JP2000035669A - ネガ型画像記録材料 - Google Patents
ネガ型画像記録材料Info
- Publication number
- JP2000035669A JP2000035669A JP10203925A JP20392598A JP2000035669A JP 2000035669 A JP2000035669 A JP 2000035669A JP 10203925 A JP10203925 A JP 10203925A JP 20392598 A JP20392598 A JP 20392598A JP 2000035669 A JP2000035669 A JP 2000035669A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acid
- integer
- recording material
- image recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 65
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 25
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 229920003987 resole Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 27
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 21
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 18
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 15
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 36
- -1 hydroxyethyl groups Chemical group 0.000 abstract description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 4
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 abstract 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 53
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 41
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 37
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 33
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 23
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 20
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 9
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 7
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 6
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 6
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 4
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 4
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N (2-aminoethyl)phosphonic acid Chemical compound [NH3+]CCP(O)([O-])=O QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 2
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- CHKVPAROMQMJNQ-UHFFFAOYSA-M potassium bisulfate Chemical compound [K+].OS([O-])(=O)=O CHKVPAROMQMJNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000343 potassium bisulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZGWFCGJZKJUFP-UHFFFAOYSA-N tyramine Chemical compound NCCC1=CC=C(O)C=C1 DZGWFCGJZKJUFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroxypropan-2-yl formate Chemical compound OCC(CO)OC=O LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCOC(=O)C=C NYUTUWAFOUJLKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N Sorbitan monopalmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N [(2R)-2-[(2R,3R,4S)-4-hydroxy-3-octadecanoyloxyoxolan-2-yl]-2-octadecanoyloxyethyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- XQAXGZLFSSPBMK-UHFFFAOYSA-M [7-(dimethylamino)phenothiazin-3-ylidene]-dimethylazanium;chloride;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Cl-].C1=CC(=[N+](C)C)C=C2SC3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 XQAXGZLFSSPBMK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N alpha-glycerophosphate Natural products OCC(O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229960001760 dimethyl sulfoxide Drugs 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 125000004216 fluoromethyl group Chemical group [H]C([H])(F)* 0.000 description 1
- GFAUNYMRSKVDJL-UHFFFAOYSA-N formyl chloride Chemical compound ClC=O GFAUNYMRSKVDJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical group 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001389 inorganic alkali salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(P(O)(=O)O)=CC=CC2=C1 YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N oxolan-2-ylmethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC1CCCO1 GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical class OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- NIXKBAZVOQAHGC-UHFFFAOYSA-N phenylmethanesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1 NIXKBAZVOQAHGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- FQLQNUZHYYPPBT-UHFFFAOYSA-N potassium;azane Chemical compound N.[K+] FQLQNUZHYYPPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N propanoyl chloride Chemical compound CCC(Cl)=O RZWZRACFZGVKFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- RAPZEAPATHNIPO-UHFFFAOYSA-N risperidone Chemical compound FC1=CC=C2C(C3CCN(CC3)CCC=3C(=O)N4CCCCC4=NC=3C)=NOC2=C1 RAPZEAPATHNIPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N sn-glycerol 3-phosphate Chemical compound OC[C@@H](O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 229940100515 sorbitan Drugs 0.000 description 1
- 239000001570 sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 235000011071 sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 229940031953 sorbitan monopalmitate Drugs 0.000 description 1
- 239000001589 sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 235000011078 sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 229960004129 sorbitan tristearate Drugs 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 150000005621 tetraalkylammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072958 tetrahydrofurfuryl oleate Drugs 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- 150000007944 thiolates Chemical class 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003732 tyramine Drugs 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0382—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable the macromolecular compound being present in a chemically amplified negative photoresist composition
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/04—Intermediate layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/12—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by non-macromolecular organic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
- B41M5/46—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography characterised by the light-to-heat converting means; characterised by the heat or radiation filtering or absorbing means or layers
- B41M5/465—Infrared radiation-absorbing materials, e.g. dyes, metals, silicates, C black
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 赤外線レーザを用いてデジタルデータから直
接製版可能であり、レーザに対して高感度で、高湿条件
下での保存安定性が良好で、且つ、耐刷性に優れたネガ
型画像記録材料を提供する。 【解決手段】 (A)酸により架橋する化合物と、
(B)バインダーポリマーと、(C)熱により酸を発生
する化合物と、(D)赤外線吸収剤を含むネガ型画像記
録材料において、(A)酸により架橋する化合物が下記
一般式(I)で表される低分子フェノール誘導体と下記
一般式(II)で表される多核型フェノール性架橋剤及び
/又はレゾール樹脂との混合物であることを特徴とす
る。下記式中、Ar1 は芳香族炭化水素環を、mは2〜
4の整数を、nは1〜3の整数を示す。Xは2価の連結
基を示し、Yは特定構造の架橋剤と相互作用する1価乃
至4価の連結基或いは末端が水素原子である官能基を示
す。Aは、炭素数1〜20のr価の炭化水素連結基を示
し、rは3〜20の整数を、pは2〜3の整数を示す。 【化1】
接製版可能であり、レーザに対して高感度で、高湿条件
下での保存安定性が良好で、且つ、耐刷性に優れたネガ
型画像記録材料を提供する。 【解決手段】 (A)酸により架橋する化合物と、
(B)バインダーポリマーと、(C)熱により酸を発生
する化合物と、(D)赤外線吸収剤を含むネガ型画像記
録材料において、(A)酸により架橋する化合物が下記
一般式(I)で表される低分子フェノール誘導体と下記
一般式(II)で表される多核型フェノール性架橋剤及び
/又はレゾール樹脂との混合物であることを特徴とす
る。下記式中、Ar1 は芳香族炭化水素環を、mは2〜
4の整数を、nは1〜3の整数を示す。Xは2価の連結
基を示し、Yは特定構造の架橋剤と相互作用する1価乃
至4価の連結基或いは末端が水素原子である官能基を示
す。Aは、炭素数1〜20のr価の炭化水素連結基を示
し、rは3〜20の整数を、pは2〜3の整数を示す。 【化1】
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材やカ
ラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターと
して使用できる画像記録材料に関するものである。特に
コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ
