JP2000066379A - Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate - Google Patents
Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plateInfo
- Publication number
- JP2000066379A JP2000066379A JP5705599A JP5705599A JP2000066379A JP 2000066379 A JP2000066379 A JP 2000066379A JP 5705599 A JP5705599 A JP 5705599A JP 5705599 A JP5705599 A JP 5705599A JP 2000066379 A JP2000066379 A JP 2000066379A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- heat mode
- printing plate
- polymer
- imaging element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の分野】本発明はIR感受性最上層を含む平版印
刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素に関す
る。FIELD OF THE INVENTION This invention relates to heat mode imaging elements for making lithographic printing plates containing an IR sensitive top layer.
【0002】さらに特定的には、本発明は、より高い引
っ掻き傷抵抗性(scratchresistanc
e)を有する平版印刷版の作製のためのヒートモード画
像形成要素に関する。More specifically, the present invention relates to a method of increasing scratch resistance.
e) for a heat mode imaging element for the preparation of a lithographic printing plate having e).
【0003】[0003]
【発明の背景】平版印刷は、そのいくらかの領域が平版
印刷インキを受容することができるが、他の領域は水で
湿らされるとインキを受容しない特別に作られた表面か
らの印刷の方法である。インキを受容する領域は印刷画
像領域を形成し、インキ−反発性領域は背景領域を形成
する。BACKGROUND OF THE INVENTION Lithographic printing is a method of printing from a specially made surface in which some areas can receive lithographic printing ink, while others do not receive the ink when wetted with water. It is. The areas that receive ink form the printed image areas and the ink-repellent areas form the background areas.
【0004】写真平版印刷の技術分野の場合、写真材料
は、露光された領域において(ネガティブ−作用性)又
は非露光領域において(ポジティブ−作用性)、親水性
背景上で画像通りに油性又は脂性インキに対して受容性
とされる。In the field of photolithographic printing, photographic materials are image-wise oily or greasy on a hydrophilic background, in exposed areas (negative-working) or in unexposed areas (positive-working). Receptive to ink.
【0005】表面平版印刷版(surface lit
ho plates)又はプラノグラフィ印刷版(pl
anographic printing plate
s)とも呼ばれる通常の平版印刷版の作製の場合、水に
対して親和性を有するか又は化学的処理によりそのよう
な親和性を得る支持体に感光性組成物の薄層がコーティ
ングされる。その目的のためのコーティングにはジアゾ
化合物、ジクロム酸塩−増感親水性コロイド及び多様な
合成感光性樹脂を含有する感光性ポリマー層が含まれ
る。特にジアゾ−増感系が広く用いられる。[0005] Surface lithographic printing plate (surface lit)
ho plates) or planographic printing plates (pl
ananographic printing plate
In the preparation of conventional lithographic printing plates, also referred to as s), a thin layer of the photosensitive composition is coated on a support that has an affinity for water or obtains such an affinity by chemical treatment. Coatings for that purpose include photopolymer layers containing diazo compounds, dichromate-sensitized hydrophilic colloids and various synthetic photopolymers. In particular, diazo-sensitized systems are widely used.
【0006】感光層が画像通りに露出されると、露出さ
れた画像領域は不溶性となり、非露出領域は溶解性のま
まである。次いで版は適した液を用いて現像され、非露
出領域のジアゾニウム塩又はジアゾ樹脂が除去される。When the photosensitive layer is image-wise exposed, the exposed image areas become insoluble and the non-exposed areas remain soluble. The plate is then developed using a suitable solution to remove the diazonium salt or diazo resin in unexposed areas.
【0007】別の場合、画像通りに露出されると露出さ
れた領域において可溶性とされる感光性コーティングを
含む印刷版が既知である。その場合、続く現像は露出さ
れた領域を除去する。そのような感光性コーティングの
典型的例はキノン−ジアジドに基づくコーティングであ
る。[0007] In another case, printing plates are known that contain a photosensitive coating that, when exposed imagewise, renders the exposed areas soluble. In that case, subsequent development removes the exposed areas. A typical example of such a photosensitive coating is a quinone-diazide based coating.
【0008】典型的に、それから印刷版が作製される上
記の写真材料は、平版印刷法において再現されるべき画
像を含有する写真フィルムを介してカメラ−露出され
る。そのような作業法はやっかいであり、労働集約的で
ある。しかし他方、かくして得られる印刷版は優れた平
版印刷の質のものである。Typically, the photographic material from which the printing plate is made is camera-exposed through a photographic film containing the image to be reproduced in a lithographic printing process. Such work practices are cumbersome and labor intensive. On the other hand, however, the printing plates thus obtained are of excellent lithographic quality.
【0009】かくして上記の方法において写真フィルム
の必要を除き、特に再現されるべき画像を示すコンピュ
ーターデータから直接印刷版を得るための試みが成され
てきた。しかし感光性コーティングはレーザーを用いて
直接露出されるのに十分に感受性ではない。従って感光
性コーティングの上にハロゲン化銀層をコーティングす
ることが提案された。次いでハロゲン化銀をコンピュー
ターの制御下でレーザーを用いて直接露出することがで
きる。続いてハロゲン化銀層を現像して感光性コーティ
ングの上に銀画像を残す。次いでその銀画像は感光性コ
ーティングの全体的露出においてマスクとして働く。全
体的露出の後、銀画像は除去され、感光性コーテイング
が現像される。そのような方法は例えばJP−A−60
−61752に開示されているが、複雑な現像及びそれ
に伴う現像液が必要であるという欠点を有する。Thus, there has been an attempt to obtain a printing plate directly from computer data representing the image to be reproduced, except for the need for photographic film in the above method. However, the photosensitive coating is not sensitive enough to be directly exposed using a laser. It has therefore been proposed to coat a silver halide layer over the photosensitive coating. The silver halide can then be directly exposed using a laser under computer control. The silver halide layer is subsequently developed to leave a silver image on the photosensitive coating. The silver image then serves as a mask in the overall exposure of the photosensitive coating. After overall exposure, the silver image is removed and the photosensitive coating is developed. Such a method is described, for example, in JP-A-60.
Although it is disclosed in US Pat. No. 6,617,52, it has the disadvantage of requiring complex development and an associated developer.
【0010】GB−1 492 070は金属層又はカ
ーボンブラックを含有する層を感光性コーティング上に
設ける方法を開示している。次いでこの金属層をレーザ
ーを用いて融蝕し、感光層上の画像マスクを得る。次い
で感光層を画像マスクを介してUV−光により全体的に
露出する。画像マスクの除去の後、感光層を現像して印
刷版を得る。しかしこの方法は感光層の現像の前にやっ
かいな処理により画像マスクを除去しなければならない
という欠点をまだ有している。GB-1 492 070 discloses a method of providing a metal layer or a layer containing carbon black on a photosensitive coating. Next, the metal layer is ablated using a laser to obtain an image mask on the photosensitive layer. The photosensitive layer is then entirely exposed by UV-light through an image mask. After removing the image mask, the photosensitive layer is developed to obtain a printing plate. However, this method still has the disadvantage that the image mask must be removed by a cumbersome process before developing the photosensitive layer.
【0011】さらに、感光性ではなく感熱性である画像
形成要素の使用を含む印刷版の作製のための方法が既知
である。印刷版の作製のための上記のような感光性画像
形成要素の特別な欠点は、それを光から遮蔽しなければ
ならないことである。さらにそれらは保存安定性の観点
で感度の問題を有し、それらは比較的低い解像度を示
す。明らかに市場で、ヒートモード印刷版前駆体に向か
う傾向が見られる。Furthermore, methods are known for making printing plates that involve the use of imaging elements that are heat-sensitive rather than light-sensitive. A particular disadvantage of the photosensitive imaging element as described above for the preparation of a printing plate is that it must be shielded from light. Furthermore, they have sensitivity problems in terms of storage stability, and they exhibit relatively low resolution. There is a clear trend in the market towards heat mode printing plate precursors.
【0012】例えば1992年1月のResearch
Disclosure no.33303は、熱可塑
性ポリマー粒子及び赤外吸収性顔料、例えばカーボンブ
ラックを含有する架橋された親水性層を支持体上に含む
ヒートモード画像形成要素を開示している。赤外レーザ
ーに画像通りに露出することにより、熱可塑性ポリマー
粒子が画像通りに凝析し、それによりこれらの領域にお
いて画像形成要素の表面を、さらなる現像なしでインキ
受容性とする。この方法の欠点は、得られる印刷版が容
易に損傷を受けることであり、それはそこにいくらかの
圧力が加えられると非−印刷領域がインキ−受容性とな
り得るからである。さらに限界的条件下で、そのような
印刷版の平板印刷性能は劣り得、従ってそのような印刷
版はほとんど平版印刷寛容度を有していない。For example, Research in January 1992
Disclosure no. No. 33303 discloses a heat mode imaging element comprising on a support a crosslinked hydrophilic layer containing thermoplastic polymer particles and an infrared absorbing pigment such as carbon black. Imagewise exposure to the infrared laser causes the thermoplastic polymer particles to coagulate imagewise, thereby rendering the surface of the imaging element ink-receptive in these areas without further development. A disadvantage of this method is that the resulting printing plate is easily damaged, since the non-printed areas can become ink-receptive if some pressure is applied thereto. Furthermore, under marginal conditions, the lithographic performance of such printing plates can be poor, and thus such printing plates have little lithographic latitude.
【0013】US−P−4 708 925は、アルカ
リ−可溶性ノボラック樹脂及びオニウム−塩を含有する
感光性組成物を含む画像形成要素を開示している。この
組成物は場合によりIR−増感剤を含有することができ
る。該画像形成要素をUV−可視−又はIR−線に画像
通りに露出し、水性アルカリ液を用いる現像段階が続い
た後、ポジティブ又はネガティブ作用性印刷版が得られ
る。該画像形成要素の照射及び現像により得られる平版
印刷版の印刷結果は劣っている。[0013] US-P-4 708 925 discloses an imaging element comprising a photosensitive composition containing an alkali-soluble novolak resin and an onium-salt. The composition may optionally contain an IR-sensitizer. After exposing the imaging element imagewise to UV-visible- or IR-rays and following a development step with an aqueous alkaline solution, a positive- or negative-working printing plate is obtained. The printing results of the lithographic printing plate obtained by irradiation and development of the imaging element are inferior.
【0014】EP−A−625 728は、UV−及び
IR−線に感受性である層を含み、ポジティブもしくは
ネガティブ作用性であることができる画像形成要素を開
示している。この層はレゾール樹脂、ノボラック樹脂、
潜在的ブレンステッド酸及びIR−吸収性物質を含む。
該画像形成要素の照射及び現像により得られる平版印刷
版の印刷結果は劣っている。[0014] EP-A-625 728 discloses an imaging element comprising a layer which is sensitive to UV- and IR-radiation and which can be positive or negative working. This layer is made of resole resin, novolak resin,
Includes potential Bronsted acids and IR-absorbing materials.
The printing results of the lithographic printing plate obtained by irradiation and development of the imaging element are inferior.
【0015】US−P−5 340 699はEP−A
−625 728とほとんど同じであるが、ネガティブ
作用性IR−レーザー記録画像形成要素を得るための方
法を開示している。IR−感受性層はレゾール樹脂、ノ
ボラック樹脂、潜在的ブレンステッド酸及びIR−吸収
性物質を含む。該画像形成要素の照射及び現像により得
られる平版印刷版の印刷結果は劣っている。US-P-5 340 699 is EP-A
-625 728, but discloses a method for obtaining a negative working IR-laser recording imaging element. The IR-sensitive layer contains a resole resin, a novolak resin, a potential Bronsted acid and an IR-absorbing material. The printing results of the lithographic printing plate obtained by irradiation and development of the imaging element are inferior.
【0016】さらにEP−A−678 380は、レー
ザー−融蝕可能な表面層の下の粗面化された金属支持体
上に保護層を設ける方法を開示している。画像通りに露
出されると表面層は保護層のいくらかの部分と同様に完
全に融蝕される。次いで印刷版を清浄化液で処理し、保
護層の残りを除去し、それにより親水性表面層を露出す
る。Further, EP-A-678 380 discloses a method of providing a protective layer on a roughened metal support under a laser-ablationable surface layer. Upon image-wise exposure, the surface layer is completely ablated as well as some portions of the protective layer. The printing plate is then treated with a cleaning liquid to remove the remainder of the protective layer, thereby exposing the hydrophilic surface layer.
