JP2000153153A - 物質流を精製するための触媒および方法 - Google Patents
物質流を精製するための触媒および方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／ま
たはアンチモン含有触媒毒に対して著しい耐性を示す触
媒ならびに硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／ま
たはアンチモン含有触媒毒で汚染された流れからアルキ
ン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素を
簡単な方法で除去することができる方法を見い出す。 【解決手段】 その活性組成物中に元素の周期律表の第
１０族の少なくとも１種の金属または金属化合物０．０
５〜１．０重量％および元素の周期律表の第１１族の少
なくとも１種の金属または金属化合物０．０５〜１．０
重量％を含有し、その際に第１１族の金属と第１０族の
金属との重量比が０．９５〜１．０５であり、担体とし
てＳｉＯ2含有触媒の担体が２〜４００ｍ2／ｇのＢＥＴ
表面積を有している触媒の場合に、該触媒の全気孔容積
の少なくとも２０％が１００ナノメートルを上廻る直径
を有する気孔によって形成されている。
たはアンチモン含有触媒毒に対して著しい耐性を示す触
媒ならびに硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／ま
たはアンチモン含有触媒毒で汚染された流れからアルキ
ン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素を
簡単な方法で除去することができる方法を見い出す。 【解決手段】 その活性組成物中に元素の周期律表の第
１０族の少なくとも１種の金属または金属化合物０．０
５〜１．０重量％および元素の周期律表の第１１族の少
なくとも１種の金属または金属化合物０．０５〜１．０
重量％を含有し、その際に第１１族の金属と第１０族の
金属との重量比が０．９５〜１．０５であり、担体とし
てＳｉＯ2含有触媒の担体が２〜４００ｍ2／ｇのＢＥＴ
表面積を有している触媒の場合に、該触媒の全気孔容積
の少なくとも２０％が１００ナノメートルを上廻る直径
を有する気孔によって形成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、物質流からアルキ
ン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素を
除去するための触媒および方法に関する。
ン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素を
除去するための触媒および方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】数多くの異なる化学的方法において物質
流は、１つまたはそれ以上の触媒上で反応され、反応生
成物を生成させる。このような方法の１例は、オレフィ
ン、例えばエチレンまたはプロピレンをメタロセン触媒
上で重合させ、相応するポリオレフィンを生じさせるこ
とにある。
流は、１つまたはそれ以上の触媒上で反応され、反応生
成物を生成させる。このような方法の１例は、オレフィ
ン、例えばエチレンまたはプロピレンをメタロセン触媒
上で重合させ、相応するポリオレフィンを生じさせるこ
とにある。
【０００３】このような方法に使用される触媒は、触媒
毒として知られている一定の不純物に対して大抵の場合
に敏感であり、この触媒毒は、過剰量で触媒と接触した
場合には、触媒の性質、例えば活性、選択度または運転
寿命に不利な影響を及ぼす。一般に、触媒の活性中心
は、触媒毒によって占有されており、したがって望まし
い反応を触媒反応させるためには、もはや有効ではな
い。それ故に、触媒を使用する場合には、触媒が接触さ
れる供給流が触媒毒を少しも運搬することがないように
注意しなければならないし、せいぜい触媒毒の量は、触
媒毒の除去にとって経済的に見合う出費で触媒が選択
度、活性および運転寿命の点において経済的に満足に運
転されることができる程度であるように注意しなければ
ならない。多数の金属触媒にとって公知の触媒毒は、例
えば硫黄、砒素およびアンチモンである。
毒として知られている一定の不純物に対して大抵の場合
に敏感であり、この触媒毒は、過剰量で触媒と接触した
場合には、触媒の性質、例えば活性、選択度または運転
寿命に不利な影響を及ぼす。一般に、触媒の活性中心
は、触媒毒によって占有されており、したがって望まし
い反応を触媒反応させるためには、もはや有効ではな
い。それ故に、触媒を使用する場合には、触媒が接触さ
れる供給流が触媒毒を少しも運搬することがないように
注意しなければならないし、せいぜい触媒毒の量は、触
媒毒の除去にとって経済的に見合う出費で触媒が選択
度、活性および運転寿命の点において経済的に満足に運
転されることができる程度であるように注意しなければ
ならない。多数の金属触媒にとって公知の触媒毒は、例
えば硫黄、砒素およびアンチモンである。
【０００４】供給流中の存在する幾つかの不純物は、使
用された触媒に永続的に損傷を与えるものではないが、
望ましくない二次反応をまねき、こうして例えば生成物
の品質を低下させる。このような不純物の１例は、メタ
ロセン触媒反応によるオレフィン重合においてのオレフ
ィン中のアルキンであり、これは、生成物の重要な性
質、例えば分子量分布、重合の立体特異性または重合体
製品の安定性に不利な影響を及ぼす。勿論、このような
問題は、非触媒反応においても起こりうる。
用された触媒に永続的に損傷を与えるものではないが、
望ましくない二次反応をまねき、こうして例えば生成物
の品質を低下させる。このような不純物の１例は、メタ
ロセン触媒反応によるオレフィン重合においてのオレフ
ィン中のアルキンであり、これは、生成物の重要な性
質、例えば分子量分布、重合の立体特異性または重合体
製品の安定性に不利な影響を及ぼす。勿論、このような
問題は、非触媒反応においても起こりうる。
【０００５】それ故に、概して、供給流は、当該反応に
おいて問題を生じるであろう不純物の除去のために反応
への使用前に精製処理を通過する。この種類の数多くの
精製処理、例えば種々の溶剤を用いてのスクラビング、
吸着剤、例えばゼオライトまたは活性化炭素上への不純
物の吸着処理、または望ましくない不純物が膜を用いて
１つの流れから除去される処理は、公知である。
おいて問題を生じるであろう不純物の除去のために反応
への使用前に精製処理を通過する。この種類の数多くの
精製処理、例えば種々の溶剤を用いてのスクラビング、
吸着剤、例えばゼオライトまたは活性化炭素上への不純
物の吸着処理、または望ましくない不純物が膜を用いて
１つの流れから除去される処理は、公知である。