を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレ
クト製版可能な平版印刷用版材として使用可能なネガ型
画像記録材料に関する。
ラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターと
して使用できる画像記録材料に関するものである。特に
コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ
を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレ
クト製版可能な平版印刷用版材として使用可能なネガ型
画像記録材料に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムの記録光源として、波長760
nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及
び半導体レーザが、高出力かつ小型のものが容易に入手
できるため、注目されている。しかし、実用上有用な多
くの感光性記録材料は、感光波長が760nm以下の可
視光域であるため、これらの赤外線レーザでは画像記録
できない。このため、赤外線レーザで記録可能な材料が
望まれている。
ら直接製版するシステムの記録光源として、波長760
nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及
び半導体レーザが、高出力かつ小型のものが容易に入手
できるため、注目されている。しかし、実用上有用な多
くの感光性記録材料は、感光波長が760nm以下の可
視光域であるため、これらの赤外線レーザでは画像記録
できない。このため、赤外線レーザで記録可能な材料が
望まれている。
【0003】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料として、米国特許(以下、適宜、USと記載
する)第4,708,925号に記載されている、オニ
ウム塩、フェノール樹脂及び分光増感剤より成る記録材
料がある。しかしながら、この画像記録材料は、オニウ
ム塩とフェノール樹脂により発現する、現像液に対する
溶解抑止効果を利用したポジ型であり、本発明のような
ネガ型ではない。一方、ネガ型の画像記録材料は、例え
ば、特開平8−276558号に記載されている、光を
吸収し熱を発生する物質、アルカリ可溶性樹脂、分子内
に4〜8個のベンゼン核を有する特定のフェノール誘導
体より成る記録材料がある。しかしながら、この画像記
録材料は、十分に加熱を行うと高耐刷性を達成しうる
が、反応性が比較的低いため、レーザ露光時の感度が不
十分であった。これらの記録材料を高感度化する試みは
種々提案されているが、一般的には感度の向上手段は、
記録材料の保存安定性を低下させる傾向があった。特
に、高湿時の保存安定性が問題となっていた。架橋剤と
してレゾール樹脂を用いた場合にも、高耐刷化が可能で
あることは知られているが、前記画像記録材料と同様
に、経時安定性に劣るという問題があった。
像記録材料として、米国特許(以下、適宜、USと記載
する)第4,708,925号に記載されている、オニ
ウム塩、フェノール樹脂及び分光増感剤より成る記録材
料がある。しかしながら、この画像記録材料は、オニウ
ム塩とフェノール樹脂により発現する、現像液に対する
溶解抑止効果を利用したポジ型であり、本発明のような
ネガ型ではない。一方、ネガ型の画像記録材料は、例え
ば、特開平8−276558号に記載されている、光を
吸収し熱を発生する物質、アルカリ可溶性樹脂、分子内
に4〜8個のベンゼン核を有する特定のフェノール誘導
体より成る記録材料がある。しかしながら、この画像記
録材料は、十分に加熱を行うと高耐刷性を達成しうる
が、反応性が比較的低いため、レーザ露光時の感度が不
十分であった。これらの記録材料を高感度化する試みは
種々提案されているが、一般的には感度の向上手段は、
記録材料の保存安定性を低下させる傾向があった。特
に、高湿時の保存安定性が問題となっていた。架橋剤と
してレゾール樹脂を用いた場合にも、高耐刷化が可能で
あることは知られているが、前記画像記録材料と同様
に、経時安定性に劣るという問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接製版可能であり、さらにレーザに対して
高感度且つ、高耐刷性であり、高湿時においても保存安
定性の良好なネガ型画像記録材料を提供することであ
る。
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接製版可能であり、さらにレーザに対して
高感度且つ、高耐刷性であり、高湿時においても保存安
定性の良好なネガ型画像記録材料を提供することであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ネガ型画像
記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、特定の
官能基を有するフェノール誘導体と、特定構造を有する
多核フェノール誘導体及び/又はレゾール樹脂と、の混
合物を架橋成分として用いることにより、上記目的が達
成できることを見出し、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明は、(A)酸により架橋する化合物と、
(B)バインダーポリマーと、(C)熱により酸を発生
する化合物と、(D)赤外線吸収剤を含むネガ型画像記
録材料において、(A)酸により架橋する化合物(以
下、適宜、架橋成分と称する)が、下記一般式(I)で
表される、分子量1000以下の低分子フェノール誘導
体と、下記一般式(II)で表される、環上に2又は3個
のヒドロキシメチル基を有するフェノール環を分子内に
3個以上有する多核型フェノール性架橋剤及び/又はレ
ゾール樹脂と、の混合物であることを特徴とするネガ型
画像記録材料に関する。
記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、特定の
官能基を有するフェノール誘導体と、特定構造を有する
多核フェノール誘導体及び/又はレゾール樹脂と、の混
合物を架橋成分として用いることにより、上記目的が達
成できることを見出し、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明は、(A)酸により架橋する化合物と、
(B)バインダーポリマーと、(C)熱により酸を発生
する化合物と、(D)赤外線吸収剤を含むネガ型画像記
録材料において、(A)酸により架橋する化合物(以
下、適宜、架橋成分と称する)が、下記一般式(I)で
表される、分子量1000以下の低分子フェノール誘導
体と、下記一般式(II)で表される、環上に2又は3個
のヒドロキシメチル基を有するフェノール環を分子内に
3個以上有する多核型フェノール性架橋剤及び/又はレ
ゾール樹脂と、の混合物であることを特徴とするネガ型
画像記録材料に関する。
【0006】
【化3】
【0007】式中、Ar1 は、置換基を有していても良
い芳香族炭化水素環を示す。R1 およびR2 は、それぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素原子または炭素数
12個以下の炭化水素基を示す。R3 は、水素原子また
は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。mは、2〜4
の整数を示す。nは、1〜3の整数を示す。Xは2価の
連結基を示し、Yは前記の部分構造を有する1価乃至4
価の連結基或いは末端が水素原子である官能基を示し、
ZはYが末端基である場合には存在せず、或いは、Yの
連結基の数に応じて存在する1価乃至4価の連結基又は
官能基を示す。
い芳香族炭化水素環を示す。R1 およびR2 は、それぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素原子または炭素数
12個以下の炭化水素基を示す。R3 は、水素原子また
は炭素数12個以下の炭化水素基を示す。mは、2〜4
の整数を示す。nは、1〜3の整数を示す。Xは2価の
連結基を示し、Yは前記の部分構造を有する1価乃至4
価の連結基或いは末端が水素原子である官能基を示し、
ZはYが末端基である場合には存在せず、或いは、Yの
連結基の数に応じて存在する1価乃至4価の連結基又は
官能基を示す。
【0008】
【化4】
【0009】式中、Aは、炭素数1〜20のr価の炭化
水素連結基を示し、rは3〜20の整数を示す。pは、
2〜3の整数を示す。
水素連結基を示し、rは3〜20の整数を示す。pは、
2〜3の整数を示す。
【0010】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。 [(A)酸により架橋する化合物]本発明では、酸によ
り架橋する化合物として、前記一般式(I)で表される
フェノール誘導体(以下、適宜、低分子フェノール誘導
体と称する)と、前記一般式(II)で表される、環上に
2又は3個のヒドロキシメチル基を有するフェノール環
を分子内に3個以上有する多核型フェノール性架橋剤及
び/又はレゾール樹脂と、の混合物を使用する。まず、
一般式(I)で表されるフェノール誘導体について詳述
する。前記一般式(I)中、Ar1 は、置換基を有して
いても良い芳香族炭化水素環を示す。原料の入手性か
ら、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレ
ン環またはアントラセン環が好ましい。また、好ましい
置換基としては、ハロゲン原子、炭素数12個以下の炭
化水素基、炭素数12個以下のアルコキシ基、炭素数1
2個以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、トリ
フルオロメチル基等が挙げられる。感度が高いという理
由で、Ar1 としては、置換基を有していないベンゼン
環およびナフタレン環、または、ハロゲン原子、炭素数
6個以下の炭化水素基、炭素数6個以下のアルコキシ
基、炭素数6個以下のアルキルチオ基、ニトロ基等を置
換基として有するベンゼン環およびナフタレン環が特に
好ましい。R1 およびR2 は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素原子または炭素数12個以下の炭化
水素基を示す。合成が容易であるという理由から、R1
およびR2 は、水素原子またはメチル基であることが特
に好ましい。R3 は、水素原子または炭素数12個以下
の炭化水素基を示す。感度が高いという理由で、R
3 は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基等の炭素数7個以下の炭化水素
基であることが特に好ましい。mは、2〜4の整数を示
す。nは、1〜3の整数を示す。
り架橋する化合物として、前記一般式(I)で表される
フェノール誘導体(以下、適宜、低分子フェノール誘導
体と称する)と、前記一般式(II)で表される、環上に
2又は3個のヒドロキシメチル基を有するフェノール環
を分子内に3個以上有する多核型フェノール性架橋剤及
び/又はレゾール樹脂と、の混合物を使用する。まず、
一般式(I)で表されるフェノール誘導体について詳述
する。前記一般式(I)中、Ar1 は、置換基を有して
いても良い芳香族炭化水素環を示す。原料の入手性か
ら、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレ
ン環またはアントラセン環が好ましい。また、好ましい
置換基としては、ハロゲン原子、炭素数12個以下の炭
化水素基、炭素数12個以下のアルコキシ基、炭素数1
2個以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、トリ
フルオロメチル基等が挙げられる。感度が高いという理
由で、Ar1 としては、置換基を有していないベンゼン
環およびナフタレン環、または、ハロゲン原子、炭素数
6個以下の炭化水素基、炭素数6個以下のアルコキシ
基、炭素数6個以下のアルキルチオ基、ニトロ基等を置
換基として有するベンゼン環およびナフタレン環が特に
好ましい。R1 およびR2 は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、水素原子または炭素数12個以下の炭化
水素基を示す。合成が容易であるという理由から、R1
およびR2 は、水素原子またはメチル基であることが特
に好ましい。R3 は、水素原子または炭素数12個以下
の炭化水素基を示す。感度が高いという理由で、R
3 は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、シクロ
ヘキシル基、ベンジル基等の炭素数7個以下の炭化水素
基であることが特に好ましい。mは、2〜4の整数を示
す。nは、1〜3の整数を示す。
【0011】また、Xは2価の連結基を示し、Yは前記
部分構造を有する1価乃至4価の連結基或いは末端が水
素原子である官能基を示し、ZはYが末端基である場合
には存在せず、或いは、Yの連結基の数に応じて存在す
る1価乃至4価の連結基又は官能基を示す。
部分構造を有する1価乃至4価の連結基或いは末端が水
素原子である官能基を示し、ZはYが末端基である場合
には存在せず、或いは、Yの連結基の数に応じて存在す
る1価乃至4価の連結基又は官能基を示す。
【0012】次に一般式(I)中のXについて詳述す
る。Xは、2価の連結基であり、単結合又は置換基を有
していてもよい炭化水素連結基を示す。炭化水素連結基
としては、炭素数1〜18の直鎖アルキレン、分枝鎖ア
ルキレン及び環状アルキレン、炭素数2〜18の直鎖、
分枝鎖、環状アルケニレン、炭素数2〜8のアルキニレ
ン及び炭素数6〜20のアリーレンが好ましい。具体的
には、より好ましい例としてメチレン、エチレン、プロ
ピレン、ブチレン、イソプロピレン、シクロヘキシレ
ン、フェニレン、トリレン、ビフェニレン、下記構造に
表される基等が挙げられる。
る。Xは、2価の連結基であり、単結合又は置換基を有
していてもよい炭化水素連結基を示す。炭化水素連結基
としては、炭素数1〜18の直鎖アルキレン、分枝鎖ア
ルキレン及び環状アルキレン、炭素数2〜18の直鎖、
分枝鎖、環状アルケニレン、炭素数2〜8のアルキニレ
ン及び炭素数6〜20のアリーレンが好ましい。具体的
には、より好ましい例としてメチレン、エチレン、プロ
ピレン、ブチレン、イソプロピレン、シクロヘキシレ
ン、フェニレン、トリレン、ビフェニレン、下記構造に
表される基等が挙げられる。
【0013】
【化5】
【0014】また、これらの連結基が置換基を有する場
合、好ましい置換基としては、炭素数12以下のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基が挙げられる。
合、好ましい置換基としては、炭素数12以下のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基が挙げられる。
【0015】次に一般式(I)中のYについて詳述す
る。Yは後述するZを伴う連結基であってもよい官能基
であり、先に示したように、1価、2価、3価、4価で
あってもよく、特にフェノール性水酸基との相互作用の
強いことが知られている基である。具体的には、以下の
部分構造を有する官能基が好適に例示される。
る。Yは後述するZを伴う連結基であってもよい官能基
であり、先に示したように、1価、2価、3価、4価で
あってもよく、特にフェノール性水酸基との相互作用の
強いことが知られている基である。具体的には、以下の
部分構造を有する官能基が好適に例示される。
【0016】
【化6】
【0017】ここで、前記例示した構造がYの部分構造
であるとは、連結基或いは末端が水素原子である官能基
Yが、例示した部分構造を少なくとも1つ有することを
意味する。従って、Yは例示した部分構造を複数個連結
した基、あるいは、例示した部分構造と通常の炭化水素
基などとを連結した基などを包含するものである。特に
これらの官能基を有するより好ましい化合物として、具
体的には、アミド、スルホンアミド、イミド、ウレア、
