JP2000102794A - 有害物質処理方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 埋立地侵出水や産業排水等中の例えば有機ハ
ロゲン系化合物などのような有害物質を処理する有害物
質処理方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 排水１１中の有機物及びアンモニア体を
生物学的に分解し、炭酸ガスと硝酸イオンまで酸化する
酸化・硝化曝気槽１２と、硝酸イオンを生物学的に窒素
ガスに還元・除去する脱窒素槽１３と、排水内の微生物
を沈殿分離する沈殿槽１４と、該沈殿処理水に凝集剤１
５ａを添加して混和させる混和槽１５、沈殿槽処理水に
含まれる懸濁物質（ＳＳ成分）を凝集沈殿させる凝集沈
殿塔１６と、微量ＳＳ成分を除去する砂濾過塔１７と、
排水中の着色成分を除去する活性炭吸着塔１８と、排水
中にヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカル
発生手段１９を有する処理槽２０とを備えてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、埋立地侵出水や産
業排水等中の例えば有機ハロゲン系化合物などのような
有害物質を処理する有害物質処理方法およびその装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来では、埋立地侵出水や産業廃水等の
汚水は調製槽において、水量，ｐＨ等の調製を行った
後、生物処理槽において有機物及び窒素成分を除去し凝
集沈殿槽において凝集剤の添加により凝集させ、重金
属，ＳＳ（浮遊物質）成分を分離している。その後、上
澄み液は、液中のダイオキシン類等をはじめとする難分
解性有機物を促進酸化処理により分解し、砂濾過塔，活
性炭吸着塔を経て処理水として放流されている。

【０００３】該有機塩素化合物を含有する水の浄化方法
としては、有機塩素化合物を含有する水に過酸化水を添
加し、紫外線に照射することで該化合物を分解するもの
が提案されている（特開昭52−０３５４４５号公報参
照）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、埋立地
侵出水やゴミ焼却炉の煙突内を洗浄した洗煙排水には、
各種有機物質や着色物質，含窒素成分等が含まれてお
り、これらの成分が紫外線照射やオゾンによる分解効率
を著しく低下させ、処理が困難となる、という問題があ
る。

【０００５】このようなことから、本発明は、埋立地侵
出水やゴミ焼却炉内を洗浄した洗浄排水には、各種有機
物質や着色物質，含窒素成分等が含まれている場合にお
いても分解効率が低下しない有害物質処理方法およびそ
の装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
［請求項１］の発明は、排水中の有機物，窒素成分，Ｓ
Ｓ成分，着色成分を除去した後に、該排水中にヒドロキ
シラジカル存在の下で、該排水中の難分解物質を分解処
理することを特徴とする。

【０００７】［請求項２］の発明は、排水中に界面活性
剤を添加し、ＳＳ成分に吸着している難分解物質を脱着
させ、該排水中に脱着された難分解物質をヒドロキシラ
ジカル存在の下で分解処理し、その後固液分離すること
を特徴とする。

【０００８】［請求項３］の発明は、排水中に超音波を
発生し、ＳＳ成分に吸着している難分解物質を脱着さ
せ、該排水中に脱着された難分解物質をヒドロキシラジ
カル存在の下で分解処理し、その後固液分離することを
特徴とする。

【０００９】［請求項４］の発明は、請求項１，２又は
３において、前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法
が、オゾンに紫外線ランプにより紫外線を照射すること
を特徴とする。

【００１０】［請求項５］の発明は、請求項１，２又は
３において、前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法
が、オゾンと過酸化水素とを併用し、紫外線ランプによ
り紫外線を照射することを特徴とする。

【００１１】［請求項６］の発明は、請求項１，２又は
３において、前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法
が、過酸化水素に紫外線ランプにより紫外線を照射する
ことを特徴とする。

【００１２】［請求項７］の発明は、請求項１，２又は
３において、前記排水中の難分解物質がダイオキシン
類，ポリ塩化ビフェニル類，クロルベンゼン類，クロロ
フェノール及びクロロトルエンから選ばれる少なくとも
一種であることを特徴とする。

