[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2000016995A - 4級アンモニウムテトラフルオロボレートの製造方法 - Google Patents

4級アンモニウムテトラフルオロボレートの製造方法

Info

Publication number
JP2000016995A
JP2000016995A JP18403598A JP18403598A JP2000016995A JP 2000016995 A JP2000016995 A JP 2000016995A JP 18403598 A JP18403598 A JP 18403598A JP 18403598 A JP18403598 A JP 18403598A JP 2000016995 A JP2000016995 A JP 2000016995A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ethyl
diethyl
quaternary ammonium
carbonate
tetrafluoroborate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18403598A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuaki Hasegawa
勝昭 長谷川
Hideo Nagaoka
秀男 長岡
Makoto Ue
誠 宇恵
Masahiro Takehara
雅裕 竹原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP18403598A priority Critical patent/JP2000016995A/ja
Publication of JP2000016995A publication Critical patent/JP2000016995A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B35/00Boron; Compounds thereof
    • C01B35/06Boron halogen compounds
    • C01B35/063Tetrafluoboric acid; Salts thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高純度の4級アンモニウムテトラフルオロボ
レートを高収率で与える製造方法を提供する。 【解決手段】 4級アンモニウムの炭酸水素又は炭酸モ
ノエステル塩をフッ化水素と反応させて4級アンモニウ
ムフルオライドを生成させ、次いでこれに3フッ化ホウ
素又はこれを含む錯体を反応させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は塩交換を含むプロセ
スにより4級アンモニウムテトラフルオロボレートを製
造する方法に関するものである。本発明方法により製造
される4級アンモニウムテトラフルオロボレートは極め
て高純度なので、電池や電解コンデンサ等の電気化学的
素子用電解質として好適であるが、それ以外にも界面活
性剤、相関移動触媒、柔軟剤、洗剤等の帯電防止剤、ア
スファルト、セメント等の分散剤、殺菌剤、防腐剤、肥
料や粒状物の抗ブロッキング剤、抗凝集剤などとして、
幅広い分野で使用することができる。
【0002】
【従来の技術】従来、4級アンモニウムテトラフルオロ
ボレートは、一般的には3級アミンにアルキルハライド
を反応させて得られた対応する4級アンモニウムハライ
ドと、ホウフッ化水素酸水溶液とを反応させることによ
り製造されている。しかしこの方法には2つの問題点が
ある。第1の問題点は、ホウフッ化水素酸水溶液の使用
に伴うもので、4級アンモニウムテトラフルオロボレー
トは水に対する溶解度が大きいので反応液から製品を回
収する際の回収率が低いこと、ホウフッ化水素酸水溶液
に安定剤として添加されているホウ酸を製品から除去し
なければならないこと、及びテトラフルオロボレートア
ニオンが加水分解を受け、フッ素の一部が水酸基に置換
した好ましくない不純物が生成することである。
【0003】第2の問題点は、原料として4級アンモニ
ウムハライドを用いるために、得られた製品中に塩素イ
オン、臭素イオン、沃素イオンなどの原料由来の不純物
が残留することである。これらの水酸基置換アニオンや
ハロゲンイオンなどの不純物は、得られた製品を電気二
重層キャパシタ、アルミ電解コンデンサー又は非水電解
液電池などの電解液用電解質として用いる際に、その性
能低下や腐蝕を招くため好ましくない。これらの不純物
を除去して高純度の4級アンモニウムテトラフルオロボ
レートとするには、メタノールなどの有機溶媒中で再結
晶を繰り返す必要があり、収率が更に低下すると共に操
作としても煩雑である。
【0004】この様な問題を回避する手段として、いく
つかの方法が提案されている。まず、第1の問題点を解
決する方法として、特開平5−286981号公報に
は、無水条件下で4級アンモニウムクロリド又はブロミ
ドをフッ化水素と反応させてフッ化物とし、次いでこれ
に3フッ化ホウ素を反応させて目的物である4級アンモ
ニウムテトラフルオロボレートを得る方法が提案されて
いる。しかし、この方法では、原料中に含まれる大量の
塩素イオン又は臭素イオンをフッ化水素と共に抜き出す
ため、大量のフッ化水素の使用が必須である。また中間
体である4級アンモニウムフルオライドを固体として取
り出す必要があり、工程が煩雑である。また、第2の問
題点、即ち原料由来のハロゲンイオンの残留は本質的に
解決できず、電解液用の電解質として用いるにはやはり
精製操作が必要である。
【0005】第2の問題点を解決する方法として、原料
としてハロゲンイオンを含まない4級アンモニウム水酸
化物を用い、ホウフッ化水素酸水溶液と反応させる方法
が考えられるが、4級アンモニウム水酸化物は高価なの
で、工業的に有利な方法であるとは言い難い。さらに特
公平7−116113号公報には、3級アミンと炭酸ジ
エステルを反応させて得られた4級アンモニウムアルキ
ル炭酸塩とホウフッ化水素酸水溶液とを反応させる方法
が提案されている。この方法はハロゲンイオンを含まな
い4級アンモニウムテトラフルオロボレートを安価に提
供し得る点では優れているが、水溶液中で反応させるた
め第1の問題点から完全に逃れることはできない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の製
造法は収率や不純物の点でなお改良すべき点を残してお
り、工業的な製造法としては必ずしも好ましいものであ
るとは言えなかった。従って本発明は、電解液用の電解
質として好適な極めて高純度の4級アンモニウムテトラ
フルオロボレートを、高収率で与える製造法を提供しよ
うとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
+ ・RCO3 - (式中、Rは水素原子又は炭素数1〜
4のアルキル基を示し、Q+ は4級アンモニウム基を示
す)で表される4級アンモニウムの炭酸水素又は炭酸モ
ノエステル塩をフッ化水素と反応させて4級アンモニウ
ムフルオライドを生成させ、次いでこれに3フッ化ホウ