ウレタン、チオウレア、カルボン酸、カルボン酸エステ
ル、スルホン酸エステル等が挙げられる。
であるとは、連結基或いは末端が水素原子である官能基
Yが、例示した部分構造を少なくとも1つ有することを
意味する。従って、Yは例示した部分構造を複数個連結
した基、あるいは、例示した部分構造と通常の炭化水素
基などとを連結した基などを包含するものである。特に
これらの官能基を有するより好ましい化合物として、具
体的には、アミド、スルホンアミド、イミド、ウレア、
ウレタン、チオウレア、カルボン酸、カルボン酸エステ
ル、スルホン酸エステル等が挙げられる。
【0018】次に一般式(I)中のZについて詳述す
る。Zは官能基Yが末端基である場合には存在せず、或
いは、官能基Yの連結基の数に応じて存在する1価乃至
4価の連結基又は官能基を示す。Zは、好ましくは置換
基を有していても良い炭化水素連結基又は基であり、炭
化水素連結基としては、炭素数1〜18の直鎖アルキレ
ン又はアルキル、分枝鎖アルキレン、又はアルキル、環
状アルキレン、又アルキル、炭素数6〜20のアリーレ
ン、又はアリール、炭素数2〜18の直鎖、分枝鎖、環
状アルケニレン、又はアルケニル、炭素数2〜18のア
ルキニレン、又はアルキニルが好ましい。
る。Zは官能基Yが末端基である場合には存在せず、或
いは、官能基Yの連結基の数に応じて存在する1価乃至
4価の連結基又は官能基を示す。Zは、好ましくは置換
基を有していても良い炭化水素連結基又は基であり、炭
化水素連結基としては、炭素数1〜18の直鎖アルキレ
ン又はアルキル、分枝鎖アルキレン、又はアルキル、環
状アルキレン、又アルキル、炭素数6〜20のアリーレ
ン、又はアリール、炭素数2〜18の直鎖、分枝鎖、環
状アルケニレン、又はアルケニル、炭素数2〜18のア
ルキニレン、又はアルキニルが好ましい。
【0019】Zのより好ましい具体例としては、一価の
場合はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ターシャリーブチル、セカンダリーブ
チル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、オクチル、ベンジル、フェニル、ナフチル、ア
ントラセニル、アリル、ビニル等が挙げられる。また、
2価以上の場合は、これらの1価の基から水素原子を価
数に応じて除去して連結基とすることが好ましい。Zが
置換基を有する場合、好ましい置換基としては、炭素数
12以下のアルコキシ、ハロゲン原子、ヒドロキシル基
が挙げられる。
場合はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ターシャリーブチル、セカンダリーブ
チル、ペンチル、ヘキシル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、オクチル、ベンジル、フェニル、ナフチル、ア
ントラセニル、アリル、ビニル等が挙げられる。また、
2価以上の場合は、これらの1価の基から水素原子を価
数に応じて除去して連結基とすることが好ましい。Zが
置換基を有する場合、好ましい置換基としては、炭素数
12以下のアルコキシ、ハロゲン原子、ヒドロキシル基
が挙げられる。
【0020】本発明において好適に用いられる低分子フ
ェノール誘導体の具体例を、便宜上、いくつかのパター
ンに分けて、例えば、官能基を挙げて以下に例示する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。
ェノール誘導体の具体例を、便宜上、いくつかのパター
ンに分けて、例えば、官能基を挙げて以下に例示する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。
【0021】
【化7】
【0022】
【表1】
【0023】
【化8】
【0024】
【表2】
【0025】
【化9】
【0026】
【表3】
【0027】
【化10】
【0028】
【表4】
【0029】
【化11】
【0030】
【表5】
【0031】
【化12】
【0032】
【表6】
【0033】
【化13】
【0034】
【表7】
【0035】
【化14】
【0036】
【表8】
【0037】
【化15】
【0038】
【表9】
【0039】
【化16】
【0040】
【化17】
【0041】
【化18】
【0042】
【化19】
【0043】
【化20】
【0044】
【化21】
【0045】
【化22】
【0046】
【化23】
【0047】
【化24】
【0048】
【化25】
【0049】
【化26】
【0050】
【化27】
【0051】
【化28】
【0052】
【化29】
【0053】
【化30】
【0054】
【化31】
【0055】
【化32】
【0056】
【化33】
【0057】
【化34】
【0058】
【化35】
【0059】
【化36】
【0060】
【化37】
【0061】
【化38】
【0062】
【化39】
【0063】
【化40】
【0064】これらのうち、アミド構造、ウレア構造を
有する低分子フェノール誘導体は、架橋剤としては知ら
れておらず、効果の観点からも好ましい。
有する低分子フェノール誘導体は、架橋剤としては知ら
れておらず、効果の観点からも好ましい。
【0065】これらの架橋剤として有用な低分子フェノ
ール誘導体は、従来公知の方法により合成できる。一般
的な合成法を以下のスキームI、IIに示した。
ール誘導体は、従来公知の方法により合成できる。一般
的な合成法を以下のスキームI、IIに示した。
【0066】
【化41】
【0067】式中、baseとは、強アルカリ、例え
ば、KOH、NaOH、Me4 N+ OH等を表す。
ば、KOH、NaOH、Me4 N+ OH等を表す。
【0068】
【化42】
【0069】つまり一般式(I)の化合物は対応するフ
ェノール誘導体から、カルボニル化合物によるヒドロキ
シアルキル化、及びアルコキシ化により合成することが
できる。これらの低分子フェノール誘導体は単独で使用
してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して2量体や3量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いても良い。なお、この場合でも、不純物は3
0%以下であることが好ましく、20%以下であること
がさらに好ましい。
ェノール誘導体から、カルボニル化合物によるヒドロキ
シアルキル化、及びアルコキシ化により合成することが
できる。これらの低分子フェノール誘導体は単独で使用
してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して2量体や3量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いても良い。なお、この場合でも、不純物は3
0%以下であることが好ましく、20%以下であること
がさらに好ましい。
【0070】次に、一般式(II)で表される多核型フェ
ノール性架橋剤について説明する。前述の一般式(I)
で表される低分子フェノール誘導体との混合物として架
橋成分に用いられる一般式(II)で表される多核型フェ
ノール性架橋剤は、構造式に明らかなように、環上に2
又は3個のヒドロキシメチル基を有するフェノール環
を、分子内に3個以上の有する多核型フェノール性架橋
剤である。一般式(II)中のAはr価の1〜20炭素数
を有する炭化水素連結基であり、直鎖、分枝鎖、環状の
アルキル基或いはアリール基から構成される骨格からr
価となるように水素を除いたものである。連結基Aのよ
り好ましい具体例としては、下記構造で示すもの等が挙
げられる。
ノール性架橋剤について説明する。前述の一般式(I)
で表される低分子フェノール誘導体との混合物として架
橋成分に用いられる一般式(II)で表される多核型フェ
ノール性架橋剤は、構造式に明らかなように、環上に2
又は3個のヒドロキシメチル基を有するフェノール環
を、分子内に3個以上の有する多核型フェノール性架橋
剤である。一般式(II)中のAはr価の1〜20炭素数
を有する炭化水素連結基であり、直鎖、分枝鎖、環状の
アルキル基或いはアリール基から構成される骨格からr
価となるように水素を除いたものである。連結基Aのよ
り好ましい具体例としては、下記構造で示すもの等が挙
げられる。
【0071】
【化43】
【0072】上記連結基Aを分子内に有する一般式(I
I)で表される多核型フェノール性架橋剤の好ましい具
体例としては、以下に示す(II−1)〜(II−6)等が
挙げられるが、これらに制限されるものではない。
I)で表される多核型フェノール性架橋剤の好ましい具
体例としては、以下に示す(II−1)〜(II−6)等が
挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【0073】
【化44】
【0074】
【化45】
【0075】これらの化合物は対応する多核型フェノー
ルをメチロール化反応させて、先に低分子フェノール誘
導体において説明したスキームと同様の経路により得ら
れる。使用に際しては、このメチロール化反応の際に生
じるオリゴマー等の副生成物を含有したまま用いても良
い。なお、この場合でも、副生成物の含有量は10重量
%以下であることが好ましい。
ルをメチロール化反応させて、先に低分子フェノール誘
導体において説明したスキームと同様の経路により得ら
れる。使用に際しては、このメチロール化反応の際に生
じるオリゴマー等の副生成物を含有したまま用いても良
い。なお、この場合でも、副生成物の含有量は10重量
%以下であることが好ましい。
【0076】ここで、前述の一般式(I)で表される低
分子フェノール誘導体との混合物として架橋成分に用い
られるレゾール樹脂について説明する。本発明において
用いうるレゾール樹脂については、特に制限はないが、
英国特許第2,082,339号にレゾール樹脂として
開示された化合物が好ましく、なかでも、重量平均分子
量500〜100000、数平均分子量200〜500
00のものが好適な例として挙げられる。分子量が小さ
すぎると架橋性が低く、低耐刷性となり、大きすぎると
不安定で、保存安定性が低下する虞があり、いずれも好
ましくない。
分子フェノール誘導体との混合物として架橋成分に用い
られるレゾール樹脂について説明する。本発明において
用いうるレゾール樹脂については、特に制限はないが、
英国特許第2,082,339号にレゾール樹脂として
開示された化合物が好ましく、なかでも、重量平均分子
量500〜100000、数平均分子量200〜500
00のものが好適な例として挙げられる。分子量が小さ
すぎると架橋性が低く、低耐刷性となり、大きすぎると
不安定で、保存安定性が低下する虞があり、いずれも好
ましくない。
【0077】本発明の架橋成分としては、(1) 低分子フ
ェノール誘導体と多核型フェノール性架橋剤との混合
物、(2) 低分子フェノール誘導体とレゾール樹脂との混
合物、(3) 低分子フェノール誘導体と多核型フェノール
性架橋剤とレゾール樹脂との混合物を用いることができ
る。
ェノール誘導体と多核型フェノール性架橋剤との混合
物、(2) 低分子フェノール誘導体とレゾール樹脂との混
合物、(3) 低分子フェノール誘導体と多核型フェノール
性架橋剤とレゾール樹脂との混合物を用いることができ
る。
【0078】本発明において、前記低分子フェノール誘
導体と、多核型フェノール性架橋剤及び/又はレゾール
樹脂を合計した全架橋成分は全画像記録材料固形分中、
5〜80重量%、好ましくは10〜60重量%の添加量
で用いられる。ここで、架橋剤としてのフェノール誘導
体の添加量が5重量%未満であると画像記録した際の画
像部の膜強度が悪化し、また、80重量%を越えると保
存時の安定性の点で好ましくない。
導体と、多核型フェノール性架橋剤及び/又はレゾール
樹脂を合計した全架橋成分は全画像記録材料固形分中、
5〜80重量%、好ましくは10〜60重量%の添加量
で用いられる。ここで、架橋剤としてのフェノール誘導
体の添加量が5重量%未満であると画像記録した際の画
像部の膜強度が悪化し、また、80重量%を越えると保
存時の安定性の点で好ましくない。
【0079】これらの架橋成分は、予め、混合物として
調製されたものを画像記録材料組成物に用いてもよく、
画像記録材料組成物調製の際に別々に配合してもよい。
予め混合物を調製する場合、これらの混合物は、例え
ば、メタノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロ
パノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン系溶媒或いは混合溶媒に溶解するこ
とで調製しうる。
調製されたものを画像記録材料組成物に用いてもよく、
画像記録材料組成物調製の際に別々に配合してもよい。
予め混合物を調製する場合、これらの混合物は、例え
ば、メタノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロ
パノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン系溶媒或いは混合溶媒に溶解するこ
とで調製しうる。
【0080】また、両者[一般式(I)の化合物/(一
般式(II)の化合物及び/又はレゾール樹脂)]の混合
比は10/90重量%〜90/10重量%であることが
好ましく、10/90重量%よりも低分子フェノール誘
導体の比率が少なくなると感度が低下したり、経時的に
劣化する虞がある。また、90/10重量%よりも低分
子フェノール誘導体の比率が大きくなると耐刷性が低下
する傾向がありいずれも好ましくない。両者の混合比
は、30/70重量%〜70/30重量%の範囲である
ことがより好ましい。
般式(II)の化合物及び/又はレゾール樹脂)]の混合
比は10/90重量%〜90/10重量%であることが
好ましく、10/90重量%よりも低分子フェノール誘
導体の比率が少なくなると感度が低下したり、経時的に
劣化する虞がある。また、90/10重量%よりも低分
子フェノール誘導体の比率が大きくなると耐刷性が低下
する傾向がありいずれも好ましくない。両者の混合比
は、30/70重量%〜70/30重量%の範囲である
ことがより好ましい。
【0081】[(B)バインダーポリマー]本発明で
は、バインダーポリマーとして、ヒドロキシ基またはア
ルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水素環を側鎖又は
主鎖に有するポリマーを用いる。アルコキシ基として
は、感度の観点から、炭素数20個以下のものが好まし
い。また、芳香族炭化水素環としては、原料の入手性か
ら、ベンゼン環、ナフタレン環またはアントラセン環が
好ましい。これらの芳香族炭化水素環は、ヒドロキシ基
またはアルコキシ基以外の置換基、例えば、ハロゲン
基、シアノ基等の置換基を有していても良いが、感度の
観点から、ヒドロキシ基またはアルコキシ基以外の置換
基を有さない方が好ましい。
は、バインダーポリマーとして、ヒドロキシ基またはア
ルコキシ基が直接結合した芳香族炭化水素環を側鎖又は
主鎖に有するポリマーを用いる。アルコキシ基として
は、感度の観点から、炭素数20個以下のものが好まし
い。また、芳香族炭化水素環としては、原料の入手性か
ら、ベンゼン環、ナフタレン環またはアントラセン環が
好ましい。これらの芳香族炭化水素環は、ヒドロキシ基
またはアルコキシ基以外の置換基、例えば、ハロゲン
基、シアノ基等の置換基を有していても良いが、感度の
観点から、ヒドロキシ基またはアルコキシ基以外の置換
基を有さない方が好ましい。
【0082】本発明において、好適に用いることができ
るバインダーポリマーは、下記一般式(III )で表され
る構成単位を有するポリマー、又はノボラック樹脂等の
フェノール樹脂である。
るバインダーポリマーは、下記一般式(III )で表され
る構成単位を有するポリマー、又はノボラック樹脂等の
フェノール樹脂である。
【0083】
【化46】
【0084】式中、Ar2 は、ベンゼン環、ナフタレン
環またはアントラセン環を示す。R 4 は、水素原子また
はメチル基を示す。R5 は、水素原子または炭素数20
