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JP2000181029A - 熱可逆性のポリマ―粒子を用いる写真浴の汚染除去方法 - Google Patents

熱可逆性のポリマ―粒子を用いる写真浴の汚染除去方法

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Publication number
JP2000181029A
JP2000181029A JP11351697A JP35169799A JP2000181029A JP 2000181029 A JP2000181029 A JP 2000181029A JP 11351697 A JP11351697 A JP 11351697A JP 35169799 A JP35169799 A JP 35169799A JP 2000181029 A JP2000181029 A JP 2000181029A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bath
polymer particles
photographic
polymer
hydrophobic
Prior art date
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Pending
Application number
JP11351697A
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English (en)
Inventor
Olivier C Poncelet
セ.ポンスル オリビエール
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
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Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
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Pending legal-status Critical Current

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    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C7/00Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
    • G03C7/30Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
    • G03C7/44Regeneration; Replenishers
    • GPHYSICS
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    • G03C5/26Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Photographic Developing Apparatuses (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 使用済写真処理浴における有機物質およびタ
ールを迅速、低コストで、かつ写真製品のセンシトメト
リー特性に悪影響を与えずに、また写真処理浴の安定性
と効率を損わずに取り除く方法を提供する。 【解決手段】 写真処理浴の流出液を、ポリマーが流出
液からの汚染物質を吸収するのに十分な時間、ヒドロゲ
ル粒子形態の熱可逆性ポリマーと接触させること、次い
で、この熱可逆性ポリマーを流出液から取り出すこと、
そして、その後に、この熱可逆性ポリマーを冷却して、
それから汚染物質を抽出することを含む、写真浴の汚染
除去方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、写真処理浴に含ま
れる有機汚染物質を除去する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ハロゲン化銀写真製品は、露光
後に、それに続く写真処理浴を通過する。例えば、黒白
写真の製品の処理には、黒白現像段階、定着段階および
洗浄段階が含まれる。カラー写真の製品の処理には、カ
ラー現像段階、漂白段階、定着段階、(あるいは、漂白
−定着段階)、および洗浄段階が含まれる。
【0003】これらのカラー写真製品の処理中に、処理
浴の組成が変化する。特に、写真浴には、ゼラチン、ラ
テックス、ポリマー、界面活性剤等、または、写真製品
あるいは現像時の反応に由来するその他の有機物質のよ
うな薬剤が堆積する。これら全ての物質は、浴を汚染
し、それの効率を低下させてしまう。更に、写真処理浴
中にこれら汚染物が存在すると、写真製品のセンシトメ
トリーの低減をもたらすばかりか、処理機を汚し、ひい
ては処理される製品までも汚染してしまう。この汚染
は、写真製品が一般に自動化処理機で処理されているた
め、特にやっかいである。写真製品の高速現像が可能な
機械は、また、最も高速に汚染されるものである。特
に、これらの自動化機械の写真処理浴では、処理中の写