素又はこれを含む錯体を反応させることにより、4級ア
ンモニウムテトラフルオロボレートを高純度かつ高収率
で製造することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明による4級アンモニウムテ
トラフルオロボレートの生成反応は、下記式で示され
る。 Q+ ・RCO3 - +HF → Q+ ・F- +ROH+C
2+ ・F- +BF3 → Q+ ・BF4 - 原料として用いる炭酸モノエステルの4級アンモニウム
塩としては、3級アミンにジアルキルカーボネートを反
応させて得られるものを用いるのが好ましい。この反応
は公知であり、3級アミンとしては脂肪族アミン、脂環
族アミン又は含窒素ヘテロ環芳香族アミンなど、任意の
ものを用いることができる。また4級アンモニウムの炭
酸水素塩としては、この反応で得られた4級アンモニウ
ムの炭酸モノエステル塩を加水分解して得られたものを
用いるのが好ましい。3級アミンにジアルキルカーボネ
ートを反応させる方法によれば、ジアルキルカーボネー
トのアルキル基で4級化された4級アンモニウム基が生
成する。ジアルキルカーボネートとしては、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基などアルキル基の炭素
数が1〜4のものであればよいが、通常は市場で安価か
つ容易に入手し得るジメチルカーボネート又はジエチル
カーボネートが用いられるので、メチル基又はエチル基
で4級化された4級アンモニウムの炭酸水素又は炭酸モ
ノエステル塩が生成する。4級アンモニウム基としては
例えば次のようなものが挙げられる。
【0009】トリアルキルアミンの窒素が4級化された
もの;テトラメチルアンモニウム、エチルトリメチルア
ンモニウム、ジエチルジメチルアンモニウム、トリエチ
ルメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、ト
リメチル−n−プロピルアンモニウム、トリメチルイソ
プロピルアンモニウム、エチルジメチル−n−プロピル
アンモニウム、エチルジメチルイソプロピルアンモニウ
ム、ジエチルメチル−n−プロピルアンモニウム、ジエ
チルメチルイソプロピルアンモニウム、ジメチルジ−n
−プロピルアンモニウム、ジメチル−n−プロピルイソ
プロピルアンモニウム、ジメチルジイソプロピルアンモ
ニウム、トリエチル−n−プロピルアンモニウム、n−
ブチルトリメチルアンモニウム、イソブチルトリメチル
アンモニウム、t−ブチルトリメチルアンモニウム、ト
リエチルイソプロピルアンモニウム、エチルメチルジ−
n−プロピルアンモニウム、エチルメチル−n−プロピ
ルイソプロピルアンモニウム、エチルメチルジイソプロ
ピルアンモニウム、n−ブチルエチルジメチルアンモニ
ウム、イソブチルエチルジメチルアンモニウム、t−ブ
チルエチルジメチルアンモニウム、ジエチルジ−n−プ
ロピルアンモニウム、ジエチル−n−プロピルイソプロ
ピルアンモニウム、ジエチルジイソプロピルアンモニウ
ム、メチルトリ−n−プロピルアンモニウム、メチルジ
−n−プロピルイソプロピルアンモニウム、メチル−n
−プロピルジイソプロピルアンモニウム、n−ブチルト
リエチルアンモニウム、イソブチルトリエチルアンモニ
ウム、t−ブチルトリエチルアンモニウム、ジ−n−ブ
チルジメチルアンモニウム、ジイソブチルジメチルアン
モニウム、ジ−t−ブチルジメチルアンモニウム、n−
ブチルイソブチルジメチルアンモニウム、n−ブチル−
t−ブチルジメチルアンモニウム、イソブチル−t−ブ
チルジメチルアンモニウムなど。
【0010】ピロリジン環の窒素が4級化されたもの;
N,N−ジメチルピロリジニウム、N−エチル−N−メ
チルピロリジニウム、N,N−ジエチルピロリジニウ
ム、1,1,2−トリメチルピロリジニウム、1,1,
3−トリメチルピロリジニウム、1−エチル−1,2−
ジメチルピロリジニウム、1−エチル−1,3−ジメチ
ルピロリジニウム、2−エチル−1,1−ジメチルピロ
リジニウム、3−エチル−1,1−ジメチルピロリジニ
ウム、1,1−ジエチル−2−メチルピロリジニウム、
1,1−ジエチル−3−メチルピロリジニウム、1,2
−ジエチル−1−メチルピロリジニウム、1,3−ジエ
チル−1−メチルピロリジニウム、1,1,2−トリエ
チルピロリジニウム、1,1,3−トリエチルピロリジ
ニウム、1,1,2,2−テトラメチルピロリジニウ
ム、1,1,2,3−テトラメチルピロリジニウム、
1,1,2,4−テトラメチルピロリジニウム、1,
1,2,5−テトラメチルピロリジニウム、1,1,
3,4−テトラメチルピロリジニウム、1,1,3,3
−テトラメチルピロリジニウム、2−エチル−1,1,
2−トリメチルピロリジニウム、2−エチル−1,1,
3−トリメチルピロリジニウム、3−エチル−1,1,
2−トリメチルピロリジニウム、3−エチル−1,1,
3−トリメチルピロリジニウム、2−エチル−1,1,
4−トリメチルピロリジニウム、4−エチル−1,1,
2−トリメチルピロリジニウム、2−エチル−1,1,
5−トリメチルピロリジニウム、5−エチル−1,1,
2−トリメチルピロリジニウム、3−エチル−1,1,
4−トリメチルピロリジニウム、4−エチル−1,1,
3−トリメチルピロリジニウム、1−エチル−1,2,
2−トリメチルピロリジニウム、1−エチル−1,2,
3−トリメチルピロリジニウム、1−エチル−1,3,
3−トリメチルピロリジニウム、1−エチル−1,2,
4−トリメチルピロリジニウム、1−エチル−1,2,
5−トリメチルピロリジニウム、1−エチル−1,3,
4−トリメチルピロリジニウム、2,2−ジエチル−
1,1−ジメチルピロリジニウム、2,3−ジエチル−
1,1−ジメチルピロリジニウム、3,3−ジエチル−
1,1−ジメチルピロリジニウム、2,4−ジエチル−
1,1−ジメチルピロリジニウム、2,5−ジエチル−
1,1−ジメチルピロリジニウム、3,4−ジエチル−
1,1−ジメチルピロリジニウム、1,2−ジエチル−
1,2−ジメチルピロリジニウム、1,2−ジエチル−
1,3−ジメチルピロリジニウム、1,3−ジエチル−
1,2−ジメチルピロリジニウム、1,3−ジエチル−
1,3−ジメチルピロリジニウム、1,2−ジエチル−
1,4−ジメチルピロリジニウム、1,4−ジエチル−
1,2−ジメチルピロリジニウム、1,2−ジエチル−
1,5−ジメチルピロリジニウム、1,5−ジエチル−
1,2−ジメチルピロリジニウム、1,3−ジエチル−
1,4−ジメチルピロリジニウム、1,1,2,2,3
−ペンタメチルピロリジニウム、1,1,2,2,4−
ペンタメチルピロリジニウム、1,1,2,2,5−ペ
ンタメチルピロリジニウム、1,1,2,3,4−ペン
タメチルピロリジニウム、1,1,2,3,5−ペンタ
メチルピロリジニウム、1,1,3,3,4−ペンタメ
チルピロリジニウム、1,1,3,3,5−ペンタメチ
ルピロリジニウム、1−エチル−1,2,2,3−テト
ラメチルピロリジニウム、1−エチル−1,2,2,4
−テトラメチルピロリジニウム、1−エチル−1,2,
2,5−テトラメチルピロリジニウム、1−エチル−
1,2,3,4−テトラメチルピロリジニウム、1−エ
チル−1,2,3,5−テトラメチルピロリジニウム、
1−エチル−1,2,4,5−テトラメチルピロリジニ
ウム、1−エチル−1,3,3,4−テトラメチルピロ