個以下のアルコキシ基を示す。X1 は、単結合または、
C、H、N、O、Sより選ばれた1種以上の原子を含
み、かつ炭素数0〜20個の2価の連結基を示す。k
は、1〜4の整数を示す。
環またはアントラセン環を示す。R 4 は、水素原子また
はメチル基を示す。R5 は、水素原子または炭素数20
個以下のアルコキシ基を示す。X1 は、単結合または、
C、H、N、O、Sより選ばれた1種以上の原子を含
み、かつ炭素数0〜20個の2価の連結基を示す。k
は、1〜4の整数を示す。
【0085】まず、本発明において、好適に用いられる
一般式(III )で表される構成単位の例([BP−1]
〜[BP−6])を以下に挙げるが、本発明はこれに制
限されるものではない。
一般式(III )で表される構成単位の例([BP−1]
〜[BP−6])を以下に挙げるが、本発明はこれに制
限されるものではない。
【0086】
【化47】
【0087】
【化48】
【0088】これらの構成単位を有するポリマーは、対
応するモノマーを用い、従来公知の方法によりラジカル
重合することにより得られる。
応するモノマーを用い、従来公知の方法によりラジカル
重合することにより得られる。
【0089】本発明では、バインダーポリマーとして、
一般式(III )で表される構成単位のみから成る単独重
合体を用いても良いが、この特定構成単位とともに、他
の公知のモノマーより誘導される構成単位を有する共重
合体を用いても良い。この際用いられる他の公知のモノ
マーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート等のアクリル酸エステル類;メチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート等のメタクリル酸エステル類;スチレン、アクリ
ロニトリル、および、アクリル酸、メタクリル酸等の酸
性基を有するモノマー;さらにp−スチレンスルホン酸
のナトリウム塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロ
パンスルホン酸のアルカリ金属塩、テトラアルキルアン
モニウム塩、3−スルホプロピルアクリレートのカリウ
ム塩等の強酸の塩を含有するモノマー等が挙げられる。
一般式(III )で表される構成単位のみから成る単独重
合体を用いても良いが、この特定構成単位とともに、他
の公知のモノマーより誘導される構成単位を有する共重
合体を用いても良い。この際用いられる他の公知のモノ
マーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート等のアクリル酸エステル類;メチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート等のメタクリル酸エステル類;スチレン、アクリ
ロニトリル、および、アクリル酸、メタクリル酸等の酸
性基を有するモノマー;さらにp−スチレンスルホン酸
のナトリウム塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロ
パンスルホン酸のアルカリ金属塩、テトラアルキルアン
モニウム塩、3−スルホプロピルアクリレートのカリウ
ム塩等の強酸の塩を含有するモノマー等が挙げられる。
【0090】これらを用いた共重合体中に含まれる一般
式(III )で表される構成単位の割合は、50〜100
重量%であることが好ましく、さらに好ましくは60〜
100重量%である。また、本発明で使用されるポリマ
ーの重量平均分子量は好ましくは5000以上であり、
さらに好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分
子量は好ましくは1000以上であり、さらに好ましく
は2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均
分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好
ましくは1.1〜10の範囲である。
式(III )で表される構成単位の割合は、50〜100
重量%であることが好ましく、さらに好ましくは60〜
100重量%である。また、本発明で使用されるポリマ
ーの重量平均分子量は好ましくは5000以上であり、
さらに好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分
子量は好ましくは1000以上であり、さらに好ましく
は2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平均
分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに好
ましくは1.1〜10の範囲である。
【0091】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよ
いが、ランダムポリマーであることが好ましい。
ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよ
いが、ランダムポリマーであることが好ましい。
【0092】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラ
ン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げ
られる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用
いられる。
に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラ
ン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエ
チルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテー
ト、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピル
アセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げ
られる。これらの溶媒は単独で又は2種以上混合して用
いられる。
【0093】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。
【0094】次に、ノボラック類について述べる。本発
明で好適に用いられるノボラック樹脂は、フェノールノ
ボラック、o−、m−、p−の各種クレゾールノボラッ
ク、及びその共重合体、ハロゲン原子、アルキル基等で
置換されたフェノールを利用したノボラックが挙げられ
る。これらのノボラック樹脂の重量平均分子量は、好ま
しくは1000以上であり、さらに好ましくは2000
〜2万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは100
0以上であり、さらに好ましくは2000〜15000
の範囲である。多分散度は1以上が好ましくは、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。
明で好適に用いられるノボラック樹脂は、フェノールノ
ボラック、o−、m−、p−の各種クレゾールノボラッ
ク、及びその共重合体、ハロゲン原子、アルキル基等で
置換されたフェノールを利用したノボラックが挙げられ
る。これらのノボラック樹脂の重量平均分子量は、好ま
しくは1000以上であり、さらに好ましくは2000
〜2万の範囲であり、数平均分子量は好ましくは100
0以上であり、さらに好ましくは2000〜15000
の範囲である。多分散度は1以上が好ましくは、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。
【0095】以上説明した本発明で使用されるバインダ
ーポリマーは単独で用いても2種類以上を混合して用い
てもよい。これらポリマーは、画像記録材料全固形分に
対し20〜95重量%、好ましくは40〜90重量%の
割合で画像記録材料中に添加される。添加量が20重量
%未満の場合は、画像形成した際、画像部の強度が不足
する。また添加量が95重量%を越える場合は、画像形
成されない。
ーポリマーは単独で用いても2種類以上を混合して用い
てもよい。これらポリマーは、画像記録材料全固形分に
対し20〜95重量%、好ましくは40〜90重量%の
割合で画像記録材料中に添加される。添加量が20重量
%未満の場合は、画像形成した際、画像部の強度が不足
する。また添加量が95重量%を越える場合は、画像形
成されない。
【0096】以上記述した(A)フェノール誘導体と、
多核型フェノール架橋剤及び/又はレゾール樹脂とを混
合した架橋成分と(B)特定構造のバインダーポリマー
を同時に使用することにより、レーザ露光時の感度及び
高湿環境下での保存安定性が向上する。この理由につい
ては必ずしも明確ではないが、種々の比較実験の結果か
ら、架橋剤に特定の官能基を含有するものが、感度及び
保存安定性の点で優れていることを見出し、また、この
特定の官能基の効果について調べ、熟考したところ、フ
ェノール性のOH基との相互作用(水素結合又はドナー
アクセプター或いは酸塩基相互作用)が大きいもの、例
えば公知の文献を引用するとすれば、”Hydroge
n bonding” Joesten Schaad
著 P291〜381に記載されているように各官能基
を有するモデル化合物とフェノールとの相互作用のエン
タルピー(−ΔH)が下記式を満足する場合において、
特に上述の感度及び保存安定性の両立と向上が可能であ
ることがわかった。−ΔH>3.0kcal/molこ
のことから、バインダーポリマーのフェノール性OH基
等との相互作用の強い低分子フェノール誘導体を架橋剤
として用いたことで、混合時の膜質が外的要因(水、
熱)に対して、強くなったこと、低分子フェノール誘導
体がフェノールの極近傍に保持されて架橋効率が向上し
たこと、さらに架橋剤として高耐刷性の多核型フェノー
ル誘導体やレゾール樹脂を併用することにより、低分子
フェノール誘導体と前記バインダー、さらには、これら
の混合される架橋成分とが新たな分子間ネットワークを
形成することにより、それぞれの持つ利点が複合された
ことなどが本発明の本質であると推測する。また、アル
コキシ基と有するバインダーについても同様のことが考
えられるのではと想像する。さらに実験事実として、本
発明の架橋剤を用いた場合には、架橋剤の添加量を過剰
に混合した場合に架橋剤だけバインダーから分離して表
面に結晶化してくる、所謂泣き出しが、特定の官能基を
持たない従来のものよりも著しく良化することがわかっ
ており、これも上述の推測を支持するものであると考え
る。
多核型フェノール架橋剤及び/又はレゾール樹脂とを混
合した架橋成分と(B)特定構造のバインダーポリマー
を同時に使用することにより、レーザ露光時の感度及び
高湿環境下での保存安定性が向上する。この理由につい
ては必ずしも明確ではないが、種々の比較実験の結果か
ら、架橋剤に特定の官能基を含有するものが、感度及び
保存安定性の点で優れていることを見出し、また、この
特定の官能基の効果について調べ、熟考したところ、フ
ェノール性のOH基との相互作用(水素結合又はドナー
アクセプター或いは酸塩基相互作用)が大きいもの、例
えば公知の文献を引用するとすれば、”Hydroge
n bonding” Joesten Schaad
著 P291〜381に記載されているように各官能基
を有するモデル化合物とフェノールとの相互作用のエン
タルピー(−ΔH)が下記式を満足する場合において、
特に上述の感度及び保存安定性の両立と向上が可能であ
ることがわかった。−ΔH>3.0kcal/molこ
のことから、バインダーポリマーのフェノール性OH基
等との相互作用の強い低分子フェノール誘導体を架橋剤
として用いたことで、混合時の膜質が外的要因(水、
熱)に対して、強くなったこと、低分子フェノール誘導
体がフェノールの極近傍に保持されて架橋効率が向上し
たこと、さらに架橋剤として高耐刷性の多核型フェノー
ル誘導体やレゾール樹脂を併用することにより、低分子
フェノール誘導体と前記バインダー、さらには、これら
の混合される架橋成分とが新たな分子間ネットワークを
形成することにより、それぞれの持つ利点が複合された
ことなどが本発明の本質であると推測する。また、アル
コキシ基と有するバインダーについても同様のことが考
えられるのではと想像する。さらに実験事実として、本
発明の架橋剤を用いた場合には、架橋剤の添加量を過剰
に混合した場合に架橋剤だけバインダーから分離して表
面に結晶化してくる、所謂泣き出しが、特定の官能基を
持たない従来のものよりも著しく良化することがわかっ
ており、これも上述の推測を支持するものであると考え
る。
【0097】さらにつけ加えると、本発明の架橋剤混合
物を用いることで、例えばポリヒドロキシスチレンのよ
うにバインダーの側鎖にフェノール性のOH基があって
も、ノボラックのように主鎖にフェノール性OH基があ
っても十分に感度がでる点、また併用される架橋剤自体
が多官能で、ある程度大きな分子量があってもやはり十
分に感度がでる点等も、上述の推測を支持するものであ
ると考える。
物を用いることで、例えばポリヒドロキシスチレンのよ
うにバインダーの側鎖にフェノール性のOH基があって
も、ノボラックのように主鎖にフェノール性OH基があ
っても十分に感度がでる点、また併用される架橋剤自体
が多官能で、ある程度大きな分子量があってもやはり十
分に感度がでる点等も、上述の推測を支持するものであ
ると考える。
【0098】[(C)熱により酸を発生する化合物]本
発明において熱により酸を発生する化合物(以下、適
宜、酸発生剤と称する)とは、100℃以上の加熱によ
り分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸として
は、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸である
ことが好ましい。本発明において好適に用いられる酸発
生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホス
ホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられ
る。具体的には、US4,708,925号や特開平7
−20629号に記載されている化合物を挙げることが
できる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好まし
い。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,
147号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,6
32,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開
平1−102456号及び特開平1−102457号の
各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、
US5,135,838号やUS5,200,544号
に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。
さらに、特開平2−100054号、特開平2−100
055号及び特願平8−9444号に記載されている活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。他にも、特開平7−271029号に記載されてい
る、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好まし
い。
発明において熱により酸を発生する化合物(以下、適
宜、酸発生剤と称する)とは、100℃以上の加熱によ
り分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸として
は、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸である
ことが好ましい。本発明において好適に用いられる酸発
