JP2000007646A - スルフォンアミド誘導体およびそれらを有効成分と して含有する薬剤 - Google Patents
スルフォンアミド誘導体およびそれらを有効成分と して含有する薬剤Info
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 式(I)
(式中、B環は炭素環、複素環;Z1はCOR1、CH2
OH;Z2はアルキル、アルケニル等;Z3は単結合、ア
ルキレン;Z4はSO2;Z5はフェニル、シクロアルキ
ル、複素環等;R2はCONR8、NR8CO、O、S、
NZ6、CO、単結合等;R3はH、ハロゲン、CF
3等;R4はH、(置換)アルキル等;nは1〜4)で示さ
れるスルホンアミド誘導体およびその塩。 【効果】 式(I)で示される化合物およびその塩はP
GE2の受容体に結合し、その作用に拮抗または作働す
る作用を示すため、子宮筋収縮抑制、鎮痛、消化管の運
動抑制、誘眠、膀胱容量増大作用を有する医薬、又は子
宮収縮、消化管の運動促進、胃酸分泌抑制、血圧降下、
利尿作用を有する医薬に適用できる。
OH;Z2はアルキル、アルケニル等;Z3は単結合、ア
ルキレン;Z4はSO2;Z5はフェニル、シクロアルキ
ル、複素環等;R2はCONR8、NR8CO、O、S、
NZ6、CO、単結合等;R3はH、ハロゲン、CF
3等;R4はH、(置換)アルキル等;nは1〜4)で示さ
れるスルホンアミド誘導体およびその塩。 【効果】 式(I)で示される化合物およびその塩はP
GE2の受容体に結合し、その作用に拮抗または作働す
る作用を示すため、子宮筋収縮抑制、鎮痛、消化管の運
動抑制、誘眠、膀胱容量増大作用を有する医薬、又は子
宮収縮、消化管の運動促進、胃酸分泌抑制、血圧降下、
利尿作用を有する医薬に適用できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、スルフォンアミド
誘導体に関する。さらに詳しくは、(1)一般式(I)
誘導体に関する。さらに詳しくは、(1)一般式(I)
【0002】
【化6】
【0003】(式中、すべての記号は後記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物、(2)それらの製造方法
および(3)それらを有効成分として含有するプロスタ
グランジンE2(以下、PGE2と略記する。)拮抗また
は作働剤に関する。
表わす。)で示される化合物、(2)それらの製造方法
および(3)それらを有効成分として含有するプロスタ
グランジンE2(以下、PGE2と略記する。)拮抗また
は作働剤に関する。
【0004】
【従来の技術】PGE2は、アラキドン酸カスケードの
中の代謝産物として知られており、その作用は、子宮収
縮、発痛作用、消化管の蠕動運動促進、覚醒作用、胃酸
分泌抑制作用、血圧降下作用等を有していることが知ら
れている。これらの作用に拮抗すること、および作働す
ることによりそれぞれ以下の作用を有することが期待さ
れる。
中の代謝産物として知られており、その作用は、子宮収
縮、発痛作用、消化管の蠕動運動促進、覚醒作用、胃酸
分泌抑制作用、血圧降下作用等を有していることが知ら
れている。これらの作用に拮抗すること、および作働す
ることによりそれぞれ以下の作用を有することが期待さ
れる。
【0005】PGE2に拮抗することは、これらの作用
を抑制することになるため、それぞれ、子宮収縮抑制、
鎮痛、消化管の運動抑制、誘眠の作用、膀胱容量を増大
させる作用につながることになる。このため、PGE2
拮抗剤は、流産の防止、鎮痛剤、抗下痢剤、入眠剤、頻
尿治療剤として有用である。また、PGE2に作働する
ことは、これらの作用を促進することとなり、それぞ
れ、子宮収縮、消化管の運動亢進、胃酸分泌抑制作用、
血圧降下作用、利尿作用につながる。このため、PGE
2作働剤は、中絶剤、下剤、抗潰瘍剤、抗胃炎剤、血圧
降下剤、利尿剤として有用である。
を抑制することになるため、それぞれ、子宮収縮抑制、
鎮痛、消化管の運動抑制、誘眠の作用、膀胱容量を増大
させる作用につながることになる。このため、PGE2
拮抗剤は、流産の防止、鎮痛剤、抗下痢剤、入眠剤、頻
尿治療剤として有用である。また、PGE2に作働する
ことは、これらの作用を促進することとなり、それぞ
れ、子宮収縮、消化管の運動亢進、胃酸分泌抑制作用、
血圧降下作用、利尿作用につながる。このため、PGE
2作働剤は、中絶剤、下剤、抗潰瘍剤、抗胃炎剤、血圧
降下剤、利尿剤として有用である。
【0006】PGE2のアゴニスト(作働剤)は、いわ
ゆるPGE2自身を初めとして多数知られているが、P
GE2と拮抗しPGE2の作用を阻害する化合物(アンタ
ゴニスト)は多くは知られていない。例えば、PGEア
ンタゴニストについて記載した特許出願として以下のも
のが挙げられる。
ゆるPGE2自身を初めとして多数知られているが、P
GE2と拮抗しPGE2の作用を阻害する化合物(アンタ
ゴニスト)は多くは知られていない。例えば、PGEア
ンタゴニストについて記載した特許出願として以下のも
のが挙げられる。
【0007】WO 96/03380には、一般式(A)
【0008】
【化7】
【0009】(式中、Aは置換されていてもよいフェニ
ル等を表わし、Bは置換されていてもよい環系を表わ
し、Dは置換されていてもよい環系を表わし、R1Aはカ
ルボキシ等を表わし、R2Aは、水素原子、C1〜6アル
キルなどを表わし、R3Aは水素原子、C1〜4アルキル
を表わし、R4Aは水素原子、またはC1〜4アルキルを
表わす(一部を抜粋した。)。)で示される化合物がP
GEアンタゴニストであることが記載されている。
ル等を表わし、Bは置換されていてもよい環系を表わ
し、Dは置換されていてもよい環系を表わし、R1Aはカ
ルボキシ等を表わし、R2Aは、水素原子、C1〜6アル
キルなどを表わし、R3Aは水素原子、C1〜4アルキル
を表わし、R4Aは水素原子、またはC1〜4アルキルを
表わす(一部を抜粋した。)。)で示される化合物がP
GEアンタゴニストであることが記載されている。
【0010】WO 96/06822には、一般式(B)
【0011】
【化8】
【0012】(式中、Aは置換されていてもよい環系を
表わし、Bは置換されていてもよいヘテロアリル環また
は置換されていてもよいフェニル等を表わし、Dは置換
されていてもよい環系を表わし、XBは、(CHR4B)
nBまたは(CHR4B)pCR4B=CR4B(CHR4B)
qを表わし、R1Bはカルボキシ等を表わし、R3Bは水素
原子またはC1〜4アルキルを表わし、R4Bは水素原子
またはC1〜4アルキルを表わす。(一部を抜粋し
た。)。)で示される化合物がPGEアンタゴニストで
あることが記載されている。
表わし、Bは置換されていてもよいヘテロアリル環また
は置換されていてもよいフェニル等を表わし、Dは置換
されていてもよい環系を表わし、XBは、(CHR4B)
nBまたは(CHR4B)pCR4B=CR4B(CHR4B)
qを表わし、R1Bはカルボキシ等を表わし、R3Bは水素
原子またはC1〜4アルキルを表わし、R4Bは水素原子
またはC1〜4アルキルを表わす。(一部を抜粋し
た。)。)で示される化合物がPGEアンタゴニストで
あることが記載されている。
【0013】WO 96/11902には、一般式(C)
【0014】
【化9】
【0015】(式中、A、BおよびDは様々な環系を表
わし、R1Cはカルボキシ等を表わし、R3Cは水素原子ま
たはC1〜4アルキルを表わし、Zは−(CH
(R5C))mCなどを表わす(一部を抜粋した。)。)
で示される化合物がPGEアンタゴニストであることが
記載されている。一般式(A)、(B)および(C)で
示される先行技術の化合物は、目的とする薬理作用は同
じであるものの、本願発明化合物はスルフォンアミドを
必須の構造としているのに対して、その部分がエーテル
またはアルキレンである点が異なっており、これらの構
造から本願発明化合物を容易に類推できるものではな
い。
わし、R1Cはカルボキシ等を表わし、R3Cは水素原子ま
たはC1〜4アルキルを表わし、Zは−(CH
(R5C))mCなどを表わす(一部を抜粋した。)。)
で示される化合物がPGEアンタゴニストであることが
記載されている。一般式(A)、(B)および(C)で
示される先行技術の化合物は、目的とする薬理作用は同
じであるものの、本願発明化合物はスルフォンアミドを
必須の構造としているのに対して、その部分がエーテル
またはアルキレンである点が異なっており、これらの構
造から本願発明化合物を容易に類推できるものではな
い。
【0016】
【発明の開示】本発明は、一般式(I)
【0017】
【化10】
【0018】(式中、
【0019】
【化11】
【0020】は、C5〜7の炭素環、または1個または
2個の酸素、硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複
素環を表わし、Z1は、−COR1、(式中、R1は、水
酸基、C1〜4アルコキシまたは式NR6R7(式中、R
6およびR7は独立して水素原子またはC1〜4アルキル
を表わす。)で示される基を表わす。)で示される基、
または−CH2OHを表わし、Z2は、C1〜8アルキ
ル、C2〜8アルケニル、C2〜8アルキニルを表わ
し、Z3は、単結合またはC1〜4アルキレンを表わ
し、Z4は、SO2を表わし、Z5は、(1)C1〜8ア
ルキル、C2〜8アルケニル、C2〜8アルキニル、
(2)フェニル、C3〜7シクロアルキル、1個または
2個の酸素、硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複
素環、(3)フェニルまたはC3〜7シクロアルキルで
置換されたC1〜4アルキル、C2〜4アルケニルまた
はC2〜4アルキニル(上記(2)および(3)中のフ
ェニル、C3〜7シクロアルキル、1個または2個の酸
素、硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複素環は、
m個(mは1〜5の整数を表わす。)のR5基(基中、
それぞれのR5は独立して水素原子、C1〜6アルキ
ル、C1〜6アルコキシ、C1〜6アルキルチオ、ニト
ロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシまたは水酸基を表わす。)で置換されてもよい。)
を表わし、R2は、CONR8、NR8CO、C1〜4ア
ルキレン−CONR8、C1〜4アルキレン−NR8C
O、(各式中、R8は、水素原子またはC1〜4アルキ
ルを表わす。)で示される基、O、S、NZ6(式中、
Z6は、水素原子またはC1〜4アルキルを表わす。)
で示される基、C1〜4アルキレン−Z7、(式中、Z7
は、O、SまたはNZ6(式中、Z6は前記と同じ意味を
表わす。)を表わす。)で示される基、NZ6SO2(式
中、Z6は前記と同じ意味を表わす。)で示される基、
CO、C1〜4アルキレン−COまたは単結合を表わ
し、R3は、水素原子、C1〜6アルキル、C1〜6ア
ルコキシ、C1〜6アルキルチオ、ニトロ、ハロゲン、
トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、水酸基ま
たはヒドロキシメチルを表わし、R4は、(1)水素原
子、(2)C1〜8アルキル、C2〜8アルケニル、C
2〜8アルキニル、(3)1個または2個のCOO
Z8、CONZ9Z10、OZ8基(各基中、Z8、Z 9、Z
10は独立して、水素原子またはC1〜4アルキルを表わ
す。)、C1〜4アルコキシ−C1〜4アルコキシから
なる群から選ばれる基によって置換されたC1〜6アル
キル、(4)C3〜7シクロアルキル、(5)フェニル
またはC3〜7シクロアルキルで置換されたC1〜4ア
ルキル、C2〜4アルケニルまたはC2〜4アルキニル
(上記(4)および(5)中のフェニル、C3〜7シク
ロアルキルは、m個のR 5基(mおよびR5は前記と同じ
意味を表わす。)で置換されてもよい。)を表わし、n
は、1〜4の整数を表わす。ただし、R2およびZ3は、
それぞれ
2個の酸素、硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複
素環を表わし、Z1は、−COR1、(式中、R1は、水
酸基、C1〜4アルコキシまたは式NR6R7(式中、R
6およびR7は独立して水素原子またはC1〜4アルキル
を表わす。)で示される基を表わす。)で示される基、
または−CH2OHを表わし、Z2は、C1〜8アルキ
ル、C2〜8アルケニル、C2〜8アルキニルを表わ
し、Z3は、単結合またはC1〜4アルキレンを表わ
し、Z4は、SO2を表わし、Z5は、(1)C1〜8ア
ルキル、C2〜8アルケニル、C2〜8アルキニル、
(2)フェニル、C3〜7シクロアルキル、1個または
2個の酸素、硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複
素環、(3)フェニルまたはC3〜7シクロアルキルで
置換されたC1〜4アルキル、C2〜4アルケニルまた
はC2〜4アルキニル(上記(2)および(3)中のフ
ェニル、C3〜7シクロアルキル、1個または2個の酸
素、硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複素環は、
m個(mは1〜5の整数を表わす。)のR5基(基中、
それぞれのR5は独立して水素原子、C1〜6アルキ
ル、C1〜6アルコキシ、C1〜6アルキルチオ、ニト
ロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシまたは水酸基を表わす。)で置換されてもよい。)
を表わし、R2は、CONR8、NR8CO、C1〜4ア
ルキレン−CONR8、C1〜4アルキレン−NR8C
O、(各式中、R8は、水素原子またはC1〜4アルキ
ルを表わす。)で示される基、O、S、NZ6(式中、
Z6は、水素原子またはC1〜4アルキルを表わす。)
で示される基、C1〜4アルキレン−Z7、(式中、Z7
は、O、SまたはNZ6(式中、Z6は前記と同じ意味を
表わす。)を表わす。)で示される基、NZ6SO2(式
中、Z6は前記と同じ意味を表わす。)で示される基、
CO、C1〜4アルキレン−COまたは単結合を表わ
し、R3は、水素原子、C1〜6アルキル、C1〜6ア
ルコキシ、C1〜6アルキルチオ、ニトロ、ハロゲン、
トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、水酸基ま
たはヒドロキシメチルを表わし、R4は、(1)水素原
子、(2)C1〜8アルキル、C2〜8アルケニル、C
2〜8アルキニル、(3)1個または2個のCOO
Z8、CONZ9Z10、OZ8基(各基中、Z8、Z 9、Z
10は独立して、水素原子またはC1〜4アルキルを表わ
す。)、C1〜4アルコキシ−C1〜4アルコキシから
なる群から選ばれる基によって置換されたC1〜6アル
キル、(4)C3〜7シクロアルキル、(5)フェニル
またはC3〜7シクロアルキルで置換されたC1〜4ア
ルキル、C2〜4アルケニルまたはC2〜4アルキニル
(上記(4)および(5)中のフェニル、C3〜7シク
ロアルキルは、m個のR 5基(mおよびR5は前記と同じ
意味を表わす。)で置換されてもよい。)を表わし、n
は、1〜4の整数を表わす。ただし、R2およびZ3は、
それぞれ
【0021】
【化12】
【0022】の1位および2位しか結合しないものとす
る。)で示されるスルフォンアミドまたはその非毒性
塩、(2)それらの製造方法、および(3)それらを有
効成分として含有するPGE2拮抗または作働剤に関す
る。一般式(I)中、Z5およびR4中のC1〜4アルキ
ル、Z6、Z8、Z9、Z10、R6、R7およびR8が表わす
C1〜4アルキルとは、メチル、エチル、プロピル、ブ
チルおよびこれらの異性体を意味する。
る。)で示されるスルフォンアミドまたはその非毒性
塩、(2)それらの製造方法、および(3)それらを有
効成分として含有するPGE2拮抗または作働剤に関す
る。一般式(I)中、Z5およびR4中のC1〜4アルキ
ル、Z6、Z8、Z9、Z10、R6、R7およびR8が表わす
C1〜4アルキルとは、メチル、エチル、プロピル、ブ
チルおよびこれらの異性体を意味する。
【0023】一般式(I)中、R4中のC1〜6アルキ
ル、R3およびR5が表わすC1〜6のアルキルとは、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル
およびこれらの異性体を意味する。一般式(I)中、Z
2、Z5およびR4が表わすC1〜8アルキルとは、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチルおよびこれらの異性体を意味する。
ル、R3およびR5が表わすC1〜6のアルキルとは、メ
チル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル
およびこれらの異性体を意味する。一般式(I)中、Z
2、Z5およびR4が表わすC1〜8アルキルとは、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチルおよびこれらの異性体を意味する。
【0024】一般式(I)中、Z5およびR4中C2〜4
アルケニルとは、ビニル、プロペニル、ブテニルおよび
これらの異性体を意味する。一般式(I)中、Z2、Z5
およびR4が表わすC2〜8アルケニルとは、C2〜8
アルキルに、1個、2個または3個の二重結合を含むも
のを意味し、例えば、ビニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ブ
タジエニル、ヘキサジエニル、ヘプタジエニル、オクタ
ジエニル等およびこれらの異性体が挙げられる。
アルケニルとは、ビニル、プロペニル、ブテニルおよび
これらの異性体を意味する。一般式(I)中、Z2、Z5
およびR4が表わすC2〜8アルケニルとは、C2〜8
アルキルに、1個、2個または3個の二重結合を含むも
のを意味し、例えば、ビニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ブ
タジエニル、ヘキサジエニル、ヘプタジエニル、オクタ
ジエニル等およびこれらの異性体が挙げられる。
【0025】一般式(I)中、Z5およびR4中のC2〜
4アルキニルとは、エチニル、プロピニル、ブチニルお
よびこれらの異性体を意味する。一般式(I)中、
Z2、Z5およびR4が表わすC2〜8アルキニルとは、
C2〜8アルキルに、1個、2個または3個の三重結合
を含むものを意味し、例えば、エチニル、プロピニル、
ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オク
チニル等およびこれらの異性体が挙げられる。
4アルキニルとは、エチニル、プロピニル、ブチニルお
よびこれらの異性体を意味する。一般式(I)中、
Z2、Z5およびR4が表わすC2〜8アルキニルとは、
C2〜8アルキルに、1個、2個または3個の三重結合
を含むものを意味し、例えば、エチニル、プロピニル、
ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オク
チニル等およびこれらの異性体が挙げられる。
【0026】一般式(I)中、R4中のC1〜4アルコ
キシ、R1が表わすC1〜4アルコキシとは、メトキ
シ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシおよびこ
れらの異性体を意味する。一般式(I)中、R3および
R5が表わすC1〜6アルコキシとは、メトキシ、エト
キシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシおよびこれらの異性体を意味する。
キシ、R1が表わすC1〜4アルコキシとは、メトキ
シ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシおよびこ
れらの異性体を意味する。一般式(I)中、R3および
R5が表わすC1〜6アルコキシとは、メトキシ、エト
キシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシおよびこれらの異性体を意味する。
【0027】一般式(I)中、R3およびR5が表わすC
1〜6アルキルチオとは、メチルチオ、エチルチオ、プ
ロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ
およびこれらの異性体を意味する。一般式(I)中、R
2中のC1〜4アルキレン、Z3が表わすC1〜4アルキ
レンとは、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラ
メチレンおよびこれらの異性体を意味する。
1〜6アルキルチオとは、メチルチオ、エチルチオ、プ
ロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ
およびこれらの異性体を意味する。一般式(I)中、R
2中のC1〜4アルキレン、Z3が表わすC1〜4アルキ
レンとは、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラ
メチレンおよびこれらの異性体を意味する。
【0028】一般式(I)中、Z5およびR4中のC3〜
7シクロアルキル、Z5およびR4が表わすC3〜7シク
ロアルキルとは、シクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルを意味す
る。一般式(I)中、
7シクロアルキル、Z5およびR4が表わすC3〜7シク
ロアルキルとは、シクロプロピル、シクロブチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルを意味す
る。一般式(I)中、
【0029】
【化13】
【0030】が表わすC5〜7の炭素環とは、単環のC
5〜7の炭素環アリール、またはその一部が飽和した環
またはC5〜7シクロアルキルを意味する。例えば、C
5〜7の炭素環アリールとしては、ベンゼンが挙げられ
る。また、C5〜7の炭素環アリールの一部が飽和した
環としては、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロ
ヘプテン、シクロヘキサジエン、シクロへプタジエンが
挙げられる。
5〜7の炭素環アリール、またはその一部が飽和した環
またはC5〜7シクロアルキルを意味する。例えば、C
5〜7の炭素環アリールとしては、ベンゼンが挙げられ
る。また、C5〜7の炭素環アリールの一部が飽和した
環としては、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロ
ヘプテン、シクロヘキサジエン、シクロへプタジエンが
挙げられる。
【0031】さらに、上述したC5〜7シクロアルキル
としてシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ルが挙げられる。一般式(I)中、
としてシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチ
ルが挙げられる。一般式(I)中、
【0032】
【化14】
【0033】およびZ5が表わす1個または2個の酸
素、硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複素環と
は、1個または2個の酸素、硫黄または窒素原子を有す
る5〜7員の複素環アリールまたは、その一部または全
部が飽和した環を意味する。1個または2個の酸素、硫
黄または窒素原子を有する5〜7員の複素環アリールと
しては、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジ
ン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、アゼピン、ジ
アゼピン、フラン、ピラン、オキセピン、オキサゼピ
ン、チオフェン、チアイン(チオピラン)、チエピン、
オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチ
アゾール、オキサジアゾール、オキサジアジン、オキサ
アゼピン、オキサジアゼピン、チアジアゾール、チアジ
アジン、チアジアゼピン環等が挙げられる。
素、硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複素環と
は、1個または2個の酸素、硫黄または窒素原子を有す
る5〜7員の複素環アリールまたは、その一部または全
部が飽和した環を意味する。1個または2個の酸素、硫
黄または窒素原子を有する5〜7員の複素環アリールと
しては、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジ
ン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、アゼピン、ジ
アゼピン、フラン、ピラン、オキセピン、オキサゼピ
ン、チオフェン、チアイン(チオピラン)、チエピン、
オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチ
アゾール、オキサジアゾール、オキサジアジン、オキサ
アゼピン、オキサジアゼピン、チアジアゾール、チアジ
アジン、チアジアゼピン環等が挙げられる。
【0034】また、1個または2個の酸素、硫黄または
窒素原子を有する5〜7員の複素環アリールの一部また
は全部が飽和した環としては、ピロリン、ピロリジン、
イミダゾリン、イミダゾリジン、ピラゾリン、ピラゾリ
ジン、ピペリジン、ピペラジン、テトラヒドロピリミジ
ン、テトラヒドロピリダジン、ジヒドロフラン、テトラ
ヒドロフラン、ジヒドロピラン、テトラヒドロピラン、
ジヒドロチオフェン、テトラヒドロチオフェン、ジヒド
ロチアイン(ジヒドロチオピラン)、テトラヒドロチア
イン(テトラヒドロチオピラン)、ジヒドロオキサゾー
ル、テトラヒドロオキサゾール、ジヒドロイソオキサゾ
ール、テトラヒドロイソオキサゾール、ジヒドロチアゾ
ール、テトラヒドロチアゾール、ジヒドロイソチアゾー
ル、テトラヒドロイソチアゾール、モルホリン、チオモ
ルホリン環等が挙げられる。
窒素原子を有する5〜7員の複素環アリールの一部また
は全部が飽和した環としては、ピロリン、ピロリジン、
イミダゾリン、イミダゾリジン、ピラゾリン、ピラゾリ
ジン、ピペリジン、ピペラジン、テトラヒドロピリミジ
ン、テトラヒドロピリダジン、ジヒドロフラン、テトラ
ヒドロフラン、ジヒドロピラン、テトラヒドロピラン、
ジヒドロチオフェン、テトラヒドロチオフェン、ジヒド
ロチアイン(ジヒドロチオピラン)、テトラヒドロチア
イン(テトラヒドロチオピラン)、ジヒドロオキサゾー
ル、テトラヒドロオキサゾール、ジヒドロイソオキサゾ
ール、テトラヒドロイソオキサゾール、ジヒドロチアゾ
ール、テトラヒドロチアゾール、ジヒドロイソチアゾー
ル、テトラヒドロイソチアゾール、モルホリン、チオモ
ルホリン環等が挙げられる。
【0035】一般式(I)中、R3およびR5が表わすハ
ロゲン原子とは、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を意味す
る。本発明中においては、特に指示しない限り異性体は
これをすべて包含する。例えば、アルキル基、アルキレ
ン基およびアルケニレン基には直鎖のもの、分枝鎖のも
のが含まれ、アルケニレン基中の二重結合は、E、Zお
よびEZ混合物であるものを含む。また、分枝鎖のアル
キル基が存在する場合等の不斉炭素原子の存在により生
ずる異性体も含まれる。 一般式(I)で示される本発
明化合物中、好ましい化合物としては、
ロゲン原子とは、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を意味す
る。本発明中においては、特に指示しない限り異性体は
これをすべて包含する。例えば、アルキル基、アルキレ
ン基およびアルケニレン基には直鎖のもの、分枝鎖のも
のが含まれ、アルケニレン基中の二重結合は、E、Zお
よびEZ混合物であるものを含む。また、分枝鎖のアル
キル基が存在する場合等の不斉炭素原子の存在により生
ずる異性体も含まれる。 一般式(I)で示される本発
明化合物中、好ましい化合物としては、
【0036】
【化15】
【0037】が、C5〜7の炭素環を表わし、Z5が、
C1〜8アルキル、C2〜8アルケニル、C2〜8アル
キニル、またはフェニルまたはC3〜7シクロアルキル
含有基(それぞれの環は、置換基を有してもよい。)で
ある化合物である。より好ましくは、
C1〜8アルキル、C2〜8アルケニル、C2〜8アル
キニル、またはフェニルまたはC3〜7シクロアルキル
含有基(それぞれの環は、置換基を有してもよい。)で
ある化合物である。より好ましくは、
【0038】
【化16】
【0039】が、ベンゼン環を表わし、Z5が、置換さ
れてもよいフェニルである化合物である。また、
れてもよいフェニルである化合物である。また、
【0040】
【化17】
【0041】およびZ5のうち、少なくとも1つの基が
1個または2個の酸素、硫黄または窒素原子を有する5
〜7員の複素環(それぞれの環は、置換基を有してもよ
い。)である化合物も好ましい。また、Z2として好ま
しくは、式(1)−(CH2)r−(式中、rは3、
4、5または6を表わす。)、(2)−(CH2)s−
CH=CH−(式中、sは1、2、3または4を表わ
す。)、(3)−(CH2)t−CH=CH−(CH2)
u−CH=CH−(式中、tは1、2または3を表わ
し、uは0または1を表わす。)および、(4)−(C
H2)s−C≡C−(式中、sは前記と同じ意味を表わ
す。)、で示される基であり、より好ましくは、上記式
(1)、(2)および(3)で示され基である。
1個または2個の酸素、硫黄または窒素原子を有する5
〜7員の複素環(それぞれの環は、置換基を有してもよ
い。)である化合物も好ましい。また、Z2として好ま
しくは、式(1)−(CH2)r−(式中、rは3、
4、5または6を表わす。)、(2)−(CH2)s−
CH=CH−(式中、sは1、2、3または4を表わ
す。)、(3)−(CH2)t−CH=CH−(CH2)
u−CH=CH−(式中、tは1、2または3を表わ
し、uは0または1を表わす。)および、(4)−(C
H2)s−C≡C−(式中、sは前記と同じ意味を表わ
す。)、で示される基であり、より好ましくは、上記式
(1)、(2)および(3)で示され基である。
【0042】一般式(I)で示される本発明化合物中、
好ましい具体的な化合物としては、実施例に記載した化
合物および以下の表1〜32に示す化合物と、それらの
相当するエステルおよびアミドが挙げられる。各表中、
Phはフェニルを意味し、Thは2−チエニルすなわ
ち、チエン−2−イルを意味し、diとは2置換、triと
は3置換、pentaとは5置換を意味する。例えば、表1
の(5)および表9の(5)では、それぞれ、6−[2
−[N−イソプロピル−(3,4−ジクロロフェニル)
スルフォニルアミノ]−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸および、6−[2−
[N−イソプロピル−(3,4−ジクロロチエン−2−
イル)スルフォニルアミノ]−5−トリフルオロメチル
フェノキシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸を意味する。
好ましい具体的な化合物としては、実施例に記載した化
合物および以下の表1〜32に示す化合物と、それらの
相当するエステルおよびアミドが挙げられる。各表中、
Phはフェニルを意味し、Thは2−チエニルすなわ
ち、チエン−2−イルを意味し、diとは2置換、triと
は3置換、pentaとは5置換を意味する。例えば、表1
の(5)および表9の(5)では、それぞれ、6−[2
−[N−イソプロピル−(3,4−ジクロロフェニル)
スルフォニルアミノ]−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸および、6−[2−
[N−イソプロピル−(3,4−ジクロロチエン−2−
イル)スルフォニルアミノ]−5−トリフルオロメチル
フェノキシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸を意味する。
【0043】
【表1】
【0044】
【表2】
【0045】
【表3】
【0046】
【表4】
【0047】
【表5】
【0048】
【表6】
【0049】
【表7】
【0050】
【表8】
【0051】
【表9】
【0052】
【表10】
【0053】
【表11】
【0054】
【表12】
【0055】
【表13】
【0056】
【表14】
【0057】
【表15】
【0058】
【表16】
【0059】
【表17】
【0060】
【表18】
【0061】
【表19】
【0062】
【表20】
【0063】
【表21】
【0064】
【表22】
【0065】
【表23】
【0066】
【表24】
【0067】
【表25】
【0068】
【表26】
【0069】
【表27】
【0070】
【表28】
【0071】
【表29】
【0072】
【表30】
【0073】
【表31】
【0074】
【表32】
【0075】
【塩】一般式(I)で示される本発明化合物は、公知の
方法で相当する塩に変換される。塩は毒性のない、水溶
性のものが好ましい。適当な塩として、アルカリ金属
(カリウム、ナトリウム等)の塩、アルカリ土類金属
(カルシウム、マグネシウム等)の塩、アンモニウム
塩、薬学的に許容される有機アミン(テトラメチルアン
モニウム、トリエチルアミン、メチルアミン、ジメチル
アミン、シクロペンチルアミン、ベンジルアミン、フェ
ネチルアミン、ピペリジン、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリス(ヒドロキシメチル)メチル
アミン、リジン、アルギニン、N−メチル−D−グルカ
ミン等)の塩が挙げられる。
方法で相当する塩に変換される。塩は毒性のない、水溶
性のものが好ましい。適当な塩として、アルカリ金属
(カリウム、ナトリウム等)の塩、アルカリ土類金属
(カルシウム、マグネシウム等)の塩、アンモニウム
塩、薬学的に許容される有機アミン(テトラメチルアン
モニウム、トリエチルアミン、メチルアミン、ジメチル
アミン、シクロペンチルアミン、ベンジルアミン、フェ
ネチルアミン、ピペリジン、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリス(ヒドロキシメチル)メチル
アミン、リジン、アルギニン、N−メチル−D−グルカ
ミン等)の塩が挙げられる。
【0076】
【本発明化合物の製造方法】一般式(I)で示される本
発明化合物は、以下で述べる方法、後述する実施例に記
載した方法または公知の方法により製造することができ
る。 (1)一般式(I)で示される本発明化合物のうちカル
ボン酸化合物、すなわち一般式(Ia)
発明化合物は、以下で述べる方法、後述する実施例に記
載した方法または公知の方法により製造することができ
る。 (1)一般式(I)で示される本発明化合物のうちカル
ボン酸化合物、すなわち一般式(Ia)
【0077】
【化18】
【0078】(式中、Z1aは、COOH基を表わし、他
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
は、一般式(Ib)
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
は、一般式(Ib)
【0079】
【化19】
【0080】(式中、Z1bは、式COR1b基(基中、R
1bは、C1〜4アルコキシまたはメトキシメトキシ基
(以下、OMOM基と略する。)を表わす。)を表わ
し、R3b、R4bおよびZ5bは、それぞれR3、R4および
Z5と同じ意味を表わすが、R3、R4またはZ5中のR5
がCOOHまたは水酸基、またはCOOHまたは水酸基
を含有する基を表わす場合、各COOH、水酸基は、酸
性、中性またはアルカリ条件下で脱離する保護基で保護
されたCOOH、水酸基を表わし、その他の記号は前記
と同じ意味を表わす。)で示されるエステル化合物をア
ルカリ条件下、酸性条件下または中性条件下で加水分解
し、さらに場合により、異なる条件下で加水分解するこ
とにより、製造することができる。 上記アルカリ、酸
性、中性条件下での加水分解することによる保護基の脱
離は後述するように公知の反応である。 (2)一般式(I)で示される本発明化合物のうちエス
テル化合物、すなわち一般式(Ic)
1bは、C1〜4アルコキシまたはメトキシメトキシ基
(以下、OMOM基と略する。)を表わす。)を表わ
し、R3b、R4bおよびZ5bは、それぞれR3、R4および
Z5と同じ意味を表わすが、R3、R4またはZ5中のR5
がCOOHまたは水酸基、またはCOOHまたは水酸基
を含有する基を表わす場合、各COOH、水酸基は、酸
性、中性またはアルカリ条件下で脱離する保護基で保護
されたCOOH、水酸基を表わし、その他の記号は前記
と同じ意味を表わす。)で示されるエステル化合物をア
ルカリ条件下、酸性条件下または中性条件下で加水分解
し、さらに場合により、異なる条件下で加水分解するこ
とにより、製造することができる。 上記アルカリ、酸
性、中性条件下での加水分解することによる保護基の脱
離は後述するように公知の反応である。 (2)一般式(I)で示される本発明化合物のうちエス
テル化合物、すなわち一般式(Ic)
【0081】
【化20】
【0082】(式中、Z1cは、COR1c基(基中、R1c
は、C1〜4アルコキシを表わす。)を表わし、その他
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
は、一般式(Ia)で示される化合物をエステル化反応に
付すことにより製造することができる。エステル化反応
は、公知であり、例えば、(a)ジアゾアルカンを用い
る方法、(b)アルキルハライドを用いる方法、(c)
DMF−ジアルキルアセタールを用いる方法、(d)相
当するアルカノールと反応させる方法、等が挙げられ
る。
は、C1〜4アルコキシを表わす。)を表わし、その他
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
は、一般式(Ia)で示される化合物をエステル化反応に
付すことにより製造することができる。エステル化反応
は、公知であり、例えば、(a)ジアゾアルカンを用い
る方法、(b)アルキルハライドを用いる方法、(c)
DMF−ジアルキルアセタールを用いる方法、(d)相
当するアルカノールと反応させる方法、等が挙げられ
る。
【0083】これらの方法を具体的に説明すると、
(a)ジアゾアルカンを用いる方法は、例えば、相当す
るジアゾアルカンを用いて、有機溶媒(ジエチルエーテ
ル、酢酸エチル、塩化メチレン、アセトン、メタノー
ル、エタノール等)中、−10℃〜40℃で反応させる
ことにより行なわれる。 (b)アルキルハライドを用いる方法は、例えば、有機
溶媒(アセトン、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジ
メチルスルホキシド(DMSO)等)中、塩基(炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素原子カリウム、炭酸
水素原子ナトリウム、酸化カルシウム等)の存在下、相
当するアルキルハライドを用いて、−10℃〜40℃で
反応させることにより行なわれる。
(a)ジアゾアルカンを用いる方法は、例えば、相当す
るジアゾアルカンを用いて、有機溶媒(ジエチルエーテ
ル、酢酸エチル、塩化メチレン、アセトン、メタノー
ル、エタノール等)中、−10℃〜40℃で反応させる
ことにより行なわれる。 (b)アルキルハライドを用いる方法は、例えば、有機
溶媒(アセトン、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジ
メチルスルホキシド(DMSO)等)中、塩基(炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素原子カリウム、炭酸
水素原子ナトリウム、酸化カルシウム等)の存在下、相
当するアルキルハライドを用いて、−10℃〜40℃で
反応させることにより行なわれる。
【0084】(c)DMF−ジアルキルアセタールを用
いる方法は、例えば、有機溶媒(ベンゼン、トルエン
等)中、相当するDMF−ジアルキルアセタールを用い
て、−10℃〜40℃で反応させることにより行なわれ
る。 (d)相当するアルカノールと反応させる方法は、例え
ば、相当するアルカノール(HR1c(R1cは、前記と同
じ意味を表わす。))中、酸(塩酸、硫酸、p−トルエ
