JP2000194016A - Multidomain liquid crystal display element - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に関す
るものであって、特に、ゲート配線と同一層で画素領域
を囲むように共通補助電極を形成して電界を歪曲させる
マルチドメイン液晶表示素子(multi-domain liquid cry
stal display device)に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a multi-domain liquid crystal display device in which a common auxiliary electrode is formed in the same layer as a gate wiring so as to surround a pixel region, thereby distorting an electric field. multi-domain liquid cry
stal display device).
【0002】[0002]
【従来の技術】最近、液晶を配向することなく、画素電
極と電気的に絶縁されている補助電極により液晶を駆動
する液晶表示素子が提案されている。図1は、従来の液
晶表示素子の単位画素の断面図である。2. Description of the Related Art Recently, there has been proposed a liquid crystal display device in which a liquid crystal is driven by an auxiliary electrode which is electrically insulated from a pixel electrode without aligning the liquid crystal. FIG. 1 is a sectional view of a unit pixel of a conventional liquid crystal display device.
【0003】従来の液晶表示素子は、第1基板及び第2
基板を具備し、第1基板上には、縦横に形成されて第1
基板を複数の画素領域に分ける複数のデータ配線及びゲ
ート配線と、前記画素領域の各々に形成され、ゲート電
極、ゲート絶縁膜、半導体層、オーミッコンタクト層(O
hmic contact layer)及びソース/ドレイン電極などか
ら構成されている薄膜トランジスタ(Thin Film Transi
stor ; TFT)と、前記第1基板全体にわたって形成され
た保護膜(37)と、この保護膜(37)上からドレイン電
極に連結するように形成された画素電極(13)と、前記
ゲート絶縁膜上に画素電極(13)の一部と重なるように
形成された補助電極(21)とが設けられている。A conventional liquid crystal display device comprises a first substrate and a second substrate.
A substrate is provided on the first substrate, and the first
A plurality of data lines and gate lines for dividing the substrate into a plurality of pixel regions; and a gate electrode, a gate insulating film, a semiconductor layer, an ohmic contact layer (O
hmic contact layer) and thin film transistors (Thin Film Transi
stor; TFT), a protective film (37) formed over the entire first substrate, a pixel electrode (13) formed on the protective film (37) so as to be connected to the drain electrode, and the gate insulating film. An auxiliary electrode (21) is provided on the film so as to overlap a part of the pixel electrode (13).
【0004】また、前記第2基板上には、前記ゲート配
線、データ配線及び薄膜トランジスタから漏洩する光を
遮断する遮光層(25)と、前記遮光層(25)上に形成さ
れているカラーフィルター層(23)と、前記カラーフィ
ルター層(23)上に形成されている共通電極(17)と、
第1基板と第2基板との間に形成されている液晶層とが
設けられている。Further, a light-shielding layer (25) for blocking light leaking from the gate wiring, the data wiring and the thin film transistor, and a color filter layer formed on the light-shielding layer (25) are provided on the second substrate. (23), a common electrode (17) formed on the color filter layer (23),
A liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate is provided.
【0005】画素電極(13)の周りに形成されている補
助電極(21)と共通電極(17)のオープン領域(27)
は、前記液晶層に印加される電場を歪曲させて単位画素
内で液晶分子を多様に駆動する。これは、前記液晶表示
素子に電圧を印加すると、歪曲した電場による誘電エネ
ルギーによって、液晶の方向子が所望の方向に向けられ
ることを意味している。The open area (27) between the auxiliary electrode (21) formed around the pixel electrode (13) and the common electrode (17)
The liquid crystal panel drives the liquid crystal molecules in a unit pixel by distorting an electric field applied to the liquid crystal layer. This means that when a voltage is applied to the liquid crystal display element, the director of the liquid crystal is directed in a desired direction by the dielectric energy due to the distorted electric field.
【0006】しかし、このような従来の液晶表示素子
は、マルチドメイン効果を得るために、共通電極(17)
にオープン領域(27)を設ける必要があり、このため、
液晶表示素子の製造工程中に、共通電極(17)をパター
ニングする工程を追加しなければならない。また、前記
オープン領域がないものや、その幅が狭いものは、ドメ
イン分割に必要な電場の歪曲程度が弱いので、液晶の方
向子(director)が安定な状態に至る時間が、相対的に長
くなるという問題点がある。[0006] However, such a conventional liquid crystal display element requires a common electrode (17) to obtain a multi-domain effect.
Must have an open area (27),
During the manufacturing process of the liquid crystal display element, a step of patterning the common electrode (17) must be added. In addition, those having no open area and those having a narrow width have a relatively low electric field distortion degree required for domain division, and thus the time required for the director of the liquid crystal to become stable is relatively long. There is a problem that becomes.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記従来技術
の問題点に鑑みてなされたものであって、ゲート配線と
同一層で画素領域を囲むように共通補助電極を形成し、
工程を単純化してマルチドメイン効果を発揮するマルチ
ドメイン液晶表示素子を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has a common auxiliary electrode formed so as to surround a pixel region in the same layer as a gate wiring.
It is an object of the present invention to provide a multi-domain liquid crystal display device which simplifies the process and exhibits a multi-domain effect.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明によるマルチドメイン液晶表示素子は、対向
する第1基板及び第2基板と、該第1基板と第2基板と
の間に形成た液晶層と、前記第1基板上に縦横に形成さ
れて画素領域を定義する複数のゲート配線及びデータ配
線と、前記画素領域内に一体に形成された画素電極と、
前記ゲート配線と同一層に形成され、前記画素領域を囲
むように形成された共通補助電極と、前記第1基板全体
に形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に第1
基板全体に形成された保護膜と、前記第2基板上に形成
された遮光層と、該遮光層上に形成されたカラーフィル
ター層と、該カラーフィルター層上に形成された共通電
極と、前記第1基板及び第2基板の少なくとも一方の基
板上に形成された配向膜からなる。In order to achieve the above object, a multi-domain liquid crystal display device according to the present invention comprises a first substrate and a second substrate opposed to each other, and a space between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal layer, a plurality of gate lines and data lines formed vertically and horizontally on the first substrate to define a pixel region, and a pixel electrode integrally formed in the pixel region,
A common auxiliary electrode formed in the same layer as the gate line and surrounding the pixel region; a gate insulating film formed on the entire first substrate;
A protective film formed on the entire substrate, a light-shielding layer formed on the second substrate, a color filter layer formed on the light-shielding layer, a common electrode formed on the color filter layer, An alignment film is formed on at least one of the first substrate and the second substrate.
