. That is, the reflective plate in the reflective display for comparison includes:
Since there is a specular reflection surface parallel to the substrate surface, light incident at -30 degrees is specularly reflected at +30 degrees. On the other hand, light that is specularly reflected by the opposite substrate is also reflected at a reflection angle of +30 degrees, and thus overlaps with light emitted from the reflective display, resulting in poor visibility of the display screen. Therefore, the observer tends to observe the reflective display while avoiding the specular reflection direction having poor visibility. In contrast, in the reflective display according to the present embodiment,
As shown by the curve A, when the emission angle is 0 degree, that is, on the normal line of the display screen, the reflectance peaks, and it can be seen that the brightness of the reflected light is the highest. This is because most of the light reflected by the reflection film 10 is emitted in the normal direction of the glass substrate 11. Usually, the observer looks at the display screen from the normal direction of the display screen, but the reflectance Rf2 in the normal direction of the reflective display according to the present embodiment is the reflectance of the reflective display for comparison. It is about three times that of Rf1, and it can be seen that the luminance is significantly improved and the visibility is improved.

【0062】従って、本実施の形態に係る反射型ディス
プレイでは、感光性樹脂層9に於ける凹凸面の傾斜軸S
が、ガラス基板11の法線よりも表示画面の下方向
(X’方向)に傾斜しているようにすることで、観察者
の頭上から入射する照明光を表示画面の法線方向に近い
方向に反射させることができる。一方、表示画面の下方
向から反射型ディスプレイに入射しようとする光につい
ては、該表示画面の下部が観察者の足元に向いているの
で、表示画面の上方向(X方向)から入射する光よりも
その光量が本来的に少ない。従って、傾斜軸Sを、ガラ
ス基板11の法線よりも表示画面の上方向に傾斜させ
て、本実施の形態と逆の設定にすると、比較用の反射型
ディスプレイよりも暗くなる。又、表示画面の左右方向
の何れか一方に傾斜させると、表示画面の左右で明るさ
等の調和が取れず観察者に違和感が残る。よって、傾斜
軸Sは、ガラス基板11の法線よりも表示画面の下方向
に傾斜させる方が好ましく、これにより照明光を一層効
率的に利用できる。
Accordingly, in the reflective display according to the present embodiment, the inclination axis S of the uneven surface of the photosensitive resin layer 9
Is tilted downward (X ′ direction) of the display screen from the normal line of the glass substrate 11 so that the illumination light incident from above the observer's head is directed in a direction close to the normal direction of the display screen. Can be reflected. On the other hand, as for light that is going to be incident on the reflective display from below the display screen, since the lower part of the display screen is facing the foot of the observer, it is smaller than the light coming from above the display screen (X direction). The light amount is inherently small. Therefore, if the tilt axis S is tilted in the upward direction of the display screen with respect to the normal line of the glass substrate 11 and the setting is opposite to that in the present embodiment, the display becomes darker than the reflective display for comparison. If the display screen is tilted in one of the left and right directions, brightness and the like are not harmonized on the left and right sides of the display screen, and the observer feels uncomfortable. Therefore, it is preferable that the tilt axis S be tilted downward in the display screen rather than the normal line of the glass substrate 11, whereby the illumination light can be used more efficiently.

【0063】以上のように、本実施の形態に係る反射型
ディスプレイは、反射膜の表面に、表示画面の下方向に
於ける、該凹部の開口縁から底に向かう方向に下り勾配
となる滑らかな傾斜面を有する、複数の微細な凹部を形
成することにより、反射膜の反射・散乱特性を向上させ
ることができた。これにより、照明光の利用効率を向上
させることができ、従来の反射型ディスプレイよりも一
層明るい表示が可能となった。
As described above, in the reflective display according to the present embodiment, the surface of the reflective film has a smooth downward slope from the opening edge of the recess toward the bottom in the downward direction of the display screen. By forming a plurality of fine concave portions having a gentle inclined surface, it was possible to improve the reflection / scattering characteristics of the reflection film. As a result, the efficiency of using the illumination light can be improved, and a brighter display than the conventional reflective display can be realized.

【0064】又、本実施の形態に係る反射型液晶表示素
子の製造方法によれば、TFT等を形成する際に、配線
と共に遮光層7を形成し裏面露光することにより感光性
樹脂層9に凹部を形成するので、該凹部を形成する為の
フォトマスクを削減することができる。この結果、フォ
トマスクとガラス基板11との位置合わせ等に起因する
歩留まりの低下を抑制することができる。しかも、本実
施の形態の製造方法によれば、反射板1に於ける凹部を
所望の形状に形成できる等制御性に優れ、更に同様の形
状の凹部を形成できる等再現性にも優れている。
Further, according to the method of manufacturing the reflection type liquid crystal display device according to the present embodiment, when forming the TFT and the like, the light shielding layer 7 is formed together with the wiring and the back surface is exposed, so that the photosensitive resin layer 9 is formed. Since the concave portion is formed, the number of photomasks for forming the concave portion can be reduced. As a result, it is possible to suppress a decrease in the yield due to the alignment between the photomask and the glass substrate 11, and the like. In addition, according to the manufacturing method of the present embodiment, the controllability is excellent such that the concave portion in the reflection plate 1 can be formed in a desired shape, and the reproducibility is excellent such that the concave portion of the same shape can be formed. .