生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホス
ホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられ
る。具体的には、US4,708,925号や特開平7
−20629号に記載されている化合物を挙げることが
できる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好まし
い。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,
147号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,6
32,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開
平1−102456号及び特開平1−102457号の
各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、
US5,135,838号やUS5,200,544号
に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。
さらに、特開平2−100054号、特開平2−100
055号及び特願平8−9444号に記載されている活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。他にも、特開平7−271029号に記載されてい
る、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好まし
い。
【0099】これらの酸発生剤は、画像記録材料全固形
分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜4
0重量%、より好ましくは0.5〜30重量%の割合で
画像記録材料中に添加される。添加量が0.01重量%
未満の場合は、画像が得られない。また添加量が50重
量%を越える場合は、印刷時非画像部に汚れを発生す
る。
分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜4
0重量%、より好ましくは0.5〜30重量%の割合で
画像記録材料中に添加される。添加量が0.01重量%
未満の場合は、画像が得られない。また添加量が50重
量%を越える場合は、印刷時非画像部に汚れを発生す
る。
【0100】これらの化合物は単独で使用してもよく、
また2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、こ
こに挙げた酸発生剤は、紫外線照射によっても分解でき
るため、本発明の画像記録材料は、赤外線だけではなく
紫外線によっても画像記録可能である。
また2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、こ
こに挙げた酸発生剤は、紫外線照射によっても分解でき
るため、本発明の画像記録材料は、赤外線だけではなく
紫外線によっても画像記録可能である。
【0101】[(D)赤外線吸収剤]本発明の主な目的
は、赤外線を発するレーザで画像記録可能な記録材料を
提供することである。このためには、赤外線吸収剤を併
用することが必要である。即ち、赤外線吸収剤は、吸収
した赤外線を熱に変換する機能を有しており、この際発
生した熱により、(C)酸発生剤が分解し、酸を発生す
る。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長7
60nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染
料又は顔料である。好ましくは、波長760nmから1
200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
は、赤外線を発するレーザで画像記録可能な記録材料を
提供することである。このためには、赤外線吸収剤を併
用することが必要である。即ち、赤外線吸収剤は、吸収
した赤外線を熱に変換する機能を有しており、この際発
生した熱により、(C)酸発生剤が分解し、酸を発生す
る。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長7
60nmから1200nmの赤外線を有効に吸収する染
料又は顔料である。好ましくは、波長760nmから1
200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
【0102】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
【0103】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
【0104】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
【0105】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
【0106】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
【0107】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
【0108】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
【0109】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
【0110】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。
【0111】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
【0112】これらの染料又は顔料は、画像記録材料全
固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10
重量%、顔料の場合特に好ましくは1.0〜10重量%
の割合で画像記録材料中に添加することができる。顔料
又は染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が
低くなり、また50重量%を越えると印刷時非画像部に
汚れが発生する。
固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10
重量%、顔料の場合特に好ましくは1.0〜10重量%
の割合で画像記録材料中に添加することができる。顔料
又は染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が
低くなり、また50重量%を越えると印刷時非画像部に
汚れが発生する。
【0113】これらの染料又は顔料は他の成分と同一の
層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加しても
よい。
層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加しても
よい。
【0114】[その他の成分]本発明では、さらに必要
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。具体的には、オイルイ
エロー#101、オイルイエロー#103、オイルピン
ク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBO
S、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイ
ルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリ
エント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバ
イオレット(CI42535)、エチルバイオレット、
ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI520
15)、アイゼンスピロンブルーC−RH(保土ヶ谷化
学(株)製)等、及び特開昭62−293247号に記
載されている染料を挙げることができる。
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。具体的には、オイルイ
エロー#101、オイルイエロー#103、オイルピン
ク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBO
S、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイ
ルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリ
エント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバ
イオレット(CI42535)、エチルバイオレット、
ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI520
15)、アイゼンスピロンブルーC−RH(保土ヶ谷化
学(株)製)等、及び特開昭62−293247号に記
載されている染料を挙げることができる。
【0115】これらの染料を添加することにより、画像
形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすくなるた
め、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録
材料全固形分に対し、0.01〜10重量%の割合であ
る。
形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすくなるた
め、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録
材料全固形分に対し、0.01〜10重量%の割合であ
る。
【0116】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号や特開平3−208514号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
−121044号、特開平4−13149号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号や特開平3−208514号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
−121044号、特開平4−13149号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
【0117】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
【0118】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
【0119】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
剤の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
【0120】さらに、本発明の画像記録材料中には、必
要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加
えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加
えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
【0121】本発明の画像記録材料では、通常上記各成
分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチル
ラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれ
に限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混
合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全
固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形
分)は、用途によって異なるが、平版印刷用版材につい
ていえば一般的に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができ
るが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー
塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大に
なるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。
分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチル
ラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれ
に限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混
合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全
固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形
分)は、用途によって異なるが、平版印刷用版材につい
ていえば一般的に0.5〜5.0g/m2 が好ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができ
るが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー
塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大に
なるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。
【0122】本発明における画像記録材料には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−1
70950号に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像
記録材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましく
は0.05〜0.5重量%である。
を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−1
70950号に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像
記録材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましく
は0.05〜0.5重量%である。
【0123】[支持体]本発明の画像記録材料を塗布可
能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例
えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、
金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラス
チックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された
紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。
能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、例
えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、
金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラス
チックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された
紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。
【0124】好ましい支持体としては、ポリエステルフ
ィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板、及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、さらにアルミニウムがラミネート又は
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。
ィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板、及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、さらにアルミニウムがラミネート又は
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は総量で
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。
【0125】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界
面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用い
ることができる。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方
法がある。また、特開昭54−63902号に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
できる。
望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界
面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用い
ることができる。また、電気化学的な粗面化法としては
塩酸若しくは硝酸電解液中で交流又は直流により行う方
法がある。また、特開昭54−63902号に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
できる。
【0126】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜
を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜
を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫
酸、リン酸、蓚酸、クロム酸又はそれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。
【0127】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には、電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には、電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
【0128】陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2 より少
ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像
部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが
付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像
部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが
付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
【0129】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。本発明で使用
可能な親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、同第3,181,461号、同第3,280,
734号及び同第3,902,734号に開示されてい
るようなアルカリ金属シリケート(例えば、ケイ酸ナト
リウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体
がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解
処理される。他に、特公昭36−22063号に開示さ
れているフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第3,2
76,868号、同第4,153,461号、同第4,
689,272号に開示されているようなポリビニルホ
スホン酸で処理する方法等が用いられる。
表面は必要により親水化処理が施される。本発明で使用
可能な親水化処理としては、米国特許第2,714,0
66号、同第3,181,461号、同第3,280,
734号及び同第3,902,734号に開示されてい
るようなアルカリ金属シリケート(例えば、ケイ酸ナト
リウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体
がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解
処理される。他に、特公昭36−22063号に開示さ
れているフッ化ジルコン酸カリウム、米国特許第3,2
76,868号、同第4,153,461号、同第4,
689,272号に開示されているようなポリビニルホ
スホン酸で処理する方法等が用いられる。
【0130】[その他]本発明の画像記録材料を塗布す
る前に、必要に応じて支持体上に下塗層を設けることが
できる。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いら
れ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸等のア
ミノ基を有するホスホン酸類;置換基を有してもよいフ
ェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホス
ホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及
びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸;置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸;置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸
等の有機ホスフィン酸;グリシンやβ−アラニン等のア
ミノ酸類;及びトリエタノールアミンの塩酸塩等のヒド
ロキシル基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、
2種以上混合して用いてもよい。また、前述したジアゾ
ニウム化合物を下塗りすることも好ましい。有機下塗層
の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当である。
る前に、必要に応じて支持体上に下塗層を設けることが
できる。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いら
れ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸等のア
ミノ基を有するホスホン酸類;置換基を有してもよいフ
ェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホス
ホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及
びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸;置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸及びグリセロリン酸等の有機リン酸;置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸
等の有機ホスフィン酸;グリシンやβ−アラニン等のア
ミノ酸類;及びトリエタノールアミンの塩酸塩等のヒド
ロキシル基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、
2種以上混合して用いてもよい。また、前述したジアゾ
ニウム化合物を下塗りすることも好ましい。有機下塗層
の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当である。
【0131】以上のようにして、本発明の画像記録材料
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、赤外線レーザで記録できる。また、
紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能
である。本発明においては、波長760nmから120
0nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザ
により画像露光されることが好ましい。本発明において
は、露光後すぐに現像処理を行ってもよいが、露光工程
と現像工程の間に加熱処理を行ってもよい。加熱処理を
する場合その条件は、60℃〜150℃の範囲内で5秒
〜5分間行うことが好ましい。加熱方法としては、従来
公知の種々の方法を用いることができる。例えば、パネ
ルヒーターやセラミックヒーターにより記録材料と接触
しつつ加熱する方法、及びランプや温風による非接触の
加熱方法等が挙げられる。この加熱処理により、レーザ
照射時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させるこ
とができる。
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、赤外線レーザで記録できる。また、
紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能
である。本発明においては、波長760nmから120
0nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザ
により画像露光されることが好ましい。本発明において
は、露光後すぐに現像処理を行ってもよいが、露光工程
と現像工程の間に加熱処理を行ってもよい。加熱処理を
する場合その条件は、60℃〜150℃の範囲内で5秒
〜5分間行うことが好ましい。加熱方法としては、従来
公知の種々の方法を用いることができる。例えば、パネ
ルヒーターやセラミックヒーターにより記録材料と接触
しつつ加熱する方法、及びランプや温風による非接触の
加熱方法等が挙げられる。この加熱処理により、レーザ
照射時、記録に必要なレーザエネルギーを減少させるこ
とができる。
【0132】必要に応じて加熱処理を行った後、本発明
の画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶
液にて現像される。
の画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶
液にて現像される。
【0133】アルカリ性水溶液を用いる場合、本発明の
画像記録材料の現像液及び補充液としては従来より知ら
れているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸
ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、
同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
画像記録材料の現像液及び補充液としては従来より知ら
れているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸
ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、
同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
【0134】これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液の一例は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸
塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
M2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭54−62004号、特公
昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金
属ケイ酸塩が有効に用いられる。
組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中で特
に好ましい現像液の一例は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸
塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
M2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭54−62004号、特公
昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金
属ケイ酸塩が有効に用いられる。
【0135】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充
液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク
中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷用版材
を処理できることが知られている。本発明においてもこ
の補充方式が好ましく適用される。
には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充
液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク
中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷用版材
を処理できることが知られている。本発明においてもこ
の補充方式が好ましく適用される。
【0136】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。
【0137】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸
水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還
元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸
水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還
元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。
