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JP2000174028A - Heat treatment equipment and method of taking out treated object - Google Patents

Heat treatment equipment and method of taking out treated object

Info

Publication number
JP2000174028A
JP2000174028A JP10341806A JP34180698A JP2000174028A JP 2000174028 A JP2000174028 A JP 2000174028A JP 10341806 A JP10341806 A JP 10341806A JP 34180698 A JP34180698 A JP 34180698A JP 2000174028 A JP2000174028 A JP 2000174028A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat treatment
purge chamber
process tube
gas
processing gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10341806A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Motoi Konishi
基 小西
Yoshiharu Fukuyama
義治 福山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JTEKT Thermo Systems Corp
Original Assignee
Koyo Thermo Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koyo Thermo Systems Co Ltd filed Critical Koyo Thermo Systems Co Ltd
Priority to JP10341806A priority Critical patent/JP2000174028A/en
Publication of JP2000174028A publication Critical patent/JP2000174028A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten the processing time required for heat treatment without impairing safety. SOLUTION: Air in an N2 purge chamber 2 adjacent to a process tube 1 is replaced with N2, to reduce the concentration of oxygen to a specified low value. With a processing gas being supplied to the process tube 1, a work piece 10 after heat treatment is carried out of the process tube 1 into the N2 purge chamber 2, while being kept at a high temperature. At this time, the processing gas is diluted at a stroke with a constant quantity of N2 with which the N2 purge chamber 2 is filled, to a concentration just short of explosion limit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造過程等
において、被処理物に熱処理を行うための熱処理装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat treatment apparatus for performing a heat treatment on an object in a semiconductor manufacturing process or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造過程の熱処理において、被処
理物が例えばGaAsウェハである場合には、被処理物
を収容するプロセスチューブ内に所定の処理ガスを供給
しながら熱処理を行わなければ良好な処理結果が得られ
ない。この場合、使用される処理ガスは可燃性であるた
め、プロセスチューブはガス洩れのないようにシールさ
れている。所定時間熱処理を行った後は、処理ガスを供
給しながら、ヒータを止めて被処理物の温度を下げる。
このとき処理ガスを供給するのは、熱処理直後でまだ高
温状態の被処理物から処理ガスを取り去ると、処理結果
が劣化するからである。次に、処理ガスの供給を止め
て、プロセスチューブ内の処理ガスを不活性ガスで十分
に置換した後、被処理物をプロセスチューブから取り出
す。このときプロセスチューブ内は不活性ガスで満たさ
れているため、爆発の恐れはない。
2. Description of the Related Art In a heat treatment in a semiconductor manufacturing process, when an object to be processed is, for example, a GaAs wafer, a good heat treatment is not carried out while supplying a predetermined processing gas into a process tube accommodating the object to be processed. No processing result is obtained. In this case, since the process gas used is flammable, the process tube is sealed to prevent gas leakage. After performing the heat treatment for a predetermined time, the heater is stopped to reduce the temperature of the processing object while supplying the processing gas.
The reason why the processing gas is supplied at this time is that the processing result is deteriorated if the processing gas is removed from the processing target still in a high temperature state immediately after the heat treatment. Next, the supply of the processing gas is stopped, the processing gas in the process tube is sufficiently replaced with an inert gas, and then the object to be processed is taken out of the process tube. At this time, since the inside of the process tube is filled with the inert gas, there is no danger of explosion.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の熱
処理装置では、熱処理終了後も被処理物の降温及びプロ
セスチューブ内のガス置換に一定の時間を要する。従っ
て、熱処理後直ちにプロセスチューブから被処理物を取
り出すことができない。このことは熱処理のプロセス時
間短縮の妨げとなり、所定時間に熱処理できる被処理物
の数量が限られていた。上記のような従来の問題点に鑑
み、本発明は、安全性を損なうことなく、熱処理に要す
るプロセス時間を短縮することを目的とする。
In the conventional heat treatment apparatus as described above, it takes a certain time to lower the temperature of the object to be processed and to replace the gas in the process tube even after the heat treatment. Therefore, the object cannot be taken out of the process tube immediately after the heat treatment. This hinders the shortening of the heat treatment process time, and the number of objects to be heat treated in a predetermined time is limited. In view of the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to reduce a process time required for heat treatment without impairing safety.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明による熱処理装置
の被処理物取り出し方法は、処理ガスを供給しつつ熱処
理装置のプロセスチューブ内で被処理物の熱処理を行う
とともに、前記プロセスチューブに隣接したパージ室の
空気を不活性ガスにより置換して酸素濃度を所定の低濃
度値とし、前記処理ガスを供給しつつ、熱処理された前
記被処理物を高温状態のまま前記プロセスチューブから
前記パージ室に搬出するとともに、前記処理ガスを前記
パージ室内に満たされた不活性ガスによって希釈し、搬
出された前記被処理物を前記熱処理装置から取り出すこ
とを特徴とするものである(請求項1)。
According to the present invention, there is provided a method for removing an object to be processed by a heat treatment apparatus, wherein the object to be processed is heat-treated in a process tube of the heat treatment apparatus while supplying a processing gas, and the object is disposed adjacent to the process tube. The air in the purge chamber is replaced with an inert gas to reduce the oxygen concentration to a predetermined low concentration value, and while supplying the processing gas, the heat-treated object is kept in a high temperature state from the process tube to the purge chamber. The process gas is carried out, the process gas is diluted with an inert gas filled in the purge chamber, and the carried out work is taken out of the heat treatment apparatus (claim 1).