【0065】(実施の形態2)本発明の実施の形態2に
ついて、図8に基づいて説明する。尚、前記実施の形態
1の反射型液晶表示装置と同様の機能を有する構成要素
については、同一の符号を付して詳細な説明を省略す
る。
(Embodiment 2) Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIG. Note that components having the same functions as those of the reflective liquid crystal display device according to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【0066】本実施の形態2に係る反射型液晶表示素子
は、前記実施の形態1に係る反射型液晶表示素子と概ね
同様の構成であるが、その製造方法に於いては、ガラス
基板11に対して法線方向から感光性樹脂層を裏面露光
し、該感光性樹脂層上に流動性を有する他の感光性樹脂
層を形成する点が異なる。
The reflection type liquid crystal display device according to the second embodiment has substantially the same configuration as the reflection type liquid crystal display device according to the first embodiment. On the other hand, the difference is that the photosensitive resin layer is exposed on the back surface from the normal direction, and another photosensitive resin layer having fluidity is formed on the photosensitive resin layer.

【0067】図8は、本実施の形態に係る反射型液晶表
示素子の製造工程を説明する為の断面模式図である。先
ず、前記実施の形態1と同様にして、ガラス基板11上
に設けられたTFT4や遮光膜7上に第1感光性樹脂層
19を塗布し(第1樹脂層形成工程)、フォトマスク3
1にて該第1感光性樹脂層19側から紫外線を露光する
(図8(a)参照)。次に、ガラス基板11の裏面側か
ら、該ガラス基板11に対して垂直となるように、第1
感光性樹脂層19に紫外線を照射し露光する(露光工
程)。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the reflective liquid crystal display device according to the present embodiment. First, in the same manner as in the first embodiment, the first photosensitive resin layer 19 is applied on the TFT 4 and the light shielding film 7 provided on the glass substrate 11 (first resin layer forming step), and the photomask 3 is formed.
In step 1, ultraviolet light is exposed from the first photosensitive resin layer 19 side (see FIG. 8A). Next, from the back side of the glass substrate 11, the first
The photosensitive resin layer 19 is exposed to ultraviolet rays for exposure (exposure step).

【0068】続いて、現像液にて現像工程を行うことに
より、コンタクトホール20’と、断面形状が対称とな
る凹部19aとを形成することができる。
Subsequently, a contact hole 20 'and a concave portion 19a having a symmetrical cross section can be formed by performing a developing step with a developing solution.

【0069】更に、第1感光性樹脂層19に於ける凹部
19aの角を丸める為に、例えば180度の熱処理を行
う(熱処理工程)。次に、アクリル系の感光性樹脂を溶
媒(例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル)に溶解させて、該アクリル系の感光性樹脂の濃度が
2倍になるように希釈した塗布溶液を作製する。ここ
で、溶媒による希釈倍率は感光性樹脂の粘度等に応じて
適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。続
いて、上記塗布溶液を上記第1感光性樹脂層19上に、
スピンナーにて200rpmの低速回転で塗布し、第2
感光性樹脂層29を形成する(第2樹脂層形成工程、図
8(c)参照)。尚、スピンナーにより塗布する為の条
件としては特に限定されるものではなく、塗布溶液の粘
度や膜厚等に応じて回転速度等を設定すればよい。
Further, in order to round the corner of the concave portion 19a in the first photosensitive resin layer 19, for example, a heat treatment of 180 degrees is performed (heat treatment step). Next, an acrylic photosensitive resin is dissolved in a solvent (for example, diethylene glycol monomethyl ether) to prepare a coating solution diluted so that the concentration of the acrylic photosensitive resin is doubled. Here, the dilution ratio with the solvent may be appropriately set according to the viscosity of the photosensitive resin and the like, and is not particularly limited. Subsequently, the coating solution is applied onto the first photosensitive resin layer 19,
Apply at a low speed of 200 rpm with a spinner,
The photosensitive resin layer 29 is formed (second resin layer forming step, see FIG. 8C). The conditions for coating with a spinner are not particularly limited, and the rotation speed and the like may be set according to the viscosity and the film thickness of the coating solution.

【0070】続いて、図8(d)に示すように、ガラス
基板11の一端を水平方向からほぼω=50度に起こし
た状態で、オーブンに入れて80℃、20分間熱処理す
る(熱処理工程)。これにより、上記第2感光性樹脂層
29中の溶媒を蒸発させることができる。この段階で、
ある程度滑らかな曲面を有する樹脂層を形成できるが、
この凹部の表面を滑らかで、かつ表示画面の下方向に一
層緩やかに傾斜させる為、本実施の形態では、上記第2
感光性樹脂層29が乾燥する前にガラス基板11を傾斜
させる。前述のように、第2感光性樹脂層29の材料は
溶媒によって希釈された感光性樹脂からなるものである
為、本来的に流動性が高い。従って、重力の作用によ
り、上記第2感光性樹脂層29は、Y方向に流動させる
ことができる。これにより、断面形状が非対称で、微細
な凹凸面を備えた感光性樹脂層9を形成することができ
る。
Subsequently, as shown in FIG. 8D, the glass substrate 11 is heat-treated at 80 ° C. for 20 minutes in an oven with one end of the glass substrate 11 raised at approximately ω = 50 degrees from the horizontal direction (heat treatment step). ). Thereby, the solvent in the second photosensitive resin layer 29 can be evaporated. At this stage,
A resin layer with a somewhat smooth curved surface can be formed,
In order to smoothly incline the surface of the concave portion downwardly and gently in the downward direction of the display screen, in the present embodiment, the second
The glass substrate 11 is tilted before the photosensitive resin layer 29 dries. As described above, since the material of the second photosensitive resin layer 29 is made of the photosensitive resin diluted with the solvent, the material is inherently high in fluidity. Therefore, the second photosensitive resin layer 29 can be caused to flow in the Y direction by the action of gravity. This makes it possible to form the photosensitive resin layer 9 having an asymmetric cross section and a fine uneven surface.

【0071】更に、前記実施の形態1と同様にして、コ
ンタクトホール20を開口した後、上記感光性樹脂層9
上にアルミニウムを蒸着することにより反射膜10を形
成し、該反射膜10上に配向膜12を形成する。
Further, in the same manner as in the first embodiment, after opening the contact hole 20, the photosensitive resin layer 9 is formed.
A reflective film 10 is formed by evaporating aluminum thereon, and an alignment film 12 is formed on the reflective film 10.