【0009】前記マルチドメイン液晶表示素子は、前記
保護膜の下から前記画素電極に連結され、前記ゲート配
線又は共通補助電極とオーバラップするように形成され
ているストレージ電極とをさらに含んでいてもよい。前
記液晶は、陽又は陰の誘電率の異方性を有する液晶であ
り、液晶層はカイラルドパントを含む。The multi-domain liquid crystal display device may further include a storage electrode connected to the pixel electrode from below the protective film and formed to overlap the gate line or a common auxiliary electrode. Good. The liquid crystal has a positive or negative dielectric anisotropy, and the liquid crystal layer includes a chiral dopant.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明によ
るマルチドメイン液晶表示素子を詳細に説明する。図2
及び図3は本発明の第1実施形態によるマルチドメイン
液晶表示素子の平面図であり、図4は前記図2の線I−
I′による断面図、図5〜図8は前記図2の線II-II′
による断面図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a multi-domain liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG.
3 is a plan view of the multi-domain liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention, and FIG.
5 to 8 are sectional views taken along line II-II 'in FIG.
FIG.
【0011】図5〜図8に示したように、本発明のマル
チドメイン液晶表示素子は、第1基板(31)及び第2基
板(33)を具備している。前記第1基板(31)上には、縦
横に形成されて該第1基板(31)を複数の画素領域に分け
る複数のデータ配線(3)及びゲート配線(1)と、該ゲ
ート配線(1)と同一層に形成されて電界を歪曲させる共
通補助電極(15)と、第1基板(31)上の画素領域の各々
に形成され、ゲート電極(11)、ゲート絶縁膜(35)、
半導体層(5)、オーミッコンタクト層及びソース/ド
レイン電極(7, 9)などからなる薄膜トランジスタと、
前記第1基板(31)全体に形成された保護膜(37)と、該
保護膜(31)上に配置され前記ドレイン電極(9)に連結
された画素電極(13)とが設けられている。As shown in FIGS. 5 to 8, the multi-domain liquid crystal display device of the present invention includes a first substrate (31) and a second substrate (33). A plurality of data lines (3) and a gate line (1) formed vertically and horizontally on the first substrate (31) to divide the first substrate (31) into a plurality of pixel regions; A) a common auxiliary electrode (15) formed in the same layer as in (1) and distorting the electric field; and a gate electrode (11), a gate insulating film (35) formed in each of the pixel regions on the first substrate (31).
A thin film transistor including a semiconductor layer (5), an ohmic contact layer, and source / drain electrodes (7, 9);
A protective film (37) formed on the entire first substrate (31) and a pixel electrode (13) disposed on the protective film (31) and connected to the drain electrode (9) are provided. .
【0012】前記第2基板(33)上には、ゲート配線
(1)、データ配線(3)及び薄膜トランジスタから漏洩
する光を遮断する遮光層(25)と、該遮光層(25)上に
形成されたカラーフィルター層(23)と、該カラーフィ
ルター層上に形成された共通電極(17)と、第1基板(3
1)と第2基板(33)との間に形成された液晶層とが設けら
れている。On the second substrate (33), a light-shielding layer (25) for blocking light leaking from the gate wiring (1), the data wiring (3) and the thin film transistor, and formed on the light-shielding layer (25). The color filter layer (23), the common electrode (17) formed on the color filter layer, and the first substrate (3).
A liquid crystal layer formed between 1) and the second substrate (33) is provided.
【0013】このような構造のマルチドメイン液晶表示
素子を製造するためには、まず、第1基板(31)の画素領
域の各々にゲート電極(11)、ゲート絶縁膜(35)、半
導体層(5)、オーム接触層及びソース/ドレイン電極
(7,9)からなる薄膜トランジスタを形成する。この際
に、第1基板を複数の画素領域に分ける複数のゲート配
線(1)及びデータ配線(3)が形成される。In order to manufacture a multi-domain liquid crystal display device having such a structure, first, a gate electrode (11), a gate insulating film (35), a semiconductor layer ( 5) Form a thin film transistor comprising an ohmic contact layer and source / drain electrodes (7, 9). At this time, a plurality of gate lines (1) and data lines (3) for dividing the first substrate into a plurality of pixel regions are formed.
【0014】前記ゲート電極(11)、ゲート配線(1)
は、Al, Mo, Cr, Ta又はAl合金などのような金属をスパ
ッタリング方法で積層した後、パターニングして形成
し、同時に、共通補助電極(15)を、画素領域を囲むよ
うに形成する。その上にゲート絶縁膜(35)をSiNx又は
SiOxをプラズマCVD方法(PECVD)で積層した後、パター
ニングして形成する。次いで、半導体層(5)及びオー
ミッコンタクト層は、各々a-Si及びn+a-SiをプラズマCV
D方法で積層した後、パターニングして形成する。ま
た、他の方法には、ゲート絶縁膜(35)、a-Si及びn+a-
SiをプラズマCVD法によって連続蒸着してパターニング
する。その後、Al, Mo, Cr, Ta又はAl合金などのような
金属をスパッタリング方法で積層した後に、データ配線
(3)及びソース/ドレイン電極(7,9)をパターニン
グによって形成する。The gate electrode (11) and the gate wiring (1)
Is formed by laminating a metal such as Al, Mo, Cr, Ta or an Al alloy by a sputtering method and then patterning the same, and at the same time, forming a common auxiliary electrode (15) so as to surround the pixel region. A gate insulating film (35) is formed thereon by SiNx or
After laminating SiOx by a plasma CVD method (PECVD), it is formed by patterning. Next, the semiconductor layer (5) and the ohmic contact layer are formed by a-Si and n + a-Si, respectively, by plasma CV.
After lamination by the method D, it is formed by patterning. Other methods include a gate insulating film (35), a-Si and n + a-
Si is continuously deposited by plasma CVD and patterned. Then, after laminating a metal such as Al, Mo, Cr, Ta or an Al alloy by a sputtering method, the data wiring (3) and the source / drain electrodes (7, 9) are formed by patterning.
【0015】この際に、ストレージ電極(43)を、前記
ゲート配線(1)及び/又は共通補助電極(15)とオー
バラップするように同時に形成する。このストレージ電
極(43)は前記ゲート配線(1)及び/又は共通補助電
極(15)とともにストレージコンデンサーの役割を果た
す。At this time, the storage electrode (43) is simultaneously formed so as to overlap the gate wiring (1) and / or the common auxiliary electrode (15). The storage electrode (43) plays a role of a storage capacitor together with the gate wiring (1) and / or the common auxiliary electrode (15).