【００１３】［請求項８］の発明は、排水中の有機物及
びアンモニア体窒素を生物学的に分解し、炭酸ガスと硝
酸イオンまで酸化する酸化・硝化曝気槽と、硝酸イオン
を生物学的に窒素ガスに還元・除去する脱窒素槽と、排
水内の微生物を沈殿分離する沈殿槽と、該沈殿処理水に
凝集剤を添加し、混和させる混和槽と、沈殿槽処理水に
含まれる懸濁物質を凝集沈殿させる凝集沈殿塔と、微量
ＳＳ成分を除去する砂濾過塔と、排水中の着色成分を除
去する活性炭吸着塔と、排水中にヒドロキシラジカルを
発生するヒドロキシラジカル発生手段を有する処理槽と
を備えてなることを特徴とする。

【００１４】［請求項９］の発明は、請求項８におい
て、処理槽に導入する排水中にリサイクルオゾンを溶解
させるオゾン溶解手段を備えたことを特徴とする。

【００１５】［請求項１０］の発明は、請求項８におい
て、前記処理槽内の排水を循環させる循環手段を備えた
ことを特徴とする。

【００１６】［請求項１１］の発明は、排水中に界面活
性剤を添加して攪拌してＳＳ成分に吸着している難分解
物質を脱着する攪拌槽と、排水中にヒドロキシラジカル
を発生するヒドロキシラジカル発生手段を有し、該脱着
された難分解物質を分解する処理槽と、排水中のＳＳ成
分を固液分離する固液分離手段とを備えてなることを特
徴とする。

【００１７】［請求項１２］の発明は、超音波発生手段
により排水中のＳＳ成分に吸着している難分解物質を脱
着する超音波発生槽と、排水中にヒドロキシラジカルを
発生するヒドロキシラジカル発生手段を有し、該脱着さ
れた難分解物質を分解する処理槽と、排水中のＳＳ成分
を固液分離する固液分離手段とを備えてなることを特徴
とする。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明による有害物質処理方法お
よびその装置の実施の形態を以下に説明するが、本発明
はこれらの実施の形態に限定されるものではない。

【００１９】［第１の実施の形態］本発明の第１の実施
の形態を図１を用いて説明する。本実施の形態にかかる
有害物質処理装置は、排水１１中の有機物及びアンモニ
ア体を生物学的に分解し、炭酸ガスと硝酸イオンまで酸
化する酸化・硝化曝気槽１２と、硝酸イオンを生物学的
に窒素ガスに還元・除去する脱窒素槽１３と、排水内の
微生物を沈殿分離する沈殿槽１４と、該沈殿処理水に凝
集剤（例えば硫酸バン土，高分子ポリマー等）１５ａを
添加して混和させる混和槽１５、沈殿槽処理水に含まれ
る懸濁物質（ＳＳ成分）を凝集沈殿させる凝集沈殿塔１
６と、微量ＳＳ成分を除去する砂濾過塔１７と、排水中
の着色成分を除去する活性炭吸着塔１８と、排水中にヒ
ドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手
段１９を有する処理槽２０とを備えてなる。本発明で
は、排水中の有機物，窒素成分，ＳＳ成分，着色成分を
除去した後にヒドロキシラジカル処理を行うようにした
ので、ヒドロキシラジカル処理が確実になされ、確実に
難分解物質の処理が可能となる。

【００２０】ここで、本発明でヒドロキシラジカル発生
手段とは、オゾンに紫外線ランプにより紫外線を照射
する方法、オゾンと過酸化水素とを併用する方法、
過酸化水素に紫外線ランプにより紫外線を照射する方法
等を挙げることができる。前記のオゾンに紫外線ラン
プ（例えば、低圧水銀ランプ：出力１０〜２００Ｗ）に
より紫外線を照射する方法は、波長１８５ｎｍ，２５４
ｎｍの紫外線をオゾン（オゾン濃度１０ｇ／ｍ³ 以上）
に照射することでヒドロキシラジカルを発生するもので
ある。前記のオゾンと過酸化水素に、紫外線を照射す
る方法は、過酸化水素の注入量を１０〜５０００ｍｇ／
リットルとし、オゾンの注入量を５０〜５０００ｍｇ／
リットルとして紫外線照射ランプにより紫外線を照射
し、ヒドロキシラジカルを発生するものである。前記
の過酸化水素に紫外線ランプにより紫外線を照射する方
法は、過酸化水素の注入量を１０〜５０００ｍｇ／リッ
トルとし、前記紫外線ランプにより紫外線を照射するこ
とによりヒドロキシラジカルを発生するものである。