リジニウム、1−エチル−1,3,3,5−テトラメチ
ルピロリジニウム、1−エチル−1,3,4,5−テト
ラメチルピロリジニウム、2−エチル−1,1,2,3
−テトラメチルピロリジニウム、2−エチル−1,1,
2,4−テトラメチルピロリジニウム、2−エチル−
1,1,2,5−テトラメチルピロリジニウム、2−エ
チル−1,1,3,3−テトラメチルピロリジニウム、
2−エチル−1,1,3,4−テトラメチルピロリジニ
ウム、2−エチル−1,1,3,5−テトラメチルピロ
リジニウム、2−エチル−1,1,4,4−テトラメチ
ルピロリジニウム、2−エチル−1,1,4,5−テト
ラメチルピロリジニウム、2−エチル−1,1,5,5
−テトラメチルピロリジニウム、3−エチル−1,1,
2,2−テトラメチルピロリジニウム、3−エチル−
1,1,2,3−テトラメチルピロリジニウム、3−エ
チル−1,1,2,4−テトラメチルピロリジニウム、
3−エチル−1,1,2,5−テトラメチルピロリジニ
ウム、3−エチル−1,1,3,4−テトラメチルピロ
リジニウム、3−エチル−1,1,4,4−テトラメチ
ルピロリジニウム、3−エチル−1,1,4,5−テト
ラメチルピロリジニウム、1,1,2,2,3,3−ヘ
キサメチルピロリジニウム、1,1,2,2,3,4−
ヘキサメチルピロリジニウム、1,1,2,2,3,5
−ヘキサメチルピロリジニウム、1,1,2,2,4,
4−ヘキサメチルピロリジニウム、1,1,2,2,
4,5−ヘキサメチルピロリジニウム、1,1,2,
2,5,5−ヘキサメチルピロリジニウム、1,1,
2,3,3,4−ヘキサメチルピロリジニウム、1,
1,2,3,3,5−ヘキサメチルピロリジニウム、
1,1,2,3,4,4−ヘキサメチルピロリジニウ
ム、1,1,2,3,5,5−ヘキサメチルピロリジニ
ウム、1,1,2,3,4,5−ヘキサメチルピロリジ
ニウムなど。
【0011】モルホリン環の窒素が4級化されたもの
N,N−ジメチルモルホリニウム、N−エチル−N−メ
チルモルホリニウム、N,N−ジエチルモルホリニウ
ム、3,4,4−トリメチルモルホリニウム、2,4,
4−トリメチルモルホリニウム、3−エチル−4,4−
ジメチルモルホリニウム、2−エチル−4,4−ジメチ
ルモルホリニウム、3,4−ジメチル−4−エチルモル
ホリニウム、2,4−ジメチル−4−エチルモルホリニ
ウム、3−メチル−4,4−ジエチルモルホリニウム、
2−メチル−4,4−ジエチルモルホリニウム、3,4
−ジエチル−4−メチルモルホリニウム、2,4−ジエ
チル−4−メチルモルホリニウム、3,4,4−トリエ
チルモルホリニウム、2,4,4−トリエチルモルホリ
ニウム、3,3,4,4−テトラメチルモルホリニウ
ム、2,3,4,4−テトラメチルモルホリニウム、
2,4,4,5−テトラメチルモルホリニウム、3,
4,4,5−テトラメチルモルホリニウム、2,2,
4,4−テトラメチルモルホリニウム、2,4,4,6
−テトラメチルモルホリニウム、2,4,4−トリメチ
ル−3−エチルモルホリニウム、2−エチル−3,4,
4−トリメチルモルホリニウム、2,4,4−トリメチ
ル−5−エチルモルホリニウム、2−エチル−4,4,
5−トリメチルモルホリニウム、3−エチル−4,4,
5−トリメチルモルホリニウム、3−エチル−4,4,
6−トリメチルモルホリニウム、2−エチル−4,4,
6−トリメチルモルホリニウム、2,3−ジメチル−
4,4−ジエチルモルホリニウム、2,5−ジメチル−
4,4−ジエチルモルホリニウム、3,5−ジメチル−
4,4−ジエチルモルホリニウム、2,6−ジメチル−
4,4−ジエチルモルホリニウム、2,4−ジメチル−
3,4−ジエチルモルホリニウム、2,4−ジエチル−
3,4−ジメチルモルホリニウム、2,4−ジメチル−
4,5−ジエチルモルホリニウム、2,4−ジエチル−
4,5−ジメチルモルホリニウム、3,4−ジエチル−
4,5−ジメチルモルホリニウム、2,4−ジエチル−
4,6−ジメチルモルホリニウム、2,3−ジエチル−
4,4−ジメチルモルホリニウム、2,5−ジエチル−
4,4−ジメチルモルホリニウム、3,5−ジエチル−
4,4−ジメチルモルホリニウム、2,6−ジエチル−
4,4−ジメチルモルホリニウム、2,3,4,4,6
−ペンタメチルモルホリニウム、2,3,4,4,5−
ペンタメチルモルホリニウム、2,4,4,6−テトラ
メチル−3−エチルモルホリニウム、2,4,4,5−
テトラメチル−3−エチルモルホリニウム、2−エチル
−3,4,4,6−テトラメチルモルホリニウム、2−
エチル−3,4,4,5−テトラメチルモルホリニウ
ム、2,3,4,4,5,6−ヘキサメチルモルホリニ
ウムなど。
【0012】イミダゾリン環の窒素が4級化されたも
の;N,N′−ジメチルイミダゾリニウム、N−エチル
−N′−メチルイミダゾリニウム、N,N′−ジエチル
イミダゾリニウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリ
ニウム、1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、1
−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリニウム、1−エ
チル−3,4−ジメチルイミダゾリニウム、1−エチル
−3,5−ジメチルイミダゾリニウム、2−エチル−
1,3−ジメチルイミダゾリニウム、4−エチル−1,
3−ジメチルイミダゾリニウム、1,2−ジエチル−3
−メチルイミダゾリニウム、1,4−ジエチル−3−メ
チルイミダゾリニウム、1,5−ジエチル−3−メチル
イミダゾリニウム、1,3−ジエチル−2−メチルイミ
ダゾリニウム、1,3−ジエチル−4−メチルイミダゾ
リニウム、1,2,3−トリエチルイミダゾリニウム、
1,3,4−トリエチルイミダゾリニウム、1,2,
3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1−エチル−
2,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、1−エチル
−2,3,5−トリメチルイミダゾリニウム、1−エチ
ル−3,4,5−トリメチルイミダゾリニウム、2−エ
チル−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、4−
エチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、
1,2−ジエチル−3,4−ジメチルイミダゾリニウ
ム、1,3−ジエチル−2,4−ジメチルイミダゾリニ
ウム、1,4−ジエチル−2,3−ジメチルイミダゾリ
ニウム、2,4−ジエチル−1,3−ジメチルイミダゾ
リニウム、4,5−ジエチル−1,3−ジメチルイミダ
ゾリニウム、1,2,3−トリエチル−4−メチルイミ
ダゾリニウム、1,2,4−トリエチル−3−メチルイ
ミダゾリニウム、1,2,5−トリエチル−3−メチル
イミダゾリニウム、1,3,4−トリエチル−2−メチ
ルイミダゾリニウム、1,3,4−トリエチル−5−メ
チルイミダゾリニウム、1,4,5−トリエチル−3−
メチルイミダゾリニウム、1,2,3,4,5−ペンタ
メチルイミダゾリニウムなど。
【0013】テトラヒドロピリミジン環の窒素が4級化