【0016】次いで、第1基板(31)全体にかけてベン
ゾシクロブテン(BCB:BenzoCycloButene)、アクリル樹
脂, ポリイミド化合物、SiNx又はSiOxなどの物質からな
る保護膜(37)を形成し、酸化錫インジウム(ITO:ind
ium tin oxide), Al又はCrなどのような金属をスパッタ
リング方法で積層してからパターニングして画素電極
(13)を形成する。該画素電極(13)はコンタクトホー
ル(39)を通して前記ドレイン電極(9)及びストレー
ジ電極(43)に連結される。Next, a protective film (37) made of a substance such as benzocyclobutene (BCB: BenzoCycloButene), an acrylic resin, a polyimide compound, SiNx or SiOx is formed on the entire first substrate (31), and the indium tin oxide (ITO) is formed. : Ind
A pixel electrode (13) is formed by laminating a metal such as ium tin oxide), Al or Cr by a sputtering method and then patterning. The pixel electrode (13) is connected to the drain electrode (9) and the storage electrode (43) through a contact hole (39).
【0017】前記共通補助電極(15)は、前記ゲート配
線(1)と同一物質を用いて形成する場合には、同一の
マスクで前記ゲート配線(1)と同一層に形成して前記
共通電極(17)と電気的に連結する。これに代えて、追
加のマスクを用いて他の金属で構成するか、互いに異な
る二重の層に構成することもできる。When the common auxiliary electrode (15) is formed using the same material as the gate wiring (1), the common auxiliary electrode (15) is formed in the same layer as the gate wiring (1) using the same mask and It is electrically connected to (17). Alternatively, it can be made of another metal with an additional mask or in two different layers.
【0018】第2基板(33)上には遮光層(25)を形成
し、R, G, B(Red, Green, Blue)素子が画素ごとに繰り
返されるようにカラーフィルター層(23)を形成する。
このカラーフィルター層(23)上に感光性物質を積層し
た後、フォトリソグラフィでパターニングし、様々の形
状に誘電体構造物(53)を形成する。次いで、共通電極
(17)を画素電極(13)と同様にITOなどのような透明
電極から形成し、それから前記第1基板(31)と第2基
板(33)との間に液晶を注入することによって、マルチ
ドメイン液晶表示素子を完成する。A light-shielding layer (25) is formed on the second substrate (33), and a color filter layer (23) is formed so that R, G, and B (Red, Green, Blue) elements are repeated for each pixel. I do.
After laminating a photosensitive substance on the color filter layer (23), it is patterned by photolithography to form a dielectric structure (53) in various shapes. Next, the common electrode (17) is formed of a transparent electrode such as ITO like the pixel electrode (13), and then liquid crystal is injected between the first substrate (31) and the second substrate (33). Thus, a multi-domain liquid crystal display device is completed.
【0019】前記誘電体構造物(53)を構成する物質
は、前記液晶層の誘電率と同一か、またはそれよりも小
さな誘電率を有しているものがよく、3以下であること
が好ましく、その例として、アクリル(photoacrylate)
又はBCBのような物質をあげることができる。The substance constituting the dielectric structure (53) preferably has a dielectric constant equal to or smaller than that of the liquid crystal layer, and is preferably 3 or less. , As an example, acrylic (photoacrylate)
Or a substance such as BCB.
【0020】前記共通補助電極(15)に電圧(Vcom)を印
加する方法は、第1基板(31)上で液晶表示素子の駆動
領域の各角にAgドッディング(Ag-Dotting)部を形成
することによって、第2基板(33)に電界を印加して上
下の電位差により液晶を駆動させる。前記各角のAgド
ッティング部と共通補助電極(15)とに連結して電圧(V
com)を印加し、その工程は前記共通補助電極(15)を形
成することと同時に行われる。In the method of applying the voltage (Vcom) to the common auxiliary electrode (15), an Ag-Dotting portion is formed at each corner of the driving area of the liquid crystal display element on the first substrate (31). Thus, an electric field is applied to the second substrate (33), and the liquid crystal is driven by the upper and lower potential differences. The voltage (V) is connected to the Ag dotting part of each corner and the common auxiliary electrode (15).
com), and the process is performed simultaneously with the formation of the common auxiliary electrode (15).
【0021】さらに、前記第1基板(31)又は第2基板
(33)の少なくとも一方の基板上に、高分子を延伸して
位相差のフィルム(29)を形成する。Further, a polymer is stretched on at least one of the first substrate (31) and the second substrate (33) to form a retardation film (29).
【0022】前記位相差のフィルム(29)は、光軸が一
つの一軸性物質から構成された、陰性の一軸性フィルム
(negative uniaxial film)であり、基板に垂直な方向と
視野角の変化による方向から使用者が感じる位相差を補
償する役割を果たす。したがって、階調反転(gray inve
rsion)の無い領域を広め、傾斜方向からコントラスト比
(contrast ratio)を高め、一つの画素をマルチドメイン
に形成することにより、一層効果的に左右方向の視野角
を補償することができる。The retardation film (29) is a negative uniaxial film having a single optical axis composed of a uniaxial substance.
(negative uniaxial film), which plays a role of compensating a phase difference felt by a user from a direction perpendicular to the substrate and a direction due to a change in viewing angle. Therefore, the grayscale inversion (gray inve
rsion), and expand the contrast ratio from the tilt direction.
By increasing the (contrast ratio) and forming one pixel in a multi-domain, the viewing angle in the left-right direction can be more effectively compensated.
【0023】本発明のマルチドメイン液晶表示素子にお
いて、前記陰性の一軸性フィルム以外に、位相差のフィ
ルムとして陰性の二軸性フィルム(negative biaxial fi
lm)を形成してもよい。光軸が二つの二軸性物質から構
成される陰性の二軸性フィルムは、前記一軸性フィルム
に比べて、広い視野角(viewing angle)特性を得ること
ができる。また、前記位相差フィルムを付着した後に、
両基板に偏光子(polarizer)(図示せず)を付着しても
よく、この場合には、前記偏光子は前記位相差フィルム
と一体に形成してもよい。In the multi-domain liquid crystal display device of the present invention, in addition to the negative uniaxial film, a negative biaxial film is used as a retardation film.
lm). A negative biaxial film having an optical axis composed of two biaxial materials can obtain a wider viewing angle characteristic than the uniaxial film. Also, after attaching the retardation film,
A polarizer (not shown) may be attached to both substrates, and in this case, the polarizer may be formed integrally with the retardation film.