【０００６】例えば、米国特許第４８６１９３９号明細
書には、砒素をナフサから除去する方法が教示されてお
り、この場合、ナフサは、酸化ニッケルおよびニッケル
を含有する吸着剤との接触によって砒素含有化合物が大
部分除去されている。
書には、砒素をナフサから除去する方法が教示されてお
り、この場合、ナフサは、酸化ニッケルおよびニッケル
を含有する吸着剤との接触によって砒素含有化合物が大
部分除去されている。
【０００７】物質流の精製のために触媒が使用される方
法は、未だ少なく、通常は、特殊な流れ中の少数の特殊
な不純物の除去に限定されている。３５０〜４５０℃で
ＣｏＯ／ＭｏＯ3触媒またはＮｉＯ／ＭｏＯ3触媒上での
炭化水素の水素化脱硫および形成された硫化水素のその
後の吸着、二酸化炭素および水素を形成させるためのＦ
ｅＯ／Ｃｒ2Ｏ3触媒またはＣｏＯ／ＭｏＯ3触媒上での
一酸化炭素と水との高温または低温反応ならびにニッケ
ル触媒上での水素を用いてのＣＯおよびＣＯ2のメタン
化法は、最もよく知られた方法であり、一般に教科書の
知識である。
法は、未だ少なく、通常は、特殊な流れ中の少数の特殊
な不純物の除去に限定されている。３５０〜４５０℃で
ＣｏＯ／ＭｏＯ3触媒またはＮｉＯ／ＭｏＯ3触媒上での
炭化水素の水素化脱硫および形成された硫化水素のその
後の吸着、二酸化炭素および水素を形成させるためのＦ
ｅＯ／Ｃｒ2Ｏ3触媒またはＣｏＯ／ＭｏＯ3触媒上での
一酸化炭素と水との高温または低温反応ならびにニッケ
ル触媒上での水素を用いてのＣＯおよびＣＯ2のメタン
化法は、最もよく知られた方法であり、一般に教科書の
知識である。
【０００８】オイル アンド ガス ジャーナル（Oil
& Gas Journal）、１９９４年１０月発行、第５０〜５
５頁には、フィナ リサーチ社（Fina Research FA）、
フェリュイ（Feluy）在、ベルギー国、の”三重（Tripl
e）Ｐ”または”プロピレン艶出法（Propylene Polyshi
ng Process）”が記載されている。この方法は、重合の
ために高度に純粋なプロピレンを製造する目的で、プロ
ピレンからの硫黄含有化合物、砒素およびスチルビン、
酸素、ＣＯおよびＣＯ2ならびに水素の除去に使用され
る。この方法は、特殊な吸着剤を利用しているが、吸着
剤の除去または水素以外の全ての不純物については詳細
に開示されておらず；この吸着剤は、付加的に水素を用
いてのプロペンの水素化のための触媒として働き、こう
して水素を接触的に除去する。
& Gas Journal）、１９９４年１０月発行、第５０〜５
５頁には、フィナ リサーチ社（Fina Research FA）、
フェリュイ（Feluy）在、ベルギー国、の”三重（Tripl
e）Ｐ”または”プロピレン艶出法（Propylene Polyshi
ng Process）”が記載されている。この方法は、重合の
ために高度に純粋なプロピレンを製造する目的で、プロ
ピレンからの硫黄含有化合物、砒素およびスチルビン、
酸素、ＣＯおよびＣＯ2ならびに水素の除去に使用され
る。この方法は、特殊な吸着剤を利用しているが、吸着
剤の除去または水素以外の全ての不純物については詳細
に開示されておらず；この吸着剤は、付加的に水素を用
いてのプロペンの水素化のための触媒として働き、こう
して水素を接触的に除去する。
【０００９】米国特許第３４２０６１８号明細書には、
酸化アルミニウム担体上のパラジウムからなる触媒上で
の水素化によって合成ガス流からアセチレン、エチレン
および酸素を除去する方法が教示されている。
酸化アルミニウム担体上のパラジウムからなる触媒上で
の水素化によって合成ガス流からアセチレン、エチレン
および酸素を除去する方法が教示されている。
【００１０】米国テキサス州ヒューストン市において１
９９３年５月２７日に開催された”MetCon '93”、第４
期間でアートリップ（D. J. Artrip）、ヘリオン（C. H
erion）およびマイスナー（R. Meissner）によって発表
された論文には、重合反応についてオレフィン流から種
々の不純物を除去するための４工程法が開示された。こ
の方法の場合、砒素含有化合物および硫黄含有化合物
は、第１工程で酸化銅および酸化亜鉛を含有する吸着剤
上に吸着される。第２工程で、アセチレンおよびジエン
は、水素化にとって十分な量の水素の添加後にパラジウ
ム含有触媒上で水素化され、オレフィンに変わる。第３
の処理工程で、存在する酸素は、金属銅触媒上で除去さ
れる。第４の最後の処理工程で、なお存在する残留一酸
化炭素は、酸化銅触媒上で二酸化炭素に変換され、あら
ゆる残留水素は、同様に酸化され、水に変わる。
９９３年５月２７日に開催された”MetCon '93”、第４
期間でアートリップ（D. J. Artrip）、ヘリオン（C. H
erion）およびマイスナー（R. Meissner）によって発表
された論文には、重合反応についてオレフィン流から種
々の不純物を除去するための４工程法が開示された。こ
の方法の場合、砒素含有化合物および硫黄含有化合物
は、第１工程で酸化銅および酸化亜鉛を含有する吸着剤
上に吸着される。第２工程で、アセチレンおよびジエン
は、水素化にとって十分な量の水素の添加後にパラジウ
ム含有触媒上で水素化され、オレフィンに変わる。第３
の処理工程で、存在する酸素は、金属銅触媒上で除去さ
れる。第４の最後の処理工程で、なお存在する残留一酸
化炭素は、酸化銅触媒上で二酸化炭素に変換され、あら
ゆる残留水素は、同様に酸化され、水に変わる。
【００１１】ドイツ特許出願第１９７１０７６２．１号
（PCT EP98/01469に対応）には、３つ以下の処理工程で
物質流を処理する方法が教示されており、この場合Ｓｉ
Ｏ2含有触媒担体上のパラジウム含有および銀含有の触
媒は、第１の精製工程で使用され、物質流からアルキ
ン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素が
除去される。
（PCT EP98/01469に対応）には、３つ以下の処理工程で
物質流を処理する方法が教示されており、この場合Ｓｉ
Ｏ2含有触媒担体上のパラジウム含有および銀含有の触
媒は、第１の精製工程で使用され、物質流からアルキ
ン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素が
除去される。
【００１２】ドイツ特許出願公開第３１１９８５０号公
報には、Ｃ４留分中のブタジエンの選択的水素化のため
の１０〜２００ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有する二酸化
珪素担体上のパラジウム０．０５〜０．５重量％および
銀０．０５〜１重量％を含有する触媒の使用が教示され
ている。この触媒の特殊な実施態様は、０．７：１〜
３：１および１：１〜２．５：１の銀とパラジウムとの