真製品を決め、機械を汚す写真製品の成分に由来してタ
ールが生成される。これらのタールが存在すると、処理
機を度々洗浄し、浴を早めに補充し、極端な場合には、
写真製品を何度も洗浄することが必要になる。
【0004】従来技術では、この問題は、生成するター
ルを溶解させるため、処理中に浴に界面活性剤を添加す
ることによって克服してきた。しかし、添加されなけれ
ばならないそのような界面活性剤の量が多いことで、処
理浴の安定性と効率性が損われている。
【0005】先行する処理段階からくる物質の洗浄およ
び(または)安定化浴での蓄積により、現像された写真
画像の安定性が損われ、センシトメトリー特性に悪影響
が生じ、また、プラントの保持要件が増大している。そ
れは、また、洗浄および安定化浴を再生利用すること、
並びにそれらを下水に捨てることを困難にしている。処
理後に、洗浄および安定化浴には、これら浴のCOD値
を上げる化合物が含まれている。
【0006】例えば、流出液は、Gehin等の米国特
許第5,439,599号明細書に記載されるように、
電解酸化、透析、逆浸透(独国特許出願第3,246,
897号明細書に記載される)、凝集、または可能なら
UV処理と組合わせた、過酸化水素での酸化によって処
理される。非触媒的酸化は、欧州特許出願第690,0
25号明細書に記載されるように、触媒酸化と生物学的
処理とが併用されてもよい。
【0007】文献に記載される処理では、流出液が安全
に捨てられるように流出液の満足のいく汚染除去を達成
するため、あるいは、流出液の再利用を妨げる根源を取
り除くために二つ以上の方法を併用することが主唱され
ている。また、これらの方法のあるものは、その実行に
経費がかかる。
【0008】流出液を清浄にするため、ヒドロゲルの形
態の熱可逆性ポリマーを使用することが、例えば、欧州
特許出願第648,521号明細書に記載されるよう
に、提案されてきた。しかしながら、熱可逆性ポリマー
の知られる特徴の一つは、Langmuir 1995
年、第11号、第2493〜5頁にY.Q,Zhang
等により報告されているように、それらの転移温度が数
個のパラメーターの値によってかなり変化すること、特
に流出液中に界面活性剤が存在するときにそうであるこ
とである。この転移温度が変動することは、これらの流
出液にはほとんど常に界面活性剤かあるいは界面活性特
性を有する物質がある程度含まれているので、写真流出
液の汚染除去を実施するためにこれらのポリマーを常用
することの障害になる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、写真
処理浴における有機物質およびタールの存在から派生す
る問題に対する更なる解決策を提供することにある。こ
れらの物質およびタールを、迅速に、かつ低コストで、
しかも処理された写真製品のセンシトメトリー特性に悪
影響を与えずに、また写真処理浴の安定性と効率を損わ
ずに取り除くことを可能にする方法を考案することが望
ましい。
【0010】本発明のその他の目的は、自動化された処
理機の汚れを低下させ、それによってこれら機械のメン
テナンス操作の回数を減らすことにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】これらおよびその他の目
的は、有機汚染物質とタールを両者とも含む写真浴を、
高いpH値に耐え、写真的に不活性な熱可逆性ポリマー粒
子と接触させることにある、本発明方法によって達成さ
れる。
【0012】本明細書および相当する特許請求の範囲で
は、用語「写真流出液」または「標準写真流出液」は、
疎水性有機物質、特にタールと界面活性剤を含む使い尽
くした(即ち、「よく使い込んだ」)写真処理液を意味
する。これらの流出液のCODは、AFNORの標準N
FT90−101により測定して、5〜30g/l、好
ましくは10〜20g/lである。
【0013】熱可逆性ポリマーは、温度、即ち所定の温
度によって変化する構造および特性を有し、それらは、
親水性または疎水性物質に対する親和力を加減する転移
に耐える。これらのポリマー、その作製、活性成分の解
放システムとしてのその利用は、文献中に、特にT.T
anakaによるSc.Am.,1981年、第244
(1)巻、第125号、または、R.Yoshida等
によるAdv.Drug.Delivery Rev.
1993年、第II巻、第85号中に記載されている。
【0014】本発明の方法によれば、写真流出液の汚染
除去、特に、熱可逆性ポリマー粒子によるタールの除去
が可能である。この熱可逆性ポリマー粒子は、これら粒
子内部での水の閉じ込めに起因する拘束にも拘らず、こ
れらがその疎水性/親水性の特性を加減するのに耐える
ことが必要な連続の加熱−冷却サイクル時に、意外に高
い安定性を示すことが見出された。更に、この熱可逆性
ポリマーは、界面活性剤が存在しても、標準写真流出液
の存在下で事実上一定の転移温度を保つ。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明に使用される熱可逆性ポリ
マーには、有利に、次の式のモノマーの重合から得られ
る部分が含まれる。
【化1】 式中、Xは、HまたはCH3 であり;ZおよびYは、そ
れぞれHまたは、1〜6個の炭素原子を含む直鎖もしく
は分枝鎖アルキル基、3〜7個の炭素原子を含む環状ア
ルキル基、または、6〜10個の炭素原子を含むアリー