【0024】図2に示したマルチドメイン液晶表示素子
は、画素電極(13)を遮光層(25)および共通補助電極
(15)とオーバラップするように形成することによって
高い開口率を有している。ストレージ電極(43)は、ゲ
ート配線(1)とオーバラップしてストレージコンデン
サーを形成している。前記ストレージ電極(43)と前記
共通補助電極(15)とをオーバラップするように形成す
ることもできる。The multi-domain liquid crystal display element shown in FIG. 2 has a high aperture ratio by forming the pixel electrode (13) so as to overlap with the light shielding layer (25) and the common auxiliary electrode (15). I have. The storage electrode (43) overlaps with the gate wiring (1) to form a storage capacitor. The storage electrode (43) and the common auxiliary electrode (15) may be formed to overlap.
【0025】図5及び図6は、前記共通電極(17)上に
誘電体構造物(53)を形成した実施形態であり、図7及
び図8は、前記共通電極(17)内に電界誘導窓(51)を
形成した実施形態である。また、図5及び図7は、前記
保護膜(37)をSiNx又はSiOxのような物質から形成した
実施形態であり、図6及び図8は、BCB, アクリル樹脂
(acrylic resin)又はポリイミド化合物から形成して平
坦化した実施形態である。FIGS. 5 and 6 show an embodiment in which a dielectric structure (53) is formed on the common electrode (17). FIGS. 7 and 8 show an electric field induction in the common electrode (17). This is an embodiment in which a window (51) is formed. FIGS. 5 and 7 show embodiments in which the protective film (37) is formed from a material such as SiNx or SiOx. FIGS. 6 and 8 show BCB and acrylic resin.
(Acrylic resin) or a polyimide compound to form a flattened embodiment.
【0026】図9及び図10は、本発明の第2実施形態
によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、図
11及び12は、図10の線III-III′による断面図で
あり、図13〜16は、図9の線IV-IV′による断面図
である。FIGS. 9 and 10 are plan views of a multi-domain liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention, and FIGS. 11 and 12 are cross-sectional views taken along line III-III 'of FIG. 13 to 16 are sectional views taken along line IV-IV 'in FIG.
【0027】図11〜16において、画素電極(13)は
共通補助電極(15)とオーバラップしておらず、遮光層
(25)は前記画素電極(13)とオーバラップするように
形成されている。この際、前記共通補助電極(15)上に
形成されているゲート絶縁膜(35)と保護膜(37)とを
除去して、画素電極(13)に印加される共通補助電極
(15)の電界を強くすれば、この共通補助電極(15)と
画素電極(13)とが同一の平面にあるものと同様な効果
を得ることができる。図11は共通補助電極(15)の一
部分が露出するようにゲート絶縁膜(35)と保護膜(3
7)とを除去した構造であり、図12は共通補助電極(1
5)が完全に露出するようにした構造である。In FIGS. 11 to 16, the pixel electrode (13) does not overlap with the common auxiliary electrode (15), and the light shielding layer (25) is formed so as to overlap with the pixel electrode (13). I have. At this time, the gate insulating film (35) and the protective film (37) formed on the common auxiliary electrode (15) are removed, and the common auxiliary electrode (15) applied to the pixel electrode (13) is removed. If the electric field is increased, the same effect can be obtained as when the common auxiliary electrode (15) and the pixel electrode (13) are on the same plane. FIG. 11 shows the gate insulating film (35) and the protective film (3) so that a part of the common auxiliary electrode (15) is exposed.
FIG. 12 shows a common auxiliary electrode (1).
5) is a structure that is completely exposed.
【0028】ストレージ電極(43)はゲート配線(1)
とオーバラップしてストレージコンデンサーを形成して
いる。前記ストレージ電極(43)を前記共通補助電極
(15)とオーバラップするように形成することもでき
る。The storage electrode (43) is a gate wiring (1)
Overlaps with to form a storage capacitor. The storage electrode (43) may be formed to overlap the common auxiliary electrode (15).
【0029】図13及び図14は、前記共通電極(17)
上に誘電体構造物(53)を形成した実施形態であり、図
15及び図16は、前記共通電極(17)内に電界誘導窓
(51)を形成した実施形態である。また、図13及び図
15は、前記保護膜(37)をSiNx又はSiOxのような物質
から形成した実施形態であり、図14及び図16は、BC
B, アクリル樹脂又はポリイミド化合物から形成して平
坦化した実施形態である。FIGS. 13 and 14 show the common electrode (17).
15 and 16 show an embodiment in which an electric field induction window (51) is formed in the common electrode (17). 13 and 15 show embodiments in which the protective film (37) is formed from a material such as SiNx or SiOx, and FIGS.
B, an embodiment formed from an acrylic resin or a polyimide compound and flattened.
【0030】図17は、本発明の第3実施形態によるマ
ルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、図18は図
17の線V-V′による断面図であり、図19〜図22
は、図17の線VI-VI′による断面図である。FIG. 17 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention. FIG. 18 is a sectional view taken along line VV 'in FIG.
17 is a sectional view taken along line VI-VI 'in FIG.
【0031】これらの実施形態の液晶表示素子は、上下
一対の画素電極(13)等を、ストレージ電極(43)を共有
する共通補助電極(15)上に形成した構造であって、図
2〜図8に示した液晶表示素子より開口率を向上させる
ことができる。また、画素電極(13)を共通補助電極
(15)とオーバラップするように形成し、遮光層(25)
を前記共通補助電極とオーバラップさせ、ストレージ電
極(43)が共通補助電極(15)とストレージコンデンサ
ーを形成している。The liquid crystal display device of these embodiments has a structure in which a pair of upper and lower pixel electrodes (13) and the like are formed on a common auxiliary electrode (15) sharing a storage electrode (43). The aperture ratio can be improved as compared with the liquid crystal display element shown in FIG. Further, the pixel electrode (13) is formed so as to overlap with the common auxiliary electrode (15), and the light-shielding layer (25)
Overlap with the common auxiliary electrode, and the storage electrode (43) forms a storage capacitor with the common auxiliary electrode (15).
【0032】図19及び図20は、前記共通電極(17)
上に誘電体構造物(53)を形成した実施形態であり、図
21及び図22は、前記共通電極(17)内に電界誘導窓
(51)を形成した実施形態である。また、図19及び図
21は、前記ゲート/データ配線(1),(3)及び薄膜
トランジスタ上に遮光層(25)を形成した実施形態であ
り、図20及び図22は、薄膜トランジスタ上にのみ遮
光層(25)を形成した実施形態である。FIGS. 19 and 20 show the common electrode (17).