【0005】上記の被処理物取り出し方法において、パ
ージ室の空気は不活性ガスによって置換され、パージ室
内は酸素濃度が所定の低濃度値となって、実質的に不活
性ガスで満たされる。熱処理された被処理物は高温状態
のまま直ちにプロセスチューブからパージ室に搬出され
る。このとき、処理ガスは供給され続けているので、搬
出中にも高温の被処理物は処理ガスを浴びている。搬出
によってパージ室に処理ガスが漏れ出るが、パージ室内
に満たされた不活性ガスによって熱処理装置内の気体中
の処理ガス濃度は希釈される。その後、被処理物は熱処
理装置から取り出される。
[0005] In the method for removing an object to be treated, the air in the purge chamber is replaced by an inert gas, and the oxygen concentration in the purge chamber becomes a predetermined low concentration value and is substantially filled with the inert gas. The heat-treated object is immediately carried out of the process tube to the purge chamber in a high temperature state. At this time, since the processing gas is continuously supplied, the high-temperature processing object is exposed to the processing gas even during unloading. Although the processing gas leaks into the purge chamber by carrying out, the concentration of the processing gas in the gas in the heat treatment apparatus is diluted by the inert gas filled in the purge chamber. Thereafter, the object is taken out of the heat treatment apparatus.

【0006】また、本発明の熱処理装置は、処理ガスが
連続的に給排され、熱処理を行う被処理物が搬入される
プロセスチューブと、前記プロセスチューブ内の被処理
物を加熱するヒータと、前記プロセスチューブに隣接し
て設けられ、予め内部の空気が不活性ガスによって置換
されることにより酸素濃度が所定の低濃度値になってい
る状態で、熱処理後の前記被処理物を受け入れるパージ
室と、前記パージ室と前記プロセスチューブ内との間で
前記被処理物の搬入・搬出を行うローディング装置とを
備えたことを特徴とするものである(請求項2)。
Further, the heat treatment apparatus of the present invention comprises a process tube into which a processing gas is continuously supplied and discharged, and a processing object to be subjected to a heat treatment is carried in; a heater for heating the processing object in the process tube; A purge chamber that is provided adjacent to the process tube and receives the object to be processed after the heat treatment in a state where the oxygen concentration has been reduced to a predetermined low concentration value by replacing the internal air with an inert gas in advance. And a loading device for loading and unloading the workpiece between the purge chamber and the inside of the process tube (claim 2).