【0072】一方、対向基板2上にも、前記実施の形態
1と同様にして、透明電極15及び配向膜12を形成す
る。続いて、上記ガラス基板11と対向基板2とを貼り
合わせた後、カイラルネマチック液晶に黒の二色性染料
を溶解させたゲストホスト液晶を液晶注入口より注入し
て液晶層3を形成する。これにより、本実施の形態に係
る反射型液晶表示素子を製造することができる。
On the other hand, the transparent electrode 15 and the alignment film 12 are also formed on the counter substrate 2 in the same manner as in the first embodiment. Subsequently, after bonding the glass substrate 11 and the opposing substrate 2, a guest-host liquid crystal in which a black dichroic dye is dissolved in a chiral nematic liquid crystal is injected from a liquid crystal injection port to form a liquid crystal layer 3. Thereby, the reflection type liquid crystal display element according to the present embodiment can be manufactured.

【0073】更に、上記反射型液晶表示素子を前記実施
の形態1と同様にして、通常の駆動回路等を接続して得
られる反射型ディスプレイを作製した。この結果、前記
実施の形態1と同様に、反射・散乱特性に優れた反射板
1を有することにより、照明光の利用効率を向上させる
ことができ、従来の反射型ディスプレイよりも一層明る
い表示が可能な反射型ディスプレイを提供することがで
きる。
Further, in the same manner as in the first embodiment, a reflection type display obtained by connecting a normal driving circuit or the like to the reflection type liquid crystal display element was manufactured. As a result, similar to the first embodiment, the use of the reflection plate 1 having excellent reflection and scattering characteristics can improve the utilization efficiency of the illumination light, and can provide a brighter display than the conventional reflection type display. A possible reflective display can be provided.

【0074】以上のように、本実施の形態に係る反射型
液晶表示素子の製造方法は、遮光膜7をマスクとして、
ガラス基板11の垂直方向から裏面露光することにより
第1感光性樹脂層19に凹部19aを形成するので、フ
ォトマスクを用いた露光工程を行う必要がない。この結
果、該凹部19aを形成する為のフォトマスクを削減す
ることができ、フォトマスクとガラス基板11との位置
合わせ等に起因する歩留まりの低下を抑制することがで
きる。しかも、流動性の高い第2感光性樹脂層29を、
凹部19aを有する第1感光性樹脂層19上に塗布しガ
ラス基板11を傾斜させるので、前記実施の形態1と同
様の反射・散乱特性を有する反射板を製造することがで
きる。
As described above, the method of manufacturing the reflection type liquid crystal display element according to the present embodiment uses the light shielding film 7 as a mask.
Since the concave portion 19a is formed in the first photosensitive resin layer 19 by exposing the back surface from the vertical direction of the glass substrate 11, there is no need to perform an exposing step using a photomask. As a result, it is possible to reduce the number of photomasks for forming the concave portions 19a, and it is possible to suppress a decrease in yield due to, for example, the alignment between the photomask and the glass substrate 11. Moreover, the second photosensitive resin layer 29 having high fluidity is
Since it is applied on the first photosensitive resin layer 19 having the concave portion 19a and the glass substrate 11 is inclined, it is possible to manufacture a reflecting plate having the same reflection and scattering characteristics as in the first embodiment.

【0075】(その他の事項)前記各実施の形態に於い
て説明した、本発明の主要構成要素である感光性樹脂層
については、寸法、材質、形状、その相対配置等は、特
に限定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれら
のみに限定する趣旨のものではなく、単なる説明例に過
ぎない。
(Other Matters) The dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the photosensitive resin layer, which is a main component of the present invention, described in each of the above embodiments are particularly limited. Unless otherwise stated, the scope of the present invention is not intended to be limited thereto, but is merely illustrative.

【0076】例えば、前記各実施の形態に於いては、感
光性樹脂層の表面に於ける凹面と凸面の面積割合はほぼ
同じ場合について述べたが、本発明はこれに何ら限定さ
れるものではない。即ち、本発明に於いては、感光性樹
脂層表面に対する凹面の占める面積割合が大きくてもよ
く、或いはその逆に小さくてもよい。又、前記各実施の
形態に於いては、基板の法線方向から見た平面視に於け
る感光性樹脂層の形状が円形状である場合について述べ
たが、本発明はこれに何ら限定されるものではない。具
体的には、例えば図9に示すように、各種の形状の光透
過部を有する遮光膜を採用することにより、該形状に応
じた感光性樹脂層の形成が可能である。しかも、図9に
示す様な何れの形状であっても、本発明に係る反射型表
示素子の製造方法を実施することにより、所望の方向に
均一に傾斜した各種の形状を有する感光性樹脂層を形成
することができる。
For example, in each of the above embodiments, the case where the area ratio of the concave surface and the convex surface on the surface of the photosensitive resin layer is almost the same has been described, but the present invention is not limited to this. Absent. That is, in the present invention, the ratio of the area occupied by the concave surface to the surface of the photosensitive resin layer may be large, or vice versa. Further, in each of the above embodiments, the case where the shape of the photosensitive resin layer is circular when viewed in a plan view from the normal direction of the substrate has been described, but the present invention is not limited to this. Not something. Specifically, for example, as shown in FIG. 9, by adopting a light-shielding film having light transmitting portions of various shapes, it is possible to form a photosensitive resin layer according to the shape. In addition, the photosensitive resin layer having various shapes uniformly inclined in a desired direction can be obtained by performing the method of manufacturing a reflective display element according to the present invention, regardless of the shape as shown in FIG. Can be formed.