21 and 22 show an embodiment in which a dielectric structure (53) is formed thereon, and FIGS. 21 and 22 show embodiments in which an electric field induction window (51) is formed in the common electrode (17). 19 and 21 show an embodiment in which a light-shielding layer (25) is formed on the gate / data wirings (1) and (3) and the thin-film transistor. FIGS. 20 and 22 show light-shielding only on the thin-film transistor. This is an embodiment in which a layer (25) is formed.
【0033】図23及び図24は、本発明の第4実施形
態によるマルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、
図25及び図26は、図24の線VII-VII′による断面
図である。FIGS. 23 and 24 are plan views of a multi-domain liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.
FIGS. 25 and 26 are cross-sectional views taken along line VII-VII 'of FIG.
【0034】前記液晶表示素子は、次のような部分を除
いては、同一に構成されている。画素電極(13)と共通
補助電極(15)とがオーバラップしていない一方、遮光
層(25)は前記画素電極(13)とオーバラップするよう
に形成されている。ここで、前記共通補助電極(15)上
に形成されているゲート絶縁膜と保護膜とを除去し、画
素電極(13)に印加される共通補助電極(15)の電界を
強くすることにより、前記共通補助電極(15)と画素電
極(13)が同一平面上にあるものと同様な効果を得るこ
とができる。図25は、共通補助電極の一部分が露出す
るようにゲート絶縁膜(35)と保護膜(37)とを除去し
た構造であり、図26は、共通補助電極(15)が完全に
露出するようにした構造である。The liquid crystal display elements have the same configuration except for the following parts. The pixel electrode (13) does not overlap with the common auxiliary electrode (15), while the light-shielding layer (25) is formed so as to overlap with the pixel electrode (13). Here, by removing the gate insulating film and the protective film formed on the common auxiliary electrode (15) and increasing the electric field of the common auxiliary electrode (15) applied to the pixel electrode (13), The same effect can be obtained as when the common auxiliary electrode (15) and the pixel electrode (13) are on the same plane. FIG. 25 shows a structure in which the gate insulating film (35) and the protective film (37) are removed so that a part of the common auxiliary electrode is exposed. FIG. 26 shows a structure in which the common auxiliary electrode (15) is completely exposed. The structure is
【0035】図27は、本発明の第5実施形態によるマ
ルチドメイン液晶表示素子の平面図であり、図28は図
27の線VIII-VIII′による断面図である。この第5実
施形態は、高開口率の薄膜トランジスタ構造であって、
トランジスタ以外は本発明の第2実施形態と同一であ
り、共通補助電極(15)上にもストレージ電極(43)を
形成し、ストレージコンデンサを拡張させる効果を得る
ことができる。前記共通補助電極(15)と画素電極(1
3)とをオーバラップさせた構造も可能である。FIG. 27 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention, and FIG. 28 is a sectional view taken along line VIII-VIII 'of FIG. The fifth embodiment has a high aperture ratio thin film transistor structure,
The configuration other than the transistor is the same as that of the second embodiment of the present invention. The storage electrode (43) is also formed on the common auxiliary electrode (15), and the effect of expanding the storage capacitor can be obtained. The common auxiliary electrode (15) and the pixel electrode (1
3) is also possible.
【0036】図29は、本発明の第6実施形態によるマ
ルチドメイン液晶表示素子の平面図である。この第6実
施形態は、高開口率のL字薄膜トランジスタ(L-lined T
hin Film Transistor)構造であって、トランジスタ以外
は本発明の第4実施形態と同一であり、前記共通補助電
極(15)と画素電極(13)とをオーバラップさせた構造
も可能である。FIG. 29 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention. In the sixth embodiment, an L-shaped thin film transistor (L-lined T) having a high aperture ratio is used.
A hin film transistor is the same as the fourth embodiment of the present invention except for the transistor, and a structure in which the common auxiliary electrode (15) and the pixel electrode (13) overlap is also possible.
【0037】前記L字TFTはゲート配線(1)上にL字形状
にTFTを形成することによって、前述した他の実施形態
等に比べて、開口率を向上する効果があり、ゲート配線
(1)とドレイン電極(9)との間で発生する寄生容量を
減らすことができる。The L-shaped TFT has an effect of improving the aperture ratio by forming an L-shaped TFT on the gate wiring (1) as compared with the above-described other embodiments and the like. ) And the drain capacitance (9) can be reduced.
【0038】図30〜図36は、本発明の一実施形態に
よる様々な電界誘導窓又は誘電体構造物を示す図面であ
る。本発明のマルチドメイン液晶表示素子は、前記画素
電極及び/又は共通電極上に誘電体構造物(53)を形成
するか、前記画素電極、保護膜、ゲート絶縁膜、カラー
フィルター層、オーバーコート層及び/又は共通電極を
パターニングし、その内部にホール又はスリットのよう
な電界誘導窓(51)を形成することによって電界歪曲と
いう効果及びマルチドメインを発揮する。FIGS. 30 to 36 are views showing various electric field induction windows or dielectric structures according to an embodiment of the present invention. In the multi-domain liquid crystal display device of the present invention, a dielectric structure (53) may be formed on the pixel electrode and / or the common electrode, or the pixel electrode, the protective film, the gate insulating film, the color filter layer, and the overcoat layer may be formed. By patterning the common electrode and / or forming an electric field induction window (51) such as a hole or a slit therein, the effect of electric field distortion and multi-domain can be exhibited.
【0039】前記電界誘導窓(51)又は誘電体構造物
(53)は、横方向、縦方向又は両対角線方向に細長くパ
ターニングして2ドメインに分割した効果を出すか、×
形状、+ 形状、菱形状、くし目の形状、ダブルY(図
36)の形状及び ×と+形状を同時にパターニングし
て4ドメイン及びマルチドメインに分割した効果を発揮
し、前記第1及び第2基板の内で、少なくとも一方の基
板上に形成するか、両基板上に独立的に又は混用して適
用することも可能である。The electric field guiding window (51) or the dielectric structure (53) may be elongated in the horizontal direction, the vertical direction or both diagonal directions to obtain an effect of dividing into two domains,
The shape, the + shape, the diamond shape, the comb shape, the shape of the double Y (FIG. 36) and the × and + shapes are simultaneously patterned to exhibit the effect of dividing into four domains and multi-domains. Among the substrates, it is also possible to form them on at least one substrate, or to apply them independently or mixedly on both substrates.