【0017】EP−A−97 200 588.8は親
水性表面を有する平版印刷ベース上に水性アルカリ性溶
液中に可溶性のポリマーを含む中間層及びIR−線に感
受性の最上層を含み、ここで該最上層はIR−線に露出
されると水性アルカリ性溶液により浸透及び/又は可溶
化される容量が減少するか又は増加する、平版印刷版の
作製のためのヒートモード画像形成要素を開示してい
る。EP-A-97 200 588.8 comprises on a lithographic base having a hydrophilic surface an intermediate layer containing a polymer soluble in an aqueous alkaline solution and a top layer sensitive to IR radiation. The top layer discloses a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate wherein the volume permeated and / or solubilized by an aqueous alkaline solution decreases or increases when exposed to IR-radiation. .
【0018】GB−A−1 208 415は、情報通
りの加熱が記録層の種々の領域における水−透過性の差
として情報の記録を生むように構築された感熱性記録層
を中間層を用いてか又は用いずに保有している支持体を
含む記録材料を情報通りに加熱し、記録層の水−透過性
の領域又は比較的水透過性の領域を介して浸透し、対応
する領域における下の支持体もしくは中間層の少なくと
も表面部分の永久的な物理的及び/又は化学的変化を起
こさせるように構成されている水性液を用いて記録材料
を処理し、記録層の全体を除去して該情報通りに変化し
た下の支持体もしくは中間層を露出することを含む情報
の記録の方法を開示している。GB-A-1 208 415 uses a heat-sensitive recording layer constructed with an intermediate layer such that heating as information produces information recording as a difference in water-permeability in various areas of the recording layer. The recording material, including the support, with or without the support, is heated as informed and penetrates through the water-permeable or relatively water-permeable areas of the recording layer, and Treating the recording material with an aqueous liquid configured to cause a permanent physical and / or chemical change of at least a surface portion of the support or the intermediate layer, and removing the entire recording layer A method of recording information including exposing the informationally altered underlying support or interlayer is disclosed.
【0019】EP−A−823 327は、露出された
領域と露出されない領域の間でアルカリ現像液中におけ
る差を示すポジティブ感光性組成物を開示しており、そ
れは溶解度における差を誘導する成分として(a)光−
熱変換材料、及び(b)アルカリ現像液中におけるその
溶解度が主に化学的変化以外の変化により変わり得る高
分子量化合物を含んでいる。EP-A-823 327 discloses a positive photosensitive composition exhibiting a difference in an alkaline developer between exposed and unexposed areas, which as a component inducing a difference in solubility. (A) Light-
It contains a heat conversion material and (b) a high molecular weight compound whose solubility in an alkaline developer can be changed mainly by changes other than chemical changes.
【0020】US−A−5 641 608は、基質上
にレジストの画像形成パターンを直接作製するための方
法を開示しており、その方法はフォトレジストではなく
サーモ−レジスト、すなわち光−誘導ではなく熱的−誘
導の化学的変換を受ける組成物を用いている。表面基質
に適用されるサーモ−レジスト組成物のフィルムを、光
学的手段を用いずに、あらかじめ決められたパターンに
焦点が当てられた熱源により走査し、熱的に誘導される
局在化した組成物の化学的変換をもたらし、それはレジ
ストパターンを直接作製するか又は現像可能なパターン
の潜像をフィルム中に作製する。US-A-5 641 608 discloses a method for making an imaging pattern of a resist directly on a substrate, which method is not a photoresist but a thermo-resist, ie a light-induced A composition that undergoes a thermal-induced chemical transformation is used. A film of a thermo-resist composition applied to a surface substrate is scanned by a heat source focused on a predetermined pattern without using optical means, and a thermally induced localized composition This results in a chemical transformation of the product, which either creates a resist pattern directly or creates a latent image of a developable pattern in the film.
【0021】GB−A−1 154 568は、対比す
る光−吸収性及び光−透過性領域を有するグラフィック
原稿を記録する方法を開示しており、その方法では、主
にゼラチンから成り、層が十分に加熱されるとその水溶
性又は水−吸収容量が増加し、光−吸収性物質もその中
に分布している支持体化された層を含む記録材料を、そ
のゼラチン層を原稿の光−吸収性領域と接触させて置
き、該ゼラチン層を原稿を介して露光し、光の強度及び
露出の持続時間は、原稿の光吸収性領域と接触している
ゼラチン層の領域はそのような光−吸収性領域からの熱
伝導により実質的に影響されないが、ゼラチン層の他の
領域の水溶性又は水−吸収容量がゼラチン層の他の領域
中の光−吸収性物質によるコピー光の吸収の故のその加
熱により増加するようなものである。GB-A-1 154 568 discloses a method for recording graphic originals having contrasting light-absorbing and light-transmitting areas, in which the layer is mainly composed of gelatin and the layer is composed of gelatin. When heated sufficiently, its water-soluble or water-absorbing capacity increases and the light-absorbing substance is also distributed in the recording material, including the supported layer, in which the gelatin layer is applied to the light source of the original. Placing the gelatin layer in contact with the absorbent area and exposing the gelatin layer through the original, the light intensity and duration of the exposure being such that the area of the gelatin layer in contact with the light absorbing area of the original Although substantially unaffected by heat conduction from the light-absorbing region, the water-soluble or water-absorbing capacity of the other region of the gelatin layer may increase the absorption of the copy light by the light-absorbing material in the other region of the gelatin layer. Because of its heating as it increases It is intended.
【0022】GB−A−1 245 924は、ある溶
剤中における層のある領域の溶解度を層のその領域の加
熱により増加させることができるような組成の感熱性記
録層を含む記録材料を用いる情報−記録法を開示してお
り、その方法では該層が情報通りに加熱されて記録層の
種々の領域の該溶剤中における溶解度の差として情報の
記録を生み、次いで層全体をそのような溶剤と接触さ
せ、記録層におけるそのような溶剤に可溶性もしくは最
も可溶性の部分を除去するか又はそのような溶剤をそこ
に浸透させ、該方法は該記録層が完全に又は主に1種も
しくはそれ以上の感熱性ポリマー性化合物から成ること
を特徴としている。GB-A-1 245 924 discloses information on a recording material comprising a heat-sensitive recording layer having a composition such that the solubility of a certain region of the layer in a certain solvent can be increased by heating the region of the layer. Discloses a recording method, in which the layer is heated in an informational manner, producing a record of information as the difference in solubility of the various areas of the recording layer in the solvent, and then transferring the entire layer to such a solvent. To remove or infiltrate such a solvent soluble or most soluble portion of the recording layer, wherein the recording layer is completely or predominantly one or more Characterized by comprising a heat-sensitive polymer compound of the formula:
【0023】FR−A−1 561 957は、電磁線
を用いて情報を記録又は再現するための方法を開示して
おり、熱含有物質に感受性の要素も開示しており、その
場合熱は電磁線への露出により発生する。FR-A-1 561 957 discloses a method for recording or reproducing information using electromagnetic radiation, and also discloses elements sensitive to heat-containing substances, in which case the heat is Caused by line exposure.
【0024】GB−A−1 155 035は、層のあ
る領域が十分に加熱されると、層のその領域の水もしく
は水性媒体中における溶解度を低下させる修正をその領
域で受けるポリマー性材料の層を含む記録材料が用いら
れる情報の記録の方法を開示しており、そのような層に
は、層の面積全体を覆って分布する1種もしくは複数種
の物質も導入されており、そのような物質により吸収さ
れる強力な輻射エネルギーに層を露出することによりそ
のような物質を加熱することができ、該材料は記録され
るべき情報により決定されるパターンで材料全体に分布
し、該分布物質により少なくとも部分的に吸収される強
力な輻射エネルギーに露出され、対応する熱パターンが
材料中に発生し、それによりそのような情報が該層の種
々の領域の水もしくは水性媒体中における溶解度の差と
して記録される。GB-A-1 155 035 describes a layer of polymeric material which, when a region of the layer is sufficiently heated, undergoes a modification that reduces the solubility of that region in water or an aqueous medium in that region. Discloses a method of recording information in which a recording material is used, wherein one or more substances distributed over the entire area of the layer are introduced into such a layer, Such a material can be heated by exposing the layer to the intense radiant energy absorbed by the material, the material being distributed throughout the material in a pattern determined by the information to be recorded. Exposed to intense radiant energy that is at least partially absorbed by the material, and a corresponding thermal pattern is generated in the material, whereby such information is transmitted to the various regions of the layer by water or water. It is recorded as the difference in solubility in an aqueous medium.
【0025】GB−A−1 160 221は、室温で
固体であり、熱の作用により水−非透過性となるか又は
実質的に水−透過性が低下し得る粒子の形態の疎水性熱
可塑性ポリマー性材料が導入されている水透過性記録層
を含む記録材料が用いられる情報の記録の方法を開示し
ており、該記録材料には該ポリマー粒子と熱伝導的関係
で、そのような材料の面積全体に分布する1種又は複数
種の物質も導入されており、そのような物質により吸収
される強力な電磁線に材料を露出することによりそのよ
うな物質を加熱することができ;また、その方法では該
分布物質により吸収され、記録されるべき情報により決
定されるバターンで記録材料全体に分布する量の電磁線
に記録材料を露出し、対応する熱パターンを記録材料中
に発生させ、それにより該記録層の種々の領域の水−透
過性の差としてそのような情報を記録する。GB-A-1 160 221 is a hydrophobic thermoplastic in the form of particles which are solid at room temperature and which can become water-impermeable or substantially water-impermeable by the action of heat. A method of recording information using a recording material comprising a water-permeable recording layer into which a polymeric material has been introduced is disclosed, wherein the recording material is in thermal conductivity with the polymer particles, and such a material is disclosed. One or more substances distributed over the entire area of the substance have also been introduced, and such substances can be heated by exposing the material to strong electromagnetic radiation absorbed by such substances; The method exposes the recording material to an amount of electromagnetic radiation that is absorbed by the distribution material and distributed throughout the recording material in a pattern determined by the information to be recorded, generating a corresponding thermal pattern in the recording material. ,in addition Water of various regions of the Ri該 recording layer - to record such information as the difference in permeability.
【0026】EP−A−97 203 129.8及び
EP−A−97 203 132.2は、親水性表面を
有する平版印刷ベース及び、IR−線に感受性であり、
水性アルカリ性溶液中に可溶性のポリマーを含み、ケイ
酸塩としてのSiO2を含有するアルカリ性現像液に関
して非浸透性又はその中に不溶性である最上層を含むヒ
ートモード画像形成要素を開示している。EP-A-97 203 129.8 and EP-A-97 203 132.2 are lithographic bases having a hydrophilic surface and are sensitive to IR radiation,
A heat mode imaging element comprising a soluble polymer in an aqueous alkaline solution and comprising a top layer that is impermeable or insoluble therein with respect to an alkaline developer containing SiO 2 as a silicate is disclosed.
【0027】該最後の3つのヒートモード画像形成要素
は、上層が引っ掻き傷に対して非常に敏感であるという
欠点を有する。該層を保護層で覆うことは、露出された
領域と露出されない領域の間の現像液の浸透の速度にお
ける差が小さいために解像度を低くし、現像寛容度を低
くする。該問題の解決は真価が認められるであろう。[0027] The last three heat mode imaging elements have the disadvantage that the top layer is very sensitive to scratches. Covering the layer with a protective layer reduces the resolution and the development latitude due to the small difference in the rate of developer penetration between the exposed and unexposed areas. The solution to the problem will be worthwhile.
【0028】[0028]
【発明の目的】本発明の目的は、広い現像寛容度を有す
る平版印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素
を提供することである。OBJECTS OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate having a wide development latitude.
【0029】本発明の目的は、高い解像度を有する平版
印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素を提供
することである。It is an object of the present invention to provide a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate having a high resolution.
【0030】本発明のさらなる目的は、向上した引っ掻
き傷抵抗性を有する平印刷版の作製のためのヒートモー
ド画像形成要素を提供することである。It is a further object of the present invention to provide a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate having improved scratch resistance.
【0031】本発明のさらなる目的は、以下の記載から
明らかになるであろう。Further objects of the present invention will become clear from the description hereinafter.