【００２１】なお、本実施の形態では、図１に示すよう
に、ヒドロキシラジカル発生手段としては、前記のオ
ゾンに紫外線ランプにより紫外線を照射する方法を用い
ており、外部に設けたオゾン発生機２１から散気管２２
を介して処理槽１１内にオゾン（Ｏ₃ ）を含有した気泡
２３を導入し、該導入されたオゾン（Ｏ₃ ）に紫外線照
射ランプ（ＵＶランプ）２４から紫外線（ＵＶ）を照射
することで、オゾン分解を促進させ、ヒドロキシラジカ
ル（ＯＨラジカル）を発生させている。

【００２２】ここで、水中におけるオゾン（Ｏ₃ ）と紫
外線照射との反応は、下記(1) 式に示すものとなり、発
生した強力なヒドロキシラジカル（ＯＨラジカル）の酸
化分解作用により難分解物質の有害物質を分解処理する
ようにしている。

【００２３】 Ｏ₃ ＋ＵＶ→Ｏ₂ ＋Ｏ，Ｏ＋Ｈ₂ Ｏ→２・ＯＨ …(1) なお、従来においては、有機物や窒素成分が混入されて
いたので、これらが優先的にヒドロキシラジカル（ＯＨ
ラジカル）反応してしまい、有害物質の分解効果が大幅
に減少されていたが、本発明のように事前に排水中の有
機物，窒素成分，ＳＳ成分，着色成分を除去すること
で、このような問題が解消される。

【００２４】本発明で分解処理する難分解物質として
は、ダイオキシン類やＰＣＢ類に代表される有害な塩素
化芳香族化合物、高縮合度芳香族炭化水素等の埋立地侵
出水や産業排水等の排水からの有害物質をいうが、本発
明のヒドロキシラジカルで分解できる埋立地侵出水や産
業排水等やシュレッダーダスト処理物からの排水や洗煙
排水等の排水１１中の有害物質（又は環境ホルモン）で
あればこれらに限定されるものではない。

【００２５】ここで、前記ダイオキシン類とは、ポリ塩
化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類（ＰＣＤＤｓ）及びポ
リ塩化ジベンゾフラン類（ＰＣＤＦｓ）の総称であり、
塩素系化合物とある種の有機塩素化合物の燃焼時に微量
発生するといわれ、化学的に無色の結晶である。塩素の
数によって一塩化物から八塩化物まであり、異性体には
ＰＣＤＤｓで７５種類、ＰＣＤＦｓで１３５種類におよ
び、これらのうち、特に四塩化ジベンゾ−ｐ−ダイオキ
シン（Ｔ₄ ＣＤＤ）は、最も強い毒性を有するものとし
て知られている。なお、有害な塩素化芳香族化合物とし
ては、ダイオキシン類の他にその前駆体となる種々の有
機塩素化合物（例えば、フェノール，ベンゼン等の芳香
族化合物（例えばクロルベンゼン類，クロロフェノール
及びクロロトルエン等）、塩素化アルキル化合物等）が
含まれており、処理水として放流するには排水中から除
去する必要があり、本発明により分解処理できる。

【００２６】また、ＰＣＢ類（ポリ塩化ビフェニル類）
はビフェニールに塩素原子が数個付加した化合物の総称
であり、塩素の置換数、置換位置により異性体がある
が、２，６−ジクロロビフェニル、２，2'−ジクロロビ
フェニル、２，３，５−トリクロロビフェニル等が代表
的なものであり、毒性が強く、焼却した場合にはダイオ
キシン類が発生するおそれがあるものとして知られてお
り、処理水として放流するには排水中から除去する必要
があり、本発明により分解処理できる。

【００２７】このような有害物質処理装置を使用した有
害物質処理方法を図１を用いて次に説明する。

【００２８】先ず、酸化・硝化曝気槽１２において排水
１１中の有機物及びアンモニア体窒素を生物学的に分解
し、炭酸ガスと硝酸イオンまで酸化する。次に、脱窒素
槽１３において、硝酸イオンを生物学的に窒素ガスに還
元・除去する。次に、混和槽１５において、排水内の微
生物を沈殿分離する。次に、凝集沈殿塔１６において、
沈殿処理水に凝集剤（硫酸バン土，高分子ポリマー等）
を添加し、混和させ、沈殿槽処理水に含まれる懸濁物質
（ＳＳ成分）を凝集沈殿させる。次に、砂濾過塔１７に
おいて、微量ＳＳ成分を除去する。次に、活性炭吸着塔
１８において、排水中の着色成分を除去する。最後に処
理槽１９において、排水中にヒドロキシラジカルを発生
させ、酸化分解を行う。なお、微量ＳＳ成分や着色成分
が少ない場合には、砂濾過塔１７や活性炭吸着塔１８の
いずれか一方又は両方を設けることなく、直接処理槽２
０に導くようにしてもよい（図中破線で示す）。