ンスルホン酸、塩化水素原子ガス等)または縮合剤(D
CC、ピバロイルハライド、アリールスルホニルハライ
ド、アルキルスルホニルハライド等)を用いて0〜40
℃で反応させることにより行なわれる。
いる方法は、例えば、有機溶媒(ベンゼン、トルエン
等)中、相当するDMF−ジアルキルアセタールを用い
て、−10℃〜40℃で反応させることにより行なわれ
る。 (d)相当するアルカノールと反応させる方法は、例え
ば、相当するアルカノール(HR1c(R1cは、前記と同
じ意味を表わす。))中、酸(塩酸、硫酸、p−トルエ
ンスルホン酸、塩化水素原子ガス等)または縮合剤(D
CC、ピバロイルハライド、アリールスルホニルハライ
ド、アルキルスルホニルハライド等)を用いて0〜40
℃で反応させることにより行なわれる。
【0085】もちろん、これらのエステル化反応は、反
応に関与しない有機溶媒(テトラヒドロフラン、塩化メ
チレン等)を加えて行なってもよい。 (3)一般式(I)で示される本発明化合物のうちアミ
ド化合物、すなわち一般式(Id)
応に関与しない有機溶媒(テトラヒドロフラン、塩化メ
チレン等)を加えて行なってもよい。 (3)一般式(I)で示される本発明化合物のうちアミ
ド化合物、すなわち一般式(Id)
【0086】
【化21】
【0087】(式中、Z1dは、COR1d基(基中、R1d
は、式NR6R7(式中、すべての記号は前記と同じ意味
を表わす。)で示される基を表わす。)を表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物は、一般式(Ia)で示される化合物と一般式(III)
は、式NR6R7(式中、すべての記号は前記と同じ意味
を表わす。)で示される基を表わす。)を表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物は、一般式(Ia)で示される化合物と一般式(III)
【0088】
【化22】
【0089】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物をアミド化反応に付すこと
により製造することができる。アミド化反応は公知であ
り、例えば、有機溶媒(テトラヒドロフラン(TH
F)、塩化メチレン、ベンゼン、アセトン、アセトニト
リル等)中、三級アミン(ジメチルアミノピリジン、ピ
リジン、トリエチルアミン等)の存在下または非存在
下、縮合剤(EDC、DCC等)を用いて、0〜50℃
で行なわれる。 (4)一般式(I)で示される本発明化合物のうちアル
コール化合物、すなわち一般式(Ie)
表わす。)で示される化合物をアミド化反応に付すこと
により製造することができる。アミド化反応は公知であ
り、例えば、有機溶媒(テトラヒドロフラン(TH
F)、塩化メチレン、ベンゼン、アセトン、アセトニト
リル等)中、三級アミン(ジメチルアミノピリジン、ピ
リジン、トリエチルアミン等)の存在下または非存在
下、縮合剤(EDC、DCC等)を用いて、0〜50℃
で行なわれる。 (4)一般式(I)で示される本発明化合物のうちアル
コール化合物、すなわち一般式(Ie)
【0090】
【化23】
【0091】(式中、Z1eは、−CH2OHを表わし、
その他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される
化合物は、一般式(If)
その他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される
化合物は、一般式(If)
【0092】
【化24】
【0093】(式中、Z1fは、COOYf(式中、Y
fは、水素原子またはC1〜4アルキルを表わす。)で
示される基を表わし、その他の記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物を還元反応に付すことによ
り製造することができる。この還元反応は、公知で、有
機溶媒(THF、塩化メチレン、ジエチルエーテル、低
級アルカノール等)中、リチウムアルミニウムヒドリド
(LAH)またはジイソブチルアルミニウムヒドリド
(DIBAL)を用いて、−78℃〜室温で行なわれ
る。 (5)一般式(Ib)のうち、R2がCONR8またはC1
〜4アルキレン−CONR8(式中、すべての記号は前
記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わす一般式
(Ib−1)
fは、水素原子またはC1〜4アルキルを表わす。)で
示される基を表わし、その他の記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物を還元反応に付すことによ
り製造することができる。この還元反応は、公知で、有
機溶媒(THF、塩化メチレン、ジエチルエーテル、低
級アルカノール等)中、リチウムアルミニウムヒドリド
(LAH)またはジイソブチルアルミニウムヒドリド
(DIBAL)を用いて、−78℃〜室温で行なわれ
る。 (5)一般式(Ib)のうち、R2がCONR8またはC1
〜4アルキレン−CONR8(式中、すべての記号は前
記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わす一般式
(Ib−1)
【0094】
【化25】
【0095】(式中、R20は、式CONR8またはC1
〜4アルキレン−CONR8(式中、すべての記号は前
記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物は、一般式(IV)
〜4アルキレン−CONR8(式中、すべての記号は前
記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物は、一般式(IV)
【0096】
【化26】
【0097】(式中、R200は、単結合またはC1〜4
アルキレンを表わし、その他の記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(V)
アルキレンを表わし、その他の記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(V)
【0098】
【化27】
【0099】(式中、R201は、単結合を表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物をアミド化反応に付すことにより製造することができ
る。アミド化反応は、前記の(3)記載と同様の方法に
より行われる。 (6)一般式(Ib)のうち、R2が式NR8COまたはC
1〜4アルキレン−NR 8CO(式中、すべての記号は
前記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わす一般
式(Ib-2)
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物をアミド化反応に付すことにより製造することができ
る。アミド化反応は、前記の(3)記載と同様の方法に
より行われる。 (6)一般式(Ib)のうち、R2が式NR8COまたはC
1〜4アルキレン−NR 8CO(式中、すべての記号は
前記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わす一般
式(Ib-2)
【0100】
【化28】
【0101】(式中、R21は、式NR8COまたはC1
〜4アルキレン−NR8CO(式中、すべての記号は前
記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物は、一般式(VI)
〜4アルキレン−NR8CO(式中、すべての記号は前
記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物は、一般式(VI)
【0102】
【化29】
【0103】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(VII)
表わす。)で示される化合物と一般式(VII)
【0104】
【化30】
【0105】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物をアミド化反応に付すこと
により製造することができる。アミド化反応は、前記の
(3)記載と同様の方法により行われる。 (7)一般式(Ib)のうち、R2が式O、S、NZ6また
は C1〜4アルキレン−Z7(式中、すべての記号は前
記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わす一般式
(Ib-3)
表わす。)で示される化合物をアミド化反応に付すこと
により製造することができる。アミド化反応は、前記の
(3)記載と同様の方法により行われる。 (7)一般式(Ib)のうち、R2が式O、S、NZ6また
は C1〜4アルキレン−Z7(式中、すべての記号は前
記と同じ意味を表わす。)で示される基を表わす一般式
(Ib-3)
【0106】
【化31】
【0107】(式中、R22は、式O、S、NZ6または
C1〜4アルキレン−Z7(式中、すべての記号は前記
と同じ意味を表わす。)で示される基を表わし、その他
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
は、一般式(VIII)
C1〜4アルキレン−Z7(式中、すべての記号は前記
と同じ意味を表わす。)で示される基を表わし、その他
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
は、一般式(VIII)
【0108】
【化32】
【0109】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(IX)
表わす。)で示される化合物と一般式(IX)
【0110】
【化33】
【0111】(式中、Xは、ハロゲンを表わし、その他
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
をスルフォンアミド化反応に付すことにより製造するこ
とができる。スルフォンアミド化反応は、例えば、有機
溶媒(THF、塩化メチレン、ベンゼン、アセトン、ア
セトニトリル等)中、三級アミン(ジメチルアミノピリ
ジン、ピリジン、トリエチルアミン等)の存在下または
非存在下、0〜50℃で行なわれる。 (8)一般式(Ib)のうち、R2が式C1〜4アルキレ
ン−NZ6(式中、すべての記号は前記と同じ意味を表
わす。)で示される基を表わす一般式(Ib-4)
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
をスルフォンアミド化反応に付すことにより製造するこ
とができる。スルフォンアミド化反応は、例えば、有機
溶媒(THF、塩化メチレン、ベンゼン、アセトン、ア
セトニトリル等)中、三級アミン(ジメチルアミノピリ
ジン、ピリジン、トリエチルアミン等)の存在下または
非存在下、0〜50℃で行なわれる。 (8)一般式(Ib)のうち、R2が式C1〜4アルキレ
ン−NZ6(式中、すべての記号は前記と同じ意味を表
わす。)で示される基を表わす一般式(Ib-4)
【0112】
【化34】
【0113】(式中、R23は、式C1〜4アルキレン−
NZ6(式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。)で示される基を表わし、その他の記号は前記と同
じ意味を表わす。)で示される化合物は、(a)一般式
(VI-a)
NZ6(式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。)で示される基を表わし、その他の記号は前記と同
じ意味を表わす。)で示される化合物は、(a)一般式
(VI-a)
【0114】
【化35】
【0115】(式中、R230は、単結合またはC1〜4
アルキレンを表わし、その他の記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(VII-a)
アルキレンを表わし、その他の記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(VII-a)
【0116】
【化36】
【0117】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物を還元的アミノ化反応に付
すか、もしくは、(b)一般式(VI-b):
表わす。)で示される化合物を還元的アミノ化反応に付
すか、もしくは、(b)一般式(VI-b):
【0118】
【化37】
【0119】(式中、 R231は、単結合またはC1〜3
アルキレンを表わし、その他の記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(VII-b)
アルキレンを表わし、その他の記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(VII-b)
【0120】
【化38】
【0121】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物を還元的アミノ化反応に付
すことにより製造することができる。上記(a)、
(b)での還元的アミノ化反応は、例えば、有機溶媒
(メタノール等)中、酸性条件下、ナトリウムシアノボ
ロヒドリド等のボロン試薬を用いて、0〜50℃で行な
われる。 (9)一般式(Ib)のうち、R2が単結合を表わす一般
式(Ib-5)
表わす。)で示される化合物を還元的アミノ化反応に付
すことにより製造することができる。上記(a)、
(b)での還元的アミノ化反応は、例えば、有機溶媒
(メタノール等)中、酸性条件下、ナトリウムシアノボ
ロヒドリド等のボロン試薬を用いて、0〜50℃で行な
われる。 (9)一般式(Ib)のうち、R2が単結合を表わす一般
式(Ib-5)
【0122】
【化39】
【0123】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物は、一般式(XI)
表わす。)で示される化合物は、一般式(XI)
【0124】
【化40】
【0125】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(IX)
表わす。)で示される化合物と一般式(IX)
【0126】
【化41】
【0127】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物をスルフォンアミド化反応
に付すことにより製造することができる。スルフォンア
ミド化反応は、前記の(7)記載と同様の方法により行
われる。 (10)一般式(Ib)のうち、R2がO、S、C1〜4
アルキレン−OまたはC1〜4アルキレン−Sを表わす
一般式(Ib-6)
表わす。)で示される化合物をスルフォンアミド化反応
に付すことにより製造することができる。スルフォンア
ミド化反応は、前記の(7)記載と同様の方法により行
われる。 (10)一般式(Ib)のうち、R2がO、S、C1〜4
アルキレン−OまたはC1〜4アルキレン−Sを表わす
一般式(Ib-6)
【0128】
【化42】
【0129】(式中、R26は、O、S、C1〜4アルキ
レン−OまたはC1〜4アルキレン−Sを表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物は、一般式(Y-1)
レン−OまたはC1〜4アルキレン−Sを表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合
物は、一般式(Y-1)
【0130】
【化43】
【0131】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と(a)一般式(Y-2)
表わす。)で示される化合物と(a)一般式(Y-2)
【0132】
【化44】
【0133】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物または(b)一般式(Y−
3) HO−Z2−Z1b (Y−3) (式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。)で
示される化合物を反応させることにより製造することが
できる。
表わす。)で示される化合物または(b)一般式(Y−
3) HO−Z2−Z1b (Y−3) (式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。)で
示される化合物を反応させることにより製造することが
できる。
【0134】上記(a)X−Z2−Z1b(式中、すべて
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
を用いる反応は、有機溶媒(DMF、アセトン、TH
F、塩化メチレン等)中、塩基(炭酸カリウム等)の存
在下、0〜50℃の温度で行なわれる。また、(b)
HO−Z2−Z1b (式中、すべての記号は前記と同じ意
味を表わす。)で示される化合物を用いる反応は、有機
溶媒(アセトン、THF、塩化メチレン等)中、トリフ
ェニルフォスフィンおよびジエチルアゾジカルボキシレ
ート(DEAD)の存在下、0〜50℃の温度で行なわ
れる。 (11)一般式(Ib)のうち、R2が式NZ6SO2(式
中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。)である
一般式(Ib-8)
の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化合物
を用いる反応は、有機溶媒(DMF、アセトン、TH
F、塩化メチレン等)中、塩基(炭酸カリウム等)の存
在下、0〜50℃の温度で行なわれる。また、(b)
HO−Z2−Z1b (式中、すべての記号は前記と同じ意
味を表わす。)で示される化合物を用いる反応は、有機
溶媒(アセトン、THF、塩化メチレン等)中、トリフ
ェニルフォスフィンおよびジエチルアゾジカルボキシレ
ート(DEAD)の存在下、0〜50℃の温度で行なわ
れる。 (11)一般式(Ib)のうち、R2が式NZ6SO2(式
中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。)である
一般式(Ib-8)
【0135】
【化45】
【0136】(式中、R28は、式NZ6SO2(式中、す
べての記号は前記と同じ意味を表わす。)を表わし、そ
の他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化
合物は、一般式(Z-1)
べての記号は前記と同じ意味を表わす。)を表わし、そ
の他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示される化
合物は、一般式(Z-1)
【0137】
【化46】
【0138】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(Z-2)
表わす。)で示される化合物と一般式(Z-2)
【0139】
【化47】
【0140】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物をスルフォンアミド化反応
に付すことにより製造することができる。スルフォンア
ミド化反応は、前記の(7)記載と同様の方法により行
われる。 (12)一般式(Ib)のうち、R2が式COまたはC1
〜4アルキレン−COである一般式(Ib-9)
表わす。)で示される化合物をスルフォンアミド化反応
に付すことにより製造することができる。スルフォンア
ミド化反応は、前記の(7)記載と同様の方法により行
われる。 (12)一般式(Ib)のうち、R2が式COまたはC1
〜4アルキレン−COである一般式(Ib-9)
【0141】
【化48】
【0142】(式中、R29は、式COまたはC1〜4ア
ルキレン−COを表わし、その他の記号は前記と同じ意
味を表わす。)で示される化合物は、一般式(Z-3)
ルキレン−COを表わし、その他の記号は前記と同じ意
味を表わす。)で示される化合物は、一般式(Z-3)
【0143】
【化49】
【0144】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と一般式(Z-4)
表わす。)で示される化合物と一般式(Z-4)
【0145】
【化50】