【0032】[0032]
【発明の概略】本発明に従えば、親水性表面を有する平
版印刷ベース上に、水性アルカリ性溶液中に可溶性であ
るが水中に不溶性のポリマー及びポリマーに対して5重
量%未満の水性アルカリ性溶液中に可溶性の親水性ポリ
マーを含む第1層ならびにIR−感受性であり且つアル
カリ性現像液に関して非浸透性又はそこに不溶性の、平
版印刷ベースの第1層と同じ側上の最上層を有し、該第
1層及び該最上層は1つの同じ層であることができる平
版印刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素であ
って;該最上層が30mg〜500mg/m2の量のポ
リマー、トリアリールメタン色素及びフタロシアニン色
素から成る群より選ばれる化合物を含有することを特徴
とするヒートモード画像形成要素が提供される。SUMMARY OF THE INVENTION In accordance with the present invention, on a lithographic printing base having a hydrophilic surface, a polymer soluble in aqueous alkaline solution but insoluble in water and less than 5% by weight of aqueous polymer relative to the polymer. A first layer comprising a hydrophilic polymer that is soluble in water and an upper layer on the same side as the first layer of the lithographic base, which is IR-sensitive and impervious or insoluble with respect to an alkaline developer. The first layer and the top layer are heat mode imaging elements for making a lithographic printing plate, which can be one and the same layer; wherein the top layer is a polymer in an amount of 30 mg to 500 mg / m 2 , tria A heat mode imaging element is provided which comprises a compound selected from the group consisting of a reel methane dye and a phthalocyanine dye.
【0033】[0033]
【発明の詳細な記述】最上層は第2層とも呼ばれる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The top layer is also called the second layer.
【0034】第1層は好ましくは1重量%以下の親水性
ポリマーを含み、より好ましくは親水性ポリマーを含ま
ない。The first layer preferably contains no more than 1% by weight of a hydrophilic polymer, more preferably no hydrophilic polymer.
【0035】引っ掻き傷抵抗性向上剤として用いること
ができる適したポリマーは、好ましくは少なくとも35
℃、より好ましくは40℃より高いガラス転移温度を有
し、高温における乾燥によりフィルムを形成することが
できるポリマーである。Suitable polymers which can be used as scratch resistance improvers are preferably at least 35
Is a polymer having a glass transition temperature of greater than 400C, more preferably greater than 40C, and capable of forming a film upon drying at elevated temperatures.
【0036】引っ掻き傷抵抗性向上剤として用いること
ができる代表的ポリマーは、例えば、アクリレート、自
己架橋性アクリレート、メラミン−硬膜剤と組み合わさ
れたアクリレートである。これらのポリマーは溶液とし
てコーティングに加えることができるが、分散液として
コーティングに加えることもできる。Representative polymers that can be used as scratch resistance improvers are, for example, acrylates, self-crosslinking acrylates, acrylates combined with melamine-hardeners. These polymers can be added to the coating as a solution, but can also be added to the coating as a dispersion.
【0037】引っ掻き傷抵抗性向上剤として用いること
ができる他の種類のポリマーは、ポリビニルアルコール
及び修飾誘導体の型のものであり、それはオルトシリケ
ート、オルトチタネート、アルデヒド−型化合物の型の
周知の硬化剤を用いて硬化することができる。Another type of polymer that can be used as a scratch resistance enhancer is of the polyvinyl alcohol and modified derivative type, which is a known cure of the orthosilicate, orthotitanate, aldehyde-type compound type. It can be cured using an agent.
【0038】引っ掻き傷抵抗性向上剤として用いること
ができる他のポリマーは、ポリメチルメタクリレート、
スチレン−無水マレイン酸コポリマー、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、スチレン−メチルメタクリレート−マ
レイン酸の3元ポリマー、アクリレート−スチレン−マ
レイン酸の自己架橋性3元ポリマーである。Other polymers that can be used as a scratch resistance improver include polymethyl methacrylate,
It is a styrene-maleic anhydride copolymer, polycarbonate, polyamide, styrene-methyl methacrylate-maleic acid terpolymer, and acrylate-styrene-maleic acid self-crosslinkable terpolymer.
【0039】引っ掻き傷抵抗性向上剤として用いること
ができるポリマーの好ましい種類の1つは、ポリウレタ
ンの種類である。ポリウレタンは以下のポリイソシアナ
ート及び多価アルコールの重合から得ることができる。One preferred type of polymer that can be used as a scratch resistance enhancer is the type of polyurethane. Polyurethanes can be obtained from the polymerization of the following polyisocyanates and polyhydric alcohols.
【0040】多価アルコールとして単純な多価アルコー
ル、例えばエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオー
ル、1,4ブチレングリコール、1,5ペンタンジオー
ル、1,6ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、
ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ト
リエチレングリコール、p−キシリレングリコール、ビ
スフェノールA、水素化ビスフェノールA、ビスフェノ
ールジヒドロキシプロピルエーテル、グリセロール、ト
リメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリス
ヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエリトリトー
ル、ジペンタエリトリトール、ソルビトール、スクロー
ス、分解澱粉(degraded starch)を用
いることができる。多価アルコールとして、これらの多
価アルコールのいずれかとジカルボン酸もしくは無水
物、例えばコハク酸、3つのフタル酸異性体、無水フタ
ル酸、アジピン酸、ヘキサヒドロフタル酸、イソフタル
酸の間の重縮合により得られる両端にヒドロキシル基を
有する縮合ポリエステルポリオール、ジフェニルカーボ
ネートとグリコールのエステル交換反応により製造され
るヒドロキシ−官能基性ポリラクトンを用いることもで
きる。ヒドロキシ末端ポリエステルの製造のための他の
方法には、グリコールの存在下におけるε−カプロラク
トンの開環重合が含まれる。Simple polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,4 butylene glycol, 1,5 pentanediol, 1,6 hexane Diol, diethylene glycol,
Dipropylene glycol, neopentyl glycol, triethylene glycol, p-xylylene glycol, bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, bisphenol dihydroxypropyl ether, glycerol, trimethylolethane, trimethylolpropane, trishydroxymethylaminomethane, pentaerythritol, Dipentaerythritol, sorbitol, sucrose, degraded starch can be used. As polyhydric alcohols, the polycondensation between any of these polyhydric alcohols and a dicarboxylic acid or anhydride, such as succinic acid, three phthalic acid isomers, phthalic anhydride, adipic acid, hexahydrophthalic acid, isophthalic acid The resulting condensed polyester polyol having hydroxyl groups at both ends and a hydroxy-functional polylactone produced by a transesterification reaction of diphenyl carbonate and glycol can also be used. Another method for the preparation of hydroxy-terminated polyesters involves ring opening polymerization of ε-caprolactone in the presence of glycol.
【0041】イソシアナートとして以下の化合物を用い
ることができる:ヘキサメチレンジイソシアナート、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアナート、ジフェニル
エーテルイソシアナート、2量体酸ジイソシアナート、
ビシクロヘプタントリイソシアナート、パラフェニレン
ジイソシアナート、2,4−もしくは2,6−トルイレ
ンジイシアナート、4,4−ジフェニルメタンジイソシ
アナート、トリジンジイソシアナート、水素化キシリレ
ンジイソシアナート、シクロヘキサンジイソシアナー
ト、メタキシリレンジイソシアナート、2,6−ジイソ
シアナートメチルカプロエート、4,4’−メチレンビ
ス(シクロヘキシルイソシアナート)、メチルシクロヘ
キサン2,4(2,6)ジイソシアナート、1,3−
(イソシアナートメチル)シクロヘキサン、イソホロン
ジイソシアナート、テラトメチルキシリレンジイソシア
ナート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、ト
リアリールメタントリイソシアナート、トリス(イソシ
アナートフェニル)チオホスフェート、テトラメチルキ
シリレンジイソシアナート、リシンエステルトリイソシ
アナート、1,6,11−ウンデカントリイソシアナー
ト、1,8−ジイソシアナート−4−イソシアナートメ
チルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシ
アナート...。The following compounds can be used as isocyanates: hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, diphenyl ether isocyanate, dimer acid diisocyanate,
Bicycloheptane triisocyanate, paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-toluylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, tolidine diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate Notate, meta-xylylene diisocyanate, 2,6-diisocyanate methyl caproate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane 2,4 (2,6) diisocyanate, 1,3-
(Isocyanatomethyl) cyclohexane, isophorone diisocyanate, teratomethylxylylenediisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, triarylmethanetriisocyanate, tris (isocyanatophenyl) thiophosphate, tetramethylxylylenediisocyanate, lysine Ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanato-4-isocyanatomethyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate. . . .
【0042】上記のポリウレタンはメラミン−誘導体を
用いて硬化させることができる。好ましいメラミン誘導
体としてメチル化メラミン−ホルムアルデヒド反応生成
物を用いることができる。これらの系の硬化のために、
強酸の添加は触媒として機能する。The polyurethanes described above can be cured with melamine derivatives. As a preferred melamine derivative, a methylated melamine-formaldehyde reaction product can be used. For curing these systems,
The addition of a strong acid functions as a catalyst.
【0043】該ウレタンは好ましくは30〜200mg
/m2の量で用いられる。The urethane is preferably from 30 to 200 mg.
/ M 2 .
【0044】引っ掻き傷抵抗性向上剤として用いること
ができるポリマーの他の好ましい種類は、セルロース及
び誘導体の種類である。ニトロセルロースとして、最終
的生成物の窒素含有率が12.6%未満である、ニトロ
化用酸(nitratingacid)を用いてセルロ
ースをエステル化した生成物を用いることができる。セ
ルロースとして天然のセルロースを用いることができ
る。Another preferred type of polymer that can be used as a scratch resistance enhancer is the type of cellulose and derivatives. As nitrocellulose, products obtained by esterifying cellulose with a nitrating acid having a nitrogen content of the final product of less than 12.6% can be used. Natural cellulose can be used as the cellulose.
【0045】該セルロースは好ましくは30〜120m
g/m2の量で用いられる。The cellulose is preferably 30 to 120 m
It is used in an amount of g / m 2 .
【0046】トリアリールメタン色素は好ましくは30
〜500mgの範囲の量、より好ましくは50〜200
mg/m2の量で用いられる。The triarylmethane dye is preferably 30
Amounts in the range of ~ 500 mg, more preferably 50-200 mg.
It is used in an amount of mg / m 2 .
【0047】フタロシアニン色素は金属含有色素又は金
属−非含有色素であることができる。それらは好ましく
は40〜600mgの範囲の量、より好ましくは80〜
250mg/m2の量で用いられる。The phthalocyanine dye can be a metal-containing dye or a metal-free dye. They preferably have an amount in the range of 40-600 mg, more preferably 80-600 mg.
Used in an amount of 250 mg / m 2 .
【0048】第1の実施態様の場合、第1層及び最上層
は異なる。該実施態様では親水性表面を有する平版印刷
ベース上に、水性アルカリ性溶液中に可溶性のポリマー
を含む第1層及びIR−線に感受性であり、ケイ酸塩と
してのSiO2を含有するアルカリ性現像液に関して非
浸透性であるか又はそこに不溶性の、平版印刷ベースの
第1層と同じ側上の最上層を有する平版印刷版の作製の
ためのヒートモード画像形成要素を提供する。In the case of the first embodiment, the first layer and the top layer are different. A lithographic base on having a hydrophilic surface in the embodiment, is sensitive to the first layer and IR- line comprising a polymer soluble in an aqueous alkaline solution, an alkaline developer containing SiO 2 as silicate A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate having an uppermost layer on the same side as the first layer of the lithographic printing base, which is impermeable or insoluble therein.
【0049】本発明に従う最上層はIR−色素もしくは
顔料及び結合剤樹脂を含む。IR−色素もしくは顔料の
混合物を用いることができるが、1種類のみのIR−色
素もしくは顔料を用いるのが好ましい。好ましくは該I
R−色素はIR−シアニン色素である。特に有用なIR
−シアニン色素は少なくとも2つの酸基、より好ましく
は少なくとも2つのスルホン基を有するシアニン色素で
ある。さらにもっと好ましいのは2つのインドレニン及
び少なくとも2つのスルホン酸基を有するシアニン色素
である。最も好ましいのは下記の構造を有する化合物I
である。The top layer according to the invention comprises an IR-dye or pigment and a binder resin. Mixtures of IR-dyes or pigments can be used, but it is preferred to use only one type of IR-dye or pigment. Preferably said I
The R-dye is an IR-cyanine dye. Particularly useful IR
The cyanine dye is a cyanine dye having at least two acid groups, more preferably at least two sulfone groups. Even more preferred are cyanine dyes having two indolenines and at least two sulfonic acid groups. Most preferred are compounds I having the structure
It is.
【0050】[0050]
【化1】 特に有用なIR−吸収性顔料は、カーボンブラック、金
属炭化物、ホウ化物、窒化物、炭化窒化物、ブロンズ−
構造酸化物及びブロンズ群に構造的に関連しているがA
成分がない酸化物、例えばWO2.9である。導電性ポリ
マー分散液、例えばポリピロールもしくはポリアニリン
に基づく導電性ポリマー分散液を用いることもできる。
得られる平版印刷性能及び特に印刷耐久性は画像形成要
素の感熱性に依存する。これに関し、カーボンブラック
が非常に優れ且つ好ましい結果を与えることが見いださ
れた。Embedded image Particularly useful IR-absorbing pigments are carbon black, metal carbides, borides, nitrides, carbonitrides, bronze-
Structurally related to structural oxides and bronze groups,
Oxides without components, for example WO 2.9 . Conductive polymer dispersions, such as those based on polypyrrole or polyaniline, can also be used.