【００２９】すなわち、外部よりオゾン発生機により供
給されたオゾンに紫外線を照射させて発生させたヒドロ
キシラジカルにより排水１１中の難分解物質である例え
ば有機ハロゲン系化合物等を効率的に分解処理するよう
にしたのである。また、下記(2) ，(3) 式に示すよう
に、処理槽に導入する前に、排水中にＦｅイオンやＣｕ
イオン等を供給し、これらイオンの作用によりヒドロキ
シラジカルの分解反応を促進させることもできる。すな
わち、前記イオンを供給すると「・ＯＨ」が大幅に生成
し分解促進効果が向上するからである。

【００３０】 Ｏ₃ ＋Ｈ₂ Ｏ＋Ｆｅ²⁺→・ＯＨ＋ＯＨ^- ＋Ｏ₂ ＋Ｆｅ³⁺ …(2) Ｏ₃ ＋Ｈ₂ Ｏ＋Ｃｕ⁺ →・ＯＨ＋ＯＨ^- ＋Ｏ₂ ＋Ｃｕ²⁺ …(3) したがって、埋立地侵出水や産業排水等からの排水１１
中に含まれる有害物質を確実に処理することができる。

【００３１】［第２の実施の形態］本発明の第２の実施
の形態を図２を用いて説明する。なお、前述した第１の
実施の形態と同様な構成部分については、前述した第１
の実施の形態の説明で用いた符号と同符号を用いて、そ
の説明を省略する。

【００３２】本実施の形態における有害物質処理装置
は、図２に示すように、排水１１中の有機物及びアンモ
ニア体窒素を生物学的に分解し、炭酸ガスと硝酸イオン
まで酸化する酸化・硝化曝気槽１２と、硝酸イオンを生
物学的に窒素ガスに還元・除去する脱窒素槽１３と、排
水内の微生物を沈殿分離する沈殿槽１４と、該沈殿処理
水に凝集剤（硫酸バン土，高分子ポリマー等）を添加
し、混和させる混和槽１５、沈殿槽処理水に含まれる懸
濁物質（ＳＳ成分）を凝集沈殿させる凝集沈殿塔１６
と、微量ＳＳ成分を除去する砂濾過塔１７と、排水中の
着色成分を除去する活性炭吸着塔１８と、排水中にヒド
ロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手段
１９を有する処理槽２０と、処理槽２０内で分解に寄与
しなかったオゾン（Ｏ₃ ）を処理槽２０の上部から配管
３１ａ及びポンプ３１ｂを介して回収するオゾン回収手
段３１と、該回収されたオゾン（Ｏ₃ ）を処理槽２０に
導入する前段階において、排水１１中にオゾン（Ｏ₃ ）
を溶解させるオゾン溶解槽３２と、処理槽１１内の排水
を循環させる配管３３ａ及びポンプ３３ｂからなる循環
手段２３とを設けたものである。

【００３３】このような本実施の形態では、前述した実
施の形態の場合に較べ、予め排水中に処理槽２０内で反
応に寄与しなかったオゾンを溶解させ、排水中のオゾン
量が増大するので、ヒドロキシラジカルの生成効率が大
幅に向上し、前述した実施の形態の場合よりも排水１１
中の有機ハロゲン系化合物の分解効率が向上すると共に
オゾンの有効利用が可能となる。

【００３４】［第３の実施の形態］本発明の第３の実施
の形態を図３を用いて説明する。なお、前述した第１の
実施の形態と同様な構成部分については、前述した第１
の実施の形態の説明で用いた符号と同符号を用いて、そ
の説明を省略する。

【００３５】本実施の形態における有害物質処理装置
は、図３に示すように、排水１１中に界面活性剤５１を
添加し、攪拌手段５２により攪拌してＳＳ成分に吸着し
ている難分解物質を脱着する攪拌槽５３と、排水中にヒ
ドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手
段１９を有し、該脱着された難分解物質を分解する処理
槽２０と、分解処理後の排水を固液分離してＳＳ成分を
除去するする固液分離槽５４とを備えてなるものであ
る。