【0146】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物を反応させることにより製
造することができる。この反応は、例えば、有機溶媒
(THF、塩化メチレン、ベンゼン、アセトン、アセト
ニトリル等)中、亜鉛、シアン化銅の存在下、−78℃
〜室温で行なわれる。 (13)一般式(Ib)のうち、R4bが水素以外の基であ
る一般式(Ib-10)
表わす。)で示される化合物を反応させることにより製
造することができる。この反応は、例えば、有機溶媒
(THF、塩化メチレン、ベンゼン、アセトン、アセト
ニトリル等)中、亜鉛、シアン化銅の存在下、−78℃
〜室温で行なわれる。 (13)一般式(Ib)のうち、R4bが水素以外の基であ
る一般式(Ib-10)
【0147】
【化51】
【0148】(式中、R44は、水素以外のR4と同じ意
味を表わし、その他の記号は前記と同じ意味を表わ
す。)で示される化合物は、一般式(Ib-11)
味を表わし、その他の記号は前記と同じ意味を表わ
す。)で示される化合物は、一般式(Ib-11)
【0149】
【化52】
【0150】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物と(a)一般式(Z-5)
表わす。)で示される化合物と(a)一般式(Z-5)
【0151】
【化53】
【0152】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物または(b)一般式(Z-
6)
表わす。)で示される化合物または(b)一般式(Z-
6)
【0153】
【化54】
【0154】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物を反応させることにより製
造することができる。上記の反応は、公知のN−アルキ
ル化反応または相当する反応である。例えば(a)X−
R44(式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるアルキルハライドを用いる場合、有機
溶媒(アセトン、THF、塩化メチレン等)中、塩基
(炭酸カリウム等)の存在下、0〜50℃の温度で行な
われる。
表わす。)で示される化合物を反応させることにより製
造することができる。上記の反応は、公知のN−アルキ
ル化反応または相当する反応である。例えば(a)X−
R44(式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わ
す。)で示されるアルキルハライドを用いる場合、有機
溶媒(アセトン、THF、塩化メチレン等)中、塩基
(炭酸カリウム等)の存在下、0〜50℃の温度で行な
われる。
【0155】また、(b)HO−R44(式中、すべての
記号は前記と同じ意味を表わす。)で示されるアルコー
ルを用いる場合、有機溶媒(アセトン、THF、塩化メ
チレン等)中、トリフェニルフォスフィンおよびジエチ
ルアゾジカルボキシレート(DEAD)の存在下、0〜
50℃の温度で行なわれる。 (14)一般式(Ib)のうち、Z2−Z1bがC1〜6ア
ルキル−CH=CH−Z1 bまたはC2〜6アルケニル−
CH=CH−Z1b基(各基中、Z1bは、前記と同じ意味
を表わす。)を表わす一般式(Ib-12)
記号は前記と同じ意味を表わす。)で示されるアルコー
ルを用いる場合、有機溶媒(アセトン、THF、塩化メ
チレン等)中、トリフェニルフォスフィンおよびジエチ
ルアゾジカルボキシレート(DEAD)の存在下、0〜
50℃の温度で行なわれる。 (14)一般式(Ib)のうち、Z2−Z1bがC1〜6ア
ルキル−CH=CH−Z1 bまたはC2〜6アルケニル−
CH=CH−Z1b基(各基中、Z1bは、前記と同じ意味
を表わす。)を表わす一般式(Ib-12)
【0156】
【化55】
【0157】(式中、Z23は、C1〜6アルキル−CH
=CHまたはC2〜6アルケニル−CH=CH基を表わ
し、その他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示さ
れる化合物は、一般式(Z-7)
=CHまたはC2〜6アルケニル−CH=CH基を表わ
し、その他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示さ
れる化合物は、一般式(Z-7)
【0158】
【化56】
【0159】(式中、Z24は、C1〜6アルキレンまた
はC2〜6アルケニレンを表わし、その他の記号は前記
と同じ意味を表わす。)で示される化合物と一般式(Z-
8)
はC2〜6アルケニレンを表わし、その他の記号は前記
と同じ意味を表わす。)で示される化合物と一般式(Z-
8)
【0160】
【化57】
【0161】(式中、Phは、フェニルを表わし、その
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示されるホス
ホラン化合物とをWittig反応に付すことにより製造する
ことができる。このWittig反応は公知で、例えば、有機
溶媒(ベンゼン、DMSO等)中、0〜40℃の温度で
行なわれる。
他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示されるホス
ホラン化合物とをWittig反応に付すことにより製造する
ことができる。このWittig反応は公知で、例えば、有機
溶媒(ベンゼン、DMSO等)中、0〜40℃の温度で
行なわれる。
【0162】上記、一般式(Z-7)
【0163】
【化58】
【0164】(式中、すべての記号は前記と同じ意味を
表わす。)で示される化合物は、一般式(Ib-13)
表わす。)で示される化合物は、一般式(Ib-13)
【0165】
【化59】
【0166】(式中、Raは、C1〜4アルキルを表わ
し、その他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示さ
れる化合物を反応させることにより製造することができ
る。この反応は、例えば、アルゴン気流下、有機溶媒
(塩化メチレン、THF等)中、DIBALの存在下、
−78℃〜室温で行なわれる。 (15)Z1以外の基が、COOH、COOZa(式中、
Zaは、C1〜4アルキルを表わす。)または水酸基で
あるか、もしくはCOOH、COOZa(基中、すべて
の記号は、前記と同じ意味を表わす。)または水酸基を
含有する基である化合物は、場合により、Z1を含め
て、上記の各基をアルカリ、酸性または中性条件下での
脱保護できる保護基で保護して反応を行ない、脱保護を
アルカリ、酸性または中性条件下で行うか、または異な
る条件下での脱保護を組み合わせて行う(例えば、酸性
条件下での脱保護およびアルカリ条件下での脱保護をそ
れぞれ行なう。いずれの反応が先でもよい。)ことで製
造できる。
し、その他の記号は前記と同じ意味を表わす。)で示さ
れる化合物を反応させることにより製造することができ
る。この反応は、例えば、アルゴン気流下、有機溶媒
(塩化メチレン、THF等)中、DIBALの存在下、
−78℃〜室温で行なわれる。 (15)Z1以外の基が、COOH、COOZa(式中、
Zaは、C1〜4アルキルを表わす。)または水酸基で
あるか、もしくはCOOH、COOZa(基中、すべて
の記号は、前記と同じ意味を表わす。)または水酸基を
含有する基である化合物は、場合により、Z1を含め
て、上記の各基をアルカリ、酸性または中性条件下での
脱保護できる保護基で保護して反応を行ない、脱保護を
アルカリ、酸性または中性条件下で行うか、または異な
る条件下での脱保護を組み合わせて行う(例えば、酸性
条件下での脱保護およびアルカリ条件下での脱保護をそ
れぞれ行なう。いずれの反応が先でもよい。)ことで製
造できる。
【0167】酸性条件下で脱保護可能なCOOHの保護
基として、例えば、t−ブチルジメチルシリル基等のシ
リル含有基、t−ブチル基等が挙げられる。アルカリ条
件下で脱保護可能なCOOHの保護基として、t−ブチ
ル基以外のアルキル(例えばメチル基等)基等が挙げら
れる。酸性条件およびアルカリ条件下で脱保護可能なC
OOHの保護基として、例えば、メトキシメチル基等が
挙げられる。
基として、例えば、t−ブチルジメチルシリル基等のシ
リル含有基、t−ブチル基等が挙げられる。アルカリ条
件下で脱保護可能なCOOHの保護基として、t−ブチ
ル基以外のアルキル(例えばメチル基等)基等が挙げら
れる。酸性条件およびアルカリ条件下で脱保護可能なC
OOHの保護基として、例えば、メトキシメチル基等が
挙げられる。
【0168】中性条件下で脱保護可能なCOOHの保護
基として、ベンジル基等が挙げられる。酸性条件下で脱
保護可能な水酸基の保護基として、例えば、テトラヒド
ロピラニル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリル
含有基、2−(メトキシ)エトキシメチル基、メトキシ
メチル基等が挙げられる。
基として、ベンジル基等が挙げられる。酸性条件下で脱
保護可能な水酸基の保護基として、例えば、テトラヒド
ロピラニル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリル
含有基、2−(メトキシ)エトキシメチル基、メトキシ
メチル基等が挙げられる。
【0169】アルカリ条件下で脱保護可能な水酸基の保
護基として、アセチル基等のアシル基が挙げられる。中
性条件下で脱保護可能な水酸基の保護基として、ベンジ
ル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリル含有基等
が挙げられる。アルカリ条件下での脱保護は公知であ
り、例えば有機溶媒(メタノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等)中、アルカリ金属の水酸化物(水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等)、アルカリ土類金属
の水酸化物(水酸化カルシウム等)または炭酸塩(炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等)あるいはその水溶液もし
くはこれらの混合物を用いて0〜40℃で行なわれる。
護基として、アセチル基等のアシル基が挙げられる。中
性条件下で脱保護可能な水酸基の保護基として、ベンジ
ル基、t−ブチルジメチルシリル基等のシリル含有基等
が挙げられる。アルカリ条件下での脱保護は公知であ
り、例えば有機溶媒(メタノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等)中、アルカリ金属の水酸化物(水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等)、アルカリ土類金属
の水酸化物(水酸化カルシウム等)または炭酸塩(炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム等)あるいはその水溶液もし
くはこれらの混合物を用いて0〜40℃で行なわれる。
【0170】酸性条件下での脱保護は公知であり、例え
ば溶媒(塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、酢
酸、水またはそれらの混合溶媒等)中、有機酸(トリフ
ルオロ酢酸等)、または無機酸(塩化水素、臭化水素
等)を用いて、0〜120℃で行なわれる。中性条件下
での脱保護は公知であり、例えばベンジル基の場合、溶
媒(エーテル系(テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エメトキシエタン、ジエチルエーテル等)、アルコール
系(メタノール、エタノール等)、ベンゼン系(ベンゼ
ン、トルエン等)、ケトン系(アセトン、メチルエチル
ケトン等)、ニトリル系(アセトニトリル等)、アミド
系(ジメチルホルムアミド等)、水、酢酸エチル、酢酸
またはそれらの2以上の混合溶媒等)中、触媒(パラジ
ウム−炭素、パラジウム黒、水酸化パラジウム、二酸化
白金、ラネーニッケル等)の存在下、常圧または加圧下
の水素雰囲気下またはギ酸アンモニウム存在下、0〜2
00℃の温度で行なわれる。
ば溶媒(塩化メチレン、ジオキサン、酢酸エチル、酢
酸、水またはそれらの混合溶媒等)中、有機酸(トリフ
ルオロ酢酸等)、または無機酸(塩化水素、臭化水素
等)を用いて、0〜120℃で行なわれる。中性条件下
での脱保護は公知であり、例えばベンジル基の場合、溶
媒(エーテル系(テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エメトキシエタン、ジエチルエーテル等)、アルコール
系(メタノール、エタノール等)、ベンゼン系(ベンゼ
ン、トルエン等)、ケトン系(アセトン、メチルエチル
ケトン等)、ニトリル系(アセトニトリル等)、アミド
系(ジメチルホルムアミド等)、水、酢酸エチル、酢酸
またはそれらの2以上の混合溶媒等)中、触媒(パラジ
ウム−炭素、パラジウム黒、水酸化パラジウム、二酸化
白金、ラネーニッケル等)の存在下、常圧または加圧下
の水素雰囲気下またはギ酸アンモニウム存在下、0〜2
00℃の温度で行なわれる。
【0171】またt−ブチルジメチルシリル基等のシリ
ル含有基の場合、テトラヒドロフラン等のエーテル系の
溶媒中、テトラブチルアンモニウムフロリドを用いて、
0〜50℃の温度で行なわれる。一般式(III)、
(V)、(VII)、(IX)、(VII-a)、(VII-b)、(Y-
2)、(Z-2)、(Z-4)、(Z-5)、(Z-6)、(Z-8)で
示される化合物は、公知であるかまたは公知の方法また
は後述する実施例に記載した方法に従って容易に製造す
ることができる。
ル含有基の場合、テトラヒドロフラン等のエーテル系の
溶媒中、テトラブチルアンモニウムフロリドを用いて、
0〜50℃の温度で行なわれる。一般式(III)、
(V)、(VII)、(IX)、(VII-a)、(VII-b)、(Y-
2)、(Z-2)、(Z-4)、(Z-5)、(Z-6)、(Z-8)で
示される化合物は、公知であるかまたは公知の方法また
は後述する実施例に記載した方法に従って容易に製造す
ることができる。
【0172】一般式(IV)、(VI)、(VIII)、(Y-
1)および(Z-3)で示される化合物は、以下に示される
反応工程式(A)〜(E)に従って製造することができ
る。また、一般式(XI)で示される化合物のうち、Z2
がC2〜8アルキレンまたはC2〜8アルケニレンであ
る化合物は、以下に示される反応工程式(F)、Z 2が
C2〜8アルキニレンである化合物は反応工程式(G)
に従って製造することができる。
1)および(Z-3)で示される化合物は、以下に示される
反応工程式(A)〜(E)に従って製造することができ
る。また、一般式(XI)で示される化合物のうち、Z2
がC2〜8アルキレンまたはC2〜8アルケニレンであ
る化合物は、以下に示される反応工程式(F)、Z 2が
C2〜8アルキニレンである化合物は反応工程式(G)
に従って製造することができる。
【0173】各反応工程式中、各記号は前記と同じ意味
を表わすかまたは下記の意味を表わす。 R200:単結合、C1〜4アルキレン; R202:単結合、C1〜4アルキレン; R203:単結合、C1〜4アルキレン; R204:単結合、 C1〜5アルキレン; R205:C1〜6アルキレン; (ただし、R204およびR205が表わすアルキレンの炭素
数(単結合の場合は零とする。)の総和は1〜6である
ものとする。); R206:単結合、C1〜5アルキレン; R207: C1〜6アルキレン; R208:単結合、C1〜5アルキレン; (ただし、R206およびR207が表わすアルキレンの炭素
数(単結合の場合は零とする。)の総和、およびR206
およびR208が表わすアルキレンの炭素数(単結合の場
合は零とする。)の総和は、それぞれ1〜6および0
(零)〜5であるものとする。); R50:C1〜4アルキル; R51:トリフルオロアセチル; X1、X2、X3、X4:ハロゲン; Y:水酸基の保護基(R26がO、C1〜4アルキレン−
Oの場合)またはメルカプト基の保護基(R26がS、C
1〜4アルキレン−Sの場合); Z20:C2〜8アルキレン; Z21:C2〜8アルケニレン; Z22:C2〜8アルキニレン。
を表わすかまたは下記の意味を表わす。 R200:単結合、C1〜4アルキレン; R202:単結合、C1〜4アルキレン; R203:単結合、C1〜4アルキレン; R204:単結合、 C1〜5アルキレン; R205:C1〜6アルキレン; (ただし、R204およびR205が表わすアルキレンの炭素
数(単結合の場合は零とする。)の総和は1〜6である
ものとする。); R206:単結合、C1〜5アルキレン; R207: C1〜6アルキレン; R208:単結合、C1〜5アルキレン; (ただし、R206およびR207が表わすアルキレンの炭素
数(単結合の場合は零とする。)の総和、およびR206
およびR208が表わすアルキレンの炭素数(単結合の場
合は零とする。)の総和は、それぞれ1〜6および0
(零)〜5であるものとする。); R50:C1〜4アルキル; R51:トリフルオロアセチル; X1、X2、X3、X4:ハロゲン; Y:水酸基の保護基(R26がO、C1〜4アルキレン−
Oの場合)またはメルカプト基の保護基(R26がS、C
1〜4アルキレン−Sの場合); Z20:C2〜8アルキレン; Z21:C2〜8アルケニレン; Z22:C2〜8アルキニレン。
【0174】
【化60】
【0175】
【化61】
【0176】
【化62】
【0177】
【化63】
【0178】
【化64】
【0179】
【化65】
【0180】
【化66】
【0181】本明細書中の各反応において、反応生成物
は通常の精製手段、例えば常圧下または減圧下における
蒸留、シリカゲルまたはケイ酸マグネシウムを用いた高
速液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、
あるいはカラムクロマトグラフィーまたは洗浄、再結晶
等の方法により精製することができる。精製は各反応ご
とに行なってもよいし、いくつかの反応終了後に行なっ
てもよい。
は通常の精製手段、例えば常圧下または減圧下における
蒸留、シリカゲルまたはケイ酸マグネシウムを用いた高
速液体クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、
あるいはカラムクロマトグラフィーまたは洗浄、再結晶
等の方法により精製することができる。精製は各反応ご
とに行なってもよいし、いくつかの反応終了後に行なっ
てもよい。
【0182】
【出発物質および試薬】本発明で用いる出発物質および
試薬は、それ自体公知であるかまたは公知の方法により
製造することができる。
試薬は、それ自体公知であるかまたは公知の方法により
製造することができる。
【0183】
【本発明化合物の薬理活性】一般式(I)で示される本
発明化合物は、PGE2受容体に結合し、その作用に拮
抗するかまたは作働する作用を示すため、PGE2拮抗
剤またはPGE2作働剤として有用である。PGE2に拮
抗することは、前述したように、子宮収縮抑制、鎮痛、
消化管の運動抑制、誘眠の作用、膀胱容量を増大させる
作用につながることになる。このため、PGE2拮抗剤
は、流産の防止、鎮痛剤、抗下痢剤、入眠剤、頻尿治療
剤として有用である。
発明化合物は、PGE2受容体に結合し、その作用に拮
抗するかまたは作働する作用を示すため、PGE2拮抗
剤またはPGE2作働剤として有用である。PGE2に拮
抗することは、前述したように、子宮収縮抑制、鎮痛、
消化管の運動抑制、誘眠の作用、膀胱容量を増大させる
作用につながることになる。このため、PGE2拮抗剤
は、流産の防止、鎮痛剤、抗下痢剤、入眠剤、頻尿治療
剤として有用である。
【0184】また、PGE2に作働することは、前述し
たように、子宮収縮、消化管の運動亢進、胃酸分泌抑制
作用、血圧降下作用、利尿作用につながる。このため、
PGE2作働剤は、中絶剤、下剤、抗潰瘍剤、抗胃炎
剤、血圧降下剤、利尿剤として有用である。例えば、実
験室の実験では、プロスタノイドレセプターサブタイプ
発現細胞を用いた受容体実験により、これらを確認し
た。 (i)プロスタノイドレセプターサブタイプ発現細胞を
用いた受容体結合実験 スギモト(Sugimoto)らの方法(J. Biol. Chem., 267,
6463-6466 (1992))に準じて、プロスタノイドレセプ