【0077】又、前記各実施の形態に於いては、以下に
述べる方法により、複数の微細な凸部又は凹部を有する
第1感光性樹脂層の形成も考えられる。即ち、第1感光
性樹脂層の形成後にガラス基板を傾斜させ、或いは垂直
にした状態で熱処理することにより、上記第1感光性樹
脂層の流動性を高めて重力の作用により下方向に熱ダレ
させる方法である。しかしながら、上記方法の場合、熱
処理により第1感光性樹脂層の流動性を高めることがで
きるものの、本来的に粘性の高いものであり、又、該第
1感光性樹脂層の表面張力作用により実際には緩やかな
傾斜面を形成しにくいことを本願発明者等は確認してい
る。しかも、熱処理の際に生じる温度分布等によって、
均一な凹部又は凸部を形成することが困難であり、かつ
再現性よく形成することも難しい。従って、同一の散乱
・反射特性を有する反射板が得られ難い。更に、傾斜し
た凹部と凸部との間には基板面と平行な正反射面が存在
するので、入射した光の一部は正反射方向に反射され
る。従って、観察者の視認方向にだけ光を強く反射させ
ることができない。
In each of the above embodiments, formation of the first photosensitive resin layer having a plurality of fine projections or depressions by the method described below is also conceivable. That is, after the first photosensitive resin layer is formed, the glass substrate is subjected to a heat treatment in a state where the glass substrate is tilted or made vertical, so that the fluidity of the first photosensitive resin layer is increased, and heat is dripped downward by the action of gravity. It is a way to make it. However, in the case of the above method, although the fluidity of the first photosensitive resin layer can be increased by the heat treatment, the first photosensitive resin layer is inherently highly viscous, and the first photosensitive resin layer has an actual surface tension effect. The inventors of the present application have confirmed that it is difficult to form a gently inclined surface. Moreover, depending on the temperature distribution and the like generated during the heat treatment,
It is difficult to form a uniform concave or convex part, and it is also difficult to form with good reproducibility. Therefore, it is difficult to obtain a reflector having the same scattering / reflection characteristics. Furthermore, since a regular reflection surface parallel to the substrate surface exists between the inclined concave portion and the convex portion, a part of the incident light is reflected in the regular reflection direction. Therefore, light cannot be strongly reflected only in the viewing direction of the observer.

【0078】ここで、上記のような熱ダレにより形成し
た反射板を備える反射型ディスプレイについて、前記実
施の形態1と同様にして反射率の角度依存性を測定し
た。その結果を図7の曲線Cに示す。図7から明らかな
ように、出射角が0度、及び+30度の場合に反射率が
ピークとなることが分かる。更に、出射角が0度の場合
の反射率Rf3は、前記実施の形態1に係る反射型ディ
スプレイの反射率Rf2よりも小さい。従って、観察者
の視認方向、即ち表示画面の法線上に於ける輝度が最大
となるように反射板の反射・散乱特性を制御する為に
は、本発明に係る反射板の方がより好ましいことは明ら
かである。
Here, the angle dependence of the reflectance was measured in the same manner as in the first embodiment for the reflection type display having the reflection plate formed by the heat sagging as described above. The result is shown by curve C in FIG. As is clear from FIG. 7, it can be seen that the reflectance peaks when the emission angles are 0 degree and +30 degrees. Further, the reflectance Rf3 when the emission angle is 0 degree is smaller than the reflectance Rf2 of the reflective display according to the first embodiment. Therefore, in order to control the reflection and scattering characteristics of the reflector so that the luminance in the viewing direction of the observer, that is, on the normal to the display screen, is maximized, the reflector according to the present invention is more preferable. Is clear.

【0079】更に、前記各実施の形態に於ける反射型液
晶表示素子の製造方法に於いては、第1感光性樹脂層1
9を形成した後にコンタクトホール20’を形成し、更
に第2感光性樹脂層29を形成した後に再びコンタクト
ホール20を形成する態様を示した。これは、感光性樹
脂層19に形成された凹部の角を丸める為の熱処理を行
うことにより、該感光性樹脂層19が固化され、第2感
光性樹脂層29と共にコンタクトホール20を形成する
ことが困難な為である。しかしながら、上記熱処理を行
う場合に、第1感光性樹脂層19に於ける凹部の角が丸
まり、かつ露光による開口が可能となるような範囲内に
温度を設定すれば、第2感光性樹脂層29と共に第1感
光性樹脂層19も開口することが可能となり、製造工程
の簡略化が図れる。
Further, in the method of manufacturing the reflection type liquid crystal display element in each of the above embodiments, the first photosensitive resin layer 1
9, the contact hole 20 ′ is formed, the second photosensitive resin layer 29 is formed, and then the contact hole 20 is formed again. This is because heat treatment for rounding the corners of the concave portions formed in the photosensitive resin layer 19 is performed to solidify the photosensitive resin layer 19 and form the contact holes 20 together with the second photosensitive resin layer 29. Is difficult. However, when performing the above heat treatment, if the temperature is set within a range in which the corners of the concave portion in the first photosensitive resin layer 19 are rounded and the opening by exposure is possible, the second photosensitive resin layer 19 The first photosensitive resin layer 19 can be opened together with the opening 29, so that the manufacturing process can be simplified.

【0080】更に、前記各実施の形態に於いては、光変
調層として液晶層を用いた場合について述べたが、本発
明は背面に光反射性の反射体を備えた受光型素子であれ
ばよく、特に限定されるものではない。
Further, in each of the above embodiments, the case where the liquid crystal layer is used as the light modulating layer has been described. However, the present invention relates to a light receiving element having a light reflecting reflector on the back surface. Well, it is not particularly limited.

【0081】又、前記各実施の形態に於いては、本発明
の最も好適な実施態様に従って、入射角が30度の場合
について説明したが、本発明はその適用時における事情
に応じて、入射角の値を種々変更することができる。こ
こで、入射光の有効利用という観点から、上記入射角は
20〜60度の範囲内にあることが好ましい。
In each of the above embodiments, the case where the incident angle is 30 degrees has been described in accordance with the most preferred embodiment of the present invention. The value of the angle can be varied. Here, from the viewpoint of effective use of incident light, the incident angle is preferably in the range of 20 to 60 degrees.