The lithographic performance obtained, and especially the printing durability, depends on the heat sensitivity of the imaging element. In this regard, it has been found that carbon black gives very good and favorable results.
【0051】IR−吸収性色素もしくは顔料は、該IR
−感受性最上層の合計量の好ましくは1〜99重量部、
より好ましくは50〜95重量部の量で存在する。IR-absorbing dyes or pigments are
Preferably from 1 to 99 parts by weight of the total amount of the sensitive top layer,
More preferably it is present in an amount of 50 to 95 parts by weight.
【0052】最上層は好ましくは結合剤として水に不溶
性のポリマー、例えば、セルロースエステル、塩化ビニ
リデンとアクリロニトリルのコポリマー、ポリ(メタ)
アクリレート、ポリ塩化ビニル、シリコーン樹脂などを
含むことができる。結合剤として好ましいのはニトロセ
ルロース樹脂である。The top layer is preferably a water-insoluble polymer as binder, such as cellulose esters, copolymers of vinylidene chloride and acrylonitrile, poly (meth)
It can include acrylates, polyvinyl chloride, silicone resins, and the like. Preferred as a binder is a nitrocellulose resin.
【0053】最上層の合計量は好ましくは0.05〜1
0g/m2、より好ましくは0.1〜2g/m2の範囲で
ある。The total amount of the uppermost layer is preferably 0.05 to 1
0 g / m 2, more preferably in the range of 0.1-2 g / m 2.
【0054】画像通りに露出されると、最上層におい
て、水性アルカリ性溶液により浸透及び/又は可溶化さ
れる容量における差が本発明のアルカリ性現像液に関し
て生まれる。Upon image-wise exposure, in the top layer, differences in the volume permeated and / or solubilized by the aqueous alkaline solution are created with the alkaline developer of the present invention.
【0055】本発明の場合、画像通りにIR露出される
と、現像の間に非画像形成部分を可溶化したり及び/又
は損傷を与えたりせずに画像形成された部分が清浄化さ
れる程度まで該容量が増加する。In the present invention, image-wise IR exposure cleans the imaged portions without solubilizing and / or damaging the non-imaged portions during development. The capacity increases to the extent.
【0056】水性アルカリ性溶液を用いる現像は好まし
くは5〜120秒の間隔内に行われる。The development using the aqueous alkaline solution is preferably carried out within an interval of 5 to 120 seconds.
【0057】最上層及び平版印刷ベースの間に、本発明
は、優先的に(preferentially)7.5
〜14のpHを有する水性アルカリ性現像液中に可溶性
の第1層を含む。該層は好ましくは最上層に連続してい
るが、最上層と第1層の間に他の層が存在することがで
きる。この層において用いられるアルカリ可溶性結合剤
は好ましくは通常のポジティブ又はネガティブ作用性P
S−版で用いられるような疎水性結合剤、例えばノボラ
ックポリマー、ヒドロキシスチレン単位を含有するポリ
マー、カルボキシ置換ポリマーなどである。これらのポ
リマーの典型的例はDE−A−4 007 428、D
E−A−4 027 301及びDE−A−4 445
820に記載されている。本発明と関連して用いられ
る疎水性結合剤はさらに、水中における不溶性及びアル
カリ性溶液中における部分的な可溶性/膨潤性及び/又
は補助溶媒と組み合わされた場合の水中における部分的
な可溶性を特徴としている。Between the top layer and the lithographic base, the present invention preferentially 7.5
A first layer soluble in an aqueous alkaline developer having a pH of 1414. The layer is preferably continuous with the top layer, but there can be other layers between the top layer and the first layer. The alkali-soluble binder used in this layer is preferably a conventional positive or negative working P
Hydrophobic binders such as those used in S-plates, such as novolak polymers, polymers containing hydroxystyrene units, carboxy-substituted polymers and the like. Typical examples of these polymers are DE-A-4 007 428, D
EA-4 027 301 and DE-A-4 445
820. The hydrophobic binders used in connection with the present invention are further characterized by insolubility in water and partial solubility / swellability in alkaline solutions and / or partial solubility in water when combined with cosolvents. I have.
【0058】さらに、このアルカリ水溶液可溶性層は好
ましくは可視光−及びUV−光減感層である。該層は好
ましくは熱的に硬膜可能である。この好適に可視光−及
びUV−減感されている層は、250nm〜650nm
の波長領域内で吸収する感光性成分、例えばジアゾ化合
物、フォトアシッド(photoacids)、光開始
剤、キノンジアジド、増感剤などを含まない。この方法
で昼光に安定な印刷版を得ることができる。Furthermore, the aqueous alkali-soluble layer is preferably a visible light- and UV-light desensitizing layer. The layer is preferably thermally curable. This preferably visible- and UV-desensitized layer is between 250 nm and 650 nm.
Excluding photosensitive components that absorb in the wavelength range of, for example, diazo compounds, photoacids, photoinitiators, quinonediazides, and sensitizers. In this way, a printing plate stable in daylight can be obtained.
【0059】該第1層は好ましくは低分子量の酸、好ま
しくはカルボン酸、さらにもっと好ましくは安息香酸、
最も好ましくは3,4,5−トリメトキシ安息香酸ある
いはベンゾフェノンも含む。The first layer is preferably a low molecular weight acid, preferably a carboxylic acid, even more preferably benzoic acid,
Most preferably, it also contains 3,4,5-trimethoxybenzoic acid or benzophenone.
【0060】第1層における低分子量の酸又はベンゾフ
ェノンの合計量対ポリマーの比率は好ましくは2:98
〜40:60、より好ましくは5:95〜20:80の
範囲である。該第1層の合計量は好ましくは0.1〜1
0g/m2、より好ましくは0.3〜2g/m2の範囲で
ある。The ratio of the total amount of low molecular weight acid or benzophenone to polymer in the first layer is preferably 2:98.
-40: 60, more preferably 5: 95-20: 80. The total amount of the first layer is preferably 0.1 to 1
0 g / m 2, more preferably from 0.3 to 2 g / m 2.
【0061】本発明の画像形成要素において、平版印刷
ベースはすべての実施態様の場合に陽極酸化されたアル
ミニウムであることができる。特に好ましい平版印刷ベ
ースは電気化学的に粗面化され、陽極酸化されたアルミ
ニウム支持体である。陽極酸化されたアルミニウム支持
体を処理してその表面の親水性を向上させることができ
る。例えばアルミニウム支持体を例えば95℃などの高
められた温度でケイ酸ナトリウム溶液を用いてその表面
を処理することによりケイ酸塩化することができる。別
の場合、リン酸塩処理を適用することができ、それは酸
化アルミニウム表面をリン酸塩溶液で処理することを含
み、リン酸塩溶液はさらに無機フッ化物を含有している
ことができる。さらに酸化アルミニウム表面をクエン酸
又はクエン酸塩溶液で濯ぐことができる。この処理は室
温で行うことができるか又は約30〜50℃というわず
かに高められた温度で行うことができる。さらに興味深
い処理は酸化アルミニウム表面を重炭酸塩溶液で濯ぐこ
とを含む。さらに、酸化アルミニウム表面をポリビニル
ホスホン酸、ポリビニルメチルホスホン酸、ポリビニル
アルコールのリン酸エステル、ポリビニルスルホン酸、
ポリビニルベンゼンスルホン酸、ポリビニルアルコール
の硫酸エステル及びスルホン化脂肪族アルデヒドとの反
応により生成するポリビニルアルコールのアセタールを
用いて処理することができる。これらの後処理の1つ又
はそれ以上を単独で又は組み合わせて行うことができる
ことはさらに明らかである。これらの処理のもっと詳細
な記載はGB−A−1 084 070、DE−A−4
423 140、DE−A−4 417 907、E
P−A−659 909、EP−A−537 633、
DE−A−4 001 466、EP−A−292 8
01、EP−A−291760及びUS−P−4 45
8 005に示されている。In the imaging element of the present invention, the lithographic base can be anodized aluminum for all embodiments. A particularly preferred lithographic base is an electrochemically roughened, anodized aluminum support. The anodized aluminum support can be treated to increase its surface hydrophilicity. For example, an aluminum support can be silicated by treating its surface with a sodium silicate solution at an elevated temperature, for example, 95 ° C. In another case, a phosphating can be applied, which comprises treating the aluminum oxide surface with a phosphating solution, which can further contain inorganic fluoride. Further, the aluminum oxide surface can be rinsed with a citric acid or citrate solution. This treatment can be performed at room temperature or at a slightly elevated temperature of about 30-50 ° C. A further interesting treatment involves rinsing the aluminum oxide surface with a bicarbonate solution. Furthermore, the surface of aluminum oxide is coated with polyvinyl phosphonic acid, polyvinyl methyl phosphonic acid, phosphate of polyvinyl alcohol, polyvinyl sulfonic acid,
The treatment can be carried out using polyvinyl benzene sulfonic acid, a sulfate of polyvinyl alcohol, and an acetal of polyvinyl alcohol produced by a reaction with a sulfonated aliphatic aldehyde. It is further apparent that one or more of these post-treatments can be performed alone or in combination. A more detailed description of these processes is given in GB-A-1 084 070, DE-A-4.
423 140, DE-A-4 417 907, E
PA-659 909, EP-A-537 633,
DE-A-4 001 466, EP-A-292 8
01, EP-A-291760 and US-P-445
8005.
【0062】本発明と関連する他の様式に従うと、親水
性表面を有する平版印刷ベースはすべての実施態様の場
合に柔軟性支持体、例えば架橋された親水性層が設けら
れた紙又はプラスチックフィルムを含む。特に適した架
橋された親水性層は、ホルムアルデヒド、グリオキサ
ル、ポリイソシアナート又は加水分解されたテトラ−ア
ルキルオルトシリケートなどの架橋剤を用いて架橋され
た親水性結合剤から得ることができる。後者が特に好ま
しい。According to another mode in connection with the present invention, the lithographic base having a hydrophilic surface is, in all embodiments, a flexible support, such as a paper or plastic film provided with a cross-linked hydrophilic layer. including. Particularly suitable cross-linked hydrophilic layers can be obtained from hydrophilic binders cross-linked with cross-linking agents such as formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate or hydrolyzed tetra-alkyl orthosilicate. The latter is particularly preferred.
【0063】親水性結合剤として親水性(コ)ポリマ
ー、例えば、ビニルアルコール、アクリルアミド、メチ
ロールアクリルアミド、メチロールメタクリルアミド、
アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレ
ート、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー
及びコポリマーあるいは無水マレイン酸/ビニルメチル
エーテルコポリマーを用いることができる。用いられる
(コ)ポリマー又は(コ)ポリマー混合物の親水度は好
ましくは、少なくとも60重量パーセント、好ましくは
80重量パーセントの程度まで加水分解されたポリ酢酸
ビニルの親水度と同じか又はそれより高い。As hydrophilic binders, hydrophilic (co) polymers such as vinyl alcohol, acrylamide, methylolacrylamide, methylolmethacrylamide,
Homopolymers and copolymers of acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate or maleic anhydride / vinyl methyl ether copolymer can be used. The hydrophilicity of the (co) polymer or (co) polymer mixture used is preferably the same or higher than that of the polyvinyl acetate hydrolyzed to at least 60% by weight, preferably to the extent of 80% by weight.
【0064】架橋剤、特にテトラアルキルオルトシリケ
ートの量は、好ましくは親水性結合剤の重量部当たり少
なくとも0.2重量部、より好ましくは0.5〜5重量
部、最も好ましくは1.0重量部〜3重量部である。The amount of crosslinker, especially tetraalkyl orthosilicate, is preferably at least 0.2 parts by weight, more preferably 0.5 to 5 parts by weight, most preferably 1.0 part by weight per part by weight of hydrophilic binder. Parts to 3 parts by weight.