ターサブタイプ(マウスEP1)を発現したCHO細胞
を調製し、膜標品とした。
たように、子宮収縮、消化管の運動亢進、胃酸分泌抑制
作用、血圧降下作用、利尿作用につながる。このため、
PGE2作働剤は、中絶剤、下剤、抗潰瘍剤、抗胃炎
剤、血圧降下剤、利尿剤として有用である。例えば、実
験室の実験では、プロスタノイドレセプターサブタイプ
発現細胞を用いた受容体実験により、これらを確認し
た。 (i)プロスタノイドレセプターサブタイプ発現細胞を
用いた受容体結合実験 スギモト(Sugimoto)らの方法(J. Biol. Chem., 267,
6463-6466 (1992))に準じて、プロスタノイドレセプ
ターサブタイプ(マウスEP1)を発現したCHO細胞
を調製し、膜標品とした。
【0185】調製した膜画分(0.5mg/ml)、3H−
PGE2を含む反応液(200μl)を室温で1時間イ
ンキュベートした。反応を氷冷バッファー(3ml)で
停止し、減圧下吸引ろ過して結合した3H−PGE2をガ
ラスフィルター(GF/B)にトラップし、結合放射活
性を液体シンチレーターで測定した。Kd値とBmax値
は、Scatchard plotsから求めた[Ann. N. Y. Acad. Sc
i., 51, 660 (1949)]。非特異的結合は過剰量(2.5μ
M)の非標識PGE2の存在下での結合として求めた。
本発明化合物による3H−PGE2結合阻害作用の測定
は、 3H−PGE2を2.5nM、本発明化合物を各種濃度
で添加して行なった。なお、反応にはすべて次のバッフ
ァーを用いた。 バッファー:10mM リン酸カリウム(pH6.0),1
mM EDTA,10mM MgCl2,0.1M NaC
l。 各化合物の解離定数Ki(μM)は次式により求めた。
PGE2を含む反応液(200μl)を室温で1時間イ
ンキュベートした。反応を氷冷バッファー(3ml)で
停止し、減圧下吸引ろ過して結合した3H−PGE2をガ
ラスフィルター(GF/B)にトラップし、結合放射活
性を液体シンチレーターで測定した。Kd値とBmax値
は、Scatchard plotsから求めた[Ann. N. Y. Acad. Sc
i., 51, 660 (1949)]。非特異的結合は過剰量(2.5μ
M)の非標識PGE2の存在下での結合として求めた。
本発明化合物による3H−PGE2結合阻害作用の測定
は、 3H−PGE2を2.5nM、本発明化合物を各種濃度
で添加して行なった。なお、反応にはすべて次のバッフ
ァーを用いた。 バッファー:10mM リン酸カリウム(pH6.0),1
mM EDTA,10mM MgCl2,0.1M NaC
l。 各化合物の解離定数Ki(μM)は次式により求めた。
【0186】Ki=IC50/(1+([C]/Kd)) 結果を表1に示す。
【0187】
【表33】
【0188】以上の結果から、本発明化合物はEP1受
容体(PGE2受容体)に結合し、それに拮抗または作
働する作用があることが判明した。
容体(PGE2受容体)に結合し、それに拮抗または作
働する作用があることが判明した。
【0189】
【毒性】本発明化合物の毒性は十分に低いものであり、
医薬品として使用するために十分安全であることが確認
された。
医薬品として使用するために十分安全であることが確認
された。
【0190】
【医薬品への適用】一般式(I)で示される本発明化合
物は、PGE2受容体に結合し、その作用に拮抗するか
または作働する作用を示すため、PGE2拮抗剤または
PGE2作働剤として有用である。PGE2に拮抗するこ
とは、前述したように、子宮収縮抑制、鎮痛、消化管の
運動抑制、誘眠の作用、膀胱容量を増大させる作用につ
ながることになる。このため、PGE2拮抗剤は、流産
の防止、鎮痛剤、抗下痢剤、入眠剤、頻尿治療剤として
有用である。
物は、PGE2受容体に結合し、その作用に拮抗するか
または作働する作用を示すため、PGE2拮抗剤または
PGE2作働剤として有用である。PGE2に拮抗するこ
とは、前述したように、子宮収縮抑制、鎮痛、消化管の
運動抑制、誘眠の作用、膀胱容量を増大させる作用につ
ながることになる。このため、PGE2拮抗剤は、流産
の防止、鎮痛剤、抗下痢剤、入眠剤、頻尿治療剤として
有用である。
【0191】また、PGE2に作働することは、前述し
たように、子宮収縮、消化管の運動亢進、胃酸分泌抑制
作用、血圧降下作用、利尿作用につながる。このため、
PGE2作働剤は、中絶剤、下剤、抗潰瘍剤、抗胃炎
剤、血圧降下剤、利尿剤として有用である。本発明化合
物は、PGE2受容体のうち、特にEP1受容体に対す
る結合が強く、そのため、鎮痛剤、頻尿治療剤としての
用途が期待される。
たように、子宮収縮、消化管の運動亢進、胃酸分泌抑制
作用、血圧降下作用、利尿作用につながる。このため、
PGE2作働剤は、中絶剤、下剤、抗潰瘍剤、抗胃炎
剤、血圧降下剤、利尿剤として有用である。本発明化合
物は、PGE2受容体のうち、特にEP1受容体に対す
る結合が強く、そのため、鎮痛剤、頻尿治療剤としての
用途が期待される。
【0192】一般式(I)で示される本発明化合物、そ
の非毒性の塩またはその水和物を上記の目的で用いるに
は、通常、全身的または局所的に、経口または非経口の
形で投与される。投与量は、年齢、体重、症状、治療効
果、投与方法、処理時間等により異なるが、通常、成人
一人当たり、一回につき、1μgから100mgの範囲
で一日一回から数回経口投与されるか、または成人一人
当たり、一回につき、0.1μgから10mgの範囲で一
日一回から数回非経口投与(好ましくは、静脈内投与)
されるか、または一日1時間から24時間の範囲で静脈
内に持続投与される。
の非毒性の塩またはその水和物を上記の目的で用いるに
は、通常、全身的または局所的に、経口または非経口の
形で投与される。投与量は、年齢、体重、症状、治療効
果、投与方法、処理時間等により異なるが、通常、成人
一人当たり、一回につき、1μgから100mgの範囲
で一日一回から数回経口投与されるか、または成人一人
当たり、一回につき、0.1μgから10mgの範囲で一
日一回から数回非経口投与(好ましくは、静脈内投与)
されるか、または一日1時間から24時間の範囲で静脈
内に持続投与される。
【0193】もちろん前記したように、投与量は種々の
条件により変動するので、上記投与量より少ない量で十
分な場合もあるし、また範囲を越えて投与の必要な場合
もある。本発明化合物を投与する際には、経口投与のた
めの固体組成物、液体組成物およびその他の組成物、非
経口投与のための注射剤、外用剤、坐剤等として用いら
れる。
条件により変動するので、上記投与量より少ない量で十
分な場合もあるし、また範囲を越えて投与の必要な場合
もある。本発明化合物を投与する際には、経口投与のた
めの固体組成物、液体組成物およびその他の組成物、非
経口投与のための注射剤、外用剤、坐剤等として用いら
れる。
【0194】経口投与のための固体組成物には、錠剤、
丸剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤等が含まれる。カプセ
ル剤には、ハードカプセルおよびソフトカプセルが含ま
れる。このような固体組成物においては、ひとつまたは
それ以上の活性物質が、少なくともひとつの不活性な希
釈剤、例えばラクトース、マンニトール、マンニット、
グルコース、ヒドロキシプロピルセルロース、微結晶セ
ルロース、デンプン、ポリビニルピロリドン、メタケイ
酸アルミン酸マグネシウムと混和される。組成物は、常
法に従って、不活性な希釈剤以外の添加物、例えばステ
アリン酸マグネシウムのような潤滑剤、繊維素グリコー
ル酸カルシウムのような崩壊剤、グルタミン酸またはア
スパラギン酸のような溶解補助剤を含有してもよい。錠
剤または丸剤は必要により白糖、ゼラチン、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースフ
タレートなどの胃溶性あるいは腸溶性物質のフィルムで
被膜していてもよいし、また2以上の層で被膜していて
もよい。さらにゼラチンのような吸収されうる物質のカ
プセルも包含される。
丸剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤等が含まれる。カプセ
ル剤には、ハードカプセルおよびソフトカプセルが含ま
れる。このような固体組成物においては、ひとつまたは
それ以上の活性物質が、少なくともひとつの不活性な希
釈剤、例えばラクトース、マンニトール、マンニット、
グルコース、ヒドロキシプロピルセルロース、微結晶セ
ルロース、デンプン、ポリビニルピロリドン、メタケイ
酸アルミン酸マグネシウムと混和される。組成物は、常
法に従って、不活性な希釈剤以外の添加物、例えばステ
アリン酸マグネシウムのような潤滑剤、繊維素グリコー
ル酸カルシウムのような崩壊剤、グルタミン酸またはア
スパラギン酸のような溶解補助剤を含有してもよい。錠
剤または丸剤は必要により白糖、ゼラチン、ヒドロキシ
プロピルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースフ
タレートなどの胃溶性あるいは腸溶性物質のフィルムで
被膜していてもよいし、また2以上の層で被膜していて
もよい。さらにゼラチンのような吸収されうる物質のカ
プセルも包含される。
【0195】経口投与のための液体組成物は、薬剤的に
許容される乳濁剤、溶液剤、シロップ剤、エリキシル剤
等を含む。このような液体組成物においては、ひとつま
たはそれ以上の活性物質が、一般的に用いられる不活性
な希釈剤(例えば精製水、エタノール)に含有される。
この組成物は、不活性な希釈剤以外に湿潤剤、懸濁剤の
ような補助剤、甘味剤、風味剤、芳香剤、防腐剤を含有
してもよい。
許容される乳濁剤、溶液剤、シロップ剤、エリキシル剤
等を含む。このような液体組成物においては、ひとつま
たはそれ以上の活性物質が、一般的に用いられる不活性
な希釈剤(例えば精製水、エタノール)に含有される。
この組成物は、不活性な希釈剤以外に湿潤剤、懸濁剤の
ような補助剤、甘味剤、風味剤、芳香剤、防腐剤を含有
してもよい。
【0196】経口投与のためのその他の組成物として
は、ひとつまたはそれ以上の活性物質を含み、それ自体
公知の方法により処方されるスプレー剤が含まれる。こ
の組成物は不活性な希釈剤以外に亜硫酸水素ナトリウム
のような安定剤と等張性を与えるような安定化剤、塩化
ナトリウム、クエン酸ナトリウムあるいはクエン酸のよ
うな等張剤を含有していてもよい。スプレー剤の製造方
法は、例えば米国特許第2,868,691号および同第3,095,3
55号明細書に詳しく記載されている。
は、ひとつまたはそれ以上の活性物質を含み、それ自体
公知の方法により処方されるスプレー剤が含まれる。こ
の組成物は不活性な希釈剤以外に亜硫酸水素ナトリウム
のような安定剤と等張性を与えるような安定化剤、塩化
ナトリウム、クエン酸ナトリウムあるいはクエン酸のよ
うな等張剤を含有していてもよい。スプレー剤の製造方
法は、例えば米国特許第2,868,691号および同第3,095,3
55号明細書に詳しく記載されている。
【0197】本発明による非経口投与のための注射剤と
しては、無菌の水性または非水性の溶液剤、懸濁剤、乳
濁剤を包含する。水性の溶液剤、懸濁剤としては、例え
ば注射用蒸留水および生理食塩水が含まれる。非水性の
溶液剤、懸濁剤としては、例えばプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、オリーブ油のような植物
油、エタノールのようなアルコール類、ポリソルベート
80(登録商標)等がある。このような組成物は、さら
に防腐剤、湿潤剤、乳化剤、分散剤、安定化剤、溶解補
助剤(例えば、グルタミン酸、アスパラギン酸)のよう
な補助剤を含んでいてもよい。これらはバクテリア保留
フィルターを通すろ過、殺菌剤の配合または照射によっ
て無菌化される。これらはまた無菌の固体組成物を製造
し、使用前に無菌化または無菌の注射用蒸留水または他
の溶媒に溶解して使用することもできる。
しては、無菌の水性または非水性の溶液剤、懸濁剤、乳
濁剤を包含する。水性の溶液剤、懸濁剤としては、例え
ば注射用蒸留水および生理食塩水が含まれる。非水性の
溶液剤、懸濁剤としては、例えばプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、オリーブ油のような植物
油、エタノールのようなアルコール類、ポリソルベート
80(登録商標)等がある。このような組成物は、さら
に防腐剤、湿潤剤、乳化剤、分散剤、安定化剤、溶解補
助剤(例えば、グルタミン酸、アスパラギン酸)のよう
な補助剤を含んでいてもよい。これらはバクテリア保留
フィルターを通すろ過、殺菌剤の配合または照射によっ
て無菌化される。これらはまた無菌の固体組成物を製造
し、使用前に無菌化または無菌の注射用蒸留水または他
の溶媒に溶解して使用することもできる。
【0198】非経口投与のためその他の組成物として
は、ひとつまたはそれ以上の活性物質を含み、常法によ
り処方される外用液剤、軟膏、塗布剤、直腸内投与のた
めの坐剤および腟内投与のためのペッサリー等が含まれ
る。
は、ひとつまたはそれ以上の活性物質を含み、常法によ
り処方される外用液剤、軟膏、塗布剤、直腸内投与のた
めの坐剤および腟内投与のためのペッサリー等が含まれ
る。
【0199】
【参考例および実施例】以下、参考例および実施例によ
って、本発明を詳述するが、本発明は、これらに限定さ
れるものではない。クロマトグラフィーによる分離の箇
所に示されているカッコ内の溶媒は、使用した溶出溶媒
または展開溶媒を示し、割合は体積比を表わす。特別な
記載がない場合、NMRは重クロロホルム溶液中で測定
している。参考例1 5−クロロ−2−ニトロフェノール
って、本発明を詳述するが、本発明は、これらに限定さ
れるものではない。クロマトグラフィーによる分離の箇
所に示されているカッコ内の溶媒は、使用した溶出溶媒
または展開溶媒を示し、割合は体積比を表わす。特別な
記載がない場合、NMRは重クロロホルム溶液中で測定
している。参考例1 5−クロロ−2−ニトロフェノール
【0200】
【化67】
【0201】5−クロロ−2−ニトロアニソール(38
74mg)の塩化メチレン(40ml)溶液に、−70
℃で三臭化ホウ素(22ml)を15分間かけて滴下
し、室温で2時間撹拌した。反応液に氷水を加え、酢酸
エチルで抽出した。有機層に2N水酸化ナトリウムを加
え、析出物を濾取し、2N塩酸に溶解し、酢酸エチルで
抽出した。また濾液の水層、有機層ともに2N塩酸を加
えて、酢酸エチルで抽出した。それぞれの有機層を洗浄
し、合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過濃縮
した。残留物をn−ヘキサンに溶解して活性炭処理し
て、下記物性値を有する標題化合物(3303mg)を
得た。 TLC:Rf 0.61(ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)。参考例2 5−(5−クロロ−2−ニトロフェノキシ)ペンタン酸
エチル
74mg)の塩化メチレン(40ml)溶液に、−70
℃で三臭化ホウ素(22ml)を15分間かけて滴下
し、室温で2時間撹拌した。反応液に氷水を加え、酢酸
エチルで抽出した。有機層に2N水酸化ナトリウムを加
え、析出物を濾取し、2N塩酸に溶解し、酢酸エチルで
抽出した。また濾液の水層、有機層ともに2N塩酸を加
えて、酢酸エチルで抽出した。それぞれの有機層を洗浄
し、合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過濃縮
した。残留物をn−ヘキサンに溶解して活性炭処理し
て、下記物性値を有する標題化合物(3303mg)を
得た。 TLC:Rf 0.61(ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)。参考例2 5−(5−クロロ−2−ニトロフェノキシ)ペンタン酸
エチル
【0202】
【化68】
【0203】5−クロロ−2−ニトロフェノール(35
1mg;参考例1で合成した。)のアセトン(4ml)
溶液に、炭酸カリウム(315mg)および5−ブロモ
ペンタン酸エチル(0.35ml)を室温で加え、終夜加熱
還流し、さらに炭酸カリウム(109mg)および5−
ブロモペンタン酸エチル(0.14ml)を加え、5時間加
熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈し、セライトで
濾過濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製して、
下記物性値を有する標題化合物(258mg)を得た。 TLC:Rf 0.37(ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)。参考例3 5−(2−アミノ−5−クロロフェノキシ)ペンタン酸
エチル
1mg;参考例1で合成した。)のアセトン(4ml)
溶液に、炭酸カリウム(315mg)および5−ブロモ
ペンタン酸エチル(0.35ml)を室温で加え、終夜加熱
還流し、さらに炭酸カリウム(109mg)および5−
ブロモペンタン酸エチル(0.14ml)を加え、5時間加
熱還流した。反応液を酢酸エチルで希釈し、セライトで
濾過濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製して、
下記物性値を有する標題化合物(258mg)を得た。 TLC:Rf 0.37(ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)。参考例3 5−(2−アミノ−5−クロロフェノキシ)ペンタン酸
エチル
【0204】
【化69】
【0205】5−(5−クロロ−2−ニトロフェノキ
シ)ペンタン酸エチル(258mg;参考例2で合成し
た。)の酢酸(5ml)溶液に、鉄(305mg)を室
温で加え、1時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで
希釈し、セライトで濾過濃縮し、トルエン共沸(2回)
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、下記物
性値を有する標題化合物(159mg)を得た。 TLC:Rf 0.36(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1)。実施例1 5−[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミ
ノ)フェノキシ]ペンタン酸エチル
シ)ペンタン酸エチル(258mg;参考例2で合成し
た。)の酢酸(5ml)溶液に、鉄(305mg)を室
温で加え、1時間加熱還流した。反応液を酢酸エチルで
希釈し、セライトで濾過濃縮し、トルエン共沸(2回)
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、下記物
性値を有する標題化合物(159mg)を得た。 TLC:Rf 0.36(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1)。実施例1 5−[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミ
ノ)フェノキシ]ペンタン酸エチル
【0206】
【化70】
【0207】5−(2−アミノ−5−クロロフェノキ
シ)ペンタン酸エチル(160mg;参考例3で合成し
た。)およびピリジン(0.2ml)の塩化メチレン(2
ml)溶液にフェニルスルフォニルクロライド(110
mg)を室温で滴下し、室温で撹拌した。反応液に氷水
および1N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過濃縮し
て、下記物性値を有する標題化合物(264mg)を粗
精製物として得た。 TLC:Rf 0.32(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1); NMR: δ 7.75-7.69 (2H, m), 7.52-7.36 (4H, m),
7.00 (1H, brs), 6.89 (1H, dd, J=2.2 and 8.6Hz), 6.
68 (1H, d, J=2.2Hz), 4.12 (2H, q, J=7.2Hz),3.76-3.