されたものN,N′−ジメチルテトラヒドロピリミジニ
ウム、N−エチル−N′−メチルテトラヒドロピリミジ
ニウム、N,N′−ジエチルテトラヒドロピリミジニウ
ム、1,2,3−トリメチルテトラヒドロピリミジニウ
ム、1,3,4−トリメチルテトラヒドロピリミジニウ
ム、1,3,5−トリメチルテトラヒドロピリミジニウ
ム、1−エチル−2,3−ジメチルテトラヒドロピリミ
ジニウム、1−エチル−3,4−ジメチルテトラヒドロ
ピリミジニウム、1−エチル−3,5−ジメチルテトラ
ヒドロピリミジニウム、1−エチル−3,6−ジメチル
テトラヒドロピリミジニウム、2−エチル−1,3−ジ
メチルテトラヒドロピリミジニウム、4−エチル−1,
3−ジメチルテトラヒドロピリミジニウム、5−エチル
−1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジニウム、1,
2,3,4−テトラメチルテトラヒドロピリミジニウ
ム、1,2,3,5−テトラメチルテトラヒドロピリミ
ジニウム、1−エチル−2,3,4−トリメチルテトラ
ヒドロピリミジニウム、1−エチル−2,3,5−トリ
メチルテトラヒドロピリミジニウム、1−エチル−2,
3,6−トリメチルテトラヒドロピリミジニウム、2−
エチル−1,3,4−トリメチルテトラヒドロピリミジ
ニウム、2−エチル−1,3,5−トリメチルテトラヒ
ドロピリミジニウム、4−エチル−1,2,3−トリメ
チルテトラヒドロピリミジニウム、4−エチル−1,
3,5−トリメチルテトラヒドロピリミジニウム、4−
エチル−1,3,6−トリメチルテトラヒドロピリミジ
ニウム、5−エチル−1,2,3−トリメチルテトラヒ
ドロピリミジニウム、5−エチル−1,3,4−トリメ
チルテトラヒドロピリミジニウム、1,2−ジエチル−
3,4−ジメチルテトラヒドロピリミジニウム、1,2
−ジエチル−3,5−ジメチルテトラヒドロピリミジニ
ウム、1,2−ジエチル−3,6−ジメチルテトラヒド
ロピリミジニウム、1,3−ジエチル−2,4−ジメチ
ルテトラヒドロピリミジニウム、1,3−ジエチル−
2,5−ジメチルテトラヒドロピリミジニウム、1,4
−ジエチル−2,3−ジメチルテトラヒドロピリミジニ
ウム、1,4−ジエチル−3,5−ジメチルテトラヒド
ロピリミジニウム、1,4−ジエチル−3,6−ジメチ
ルテトラヒドロピリミジニウム、1,5−ジエチル−
2,3−ジメチルテトラヒドロピリミジニウム、1,5
−ジエチル−3,4−ジメチルテトラヒドロピリミジニ
ウム、1,5−ジエチル−3,6−ジメチルテトラヒド
ロピリミジニウム、2,4−ジエチル−1,3−ジメチ
ルテトラヒドロピリミジニウム、2,5−ジエチル−
1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジニウム、4,5
−ジエチル−1,3−ジメチルテトラヒドロピリミジニ
ウム、4,6−ジエチル−1,3−ジメチルテトラヒド
ロピリミジニウム、1,2,3,4,5−ペンタメチル
テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4,6−ペ
ンタメチルテトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,
4,5,6−ヘキサメチルテトラヒドロピリミジニウ
ム、5−メチル−1,5−ジアザビシクロ[4.3.
0]−5−ノネニウム、5−エチル−1,5−ジアザビ
シクロ[4.3.0]−5−ノネニウム、5−メチル−
1,5−ジアザビシクロ[5.4.0]−5−ウンデセ
ニウム、5−エチル−1,5−ジアザビシクロ[5.
4.0]−5−ウンデセニウムなど。
【0014】ピペラジン環の窒素が4級化されたもの;
N,N,N′,N′−テトラメチルピペラジニウム、N
−エチル−N,N′,N′−トリメチルピペラジニウ
ム、N,N−ジエチル−N′,N′−ジメチルピペラジ
ニウム、N,N,N′−トリエチル−N′−メチルピペ
ラジニウム、N,N,N′,N′−テトラエチルピペラ
ジニウム、1,1,2,4,4−ペンタメチルピペラジ
ニウム、1,1,3,4,4−ペンタメチルピペラジニ
ウム、1,1,2,3,4,4−ヘキサメチルピペラジ
ニウム、1,1,2,4,4,5−ヘキサメチルピペラ
ジニウム、1,1,2,4,4,6−ヘキサメチルピペ
ラジニウム、1,1,3,4,4,5−ヘキサメチルピ
ペラジニウム、1−エチル−1,2,4,4−テトラメ
チルピペラジニウム、1−エチル−1,3,4,4−テ
トラメチルピペラジニウム、2−エチル−1,1,4,
4−テトラメチルピペラジニウム、1−エチル−1,
2,4,4−テトラメチルピペラジニウム、1−エチル
−1,3,4,4−テトラメチルピペラジニウム、1,
1−ジエチル−2,4,4−トリメチルピペラジニウ
ム、1,4−ジエチル−1,2,4−トリメチルピペラ
ジニウム、1,2−ジエチル−1,4,4−トリメチル
ピペラジニウム、1,3−ジエチル−1,4,4−トリ
メチルピペラジニウムなど。
【0015】ピペリジン環の窒素が4級化されたもの;
N,N−ジメチルピペリジニウム、N−エチル−N−メ
チルピペリジニウム、N,N−ジエチルピペリジニウ
ム、1,1,2−トリメチルピペリジニウム、1,1,
3−トリメチルピペリジニウム、1,1,4−トリメチ
ルピペリジニウム、1,2,2−テトラメチルピペリジ
ニウム、1,1,2,3−テトラメチルピペリジニウ
ム、1,1,2,4−テトラメチルピペリジニウム、
1,1,2,5−テトラメチルピペリジニウム、1,
1,2,6−テトラメチルピペリジニウム、1,1,
3,3−テトラメチルピペリジニウム、1,1,3,4
−テトラメチルピペリジニウム、1,1,3,5−テト
ラメチルピペリジニウム、1−エチル−1,2−ジメチ
ルピペリジニウム、1−エチル−1,3−ジメチルピペ
リジニウム、1−エチル−1,4−ジメチルピペリジニ
ウム、1−エチル−1,2,3−トリメチルピペリジニ
ウム、1−エチル−1,2,4−トリメチルピペリジニ
ウム、1−エチル−1,2,5−トリメチルピペリジニ
ウム、1−エチル−1,2,6−トリメチルピペリジニ
ウム、1−エチル−1,3,4−トリメチルピペリジニ
ウム、1−エチル−1,3,5−トリメチルピペリジニ
ウム、1,1−ジエチル−2−メチルピペリジニウム、
1,1−ジエチル−3−メチルピペリジニウム、1,1
−ジエチル−4−メチルピペリジニウム、1,1−ジエ
チル−2,3−ジメチルピペリジニウム、1,1−ジエ
チル−2,4−ジメチルピペリジニウム、1,1−ジエ
チル−2,5−ジメチルピペリジニウム、1,1−ジエ
チル−2,6−ジメチルピペリジニウム、1,1−ジエ
チル−3,4−ジメチルピペリジニウム、1,1−ジエ
チル−3,5−ジメチルピペリジニウム、2−エチル−
1,1,3−トリメチルピペリジニウム、2−エチル−
1,1,4−トリメチルピペリジニウム、2−エチル−
1,1,5−トリメチルピペリジニウム、2−エチル−
1,1,6−トリメチルピペリジニウム、3−エチル−
1,1,2−トリメチルピペリジニウム、3−エチル−
1,1,4−トリメチルピペリジニウム、3−エチル−
1,1,5−トリメチルピペリジニウム、3−エチル−
1,1,6−トリメチルピペリジニウム、4−エチル−
1,1,2−トリメチルピペリジニウム、4−エチル−
1,1,3−トリメチルピペリジニウム、1,2−ジエ