【0007】上記の熱処理装置において、プロセスチュ
ーブには処理ガスが供給され、被処理物の熱処理が行わ
れる。一方、パージ室の空気は不活性ガスによって置換
され、パージ室内は酸素濃度が所定の低濃度値となっ
て、実質的に不活性ガスで満たされる。熱処理された被
処理物は高温状態のまま直ちにローディング装置により
プロセスチューブからパージ室に搬出されるが、このと
きも処理ガスは供給され続けているので、搬出中にも高
温の被処理物は処理ガスを浴びている。搬出によってパ
ージ室に処理ガスが漏れ出るが、パージ室内に満たされ
た不活性ガスによって熱処理装置内の気体中の処理ガス
濃度は希釈される。こうして、被処理物は熱処理装置か
ら取り出し可能な状態となる。
[0007] In the above heat treatment apparatus, a processing gas is supplied to the process tube to heat-treat the object to be processed. On the other hand, the air in the purge chamber is replaced by the inert gas, and the oxygen concentration in the purge chamber becomes a predetermined low concentration value and is substantially filled with the inert gas. The heat-treated object is immediately carried out of the process tube to the purge chamber by the loading device in a high-temperature state, but the processing gas is still supplied at this time. It is taking gas. Although the processing gas leaks into the purge chamber by carrying out, the concentration of the processing gas in the gas in the heat treatment apparatus is diluted by the inert gas filled in the purge chamber. Thus, the object to be processed is ready to be taken out of the heat treatment apparatus.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の一実施形態に係
る熱処理装置の構成を示す図である。当該熱処理装置は
縦型炉であり、主として、上部のプロセスチューブ1
と、下部のNパージ室2と、プロセスチューブ1を取
り囲むように設けられたヒータ3とにより構成されてい
る。プロセスチューブ1の上部にはプロセス排気管4が
接続されている。プロセスチューブ1には9%H/N
の処理ガス(可燃性)を供給するガスライン5が接続
されている。一方、Nパージ室2には、N供給源か
ら2系統に分かれた希釈用Nライン6及び7が接続さ
れている。また、Nパージ室2には管路8を介して酸
素濃度計9が接続されている。なお、ガスライン5、希
釈用Nライン6及び7並びに管路8には、エアバルブ
等の機器が接続されているが、ここでは省略する。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. The heat treatment apparatus is a vertical furnace, and mainly includes an upper process tube 1.
, A lower N 2 purge chamber 2, and a heater 3 provided to surround the process tube 1. A process exhaust pipe 4 is connected to an upper portion of the process tube 1. 9% H 2 / N in process tube 1
A gas line 5 for supplying the second processing gas (flammable) is connected. On the other hand, the N 2 purge chamber 2 is connected with dilution N 2 lines 6 and 7 divided into two systems from an N 2 supply source. An oxygen concentration meter 9 is connected to the N 2 purge chamber 2 via a pipe 8. The gas line 5, the diluent N 2 line 6 and 7 and conduit 8 is equipment of the air valve and the like are connected, is omitted here.

【0009】被処理物10は、ローディング装置として
の昇降装置LによってNパージ室2からプロセスチュ
ーブ1内に搬入され、また、プロセスチューブ1内から
パージ室2へ搬出される。被処理物10の搬入が完
了すると、昇降装置Lの動作に伴って遮蔽部13によ
り、プロセスチューブ1とNパージ室2とは互いに遮
蔽されるようになっている。また、搬出時には昇降装置
Lの下降動作に伴って自動的に遮蔽が解除され、プロセ
スチューブ1とNパージ室2とが互いに連通し得る状
態となる。
The workpiece 10 is carried into the process tube 1 from the N 2 purge chamber 2 by the lifting device L as a loading device, and is carried out from the process tube 1 to the N 2 purge chamber 2. When the loading of the workpiece 10 is completed, the process tube 1 and the N 2 purge chamber 2 are shielded from each other by the shielding unit 13 with the operation of the lifting / lowering device L. Further, at the time of unloading, the shielding is automatically released with the lowering operation of the lifting / lowering device L, and the process tube 1 and the N 2 purge chamber 2 are in a state where they can communicate with each other.

【0010】図2は、熱処理装置の実体構造に合わせて
ブロック的に示した排気配管系統(一部吸気配管を含
む。)図である。上記プロセスチューブ1及びヒータ3
は、上部のヒータボックス11に収められており、被処
理物搬入完了時の遮蔽部13を挟んで下部のNパージ
ボックス12にNパージ室2が収められている。プロ
セスチューブ1の排気管路は、ヒータボックス11内に
設けられたマニュアルバルブ15及びエアバルブ16を
介して上述のプロセス排気管4に接続されている。ま
た、ヒータボックス11内には、Nパージ室2から排
気バルブ17、エアバラスト18及び集合排気筒19を
介して排気筒20に至る排気管路と、Nパージ室2か
らニードルバルブ21、バイパスバルブ22及び集合排
気筒19を介して排気筒20に至る排気管路とが設けら
れている。なお、ヒータボックス11内の排気は集合排
気筒23から行われる。また、Nパージボックス12
にはN供給口としての吸気バルブ24が設けられてい
る。
FIG. 2 is an exhaust piping system (including a part of the intake piping) shown in a block diagram in accordance with the actual structure of the heat treatment apparatus. The process tube 1 and the heater 3
Are housed in an upper heater box 11, and an N 2 purge chamber 2 is housed in a lower N 2 purge box 12 with a shielding portion 13 therebetween when the transfer of the workpiece is completed. The exhaust pipe of the process tube 1 is connected to the above-described process exhaust pipe 4 via a manual valve 15 and an air valve 16 provided in the heater box 11. Also within the heater box 11, the exhaust from the N 2 purge chamber 2 valve 17, the air ballast 18 and an exhaust pipe leading to the exhaust stack 20 through the collecting exhaust pipe 19, N 2 purge chamber 2 from the needle valve 21, An exhaust pipe to the exhaust pipe 20 via the bypass valve 22 and the collective exhaust pipe 19 is provided. In addition, the exhaust in the heater box 11 is performed from the collective exhaust pipe 23. In addition, N 2 purge box 12
Intake valve 24 as N 2 supply port is provided in the.