【0040】さらに、本発明のマルチドメイン液晶表示
素子では、前記第1基板及び/又は第2基板全体にわた
って、配向膜(図示せず)を形成している。ここで、前
記配向膜を構成する配向物質としては、ポリアミド又は
ポリイミド系化合物、ポリビニルアルコール, ポリアミ
ド酸又はSiO2などの物質を用いている。この配向物質
は、ラビング法を用いて配向方向を決定する場合、その
他のラビング処理に適宜な物質であるなら、いかなるも
のであっても適用可能である。Further, in the multi-domain liquid crystal display device of the present invention, an alignment film (not shown) is formed over the entire first substrate and / or the second substrate. Here, as the alignment material constituting the alignment film, a material such as a polyamide or polyimide compound, polyvinyl alcohol, polyamic acid, or SiO 2 is used. When the orientation direction is determined using a rubbing method, any substance can be used as long as it is a substance suitable for other rubbing treatments.
【0041】また、前記配向膜を光反応性のある物質、
即ち、ポリビニルシンナメート(PVCN:polyvinylcinna
mate), ポリシロキサンシンナメート(PSCN:polysilox
anecinnamate),又はセルロースシンナメート(CelCN:c
ellulosecinnamate)系化合物などの物質から構成して光
配向膜を形成することもでき、その他の光配向処理に適
宜な物質であるなら、いかなるものであっても適用可能
である。前記光配向膜には、光を少なくとも1回照射
し、液晶分子の方向子が成すプリチルト角(pretilt ang
le)及び配向方向(alignment direction)又はプリチルト
方向(pretilt direction)を同時に決定し、それによる
液晶の配向安定性を確保する。このような光配向に用い
られる光は、紫外線領域の光が適しており、非偏光、線
偏光及び部分偏光された光のいずれを用いてもよい。Further, the alignment film is made of a photoreactive substance,
That is, polyvinyl cinnamate (PVCN: polyvinylcinna
mate), polysiloxane cinnamate (PSCN: polysilox
anecinnamate) or cellulose cinnamate (CelCN: c
The photo-alignment film can also be formed from a material such as an ellulosecinnamate) compound, and any other material can be used as long as it is a material suitable for other photo-alignment treatments. The photo-alignment film is irradiated with light at least once, and a pretilt angle (pretilt angle) formed by a director of liquid crystal molecules is formed.
le) and an alignment direction or a pretilt direction are simultaneously determined, thereby ensuring alignment stability of the liquid crystal. The light used for such optical alignment is preferably light in the ultraviolet region, and any of unpolarized light, linearly polarized light, and partially polarized light may be used.
【0042】前記ラビング法又は光配向法は、第1基板
又は第2基板のいずれかの基板のみに適用するか、これ
らの基板の両方に適用してもよく、両基板に互いに異な
る配向処理をするか、配向膜のみを形成し、配向処理を
しないことも可能である。The rubbing method or the photo-alignment method may be applied to only one of the first substrate and the second substrate, or may be applied to both of these substrates. Alternatively, it is also possible to form only the alignment film and not perform the alignment treatment.
【0043】また、前記配向処理をすることによって、
少なくとも二つの領域に分割されたマルチドメイン液晶
表示素子を形成し、液晶層の液晶分子が各領域上で互い
に異なる方向に配向することができる。即ち、各画素を
+形状又は ×形状のように四つの領域に分割するか、
横方向、縦方向又は両対角線方向に分割し、各領域にお
ける各基板の配向処理又は配向方向を異なるように形成
することによって、マルチドメイン効果が発揮される。
分割された領域の内で、少なくとも一つの領域を非配向
の領域にしてもよく、全ての領域を非配向の領域にする
ことも可能である。Further, by performing the alignment treatment,
By forming a multi-domain liquid crystal display element divided into at least two regions, liquid crystal molecules of a liquid crystal layer can be oriented in different directions on each region. That is, each pixel is divided into four regions such as a + shape or a × shape,
The multi-domain effect is exhibited by dividing the substrate in the horizontal direction, the vertical direction, or both diagonal directions, and forming the substrate in each region so that the alignment process or the alignment direction is different.
At least one of the divided regions may be a non-oriented region, or all regions may be non-oriented regions.
【0044】[0044]
【発明の効果】本発明のマルチドメイン液晶表示素子
は、ゲート配線と同一層に画素領域を囲むように共通補
助電極を形成し、電界歪曲を誘導することによって、工
程の単純化するとともに、高開口率を達成し、かつ、マ
ルチドメイン効果を向上する効果がある。また、前記共
通補助電極がゲート配線と同一層にあるので、画素電極
と共通補助電極間の短絡を防止し、歩留りを向上させる
ことができる。According to the multi-domain liquid crystal display device of the present invention, a common auxiliary electrode is formed on the same layer as a gate wiring so as to surround a pixel region, and electric field distortion is induced. This has the effect of achieving an aperture ratio and improving the multi-domain effect. Further, since the common auxiliary electrode is in the same layer as the gate wiring, a short circuit between the pixel electrode and the common auxiliary electrode can be prevented, and the yield can be improved.
【図1】 従来の液晶表示素子の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a conventional liquid crystal display device.
【図2】 本発明の第1実施形態によるマルチドメイン
液晶表示素子の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the multi-domain liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
【図3】 図2の液晶表示素子の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the liquid crystal display device of FIG.
【図4】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。4 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図5】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。5 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図6】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。FIG. 6 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図7】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。7 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図8】 図2の液晶表示素子の縦断面図である。8 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図9】 本発明の第2実施形態によるマルチドメイン
液晶表示素子の平面図である。FIG. 9 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
【図10】 図9の液晶表示素子の平面図である。FIG. 10 is a plan view of the liquid crystal display device of FIG.
【図11】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。11 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図12】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。12 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図13】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。13 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図14】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。14 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図15】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。15 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図16】 図9の液晶表示素子の縦断面図である。16 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図17】 本発明の第3実施形態によるマルチドメイ
ン液晶表示素子の平面図である。FIG. 17 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a third embodiment of the present invention.
【図18】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。18 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図19】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。19 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図20】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。20 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図21】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。21 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図22】 図17の液晶表示素子の縦断面図である。FIG. 22 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図23】 本発明の第4実施形態によるマルチドメイ
ン液晶表示素子の平面図である。FIG. 23 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図24】 図23の液晶表示素子の平面図である。24 is a plan view of the liquid crystal display device of FIG.
【図25】 図23の液晶表示素子の縦断面図である。25 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図26】 図23の液晶表示素子の縦断面図である。26 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図27】 本発明の第5実施形態によるマルチドメイ
ン液晶表示素子の平面図である。FIG. 27 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a fifth embodiment of the present invention.