【００３６】ここで、前記添加する界面活性剤として
は、特に限定されるものではないが、例えばカルボン
酸塩（せっけんなどのラウリン酸ナトリウム等）や硫酸
エステル塩やスルホン酸塩やリン酸エステル塩などのよ
うなアニオン界面活性剤、第１〜３級アミン塩や第４
級アンモニウム塩（例えばラウリルトリメチルアンモニ
ウムクロライド等）などのようなカチオン界面活性剤、
カルボン酸塩型（例えばラウリルアミノプロピオン酸
ナトリウム等）や硫酸エステル塩型やスルホン酸塩型や
リン酸エステル塩型などの両性界面活性剤、ポリエチ
レングリコール型や多価アルコール型や低級アルコール
型などの非イオン界面活性剤等を挙げることができる。

【００３７】この界面活性剤の添加量は、特に限定され
るものではないが、攪拌槽中の排水に対して数％以下程
度とすればよい。

【００３８】排水中のＳＳ成分を分離する固液分離手段
としては、特に限定されるものではないが、例えば加圧
浮上法、凝集沈殿法、砂濾過法、膜分離法等を挙げるこ
とができる。

【００３９】このように、ヒドロキシラジカルで処理す
る前に、界面活性剤を添加して、排水中のＳＳ成分に吸
着しているダイオキシン類等の難分解物質を排水中に脱
着させることにより、直接脱着された難分解物質をヒド
ロキシラジカルで分解処理することができ、分解処理効
率が向上する。

【００４０】なお、第２の実施の形態のように、本実施
の形態においても、前記処理槽内の排水を循環させる循
環手段を備えて、排水を循環させてヒドロキシラジカル
の反応を促進させ、分解効率を向上させるようにしても
よい。

【００４１】［第４の実施の形態］本発明の第４の実施
の形態を図４を用いて説明する。なお、前述した第１の
実施の形態と同様な構成部分については、前述した第１
の実施の形態の説明で用いた符号と同符号を用いて、そ
の説明を省略する。

【００４２】本実施の形態における有害物質処理装置
は、図４に示すように、超音波を発生することにより、
排水中のＳＳ成分微振動を付与し、該ＳＳ成分に吸着し
ている難分解物質を脱着する超音波発生槽５５と、排水
中にヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカル
発生手段１９を有し、該脱着された難分解物質を分解す
る処理槽２０と、分解処理後の排水を固液分離してＳＳ
成分を除去するする固液分離槽５４とを備えてなるもの
である。なお、固液分離手段は第３の実施の形態と同様
としている。なお、第２の実施の形態のように、本実施
の形態においても、前記処理槽内の排水を循環させる循
環手段を備えて、排水を循環させてヒドロキシラジカル
の反応を促進させ、分解効率を向上させるようにしても
よい。

【００４３】このように、ヒドロキシラジカルで処理す
る前に、超音波発生により、排水中のＳＳ成分に吸着し
ているダイオキシン類等の難分解物質を排水中に脱着さ
せることにより、直接脱着された難分解物質をヒドロキ
シラジカルで分解処理することができ、分解処理効率が
向上する。

【００４４】

【実施例】以下、本発明の効果を示す実施例について説
明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではな
い。

【００４５】図５は実施例で用いた装置の概略図であ
る。図５に示すように、本試験装置は、紫外線照射ラン
プ４１を内部に配した処理槽４２と、処理槽４２内に散
気管４３を介して外部のオゾン発生器４４からオゾンを
含有した気泡４５を導入するオゾン発生手段と、該処理
槽４２を恒温に保持する恒温槽４６と、処理槽４２内の
スターラ４７を回転させる攪拌機４８とから構成されて
いる。なお、符号４９はＵＶカバーを図示する。

【００４６】また、下記「表１」に示す組成の埋立地侵
出水にダイオキシン類を添加し、0.６ｎｇ−ＴＥＱ／リ
ットルの濃度に調整したものを供試試料とした。試験装
置の条件を下記「表２」に示す。

【００４７】

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】［比較例］0.６ｎｇ−ＴＥＱ／リットルの
濃度に調整した埋立地侵出水２リットルを処理槽４２内
に入れ、下記「表２」に示す条件でオゾンを含んだ気泡
４５を処理槽内に散気管４３を介して導入すると共に、
紫外線照射ランプ４１から紫外線を照射した。その結
果、約４８０分後、原水中のダイオキシン類濃度（0.６
ｎｇ−ＴＥＱ／リットル）が0.１ｎｇ−ＴＥＱ／リット
ルの濃度まで分解され、分解反応速度は0.００１０４ｎ
ｇ−ＴＥＱ／リットル・分であった。