【0138】このような界面活性剤、有機溶剤及び還元
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−
77401号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭53−44202号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭55−155355号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において10重量%以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−
77401号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭53−44202号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭55−155355号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において10重量%以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。
【0139】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。
【0140】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。
【0141】また、実質的に未使用の処理液で処理す
る、いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
る、いわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
【0142】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。
【0143】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
【0144】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
【0145】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来より行なわれて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来より行なわれて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
【0146】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。
【0147】
【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに制限されるものではない。
るが、本発明はこれらに制限されるものではない。
【0148】架橋剤A−1の合成 p−アミノフェノール(1mol)、酢酸ナトリウム
(1mol)をアセトン(1リットル)と共にフラスコに入
れ、ギ酸クロリド(1mol)を氷冷下、滴下する。5
時間後、氷水中に投入して結晶析出させ、結晶をろ取
し、A−1−xを収率75%で得た。このA−1−x
(0.75mol)とKOH(0.75mol)、水5
00ml、37%ホルマリン水溶液(4.0mol)を
フラスコに入れ、50℃で5時間加熱後、アセトン5リ
ットル中に投入し、結晶析出させ、結晶をろ取し、水1
00mlにこの結晶を溶解後、硫酸水素カリウムで中和
すると結晶化する。これをろ取し、目的物A−1を全収
率60%で得た。合成スキームは以下の通りである。
(1mol)をアセトン(1リットル)と共にフラスコに入
れ、ギ酸クロリド(1mol)を氷冷下、滴下する。5
時間後、氷水中に投入して結晶析出させ、結晶をろ取
し、A−1−xを収率75%で得た。このA−1−x
(0.75mol)とKOH(0.75mol)、水5
00ml、37%ホルマリン水溶液(4.0mol)を
フラスコに入れ、50℃で5時間加熱後、アセトン5リ
ットル中に投入し、結晶析出させ、結晶をろ取し、水1
00mlにこの結晶を溶解後、硫酸水素カリウムで中和
すると結晶化する。これをろ取し、目的物A−1を全収
率60%で得た。合成スキームは以下の通りである。
【0149】
【化49】
【0150】得られた目的物A−1の構造は、 1HNM
R、IR、MASSにより確認した。
R、IR、MASSにより確認した。
【0151】架橋剤B−1の合成 チラミン(1mol)、酢酸ナトリウム(1mol)を
アセトン(1リットル)と共にフラスコに入れ、プロピオン
酸クロリド(1mol)を氷冷下、滴下する。5時間
後、氷水中に投入して結晶析出させ、結晶をろ取し、B
−1−xを収率75%で得た。このB−1−x(0.8
5mol)とKOH(0.85mol)、水500m
l、37%ホルマリン水溶液(5.0mol)をフラス
コに入れ、50℃で5時間加熱後、アセトン5リットル
中に投入し、結晶析出させ、結晶をろ取し、水100m
lにこの結晶を溶解後、硫酸水素カリウムで中和すると
結晶化する。これをろ取し、目的物B−1を全収率65
%で得た。合成スキームは以下の通りである。
アセトン(1リットル)と共にフラスコに入れ、プロピオン
酸クロリド(1mol)を氷冷下、滴下する。5時間
後、氷水中に投入して結晶析出させ、結晶をろ取し、B
−1−xを収率75%で得た。このB−1−x(0.8
5mol)とKOH(0.85mol)、水500m
l、37%ホルマリン水溶液(5.0mol)をフラス
コに入れ、50℃で5時間加熱後、アセトン5リットル
中に投入し、結晶析出させ、結晶をろ取し、水100m
lにこの結晶を溶解後、硫酸水素カリウムで中和すると
結晶化する。これをろ取し、目的物B−1を全収率65
%で得た。合成スキームは以下の通りである。
【0152】
【化50】
【0153】得られた目的物B−1の構造は、 1HNM
R、IR、MASSにより確認した。他の低分子量フェ
ノール誘導体も前記スキームI、IIに示した一般的な
合成法により、容易に合成することができる。
R、IR、MASSにより確認した。他の低分子量フェ
ノール誘導体も前記スキームI、IIに示した一般的な
合成法により、容易に合成することができる。
【0154】バインダーポリマー[BX−1] ポリ−p−ヒドロキシスチレン(商品名:マルカリンカ
ーMH2P、丸善石油化学(株)製)。このバインダー
ポリマーは前記一般式(III )で表される好ましいポリ
マーとして例示した[BP−1]と同じ構造を有する。
ーMH2P、丸善石油化学(株)製)。このバインダー
ポリマーは前記一般式(III )で表される好ましいポリ
マーとして例示した[BP−1]と同じ構造を有する。
【0155】バインダーポリマー[BX−2] m−クレゾール/p−クレゾール(60重量%/40重
量%)のホルマリン縮合ノボラック樹脂 重量平均分子
量:1万、数平均分子量:6千(合成品)
量%)のホルマリン縮合ノボラック樹脂 重量平均分子
量:1万、数平均分子量:6千(合成品)
【0156】レゾール樹脂(架橋成分) ビスフェノールAとホルムアルデヒドより得られるレゾ
ール樹脂 重量平均分子量:2千、数平均分子量:1千
(合成品)
ール樹脂 重量平均分子量:2千、数平均分子量:1千
(合成品)
【0157】(実施例1〜20)厚さ0.30mmのア
ルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗
浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュの
パミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よ
く水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリ
ウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、
さらに2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。この
時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電流密
度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記
下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後
の被覆量は10mg/m2 であった。 下塗り液 β−アラニン 0.1g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40g 純水 60g
ルミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗
浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュの
パミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よ
く水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリ
ウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、
さらに2%HNO 3 に20秒間浸漬して水洗した。この
時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2 であっ
た。次にこの板を7%H2 SO4 を電解液として電流密
度15A/dm2 で3g/m2 の直流陽極酸化皮膜を設
けた後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記
下塗り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後
の被覆量は10mg/m2 であった。 下塗り液 β−アラニン 0.1g フェニルホスホン酸 0.05g メタノール 40g 純水 60g
【0158】次に、下記溶液[α]において、本発明の
フェノール誘導体の種類を変えて、19種類の溶液[α
−1]〜[α−20]を調整した。この溶液を、上記の
下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1分
間乾燥してネガ型平版印刷用版材[α−1]〜[α−2
0]を得た。乾燥後の重量は1.4g/m2 であった。
フェノール誘導体の種類を変えて、19種類の溶液[α
−1]〜[α−20]を調整した。この溶液を、上記の
下塗り済みのアルミニウム板に塗布し、100℃で1分
間乾燥してネガ型平版印刷用版材[α−1]〜[α−2
0]を得た。乾燥後の重量は1.4g/m2 であった。
【0159】 溶液[α] 架橋剤(表1に示す) 0.6g バインダーポリマー(表1に示す) 1.4g 酸発生剤(表1に示す) 0.2g 赤外線吸収剤(表1に示す) 0.2g 着色剤(VPB−Naps:保土ヶ谷化学(株)製) 0.04g フッ素系界面活性剤 0.03g (メガファックF−177PF、大日本インキ化学工業(株)製) 溶剤:メチルエチルケトン 1.2g 溶剤:メチルアルコール 15.8g 溶剤:1−メトキシ−2−プロパノール 10.0g
【0160】溶液[α−1]〜[α−20]に用いたフ
ェノール誘導体、バインダーポリマー、酸発生剤及び赤
外線吸収剤をそれぞれ表1に示す。
ェノール誘導体、バインダーポリマー、酸発生剤及び赤
外線吸収剤をそれぞれ表1に示す。
【0161】得られたネガ型平版印刷用版材[α−1]
〜[α−20]を、波長830〜850nm程度の赤外
線を発する半導体レーザで走査露光した。露光後、パネ
ルヒーターにて、110℃で15秒間加熱処理した後、
富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8の
水希釈液)にて現像した。この際得られた画像の線幅と
レーザ出力、光学系でのロスおよび走査速度を基に、記
録に必要なエネルギー量を算出した。
〜[α−20]を、波長830〜850nm程度の赤外
線を発する半導体レーザで走査露光した。露光後、パネ
ルヒーターにて、110℃で15秒間加熱処理した後、
富士写真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8の
水希釈液)にて現像した。この際得られた画像の線幅と
レーザ出力、光学系でのロスおよび走査速度を基に、記
録に必要なエネルギー量を算出した。
【0162】また、保存安定性を調べるため、レーザー
露光前の版材を高湿条件下(75%RH、45℃)に3
日間放置して経時させ、その後、高湿条件下の保存版材
を前記と同様にしてレーザー露光し、記録に必要なエネ
ルギー量を算出し、経時前と経時後のエネルギー量の差
を調べた。この差が実質的には20mJ/cm2 以下で
あることが、製造上好ましく、保存安定性が良好である
と評価される。
露光前の版材を高湿条件下(75%RH、45℃)に3
日間放置して経時させ、その後、高湿条件下の保存版材
を前記と同様にしてレーザー露光し、記録に必要なエネ
ルギー量を算出し、経時前と経時後のエネルギー量の差
を調べた。この差が実質的には20mJ/cm2 以下で
あることが、製造上好ましく、保存安定性が良好である
と評価される。
【0163】さらに耐刷性の評価として、レーザー露
光、ヒーター加熱、現象を終了し、画像形成された印刷
版を、さらに270℃で1分ヒーター加熱し、印刷機で
印刷を繰り返し、それぞれの最終印刷枚数を調べ、比較
例1を基準値(100)として、耐刷指数を相対値とし
て表した。要求される性能としては180以上が実用上
問題のないレベルであると評価する。ここで、最終印刷
枚数とは、印刷版の感光層が膜減りを起こし部分的にイ
ンキがつかなくなる、いわゆる版飛びを起こすまでの枚
数である。これらの結果を併せて表10に示す。
光、ヒーター加熱、現象を終了し、画像形成された印刷
版を、さらに270℃で1分ヒーター加熱し、印刷機で
印刷を繰り返し、それぞれの最終印刷枚数を調べ、比較
例1を基準値(100)として、耐刷指数を相対値とし
て表した。要求される性能としては180以上が実用上
問題のないレベルであると評価する。ここで、最終印刷
枚数とは、印刷版の感光層が膜減りを起こし部分的にイ
ンキがつかなくなる、いわゆる版飛びを起こすまでの枚
数である。これらの結果を併せて表10に示す。
【0164】
【表10】
【0165】また、ここで用いた酸発生剤、赤外線吸収
剤の構造を以下に示す。
剤の構造を以下に示す。
【0166】
【化51】
【0167】表10に明らかなように、本発明に係る平
版印刷用版材はいずれも、200mJ/cm2 以下のエ
ネルギー量で記録可能であり、高感度あり、高耐刷性で
あった。また、高湿条件下での保存安定性も良好であっ
た。
版印刷用版材はいずれも、200mJ/cm2 以下のエ
ネルギー量で記録可能であり、高感度あり、高耐刷性で
あった。また、高湿条件下での保存安定性も良好であっ
た。
【0168】(比較例1〜8)実施例1〜20で用いた
溶液[α]において、本発明のフェノール誘導体を含む
架橋成分の代わりに、下記表2に示す単独化合物架橋剤
を用い、溶液[β−1]〜[β−8]を調整した。この
溶液を、実施例1〜20で用いた下塗り済みのアルミニ
ウム板に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ型平版
印刷用版材[β−1]〜[β−8]を得た。乾燥後の重
量は1.4g/m2 であった。得られた平版印刷用版材
[β−1]〜[β−8]について、実施例1〜20と同
様の条件で、感度、高湿条件下での保存安定性及び耐刷
性を評価した。これらの結果を合わせて表11に示す。
溶液[α]において、本発明のフェノール誘導体を含む
架橋成分の代わりに、下記表2に示す単独化合物架橋剤
を用い、溶液[β−1]〜[β−8]を調整した。この
溶液を、実施例1〜20で用いた下塗り済みのアルミニ