【図28】 図27の液晶表示素子の縦断面図である。28 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal display device of FIG.
【図29】 本発明の第6実施形態によるマルチドメイ
ン液晶表示素子の平面図である。FIG. 29 is a plan view of a multi-domain liquid crystal display device according to a sixth embodiment of the present invention.
【図30】 本発明の変形例による電界誘導窓又は誘電
体構造物を示す図である。FIG. 30 is a view showing an electric field induction window or a dielectric structure according to a modification of the present invention.
【図31】 図30と同様、他の変形例を示す図であ
る。FIG. 31 is a diagram showing another modified example, similarly to FIG. 30.
【図32】 図30と同様、他の変形例を示す図であ
る。FIG. 32 is a diagram showing another modified example, similarly to FIG. 30.
【図33】 図30と同様、他の変形例を示す図であ
る。FIG. 33 is a diagram showing another modified example, similarly to FIG. 30.
【図34】 図30と同様、他の変形例を示す図であ
る。FIG. 34 is a diagram showing another modified example, similarly to FIG. 30.
【図35】 図30と同様、他の変形例を示す図であ
る。FIG. 35 is a diagram showing another modified example, similarly to FIG. 30.
【図36】 図30と同様、他の変形例を示す図であ
る。FIG. 36 is a diagram showing another modified example, similarly to FIG. 30.
1 ゲート配線 3 データ配線 5 半導体層 7 ソース電極 9 ドレイン電極 11 ゲート電極 13 画素電極 15 共通補助電極 17 共通電極 21 補助電極 23 カラーフィルター層 25 遮光層 27 オープン領域 29 位相差のフィルム 31 第1基板 33 第2基板 35 ゲート絶縁膜 37 保護膜 39 コンタクトホール 43 ストレージ電極 51 電界誘導窓(ホール又はスリット) 53 誘電体構造物 REFERENCE SIGNS LIST 1 gate wiring 3 data wiring 5 semiconductor layer 7 source electrode 9 drain electrode 11 gate electrode 13 pixel electrode 15 common auxiliary electrode 17 common electrode 21 auxiliary electrode 23 color filter layer 25 light shielding layer 27 open area 29 phase difference film 31 first substrate 33 Second substrate 35 Gate insulating film 37 Protective film 39 Contact hole 43 Storage electrode 51 Electric field induction window (hole or slit) 53 Dielectric structure
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヒュン ホ シン 大韓民国 キュンキドー クンポ市 クム ジュン洞 876番地 ユルコクアパート 338−1504 (72)発明者 キョン ジン キム 大韓民国 キュンキドー ブチョン市 ソ ーサ區 ソーサボン3洞 (番地なし) ハンシンアパート 108−1210 (72)発明者 ユン ボク リー 大韓民国 キュンキドー アンヤン市 ド ンガン區 ブフン洞 (番地なし) エウ ンハス−チュンクアパート 107−1702 (72)発明者 ジョム ジェ キム 大韓民国 ソウル ドンダエムン區 ダプ シプリ4洞 42番地 ドンダプ−ハンシン アパート 2−913 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing from the front page (72) Inventor Hyun Ho Shin Korea 876 Kum Jung-dong, Kyun-kido, Kumpo City, Korea 338-1504 Apartment, 338-1504 (72) Inventor Gyeong Jin Kim, Soksa-do, Sossa-dong, Soksa-do, Bukung, Korea Hansin apartment 108-1210 (72) Inventor Yun Bok-ri Korea Dongguk-do, Yangon, Donggan-gu Bukhun-dong (No address) Eunhas-Chunk apartment 107-1702 (72) Inventor Jom Jae Kim South Korea Seoul Dongdaemun 42 Dap Sipuri 4 Dong Dongdapu-Hanshin Apartment 2-913
Claims (31)
と、該第1基板と第2基板との間に形成された液晶層
と、前記第1基板上に縦横に形成されて画素領域を定義
する複数のゲート配線及びデータ配線と、前記画素領域
内に一体に形成された画素電極と、前記ゲート配線と同
一層に形成され、前記画素領域を囲むように形成された
共通補助電極と、前記第1基板全体に形成されたゲート
絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に第1基板全体に形成され
た保護膜と、前記第2基板上に形成された遮光層と、該
遮光層上に形成されたカラーフィルター層と、該カラー
フィルター層上に形成された共通電極と、前記第1基板
及び第2基板の少なくとも一方の基板上に形成された配
向膜とからなるマルチドメイン液晶表示素子。1. A first substrate and a second substrate which are opposed to each other, a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate, and a pixel region formed vertically and horizontally on the first substrate. A plurality of gate wirings and data wirings, a pixel electrode integrally formed in the pixel region, and a common auxiliary electrode formed in the same layer as the gate wiring and formed so as to surround the pixel region. A gate insulating film formed on the entire first substrate, a protective film formed on the entire first substrate on the gate insulating film, a light-shielding layer formed on the second substrate, A multi-domain liquid crystal display device comprising: a color filter layer formed on a substrate; a common electrode formed on the color filter layer; and an alignment film formed on at least one of the first substrate and the second substrate. .
れ、前記ゲート配線とオーバラップするように形成され
たストレージ電極をさらに含むことを特徴とする請求項
1記載のマルチドメイン液晶表示素子。2. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a storage electrode connected to the pixel electrode under the protection film and formed to overlap the gate line. .
れ、前記共通補助電極とオーバラップするように形成さ
れたストレージ電極をさらに含むことを特徴とする請求
項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。3. The multi-domain liquid crystal display according to claim 1, further comprising a storage electrode connected to the pixel electrode under the protection film and formed to overlap the common auxiliary electrode. element.
ーバラップするように形成されていることを特徴とする
請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。4. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein said pixel electrode is formed so as to overlap with said common auxiliary electrode.
バラップするように形成されていることを特徴とする請
求項4記載のマルチドメイン液晶表示素子。5. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 4, wherein said light shielding layer is formed so as to overlap with said common auxiliary electrode.
ーバラップしていないことを特徴とする請求項1記載の
マルチドメイン液晶表示素子。6. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pixel electrode does not overlap with the common auxiliary electrode.
ップしていることを特徴とする請求項6記載のマルチド
メイン液晶表示素子。7. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 6, wherein said light shielding layer overlaps with said pixel electrode.
通補助電極以外の領域に形成されていることを特徴とす
る請求項6記載のマルチドメイン液晶表示素子。8. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 6, wherein said gate insulating film and said protective film are formed in a region other than said common auxiliary electrode.