【００５０】［実施例１］0.６ｎｇ−ＴＥＱ／リットル
の濃度に調整した埋立地侵出水を予め生物学的硝化・脱
窒素法で処理を行い、侵出水中のＢＯＤ，ＣＯＤＭｎ，
ＮＨ₄ −Ｎ，Ｔ−Ｎは、それぞれＢＯＤが１2.０ｍｇ／
リットル，ＣＯＤＭｎが8.０ｍｇ／リットル，ＮＨ₄ −
Ｎが2.０ｍｇ／リットル，Ｔ−Ｎが3.０ｍｇ／リットル
の濃度まで低減した。これを0.４５μｍのフィルタで濾
過し、ＳＳ成分を除去したものに対し、前記比較例と同
様の条件で操作した。その結果、約３０分の処理後、原
水中のダイオキシン類濃度（0.６ｎｇ−ＴＥＱ／リット
ル）が0.１ｎｇ−ＴＥＱ／リットルの濃度まで分解され
た。このときの分解反応速度は0.０１６７ｎｇ−ＴＥＱ
／リットル・分であり、比較例に較べて１６倍もの極め
て早い速度で分解がなされた。

【００５１】［実施例２］実施例２において、0.４５μ
ｍのフィルタで濾過した処理液にさらに、ＦｅＳＯ₄ ・
７Ｈ₂ Ｏを１０μＭ添加した条件で実施例２と同様に処
理した。その結果、約１５分の処理後、原水中のダイオ
キシン類濃度（0.６ｎｇ−ＴＥＱ／リットル）が0.１ｎ
ｇ−ＴＥＱ／リットルの濃度まで分解された。このとき
の分解反応速度は0.０３３３ｎｇ−ＴＥＱ／リットル・
分であり、実施例１よりもさらに分解速度を早めること
ができた。また、Ｃｕ⁺ を１０μＭ添加した条件でも実
施例２と同様の結果が得られた。

【００５２】

【発明の効果】以上述べたように、［請求項１］の発明
によれば、排水中の有機物，窒素成分，ＳＳ成分，着色
成分を除去した後に、該排水中にヒドロキシラジカル存
在の下で、該排水中の難分解物質を分解処理するので、
ヒドロキシラジカル処理による難分解物質の処理が確実
となり、処理速度が向上する。

【００５３】［請求項２］の発明によれば、排水中に界
面活性剤を添加し、ＳＳ成分に吸着している難分解物質
を脱着させ、該排水中に脱着された難分解物質をヒドロ
キシラジカル存在の下で分解処理し、その後固液分離す
るので、脱着された難分解物質を直接ヒドロキシラジカ
ルで分解処理することができ、分解処理効率が向上す
る。

【００５４】［請求項３］の発明によれば、排水中に超
音波を発生し、ＳＳ成分に吸着している難分解物質を脱
着させ、該排水中に脱着された難分解物質をヒドロキシ
ラジカル存在の下で分解処理し、その後固液分離するの
で、脱着された難分解物質を直接ヒドロキシラジカルで
分解処理することができ、分解処理効率が向上する。

【００５５】［請求項４］の発明によれば、請求項１，
２又は３において、ヒドロキシラジカルを発生させる方
法が、オゾンに紫外線ランプにより紫外線を照射するの
で、効率良くヒドロキシラジカルが発生され、有害物質
の分解が促進される。

【００５６】［請求項５］の発明によれば、請求項１，
２又は３において、ヒドロキシラジカルを発生させる方
法が、オゾンと過酸化水素とを併用し、紫外線を照射す
るので、効率良くヒドロキシラジカルが発生され、有害
物質の分解が促進される。

【００５７】［請求項６］の発明によれば、請求項１，
２又は３において、ヒドロキシラジカルを発生させる方
法が、過酸化水素に紫外線ランプにより紫外線を照射す
るので、効率良くヒドロキシラジカルが発生され、有害
物質の分解が促進される。

【００５８】［請求項７］の発明によれば、請求項１，
２又は３において、前記排水中の難分解物質がダイオキ
シン類，ポリ塩化ビフェニル類，クロルベンゼン類，ク
ロロフェノール及びクロロトルエンから選ばれる少なく
とも一種が完全に分解される。