チル−1,3−ジメチルピペリジニウム、1−エチル−
1,2,4−トリメチルピペリジニウム、1,2−ジエ
チル−1,5−ジメチルピペリジニウム、1,2−ジエ
チル−1,6−ジメチルピペリジニウム、1,3−ジエ
チル−1,5−ジメチルピペリジニウム、1,3−ジエ
チル−1,4−ジメチルピペリジニウム、1,3−ジエ
チル−1,5−ジメチルピペリジニウム、1,3−ジエ
チル−1,6−ジメチルピペリジニウム、1,4−ジエ
チル−1,2−ジメチルピペリジニウム、1,4−ジエ
チル−1,3−ジメチルピペリジニウム、1,1,2−
トリエチル−3−メチルピペリジニウム、1,1,2−
トリエチル−4−メチルピペリジニウム、1,1,2−
トリエチル−5−メチルピペリジニウム、1,1,2−
トリエチル−6−メチルピペリジニウム、1,1,3−
トリエチル−2−メチルピペリジニウム、1,1,3−
トリエチル−4−メチルピペリジニウム、1,1,3−
トリエチル−5−メチルピペリジニウム、1,1,3−
トリエチル−6−メチルピペリジニウム、1,1,4−
トリエチル−2−メチルピペリジニウム、1,1,4−
トリエチル−3−メチルピペリジニウム、2−エチル−
1,1−ジメチルピペリジニウム、3−エチル−1,1
−ジメチルピペリジニウム、4−エチル−1,1−ジメ
チルピペリジニウム、2,3−ジエチル−1,1−ジメ
チルピペリジニウム、2,4−ジエチル−1,1−ジメ
チルピペリジニウム、2,5−ジエチル−1,1−ジメ
チルピペリジニウム、2,6−ジエチル−1,1−ジメ
チルピペリジニウム、3,4−ジエチル−1,1−ジメ
チルピペリジニウム、3,5−ジエチル−1,1−ジメ
チルピペリジニウム、1,2−ジエチル−1−メチルピ
ペリジニウム、1,3−ジエチル−1−メチルピペリジ
ニウム、1,4−ジエチル−1−メチルピペリジニウ
ム、1,2,3−トリエチル−1−メチルピペリジニウ
ム、1,2,4−トリエチル−1−メチルピペリジニウ
ム、1,2,5−トリエチル−1−メチルピペリジニウ
ム、1,2,6−トリエチル−1−メチルピペリジニウ
ム、1,3,4−トリエチル−1−メチルピペリジニウ
ム、1,3,5−トリエチル−1−メチルピペリジニウ
ム、1,1,2−トリエチルピペリジニウム、1,1,
4−トリエチルピペリジニウム、1,1,2,3−テト
ラエチルピペリジニウム、1,1,2,4−テトラエチ
ルピペリジニウム、1,1,2,5−テトラエチルピペ
リジニウム、1,1,2,6−テトラエチルピペリジニ
ウム、1,1,3,4−テトラメチルピペリジニウム、
1,1,3,5−テトラエチルピペリジニウムなど。
【0016】ピリジン環の窒素が4級化されたもの;N
−メチルピリジニウム、N−エチルピリジニウム、1,
2−ジメチルピリジニウム、1,3−ジメチルピリジニ
ウム、1,4−ジメチルピリジニウム、1−エチル−2
−メチルピリジニウム、2−エチル−1−メチルピリジ
ニウム、1−エチル−3−メチルピリジニウム、3−エ
チル−1−メチルピリジニウム、1−エチル−4−メチ
ルピリジニウム、4−エチル−1−メチルピリジニウ
ム、1,2−ジエチルピリジニウム、1,3−ジエチル
ピリジニウム、1,4−ジエチルピリジニウム、1,
2,3−トリメチルピリジニウム、1,2,4−トリメ
チルピリジニウム、1,3,4−トリメチルピリジニウ
ム、1,3,5−トリメチルピリジニウム、1,2,5
−トリメチルピリジニウム、1,2,6−トリメチルピ
リジニウム、1−エチル−2,3−ジメチルピリジニウ
ム、1−エチル−2,4−ジメチルピリジニウム、1−
エチル−2,5−ジメチルピリジニウム、1−エチル−
2,6−ジメチルピリジニウム、1−エチル−3,4−
ジメチルピリジニウム、1−エチル−3,5−ジメチル
ピリジニウム、2−エチル−1,3−ジメチルピリジニ
ウム、2−エチル−1,4−ジメチルピリジニウム、2
−エチル−1,5−ジメチルピリジニウム、2−エチル
−1,6−ジメチルピリジニウム、3−エチル−1,2
−ジメチルピリジニウム、3−エチル−1,4−ジメチ
ルピリジニウム、3−エチル−1,5−ジメチルピリジ
ニウム、3−エチル−1,6−ジメチルピリジニウム、
4−エチル−1,2−ジメチルピリジニウム、4−エチ
ル−1,3−ジメチルピリジニウム、1,2−ジエチル
−3−メチルピリジニウム、1,2−ジエチル−4−メ
チルピリジニウム、1,2−ジエチル−5−メチルピリ
ジニウム、1,2−ジエチル−6−メチルピリジニウ
ム、1,3−ジエチル−2−メチルピリジニウム、1,
3−ジエチル−4−メチルピリジニウム、1,3−ジエ
チル−5−メチルピリジニウム、1,3−ジエチル−6
−メチルピリジニウム、1,4−ジエチル−2−メチル
ピリジニウム、1,4−ジエチル−3−メチルピリジニ
ウム、2,3−ジエチル−1−メチルピリジニウム、
2,4−ジエチル−1−メチルピリジニウム、2,5−
ジエチル−1−メチルピリジニウム、2,6−ジエチル
−1−メチルピリジニウム、3,4−ジエチル−1−メ
チルピリジニウム、3,5−ジエチル−1−メチルピリ
ジニウム、1,2,3,4,5−ペンタメチルピリジニ
ウム、1,2,3,4,6−ペンタメチルピリジニウ
ム、1,2,3,5,6−ペンタメチルピリジニウム、
1,2,3,4,5,6−ヘキサメチルピリジニウムな
ど。
【0017】イミダゾール環の窒素が4級化されたも
の;N,N′−ジメチルイミダゾリウム、N−エチル−
N′−メチルイミダゾリウム、N,N′−ジエチルイミ
ダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、
1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、1−エチル−
2,3−ジメチルイミダゾリウム、1−エチル−3,4
−ジメチルイミダゾリウム、1−エチル−3,5−ジメ
チルイミダゾリウム、2−エチル−1,3−ジメチルイ
ミダゾリウム、4−エチル−1,3−ジメチルイミダゾ
リウム、1,2−ジエチル−3−メチルイミダゾリウ
ム、1,4−ジエチル−3−メチルイミダゾリウム、
1,5−ジエチル−3−メチルイミダゾリウム、1,3
−ジエチル−2−メチルイミダゾリウム、1,3−ジエ
チル−4−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリエ
チルイミダゾリウム、1,3,4−トリエチルイミダゾ
リウム、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウ
ム、1−エチル−2,3,4−トリメチルイミダゾリウ
ム、1−エチル−2,3,5−トリメチルイミダゾリウ
ム、1−エチル−3,4,5−トリメチルイミダゾリウ
ム、2−エチル−1,3,4−トリメチルイミダゾリウ
ム、4−エチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリウ
ム、1,2−ジエチル−3,4−ジメチルイミダゾリウ
ム、1,3−ジエチル−2,4−ジメチルイミダゾリウ
ム、1,4−ジエチル−2,3−ジメチルイミダゾリウ
ム、1,4−ジエチル−2,5−ジメチルイミダゾリウ
ム、2,4−ジエチル−1,3−ジメチルイミダゾリウ
ム、4,5−ジエチル−1,3−ジメチルイミダゾリウ
ム、1,2,3−トリエチル−4−メチルイミダゾリウ
ム、1,2,4−トリエチル−3−メチルイミダゾリウ