重量比を有することにある。
報には、Ｃ４留分中のブタジエンの選択的水素化のため
の１０〜２００ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有する二酸化
珪素担体上のパラジウム０．０５〜０．５重量％および
銀０．０５〜１重量％を含有する触媒の使用が教示され
ている。この触媒の特殊な実施態様は、０．７：１〜
３：１および１：１〜２．５：１の銀とパラジウムとの
重量比を有することにある。
【００１３】特開昭６０−２４８２３７号公報には、巨
大な気孔の高い割合を有する触媒担体を製造する方法が
開示されている。欧州特許出願公開第６５３２４３号公
報には、活性組成物が本質的に中位の気孔および巨大な
気孔中に存在する触媒を製造する方法が開示されてい
る。
大な気孔の高い割合を有する触媒担体を製造する方法が
開示されている。欧州特許出願公開第６５３２４３号公
報には、活性組成物が本質的に中位の気孔および巨大な
気孔中に存在する触媒を製造する方法が開示されてい
る。
【００１４】工業化学において精製された物質流が著し
く重要であることに関連して、新規のガス精製法および
改善されたガス精製法が必要であることは依然として存
在する。
く重要であることに関連して、新規のガス精製法および
改善されたガス精製法が必要であることは依然として存
在する。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、公知
の触媒および方法の欠点を受け入れる必要なしに、簡単
な方法でアルキン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および
／または酸素を物質流から除去することができる触媒お
よび精製法を見い出すことである。本発明の特別な目的
は、硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはア
ンチモン含有触媒毒に対して著しい耐性を示す触媒なら
びに硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはア
ンチモン含有触媒毒で汚染された流れからアルキン、ジ
エン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素を簡単な
方法で除去することができる方法を見い出すことであ
る。
の触媒および方法の欠点を受け入れる必要なしに、簡単
な方法でアルキン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および
／または酸素を物質流から除去することができる触媒お
よび精製法を見い出すことである。本発明の特別な目的
は、硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはア
ンチモン含有触媒毒に対して著しい耐性を示す触媒なら
びに硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはア
ンチモン含有触媒毒で汚染された流れからアルキン、ジ
エン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素を簡単な
方法で除去することができる方法を見い出すことであ
る。
【００１６】
【課題を解決するための手段】この目的は、触媒の全気
孔容積の少なくとも２０％が１００ナノメートルを上廻
る直径を有する気孔によって形成されていることによっ
て特徴付けられている、この触媒活性組成物中に元素の
周期律表の第１０族の少なくとも１種の金属または金属
化合物０．０５〜１．０重量％および元素の周期律表の
第１１族の少なくとも１種の金属または金属化合物０．
０５〜１．０重量％を含有し、上記第１１族の金属と第
１０族の金属との重量比が０．９５〜１．０５であり、
さらに担体として２〜４００ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を
有するＳｉＯ2含有触媒の担体を含む触媒によって達成
されることが見い出された。
孔容積の少なくとも２０％が１００ナノメートルを上廻
る直径を有する気孔によって形成されていることによっ
て特徴付けられている、この触媒活性組成物中に元素の
周期律表の第１０族の少なくとも１種の金属または金属
化合物０．０５〜１．０重量％および元素の周期律表の
第１１族の少なくとも１種の金属または金属化合物０．
０５〜１．０重量％を含有し、上記第１１族の金属と第
１０族の金属との重量比が０．９５〜１．０５であり、
さらに担体として２〜４００ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を
有するＳｉＯ2含有触媒の担体を含む触媒によって達成
されることが見い出された。
【００１７】更に、アルキン、ジエン、モノ不飽和炭化
水素および／または酸素を含有する流れを水素と本発明
による触媒の存在で反応させることによって特徴付けら
れている、物質流からアルキン、ジエン、モノ不飽和炭
化水素および／または酸素を水素化によって除去する方
法が見い出された。
水素および／または酸素を含有する流れを水素と本発明
による触媒の存在で反応させることによって特徴付けら
れている、物質流からアルキン、ジエン、モノ不飽和炭
化水素および／または酸素を水素化によって除去する方
法が見い出された。
【００１８】本発明による触媒は、殊に供給材料中の硫
黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはアンチモ
ン含有触媒毒に対して極めて高い許容度を示し、この触
媒がこのような触媒毒によって汚染された流れ中のアル
キン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素
を水素化する方法の場合に経済的に満足な方法で使用さ
れることを可能にする。この触媒は、供給材料中の硫黄
含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはアンチモン
含有触媒毒によって失活されず、アルキン、ジエン、モ
ノ不飽和炭化水素および／または酸素の水素化の際の触
媒活性は、このような触媒毒によって実質的に不利な影
響を及ぼされず、したがって長い運転寿命を達成するこ
とができ、同時に存在するあらゆるアルキン、殊にアセ
チレンは、銅含有触媒を用いて通常実施される硫黄含有
触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはアンチモン含有
触媒毒の除去前に除去されることができ、その結果、ア
セチレン銅または他の析出物（汚れ）の形成によるあら
ゆる問題は排除されうる。
黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはアンチモ
ン含有触媒毒に対して極めて高い許容度を示し、この触
媒がこのような触媒毒によって汚染された流れ中のアル
キン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素
を水素化する方法の場合に経済的に満足な方法で使用さ
れることを可能にする。この触媒は、供給材料中の硫黄
含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはアンチモン
含有触媒毒によって失活されず、アルキン、ジエン、モ
ノ不飽和炭化水素および／または酸素の水素化の際の触
媒活性は、このような触媒毒によって実質的に不利な影
響を及ぼされず、したがって長い運転寿命を達成するこ
とができ、同時に存在するあらゆるアルキン、殊にアセ
チレンは、銅含有触媒を用いて通常実施される硫黄含有
触媒毒、砒素含有触媒毒および／またはアンチモン含有
触媒毒の除去前に除去されることができ、その結果、ア
セチレン銅または他の析出物（汚れ）の形成によるあら
ゆる問題は排除されうる。
【００１９】本発明による触媒は、元素の周期律表の第
１１族の少なくとも１種の金属または金属化合物を金属
として計算して少なくとも０．０５重量％および元素の
周期律表の第１０族の少なくとも１種の金属または金属
化合物を金属として計算して少なくとも０．０５重量％
含有する。例えば、この触媒は、それぞれの金属または
金属群を０．１重量％を上廻って、好ましくは０．２重
量％を上廻って含有している。この触媒は、それぞれの
金属または金属群（または金属化合物もしくは金属化合
物群）を多くとも１．５重量％含有し、例えばそのつど
１．０重量％未満、好ましくはそのつど０．７重量％未
満含有している。
１１族の少なくとも１種の金属または金属化合物を金属
として計算して少なくとも０．０５重量％および元素の
周期律表の第１０族の少なくとも１種の金属または金属
化合物を金属として計算して少なくとも０．０５重量％
含有する。例えば、この触媒は、それぞれの金属または
金属群を０．１重量％を上廻って、好ましくは０．２重
量％を上廻って含有している。この触媒は、それぞれの
金属または金属群（または金属化合物もしくは金属化合
物群）を多くとも１．５重量％含有し、例えばそのつど
１．０重量％未満、好ましくはそのつど０．７重量％未
満含有している。
【００２０】元素の周期律表の族の番号付けは、純正・
応用化学国際連合（IUPAC）によって推奨されている通
常の番号付けに従っている。第１０族は、元素のニッケ
ル、パラジウムおよび白金から構成されており、第１１
族は、元素の銅、銀および金から構成されている。第１
０族の金属または金属化合物の場合には、触媒は、例え
ばパラジウムまたはパラジウム含有化合物を、好ましく
はこの族の単独の金属または単独の金属化合物として含
み、第１１族の金属または金属化合物の場合には、触媒
は、例えば銀または銀含有化合物を、好ましくはこの族
の単独の金属または単独の金属化合物として含む。触媒
の活性組成物は、好ましくは金属パラジウムおよび金属
銀を含有し；特に好ましくは、活性組成物は、本質的に
金属パラジウムおよび金属銀から形成されている。
応用化学国際連合（IUPAC）によって推奨されている通
常の番号付けに従っている。第１０族は、元素のニッケ
ル、パラジウムおよび白金から構成されており、第１１
族は、元素の銅、銀および金から構成されている。第１
０族の金属または金属化合物の場合には、触媒は、例え
ばパラジウムまたはパラジウム含有化合物を、好ましく
はこの族の単独の金属または単独の金属化合物として含
み、第１１族の金属または金属化合物の場合には、触媒
は、例えば銀または銀含有化合物を、好ましくはこの族
の単独の金属または単独の金属化合物として含む。触媒
の活性組成物は、好ましくは金属パラジウムおよび金属
銀を含有し；特に好ましくは、活性組成物は、本質的に
金属パラジウムおよび金属銀から形成されている。
【００２１】第１１族の金属と第１０族の金属との重量
比（第１１族：第１０族）は、０．９５〜１．０５であ
る。この比は、例えば０．９７よりも大きく、好ましく
は０．９８５よりも大きい。この比は、例えば１．０３
未満、好ましくは１．０１５未満である。特に好ましく
は、１である。
比（第１１族：第１０族）は、０．９５〜１．０５であ
る。この比は、例えば０．９７よりも大きく、好ましく
は０．９８５よりも大きい。この比は、例えば１．０３
未満、好ましくは１．０１５未満である。特に好ましく
は、１である。
【００２２】触媒は、二酸化珪素からなりかつ２〜４０
０ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有する触媒担体を有してい
る。このＢＥＴ表面積は、例えば５ｍ2／ｇよりも大き
く、好ましくは１０ｍ2／ｇよりも大きい。このＢＥＴ
表面積は、例えば３００ｍ2／ｇ未満、好ましくは２０
０ｍ2／ｇ未満、特に好ましくは４０ｍ2／ｇ未満であ
る。触媒担体は、好ましくは珪藻土からなる。
０ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有する触媒担体を有してい
る。このＢＥＴ表面積は、例えば５ｍ2／ｇよりも大き
く、好ましくは１０ｍ2／ｇよりも大きい。このＢＥＴ
表面積は、例えば３００ｍ2／ｇ未満、好ましくは２０
０ｍ2／ｇ未満、特に好ましくは４０ｍ2／ｇ未満であ
る。触媒担体は、好ましくは珪藻土からなる。
【００２３】触媒は、中位の気孔および／または巨大な
気孔を有している。本発明の目的のためには、中位の気
孔は、２０〜１００ナノメートルの直径を有する気孔で
あり、巨大な気孔は、１００ナノメートルを上廻る直径
を有する気孔である。一般に、触媒の全気孔容積の少な
くとも２０％は、巨大な気孔から形成されている。好ま
しくは、全気孔容積の少なくとも３０％、特に好ましく
は少なくとも４０％は、巨大な気孔から形成されてい
る。
気孔を有している。本発明の目的のためには、中位の気
孔は、２０〜１００ナノメートルの直径を有する気孔で
あり、巨大な気孔は、１００ナノメートルを上廻る直径
を有する気孔である。一般に、触媒の全気孔容積の少な
くとも２０％は、巨大な気孔から形成されている。好ま
しくは、全気孔容積の少なくとも３０％、特に好ましく
は少なくとも４０％は、巨大な気孔から形成されてい
る。
【００２４】本発明による触媒の特別な実施態様におい
て、活性組成物は、本質的に触媒の中位の気孔中および
巨大な気孔中に存在している。一般に、８０重量％を上
廻る、特に好ましくは少なくとも９０重量％の活性組成
物は、中位の気孔中および巨大な気孔中に存在してい
る。
て、活性組成物は、本質的に触媒の中位の気孔中および
巨大な気孔中に存在している。一般に、８０重量％を上
廻る、特に好ましくは少なくとも９０重量％の活性組成