【００５９】［請求項８］の発明によれば、排水中の有
機物及びアンモニア体窒素を生物学的に分解し、炭酸ガ
スと硝酸イオンまで酸化する酸化・硝化曝気槽と、硝酸
イオンを生物学的に窒素ガスに還元・除去する脱窒素槽
と、排水内の微生物を沈殿分離する沈殿槽と、該沈殿処
理水に凝集剤を添加し、混和させる混和槽と、沈殿槽処
理水に含まれる懸濁物質を凝集沈殿させる凝集沈殿塔
と、微量ＳＳ成分を除去する砂濾過塔と、排水中の着色
成分を除去する活性炭吸着塔と、排水中にヒドロキシラ
ジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手段を有する
処理槽とを備えてなるので、事前に排水中の有機物，ヒ
ドロキシラジカルと優先的に反応する窒素成分，ＳＳ成
分，着色成分が除去され、排水中の難分解物質の処理が
確実になされ、処理速度が向上する。

【００６０】［請求項９］の発明によれば、請求項８に
おいて、処理槽に導入する排水中にリサイクルオゾンを
溶解させるオゾン溶解手段を備えたので、ヒドロキシラ
ジカルの生成効率が大幅に向上し、前述した実施の形態
の場合よりも排水１１中の有機ハロゲン系化合物の分解
効率が向上すると共にオゾンの有効利用が可能となる。

【００６１】［請求項１０］の発明によれば、請求項８
において、前記処理槽内の排水を循環させる循環手段を
備えたので、排水を循環させてヒドロキシラジカルの反
応を促進させ、分解効率を向上させる。

【００６２】［請求項１１］の発明によれば、排水中に
界面活性剤を添加して攪拌してＳＳ成分に吸着している
難分解物質を脱着する攪拌槽と、排水中にヒドロキシラ
ジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手段を有し、
該脱着された難分解物質を分解する処理槽と、排水中の
ＳＳ成分を固液分離する固液分離手段とを備えてなるの
で、脱着された難分解物質を直接ヒドロキシラジカルで
分解処理することができ、分解処理効率が向上する。

【００６３】［請求項１２］の発明によれば、超音波発
生手段により排水中のＳＳ成分に吸着している難分解物
質を脱着する超音波発生槽と、排水中にヒドロキシラジ
カルを発生するヒドロキシラジカル発生手段を有し、該
脱着された難分解物質を分解する処理槽と、排水中のＳ
Ｓ成分を固液分離する固液分離手段とを備えてなるの
で、脱着された難分解物質を直接ヒドロキシラジカルで
分解処理することができ、分解処理効率が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による有害物質処理装置の第１の実施の
形態の概略構成図である。

【図２】本発明による有害物質処理装置の第２の実施の
形態の概略構成図である。

【図３】本発明による有害物質処理装置の第２の実施の
形態の概略構成図である。

【図４】本発明による有害物質処理装置の第２の実施の
形態の概略構成図である。

【図５】本実施例の試験装置の概略構成図である。

【符号の説明】

１１ 排水 １２ 酸化・硝化曝気槽 １３ 脱窒素槽 １４ 沈殿槽 １５ 混和槽 １６ 凝集沈殿塔 １７ 砂濾過塔 １８ 活性炭吸着塔 １９ ヒドロキシラジカル発生手段 ２０ 処理槽 ２１ オゾン発生機 ２２ 散気管 ２３ オゾン（Ｏ₃ ） ２４ 紫外線照射ランプ（ＵＶランプ） ３１ａ 配管 ３１ｂ ポンプ ３１ オゾン回収手段 ３２オゾン溶解槽 ３３ａ 配管 ３３ｂ ポンプ ３３ 循環手段 ４１ 紫外線照射ランプ ４２ 処理槽 ４３ 散気管 ４４ オゾン発生器 ４５ Ｏ₃ 含有気泡 ４６ 恒温槽 ４７ スターラ４７ ４８ 攪拌機 ４９ ＵＶカバー ５１ 界面活性剤 ５２ 攪拌手段 ５３ 攪拌槽 ５４ 固液分離槽 ５５ 超音波発生槽