ム、1,2,5−トリエチル−3−メチルイミダゾリウ
ム、1,3,4−トリエチル−2−メチルイミダゾリウ
ム、1,3,4−トリエチル−5−メチルイミダゾリウ
ム、1,4,5−トリエチル−3−メチルイミダゾリウ
ム、1,2,3,4,5−ペンタメチルイミダゾリウム
など。
【0018】3級アミンとして市場で安価かつ容易に入
手し得るのは、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミンな
どのトリアルキルアミンなので、これらと同じく容易に
入手し得るジメチルカーボネートやジエチルカーボネー
トとの反応で得られる4級アンモニウム塩、例えばテト
ラメチルアンモニウムメチル炭酸塩、トリエチルメチル
アンモニウムメチル炭酸塩、トリ−n−プロピルメチル
アンモニウムメチル炭酸塩、トリ−n−ブチルメチルア
ンモニウムメチル炭酸塩、トリメチルエチルアンモニウ
ムエチル炭酸塩、テトラエチルアンモニウムエチル炭酸
塩、トリ−n−プロピルエチルアンモニウムエチル炭酸
塩、トリ−n−ブチルエチルアンモニウムエチル炭酸塩
やこれを加水分解して得られる対応する炭酸水素塩など
が、本発明で用いる最も一般的な4級アンモニウム塩で
ある。
【0019】なかでもトリエチルメチルアンモニウムメ
チル炭酸塩、テトラメチルアンモニウムエチル炭酸塩、
トリエチルメチルアンモニウム炭酸水素塩及びテトラエ
チルアンモニウム炭酸水素塩よりなる群から選ばれたも
のを用いるのが好ましい。フッ化水素及び3フッ化ホウ
素はいずれも塩素などの不純物を含まない高純度のもの
を用いる。なお、3フッ化ホウ素はボンベで入手し得る
3フッ化ホウ素ガスを用いる以外に、液体として入手し
得る3フッ化ホウ素とアルコール、エーテル、エステ
ル、ケトンなどとの錯体を用いることもできる。
【0020】4級アンモニウムの炭酸水素又は炭酸モノ
エステル塩とフッ化水素との反応は、未反応の4級アン
モニウム塩が残存しないように、理論量以上のフッ化水
素を用いて行うのが好ましい。通常は4級アンモニウム
塩に対し1〜5倍モル、好ましくは1.2〜3倍モルの
フッ化水素を用いる。大過剰のフッ化水素の使用は無駄
であるばかりでなく、残存するフッ化水素の除去に要す
る時間が長くなるので好ましくない。
【0021】反応は通常はフッ化水素の沸点である1
9.9℃以下、好ましくは0〜10℃で行う。反応容器
は樹脂製であるのが好ましく、特にテフロン製が好適で
ある。反応は、通常は、反応容器に入れた4級アンモニ
ウム塩に、冷却したフッ化水素を徐々に添加する方式で
行うのが好ましい。なお、反応に際しては炭酸ガスが発
生するので、突沸には十分に注意する必要がある。
【0022】生成した4級アンモニウムフルオライド
は、次いで3フッ化ホウ素又はこれを含む錯体と反応さ
せる。4級アンモニウムフルオライドと3フッ化ホウ素
又はこれを含む錯体とは、理論量である1:1(モル
比)で反応させるのが好ましいが、いずれかを過剰に用
いることもできる。しかし理論値よりも過剰に用いた分
は無駄となるばかりでなく、最終的には目的物である4
級アンモニウムテトラフルオロボレートに混入しないよ
うに除去しなければならないので、いずれを過剰に用い
る場合でも理論量の1.2倍モル以下にすべきである。
理論量の1.1倍モル以下、特に1.05倍モル以下に
止めるのが好ましい。反応は、4級アンモニウム塩とフ
ッ化水素との反応に引続いて行ってもよく、また反応液
から過剰のフッ化水素や反応に用いた有機溶媒の一部を
除去したのち行ってもよく、更には4級アンモニウムフ
ルオライドを固体として取得し、これに3フッ化ホウ素
を反応させてもよい。通常は4級アンモニウムフルオラ
イドを有機溶媒に懸濁させたものを反応容器に入れてお
き、これに3フッ化ホウ素ガスを吹込むか又は3フッ化
ホウ素と有機化合物との錯体の溶液を滴下するのが好ま
しい。なお、4級アンモニウム塩とフッ化水素との反応
及び4級アンモニウムフルオライドと3フッ化ホウ素な
いしはこれを含む錯体との反応は、不活性溶媒の存在下
に行うのが好ましい。不活性溶媒としてはメタノールや
ブタノールなどの低級アルコール、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素などを用いればよ
い。加水分解が起らないように溶媒としては無水のもの
を用いるのが好ましく、水が含まれている場合でもその
含有量は1000ppm以下であるのが好ましい。3フ
ッ化ホウ素として有機化合物との錯体の溶液を用いる場
合には、反応溶媒は錯体の溶液と同じものを用いるのが
好ましい。
【0023】4級アンモニウムフルオライドと3フッ化
ホウ素ないしはこれを含む錯体との反応で生成した4級
アンモニウムテトラフルオロボレートは、通常は過剰の
フッ化水素及び有機溶媒と共存しているので、フッ化水
素や有機溶媒を蒸発させて除き4級アンモニウムテトラ
フルオロボレートを回収する。この操作は4級アンモニ
ウムテトラフルオロボレートが分解しないように20〜
150℃で行うのが好ましい。また回収された4級アン
モニウムテトラフルオロボレートの乾燥は、劣化を避け
るために窒素などの不活性ガス気流下で行うのが好まし
い。
【0024】このようにして原料である4級アンモニウ
ムの炭酸水素又は炭酸モノエステル塩に対しほぼ定量的
に高純度の4級アンモニウムテトラフルオロボレートを
製造することができる。得られた4級アンモニウムテト
ラフルオロボレートはそのままでも種々の用途に好適な
高純度の製品であるが、さらなる高品質化のためにエタ
ノールなどの適当な有機溶媒で再結晶することも可能で
ある。
【0025】
【実施例】以下に実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。 実施例1 撹拌装置の付いた容量1000mlのフッ素樹脂製反応
容器中に、トリエチルアミンとジメチルカーボネートと
の反応で得られたトリエチルメチルアンモニウムメチル
炭酸塩((C2 5 3 (CH3 )N+ ・CH3 CO3
- )191.24g(1.0モル)を含むメタノール溶
液500mlを仕込んだ。これを0℃に保ちながら、撹
拌下、冷却した液体フッ化水素30ml(HFとして
1.5モル)を1時間かけて徐々に滴下した。さらに1
時間撹拌を継続し、過剰のフッ化水素を含むトリエチル
メチルアンモニウムフルオライドのメタノール溶液を得
た。次いで、この溶液を0℃に保ったまま、これに3フ
ッ化ホウ素51%を含む3フッ化ホウ素−メタノール溶
液133.0g(BF3 として1.0モル)を30分か
けて徐々に滴下した。反応容器を100℃のオイルバス
中に浸し、大部分のメタノールと過剰のフッ化水素を留
去させた。さらに、この状態で反応容器に窒素ガスを吹
き込んでメタノール及びフッ化水素を除去し、トリエチ
ルメチルアンモニウムテトラフルオロボレート((C2
5 3 (CH3 )N+ ・BF4 - )の白色固体200
g(1.0モル)を得た。化学分析の結果、得られたト
リエチルメチルアンモニウムテトラフルオロボレートの
純度はBF4 基準で99.5%以上であり、塩素イオ
ン、臭素イオンなどの不純物は、比濁法による検出限界
である1ppm以下であった。
【0026】実施例2 原料としてトリメチルアミンとジエチルカーボネートと
の反応で得られたトリメチルエチルアンモニウムエチル