物は、中位の気孔中および巨大な気孔中に存在してい
る。
【００２５】本発明による触媒は、当業者に公知の方法
で製造される。１つの方法において、その気孔構造およ
び表面積が本質的に完成された触媒の気孔構造および表
面積を決定する触媒担体が製造される。それ故に、担体
の製造は、望ましい気孔構造および表面積を有する触媒
担体が生じるような方法で実施される。適当な方法は、
当業者に公知である。更に、触媒担体は、通常、活性組
成物の成分またはその前駆化合物、例えば硝酸塩の溶液
で含浸され、乾燥され、活性組成物の成分またはその前
駆化合物は、焼成によって完成活性組成物に変換されお
よび／または例えば反応器中での水素化によって金属へ
の活性組成物の成分の還元に施こされる。１つの選択的
方法として、活性組成物の成分は、担体が製造される間
に担体中に配合されることができる。使用されてもよい
方法の例は、特開昭６０−２４８２３７号公報および欧
州特許出願公開第６５３２４３号公報に記載されてい
る。
で製造される。１つの方法において、その気孔構造およ
び表面積が本質的に完成された触媒の気孔構造および表
面積を決定する触媒担体が製造される。それ故に、担体
の製造は、望ましい気孔構造および表面積を有する触媒
担体が生じるような方法で実施される。適当な方法は、
当業者に公知である。更に、触媒担体は、通常、活性組
成物の成分またはその前駆化合物、例えば硝酸塩の溶液
で含浸され、乾燥され、活性組成物の成分またはその前
駆化合物は、焼成によって完成活性組成物に変換されお
よび／または例えば反応器中での水素化によって金属へ
の活性組成物の成分の還元に施こされる。１つの選択的
方法として、活性組成物の成分は、担体が製造される間
に担体中に配合されることができる。使用されてもよい
方法の例は、特開昭６０−２４８２３７号公報および欧
州特許出願公開第６５３２４３号公報に記載されてい
る。
【００２６】水素化によって物質流からアルキン、ジエ
ン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素を除去する
本発明による方法において、この流れ中に存在するアル
キン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素
は、本発明による触媒の存在で水素と反応される。１つ
の特別な実施態様において、アルキン、ジエン、モノ不
飽和炭化水素および／または酸素は、硫黄含有触媒毒、
砒素含有触媒毒および／またはアンチモン含有触媒毒で
汚染された流れから、本発明による触媒の存在での水素
との反応によって除去される。
ン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素を除去する
本発明による方法において、この流れ中に存在するアル
キン、ジエン、モノ不飽和炭化水素および／または酸素
は、本発明による触媒の存在で水素と反応される。１つ
の特別な実施態様において、アルキン、ジエン、モノ不
飽和炭化水素および／または酸素は、硫黄含有触媒毒、
砒素含有触媒毒および／またはアンチモン含有触媒毒で
汚染された流れから、本発明による触媒の存在での水素
との反応によって除去される。
【００２７】本発明による方法は、アルキン、ジエン、
モノ不飽和炭化水素および／または酸素を、例えば特に
メタロセン触媒上での重合のためのオレフィン流から除
去するか、プラスチック再循環プラントで発生された熱
分解ガスから除去するか、或いは硫黄含有触媒毒、砒素
含有触媒毒および／またはアンチモン含有触媒毒で汚染
されかつ水素化によって除去されうる化合物で汚染され
た流れから除去する。本発明による方法は、気相中でも
液相中でも実施されうる。液相中での場合には、下降流
モードか上昇流モードかは、選択されうる。水素化のた
めには、水素の必要量は、水素化反応器の上流に添加さ
れる。添加されるべき水素の量は、存在しかつ除去され
るべき不純物によって決定され；過剰量、例えば２倍な
いし３倍の過剰量の水素を添加することは、有利であ
る。一般に、水素は、実質的に水素化反応器中で完全に
消費される。アルキンおよびジエンは、好ましくはモノ
不飽和炭化水素上で水素化され、したがって本発明によ
る方法は、アルキンおよびジエンをオレフィン流から除
去することも可能にする。例えば、エチレン流中に存在
するアセチレンまたはプロピレン流中に存在するプロピ
ンもしくはプロパジエンまたはブタジエン流中に存在す
るビニルアセチレンは、水素化によって除去されうる。
しかし、相応するアルケンを形成させるためのアルケン
の水素化の或る程度ではあるが比較的に小さな割合は、
通常、回避することができない。また、本発明による方
法において、酸素は、添加された水素の量によって決定
される程度に有機不飽和化合物と一緒に流れから除去さ
れる。
モノ不飽和炭化水素および／または酸素を、例えば特に
メタロセン触媒上での重合のためのオレフィン流から除
去するか、プラスチック再循環プラントで発生された熱
分解ガスから除去するか、或いは硫黄含有触媒毒、砒素
含有触媒毒および／またはアンチモン含有触媒毒で汚染
されかつ水素化によって除去されうる化合物で汚染され
た流れから除去する。本発明による方法は、気相中でも
液相中でも実施されうる。液相中での場合には、下降流
モードか上昇流モードかは、選択されうる。水素化のた
めには、水素の必要量は、水素化反応器の上流に添加さ
れる。添加されるべき水素の量は、存在しかつ除去され
るべき不純物によって決定され；過剰量、例えば２倍な
いし３倍の過剰量の水素を添加することは、有利であ
る。一般に、水素は、実質的に水素化反応器中で完全に
消費される。アルキンおよびジエンは、好ましくはモノ
不飽和炭化水素上で水素化され、したがって本発明によ
る方法は、アルキンおよびジエンをオレフィン流から除
去することも可能にする。例えば、エチレン流中に存在
するアセチレンまたはプロピレン流中に存在するプロピ
ンもしくはプロパジエンまたはブタジエン流中に存在す
るビニルアセチレンは、水素化によって除去されうる。
しかし、相応するアルケンを形成させるためのアルケン
の水素化の或る程度ではあるが比較的に小さな割合は、
通常、回避することができない。また、本発明による方
法において、酸素は、添加された水素の量によって決定
される程度に有機不飽和化合物と一緒に流れから除去さ
れる。
【００２８】本発明による方法は、貴金属を含有する水
素化触媒にとって常用の水素化条件下で、例えば室温ま
たは室温を上廻る温度、好ましくは４０℃または４０℃
を上廻り、特に好ましくは５０℃または５０℃を上廻っ
て実施される。方法を気相中で実施する場合には、この
方法は、通常、２００℃または２００℃未満、好ましく
は１８０℃または１８０℃未満、特に好ましくは１５０
℃または１５０℃未満で実施される。方法を液相中で実
施する場合には、この方法は、通常、１５０℃または１