【0011】次に、上記熱処理装置の動作について図1
及び図2を参照して説明する。まず、ヒータ3によりプ
ロセスチューブ1を加熱する。また、被処理物10を昇
降装置Lによって上昇させ、加熱されたプロセスチュー
ブ1内に搬入する。昇降装置Lの上昇端において、遮蔽
部13によりプロセスチューブ1がNパージ室2と遮
蔽される。プロセスチューブ1内には、ガスライン5か
ら9%H/N の処理ガスが連続的に供給かつ排気さ
れており、この状態で被処理物10の熱処理が所定時間
行われる。
Next, the operation of the heat treatment apparatus will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG. First, the heater 3
The process tube 1 is heated. In addition, the workpiece 10 is lifted.
The process tube heated by the lowering device L and heated
And carried into the bus 1. At the rising end of the lifting device L,
The process tube 1 is N2Purge chamber 2 and shield
Masked. In the process tube 1, the gas line 5
9% H2/ N 2Process gas is continuously supplied and exhausted
In this state, the heat treatment of the object 10 is performed for a predetermined time.
Done.

【0012】一方、熱処理が行われている間に、N
ージ室2には希釈用Nライン6及び7からNが供給
され、Nパージ室2内の空気がNにより置換され
る。このときNパージ室2内の空気は、開状態のニー
ドルバルブ21及びバイパスバルブ22を介して排気筒
20から排気されている。N置換は、酸素濃度計9に
よって計測される酸素濃度が所定の低濃度値(本実施形
態では数10PPM)となるまで行われ、以後その状態
が維持される。
Meanwhile, while the heat treatment is taking place, the N 2 purge chamber 2 N 2 is supplied from the diluent N 2 line 6 and 7, the air N 2 purge chamber 2 is replaced by N 2 You. At this time, the air in the N 2 purge chamber 2 is exhausted from the exhaust pipe 20 through the needle valve 21 and the bypass valve 22 in the open state. The N 2 replacement is performed until the oxygen concentration measured by the oxygen concentration meter 9 reaches a predetermined low concentration value (several tens of PPM in this embodiment), and that state is maintained thereafter.

【0013】熱処理が終わるとヒータ3を止め、N
ージ室2内の酸素濃度が数10PPMであることを確認
した後、昇降装置Lにより直ちに被処理物10を下降さ
せる。このようにして、熱処理後直ちに搬出にかかる
と、プロセスチューブ1内で冷却時間やガス置換時間を
おく場合と比べて、プロセス時間がその分短縮されるこ
とになる。下降には所定時間がかかるが、この間、処理
ガスは供給され続けている。従って、まだ高温の被処理
物10は、処理ガスを浴びながら下降する。一方、N
パージ室2にもNが供給される。このときの処理ガス
とNの流量比は例えば1:20である。
When the heat treatment is completed, the heater 3 is stopped, and after confirming that the oxygen concentration in the N 2 purge chamber 2 is several tens of PPM, the workpiece 10 is immediately lowered by the lifting device L. In this way, if the carrying-out is performed immediately after the heat treatment, the process time is shortened as compared with the case where the cooling time or the gas replacement time is provided in the process tube 1. The lowering takes a predetermined time, during which the processing gas is being supplied. Therefore, the workpiece 10 still hot is lowered while being immersed in the processing gas. On the other hand, N 2
N 2 is also supplied to the purge chamber 2. At this time, the flow ratio between the processing gas and N 2 is, for example, 1:20.