炭酸塩((CH3 3 (C2 5 )N+ ・C25 CO
3 - )177.24g(1.0モル)を含むエタノール
溶液500mlを用いた以外は実施例1と同様にしてト
リメチルエチルアンモニウムテトラフルオロボレート
((CH3 3 (C2 5 )N+ ・BF4 - )の白色固
体186g(1.0モル)を得た。化学分析の結果、得
られたトリメチルエチルアンモニウムテトラフルオロボ
レートの純度はBF4 基準で99.5%以上であり、塩
素イオン、臭素イオンなどの不純物は、比濁法の検出限
界である1ppm以下であった。
【0027】実施例3 原料としてトリエチルアミンとジエチルカーボネートと
の反応で得られたテトラエチルアンモニウムエチル炭酸
塩((C2 5 4 + ・C2 5 CO3 - )219.
24g(1.0モル)を含むエタノール溶液500ml
を用い、3フッ化ホウ素−メタノール溶液を滴下する代
りに1.0モルの3フッ化ホウ素ガスを吹き込んだ以外
は実施例1と同様にして、テトラエチルアンモニウムテ
トラフルオロボレート((C2 5 4 + ・B
4 - )の白色固体228g(1.0モル)を得た。化
学分析の結果、得られたテトラエチルアンモニウムテト
ラフルオロボレートの純度はBF4 基準で99.5%以
上であり、塩素イオン、臭素イオンなどの不純物は、比
濁法の検出限界である1ppm以下であった。
【0028】実施例4 原料としてトリエチルアミンとジメチルカーボネートと
の反応で得られたトリエチルメチルアンモニウムメチル
炭酸塩((C2 5 3 (CH3 )N+ ・CH 3 CO3
- )を加水分解して得られたトリエチルメチルアンモニ
ウム炭酸水素塩((C2 5 3 (CH3 )N+ ・HC
3 - )177.2g(1.0モル)を含むメタノール
溶液500mlを用いた以外は実施例1と同様にして、
トリエチルメチルアンモニウムテトラフルオロボレート
の白色固体200g(1.0モル)を得た。化学分析の
結果、得られたトリエチルメチルアンモニウムテトラフ
ルオロボレートの純度はBF4 基準で99.5%以上で
あり、塩素イオン、臭素イオンなどの不純物は、比濁法
の検出限界である1ppm以下であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇恵 誠 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱化学株式会社筑波研究所内 (72)発明者 竹原 雅裕 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱化学株式会社筑波研究所内 Fターム(参考) 4H048 AA02 AC90 BD70 BE01 BE56 VA11 VA30 VA75 VB10

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式Q+ ・RCO3 - (式中、Rは水
    素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を示し、Q+ は4
    級アンモニウム基を示す)で表される4級アンモニウム
    の炭酸水素又は炭酸モノエステル塩をフッ化水素と反応
    させて4級アンモニウムフルオライドを生成させ、次い
    でこれに3フッ化ホウ素又はこれを含む錯体を反応させ
    ることを特徴とする4級アンモニウムテトラフルオロボ
    レートの製造方法。
  2. 【請求項2】 4級アンモニウムの炭酸水素又は炭酸モ
    ノエステル塩1モルに対し、1.2〜3.0モルの弗化
    水素を反応させることを特徴とする請求項1記載の4級
    アンモニウムテトラフルオロボレートの製造方法。
  3. 【請求項3】 4級アンモニウムの炭酸水素又は炭酸モ
    ノエステル塩が、トリエチルメチルアンモニウムメチル
    炭酸塩、テトラエチルアンモニウムエチル炭酸塩、トリ
    エチルメチルアンモニウム炭酸水素塩及びテトラエチル
    アンモニウム炭酸水素塩よりなる群から選ばれたもので
    あることを特徴とする請求項1又は2記載の4級アンモ
    ニウムテトラフルオロボレートの製造方法。
JP18403598A 1998-06-30 1998-06-30 4級アンモニウムテトラフルオロボレートの製造方法 Pending JP2000016995A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18403598A JP2000016995A (ja) 1998-06-30 1998-06-30 4級アンモニウムテトラフルオロボレートの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18403598A JP2000016995A (ja) 1998-06-30 1998-06-30 4級アンモニウムテトラフルオロボレートの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000016995A true JP2000016995A (ja) 2000-01-18

Family

ID=16146231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18403598A Pending JP2000016995A (ja) 1998-06-30 1998-06-30 4級アンモニウムテトラフルオロボレートの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000016995A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005145850A (ja) * 2003-11-13 2005-06-09 Kaneka Corp イオン性液体及びその製造方法
JP2005314267A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Kaneka Corp 常温溶融塩及びその製造方法
JP2007526272A (ja) * 2004-03-04 2007-09-13 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト sp2混成した第四級窒素原子を有する化合物の製造方法
JP2007281014A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Stella Chemifa Corp 4級アンモニウムテトラフルオロボレート塩の精製方法
JP2007277110A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Stella Chemifa Corp テトラフルオロホウ酸塩の製造方法
JP2007277111A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Stella Chemifa Corp テトラフルオロホウ酸塩の製造方法
JP2009161537A (ja) * 2001-05-11 2009-07-23 Mitsubishi Chemicals Corp テトラフルオロアルミン酸有機オニウム塩の製造方法及びテトラフルオロアルミン酸有機オニウム塩