【0065】本実施態様に従って用いられる平版印刷ベ
ースの架橋された親水性層は、好ましくは、層の機械的
強度及び多孔度を向上させる物質も含有する。この目的
でコロイドシリカを用いることができる。用いられるコ
ロイドシリカは、例えば、最高40nm、例えば20n
mの平均粒度を有するコロイドシリカのいずれの商業的
に入手可能な水−分散液の形態であることもできる。さ
らに、コロイドシリカより大きな寸法の不活性粒子、例
えばJ.Colloid and Interface
Sci.,Vol.26,1968,pages 6
2 to 69に記載されている通りStOEberに
従って調製されるシリカあるいはアルミナ粒子あるいは
二酸化チタン又は他の重金属酸化物の粒子である少なく
とも100nmの平均直径を有する粒子を加えることが
できる。これらの粒子の導入により、架橋された親水性
層の表面に顕微鏡的丘と谷から成る均一な粗いきめが与
えられ、それは背景領域における水のための保存場所と
して働く。The lithographic base-based crosslinked hydrophilic layer used according to this embodiment preferably also contains substances which improve the mechanical strength and porosity of the layer. Colloidal silica can be used for this purpose. The colloidal silica used is, for example, up to 40 nm, for example 20 n
It can be in the form of any commercially available water-dispersion of colloidal silica having an average particle size of m. In addition, inert particles of larger dimensions than colloidal silica, for example, Colloid and Interface
Sci. , Vol. 26, 1968, pages 6
Particles having an average diameter of at least 100 nm can be added which are silica or alumina particles or particles of titanium dioxide or other heavy metal oxides prepared according to StOEber as described in 2 to 69. The introduction of these particles gives the surface of the cross-linked hydrophilic layer a uniform rough texture consisting of microscopic hills and valleys, which serves as a storage for water in the background areas.
【0066】本実施態様に従う平版印刷ベースの架橋さ
れた親水性層の厚さは0.2〜25μmの範囲内で変化
することができ、好ましくは1〜10μmである。The thickness of the crosslinked hydrophilic layer of the lithographic printing base according to this embodiment can vary within the range of 0.2 to 25 μm, preferably 1 to 10 μm.
【0067】本発明に従って用いるために適した架橋さ
れた親水性層の特定の例は、EP−A−601 24
0、GB−P−1 419 512、FR−P−2 3
00354、US−P−3 971 660、US−P
−4 284 705及びEP−A 514 490に
開示されている。A specific example of a cross-linked hydrophilic layer suitable for use in accordance with the present invention is described in EP-A-601 24
0, GB-P-1 419 512, FR-P-23
00354, US-P-3 971 660, US-P
-4 284 705 and EP-A 514 490.
【0068】本実施態様と関連する平版印刷ベースの柔
軟性支持体として、プラスチックフィルム、例えば基質
化ポリエチレンテレフタレートフィルム、基質化ポリエ
チレンナフタレートフィルム、酢酸セルロースフィル
ム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム
などを用いるのが特に好ましい。プラスチックフィルム
支持体は不透明又は透明であることができる。As the lithographic printing base flexible support relating to this embodiment, a plastic film such as a substrate-based polyethylene terephthalate film, a substrate-based polyethylene naphthalate film, a cellulose acetate film, a polystyrene film, a polycarbonate film and the like can be used. Particularly preferred. The plastic film support can be opaque or transparent.
【0069】接着促進層が設けられたポリエステルフィ
ルム支持体を用いるのが特に好ましい。本発明に従って
用いるのに特に適した接着促進層は、EP−A−619
524、EP−A−620 502及びEP−A−6
19 525に開示されているような親水性結合剤及び
コロイドシリカを含む。好ましくは接着促進層中のシリ
カの量は200mg/m2〜750mg/m2である。さ
らに、シリカ対親水性結合剤の比率は好ましくは1より
高く、コロイドシリカの表面積は好ましくは少なくとも
300m2/g、より好ましくは少なくとも500m2/
gである。It is particularly preferable to use a polyester film support provided with an adhesion promoting layer. Particularly suitable adhesion promoting layers for use in accordance with the present invention are EP-A-619.
524, EP-A-620 502 and EP-A-6
A hydrophilic binder and colloidal silica as disclosed in US Pat. Preferably the amount of silica in the adhesion improving layer is between 200mg / m 2 ~750mg / m 2 . Furthermore, the ratio of silica to hydrophilic binder is preferably more than 1 and the surface area of the colloidal silica is preferably at least 300 meters 2 / g, more preferably at least 500 meters 2 /
g.
【0070】第2の実施態様の場合、第1層と第2層は
同一である。該実施態様では、親水性表面を有する平版
印刷ベース上に最上層を有する平版印刷版の作製のため
のヒートモード画像形成要素を提供し、その最上層はI
R−線に感受性であり、水性アルカリ性溶液中に可溶性
のポリマーを含み、ケイ酸塩としてのSiO2を含有す
るアルカリ性現像液に関して非浸透性であるか又はその
中に不溶性である。In the case of the second embodiment, the first and second layers are identical. In this embodiment, there is provided a heat mode imaging element for making a lithographic printing plate having a top layer on a lithographic printing base having a hydrophilic surface, wherein the top layer comprises I
Sensitive to R- line comprises a polymer soluble in an aqueous alkaline solution, an impermeable insoluble or therein which respect alkaline developer containing SiO 2 as silicate.
【0071】本発明に従うIR−感受性層はIR−色素
もしくは顔料及び水性アルカリ性溶液に可溶性のポリマ
ーを含む。IR−色素もしくは顔料の混合物を用いるこ
とができるが、1種類のみのIR−色素もしくは顔料を
用いるのが好ましい。適したIR−色素及び顔料は、本
発明の第1の実施態様において上記で挙げたものであ
る。The IR-sensitive layer according to the invention comprises an IR-dye or pigment and a polymer which is soluble in an aqueous alkaline solution. Mixtures of IR-dyes or pigments can be used, but it is preferred to use only one type of IR-dye or pigment. Suitable IR-dyes and pigments are those listed above in the first embodiment of the present invention.
【0072】IR−色素は、該IR−感受性最上層の合
計量の好ましくは1〜60重量部、より好ましくは3〜
50重量部の量で存在する。The IR-dye is preferably present in an amount of 1 to 60 parts by weight, more preferably 3 to 60 parts by weight of the total amount of the IR-sensitive top layer.
It is present in an amount of 50 parts by weight.
【0073】この層において用いられるアルカリ可溶性
ポリマーは、好ましくは、通常のポジティブ又はネガテ
ィブ作用性PS−版で用いられるような疎水性且つイン
キ受容性ポリマー、例えばカルボキシ置換ポリマーなど
である。より好ましいのはヒドロキシスチレン単位含有
ポリマー又はノボラックポリマーなどのフェノール性樹
脂である。最も好ましいのはノボラックポリマーであ
る。これらのポリマーの典型的例はDE−A−4 00
7 428、DE−A−4 027 301及びDE−
A−4 445 820に記載されている。本発明と関
連して用いられる疎水性ポリマーはさらに、水中におけ
る不溶性及びアルカリ性溶液中における少なくとも部分
的な可溶性/膨潤性及び/又は補助溶媒と組み合わされ
た場合の水中における少なくとも部分的な可溶性を特徴
としている。The alkali-soluble polymers used in this layer are preferably hydrophobic and ink-receptive polymers such as those used in conventional positive- or negative-working PS-plates, such as carboxy-substituted polymers. More preferred are phenolic resins such as hydroxystyrene unit containing polymers or novolak polymers. Most preferred are novolak polymers. A typical example of these polymers is DE-A-400
7 428, DE-A-4 027 301 and DE-
A-4445820. The hydrophobic polymers used in connection with the present invention are further characterized by insolubility in water and at least partial solubility / swelling in alkaline solutions and / or at least partial solubility in water when combined with cosolvents. And
【0074】さらに、このIR−感受性層は好ましくは
可視光−及びUV−光減感層である。さらに該層は好ま
しくは熱的に硬化可能である。この好適に可視光−及び
UV−光減感されている層は、250nm〜650nm
の波長領域内で吸収する感光性成分、例えばジアゾ化合
物、フォトアシッド、光開始剤、キノンジアジド、増感
剤などを含まない。この方法で昼光に安定な印刷版を得
ることができる。Furthermore, the IR-sensitive layer is preferably a visible- and UV-light desensitizing layer. Furthermore, the layer is preferably thermally curable. This preferably visible- and UV-light desensitized layer is between 250 nm and 650 nm.
Excluding light-sensitive components that absorb in the wavelength range of, for example, diazo compounds, photoacids, photoinitiators, quinonediazides, and sensitizers. In this way, a printing plate stable in daylight can be obtained.
【0075】該IR−感受性層は好ましくは低分子量の
酸、より好ましくはカルボン酸、さらにもっと好ましく
は安息香酸、最も好ましくは3,4,5−トリメトキシ
安息香酸あるいはベンゾフェノン、さらに好ましくはト
リヒドロキシベンゾフェノンも含む。The IR-sensitive layer is preferably a low molecular weight acid, more preferably a carboxylic acid, even more preferably benzoic acid, most preferably 3,4,5-trimethoxybenzoic acid or benzophenone, more preferably trihydroxybenzophenone. Including.
【0076】IR−感受性層における低分子量の酸又は
ベンゾフェノンの合計量対ポリマーの比率は、好ましく
は2:98〜40:60、より好ましくは5:95〜3
0:70の範囲である。該IR−感受性層の合計量は好
ましくは0.1〜10g/m 2、より好ましくは0.3
〜2g/m2の範囲である。Low molecular weight acids or in the IR-sensitive layer
The ratio of the total amount of benzophenone to the polymer is preferably
Is 2:98 to 40:60, more preferably 5:95 to 3
The range is 0:70. The total amount of the IR-sensitive layer is good.
Preferably 0.1 to 10 g / m Two, More preferably 0.3
~ 2g / mTwoRange.
【0077】画像通りに露出されると、IR−感受性層
において、アルカリ性現像液により浸透及び/又は可溶
化される容量における差が本発明のアルカリ性現像液に
関して生まれる。Upon image-wise exposure, differences in the volume permeated and / or solubilized by the alkaline developer in the IR-sensitive layer are created for the alkaline developer of the present invention.
【0078】平版印刷版の作製のためには、ヒートモー
ド画像形成要素を画像通りに露出し、現像する。To prepare a lithographic printing plate, the heat mode imaging element is imagewise exposed and developed.
【0079】本発明と関連する画像通りの露出は、赤外
又は近−赤外、すなわち700〜1500nmの波長領
域で働くレーザーの使用を含む画像通りの走査露出であ
る。最も好ましいのは近−赤外で発光するレーザーダイ
オードである。画像形成要素の露出は短い画素滞留時間
を有するレーザーならびに長い画素滞留時間を有するレ
ーザーを用いて行うことができる。好ましいのは0.0
05μ秒〜20μ秒の画素滞留時間を有するレーザーで
ある。The image-wise exposure in connection with the present invention is an image-wise scanning exposure involving the use of a laser operating in the infrared or near-infrared, ie, 700-1500 nm wavelength region. Most preferred are laser diodes that emit in the near-infrared. Exposure of the imaging element can be performed using a laser having a short pixel dwell time as well as a laser having a long pixel dwell time. Preferred is 0.0
A laser with a pixel dwell time of between 05 μs and 20 μs.
【0080】画像通りの露出の後、ヒートモード画像形
成要素は水性アルカリ性溶液でそれを濯ぐことにより現
像される。本発明で用いられる水性アルカリ性溶液は、
通常のポジティブ作用性予備増感印刷版の現像に用いら
れるものであり、好ましくはケイ酸塩としてのSiO2
を含有し、好ましくは11.5〜14のpHを有する。
かくして露出されて水性アルカリ性溶液に関してより浸
透性とされた最上層の画像形成された部分は清浄化さ
れ、それによりポジティブ作用性印刷版が得られる。After image-wise exposure, the heat mode imaging element is developed by rinsing it with an aqueous alkaline solution. The aqueous alkaline solution used in the present invention,
It is used for the development of conventional positive-acting presensitized printing plates, preferably SiO 2 as a silicate.
And preferably has a pH of 11.5-14.
The imaged portion of the top layer thus exposed and made more permeable to the aqueous alkaline solution is cleaned, thereby obtaining a positive working printing plate.
【0081】本発明の場合、用いられる現像液の組成も
非常に重要である。In the case of the present invention, the composition of the developer used is also very important.
【0082】従って、長時間安定して現像処理を行うた
めに特に重要なことは、現像液中のアルカリの濃度及び
ケイ酸塩の濃度などの質である。そのような状況下で本
発明者等は、前記の組成を有する現像液を用いた場合の
みに迅速高温処理を行うことができ、補足されるべき補
充液の量が少なく、現像液を交換せずに3カ月以上もの
長期間に及んで安定した現像処理を行うことができるこ
とを見いだした。Therefore, what is particularly important for stable development for a long time is the quality such as the concentration of alkali and the concentration of silicate in the developer. Under such circumstances, the present inventors can carry out rapid high-temperature processing only when a developer having the above composition is used, the amount of replenisher to be supplemented is small, and the developer must be replaced. It has been found that stable development can be carried out over a long period of three months or more without any problem.