ル基を表わす。但し、ZとYが結合して窒素含有複素環
を形成してもよいが、両者が共にHを表わすことはな
い。
【0016】一つの実施態様では、熱可逆性ポリマー
は、N−アルキル−メタクリルアミド、またはN−アル
キルアクリルアミド(こゝで、アルキルは、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル等のよ
うな1〜6個の炭素原子を含む直鎖もしくは分枝鎖状ア
ルキル基を表わす)のポリマーまたはコポリマーであ
る。
【0017】本発明により使用されるポリマータイプの
ポリアクリルアミドは、低い下方の臨界共溶温度(LC
ST)を有しなければならない。この温度を超えると、
このポリマーは疎水性であり、水に収縮する。この温度
より低いと、このポリマーは水和して、親水性(ヒドロ
ゲル)となる。低いLCSTとは、20〜70℃間のL
CSTを意味し、これは、更に、写真流出液に起る、高
濃度の無機塩の流出液の存在下で影響を受けない。ま
た、このポリマーは、10を超えるpH(これは、大部分
の写真流出液の通常のpHである)で安定である。
【0018】上記の一つの結果によれば、また、ポリマ
ーの特性は、重合が行われた温度により左右されるとい
うことである。その重合がLCSTを超える温度で行わ
れる場合には、不透明な疎水性のポリマーが得られる。
重合がLCSTより低い温度で行われる場合は、透明な
ヒドロゲル(親水性のゲル)が得られる。この透明なゲ
ルは、LCST(約35℃)を超える温度まで加熱され
るときに収縮して、不透明でかつ疎水性となる。
【0019】ポリ(N−イソプロピルアクリルアミド)
は、例えばJ.Chem.Phys.70(03),1
979年2月に田中およびFillmoreにより記載
された、以下の方法で得ることができる。モノマー溶液
を、浸透させた脱ガス水中で作る。この溶液に、N,
N′−メチレンビスアクリルアミドのような架橋剤、ペ
ルオクソ二硫酸ナトリウムもしくはカリウム、または
2,2−アゾビス−イソブチロニトリルのような重合誘
導剤およびテトラメチルエチレンジアミン、またはペル
オクソ二硫酸アンモニウムもしくはピロ亜硫酸ナトリウ
ムのような促進剤を添加する。
【0020】数分後に、フリーラジカル重合反応により
ポリマーを得る。好ましい一対の誘導剤−促進剤は、例
えば、ペルオクソ二硫酸ナトリウム−テトラメチレンジ
アミン、またはペルオクソ二硫酸アンモニウム−ピロ亜
硫酸ナトリウムが知られている。これらの誘導剤−促進
剤によれば、LCSTより低い温度で合成を行うことが
可能で、それによって親水性形態のポリマーが直接得ら
れる。一つの実施態様では、促進剤、誘導剤および架橋
剤を含むモノマー溶液を混合して、次いで垂直管に含ま
れる鉱油の表面に滴下する。この溶液の滴が重力によっ
て鉱油の管を降下し、その落下中に重合して、ポリマー
ビーズが形成される。この混合および重合は、脱空気の
不活性雰囲気中で行われる。
【0021】図1は、この重合装置の略線図である。丸
底フラスコ11には、架橋剤(例えば、N,N′−メチ
レンビスアクリルアミド)および重合促進剤(例えば、
テトラメチルエチレンジアミン)が添加されているモノ
マー水溶液が含まれている。丸底フラスコ12には、重
合誘導剤(例えば、ペルオクソ二硫酸アンモニウム)の
水溶液が含まれている。フラスコ11および12の溶液
は、ポンプ13によってT接続部14に供給され、そこ
で、鉱油、例えばパラフィン油またはシリコーン油を満
たしたカラム15に滴下する前に、混合される。重力に
よってカラムを落下して重合が起こるにつれてポリマー
ビーズが形成される前に、液滴が鉱油表面に蓄積され
る。カラムの底17にビーズが集積されるので、そこか
らビーズが回収される。フラスコ11および12、ポン
プ13,T14およびこれらを結ぶ配管は、全て、例え
ばアルゴン雰囲気下で空気との接触が回避される。カラ
ムの長さ、その直径およびポンプの流速は、ビーズの重
合が完了する前にビーズが衝突しないように設定され
る。その管は、好ましくは、プラスチック、例えば透明
PVCで被覆された編組ポリエステルから作製されてい
る。
【0022】一つの実施態様では、多孔質ゲルが、重合
時またはその前に孔誘導剤を添加して作られてもよい。
かかる孔誘導剤は、例えば、ヒドロキシセルロース、セ
ルロースまたはキチンである。これらは、フリーラジカ
ル重合を妨げてはならない。
【0023】本発明によれば、ポリマーは、上記した方
法で得られるときは、約0.2〜20mm、有利には2〜
10mmの粒径の粒子、好ましくは球形粒子の形態であ
る。このようにして得られるポリマービーズは、通常の
温度で水で洗浄されてよい。この形態およびこの温度
で、ポリマービーズは親水性であり約80%の水が残留
している。それらは、鉱油浴内で数回、加熱、冷却され
て、親水性であるが収縮され、脱水されているビーズが
得られてもよい。このビーズは、使用されるまでこの形
態で保管されてよい。このビーズは、次いで、再び水和
されて、流出液に浸透性の容器に設置されてもよい。ビ
ーズの量は、10〜1000gの脱水ポリマーが典型で
あり、そして有利には処理される流出液バッチ当り50
〜500g/lである。このビーズ形態では、ポリマー
に適当な機械的拘束が残っており、そのためより多くの
数の吸着−再生サイクルに耐えられる。更に、このビー
ズは、容易に手で操作されるカートリッジに配置されて