69 (2H, t-like), 2.36-2.30 (2H, t-like), 1.68-1.59
(4H, m), 1.28(3H, t, J=7.2Hz)。実施例2 5−[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミ
ノ)フェノキシ]ペンタン酸
シ)ペンタン酸エチル(160mg;参考例3で合成し
た。)およびピリジン(0.2ml)の塩化メチレン(2
ml)溶液にフェニルスルフォニルクロライド(110
mg)を室温で滴下し、室温で撹拌した。反応液に氷水
および1N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過濃縮し
て、下記物性値を有する標題化合物(264mg)を粗
精製物として得た。 TLC:Rf 0.32(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1); NMR: δ 7.75-7.69 (2H, m), 7.52-7.36 (4H, m),
7.00 (1H, brs), 6.89 (1H, dd, J=2.2 and 8.6Hz), 6.
68 (1H, d, J=2.2Hz), 4.12 (2H, q, J=7.2Hz),3.76-3.
69 (2H, t-like), 2.36-2.30 (2H, t-like), 1.68-1.59
(4H, m), 1.28(3H, t, J=7.2Hz)。実施例2 5−[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミ
ノ)フェノキシ]ペンタン酸
【0208】
【化71】
【0209】5−[5−クロロ−2−(フェニルスルフ
ォニルアミノ)フェノキシ]ペンタン酸エチル(260
mg;実施例1で合成した。)のTHF−メタノール
(2ml+2ml)溶液に、2N水酸化ナトリウム水溶
液(1ml)を少量ずつ室温で加え、室温で撹拌した。
反応液を2N塩酸で中和し、減圧濃縮後、塩酸で酸性に
して、酢酸エチルで抽出した。有機層を洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、濾過濃縮した。残留物をn−
ヘキサンで洗浄して、下記物性値を有する標題化合物
(206mg)を得た。 TLC:Rf 0.42(クロロホルム:メタノール:水=
9:1:0.1); NMR:δ 7.74-7.70 (2H, m), 7.56-7.36 (4H, m),
7.13 (1H, brs), 6.90 (1H, dd, J=2.2 and 8.6Hz), 6.
68 (1H, d, J=2.2Hz), 3.76-3.71 (2H, t-like),2.45-
2.38 (2H, t-like), 1.72-1.66 (4H, m)。実施例2(a)〜2(b) 参考例1→参考例2→参考例3→実施例1→実施例2と
同様の操作により、以下の物性値を有する標題化合物を
得た。実施例2(a) 6−[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミ
ノ)フェノキシ]ヘキサン酸
ォニルアミノ)フェノキシ]ペンタン酸エチル(260
mg;実施例1で合成した。)のTHF−メタノール
(2ml+2ml)溶液に、2N水酸化ナトリウム水溶
液(1ml)を少量ずつ室温で加え、室温で撹拌した。
反応液を2N塩酸で中和し、減圧濃縮後、塩酸で酸性に
して、酢酸エチルで抽出した。有機層を洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、濾過濃縮した。残留物をn−
ヘキサンで洗浄して、下記物性値を有する標題化合物
(206mg)を得た。 TLC:Rf 0.42(クロロホルム:メタノール:水=
9:1:0.1); NMR:δ 7.74-7.70 (2H, m), 7.56-7.36 (4H, m),
7.13 (1H, brs), 6.90 (1H, dd, J=2.2 and 8.6Hz), 6.
68 (1H, d, J=2.2Hz), 3.76-3.71 (2H, t-like),2.45-
2.38 (2H, t-like), 1.72-1.66 (4H, m)。実施例2(a)〜2(b) 参考例1→参考例2→参考例3→実施例1→実施例2と
同様の操作により、以下の物性値を有する標題化合物を
得た。実施例2(a) 6−[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミ
ノ)フェノキシ]ヘキサン酸
【0210】
【化72】
【0211】TLC:Rf 0.45(クロロホルム:メタ
ノール:水=9:1:0.1); NMR:δ 7.75-7.70 (2H, m), 7.57-7.37 (4H, m),
7.02 (1H, brs), 6.89 (1H, dd, J=2.2 and 8.4Hz), 6.
69 (1H, d, J=2.2Hz), 3.73 (2H, t, J=6.2Hz), 2.41
(2H, t, J=7.2Hz), 1.76-1.58 (4H, m), 1.46-1.34 (2
H, m)。実施例2(b) 7−[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミ
ノ)フェノキシ]ヘプタン酸
ノール:水=9:1:0.1); NMR:δ 7.75-7.70 (2H, m), 7.57-7.37 (4H, m),
7.02 (1H, brs), 6.89 (1H, dd, J=2.2 and 8.4Hz), 6.
69 (1H, d, J=2.2Hz), 3.73 (2H, t, J=6.2Hz), 2.41
(2H, t, J=7.2Hz), 1.76-1.58 (4H, m), 1.46-1.34 (2
H, m)。実施例2(b) 7−[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミ
ノ)フェノキシ]ヘプタン酸
【0212】
【化73】
【0213】TLC:Rf 0.48(クロロホルム:メタ
ノール:水=9:1:0.1); NMR:δ 7.76-7.71 (2H, d-like), 7.58-7.37 (4H,
m), 7.17 (1H, br), 6.88 (1H, dd, J=2.2 and 8.6H
z), 6.69 (1H, d, J=2.2Hz), 3.74 (2H, t, J=6.2Hz),
2.41 (2H, t, J=7.2Hz), 1.76-1.60 (4H, m), 1.48-1.2
6 (4H, m)。参考例4 2−ニトロ−5−トリフルオロメチルフェニル・メトキ
シメチル・エーテル
ノール:水=9:1:0.1); NMR:δ 7.76-7.71 (2H, d-like), 7.58-7.37 (4H,
m), 7.17 (1H, br), 6.88 (1H, dd, J=2.2 and 8.6H
z), 6.69 (1H, d, J=2.2Hz), 3.74 (2H, t, J=6.2Hz),
2.41 (2H, t, J=7.2Hz), 1.76-1.60 (4H, m), 1.48-1.2
6 (4H, m)。参考例4 2−ニトロ−5−トリフルオロメチルフェニル・メトキ
シメチル・エーテル
【0214】
【化74】
【0215】2−ニトロ−5−トリフルオロメチルフェ
ノール(400mg)のDMF(4ml)溶液を攪拌し
ているところに、アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム
(77mg)を0℃で加え、30分後、塩化メチル・メ
チル・エーテル(147μl)を0℃で滴下し、20分
間攪拌した。反応液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン:酢酸エチル=20:1)で精製し
て、下記物性値を有する標題化合物(353mg)を得
た。 TLC:Rf 0.44(ヘキサン:酢酸エチル=10:
1)。参考例5 2−アミノ−5−トリフルオロメチルフェニル
・メトキシメチル・エーテル
ノール(400mg)のDMF(4ml)溶液を攪拌し
ているところに、アルゴン雰囲気下、水素化ナトリウム
(77mg)を0℃で加え、30分後、塩化メチル・メ
チル・エーテル(147μl)を0℃で滴下し、20分
間攪拌した。反応液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ヘキサン:酢酸エチル=20:1)で精製し
て、下記物性値を有する標題化合物(353mg)を得
た。 TLC:Rf 0.44(ヘキサン:酢酸エチル=10:
1)。参考例5 2−アミノ−5−トリフルオロメチルフェニル
・メトキシメチル・エーテル
【0216】
【化75】
【0217】アルゴン気流下、2−ニトロ−5−トリフ
ルオロメチルフェニル・メトキシメチル・エーテル(1
2.54 g;参考例4で合成した。)をメタノール(10
0ml)溶液を室温で撹拌しているところに、10%パ
ラジウム炭素(600mg)を注意深く加えた。水素雰
囲気下、室温で2時間激しく撹拌した。反応終了後、系
内を再びアルゴンに置換して、ろ過した。ろ液を濃縮し
て下記物性値を有する標題化合物(11.18g)を得た。 TLC:Rf 0.33(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1)。参考例6 2−フェニルスルフォニルアミノ−5−トリフルオロメ
チルフェニル・メトキシメチル・エーテル
ルオロメチルフェニル・メトキシメチル・エーテル(1
2.54 g;参考例4で合成した。)をメタノール(10
0ml)溶液を室温で撹拌しているところに、10%パ
ラジウム炭素(600mg)を注意深く加えた。水素雰
囲気下、室温で2時間激しく撹拌した。反応終了後、系
内を再びアルゴンに置換して、ろ過した。ろ液を濃縮し
て下記物性値を有する標題化合物(11.18g)を得た。 TLC:Rf 0.33(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1)。参考例6 2−フェニルスルフォニルアミノ−5−トリフルオロメ
チルフェニル・メトキシメチル・エーテル
【0218】
【化76】
【0219】2−アミノ−5−トリフルオロメチルフェ
ニル・メトキシメチル・エーテル(参考例5で合成し
た。)を用いて、実施例1と同様の操作により、下記物
性値を有する標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.45(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。参考例7 2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニルアミ
ノ)−5−トリフルオロメチルフェニル・メトキシメチ
ル・エーテル
ニル・メトキシメチル・エーテル(参考例5で合成し
た。)を用いて、実施例1と同様の操作により、下記物
性値を有する標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.45(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。参考例7 2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニルアミ
ノ)−5−トリフルオロメチルフェニル・メトキシメチ
ル・エーテル
【0220】
【化77】
【0221】アルゴン気流下、2−フェニルスルフォニ
ルアミノ−5−トリフルオロメチルフェニル・メトキシ
メチル・エーテル(17.125g;参考例5で合成し
た。)、イソプロパノール(4.7ml)およびトリフェ
ニルホスフィン(14.9g)のTHF(80ml)溶液を
室温で撹拌しているところに、ジエチルアゾジカルボキ
シレート(DEAD)(9.4 ml)を滴下し、室温で2.
5時間撹拌した。反応終了後、水を加えて反応を止め、
酢酸エチルで抽出した。有機層を洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製
して、下記物性値を有する標題化合物(16.67g)を得
た。 TLC:Rf 0.63(ヘキサン:酢酸エチル=5:
2)。参考例8 2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニルアミ
ノ)−5−トリフルオロメチルフェノール
ルアミノ−5−トリフルオロメチルフェニル・メトキシ
メチル・エーテル(17.125g;参考例5で合成し
た。)、イソプロパノール(4.7ml)およびトリフェ
ニルホスフィン(14.9g)のTHF(80ml)溶液を
室温で撹拌しているところに、ジエチルアゾジカルボキ
シレート(DEAD)(9.4 ml)を滴下し、室温で2.
5時間撹拌した。反応終了後、水を加えて反応を止め、
酢酸エチルで抽出した。有機層を洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製
して、下記物性値を有する標題化合物(16.67g)を得
た。 TLC:Rf 0.63(ヘキサン:酢酸エチル=5:
2)。参考例8 2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニルアミ
ノ)−5−トリフルオロメチルフェノール
【0222】
【化78】
【0223】アルゴン気流下、2−(N−イソプロピル
−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメ
チルフェニル・メトキシメチル・エーテル(15.5g;参
考例7で合成した。)のメタノール (40ml)溶液
を室温で撹拌しているところに、4N塩化水素のジオキ
サン溶液(40ml)を滴下し、室温で1時間撹拌し
た。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して下記物性
値を有する標題化合物(13.59g)を得た。 TLC:Rf 0.57(ヘキサン:酢酸エチル=5:
2)。参考例9 6−ヒドロキシヘキサ−2,4−ジエン酸t−ブチル (a)4−ヒドロキシブタン−2−エン酸エチルの合成
−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメ
チルフェニル・メトキシメチル・エーテル(15.5g;参
考例7で合成した。)のメタノール (40ml)溶液
を室温で撹拌しているところに、4N塩化水素のジオキ
サン溶液(40ml)を滴下し、室温で1時間撹拌し
た。反応終了後、反応液を酢酸エチルで希釈し、洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して下記物性
値を有する標題化合物(13.59g)を得た。 TLC:Rf 0.57(ヘキサン:酢酸エチル=5:
2)。参考例9 6−ヒドロキシヘキサ−2,4−ジエン酸t−ブチル (a)4−ヒドロキシブタン−2−エン酸エチルの合成
【0224】
【化79】
【0225】アルゴン気流下、フマール酸モノエチルエ
ステル(10.0 g)のTHF(30ml)溶液に、−1
0℃にてBH3・THF(70ml)(1 M THF溶液)
を反応温度を−5℃以下に保ちながら、約45分間かけ
て滴下した。滴下終了後、室温で一晩攪拌し酢酸−水
(1−1、2ml)を注意深く加え過剰BH3を壊し
た。溶媒を減圧下留去し、残査に少量ずつ炭酸水素化ナ
トリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。併せた
有機層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製して、下記物
性値を有する標題化合物(4.40g)を得た。TLC:R
f 0.40(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)。 (b)4−t−ブチルジメチルシリルオキシブタン−2
−エン酸エチルの合成
ステル(10.0 g)のTHF(30ml)溶液に、−1
0℃にてBH3・THF(70ml)(1 M THF溶液)
を反応温度を−5℃以下に保ちながら、約45分間かけ
て滴下した。滴下終了後、室温で一晩攪拌し酢酸−水
(1−1、2ml)を注意深く加え過剰BH3を壊し
た。溶媒を減圧下留去し、残査に少量ずつ炭酸水素化ナ
トリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。併せた
有機層を洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製して、下記物
性値を有する標題化合物(4.40g)を得た。TLC:R
f 0.40(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)。 (b)4−t−ブチルジメチルシリルオキシブタン−2
−エン酸エチルの合成
【0226】
【化80】
【0227】4−ヒドロキシブタン−2−エン酸エチル
(2.20 g、上記(a)で合成した。)およびイミダゾ
ール(2.53 g)のDMF(30ml)溶液に、トリブ
チルジメチルシリルクロライド(2.80 g)を0℃で加
え、室温で2時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎヘ
キサン−酢酸エチル混合液(4−1)で抽出した。有機
層を洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=97:3→19:1)で精製
して、下記物性値を有する標題化合物(3.39g)を得
た。 TLC:Rf 0.20(ヘキサン:酢酸エチル=19:
1)。 (c)4−t−ブチルジメチルシリルオキシブタン−2
−エノールの合成
(2.20 g、上記(a)で合成した。)およびイミダゾ
ール(2.53 g)のDMF(30ml)溶液に、トリブ
チルジメチルシリルクロライド(2.80 g)を0℃で加
え、室温で2時間攪拌した。反応混合物を氷水に注ぎヘ
キサン−酢酸エチル混合液(4−1)で抽出した。有機
層を洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去
した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=97:3→19:1)で精製
して、下記物性値を有する標題化合物(3.39g)を得
た。 TLC:Rf 0.20(ヘキサン:酢酸エチル=19:
1)。 (c)4−t−ブチルジメチルシリルオキシブタン−2
−エノールの合成
【0228】
【化81】
【0229】4−t−ブチルジメチルシリルオキシブタ
ン−2−エン酸エチル(3.20 g,上記(b)で合成し
た。)のトルエン(14ml)溶液に、ジイソブチルア
ルミニウムヒドリド(DIBAL)28ml(0.95 Mヘキ
サン溶液)を−70℃で滴下し、−30℃に昇温しなが
ら30分間攪拌した。反応混合物にメタノール(2m
l)を滴下して過剰DIBALを壊し、水を少量ずつ加
えた。反応混合物を1N塩酸(100ml)に注ぎ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=7:
3)で精製して、下記物性値を有する標題化合物(2.39
g)を得た。 TLC:Rf 0.51(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。 (d)アルデヒド体の合成
ン−2−エン酸エチル(3.20 g,上記(b)で合成し
た。)のトルエン(14ml)溶液に、ジイソブチルア
ルミニウムヒドリド(DIBAL)28ml(0.95 Mヘキ
サン溶液)を−70℃で滴下し、−30℃に昇温しなが
ら30分間攪拌した。反応混合物にメタノール(2m
l)を滴下して過剰DIBALを壊し、水を少量ずつ加
えた。反応混合物を1N塩酸(100ml)に注ぎ、酢
酸エチルで抽出した。有機層を洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=7:
3)で精製して、下記物性値を有する標題化合物(2.39
g)を得た。 TLC:Rf 0.51(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。 (d)アルデヒド体の合成
【0230】
【化82】
【0231】アルゴン気流下、オキザリルクロライド
(1.9ml)の塩化メチレン(15ml)溶液に、ジメ
チルスルホキシド(3.1ml)の塩化メチレン(5m
l)溶液を−70℃で滴下した。−70℃で10分間攪
拌後、4−t−ブチルジメチルシリルオキシブタン−2
−エノール(2.20 g, 上記(c)で合成した。)の塩
化メチレン(10ml)溶液を同温度で加え、さらに2
0分間攪拌した。トリエチルアミン(0.60ml)を−7
0℃で滴下したのち−30℃に昇温しながら50分間攪
拌した。反応混合物を氷水に注ぎヘキサン−酢酸エチル
混合液(3−1)で抽出し、有機層を洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮して、下記物性値を有
するアルデヒド体(2.39g)を得た。得られたアルデヒ
ド体は精製することなく次の工程に用いた。 TLC:Rf 0.70(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。 (e)6− t−ブチルジメチルシリルオキシヘキサ−
2,4−ジエン酸t−ブチルの合成
(1.9ml)の塩化メチレン(15ml)溶液に、ジメ
チルスルホキシド(3.1ml)の塩化メチレン(5m
l)溶液を−70℃で滴下した。−70℃で10分間攪
拌後、4−t−ブチルジメチルシリルオキシブタン−2
−エノール(2.20 g, 上記(c)で合成した。)の塩
化メチレン(10ml)溶液を同温度で加え、さらに2
0分間攪拌した。トリエチルアミン(0.60ml)を−7
0℃で滴下したのち−30℃に昇温しながら50分間攪
拌した。反応混合物を氷水に注ぎヘキサン−酢酸エチル
混合液(3−1)で抽出し、有機層を洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮して、下記物性値を有
するアルデヒド体(2.39g)を得た。得られたアルデヒ
ド体は精製することなく次の工程に用いた。 TLC:Rf 0.70(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。 (e)6− t−ブチルジメチルシリルオキシヘキサ−
2,4−ジエン酸t−ブチルの合成
【0232】
【化83】
【0233】アルゴン気流下、水素化ナトリウム(14
7 mg)のTHF(5ml)溶液にジメチルホスホノ酢
酸t−ブチル(0.88ml)を0℃で滴下し、室温で20
分間攪拌した。これを10℃で、上記(d)で得た粗精
製アルデヒド体の1/3量(最大3.63 mol)のTHF
(4ml)溶液に滴下し、室温で30分間攪拌した。反
応混合物を氷水に注ぎヘキサン−酢酸エチル混合液(4