【0083】好ましくは本発明で用いられる現像液及び
現像液のための補充液は、主にアルカリ金属ケイ酸塩及
びMOHにより示されるアルカリ金属水酸化物又はM2
Oにより示されるその酸化物を含む水溶液であり、ここ
で該現像液は0.5〜5重量%の濃度のSiO2を含
む。そのようなアルカリ金属ケイ酸塩として好適に用い
られるのは例えばケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、
ケイ酸リチウム及びメタケイ酸ナトリウムである。他
方、そのようなアルカリ金属水酸化物として好ましいの
は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウ
ムである。Preferably, the developing solution and the replenisher for the developing solution used in the present invention are mainly alkali metal silicate and alkali metal hydroxide represented by MOH or M 2.
O by an aqueous solution containing the oxide represented, wherein said developer comprises SiO 2 concentration of 0.5 to 5 wt%. Suitable as such alkali metal silicates are, for example, sodium silicate, potassium silicate,
Lithium silicate and sodium metasilicate. On the other hand, preferred as such alkali metal hydroxides are sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide.
【0084】本発明で用いられる現像液は同時に他のア
ルカリ性試薬を含有することができる。そのような他の
アルカリ性試薬の例には水酸化アンモニウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸カリ
ウム、第二リン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、
第二リン酸アンモニウム、重炭酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム及び炭酸アンモニウムなどの無機
アルカリ性試薬;ならびにモノ−、ジ−もしくはトリエ
タノールアミン、モノ−、ジ−もしくはトリメチルアミ
ン、モノ−、ジ−もしくはトリエチルアミン、モノ−も
しくはジ−イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モ
ノ−、ジ−もしくはトリイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジイミン及びテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ性試薬が含まれ
る。The developer used in the present invention can simultaneously contain another alkaline reagent. Examples of such other alkaline reagents are ammonium hydroxide, sodium triphosphate, sodium diphosphate, potassium triphosphate, potassium diphosphate, ammonium triphosphate,
Inorganic alkaline reagents such as ammonium diphosphate, sodium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate and ammonium carbonate; and mono-, di- or triethanolamine, mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or triethylamine And organic alkaline reagents such as mono- or di-isopropylamine, n-butylamine, mono-, di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine and tetramethylammonium hydroxide.
【0085】本発明の場合、現像液中の[SiO2]/
[M2O]のモル比が特に重要であり、それは一般に
0.6〜1.5、好ましくは0.7〜1.3である。こ
れはもしモル比が0.6より低いと活性の大きなばらつ
きが観察され、一方もしそれが1.5を越えると迅速現
像を行うのが困難になり、非画像領域上の感光層の溶出
又は除去が不完全でありがちなためである。さらに現像
液及び補充液中のSiO2の濃度は好ましくは1〜4重
量%の範囲である。SiO2の濃度のそのような制限
は、大量の本発明の版を長期間処理した場合でも優れた
仕上げの質を有する平版印刷版を安定して与えることを
可能にする。In the case of the present invention, [SiO 2 ] /
The molar ratio of [M 2 O] is particularly important, it is generally 0.6 to 1.5, preferably from 0.7 to 1.3. This means that if the molar ratio is lower than 0.6, a large variation in activity is observed, whereas if it exceeds 1.5, rapid development becomes difficult, and the elution of the photosensitive layer on non-image areas or This is because the removal tends to be incomplete. Further concentration of SiO 2 in the developer and replenisher preferably ranges from 1 to 4 wt%. Such limitation of the concentration of SiO 2 makes it possible to provide large amounts of stable lithographic printing plates having good finishing qualities even when treated prolonged present invention.
【0086】特に好ましい実施態様の場合、1.0〜
1.5の範囲のモル比[SiO2]/[M2O]及び1〜
4重量%のSiO2の濃度を有するアルカリ金属ケイ酸
塩の水溶液が現像液として用いられる。そのような場
合、現像液のアルカリ濃度と等しいか又はそれより高い
アルカリ濃度を有する補充液が用いられるのはもちろん
である。供給されるべき補充液の量を減少させるため
に、補充液のモル比[SiO 2]/[M2O]が現像液の
それと等しいか又はそれより小さいことあるいは現像液
のモル比が補充液のそれと等しい場合はSiO2の濃度
が高いことが有利である。In a particularly preferred embodiment, 1.0 to
A molar ratio [SiO 2 in the range of 1.5Two] / [MTwoO] and 1 to 1
4% by weight SiOTwoMetal silicic acid having a concentration of
An aqueous salt solution is used as a developer. Such a place
Is equal to or higher than the alkali concentration of the developer
Of course, replenishers with alkaline concentrations are used
It is. To reduce the amount of replenisher to be supplied
In addition, the molar ratio of the replenisher [SiO Two] / [MTwoO] of the developer
Less than or equal to or developer
If the molar ratio ofTwoConcentration of
Is advantageously high.
【0087】本発明で用いられる現像液及び補充液にお
いて同時に、20℃における水中の溶解度が10重量%
以下の有機溶剤を必要に従って用いることができる。そ
のような有機溶剤の例は酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコ
ールモノブチルアセテート、乳酸ブチル及びレブリン酸
ブチルなどのカルボン酸エステル類;エチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンなど
のケトン類;エチレングリコールモノブチルエーテル、
エチレングリコールベンジルエーテル、エチレングリコ
ールモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチ
ルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール及びメ
チルアミルアルコールなどのアルコール類;キレシンな
どのアルキル−置換芳香族炭化水素;ならびにメチレン
ジクロリド及びモノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素である。これらの有機溶剤は単独で又は組み合わ
せて用いることができる。本発明において特に好ましい
のはベンジルアルコールである。これらの有機溶剤は一
般に5重量%以下、好ましくは4重量%以下の量で現像
液又はそのための補充液に加えられる。In the developer and replenisher used in the present invention, the solubility in water at 20 ° C. was 10% by weight at the same time.
The following organic solvents can be used as needed. Examples of such organic solvents are carboxylic esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, ethylene glycol monobutyl acetate, butyl lactate and butyl levulinate; ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone and Ketones such as cyclohexanone; ethylene glycol monobutyl ether;
Alcohols such as ethylene glycol benzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, benzyl alcohol, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol and methyl amyl alcohol; alkyl-substituted aromatic hydrocarbons such as chilesine; and methylene dichloride and monochlorobenzene Is a halogenated hydrocarbon. These organic solvents can be used alone or in combination. Particularly preferred in the present invention is benzyl alcohol. These organic solvents are generally added to the developer or replenisher therefor in amounts of up to 5% by weight, preferably up to 4% by weight.
【0088】本発明で用いられる現像液及び補充液は同
時に、それらの現像性を向上させる目的で界面活性剤を
含有することができる。そのような界面活性剤の例には
高級アルコール(C8〜C22)硫酸エステルの塩、例
えばラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩、
オクチルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩、ラウ
リルアルコール硫酸エステルのアンモニウム塩、Tee
pol B−81(商標、Shell Chemica
ls Co.,Ltdから入手可能)及びアルキル硫酸
エステル二ナトリウム;脂肪族アルコールリン酸エステ
ルの塩、例えばセチルアルコールリン酸エステルのナト
リウム塩;アルキルアリールスルホン酸塩、例えばドデ
シルベンゼンスルホネートのナトリウム塩、イソプロピ
ルナフタレンスルホネートのナトリウム塩、ジナフタレ
ンジスルホネートのナトリウム塩及びメタニトロベンゼ
ンスルホネートのナトリウム塩;アルキルアミドのスル
ホン酸塩、例えばC17H33CON(CH3)CH2CH2
SO3Naならびに2塩基性脂肪族酸エステルのスルホ
ン酸塩、例えばジオクチルスルホコハク酸ナトリウム及
びジヘキシルスルホコハク酸ナトリウムが含まれる。こ
れらの界面活性剤は単独で又は組み合わせて用いること
ができる。特に好ましいのはスルホン酸塩である。これ
らの界面活性剤は一般に5重量%以下、好ましくは3重
量%以下の量で用いることができる。The developer and replenisher used in the present invention can simultaneously contain a surfactant for the purpose of improving their developability. Examples of such surfactants include salts of higher alcohol (C8-C22) sulfates, such as sodium salt of lauryl alcohol sulfate,
Octyl alcohol sulfate sodium salt, lauryl alcohol sulfate ammonium salt, Tee
pol B-81 (trademark, Shell Chemica)
ls Co. And disodium alkyl sulfates; salts of aliphatic alcohol phosphates, such as sodium salt of cetyl alcohol phosphate; alkyl aryl sulfonates, such as sodium salt of dodecylbenzene sulfonate, isopropyl naphthalene sulfonate. Sodium salt, sodium salt of dinaphthalenedisulfonate and sodium salt of metanitrobenzenesulfonate; sulfonate of alkylamide, for example, C 17 H 33 CON (CH 3 ) CH 2 CH 2
Includes SO 3 Na and sulfonates of dibasic aliphatic acid esters, such as sodium dioctyl sulfosuccinate and sodium dihexyl sulfosuccinate. These surfactants can be used alone or in combination. Particularly preferred are sulfonates. These surfactants can generally be used in amounts of up to 5% by weight, preferably up to 3% by weight.
【0089】本発明で用いられる現像液及び補充液の現
像安定性を強化するために、以下の化合物を同時に用い
ることができる。In order to enhance the development stability of the developer and replenisher used in the present invention, the following compounds can be used simultaneously.
【0090】そのような化合物の例は中性塩、例えば、
JN−A−58−75 152に開示されているような
NaCl、KCl及びKBr;キレート化剤、例えば、
JN−A−58−190 952(U.S−A−4 4
69 776)に開示されているようなEDTA及びN
TA、JN−A−59−121 336(US−A−4
606 995)に開示されているような[Co(N
H3)6]C13などの錯体;JN−A−55−25 10
0に開示されているもののような周期表のIIa、II
Ia又はIIIb族の元素のイオン化可能化合物;アニ
オン性又は両性界面活性剤、例えばJN−A−50−5
1 324に開示されているようなアルキルナフタレン
スルホン酸ナトリウム及びN−テトラデシル−N,N−
ジヒドロキシチルベタイン;US−A−4 374 9
20に開示されているようなテトラメチルデシンジオー
ル;JN−A−60−213 943に開示されている
ような非−イオン性界面活性剤;カチオン性ポリマー、
例えば、JN−A−55−95 946に開示されてい
るようなp−ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチ
ルクロリド第4級生成物(methyl chlori
de quaternary products);両
性高分子電解質、例えば、JN−A−56−142 5
28に開示されているようなビニルベンジルトリメチル
アンモニウムクロリドとアクリル酸ナトリウムのコポリ
マー;還元性無機塩、例えば、JN−A−57−192
952(US−A−4 467 027)に開示され
ているような亜硫酸ナトリウム及びアルカリ−可溶性メ
ルカプト化合物又はチオエーテル化合物、例えば、チオ
サリチル酸、システイン及びチオグリコール酸;無機リ
チウム化合物、例えば、JN−A−58−59 444
に開示されているような塩化リチウム;有機リチウム化
合物、例えば、JN−A−50 34 442に開示さ
れているような安息香酸リチウム;JN−A−59−7
5 255に開示されているようなSi、Tiなどを含
有する有機金属界面活性剤;JN−A−59−84 2
41(US−A−4 500 625)に開示されてい
るような有機ホウ素化合物;第4級アンモニウム塩、例
えば、EP−A−101 010に開示されているよう
なテトラアルキルアンモニウムオキシド;ならびに殺バ
クテリア剤、例えばJN−A−63−226 657に
開示されているようなデヒドロ酢酸ナトリウムである。Examples of such compounds are neutral salts, for example
NaCl, KCl and KBr as disclosed in JN-A-58-75 152; chelating agents such as
JN-A-58-190 952 (U.S.A.-44
EDTA and N as disclosed in US Pat.
TA, JN-A-59-121 336 (US-A-4
606 995) [Co (N
Complexes such as H 3) 6] C 13; JN-A-55-25 10
IIa, II of the periodic table such as those disclosed in US Pat.
Ionizable compounds of group Ia or IIIb elements; anionic or amphoteric surfactants, for example JN-A-50-5
Sodium alkylnaphthalenesulfonate and N-tetradecyl-N, N- as disclosed in US Pat.