５０℃未満、好ましくは１００℃または１００℃未満、
特に好ましくは８０℃または８０℃未満で実施される。
使用されるべき圧力は、方法を気相中で実施する場合に
は、通常、大気圧を上廻り、好ましくは５バールを上廻
り、特に好ましくは１０バールまたは１０バールを上廻
り、および通常、５０バール未満、好ましくは４０バー
ル未満、特に好ましくは３０バールまたは３０バール未
満である。方法を液相中で実施する場合には、圧力は、
通常、５バールを上廻り、好ましくは１０バールを上廻
り、特に好ましくは１５バールまたは１５バールを上廻
り、および通常、１００バール未満、好ましくは８０バ
ール未満、特に好ましくは５０バールまたは５０バール
未満である。空間速度として表わされる、反応器を通過
する処理量は、方法を気相中で実施する場合に、通常、
１００ｈ-1を上廻り、例えば５００ｈ-1を上廻り、好ま
しくは１０００ｈ-1またはそれ以上であり、および通
常、１００００ｈ-1未満、例えば６０００ｈ-1未満、好
ましくは４０００ｈ-1またはそれ以下である。方法を液
相中で実施する場合には、空間速度として表わされる、
反応器を通過する処理量は、通常、少なくとも０．１ｈ
-1、例えば０．５ｈ-1を上廻り、好ましくは１ｈ-1また
はそれ以上であり、および通常、多くとも２０ｈ-1、例
えば１０ｈ-1未満、好ましくは５ｈ-1またはそれ以下で
ある。実際に全ての水素化触媒の場合と同様に、触媒上
の炭素析出物の或る程度緩徐な形成は可能であるが、し
かし、この炭素析出物は、当業者に公知の方法で蒸気お
よび空気を用いての触媒の処理による周期的な脱炭素に
よって除去されうる。一般に、水素化を気相中で実施す
る場合には、１〜２年間の作業周期の長さを達成させる
ことができ、水素化を液相中で実施する場合には、２〜
３年間の作業周期の長さを達成させることができる。触
媒の全体寿命は、５〜１０年間であることができる。
素化触媒にとって常用の水素化条件下で、例えば室温ま
たは室温を上廻る温度、好ましくは４０℃または４０℃
を上廻り、特に好ましくは５０℃または５０℃を上廻っ
て実施される。方法を気相中で実施する場合には、この
方法は、通常、２００℃または２００℃未満、好ましく
は１８０℃または１８０℃未満、特に好ましくは１５０
℃または１５０℃未満で実施される。方法を液相中で実
施する場合には、この方法は、通常、１５０℃または１
５０℃未満、好ましくは１００℃または１００℃未満、
特に好ましくは８０℃または８０℃未満で実施される。
使用されるべき圧力は、方法を気相中で実施する場合に
は、通常、大気圧を上廻り、好ましくは５バールを上廻
り、特に好ましくは１０バールまたは１０バールを上廻
り、および通常、５０バール未満、好ましくは４０バー
ル未満、特に好ましくは３０バールまたは３０バール未
満である。方法を液相中で実施する場合には、圧力は、
通常、５バールを上廻り、好ましくは１０バールを上廻
り、特に好ましくは１５バールまたは１５バールを上廻
り、および通常、１００バール未満、好ましくは８０バ
ール未満、特に好ましくは５０バールまたは５０バール
未満である。空間速度として表わされる、反応器を通過
する処理量は、方法を気相中で実施する場合に、通常、
１００ｈ-1を上廻り、例えば５００ｈ-1を上廻り、好ま
しくは１０００ｈ-1またはそれ以上であり、および通
常、１００００ｈ-1未満、例えば６０００ｈ-1未満、好
ましくは４０００ｈ-1またはそれ以下である。方法を液
相中で実施する場合には、空間速度として表わされる、
反応器を通過する処理量は、通常、少なくとも０．１ｈ
-1、例えば０．５ｈ-1を上廻り、好ましくは１ｈ-1また
はそれ以上であり、および通常、多くとも２０ｈ-1、例
えば１０ｈ-1未満、好ましくは５ｈ-1またはそれ以下で
ある。実際に全ての水素化触媒の場合と同様に、触媒上
の炭素析出物の或る程度緩徐な形成は可能であるが、し
かし、この炭素析出物は、当業者に公知の方法で蒸気お
よび空気を用いての触媒の処理による周期的な脱炭素に
よって除去されうる。一般に、水素化を気相中で実施す
る場合には、１〜２年間の作業周期の長さを達成させる
ことができ、水素化を液相中で実施する場合には、２〜
３年間の作業周期の長さを達成させることができる。触
媒の全体寿命は、５〜１０年間であることができる。
【００２９】本発明による方法の実施後、精製すべき流
れは、なお硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／ま
たはアンチモン含有触媒毒、完全には反応しなかった酸
素、一酸化炭素および／または水素を含有しうる。これ
らの不純物は、必要に応じて、後処理工程で除去される
ことができる。
れは、なお硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および／ま
たはアンチモン含有触媒毒、完全には反応しなかった酸
素、一酸化炭素および／または水素を含有しうる。これ
らの不純物は、必要に応じて、後処理工程で除去される
ことができる。
【００３０】この目的のために、硫黄含有触媒毒、砒素
含有触媒毒および／またはアンチモン含有触媒毒および
／または残留酸素は、第２の精製工程で触媒上での吸着
によって除去されるかまたは部分的に除去されおよび／
または残留酸素、一酸化炭素および／または残留水素
は、少なくとも部分的に接触的に反応され、水および二
酸化炭素を形成させる。この精製工程において、なお存
在する硫黄含有化合物、砒素含有化合物および／または
アンチモン含有化合物および／または残留酸素は、流れ
から除去される。この目的のために、流れは、本発明に
よる方法によって処理された後に、反応器中で、硫黄含
有化合物、砒素含有化合物および／またはアンチモン含
有化合物を吸着しかつ酸素を吸着する触媒上および／ま
たは一酸化炭素および／または水素との反応を促進させ
ることによって流れから酸素を除去する触媒上に通され
る。これは、触媒がさらに金属銅を含有する限り、例え
ば当業者に公知でありかつアートリップ（Artrip）等の
上記引用文献によって記載された、酸化銅および酸化亜
鉛を含有する触媒を用いて達成されうる。
含有触媒毒および／またはアンチモン含有触媒毒および
／または残留酸素は、第２の精製工程で触媒上での吸着
によって除去されるかまたは部分的に除去されおよび／
または残留酸素、一酸化炭素および／または残留水素
は、少なくとも部分的に接触的に反応され、水および二
酸化炭素を形成させる。この精製工程において、なお存
在する硫黄含有化合物、砒素含有化合物および／または
アンチモン含有化合物および／または残留酸素は、流れ
から除去される。この目的のために、流れは、本発明に
よる方法によって処理された後に、反応器中で、硫黄含
有化合物、砒素含有化合物および／またはアンチモン含
有化合物を吸着しかつ酸素を吸着する触媒上および／ま