−1)で抽出し、有機層を洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=50:2)で精
製して、下記物性値を有する標題化合物(900mg)
を得た。 TLC:Rf 0.35(ヘキサン:酢酸エチル=9:
1)。 (f)6−ヒドロキシヘキサ−2,4−ジエン酸t−ブ
チルの合成
7 mg)のTHF(5ml)溶液にジメチルホスホノ酢
酸t−ブチル(0.88ml)を0℃で滴下し、室温で20
分間攪拌した。これを10℃で、上記(d)で得た粗精
製アルデヒド体の1/3量(最大3.63 mol)のTHF
(4ml)溶液に滴下し、室温で30分間攪拌した。反
応混合物を氷水に注ぎヘキサン−酢酸エチル混合液(4
−1)で抽出し、有機層を洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=50:2)で精
製して、下記物性値を有する標題化合物(900mg)
を得た。 TLC:Rf 0.35(ヘキサン:酢酸エチル=9:
1)。 (f)6−ヒドロキシヘキサ−2,4−ジエン酸t−ブ
チルの合成
【0234】
【化84】
【0235】6− t−ブチルジメチルシリルオキシヘ
キサ−2,4−ジエン酸t−ブチル(800mg, 上記
(e)で合成した。)のTHF(4ml)溶液に、テト
ラブチルアンモニウム フルオリド(5ml)(1M TH
F溶液)を0℃で加え、同温度で1時間攪拌した。反応
混合物を酢酸エチルで希釈し、洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=7:3)で
精製して、下記物性値を有する標題化合物(443m
g)を得た。 TLC:Rf 0.21(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。実施例3 6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
−2,4−ジエン酸t−ブチル
キサ−2,4−ジエン酸t−ブチル(800mg, 上記
(e)で合成した。)のTHF(4ml)溶液に、テト
ラブチルアンモニウム フルオリド(5ml)(1M TH
F溶液)を0℃で加え、同温度で1時間攪拌した。反応
混合物を酢酸エチルで希釈し、洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、濃縮した。残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=7:3)で
精製して、下記物性値を有する標題化合物(443m
g)を得た。 TLC:Rf 0.21(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。実施例3 6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
−2,4−ジエン酸t−ブチル
【0236】
【化85】
【0237】アルゴン気流下、6−ヒドロキシヘキサ−
2,4−ジエン酸t−ブチル(169 mg, 参考例9す
なわち、上記(f)で合成した。)、2−(N−イソプ
ロピル−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリフル
オロメチルフェノール(300 mg, 参考例8で合成し
た。)およびトリフェニルホスフィン(241mg)の
THF(3ml)溶液にDEAD(0.152ml)を0℃
で滴下し、室温で1時間攪拌した。さらにトリフェニル
ホスフィン(120mg)およびDEAD(0.07ml)
を加え室温で2時間攪拌し、溶媒を減圧下留去した。残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=5:1)で精製して、下記物性値を有
する標題化合物(445mg)を得た。 TLC:Rf 0.31(ヘキサン:酢酸エチル=5:
1); NMR:δ 7.83 (2 H, d, J=7 Hz), 7.61-7.40 (3 H,
m), 7.26-7.08 (4 H, m), 6.48 (1 H, dd, J=15 and 11
Hz), 6.02 (1 H, dt, J=15 and 5 Hz), 5.87 (1H, d,
J=15 Hz), 4.57 (2 H, m), 4.42 (1 H, m), 1.50 (1 H,
s), 1.06 (6 H,m)。実施例4 6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
−2,4−ジエン酸
2,4−ジエン酸t−ブチル(169 mg, 参考例9す
なわち、上記(f)で合成した。)、2−(N−イソプ
ロピル−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリフル
オロメチルフェノール(300 mg, 参考例8で合成し
た。)およびトリフェニルホスフィン(241mg)の
THF(3ml)溶液にDEAD(0.152ml)を0℃
で滴下し、室温で1時間攪拌した。さらにトリフェニル
ホスフィン(120mg)およびDEAD(0.07ml)
を加え室温で2時間攪拌し、溶媒を減圧下留去した。残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=5:1)で精製して、下記物性値を有
する標題化合物(445mg)を得た。 TLC:Rf 0.31(ヘキサン:酢酸エチル=5:
1); NMR:δ 7.83 (2 H, d, J=7 Hz), 7.61-7.40 (3 H,
m), 7.26-7.08 (4 H, m), 6.48 (1 H, dd, J=15 and 11
Hz), 6.02 (1 H, dt, J=15 and 5 Hz), 5.87 (1H, d,
J=15 Hz), 4.57 (2 H, m), 4.42 (1 H, m), 1.50 (1 H,
s), 1.06 (6 H,m)。実施例4 6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
−2,4−ジエン酸
【0238】
【化86】
【0239】6−[2−(N−イソプロピル−フェニル
スルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸t−ブチル(390m
g,実施例3で合成した。)の1,4−ジオキサン(1
ml)溶液に、4N塩化水素のジオキサン溶液(8m
l)を室温で加え、室温で9時間攪拌し、溶媒を留去し
た。残留物をヘキサン−酢酸エチルで再結晶して、下記
物性値を有する標題化合物(285mg)を得た。 TLC:Rf 0.32(メタノール:クロロホルム=1:
9); NMR:δ 7.84 (2 H, d, J=8 Hz), 7.62-7.09 (7 H,
m), 6.58 (1 H, dd, J=15.5 and 11 Hz), 6.14 (1 H, d
t, J=15.5 and 5 Hz), 5.96 (1 H, d, J=15.5 Hz), 4.6
3 (2 H, d, J=4 Hz), 4.43 (1 H, m), 1.13-0.97 (6 H,
m)。実施例5 4−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ブタン
酸エチル
スルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸t−ブチル(390m
g,実施例3で合成した。)の1,4−ジオキサン(1
ml)溶液に、4N塩化水素のジオキサン溶液(8m
l)を室温で加え、室温で9時間攪拌し、溶媒を留去し
た。残留物をヘキサン−酢酸エチルで再結晶して、下記
物性値を有する標題化合物(285mg)を得た。 TLC:Rf 0.32(メタノール:クロロホルム=1:
9); NMR:δ 7.84 (2 H, d, J=8 Hz), 7.62-7.09 (7 H,
m), 6.58 (1 H, dd, J=15.5 and 11 Hz), 6.14 (1 H, d
t, J=15.5 and 5 Hz), 5.96 (1 H, d, J=15.5 Hz), 4.6
3 (2 H, d, J=4 Hz), 4.43 (1 H, m), 1.13-0.97 (6 H,
m)。実施例5 4−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ブタン
酸エチル
【0240】
【化87】
【0241】2−(N−イソプロピル−フェニルスルフ
ォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノール
(参考例8で合成した。)および4−ブロモブタン酸エ
チルを用いて、参考例2と同様の操作により、下記物性
値を有する標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.71(アセトン:ベンゼン=1:9); NMR:δ 7.82 (2H, m), 7.43-7.62 (6H, m), 7.12-
7.24 (3H, m), 4.39 (1H,sept, J=6.6Hz), 4.15 (2H,
q, J=7.2Hz), 3.98 (2H, m), 2.49 (2H, m), 2.01(2H,
m), 1.27 (3H, t, J=7.0Hz), 1.07 (3H, d, J=6.6Hz),
1.04 (3H, d, J=6.6Hz)。参考例10 4−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ブチル
アルデヒド
ォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノール
(参考例8で合成した。)および4−ブロモブタン酸エ
チルを用いて、参考例2と同様の操作により、下記物性
値を有する標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.71(アセトン:ベンゼン=1:9); NMR:δ 7.82 (2H, m), 7.43-7.62 (6H, m), 7.12-
7.24 (3H, m), 4.39 (1H,sept, J=6.6Hz), 4.15 (2H,
q, J=7.2Hz), 3.98 (2H, m), 2.49 (2H, m), 2.01(2H,
m), 1.27 (3H, t, J=7.0Hz), 1.07 (3H, d, J=6.6Hz),
1.04 (3H, d, J=6.6Hz)。参考例10 4−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ブチル
アルデヒド
【0242】
【化88】
【0243】アルゴン気流下、4−[2−(N−イソプ
ロピル−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリフル
オロメチルフェノキシ]ブタン酸エチル(391mg,
実施例5で合成した。)を塩化メチレン(5.0ml)に
溶解し、攪拌しながらDIBAL (0.87ml)(0.95M
ヘキサン溶液)を−78℃で滴下した。滴下終了1時
間半後、反応液を−78℃にてメタノールで処理し、エ
ーテルで希釈し、生理食塩水を加えて攪拌した。残査を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過濃縮して、下記物
性値を有する標題化合物(379mg)を得た。 TLC:Rf 0.44(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。実施例6 6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
−2−エン酸メチル
ロピル−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリフル
オロメチルフェノキシ]ブタン酸エチル(391mg,
実施例5で合成した。)を塩化メチレン(5.0ml)に
溶解し、攪拌しながらDIBAL (0.87ml)(0.95M
ヘキサン溶液)を−78℃で滴下した。滴下終了1時
間半後、反応液を−78℃にてメタノールで処理し、エ
ーテルで希釈し、生理食塩水を加えて攪拌した。残査を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過濃縮して、下記物
性値を有する標題化合物(379mg)を得た。 TLC:Rf 0.44(ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)。実施例6 6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
−2−エン酸メチル
【0244】
【化89】
【0245】4−[2−(N−イソプロピル−フェニル
スルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ブチルアルデヒド(379 mg, 参考例10で合
成した。)ベンゼン(5.0ml)溶液にトリフェニルホ
スホラニリデン酢酸メチル(332mg)を室温で加
え、16時間攪拌し、反応液を濃縮した。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチ
ル=7:1)で精製して、下記物性値を有する標題化合
物(335mg)を得た。 TLC:Rf 0.40(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1); NMR:δ 7.81 (2H, m), 7.43-7.63 (3H, m), 7.11-
7.24 (3H, m), 6.98 (1H,td, J=6.8, 16.0Hz), 5.89 (1
H, td, J=1.4, 16.0Hz), 4.39 (1H, sept, J=6.6Hz),
3.95 (2H, m), 3.74 (3H, s), 2.40 (2H, m), 1.87 (2
H, m), 1.08 (3H, d, J=6.6Hz), 1.02 (3H, d, J=6.6H
z)。実施例7 6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
−2−エン酸
スルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ブチルアルデヒド(379 mg, 参考例10で合
成した。)ベンゼン(5.0ml)溶液にトリフェニルホ
スホラニリデン酢酸メチル(332mg)を室温で加
え、16時間攪拌し、反応液を濃縮した。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチ
ル=7:1)で精製して、下記物性値を有する標題化合
物(335mg)を得た。 TLC:Rf 0.40(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1); NMR:δ 7.81 (2H, m), 7.43-7.63 (3H, m), 7.11-
7.24 (3H, m), 6.98 (1H,td, J=6.8, 16.0Hz), 5.89 (1
H, td, J=1.4, 16.0Hz), 4.39 (1H, sept, J=6.6Hz),
3.95 (2H, m), 3.74 (3H, s), 2.40 (2H, m), 1.87 (2
H, m), 1.08 (3H, d, J=6.6Hz), 1.02 (3H, d, J=6.6H
z)。実施例7 6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
−2−エン酸
【0246】
【化90】
【0247】6−[2−(N−イソプロピル−フェニル
スルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ヘキサ−2−エン酸メチル(実施例6で合成し
た。)を用いて、実施例2と同様の操作により、下記物
性値を有する標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.43(クロロホルム:メタノール:酢酸
=100:5:1); NMR:δ 7.81 (2H, m), 7.43-7.63 (3H, m), 7.00-
7.24 (4H, m), 5.90 (1H,td, J=1.6, 15.6Hz), 4.39 (1
H, sept, J=6.6Hz), 3.96 (2H, m), 2.44 (2H, m), 1.8
9 (2H, tt, J=7.2, 7.2Hz), 1.08 (3H, d, J=6.6Hz),
1.02 (3H, d, J=6.6Hz)。実施例7(a) 7−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘプタ
−2−エン酸
スルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ヘキサ−2−エン酸メチル(実施例6で合成し
た。)を用いて、実施例2と同様の操作により、下記物
性値を有する標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.43(クロロホルム:メタノール:酢酸
=100:5:1); NMR:δ 7.81 (2H, m), 7.43-7.63 (3H, m), 7.00-
7.24 (4H, m), 5.90 (1H,td, J=1.6, 15.6Hz), 4.39 (1
H, sept, J=6.6Hz), 3.96 (2H, m), 2.44 (2H, m), 1.8
9 (2H, tt, J=7.2, 7.2Hz), 1.08 (3H, d, J=6.6Hz),
1.02 (3H, d, J=6.6Hz)。実施例7(a) 7−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘプタ
−2−エン酸
【0248】
【化91】
【0249】2−(N−イソプロピル−フェニルスルフ
ォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノール
(参考例8で合成した。)および5−ブロモペンタン酸
エチルを用いて、参考例2→参考例10→実施例6→実
施例2と同様の操作により、下記物性値を有する標題化
合物を得た。 TLC:Rf 0.47(クロロホルム:メタノール:酢酸
=100:5:1); NMR:δ 7.81 (2H, m), 7.42-7.62 (3H, m), 7.00-
7.24 (4H, m), 5.87 (1H,td, J=1.4, 15.6Hz), 4.39 (1
H, sept, J=6.6Hz), 3.93 (2H, m), 2.30 (2H, m), 1.6
8 (4H, m), 1.07 (3H, d, J=6.6Hz), 1.04 (3H, d, J=
6.6Hz)。実施例8 5−(2−フェニルスルフォニルアミノ−5−トリフル
オロメチルフェノキシ)ペンタン酸エチル
ォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノール
(参考例8で合成した。)および5−ブロモペンタン酸
エチルを用いて、参考例2→参考例10→実施例6→実
施例2と同様の操作により、下記物性値を有する標題化
合物を得た。 TLC:Rf 0.47(クロロホルム:メタノール:酢酸
=100:5:1); NMR:δ 7.81 (2H, m), 7.42-7.62 (3H, m), 7.00-
7.24 (4H, m), 5.87 (1H,td, J=1.4, 15.6Hz), 4.39 (1
H, sept, J=6.6Hz), 3.93 (2H, m), 2.30 (2H, m), 1.6
8 (4H, m), 1.07 (3H, d, J=6.6Hz), 1.04 (3H, d, J=
6.6Hz)。実施例8 5−(2−フェニルスルフォニルアミノ−5−トリフル
オロメチルフェノキシ)ペンタン酸エチル
【0250】
【化92】
【0251】5−ブロモペンタン酸エチルを用いて参考
例2→参考例5→実施例1と同様の操作により、下記物
性値を有する標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.53(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1); NMR:δ 7.50 (8H, m, arom.), 4.18 (2H, q, J=7.0
Hz), 3.90 (2H, t, J=6.0 Hz), 2.37 (2H, t, J=6.6 H
z), 1.67 (4H, m, -CH2), 1.29 (3H, t., J=7.0Hz)。実施例9 5−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ペンタ
ン酸エチル
例2→参考例5→実施例1と同様の操作により、下記物
性値を有する標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.53(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1); NMR:δ 7.50 (8H, m, arom.), 4.18 (2H, q, J=7.0
Hz), 3.90 (2H, t, J=6.0 Hz), 2.37 (2H, t, J=6.6 H
z), 1.67 (4H, m, -CH2), 1.29 (3H, t., J=7.0Hz)。実施例9 5−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ペンタ
ン酸エチル
【0252】
【化93】
【0253】5−(2−フェニルスルフォニルアミノ−
5−トリフルオロメチルフェノキシ)ペンタン酸エチル
(150mg;実施例8で合成した。)のDMF(2.5
ml)溶液に、炭酸カリウム(55mg)およびヨウ化
イソプロピル(0.122ml)を加え、80℃で24時間
撹拌した。反応液を1N塩酸で中和し、水層を酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を合わせて、洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を除去した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
15:1→10:1→5:1)で精製して、下記物性値
を有する標題化合物(149mg)を得た。 TLC:Rf 0.53(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1); NMR:δ 7.81 (2H, m, arom.), 7.52 (3H, m, aro
m.), 7.15 (3H, m, arom.), 4.38 (1H, sept., J=6.8 H