Dihydroxytyl betaine; US-A-4 374 9
Tetramethyldecine diol as disclosed in No. 20, non-ionic surfactants as disclosed in JN-A-60-213 943; cationic polymers;
For example, the methyl chloride quaternary product of p-dimethylaminomethyl polystyrene as disclosed in JN-A-55-95 946
de quaternary products); amphoteric polyelectrolytes, for example, JN-A-56-145
Copolymers of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate as disclosed in US Pat. No. 28; Reducing inorganic salts such as JN-A-57-192
Sodium sulfite and alkali-soluble mercapto compounds or thioether compounds such as those disclosed in US-A-4 467 027, for example thiosalicylic acid, cysteine and thioglycolic acid; inorganic lithium compounds such as JN-A- 58-59 444
Lithium chloride as disclosed in JN-A-5034 442; lithium benzoate as disclosed in JN-A-5034442; JN-A-59-7.
No. 5,255, containing organometallic surfactants containing Si, Ti, and the like; JN-A-59-842
Organoboron compounds as disclosed in US Pat. No. 41 (US-A-4500 625); quaternary ammonium salts, for example tetraalkylammonium oxides as disclosed in EP-A-101 010; Agents such as sodium dehydroacetate as disclosed in JN-A-63-226 657.
【0091】本発明の現像処理のための方法において、
現像液のための補充液を補充するいずれの既知の手段も
用いることができる。好適に用いられるそのような方法
の例は、JN−A−55−115 039(GB−A−
2 046 931)に開示されているように処理され
たPS版の量と時間の関数として断続的又は継続的に補
充液を補充するための方法、JN−A−58−95 3
49(US−A−4537 496)に開示されている
ように溶出された感光層の程度を検出するためのセンサ
ーを現像領域の中央部分に配置し、検出される溶出され
た感光層の程度に比例して補充液を補充することを含む
方法;GB−A−2 208 249に開示されている
ように現像液のインピーダンス値を決定し、検出される
インピーダンス値をコンピューターにより処理して補充
液の補充を行うことを含む方法である。In the method for development processing of the present invention,
Any known means of replenishing the replenisher for the developer can be used. An example of such a method preferably used is JN-A-55-115039 (GB-A-
JN-A-58-953, a method for intermittent or continuous replenishment as a function of the amount and time of PS plates processed as disclosed in US Pat. No. 2,046,931).
A sensor for detecting the extent of the eluted photosensitive layer as described in US Pat. No. 49 (U.S. Pat. No. 4,537,496) is located in the central part of the development zone and is sensitive to the extent of the eluted photosensitive layer to be detected. A method comprising proportionally replenishing the replenisher; determining the impedance value of the developer solution as disclosed in GB-A-2 208 249, processing the detected impedance value by a computer and processing the replenisher solution It is a method that includes performing replenishment.
【0092】本発明の印刷版は印刷法においてシームレ
ススリーブ印刷版として用いることもできる。この選択
肢の場合、印刷版はレーザーを用いて円筒形にはんだ付
けされる。古典的に作製された印刷版を古典的な方法で
適用する代わりに、直径として印刷シリンダーの直径を
有するこの円筒状印刷版を印刷シリンダー上で滑らせ
る。スリーブに関するさらなる詳細は“Grafisc
h Nieuws” ed.Keesing,15,1
995,page 4 to 6に示されている。The printing plate of the present invention can be used as a seamless sleeve printing plate in a printing method. With this option, the printing plate is soldered in a cylindrical shape using a laser. Instead of applying a classically produced printing plate in the classical way, this cylindrical printing plate having the diameter of the printing cylinder as the diameter is slid over the printing cylinder. For more details on sleeves, see "Grafisc
h Nieuws ”ed. Keesing, 15, 1
995, page 4 to 6.
【0093】画像通りに露出された画像形成要素を水性
アルカリ性溶液を用いて現像し、乾燥した後、得られる
版をそのまま印刷版として用いることができる。しかし
耐久性を向上させるために該版を200℃〜300℃の
温度で30秒〜5分間、焼くこともできる。画像形成要
素をUV−線への全体的後−露出に供し、画像を硬膜さ
せて印刷版のランレングスを増加させることもできる。After the image-forming element exposed image-wise is developed using an aqueous alkaline solution and dried, the resulting plate can be used as it is as a printing plate. However, to improve the durability, the plate can be baked at a temperature of 200 ° C. to 300 ° C. for 30 seconds to 5 minutes. The imaging element can also be subjected to an overall post-exposure to UV-radiation to harden the image and increase the run length of the printing plate.
【0094】以下の実施例は本発明をそこに制限するこ
となくそれを例示するものである。すべての部及びパー
センテージは、他に特定されなければ重量による。The following examples illustrate the present invention without limiting it thereto. All parts and percentages are by weight unless otherwise specified.
【0095】[0095]
【実施例】実施例1(比較実施例) 平版印刷ベースの製造 厚さが0.30mmのアルミニウム箔を、50℃におい
て5g/lの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に箔を
沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで3
5℃の温度及び1200A/m2の電流密度において交
流を用い、4g/lの塩酸、4g/lの硼酸及び5g/
lのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で箔を電気
化学的に粗面化し、0.5mmの平均中心線粗さRaを
有する表面トポロジーを形成した。EXAMPLES Example 1 (Comparative Example) Production of a Lithographic Printing Base An aluminum foil having a thickness of 0.30 mm was immersed in an aqueous solution containing 5 g / l of sodium hydroxide at 50 ° C., and deionized water was added. Degreased by rinsing. Then 3
Using alternating current at a temperature of 5 ° C. and a current density of 1200 A / m 2 , 4 g / l hydrochloric acid, 4 g / l boric acid and 5 g / l
The foil was electrochemically roughened in an aqueous solution containing 1 aluminum ion to form a surface topology with an average centerline roughness Ra of 0.5 mm.
【0096】脱イオン水で濯いだ後、次いで300g/
lの硫酸を含有する水溶液を用い、60℃において18
0秒間、アルミニウム箔をエッチングし、25℃におい
て30秒間、脱イオン水で濯いだ。After rinsing with deionized water, then 300 g /
at 60 ° C. using an aqueous solution containing 1
The aluminum foil was etched for 0 seconds and rinsed with deionized water at 25 ° C. for 30 seconds.
【0097】続いて箔を200g/lの硫酸を含有する
水溶液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150
A/m2の電流密度において約300秒間、陽極酸化に
供し、3.00g/m2のAl2O3の陽極酸化フィルム
を形成し、次いで脱イオン水で洗浄し、ポリビニルホス
ホン酸を含有する溶液及び次いで三塩化アルミニウムを
含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて2
0℃で120秒間濯ぎ、乾燥した。 ヒートモード画像形成要素1の製造 上記の平版印刷ベース上に最初に55/45の比率のテ
トラヒドロフラン/メトキシプロパノール中の8.6重
量%溶液からの層を14μmの湿潤コーティング厚さで
コーティングした。得られる層は88%のAlnovo
l SPN452及び12%の3,4,5−トリメトキ
シ安息香酸を含有した。The foil was then placed in an aqueous solution containing 200 g / l of sulfuric acid, at a temperature of 45 ° C., a voltage of
Anodize at a current density of A / m 2 for about 300 seconds to form an anodized film of 3.00 g / m 2 Al 2 O 3 , then wash with deionized water and contain polyvinylphosphonic acid The solution is then worked up with a solution containing aluminum trichloride and then with deionized water.
Rinse at 0 ° C. for 120 seconds and dry. Preparation of Heat Mode Imaging Element 1 A layer from a 8.6% by weight solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a 55/45 ratio was first coated on the above lithographic printing base with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layer is 88% Alnovo
Contains 1 SPN452 and 12% 3,4,5-trimethoxybenzoic acid.
【0098】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の0.73
5重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤コ
ーティング厚さでコーティングした。この層を少なくと
も120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、11.5mg/m2のニトロセルロー
ス、2.1mg/m2のSolsperse 500
0、11.3mg/m2のSolsperse 280
00、2.0mg/m2のTego Wet 265及
び5.0mg/m2のTego Glide 410を
含有した。On top of this layer was then added 0.73 in 50/50 methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer from a 5% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. Resulting IR- sensitive layer of carbon black 115 mg / m 2, nitrocellulose 11.5mg / m 2, Solsperse 500 of 2.1 mg / m 2
0, 11.3 mg / m 2 Solsperse 280
It contained Tego Wet 265 and 5.0 mg / m 2 of Tego Glide 410 in 00,2.0mg / m 2.
【0099】実施例2 実施例1で記載した平版印刷ベース上に最初に55/4
5の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノール
中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーテ
ィング厚さでコーティングした。得られる層は88%の
AlnovolSPN452及び12%の3,4,5−
トリメトキシ安息香酸を含有した。Example 2 A 55/4 sheet was first placed on the lithographic base described in Example 1.
A layer from a 8.6 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 5 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layers are 88% Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5-
Trimethoxybenzoic acid was included.
【0100】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.05
20重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤
コーティング厚さでコーティングした。この層を少なく
とも120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、63.0mg/m2のALMACRYL
XPE−1676、11.5mg/m2のニトロセル
ロース、2.1mg/m2のSolsperse500
0、11.3mg/m2のSolsperse 280
00、2.0mg/m2のTego Wet 265及
び5.0mg/m2のTego Glide 410を
含有した。ALMACRYL XPE−1676RはI
magePolymers Europeから商業的に
入手可能なウレタン修飾ポリエステルである。On top of this layer was then added 1.05 in a 50/50 ratio of methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer from a 20% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. Resulting IR- sensitive layer 115 mg / m 2 of carbon black, of 63.0mg / m 2 ALMACRYL
XPE-1676,11.5mg / m 2 nitrocellulose, Solsperse500 of 2.1 mg / m 2
0, 11.3 mg / m 2 Solsperse 280
It contained Tego Wet 265 and 5.0 mg / m 2 of Tego Glide 410 in 00,2.0mg / m 2. ALMACRYL XPE-1676 R is I
urethane-modified polyester commercially available from MagePolymers Europe.
【0101】実施例3 実施例1で記載した平版印刷ベース上に最初に55/4
5の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノール
中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーテ
ィング厚さでコーティングした。得られる層は88%の
AlnovolSPN452及び12%の3,4,5−
トリメトキシ安息香酸を含有した。Example 3 First, 55/4 on the lithographic printing base described in Example 1.
A layer from a 8.6 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 5 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layers are 88% Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5-
Trimethoxybenzoic acid was included.
【0102】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.30
57重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤
コーティング厚さでコーティングした。この層を少なく
とも120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、114.1mg/m2のALMACRY
L XPE−1676、11.5mg/m2のニトロセ
ルロース、2.1mg/m2のSolsperse 5
000、11.3mg/m2のSolsperse 2
8000、2.0mg/m2のTego Wet 26
5及び5.0mg/m2のTego Glide 41
0を含有した。On top of this layer was then 1.30 in a 50/50 ratio of methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer from a 57% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. Resulting IR- sensitive layer 115 mg / m 2 of carbon black, of 114.1mg / m 2 ALMACRY
L XPE-1676,11.5mg / m 2 nitrocellulose, of 2.1mg / m 2 Solsperse 5
000, 11.3 mg / m 2 Solsperse 2
8000, 2.0 mg / m 2 Tego Wet 26
Tego Glide 41 at 5 and 5.0 mg / m 2
0.
【0103】実施例4 実施例1で記載した平版印刷ベース上に最初に55/4
5の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノール
中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーテ
ィング厚さでコーティングした。得られる層は88%の
AlnovolSPN452及び12%の3,4,5−
トリメトキシ安息香酸を含有した。Example 4 A 55/4 sheet was first placed on the lithographic printing base described in Example 1.
A layer from a 8.6 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 5 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layers are 88% Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5-
Trimethoxybenzoic acid was included.
【0104】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.05
2重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤コ
ーティング厚さでコーティングした。この層を少なくと
も120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、43.7mg/m2のALMACRYL
XPE−1676、11.5mg/m2のニトロセル
ロース、18.9mg/m2のCYMEL 303、
0.63mg/m2のp−トルエンスルホン酸、2.1
mg/m2のSolsperse 5000、11.3
mg/m2のSolsperse 28000、2.0
mg/m2のTego Wet 265及び5.0mg
/m2のTegoGlide 410を含有した。CY
MEL 303RはCYANAMIDから商業的に入手
可能なメチル化メラミン−ホルムアルデヒド架橋剤であ
る。On top of this layer was then added 1.05 in a 50/50 ratio of methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer from a 2% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m 2 carbon black, 43.7 mg / m 2 ALMACRYL
XPE-1676,11.5mg / m 2 nitrocellulose, 18.9 mg / m 2 of CYMEL 303,
0.63 mg / m 2 p-toluenesulfonic acid, 2.1
mg / m 2 Solsperse 5000, 11.3
mg / m 2 Solsperse 28000, 2.0
Tego Wet 265 and 5.0 mg in mg / m 2
/ M 2 of TegoGlide 410. CY
MEL 303 R is commercially available methylated melamine from CYANAMID - formaldehyde crosslinking agent.