JP2012026981A (ja) * 2010-07-27 2012-02-09 Maezawa Ind Inc テトラフルオロホウ酸イオン検出剤、テトラフルオロホウ酸イオン検出キット、及びテトラフルオロホウ酸イオン検出方法
EP2444375A1 (en) * 2009-06-19 2012-04-25 Stella Chemifa Corporation Method for producing tetrafluoroborate
JP2013079368A (ja) * 2011-09-22 2013-05-02 Asahi Kasei Chemicals Corp 組成物及び重合物

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009161537A (ja) * 2001-05-11 2009-07-23 Mitsubishi Chemicals Corp テトラフルオロアルミン酸有機オニウム塩の製造方法及びテトラフルオロアルミン酸有機オニウム塩
JP4631975B2 (ja) * 2001-05-11 2011-02-16 三菱化学株式会社 電解コンデンサ用電解液及びそれを有する電解コンデンサ
JP2005145850A (ja) * 2003-11-13 2005-06-09 Kaneka Corp イオン性液体及びその製造方法
JP2007526272A (ja) * 2004-03-04 2007-09-13 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト sp2混成した第四級窒素原子を有する化合物の製造方法
US8252943B2 (en) 2004-03-04 2012-08-28 Basf Se Method for the production of compounds with quaternary sp2-hybridised nitrogen atoms
JP2005314267A (ja) * 2004-04-28 2005-11-10 Kaneka Corp 常温溶融塩及びその製造方法
JP2007281014A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Stella Chemifa Corp 4級アンモニウムテトラフルオロボレート塩の精製方法
JP2007277111A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Stella Chemifa Corp テトラフルオロホウ酸塩の製造方法
JP2007277110A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Stella Chemifa Corp テトラフルオロホウ酸塩の製造方法
EP2444375A1 (en) * 2009-06-19 2012-04-25 Stella Chemifa Corporation Method for producing tetrafluoroborate
EP2444375A4 (en) * 2009-06-19 2014-11-19 Stella Chemifa Corp PROCESS FOR THE PRODUCTION OF TETRAFLUOROBORATE
US9376323B2 (en) 2009-06-19 2016-06-28 Stella Chemifa Corporation Method for producing tetrafluoroborate
JP2012026981A (ja) * 2010-07-27 2012-02-09 Maezawa Ind Inc テトラフルオロホウ酸イオン検出剤、テトラフルオロホウ酸イオン検出キット、及びテトラフルオロホウ酸イオン検出方法
JP2013079368A (ja) * 2011-09-22 2013-05-02 Asahi Kasei Chemicals Corp 組成物及び重合物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4631975B2 (ja) 電解コンデンサ用電解液及びそれを有する電解コンデンサ
KR100872942B1 (ko) 4급 암모늄 무기산염의 제조 방법
KR101076557B1 (ko) 고순도 제4급 암모늄염의 제조 방법
JP2000016995A (ja) 4級アンモニウムテトラフルオロボレートの製造方法
JP2016204218A (ja) フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法
JP2008088135A (ja) 第四級イミダゾリウムテトラフルオロボレートの精製方法及び該方法により精製した第四級イミダゾリウムテトラフルオロボレートを用いた電気二重層キャパシタ
JP4238465B2 (ja) 四級アンモニウム塩の製造方法
JP3702644B2 (ja) 有機オニウム塩の製造方法
JP2000109487A (ja) 4級アンモニウム塩の製造方法
JP4285943B2 (ja) テトラフルオロアルミン酸有機オニウム塩の製造方法及びテトラフルオロアルミン酸有機オニウム塩
JP3702645B2 (ja) 有機オニウム塩の製造方法
JP2000016994A (ja) 4級アンモニウム塩の製造方法
JP2000086671A (ja) 第四級アルキルアンモニウムテトラフルオロホウ酸塩の製造法
JP5089904B2 (ja) テトラフルオロホウ酸塩の製造方法
JP2001048846A (ja) 四級アンモニウム塩及びその製造方法
KR101077457B1 (ko) 고순도 제4급 암모늄염의 제조 방법
JP4360129B2 (ja) 有機オニウムのテトラフルオロアルミン酸塩の製造方法
JP4238520B2 (ja) テトラフルオロアルミネートの有機オニウム塩の製造方法
JP2003335734A (ja) 有機オニウムのフッ化物塩の製造方法、及びテトラフルオロアルミネートの有機オニウム塩の製造方法
JP2000285960A (ja) 非水電解液用電解質の製造方法
JP4380210B2 (ja) 有機オニウムのフッ化物塩の製造方法、及びテトラフルオロアルミネートの有機オニウム塩の製造方法
JP4082266B2 (ja) テトラフルオロアルミネートの有機オニウム塩の製造方法
JP4839540B2 (ja) アルミニウム電解コンデンサ用のn,n′−ジアルキルイミダゾリニウム有機酸塩の製造方法
JP2007277111A (ja) テトラフルオロホウ酸塩の製造方法
JP3145049B2 (ja) 電解液用の電解質

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20050120

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070522

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20070529

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071204