たは一酸化炭素および／または水素との反応を促進させ
ることによって流れから酸素を除去する触媒上に通され
る。これは、触媒がさらに金属銅を含有する限り、例え
ば当業者に公知でありかつアートリップ（Artrip）等の
上記引用文献によって記載された、酸化銅および酸化亜
鉛を含有する触媒を用いて達成されうる。
【００３１】必要に応じて、残留する一酸化炭素および
水素は、第３の精製工程で吸着および／または化学反応
によって流れから一酸化炭素および／または水素を除去
する触媒上に通過させることによって、精製されるべき
流れから除去されることができる。これは、例えば当業
者に公知でありかつアートリップ（Artrip）等の上記引
用文献によって記載された、酸化銅および酸化亜鉛を含
有する触媒を用いて達成されうる。
水素は、第３の精製工程で吸着および／または化学反応
によって流れから一酸化炭素および／または水素を除去
する触媒上に通過させることによって、精製されるべき
流れから除去されることができる。これは、例えば当業
者に公知でありかつアートリップ（Artrip）等の上記引
用文献によって記載された、酸化銅および酸化亜鉛を含
有する触媒を用いて達成されうる。
【００３２】精製されるべき流れから硫黄含有触媒毒、
砒素含有触媒毒および／またはアンチモン含有触媒毒
および／または過剰の酸素を除去する必要がない場合に
は、記載された第２の精製工程は、本発明による方法の
直後に実施されてよい。
砒素含有触媒毒および／またはアンチモン含有触媒毒
および／または過剰の酸素を除去する必要がない場合に
は、記載された第２の精製工程は、本発明による方法の
直後に実施されてよい。
【００３３】記載された触媒は、一酸化炭素と反応し、
金属銅および二酸化炭素を形成させ、また、水素と反応
し、金属銅および水を形成させる。こうして、運転にお
いて触媒中に存在する酸化銅は、次第に金属銅に変換さ
れ、一酸化炭素および水素を二酸化炭素および水に変換
するための触媒の能力は、時間の経過とともに消耗され
る。第２の精製工程および第３の精製工程において、第
２の精製工程の触媒は、最初に使用される際に流れ中の
一酸化炭素および水素上の化学量論的に過剰量の酸素の
存在で次第に酸化銅に変換される金属銅の割合を有し、
他方、第３の精製工程の触媒は、最初に使用される際に
金属銅を含有していないが、しかし、酸化銅が次第に一
酸化炭素および水素との反応によって金属銅に変換され
るという点でのみ異なる同一の触媒を使用することが原
理的に可能である。こうして、第２の精製工程および第
３の精製工程の双方について、１つの場合には、部分的
に還元された状態で、他の場合には、酸化された状態で
同じ触媒を使用することが可能である。このような触媒
は、商業的に入手可能であり、例えばＲ３−１５の名称
でビー・エイ・エス・エフ社（BASF Aktiengesellschaf
t）、ルートビヒスハーフェン（Ludwigshafen）在、ド
イツ国、から入手することができる。
金属銅および二酸化炭素を形成させ、また、水素と反応
し、金属銅および水を形成させる。こうして、運転にお
いて触媒中に存在する酸化銅は、次第に金属銅に変換さ
れ、一酸化炭素および水素を二酸化炭素および水に変換
するための触媒の能力は、時間の経過とともに消耗され
る。第２の精製工程および第３の精製工程において、第
２の精製工程の触媒は、最初に使用される際に流れ中の
一酸化炭素および水素上の化学量論的に過剰量の酸素の
存在で次第に酸化銅に変換される金属銅の割合を有し、
他方、第３の精製工程の触媒は、最初に使用される際に
金属銅を含有していないが、しかし、酸化銅が次第に一
酸化炭素および水素との反応によって金属銅に変換され
るという点でのみ異なる同一の触媒を使用することが原
理的に可能である。こうして、第２の精製工程および第
３の精製工程の双方について、１つの場合には、部分的
に還元された状態で、他の場合には、酸化された状態で
同じ触媒を使用することが可能である。このような触媒
は、商業的に入手可能であり、例えばＲ３−１５の名称
でビー・エイ・エス・エフ社（BASF Aktiengesellschaf
t）、ルートビヒスハーフェン（Ludwigshafen）在、ド
イツ国、から入手することができる。
【００３４】精製工程のこのような組合せは、公知の精
製法の欠点、殊に重大な汚れの問題またはアセチレン銅
の形成の可能性を回避させ、多くとも３つの精製工程
で、公知方法よりも経済的でもある。
製法の欠点、殊に重大な汚れの問題またはアセチレン銅
の形成の可能性を回避させ、多くとも３つの精製工程
で、公知方法よりも経済的でもある。
【００３５】述べられた不純物が記載された方法によっ
て除去された流れは、精製の経過中に形成された副生成
物、即ち二酸化炭素、水および／またはアルカンの割合
を有している。これらの副生成物は、一般に精製された
流れが施こされる後反応中で不活性である。しかし、必
要に応じてかまたは望ましい場合には、これらの副生成
物は、当業者に公知の方法を用いて本発明による方法の
実施後に、例えば微孔質固体上での吸着によって精製さ
れた流れから除去されてもよい。
て除去された流れは、精製の経過中に形成された副生成
物、即ち二酸化炭素、水および／またはアルカンの割合
を有している。これらの副生成物は、一般に精製された
流れが施こされる後反応中で不活性である。しかし、必
要に応じてかまたは望ましい場合には、これらの副生成
物は、当業者に公知の方法を用いて本発明による方法の
実施後に、例えば微孔質固体上での吸着によって精製さ
れた流れから除去されてもよい。
【００３６】
【実施例】実施例 セライト（Celite（登録商標））２０９珪藻土４０ｋｇ
（Manville Corp., U.S.A.の登録商標）およびＳｉＯ2
粉末１２．９ｋｇ（D11-10の名称でBASF Aktiengesells
chaft, Ludwigshafenから入手可能）をアクアリック（A
qualic（登録商標））ＣＡ Ｗ３ポリアクリレート１ｋ
ｇ（BASF Aktiengesellschaft, Ludwigshafenから入手
可能）とミックス−ミュラー（Mix-Muller）（パンミ
ル）中で緊密に混合した。脱イオン水４４ｋｇをパンミ
ル中での混合中に添加した。５分間に亘って、ナトリウ
ム水ガラス溶液３．６ｋｇおよび濃度２５％のアンモニ
ア水溶液２．７リットルを添加した。パンミル中での１
５分間の混合の後、さらに水３リットルを添加した。生
じる塊状物を押出し、４ｍｍの押出物を生じさせ、次に
１２０℃で２時間乾燥させ、８００℃で２時間焼成し
た。生じる担体は、５００ｇ／ｌのねじ立て密度（tapp
ed density）および０．７６ｍｌ／ｇの全多孔度を有し
ていた。巨大な気孔によって形成された全多孔度の割合
は、１００％であり、ＢＥＴ表面積は、３．８ｍ2／ｇ
であった。活性組成物の成分として、パラジウムおよび