【0082】更に、前記各実施の形態に於いては、感光
性樹脂層に於ける凹凸面が一定の方向、即ち表示画面の
上部から下部へと一様に傾斜している態様について述べ
たが、本発明はこれに何ら限定されるものではない。例
えば、表示領域を複数の領域に分割し、各領域毎に傾斜
角が異なるようにしてもよい。本発明では、基板面に対
して斜め方向から、所定の形状の光透過部を備えたマス
クを介して感光性樹脂層を露光するので、各領域毎に傾
斜角を変えたり、或いは傾斜する方向を変えることが容
易に実行できる。具体的には、図10(a)及び(b)
に示すマスク32a・bを用いて、図11(a)及び
(b)に示すように1画素に於ける領域毎に露光方向を
それぞれ変えればよい。上記のようにすることで、表示
領域に於ける各領域毎に反射特性を種々異ならせること
ができる。
Further, in each of the above-described embodiments, the mode in which the uneven surface of the photosensitive resin layer is uniformly inclined in a certain direction, that is, from the upper part to the lower part of the display screen has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, the display area may be divided into a plurality of areas, and the inclination angle may be different for each area. In the present invention, since the photosensitive resin layer is exposed from a direction oblique to the substrate surface through a mask having a light transmitting portion of a predetermined shape, the inclination angle is changed for each region, or the inclination direction is changed. Can be easily implemented. Specifically, FIGS. 10A and 10B
11A and 11B, the exposure direction may be changed for each region of one pixel, using the masks 32a and 32b shown in FIG. By doing as described above, it is possible to make the reflection characteristics different for each area in the display area.

【0083】[0083]

【発明の効果】本発明は、以上のように説明した形態で
実施され、以下に述べるような効果を奏する。
The present invention is embodied in the form described above and has the following effects.

【0084】本発明に係る反射板は、一定の方向に傾斜
した複数の凹凸面を有する感光性樹脂層上に反射膜が設
けられているので、基板面に平行な正反射面が存在しな
い。よって、ある入射角で入射した光の大部分を、観察
者の視認方向、例えば基板の法線方向に反射させること
が可能となる。これにより、入射光の利用効率を向上さ
せることができ、所定の角度範囲内に於ける方向に対し
て明るく反射させることができるという効果を奏する。
In the reflection plate according to the present invention, since the reflection film is provided on the photosensitive resin layer having a plurality of uneven surfaces inclined in a certain direction, there is no regular reflection surface parallel to the substrate surface. Therefore, most of the light incident at a certain incident angle can be reflected in the viewing direction of the observer, for example, in the normal direction of the substrate. Thereby, the utilization efficiency of the incident light can be improved, and the effect of being able to be reflected brightly in a direction within a predetermined angle range is achieved.

【0085】又、本発明に係る反射型表示素子は、緩や
かに傾斜した凹凸面を有する感光性樹脂層上に反射膜が
形成されるので、入射光に対して正反射を引き起こす正
反射面が形成されることがない。よって、対向基板表面
の正反射により映り込みが生じる正反射方向とは異なる
方向、例えば基板の法線方向等を最も明るく表示するこ
とができる。これにより、明るく視認性の良好な反射型
表示素子を提供することができるという効果を奏する。
In the reflection type display device according to the present invention, since the reflection film is formed on the photosensitive resin layer having the gently inclined uneven surface, the regular reflection surface which causes regular reflection of incident light is provided. It is not formed. Therefore, a direction different from the specular reflection direction in which reflection occurs due to specular reflection on the surface of the opposing substrate, for example, the normal direction of the substrate can be displayed brightest. Thereby, there is an effect that a reflective display element which is bright and has good visibility can be provided.

【0086】更に、本発明に係る反射型表示素子の製造
方法によれば、一定の方向に均一に傾斜した凹凸面を有
する感光性樹脂層を制御性よく形成することができる。
又、同様のパターン形状を有する遮光膜を形成すれば、
再現性よくほぼ同一の形状の凹部又は凸部を形成できる
ので、同様の反射・散乱特性を有する反射板を備えた反
射型表示素子が量産可能となる。更に、光変調層を駆動
させる為の非線形素子、及び該非線形素子に電気的に接
続される配線と共に形成した遮光膜を上記マスクとして
使用すれば、フォトマスクの数を削減することができ、
該フォトマスクと基板との位置合わせ等に起因する歩留
まりの低下を抑制することができるという効果を奏す
る。
Further, according to the method of manufacturing a reflective display element according to the present invention, a photosensitive resin layer having an uneven surface uniformly inclined in a certain direction can be formed with good controllability.
Also, if a light-shielding film having a similar pattern shape is formed,
Since the concave and convex portions having substantially the same shape can be formed with good reproducibility, a reflective display element including a reflective plate having similar reflection and scattering characteristics can be mass-produced. Furthermore, if a non-linear element for driving the light modulation layer and a light-shielding film formed together with wiring electrically connected to the non-linear element are used as the mask, the number of photomasks can be reduced.
This has the effect of suppressing a decrease in yield due to the alignment between the photomask and the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1に係る反射型液晶表示素
子の概略を示す断面模式図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a reflective liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】上記実施の形態1に係る反射型液晶表示素子の
概略を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view schematically showing the reflective liquid crystal display element according to the first embodiment.

【図3】上記実施の形態1に係る反射型表示素子の要部
を示す断面模式図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a main part of the reflective display element according to the first embodiment.

【図4】上記実施の形態1に係る反射型液晶表示素子の
製造工程を示す断面模式図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a step of manufacturing the reflective liquid crystal display element according to the first embodiment.