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０２ Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０２Ｐ ５０２Ｄ ５０２Ｈ ５０２Ｒ ５０２Ｎ ５０３ ５０３Ｃ ５０４ ５０４Ａ (72)発明者 浅野 昌道 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地１ 三菱重工業株式会社横浜研究所内 (72)発明者 青木 泰道 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地１ 三菱重工業株式会社横浜研究所内 (72)発明者 橋爪 隆夫 神奈川県横浜市中区錦町12番地 三菱重工 業株式会社横浜製作所内 Ｆターム(参考） 4D037 AA11 AB01 AB02 AB05 AB12 AB14 BA18 BA26 BB04 BB05 BB08 CA01 CA02 CA03 CA07 CA08 CA11 CA12 4D038 AA08 AB03 AB07 AB12 AB14 AB28 BA02 BA04 BB04 BB06 BB07 BB16 BB17 BB18 BB19 BB20 4D050 AA12 AB03 AB07 AB11 AB17 AB19 AB34 AB35 BB02 BB09 BC09 BC10 BD02 BD03 BD04 BD06 CA04 CA06 CA09 CA15 CA16 CA17 CA20

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 排水中の有機物，窒素成分，ＳＳ成分，
   着色成分を除去した後に、該排水中にヒドロキシラジカ
   ル存在の下で、該排水中の難分解物質を分解処理するこ
   とを特徴とする有害物質処理方法。
2. 【請求項２】 排水中に界面活性剤を添加し、ＳＳ成分
   に吸着している難分解物質を脱着させ、該排水中に脱着
   された難分解物質をヒドロキシラジカル存在の下で分解
   処理し、その後固液分離することを特徴とする有害物質
   処理方法。
3. 【請求項３】 排水中に超音波を発生し、ＳＳ成分に吸
   着している難分解物質を脱着させ、該排水中に脱着され
   た難分解物質をヒドロキシラジカル存在の下で分解処理
   し、その後固液分離することを特徴とする有害物質処理
   方法。
4. 【請求項４】 請求項１，２又は３において、 前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、オゾンに
   紫外線ランプにより紫外線を照射することを特徴とする
   有害物質処理方法。
5. 【請求項５】 請求項１，２又は３において、 前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、オゾンと
   過酸化水素とを併用し、紫外線ランプにより紫外線を照
   射することを特徴とする有害物質処理方法。
6. 【請求項６】 請求項１，２又は３において、 前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、過酸化水
   素に紫外線ランプにより紫外線を照射することを特徴と
   する有害物質処理方法。
7. 【請求項７】 請求項１，２又は３において、 前記排水中の難分解物質がダイオキシン類，ポリ塩化ビ
   フェニル類，クロルベンゼン類，クロロフェノール及び
   クロロトルエンから選ばれる少なくとも一種であること
   を特徴とする有害物質処理方法。
8. 【請求項８】 排水中の有機物及びアンモニア体窒素を
   生物学的に分解し、炭酸ガスと硝酸イオンまで酸化する
   酸化・硝化曝気槽と、硝酸イオンを生物学的に窒素ガス
   に還元・除去する脱窒素槽と、排水内の微生物を沈殿分
   離する沈殿槽と、該沈殿処理水に凝集剤を添加し、混和
   させる混和槽と、沈殿槽処理水に含まれる懸濁物質を凝
   集沈殿させる凝集沈殿塔と、微量ＳＳ成分を除去する砂
   濾過塔と、排水中の着色成分を除去する活性炭吸着塔
   と、排水中にヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシ
   ラジカル発生手段を有する処理槽とを備えてなることを
   特徴とする有害物質処理装置。
9. 【請求項９】 請求項８において、 処理槽に導入する排水中にリサイクルオゾンを溶解させ
   るオゾン溶解手段を備えたことを特徴とする有害物質処
   理装置。
10. 【請求項１０】 請求項８において、 前記処理槽内の排水を循環させる循環手段を備えたこと
    を特徴とする有害物質処理装置。
11. 【請求項１１】 排水中に界面活性剤を添加して攪拌し
    てＳＳ成分に吸着している難分解物質を脱着する攪拌槽
    と、排水中にヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシ
    ラジカル発生手段を有し、該脱着された難分解物質を分
    解する処理槽と、排水中のＳＳ成分を固液分離する固液
    分離手段とを備えてなることを特徴とする有害物質処理
    装置。
12. 【請求項１２】 超音波発生手段により排水中のＳＳ成
    分に吸着している難分解物質を脱着する超音波発生槽
    と、排水中にヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシ
    ラジカル発生手段を有し、該脱着された難分解物質を分
    解する処理槽と、排水中のＳＳ成分を固液分離する固液
    分離手段とを備えてなることを特徴とする有害物質処理
    装置。