ウム板に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ型平版
印刷用版材[β−1]〜[β−8]を得た。乾燥後の重
量は1.4g/m2 であった。得られた平版印刷用版材
[β−1]〜[β−8]について、実施例1〜20と同
様の条件で、感度、高湿条件下での保存安定性及び耐刷
性を評価した。これらの結果を合わせて表11に示す。
【0169】
【表11】
【0170】表11に明らかなように、単独の架橋剤成
分を用いた平版印刷用版材は、本発明に係る平版印刷用
版材に比較して、感度、高湿条件下での保存安定性或い
は耐刷性のいずれかに劣り、感度と耐刷性を両立するも
のは得られなかった。
分を用いた平版印刷用版材は、本発明に係る平版印刷用
版材に比較して、感度、高湿条件下での保存安定性或い
は耐刷性のいずれかに劣り、感度と耐刷性を両立するも
のは得られなかった。
【0171】
【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で
あり、さらに記録時の感度に優れ、高湿条件下での保存
安定性も良好で、且つ、耐刷性に優れたネガ型画像記録
材料を提供できる。
レーザ及び半導体レーザを用いて記録することにより、
コンピューター等のデジタルデータから直接製版可能で
あり、さらに記録時の感度に優れ、高湿条件下での保存
安定性も良好で、且つ、耐刷性に優れたネガ型画像記録
材料を提供できる。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)酸により架橋する化合物と、
(B)バインダーポリマーと、(C)熱により酸を発生
する化合物と、(D)赤外線吸収剤を含むネガ型画像記
録材料において、 (A)酸により架橋する化合物が、下記一般式(I)で
表される、分子量1000以下の低分子フェノール誘導
体と、下記一般式(II)で表される、環上に2又は3個
のヒドロキシメチル基を有するフェノール環を分子内に
3個以上有する多核型フェノール性架橋剤及び/又はレ
ゾール樹脂との混合物であることを特徴とするネガ型画
像記録材料。 【化1】 式中、Ar1 は、置換基を有していても良い芳香族炭化
水素環を示す。R1 およびR2 は、それぞれ同じでも異
なっていても良く、水素原子または炭素数12個以下の
炭化水素基を示す。R3 は、水素原子または炭素数12
個以下の炭化水素基を示す。mは、2〜4の整数を示
す。nは、1〜3の整数を示す。Xは2価の連結基を示
し、Yは前記の部分構造を有する1価乃至4価の連結基
或いは末端が水素原子である官能基を示し、ZはYが末
端基である場合には存在せず、或いは、Yの連結基の数
に応じて存在する1価乃至4価の連結基又は官能基を示
す。 【化2】 式中、Aは、炭素数1〜20のr価の炭化水素連結基を
示し、rは3〜20の整数を示す。pは、2〜3の整数
を示す。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10203925A JP2000035669A (ja) | 1998-07-17 | 1998-07-17 | ネガ型画像記録材料 |
US09/350,917 US6214518B1 (en) | 1998-07-17 | 1999-07-12 | Negative type image recording material and method of plate-making using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10203925A JP2000035669A (ja) | 1998-07-17 | 1998-07-17 | ネガ型画像記録材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000035669A true JP2000035669A (ja) | 2000-02-02 |
Family
ID=16481976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10203925A Pending JP2000035669A (ja) | 1998-07-17 | 1998-07-17 | ネガ型画像記録材料 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6214518B1 (ja) |
JP (1) | JP2000035669A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010060934A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Fujifilm Corp | ネガ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
WO2012098828A1 (ja) * | 2011-01-21 | 2012-07-26 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 低分子化合物、感放射線性組成物、およびレジストパターン形成方法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6391517B1 (en) * | 1998-04-15 | 2002-05-21 | Agfa-Gevaert | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
DE69930019T2 (de) * | 1998-08-24 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Flachdruckplatte |
JP3917318B2 (ja) * | 1999-02-24 | 2007-05-23 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型平版印刷用材料 |
JP4335416B2 (ja) * | 2000-06-06 | 2009-09-30 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成材料及び赤外線吸収色素 |
US6921620B2 (en) * | 2001-08-21 | 2005-07-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable composition containing colorant having a counter anion derived from a non-volatile acid |
JP3850767B2 (ja) * | 2002-07-25 | 2006-11-29 | 富士通株式会社 | レジストパターン厚肉化材料、レジストパターン及びその製造方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 |
ITMI20042060A1 (it) * | 2004-10-29 | 2006-04-30 | Vai Pomini Srl | Dispositivo e metodo per l'allineamento delle attrezzature di ingresso e dei canali in una gabbia di laminazione |
ES2332814T3 (es) * | 2006-10-17 | 2010-02-12 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de placa de impresion litografica negativa termosensible. |
JP5919122B2 (ja) * | 2012-07-27 | 2016-05-18 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP6313604B2 (ja) * | 2014-02-05 | 2018-04-18 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
JP6326492B2 (ja) * | 2014-06-19 | 2018-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 感放射線性又は感活性光線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
JP6468137B2 (ja) * | 2014-10-01 | 2019-02-13 | 信越化学工業株式会社 | 化学増幅型ネガ型レジスト材料、光硬化性ドライフィルム及びその製造方法、パターン形成方法並びに電気・電子部品保護用皮膜 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6132935A (en) * | 1995-12-19 | 2000-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negative-working image recording material |
JP3636827B2 (ja) * | 1996-07-01 | 2005-04-06 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
JP3725624B2 (ja) * | 1996-08-09 | 2005-12-14 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷用版材及び製版方法 |
JPH10171108A (ja) * | 1996-10-07 | 1998-06-26 | Konica Corp | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JP3822311B2 (ja) * | 1997-04-03 | 2006-09-20 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
JP3836563B2 (ja) * | 1997-04-07 | 2006-10-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷用版材 |
JP3798504B2 (ja) * | 1997-04-21 | 2006-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
JPH1184654A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
JP3798531B2 (ja) * | 1997-09-26 | 2006-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
-
1998
- 1998-07-17 JP JP10203925A patent/JP2000035669A/ja active Pending
-
1999
- 1999-07-12 US US09/350,917 patent/US6214518B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010060934A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Fujifilm Corp | ネガ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
WO2012098828A1 (ja) * | 2011-01-21 | 2012-07-26 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 低分子化合物、感放射線性組成物、およびレジストパターン形成方法 |
JPWO2012098828A1 (ja) * | 2011-01-21 | 2014-06-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 低分子化合物、感放射線性組成物、およびレジストパターン形成方法 |
JP6007793B2 (ja) * | 2011-01-21 | 2016-10-12 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 低分子化合物、感放射線性組成物、およびレジストパターン形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6214518B1 (en) | 2001-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1354701B1 (en) | Photosensitive resin composition and planographic printing plate using the same | |
JP3798504B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP3645362B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP3810510B2 (ja) | ネガ型画像記録材料及び平版印刷版原版 | |
JP2001042541A (ja) | 感光又は感熱性画像形成材料 | |
JP2000035669A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP3725624B2 (ja) | ネガ型平版印刷用版材及び製版方法 | |
JP3798547B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP2002278050A (ja) | ポジ型画像形成材料 | |
JPH09197671A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JPH10193554A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JPH11102071A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP3660505B2 (ja) | 画像記録材料および平版印刷用原版 | |
JPH1016423A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP3836605B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた平版印刷用原版 | |
JPH1029292A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP2002303983A (ja) | ポジ型画像形成材料 | |
JP3853910B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JPH10203037A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JPH1184654A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP4253001B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた平版印刷用原版 | |
JP3802194B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP2000066393A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JP3822311B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JPH10282654A (ja) | ネガ型画像記録材料 |