【図5】上記実施の形態1に係る反射型液晶表示素子に
於いて、入射光及び反射光の進行方向を示す斜視図であ
る。
FIG. 5 is a perspective view showing a traveling direction of incident light and reflected light in the reflective liquid crystal display element according to the first embodiment.

【図6】上記実施の形態1に係る反射型液晶表示素子に
於ける光の散乱・反射状態を示す部分断面図である。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing a light scattering / reflecting state in the reflective liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図7】上記実施の形態1に係る反射型液晶表示素子に
於ける光の反射・散乱特性を示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing light reflection / scattering characteristics of the reflection type liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図8】本発明の実施の形態2に係る反射型液晶表示素
子の製造工程を示す断面模式図である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a step of manufacturing the reflective liquid crystal display element according to Embodiment 2 of the present invention.

【図9】本発明に係る他の遮光膜の概略を示す平面図で
ある。
FIG. 9 is a plan view schematically showing another light shielding film according to the present invention.

【図10】本発明に係る他のマスクの概略を示す平面図
である。
FIG. 10 is a plan view schematically showing another mask according to the present invention.

【図11】本発明に係る反射型液晶表示素子の製造工程
の一部を示す断面模式図である。
FIG. 11 is a schematic sectional view showing a part of the manufacturing process of the reflective liquid crystal display element according to the present invention.

【図12】従来の反射型液晶表示素子の製造工程を示す
断面模式図である。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of a conventional reflective liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 反射板 2 対向基板 3 液晶層(光変調層) 4 TFT(非線形素子) 7 遮光膜 8 光透過部 9 感光性樹脂層 10 反射膜 11 ガラス基板(基板) 20 コンタクトホール 19 第1感光性樹脂層 19a 凹部 29 第2感光性樹脂層 31 フォトマスク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reflector 2 Counter substrate 3 Liquid crystal layer (light modulation layer) 4 TFT (non-linear element) 7 Shielding film 8 Light transmission part 9 Photosensitive resin layer 10 Reflection film 11 Glass substrate (substrate) 20 Contact hole 19 First photosensitive resin Layer 19a Depression 29 Second photosensitive resin layer 31 Photomask

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河栗 真理子 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山添 博司 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 柄沢 武 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2H042 DA01 DA02 DA03 DA04 DA11 DA17 DC02 DC08 DD01 DE00 2H091 FA14Y FA31Y FA34Y FB04 FB08 FC02 FC10 FC22 FC25 FD01 GA03 GA06 GA13 HA08 LA16  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Mariko Kawaguri 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Inside Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor Takeshi Karasawa 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture F-term (reference) 2H042 DA01 DA02 DA03 DA04 DA11 DA17 DC02 DC08 DD01 DE00 2H091 FA14Y FA31Y FA34Y FB04 FB08 FC02 FC10 FC22 FC25 FD01 GA03 GA13 HA08 LA16