z), 4.15 (2H, q, J=7.4 Hz), 3.92 (2H, m), 2.35(2H,
t, J=6.2 Hz), 1.67 (4H, m, -CH2), 1.26 (3H, t., J
=7.4 Hz), 1.07 (6H, d, J=6.8 Hz)。実施例10 5−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ペンタ
ン酸
5−トリフルオロメチルフェノキシ)ペンタン酸エチル
(150mg;実施例8で合成した。)のDMF(2.5
ml)溶液に、炭酸カリウム(55mg)およびヨウ化
イソプロピル(0.122ml)を加え、80℃で24時間
撹拌した。反応液を1N塩酸で中和し、水層を酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を合わせて、洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を除去した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=
15:1→10:1→5:1)で精製して、下記物性値
を有する標題化合物(149mg)を得た。 TLC:Rf 0.53(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1); NMR:δ 7.81 (2H, m, arom.), 7.52 (3H, m, aro
m.), 7.15 (3H, m, arom.), 4.38 (1H, sept., J=6.8 H
z), 4.15 (2H, q, J=7.4 Hz), 3.92 (2H, m), 2.35(2H,
t, J=6.2 Hz), 1.67 (4H, m, -CH2), 1.26 (3H, t., J
=7.4 Hz), 1.07 (6H, d, J=6.8 Hz)。実施例10 5−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ペンタ
ン酸
【0254】
【化94】
【0255】5−[2−(N−イソプロピル−フェニル
スルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ペンタン酸エチル(実施例9で合成した。)を用
いて、実施例2と同様の操作により、下記物性値を有す
る標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.58(クロロホルム:メタノール:酢酸
=100:5:1); NMR:δ 7.81 (2H, m, arom.), 7.51 (3H, m, aro
m.), 7.14 (3H, m, arom.), 4.39 (1H, sept., J=6.6 H
z), 3.89 (2H, m), 2.45 (2H, t, J=6.8 Hz), 1.79(4H,
m, -CH2), 1.07 (3H, d, J=6.6 Hz), 1.04 (3H, d, J=
6.6 Hz)。実施例10(a) 5−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
ン酸
スルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノ
キシ]ペンタン酸エチル(実施例9で合成した。)を用
いて、実施例2と同様の操作により、下記物性値を有す
る標題化合物を得た。 TLC:Rf 0.58(クロロホルム:メタノール:酢酸
=100:5:1); NMR:δ 7.81 (2H, m, arom.), 7.51 (3H, m, aro
m.), 7.14 (3H, m, arom.), 4.39 (1H, sept., J=6.6 H
z), 3.89 (2H, m), 2.45 (2H, t, J=6.8 Hz), 1.79(4H,
m, -CH2), 1.07 (3H, d, J=6.6 Hz), 1.04 (3H, d, J=
6.6 Hz)。実施例10(a) 5−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニル
アミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ヘキサ
ン酸
【0256】
【化95】
【0257】6−ブロモヘキサン酸エチルを用いて、参
考例2→参考例5→実施例1→実施例9→実施例2と同
様の操作により、下記物性値を有する標題化合物を得
た。 TLC:Rf 0.61(クロロホルム:メタノール:酢酸
=100:5:1); NMR:δ 7.81 (2H, m, arom.), 7.51 (3H, m, aro
m.), 7.15 (3H, m, arom.), 4.38 (1H, sept., J=6.6 H
z), 3.89 (2H, m), 2.39 (2H, t, J=7.6 Hz), 1.60(6H,
m, -CH2), 1.07 (3H, d, J=7.0 Hz), 1.04 (3H, d, J=
7.0 Hz)。参考例11 5−クロロアントラニル酸メチル
考例2→参考例5→実施例1→実施例9→実施例2と同
様の操作により、下記物性値を有する標題化合物を得
た。 TLC:Rf 0.61(クロロホルム:メタノール:酢酸
=100:5:1); NMR:δ 7.81 (2H, m, arom.), 7.51 (3H, m, aro
m.), 7.15 (3H, m, arom.), 4.38 (1H, sept., J=6.6 H
z), 3.89 (2H, m), 2.39 (2H, t, J=7.6 Hz), 1.60(6H,
m, -CH2), 1.07 (3H, d, J=7.0 Hz), 1.04 (3H, d, J=
7.0 Hz)。参考例11 5−クロロアントラニル酸メチル
【0258】
【化96】
【0259】5−クロロアントラニル酸(6.1g)の酢
酸エチル−メタノール懸濁液(20ml+10ml)
に、0℃で過剰のジアゾメタンのエーテル(50ml)
溶液を加えた。反応終了後、反応液を減圧乾固し、下記
物性値を有する標題化合物(6.6g)を得た。 NMR:δ 7.82 (1H,d), 7.21 (1H,dd), 6.60 (1H,d),
5.73 (2H,brs), 3.88 (3H,s)。実施例11 5−[5−クロロ−2−(4−クロロフェニルスルフォ
ニルアミノ)ベンゾイルアミノ]ペンタン酸メチル
酸エチル−メタノール懸濁液(20ml+10ml)
に、0℃で過剰のジアゾメタンのエーテル(50ml)
溶液を加えた。反応終了後、反応液を減圧乾固し、下記
物性値を有する標題化合物(6.6g)を得た。 NMR:δ 7.82 (1H,d), 7.21 (1H,dd), 6.60 (1H,d),
5.73 (2H,brs), 3.88 (3H,s)。実施例11 5−[5−クロロ−2−(4−クロロフェニルスルフォ
ニルアミノ)ベンゾイルアミノ]ペンタン酸メチル
【0260】
【化97】
【0261】5−クロロ−アントラニル酸メチル(参考
例11で合成した)を用いて、実施例1→実施例2と同
様の操作により得られた2−(4−クロロフェニルスル
フォニルアミノ)−5−クロロ安息香酸(100mg)
および5−アミノペンタン酸メチル(54mg)の塩化
メチレン(1.5ml)溶液に0℃で、トリエチルアミン
(0.045ml)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
ノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(61mg)および
4−ジメチルアミノピリジン(10mg)を加え、室温
で5時間撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶
液で処理し、酢酸エチル含有分液漏斗に注ぎ、水層を酢
酸エチルで2回抽出した。合わせた有機層を洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、下記
物性値を有する標題化合物(66mg)を得た。 TLC:Rf 0.32(ヘキサン:酢酸エチル=7:
3); NMR:δ 10.77 (1H, s), 7.8-7.7 (2H, m), 7.66 (1
H, d, J=8.4Hz), 7.4-7.3 (4H, m), 6.6-6.4 (1H, br),
3.71 (3H, s), 3,31 (2H, q, J=6.6Hz), 2.40 (2H, t,
J=6.6Hz), 1.8-1.6 (4H, m)。実施例12 5−[5−クロロ−2−(4−クロロフェニルスルフォ
ニルアミノ)ベンゾイルアミノ]ペンタン酸
例11で合成した)を用いて、実施例1→実施例2と同
様の操作により得られた2−(4−クロロフェニルスル
フォニルアミノ)−5−クロロ安息香酸(100mg)
および5−アミノペンタン酸メチル(54mg)の塩化
メチレン(1.5ml)溶液に0℃で、トリエチルアミン
(0.045ml)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
ノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(61mg)および
4−ジメチルアミノピリジン(10mg)を加え、室温
で5時間撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶
液で処理し、酢酸エチル含有分液漏斗に注ぎ、水層を酢
酸エチルで2回抽出した。合わせた有機層を洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、下記
物性値を有する標題化合物(66mg)を得た。 TLC:Rf 0.32(ヘキサン:酢酸エチル=7:
3); NMR:δ 10.77 (1H, s), 7.8-7.7 (2H, m), 7.66 (1
H, d, J=8.4Hz), 7.4-7.3 (4H, m), 6.6-6.4 (1H, br),
3.71 (3H, s), 3,31 (2H, q, J=6.6Hz), 2.40 (2H, t,
J=6.6Hz), 1.8-1.6 (4H, m)。実施例12 5−[5−クロロ−2−(4−クロロフェニルスルフォ
ニルアミノ)ベンゾイルアミノ]ペンタン酸
【0262】
【化98】
【0263】5−[5−クロロ−2−(4−クロロフェ
ニルスルフォニルアミノ)ベンゾイルアミノ]ペンタン
酸メチル(実施例10で合成した)を用いて、実施例2
と同様の操作により、下記物性値を有する標題化合物を
得た。 TLC:Rf 0.48(クロロホルム:メタノール=9:
1); NMR(DMSO):δ 11.47 (1H, s), 9.0-8.7 (1H, b
r), 7.8-7.4 (7H, m), 3.3-3.1 (2H, m), 2.4-2.2 (2H,
m), 1.3-1.4 (4H, m)。製剤例1 以下の各成分を常法により良く混合した後、打錠して一
錠中に5mgの活性成分を含有する錠剤100錠を得
た。 ・6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリ フルオロメチルフェノキシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸 (実施例4で合成した。) ・・・500mg ・線維素グリコール酸カルシウム(崩壊剤) ・・・200mg ・ステアリン酸マグネシウム(潤滑剤) ・・・100mg ・微結晶セルロース ・・・ 9.2g
ニルスルフォニルアミノ)ベンゾイルアミノ]ペンタン
酸メチル(実施例10で合成した)を用いて、実施例2
と同様の操作により、下記物性値を有する標題化合物を
得た。 TLC:Rf 0.48(クロロホルム:メタノール=9:
1); NMR(DMSO):δ 11.47 (1H, s), 9.0-8.7 (1H, b
r), 7.8-7.4 (7H, m), 3.3-3.1 (2H, m), 2.4-2.2 (2H,
m), 1.3-1.4 (4H, m)。製剤例1 以下の各成分を常法により良く混合した後、打錠して一
錠中に5mgの活性成分を含有する錠剤100錠を得
た。 ・6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリ フルオロメチルフェノキシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸 (実施例4で合成した。) ・・・500mg ・線維素グリコール酸カルシウム(崩壊剤) ・・・200mg ・ステアリン酸マグネシウム(潤滑剤) ・・・100mg ・微結晶セルロース ・・・ 9.2g
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 323/54 C07C 323/54 323/67 323/67 C07D 333/34 C07D 333/34 Fターム(参考) 4C086 AA01 AA02 AA03 BA03 BA07 BA10 BB01 BB02 BC05 BC17 BC31 BC36 BC38 BC41 BC42 BC48 BC67 BC69 BC71 BC72 BC75 BC79 BC82 BC85 BC87 NA14 ZA05 ZA08 ZA42 ZA66 ZA68 ZA72 ZA83 ZA84 ZA85 ZC12 4C206 AA01 AA02 AA03 JA11 JA13 KA01 MA01 MA04 ZA05 ZA08 ZA42 ZA66 ZA68 ZA72 ZA83 ZA84 ZA85 ZC12 4H006 AA01 AA03 AB20 AB21 AB23 AB26 TB52 TC37
Claims (7)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、 【化2】 は、C5〜7の炭素環、または1個または2個の酸素、
硫黄または窒素原子を有する5〜7員の複素環を表わ
し、Z1は、 −COR1、 (式中、R1は、水酸基、C1〜4アルコキシまたは式
NR6R7(式中、R6およびR7は独立して水素原子また
はC1〜4アルキルを表わす。)で示される基を表わ
す。)で示される基、または−CH2OHを表わし、Z2
は、C1〜8アルキル、C2〜8アルケニル、C2〜8
アルキニルを表わし、Z3は、単結合またはC1〜4ア
ルキレンを表わし、Z4は、SO2を表わし、Z5は、
(1)C1〜8アルキル、C2〜8アルケニル、C2〜
8アルキニル、(2)フェニル、C3〜7シクロアルキ
ル、1個または2個の酸素、硫黄または窒素原子を有す
る5〜7員の複素環、(3)フェニルまたはC3〜7シ
クロアルキルで置換されたC1〜4アルキル、C2〜4
アルケニルまたはC2〜4アルキニル(上記(2)およ
び(3)中のフェニル、C3〜7シクロアルキル、1個
または2個の酸素、硫黄または窒素原子を有する5〜7
員の複素環は、m個(mは1〜5の整数を表わす。)の
R5基(基中、それぞれのR5は独立して水素原子、C1
〜6アルキル、C1〜6アルコキシ、C1〜6アルキル
チオ、ニトロ、ハロゲン、トリフルオロメチル、トリフ
ルオロメトキシまたは水酸基を表わす。)で置換されて
もよい。)を表わし、R2は、 CONR8、 NR8CO、 C1〜4アルキレン−CONR8、 C1〜4アルキレン−NR8CO、(各式中、R8は、水
素原子またはC1〜4アルキルを表わす。)で示される
基、 O、S、NZ6(式中、Z6は、水素原子またはC1〜4
アルキルを表わす。)で示される基、C1〜4アルキレ
ン−Z7、(式中、Z7は、O、SまたはNZ6(式中、
Z6は前記と同じ意味を表わす。)を表わす。)で示さ
れる基、 NZ6SO2(式中、Z6は前記と同じ意味を表わす。)
で示される基、 CO、 C1〜4アルキレン−COまたは単結合を表わし、R3
は、水素原子、C1〜6アルキル、C1〜6アルコキ
シ、C1〜6アルキルチオ、ニトロ、ハロゲン、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシ、水酸基またはヒ
ドロキシメチルを表わし、R4は、(1)水素原子、
(2)C1〜8アルキル、C2〜8アルケニル、C2〜
8アルキニル、(3)1個または2個のCOOZ8、C
ONZ9Z10、OZ8基(各基中、Z8、Z 9、Z10は独立
して、水素原子またはC1〜4アルキルを表わす。)、
C1〜4アルコキシ−C1〜4アルコキシからなる群か
ら選ばれる基によって置換されたC1〜6アルキル、
(4)C3〜7シクロアルキル、(5)フェニルまたは
C3〜7シクロアルキルで置換されたC1〜4アルキ
ル、C2〜4アルケニルまたはC2〜4アルキニル (上記(4)および(5)中のフェニル、C3〜7シク
ロアルキルは、m個のR 5基(mおよびR5は前記と同じ
意味を表わす。)で置換されてもよい。)を表わし、n
は、1〜4の整数を表わす。ただし、R2およびZ3は、
それぞれ 【化3】 の1位および2位しか結合しないものとする。)で示さ
れるスルフォンアミド誘導体またはその非毒性塩。 - 【請求項2】 【化4】 が、C5〜7の炭素環を表わし、Z5が、C1〜8アル
キル、C2〜8アルケニル、C2〜8アルキニル、また
はフェニルまたはC3〜7シクロアルキル含有基である
請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 【化5】 が、ベンゼン環を表わし、Z5が置換されてもよいフェ
ニルである請求項1または2記載の化合物。 - 【請求項4】 R2が、式 O、S、NZ6(式中、Z6は、水素原子またはC1〜4
アルキルを表わす。)、 C1〜4アルキレン−Z7(式中、Z7は、O、Sまたは
NZ6(式中、Z6は前記と同じ意味を表わす。)を表わ
す。)で示される基である請求項1、2または3記載の
化合物。 - 【請求項5】 R2が、式 CONR8、 C1〜4アルキレン−CONR8、 NR8CO、 C1〜4アルキレン−NR8CO(各式中、R8は、水素
原子またはC1〜4アルキルを表わす。)、 NZ6SO2(式中、R6は、水素原子またはC1〜4ア
ルキルを表わす。)、 CO、 C1〜4アルキレン−COまたは単結合で示される基で
ある請求項1、2または3記載の化合物。 - 【請求項6】 化合物が、(1)5−[5−クロロ−2
−(フェニルスルフォニルアミノ)フェノキシ]ペンタ
ン酸、(2)6−[5−クロロ−2−(フェニルスルフ
ォニルアミノ)フェノキシ]ヘキサン酸、(3)7−
[5−クロロ−2−(フェニルスルフォニルアミノ)フ
ェノキシ]ヘプタン酸、(4)6−[2−(N−イソプ
ロピル−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリフル
オロメチルフェノキシ]ヘキサ−2,4−ジエン酸、
(5)6−[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフ
ォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]
ヘキサ−2−エン酸、(6)7−[2−(N−イソプロ
ピル−フェニルスルフォニルアミノ)−5−トリフルオ
ロメチルフェノキシ]ヘプタ−2−エン酸、(7)5−
[2−(N−イソプロピル−フェニルスルフォニルアミ
ノ)−5−トリフルオロメチルフェノキシ]ペンタン
酸、(8)6−[2−(N−イソプロピル−フェニルス
ルフォニルアミノ)−5−トリフルオロメチルフェノキ
シ]ヘキサン酸、(9)5−[5−クロロ−2−(4−
クロロフェニルスルフォニルアミノ)ベンゾイルアミ
ノ]ペンタン酸またはそのメチルエステルまたはそのエ
チルエステルである請求項1記載の化合物。 - 【請求項7】 請求項1記載の一般式(I)で示される
スルフォンアミド誘導体またはその非毒性塩を有効成分
として含有するプロスタグランジンE2拮抗または作働
剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10169001A JP2000007646A (ja) | 1998-06-16 | 1998-06-16 | スルフォンアミド誘導体およびそれらを有効成分と して含有する薬剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10169001A JP2000007646A (ja) | 1998-06-16 | 1998-06-16 | スルフォンアミド誘導体およびそれらを有効成分と して含有する薬剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000007646A true JP2000007646A (ja) | 2000-01-11 |
Family
ID=15878519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10169001A Pending JP2000007646A (ja) | 1998-06-16 | 1998-06-16 | スルフォンアミド誘導体およびそれらを有効成分と して含有する薬剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000007646A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003043655A1 (fr) * | 2001-11-19 | 2003-05-30 | Ono Pharmaceutical Co., Ltd. | Remedes pour la frequence urinaire |
CN100406007C (zh) * | 2002-12-20 | 2008-07-30 | 安姆根有限公司 | 哮喘和过敏性炎症调节剂 |
JP2009520738A (ja) * | 2005-12-22 | 2009-05-28 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | Ccr9活性の阻害剤 |
-
1998
- 1998-06-16 JP JP10169001A patent/JP2000007646A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003043655A1 (fr) * | 2001-11-19 | 2003-05-30 | Ono Pharmaceutical Co., Ltd. | Remedes pour la frequence urinaire |
CN100406007C (zh) * | 2002-12-20 | 2008-07-30 | 安姆根有限公司 | 哮喘和过敏性炎症调节剂 |
JP2009520738A (ja) * | 2005-12-22 | 2009-05-28 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | Ccr9活性の阻害剤 |
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