【0014】被処理物10が、プロセスチューブ1内か
らNパージ室2へ搬出されることにより、遮蔽部13
が移動する(開く)ため、プロセスチューブ1とN
ージ室2とは互いに連通状態となり、処理ガスがN
ージ室2に洩れ出る。しかし、Nパージ室2内の酸素
は所定の低濃度にまで排除されているため、爆発の恐れ
はない。また、Nパージ室2は一定量のNで満たさ
れているため、処理ガス(H/N)は9%から、爆
発限界である4%未満に一気に希釈される。次に、N
パージ室2が開放され、被処理物10が空気中に取り出
される。このとき、処理ガスの濃度は4%未満に希釈さ
れているため、外気に触れても爆発の恐れはなく、安全
である。また、Nパージ室2内のガスは、開状態の排
気バルブ17及びNパージ室内のガス圧が数百Paの
陽圧状態となるように調整されたエアバラスト18を介
して排気されている。従って、Nパージ室2が開放さ
れたとき、N等が外部に漏れることはあるが、外部の
空気はNパージ室2及びプロセスチューブ1内に侵入
しない。
When the object 10 is carried out of the process tube 1 to the N 2 purge chamber 2, the shielding portion 13
Move (open), the process tube 1 and the N 2 purge chamber 2 communicate with each other, and the processing gas leaks into the N 2 purge chamber 2. However, since the oxygen in the N 2 purge chamber 2 is eliminated to a predetermined low concentration, there is no possibility of explosion. Since the N 2 purge chamber 2 is filled with a certain amount of N 2 , the processing gas (H 2 / N 2 ) is diluted from 9% to less than the explosion limit of 4% at a stretch. Next, N 2
The purge chamber 2 is opened, and the object 10 is taken out into the air. At this time, since the concentration of the processing gas is diluted to less than 4%, there is no danger of explosion even if it touches the outside air, and it is safe. The gas in the N 2 purge chamber 2 is exhausted via an exhaust valve 17 in an open state and an air ballast 18 adjusted so that the gas pressure in the N 2 purge chamber is a positive pressure of several hundred Pa. I have. Therefore, when the N 2 purge chamber 2 is opened, N 2 and the like may leak to the outside, but the external air does not enter the N 2 purge chamber 2 and the process tube 1.

【0015】なお、上記実施形態における熱処理装置
は、処理ガスとして9%H/N、希釈ガスとしてN
を用いているが、これら以外の処理ガスや希釈ガスを
用いる場合にも同様な構成が適用できる。例えば処理ガ
スが腐食性のガスである場合は、被処理物の搬出時に、
一定量の希釈ガスにより、当該処理ガスは安全な(周辺
に腐食を生じる恐れのない)レベルにまで希釈される。
また、上記実施形態における熱処理装置は縦型炉である
が、これ以外の形態の熱処理装置にも同様の構成を適用
することができる。
The heat treatment apparatus according to the above embodiment uses 9% H 2 / N 2 as a processing gas and N as a diluting gas.
2 is used, but a similar configuration can be applied when other processing gas or diluent gas is used. For example, if the processing gas is a corrosive gas, when carrying out the workpiece,
With a certain amount of diluent gas, the process gas is diluted to a safe (no risk of corrosion around) gas.
Further, the heat treatment apparatus in the above embodiment is a vertical furnace, but the same configuration can be applied to heat treatment apparatuses of other forms.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上のように構成された本発明は以下の
効果を奏する。請求項1の熱処理装置の被処理物取り出
し方法によれば、処理ガスを供給して処理結果の劣化を
防止しながら、熱処理された被処理物を高温状態のまま
直ちにプロセスチューブからパージ室に搬出するので、
プロセスチューブ内での冷却時間やガス置換時間が不要
となり、その分プロセス時間が短縮される。搬出によっ
てパージ室に処理ガスが漏れ出るが、パージ室内に満た
された不活性ガスによって熱処理装置内の気体中の処理
ガス濃度は希釈されるので、処理ガスの性質に伴う危険
性を回避して安全性を確保しながら、被処理物を熱処理
装置から取り出すことができる。
The present invention configured as described above has the following effects. According to the method for removing an object to be processed by the heat treatment apparatus according to the first aspect, the heat-treated object is immediately carried out from the process tube to the purge chamber in a high temperature state while the processing gas is supplied to prevent deterioration of the processing result. So
The cooling time and the gas replacement time in the process tube become unnecessary, and the process time is shortened accordingly. Although the processing gas leaks into the purge chamber by carrying out, the concentration of the processing gas in the gas in the heat treatment apparatus is diluted by the inert gas filled in the purge chamber, thereby avoiding the danger associated with the properties of the processing gas. The object to be processed can be taken out of the heat treatment apparatus while ensuring safety.