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に設けられた感光性樹脂層と、該
感光性樹脂層上に設けられた反射膜とを有する反射板に
於いて、 上記感光性樹脂層の表面は凹凸面となっており、かつそ
の凹凸面を構成する凹部又は凸部はその断面形状が一定
の方向に傾斜しており、反射光を特定の方向に反射させ
る構造となっていることを特徴とする反射板。
1. A reflector having a photosensitive resin layer provided on a substrate and a reflective film provided on the photosensitive resin layer, wherein the surface of the photosensitive resin layer has an uneven surface. And a concave or convex portion forming the concave / convex surface, the cross-sectional shape of which is inclined in a certain direction, and has a structure in which reflected light is reflected in a specific direction.
【請求項2】 基板上に設けられた感光性樹脂層と、該
感光性樹脂層上に設けられた反射膜とを有する反射板に
於いて、 上記感光性樹脂層は、 上記基板上に形成された感光性樹脂材料に、該基板面に
対して斜め方向からマスクを介して露光し現像されるこ
とにより形成される第1感光性樹脂層であって、上記斜
め方向からの露光により一定の方向に傾斜した非対称な
断面形状を有する複数の凹部又は凸部を備えた上記第1
感光性樹脂層と、 上記第1感光性樹脂層上に、該第1感光性樹脂層の形状
に沿うようにして設けられた第2感光性樹脂層とを含ん
で構成されることを特徴とする反射板。
2. A reflection plate having a photosensitive resin layer provided on a substrate and a reflection film provided on the photosensitive resin layer, wherein the photosensitive resin layer is formed on the substrate. A first photosensitive resin layer formed by exposing the photosensitive resin material to the substrate surface from a diagonal direction through a mask through a mask and developing the photosensitive resin material. The first having a plurality of concave portions or convex portions having an asymmetrical cross-sectional shape inclined in the direction
A photosensitive resin layer, and a second photosensitive resin layer provided on the first photosensitive resin layer so as to conform to the shape of the first photosensitive resin layer. Reflector.
【請求項3】 上記マスクは、上記基板と感光性樹脂層
との間に設けられ、所定の形状の光透過部を有する遮光
膜であることを特徴とする請求項2に記載の反射板。
3. The reflector according to claim 2, wherein the mask is a light-shielding film provided between the substrate and the photosensitive resin layer and having a light transmitting portion having a predetermined shape.
【請求項4】 請求項1、請求項2又は請求項3の何れ
か1つに記載の反射板と、 上記反射板に対向する対向基板と、 上記反射板及び対向基板間に挟持された光変調層とを備
えていることを特徴とする反射型表示素子。
4. The reflector according to claim 1, 2 or 3, a counter substrate facing the reflector, and light sandwiched between the reflector and the counter substrate. A reflective display device comprising a modulation layer.
【請求項5】 上記光変調層は、液晶層からなることを
特徴とする請求項3、請求項4に記載の反射型表示素
子。
5. The reflection type display device according to claim 3, wherein said light modulation layer comprises a liquid crystal layer.
【請求項6】 基板上に設けられた感光性樹脂層、及び
該感光性樹脂層上に設けられた反射膜を含んで構成され
る反射板と、 上記反射板に対向する対向基板と、 上記反射板及び対向基板間に挟持された光変調層とを備
えた反射型表示素子の製造方法に於いて、 上記基板上に、感光性樹脂層を形成する樹脂層形成工程
と、 上記基板面に対して斜め方向から、所定の形状の光透過
部を備えたマスクを介して上記感光性樹脂層に光を照射
して露光する露光工程と、 上記露光された感光性樹脂層を現像することにより、一
定の方向に傾斜した非対称な断面形状を有する凹部又は
凸部を、該感光性樹脂層に形成する凹凸部形成工程と、 上記感光性樹脂層を熱処理することにより、上記凹部又
は凸部の角を曲面状にする熱処理工程と、 上記感光性樹脂層上に、光反射性の反射膜を形成する反
射膜形成工程とを含むことを特徴とする反射型表示素子
の製造方法。
6. A reflecting plate including a photosensitive resin layer provided on a substrate, and a reflecting film provided on the photosensitive resin layer; an opposing substrate facing the reflecting plate; In a method of manufacturing a reflective display element including a reflective plate and a light modulation layer sandwiched between a counter substrate, a resin layer forming step of forming a photosensitive resin layer on the substrate, An exposure step of irradiating the photosensitive resin layer with light through a mask having a light transmitting portion of a predetermined shape and exposing the same from an oblique direction, and developing the exposed photosensitive resin layer. Forming a concave or convex portion having an asymmetric cross-sectional shape inclined in a certain direction, a step of forming a concave and convex portion on the photosensitive resin layer, and heat-treating the photosensitive resin layer to form the concave or convex portion. A heat treatment step of turning the corners into a curved surface, and the photosensitive resin Above, the manufacturing method of the reflection type display device which comprises a reflective film forming step of forming a light reflection of the reflection film.
【請求項7】 上記樹脂層形成工程に先だって、上記基
板上に所定の形状となるように遮光膜を形成する遮光膜
形成工程を行い、 上記露光工程では、上記遮光膜をマスクとして用いて、
上記基板の裏面側から光照射し、 更に、上記熱処理工程の後に、上記感光性樹脂層上に他
の感光性樹脂層を形成する工程を行うことを特徴とする
請求項6に記載の反射型表示素子の製造方法。
7. A light-shielding film forming step of forming a light-shielding film so as to have a predetermined shape on the substrate before the resin layer forming step. In the exposing step, the light-shielding film is used as a mask.
The reflection type according to claim 6, wherein light irradiation is performed from the back side of the substrate, and further, after the heat treatment step, a step of forming another photosensitive resin layer on the photosensitive resin layer is performed. A method for manufacturing a display element.
【請求項8】 上記露光工程では、所定の方向から入射
する入射光を、上記基板に対して垂直方向に反射させる
為に、 上記入射する方向と上記基板面に対して対称となる方向
から光を照射することを特徴とする請求項7に記載の反
射型表示素子の製造方法。
8. In the exposing step, in order to reflect incident light incident from a predetermined direction in a direction perpendicular to the substrate, light is emitted from a direction symmetrical to the incident direction with respect to the substrate surface. The method of manufacturing a reflective display element according to claim 7, wherein irradiation is performed.
【請求項9】 基板の上に反射膜が設けられた反射板
と、 上記反射板に対向する対向基板と、 上記反射板及び対向基板間に挟持された光変調層とを備
えた反射型表示素子の製造方法に於いて、 上記基板上に、感光性樹脂層を形成する第1樹脂層形成
工程と、 上記基板の法線方向から、所定の形状の光透過部を備え
たマスクを介して該感光性樹脂層を露光する露光工程
と、 上記露光された感光性樹脂層を現像することにより、対
称な断面形状を有する複数の凹部又は凸部を、該感光性
樹脂層に形成する凹凸部形成工程と、 上記基板を熱処理することにより、上記感光性樹脂層に
於ける凹部又は凸部の角を曲面状にする熱処理工程と、 上記感光性樹脂層上に、流動性を有する他の感光性樹脂
層を形成する第2樹脂層形成工程と、 上記基板を傾斜させた状態で、上記他の感光性樹脂層を
熱処理する熱処理工程と、 上記他の感光性樹脂層上に、上記反射膜を形成する反射
膜形成工程とを含むことを特徴とする反射型表示素子の
製造方法。
9. A reflection type display comprising: a reflection plate having a reflection film provided on a substrate; a counter substrate facing the reflection plate; and a light modulation layer sandwiched between the reflection plate and the counter substrate. In the method for manufacturing an element, a first resin layer forming step of forming a photosensitive resin layer on the substrate, and a mask having a light transmitting portion having a predetermined shape from a normal direction of the substrate. An exposure step of exposing the photosensitive resin layer; and developing the exposed photosensitive resin layer to form a plurality of recesses or projections having a symmetrical cross-sectional shape on the photosensitive resin layer. A forming step, a heat treatment step of subjecting the substrate to a heat treatment to make the corners of the concave or convex portions in the photosensitive resin layer a curved surface, and another photosensitive material having fluidity on the photosensitive resin layer. Forming a second resin layer for forming a conductive resin layer, and tilting the substrate. A reflection-type display comprising: a heat treatment step of heat-treating the other photosensitive resin layer in a state where the reflection film is formed; and a reflection film forming step of forming the reflection film on the other photosensitive resin layer. Device manufacturing method.
【請求項10】 上記露光工程にて光の照射を上記基板
側から行う場合には、上記第1樹脂層形成工程の前に、
上記マスクとしての遮光膜を上記基板上に所定の形状と
なるように形成する遮光膜形成工程を含むことを特徴と
する請求項9に記載の反射型表示素子の製造方法。
10. When irradiating light from the substrate side in the exposing step, before the first resin layer forming step,
10. The method according to claim 9, further comprising the step of forming a light-shielding film as the mask so as to have a predetermined shape on the substrate.
【請求項11】 上記遮光膜形成工程に於ける遮光膜
は、 上記光変調層を駆動させる為の非線形素子、及び該非線
形素子に電気的に接続される配線と共に形成することを
特徴とする請求項7又は請求項10に記載の反射型表示
素子の製造方法。
11. The light-shielding film in the light-shielding film forming step is formed together with a nonlinear element for driving the light modulation layer and a wiring electrically connected to the nonlinear element. 11. The method for manufacturing a reflective display element according to claim 7 or 10.
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6816216B2 (en) * 2001-04-12 2004-11-09 Omron Corporation Optical component and reflective plate, and device using the same optical component
KR100478574B1 (en) * 2001-06-28 2005-03-28 알프스 덴키 가부시키가이샤 Reflector and reflective liquid crystal display
US6943856B2 (en) 2000-11-08 2005-09-13 Nec Corporation Reflection plate, reflection type liquid crystal display apparatus, and method of manufacturing the same
WO2005098486A1 (en) * 2004-04-09 2005-10-20 Kuraray Co., Ltd. Method for manufacturing micro structure, method for manufacturing stamper using the micro structure and method for manufacturing resin micro structure using the stamper
US7042539B2 (en) 2001-06-22 2006-05-09 Nec Lcd Technologies, Ltd. Reflection plate, manufacturing method thereof, liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US7088404B2 (en) 2002-12-12 2006-08-08 Seiko Epson Corporation Substrate for electro-optical device having particular concave portions and convex portions and flat section on the surface of a base layer
KR100737895B1 (en) * 2002-09-18 2007-07-10 삼성전자주식회사 Reflective type liquid crystal display and transmissive and reflective type liquid crystal display and method of manufacturing the same
KR100820648B1 (en) * 2001-12-28 2008-04-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 array panel for reflective liquid crystal display devices and manufacturing method of the same
CN100409072C (en) * 2001-04-19 2008-08-06 阿尔卑斯电气株式会社 Liquid crystal display device and portable electronic apparatus using the same
KR100863164B1 (en) 2002-05-17 2008-10-13 옵트렉스 가부시키가이샤 Light reflective structure, method for producing the same and display
KR100892948B1 (en) * 2001-10-22 2009-04-09 삼성전자주식회사 Liquid crystal device for enhancing reflectance and method of manufacturing the same
US7580096B2 (en) 2001-08-01 2009-08-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating the same
JP2009237585A (en) * 2009-07-13 2009-10-15 Sharp Corp Reflective liquid crystal display device
KR100922785B1 (en) * 2002-08-16 2009-10-21 엘지디스플레이 주식회사 Manufacturing for Reflective Liquid Crystal Device display
KR100983704B1 (en) 2003-06-26 2010-09-24 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display device and method for fabricating thereof