もよい。流出液がポリマーのLCSTを超える温度で注
入される場合には、そのポリマーは疎水性であって、有
機物質を取り込んでいる。ポリマーが飽和されたら、好
ましくは、それを冷えた鉱油、即ち、等量の疎水性液体
(例えばパラフィン)中に浸漬することによって、この
ポリマーを室温まで冷却して、その取り込んだ物質を解
放させる。水で洗浄した後、ポリマーは次の処理サイク
ルのために準備される。ポリマーの飽和点は、設計され
ているポリマーおよび流出液にしたがって、操作指示書
に記述されている。実際に、本発明の実施態様では、処
理液の循環に適当に改変されたポンプの一つのハウジン
グ内に順次設置されるカートリッジにポリマービーズを
配置することにある。一方が使用されている間に他方が
再生されているように、二つのカートリッジがハウジン
グ内に設置されてもよい。
【0024】
【実施例】実施例 多孔性のポリイソプロピルアクリルアミドゲルを、図1
に示される装置を用いて、以下の操作手順によって作製
した。架橋剤はN,N′−メチレンビスアクリルアミド
であり、重合誘導剤はペルオクソ二硫酸アンモニウムで
あり、促進剤はテトラメチルエチレンジアミンであっ
た。フラスコ11に、20mlの浸透処理した、脱ガス
水、ヘキサンの結晶化で精製された3.2gのN−イソ
プロピルアクリルアミド、0.06gのN,N′−メチ
レンビスアクリルアミド、および0.054gのテトラ
メチルエチレンジアミンを準備した。別に、20mlの浸
透処理した脱ガス水の1.2gのペルオクソ二硫酸アン
モニウム水溶液をフラスコ12に準備した。ポンプの流
速は1ml/分であった。カラム15の長さは120cmで
あり、その内径は25mmであった。カラム15は、透明
PVCで被覆された編組ポリエステルから作られた。ポ
リマーは、カラム15の底に不透明なヒドロゲルビーズ
として形成された。このポリマーは、35℃より低いL
CSTを有していた。最後に、ビーズを、吸引されるフ
ィルターロート上でペンタンで洗浄して、鉱油を除去
し、次いで浸透処理した水で洗浄した。それらは、浸透
処理した水を満たしたプラスチック製のピルボックス内
に保管した。
【0025】180gのこれらの親水性ポリマービーズ
を採取して、これを次の組成を有する300mlの浴に添
加した。 Na2 SO3 4.5g Na2 CO3 18.0g NaBr 1.6g 溶媒(1) 2mg 浸透処理した水 1リットル pH 11.5 温度 40℃ (1)溶媒:有機成分の存在をシュミレートするための
ジ−n−ブチルフタレート
【0026】ビーズは、1時間、浴と接触したまゝにし
ておいた。この40℃の温度で、ビーズは疎水性とな
り、ジ−n−ブチルフタレートを吸収した。次いで、ビ
ーズを浴から取出して、20℃で2時間100mlのパラ
フィン油中に浸漬した。この温度で、ビーズは再び親水
性となり、パラフィン油に溶解されるジ−n−ブチルフ
タレートを解放した。このようにして、ポリマービーズ
を再生し、新しい処理サイクルのための用意をした。こ
のようにして、30回の処理サイクルを達成した。各サ
イクル毎に、UV分光光度計(Perkin−Elme
r UV/VIS/NIR Lambda9 分光光度
計)を用いて光学濃度を測定し、検量線によって、パラ
フィン油中のジ−n−ブチルフタレートの量を求め、そ
して、この量を、熱可逆性ポリマーがその回数のサイク
ルの実行後に蓄積できる最大理論量と比較した。結果を
以下の表Iに示す。
【0027】
【表1】
【0028】熱可逆性ポリマーの効率が、増加する回数
のサイクルでも維持されていることがわかる。その光学
濃度と溶媒の真の量を補正するために、検量線が使用さ
れた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の重合装置の略図を示している。
【符号の説明】 11…水性モノマー溶液 12…重合誘導剤 13…ポンプ 14…T接続部 15…鉱物油で満たされたカラム 16…ポリマービーズ 17…ポリマービーズコレクター

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1)浴が、浴温度で疎水性である熱可
    逆性のポリマー粒子と接触させられること、そして
    (2)次いで、この疎水性ポリマー粒子が処理浴から離
    されることを特徴とする、浴からそこに含まれる疎水性
    物質を取り除く段階を含んでなる水性写真処理浴の汚染
    除去方法。
  2. 【請求項2】 段階(2)の後で、ポリマー粒子がその
    親水性状態に変る温度に冷却され、その後、ポリマー粒
    子が段階(1)で吸収していた疎水性物質を解放するこ
    とを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記ポリマー粒子が、N−アルキルアク
    リルアミドまたはN−アルキルメタクリルアミド(こゝ
    で、アルキル基は、1〜6個の炭素原子を含む)のポリ
    マーあるいはコポリマーからなることを特徴とする請求
    項1に記載の方法。
JP11351697A 1998-12-15 1999-12-10 熱可逆性のポリマ―粒子を用いる写真浴の汚染除去方法 Pending JP2000181029A (ja)

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