気的に連結されていることを特徴とする請求項1記載の
マルチドメイン液晶表示素子。9. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the common auxiliary electrode is electrically connected to the common electrode.
構造物をさらに含むことを特徴とする請求項1記載のマ
ルチドメイン液晶表示素子。10. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a dielectric structure for electric field distortion on the pixel electrode.
構造物をさらに含むことを特徴とする請求項1記載のマ
ルチドメイン液晶表示素子。11. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a dielectric structure for electric field distortion on the common electrode.
窓を有していることを特徴とする請求項1記載のマルチ
ドメイン液晶表示素子。12. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein said pixel electrode has an electric field induction window therein.
を有していることを特徴とする請求項1記載のマルチド
メイン液晶表示素子。13. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein said protective film has an electric field induction window therein.
誘導窓を有していることを特徴とする請求項1記載のマ
ルチドメイン液晶表示素子。14. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein said gate insulating film has an electric field induction window therein.
窓を有していることを特徴とする請求項1記載のマルチ
ドメイン液晶表示素子。15. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein said common electrode has an electric field induction window therein.
に電界誘導窓を有していることを特徴とする請求項1記
載のマルチドメイン液晶表示素子。16. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the color filter layer has an electric field induction window on a surface thereof.
コート層をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の
マルチドメイン液晶表示素子。17. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising an overcoat layer on the color filter layer.
電界誘導窓を有していることを特徴とする請求項17記
載のマルチドメイン液晶表示素子。18. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 17, wherein said overcoat layer has an electric field induction window therein.
シクロブテン(BCB:BenzoCycloButene)、アクリル樹脂及
びポリイミド化合物からなる一群から選択されることを
特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素
子。19. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the material constituting the protective film is selected from a group consisting of benzocyclobutene (BCB), an acrylic resin, and a polyimide compound. .
びSiOxからなる一群から選択されることを特徴とする請
求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。20. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the material forming the protective film is selected from a group consisting of SiNx and SiOx.
酸化錫インジウム(ITO:indium tin oxide), Al, Mo, C
r, Ta, Ti及びAl合金からなる一群から選択されること
を特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素
子。21. A material forming the common auxiliary electrode,
Indium tin oxide (ITO), Al, Mo, C
2. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the device is selected from the group consisting of r, Ta, Ti and an Al alloy.
域に分割され、前記液晶層の液晶分子が各領域上で互い
に異なる駆動特性を示すことを特徴とする請求項1記載
のマルチドメイン液晶表示素子。22. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pixel region is divided into at least two regions, and liquid crystal molecules of the liquid crystal layer exhibit different driving characteristics on each region. .
に分割され、前記液晶層の液晶分子が各領域上で互いに
異なる配向特性を示すことを特徴とする請求項1記載の
マルチドメイン液晶表示素子。23. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the alignment film is divided into at least two regions, and liquid crystal molecules of the liquid crystal layer exhibit different alignment characteristics on each region. .
一つの領域が配向処理されていることを特徴とする請求
項23記載のマルチドメイン液晶表示素子。24. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 23, wherein at least one of the regions of the alignment film is subjected to an alignment treatment.
されていないことを特徴とする請求項23記載のマルチ
ドメイン液晶表示素子。25. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 23, wherein no alignment treatment is performed on any of the regions of the alignment film.
陰の誘電率異方性を有する液晶であることを特徴とする
請求項1記載のマルチドメイン液晶表示素子。26. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal forming the liquid crystal layer is a liquid crystal having a positive or negative dielectric anisotropy.
も一方の基板上に陰性の一軸性フィルムがさらに形成さ
れていることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイ
ン液晶表示素子。27. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a negative uniaxial film formed on at least one of the first substrate and the second substrate.
も一方の基板上に陰性の二軸性フィルムがさらに形成さ
れていることを特徴とする請求項1記載のマルチドメイ
ン液晶表示素子。28. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein a negative biaxial film is further formed on at least one of the first substrate and the second substrate.
むことを特徴とする請求項1記載のマルチドメイン液晶
表示素子。29. The multi-domain liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal layer contains a chiral dopant.
と、該第1基板と第2基板との間に形成されている液晶
層と、前記第1基板上に縦横に形成されて画素領域を定
義する複数のゲート配線及びデータ配線と、前記画素領
域内に一体に形成されている画素電極と、前記ゲート配
線と同一層に形成され、前記画素電極を囲むように形成
されている共通補助電極とからなるマルチドメイン液晶
表示素子。30. A first substrate and a second substrate opposed to each other, a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate, and a pixel formed vertically and horizontally on the first substrate. A plurality of gate wirings and data wirings defining a region, a pixel electrode integrally formed in the pixel region, and a common electrode formed on the same layer as the gate wiring and surrounding the pixel electrode; A multi-domain liquid crystal display device comprising an auxiliary electrode.
と、該第1基板と第2基板との間に形成されている液晶
層と、前記第1基板上に縦横に形成されて画素領域を定
義する複数のゲート配線及びデータ配線と、前記ゲート
配電とデータ配線との交差点に形成されているL字薄膜
トランジスタ(L-lined Thin Film Transistor)と、前記
画素領域内に一体に形成されている画素電極と、前記ゲ
ート配線と同一層に形成され、前記画素領域を囲むよう
に形成された共通補助電極と、前記第1基板全体にわた
って形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に第
1基板全体にわたって形成された保護膜と、前記第2基
板上に形成された遮光層と、該遮光層上に形成されたカ
ラーフィルター層と、該カラーフィルター層上に形成さ
れた共通電極と、前記第1基板及び第2基板の少なくと
も一方の基板上に形成された配向膜とからなるマルチド
メイン液晶表示素子。31. A first substrate and a second substrate which are opposed to each other, a liquid crystal layer formed between the first substrate and the second substrate, and a pixel which is formed vertically and horizontally on the first substrate. A plurality of gate wirings and data wirings that define a region, an L-shaped thin film transistor (L-lined Thin Film Transistor) formed at the intersection of the gate power distribution and the data wiring, and are integrally formed in the pixel region. A pixel electrode, a common auxiliary electrode formed in the same layer as the gate wiring and surrounding the pixel region, a gate insulating film formed over the entire first substrate, and A protective film formed over the entire first substrate, a light-shielding layer formed on the second substrate, a color filter layer formed on the light-shielding layer, and a common electrode formed on the color filter layer. , The first substrate and Multi-domain liquid crystal display device consisting of an alignment film formed on at least one of the substrates of the second substrate.
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