銀を、”初期湿潤度”法（即ち、含浸溶液をまさに完全
に担体に吸着させる）を用いて硝酸パラジウムおよび硝
酸銀の水溶液で含浸することによって適用した。含浸さ
れた押出品を１２０℃で１６時間乾燥させ、２５０℃で
５時間焼成した。完成触媒は、パラジウム０．５重量％
および銀０．５重量％を含有していた。
（Manville Corp., U.S.A.の登録商標）およびＳｉＯ2
粉末１２．９ｋｇ（D11-10の名称でBASF Aktiengesells
chaft, Ludwigshafenから入手可能）をアクアリック（A
qualic（登録商標））ＣＡ Ｗ３ポリアクリレート１ｋ
ｇ（BASF Aktiengesellschaft, Ludwigshafenから入手
可能）とミックス−ミュラー（Mix-Muller）（パンミ
ル）中で緊密に混合した。脱イオン水４４ｋｇをパンミ
ル中での混合中に添加した。５分間に亘って、ナトリウ
ム水ガラス溶液３．６ｋｇおよび濃度２５％のアンモニ
ア水溶液２．７リットルを添加した。パンミル中での１
５分間の混合の後、さらに水３リットルを添加した。生
じる塊状物を押出し、４ｍｍの押出物を生じさせ、次に
１２０℃で２時間乾燥させ、８００℃で２時間焼成し
た。生じる担体は、５００ｇ／ｌのねじ立て密度（tapp
ed density）および０．７６ｍｌ／ｇの全多孔度を有し
ていた。巨大な気孔によって形成された全多孔度の割合
は、１００％であり、ＢＥＴ表面積は、３．８ｍ2／ｇ
であった。活性組成物の成分として、パラジウムおよび
銀を、”初期湿潤度”法（即ち、含浸溶液をまさに完全
に担体に吸着させる）を用いて硝酸パラジウムおよび硝
酸銀の水溶液で含浸することによって適用した。含浸さ
れた押出品を１２０℃で１６時間乾燥させ、２５０℃で
５時間焼成した。完成触媒は、パラジウム０．５重量％
および銀０．５重量％を含有していた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 32/00 Ｂ０１Ｊ 33/00 Ｂ 33/00 35/10 ３０１Ｈ 35/10 ３０１ ３０１Ｊ Ｃ０７Ｂ 63/02 Ｅ Ｃ０７Ｂ 63/02 Ｃ０７Ｃ 11/04 Ｃ０７Ｃ 11/04 11/06 11/06 Ｂ０１Ｊ 23/74 ３２１Ｍ (72)発明者 ルプレヒト、マイスナー ドイツ、67273、ヴァイゼンハイム、ヨー ハン−ゲオルク−レーマン−シュトラー セ、８ (72)発明者 ヴェルナー、ヘフナー ドイツ、68623、ラムペルトハイム、イン、 デァ、タイヒゲヴァン、20 (72)発明者 ライナー、フェザー ドイツ、67269、グリューンシュタット、 コルゲンシュタイナー、ヴェーク、25 (72)発明者 ファービアーン、クンツ ドイツ、67112、ムターシュタット、フォ ン−ケテラー−シュトラーセ、９
Claims (10)
- 【請求項１】 触媒活性組成物中に元素の周期律表の第
１０族の少なくとも１種の金属または金属化合物０．０
５〜１．０重量％および元素の周期律表の第１１族の少
なくとも１種の金属または金属化合物０．０５〜１．０
重量％を含有し、上記第１１族の金属と第１０族の金属
との重量比が０．９５〜１．０５であり、さらに担体と
して２〜４００ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有するＳｉＯ2
含有触媒の担体を含む触媒において、該触媒の全気孔容
積の少なくとも２０％が１００ナノメートルを上廻る直
径を有する気孔によって形成されていることを特徴とす
る、触媒。 - 【請求項２】 周期律表の第１０族の金属がパラジウム
であることを特徴とする、請求項１記載の触媒。 - 【請求項３】 周期律表の第１１族の金属が銀であるこ
とを特徴とする、請求項１記載の触媒。 - 【請求項４】 活性組成物が金属パラジウムおよび金属
銀を含有することを特徴とする、請求項１記載の触媒。 - 【請求項５】 担体が珪藻土を含有することを特徴とす
る、請求項１記載の触媒。 - 【請求項６】 アルキン、ジエン、モノ不飽和炭化水素
および／または酸素を含有する物質流を、請求項１の記
載と同様の触媒の存在下に水素と反応させることを特徴
とする、物質流からアルキン、ジエン、モノ不飽和炭化
水素および／または酸素を水素化によって除去する方
法。 - 【請求項７】 硫黄含有触媒毒、砒素含有触媒毒および
／またはアンチモン含有触媒毒で汚染された流れを使用
することを特徴とする、請求項６記載の方法。 - 【請求項８】 次の第２の精製工程で硫黄含有化合物、
砒素含有化合物および／またはアンチモン含有化合物お
よび／または残留酸素を、触媒上への吸着によって部分
的または完全に流れから除去し、および／または存在す
る残留酸素、あらゆる一酸化炭素および／または残留水
素を少なくとも部分的に触媒反応により水および二酸化
炭素に変換することを特徴とする、請求項７記載の方
法。 - 【請求項９】 次の第２の精製工程で存在するあらゆる
一酸化炭素および／または残留水素を触媒上で二酸化炭
素および／または水に変換することを特徴とする、請求
項７記載の方法。 - 【請求項１０】 次の第３の精製工程で存在するあらゆ
る一酸化炭素および／または残留水素を触媒上で二酸化
炭素および／または水に変換することを特徴とする、請
求項８記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19840372A DE19840372A1 (de) | 1998-09-04 | 1998-09-04 | Katalysator und Verfahren zur Reinigung von Stoffströmen |
| DE19840372.0 | 1998-09-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000153153A true JP2000153153A (ja) | 2000-06-06 |
| JP4573930B2 JP4573930B2 (ja) | 2010-11-04 |
Family
ID=7879820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28996499A Expired - Fee Related JP4573930B2 (ja) | 1998-09-04 | 1999-09-03 | 物質流を精製するための触媒および方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6204218B1 (ja) |
| EP (1) | EP0983794B1 (ja) |
| JP (1) | JP4573930B2 (ja) |
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