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6943856B2 (en) 2000-11-08 2005-09-13 Nec Corporation Reflection plate, reflection type liquid crystal display apparatus, and method of manufacturing the same
US6816216B2 (en) * 2001-04-12 2004-11-09 Omron Corporation Optical component and reflective plate, and device using the same optical component
CN100409072C (en) * 2001-04-19 2008-08-06 阿尔卑斯电气株式会社 Liquid crystal display device and portable electronic apparatus using the same
US7042539B2 (en) 2001-06-22 2006-05-09 Nec Lcd Technologies, Ltd. Reflection plate, manufacturing method thereof, liquid crystal display device and manufacturing method thereof
KR100478574B1 (en) * 2001-06-28 2005-03-28 알프스 덴키 가부시키가이샤 Reflector and reflective liquid crystal display
US7965356B2 (en) 2001-08-01 2011-06-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid display device and method for fabricating the same
US7580096B2 (en) 2001-08-01 2009-08-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display device and method for fabricating the same
KR100892948B1 (en) * 2001-10-22 2009-04-09 삼성전자주식회사 Liquid crystal device for enhancing reflectance and method of manufacturing the same
KR100820648B1 (en) * 2001-12-28 2008-04-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 array panel for reflective liquid crystal display devices and manufacturing method of the same
US7652734B2 (en) 2001-12-28 2010-01-26 Lg Display Co., Ltd. Array substrate for a reflective liquid crystal display device and manufacturing method for the same
US7952664B2 (en) 2001-12-28 2011-05-31 Lg Display Co., Ltd. Array substrate for a reflective liquid crystal display device with asymmetric curved profiles and manufacturing method for the same
KR100863164B1 (en) 2002-05-17 2008-10-13 옵트렉스 가부시키가이샤 Light reflective structure, method for producing the same and display
KR100922785B1 (en) * 2002-08-16 2009-10-21 엘지디스플레이 주식회사 Manufacturing for Reflective Liquid Crystal Device display
KR100737895B1 (en) * 2002-09-18 2007-07-10 삼성전자주식회사 Reflective type liquid crystal display and transmissive and reflective type liquid crystal display and method of manufacturing the same
US7088404B2 (en) 2002-12-12 2006-08-08 Seiko Epson Corporation Substrate for electro-optical device having particular concave portions and convex portions and flat section on the surface of a base layer
KR100983704B1 (en) 2003-06-26 2010-09-24 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display device and method for fabricating thereof
WO2005098486A1 (en) * 2004-04-09 2005-10-20 Kuraray Co., Ltd. Method for manufacturing micro structure, method for manufacturing stamper using the micro structure and method for manufacturing resin micro structure using the stamper
JP2009237585A (en) * 2009-07-13 2009-10-15 Sharp Corp Reflective liquid crystal display device

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