【0017】請求項2の熱処理装置によれば、処理ガス
が連続的に供給されるプロセスチューブと、これに隣接
して不活性ガスで満たされたパージ室とを設けたので、
熱処理された被処理物を高温状態のまま直ちにプロセス
チューブからパージ室に搬出しても、パージ室内に満た
された不活性ガスによって熱処理装置内の気体中の処理
ガス濃度は希釈される。従って、処理ガスの性質に伴う
危険性を回避しながら被処理物を熱処理装置から早期に
取り出して、プロセス時間を短縮することができる。ま
た、処理ガスが連続的に供給され続けていることによっ
て、搬出中にも高温の被処理物は処理ガスを浴びている
ので、処理結果の劣化を生じない。
According to the heat treatment apparatus of the present invention, a process tube to which a processing gas is continuously supplied and a purge chamber filled with an inert gas are provided adjacent to the process tube.
Even if the heat-treated object is immediately carried out of the process tube to the purge chamber in a high temperature state, the concentration of the processing gas in the gas in the heat treatment apparatus is diluted by the inert gas filled in the purge chamber. Therefore, the object to be processed can be taken out of the heat treatment apparatus at an early stage while avoiding the danger associated with the properties of the processing gas, and the processing time can be reduced. Further, since the processing gas is continuously supplied, the high-temperature processing object is exposed to the processing gas even during unloading, so that the processing result does not deteriorate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る熱処理装置の構成を
示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a heat treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記熱処理装置の実体構造に合わせてブロック
的に示した排気配管系統(一部吸気配管を含む。)図で
ある。
FIG. 2 is an exhaust piping system (including a part of intake piping) shown in a block diagram in accordance with the actual structure of the heat treatment apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プロセスチューブ 2 Nパージ室 3 ヒータ 10 被処理物 L 昇降装置1 process tube 2 N 2 purge chamber 3 heater 10 treatment object L lifting device

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F27D 11/02 F27D 11/02 B Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) F27D 11/02 F27D 11/02 B

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】処理ガスを供給しつつ熱処理装置のプロセ
スチューブ内で被処理物の熱処理を行うとともに、前記
プロセスチューブに隣接したパージ室の空気を不活性ガ
スにより置換して酸素濃度を所定の低濃度値とし、 前記処理ガスを供給しつつ、熱処理された前記被処理物
を高温状態のまま前記プロセスチューブから前記パージ
室に搬出するとともに、前記処理ガスを前記パージ室内
に満たされた不活性ガスによって希釈し、 搬出された前記被処理物を前記熱処理装置から取り出す
ことを特徴とする熱処理装置の被処理物取り出し方法。
1. An object to be processed is heat-treated in a process tube of a heat treatment apparatus while supplying a processing gas, and an oxygen gas is replaced with an inert gas in a purge chamber adjacent to the process tube to reduce an oxygen concentration to a predetermined value. A low-concentration value, while supplying the processing gas, carrying out the heat-treated object to be processed from the process tube to the purge chamber in a high-temperature state, and filling the purge chamber with the processing gas. A method for removing an object to be processed by a heat treatment apparatus, wherein the object to be processed is diluted with a gas and taken out from the heat treatment apparatus.
【請求項2】処理ガスが連続的に給排され、熱処理を行
う被処理物が搬入されるプロセスチューブと、 前記プロセスチューブ内の被処理物を加熱するヒータ
と、 前記プロセスチューブに隣接して設けられ、予め内部の
空気が不活性ガスによって置換されることにより酸素濃
度が所定の低濃度値になっている状態で、熱処理後の前
記被処理物を受け入れるパージ室と、 前記パージ室と前記プロセスチューブ内との間で前記被
処理物の搬入・搬出を行うローディング装置とを備えた
ことを特徴とする熱処理装置。
2. A process tube to which a processing gas is continuously supplied and discharged and into which a processing object to be subjected to heat treatment is carried in; a heater for heating the processing object in the process tube; A purge chamber for receiving the object to be processed after the heat treatment in a state in which the oxygen concentration is a predetermined low concentration value by replacing the internal air with an inert gas in advance, the purge chamber, A heat treatment apparatus, comprising: a loading device for carrying in / out the object to / from a process tube.
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