【0105】実施例5 実施例1で記載した平版印刷ベース上に最初に55/4
5の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノール
中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーテ
ィング厚さでコーティングした。得られる層は88%の
AlnovolSPN452及び12%の3,4,5−
トリメトキシ安息香酸を含有した。Example 5 On the lithographic printing base described in Example 1, 55/4
A layer from a 8.6 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 5 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layers are 88% Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5-
Trimethoxybenzoic acid was included.
【0106】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の0.77
7重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤コ
ーティング厚さでコーティングした。この層を少なくと
も120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、20mg/m2のニトロセルロース、
2.1mg/m2のSolsperse 5000、1
1.3mg/m2のSolsperse 28000、
2.0mg/m2のTego Wet 265及び5.
0mg/m2のTegoGlide 410を含有し
た。On top of this layer was then added 0.77 in 50/50 methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer from a 7% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m 2 carbon black, 20 mg / m 2 nitrocellulose,
2.1 mg / m 2 Solsperse 5000, 1
1.3 mg / m 2 Solsperse 28000,
2.0 mg / m 2 Tego Wet 265 and 5.
It contained 0 mg / m 2 of TegoGlide 410.
【0107】実施例6 実施例1で記載した平版印刷ベース上に最初に55/4
5の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノール
中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーテ
ィング厚さでコーティングした。得られる層は88%の
AlnovolSPN452及び12%の3,4,5−
トリメトキシ安息香酸を含有した。Example 6 On a lithographic base described in Example 1, 55/4
A layer from a 8.6 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 5 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layers are 88% Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5-
Trimethoxybenzoic acid was included.
【0108】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の0.92
7重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤コ
ーティング厚さでコーティングした。この層を少なくと
も120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、50mg/m2のニトロセルロース、
2.1mg/m2のSolsperse 5000、1
1.3mg/m2のSolsperse 28000、
2.0mg/m2のTego Wet 265及び5.
0mg/m2のTegoGlide 410を含有し
た。On top of this layer was then added 0.92 in a 50/50 ratio of methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer from a 7% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m 2 carbon black, 50 mg / m 2 nitrocellulose,
2.1 mg / m 2 Solsperse 5000, 1
1.3 mg / m 2 Solsperse 28000,
2.0 mg / m 2 Tego Wet 265 and 5.
It contained 0 mg / m 2 of TegoGlide 410.
【0109】実施例7 実施例1で記載した平版印刷ベース上に最初に55/4
5の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノール
中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーテ
ィング厚さでコーティングした。得られる層は88%の
AlnovolSPN452及び12%の3,4,5−
トリメトキシ安息香酸を含有した。Example 7 On the lithographic printing base described in Example 1, 55/4
A layer from a 8.6 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 5 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layers are 88% Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5-
Trimethoxybenzoic acid was included.
【0110】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.17
7重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤コ
ーティング厚さでコーティングした。この層を少なくと
も120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、100mg/m2のニトロセルロース、
2.1mg/m2のSolsperse 5000、1
1.3mg/m2のSolsperse 28000、
2.0mg/m2のTego Wet 265及び5.
0mg/m2のTego Glide 410を含有し
た。On top of this layer is 1.17 in 50/50 methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer from a 7% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. The resulting IR-sensitive layer is 115 mg / m 2 carbon black, 100 mg / m 2 nitrocellulose,
2.1 mg / m 2 Solsperse 5000, 1
1.3 mg / m 2 Solsperse 28000,
2.0 mg / m 2 Tego Wet 265 and 5.
It contained 0 mg / m 2 of Tego Glide 410.
【0111】実施例8 実施例1で記載した平版印刷ベース上に最初に55/4
5の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノール
中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーテ
ィング厚さでコーティングした。得られる層は88%の
AlnovolSPN452及び12%の3,4,5−
トリメトキシ安息香酸を含有した。Example 8 First, a 55/4 on the lithographic base described in Example 1
A layer from a 8.6 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 5 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layers are 88% Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5-
Trimethoxybenzoic acid was included.
【0112】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.17
7重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤コ
ーティング厚さでコーティングした。この層を少なくと
も120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、11.5mg/m2のニトロセルロー
ス、2.1mg/m2のSolsperse 500
0、11.3mg/m2のSolsperse 280
00、100mg/m2のHELIOGEN BLAU
D7565、2.0mg/m2のTego Wet
265及び5.0mg/m2のTego Glide
410を含有した。C.I.Pigment Blue
16とも命名されているHELIOGEN BLAU
D7565はBASFから商業的に入手可能な銅及び
塩化物非含有フタロシアニン色素である。On top of this layer is 1.17 in methyl ethyl ketone / methoxypropanol in a 50/50 ratio.
An IR-sensitive layer from a 7% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. Resulting IR- sensitive layer of carbon black 115 mg / m 2, nitrocellulose 11.5mg / m 2, Solsperse 500 of 2.1 mg / m 2
0, 11.3 mg / m 2 Solsperse 280
00, 100 mg / m 2 HELIOGEN BLAU
D7565, 2.0 mg / m 2 Tego Wet
Tego Glide at 265 and 5.0 mg / m 2
410. C. I. Pigment Blue
HELIOGEN BLAU also named 16
D7565 is a copper and chloride free phthalocyanine dye commercially available from BASF.
【0113】実施例9 実施例1で記載した平版印刷ベース上に最初に55/4
5の比率のテトラヒドロフラン/メトキシプロパノール
中の8.6重量%溶液からの層を14μmの湿潤コーテ
ィング厚さでコーティングした。得られる層は88%の
AlnovolSPN452及び12%の3,4,5−
トリメトキシ安息香酸を含有した。Example 9 The lithographic base described in Example 1 was first 55/4
A layer from a 8.6 wt% solution in tetrahydrofuran / methoxypropanol in a ratio of 5 was coated with a wet coating thickness of 14 μm. The resulting layers are 88% Alnovol SPN452 and 12% 3,4,5-
Trimethoxybenzoic acid was included.
【0114】この層の上に次いで50/50の比率のメ
チルエチルケトン/メトキシプロパノール中の1.17
7重量%溶液からのIR−感受性層を20μmの湿潤コ
ーティング厚さでコーティングした。この層を少なくと
も120℃の温度において少なくとも40秒間乾燥し
た。得られるIR−感受性層は115mg/m2のカー
ボンブラック、11.5mg/m2のニトロセルロー
ス、2.1mg/m2のSolsperse 500
0、11.3mg/m2のSolsperse 280
00、100mg/m2のBASONYL BLAU
633、2.0mg/m2のTego Wet 265
及び5.0mg/m2のTego Glide 410
を含有した。C.I.Basic Blue 8とも命
名されているBASONYL BLAU 633はBA
SFから商業的に入手可能なトリアリールメタン色素で
ある。On top of this layer is 1.17 in 50/50 methyl ethyl ketone / methoxypropanol.
An IR-sensitive layer from a 7% by weight solution was coated with a wet coating thickness of 20 μm. This layer was dried at a temperature of at least 120 ° C. for at least 40 seconds. Resulting IR- sensitive layer of carbon black 115 mg / m 2, nitrocellulose 11.5mg / m 2, Solsperse 500 of 2.1 mg / m 2
0, 11.3 mg / m 2 Solsperse 280
00, 100 mg / m 2 BASONYL BLAU
633, 2.0 mg / m 2 Tego Wet 265
And 5.0 mg / m 2 Tego Glide 410
Was contained. C. I. BASONYL BLAU 633, also named Basic Blue 8, is a BA
A triarylmethane dye commercially available from SF.
【0115】ヒートモード画像形成要素の引っ掻き 比較実施例1及び実施例2〜9における上記の材料を
「Linimark」試験において引っ掻いた。この試
験では、十分に限定された荷重下に、96cm/分の速
度で針を移動させることによって引っ掻き傷を形成す
る。針は1.5mmの半径を有するロビン型(type
robin)のものである。以下の荷重下で15個の
引っ掻き傷を形成する:57−85−114−142−
170−113−169−225−282−338−4
00−600−800−1000及び1200mN。Heat Mode Imaging Element Scratch The above materials in Comparative Example 1 and Examples 2-9 were scratched in a "Linimark" test. In this test, a scratch is formed by moving the needle at a speed of 96 cm / min under a well-defined load. The needle has a 1.5 mm radius Robin type (type).
robin). Form 15 scratches under the following loads: 57-85-114-142-
170-113-169-225-282-338-4
00-600-800-1000 and 1200 mN.
【0116】15個の引っ掻き傷の形成の後、材料を露
出する。After the formation of 15 scratches, the material is exposed.
【0117】ヒートモード画像形成要素の露出 上記の材料のすべてをCreo 3244TM外部ドラム
プレートセッターを用い、263mJ/cm2及び24
00dpiにおいて画像形成した。Exposure of the Heat Mode Imaging Element All of the above materials were processed using a Creo 3244 ™ external drum plate setter at 263 mJ / cm 2 and 24
An image was formed at 00 dpi.
【0118】画像通りに露出された要素の現像 画像形成要素の露出の後、要素を水性アルカリ性現像液
中で現像した。これらの現像はTechnograph
NPX−32プロセッサにおいて1m/分の速度で2
5℃にて行い、濯ぎ部門ではOzasol EP262
A(Ozasol EP262AはAgfaから商業的
に入手可能)及び水を満たし、ゴム引き部門ではOza
sol RC795ゴムを満たした。得られる印刷版は
エッチング欠陥のない無損傷の画像を有する。Development of the Imagewise Exposed Element After exposure of the imaging element, the element was developed in an aqueous alkaline developer. These developments are based on Technograph
2 at a speed of 1 m / min on an NPX-32 processor
Perform at 5 ° C, and rinse in Ozasol EP262
A (Ozasol EP262A is commercially available from Agfa) and water;
sol RC795 rubber. The resulting printing plate has an undamaged image without etching defects.
【0119】引っ掻き傷抵抗性の評価 15個の引っ掻き傷を損傷の幅に関して調べ、表1に示
す対応する評価を与える。引っ掻き傷の深さが支持体ま
でである場合、これは層全体が除去されていることを意
味し、余分の値を加える。この現象は引っ掻き傷領域の
上における黒から白い金属色への変色により見ることが
できる。変色が局部的である場合、この値は3である。
引っ掻き傷全体が白い場合、5の値が加えられる。Evaluation of Scratch Resistance Fifteen scratches are examined for the width of the damage and give the corresponding rating shown in Table 1. If the depth of the scratch is down to the support, this means that the entire layer has been removed, adding an extra value. This phenomenon can be seen by the color change from black to white metallic over the scratched area. This value is 3 if the discoloration is local.
If the entire scratch is white, a value of 5 is added.
【0120】[0120]
【表1】 与えられる評価すべての合計が材料の引っ掻き傷抵抗性
を与える。値が低い程引っ掻き傷抵抗性が高い。[Table 1] The sum of all the ratings given gives the scratch resistance of the material. The lower the value, the higher the scratch resistance.
【0121】材料の平版印刷の質の評価 上記の材料の引っ掻き傷抵抗性の評価の後、版を通常の
インキ(K+E)及び湿し液(Rotamatic)を
用いてHeidelberg GTO46印刷機上で印
刷する。IR−露出された領域におけるスカム形成及び
非−画像形成領域における優れたインキ−吸収に関して
版を評価する。結果Evaluation of the lithographic quality of the material After the evaluation of the scratch resistance of the above-mentioned materials, the plates are printed on a Heidelberg GTO46 printing press using a conventional ink (K + E) and a dampening solution (Rotamatic). . The plate is evaluated for scum formation in the IR-exposed areas and excellent ink absorption in the non-imaging areas. result
【0122】[0122]
【表2】 プリントの質OKは:非−画像部分上の可視のスカム形
成がなく、インキ−吸収が優れていることを意味する。[Table 2] Print quality OK: means no visible scum formation on non-image areas and excellent ink-absorption.
【0123】実施例から、実施例2〜4及び6〜9(本
発明に従う実施例)が比較実施例1及び5より(ずっ
と)優れた引っ掻き傷抵抗性を与えることがわかる。本
発明の主たる特徴及び態様は以下の通りである。The examples show that Examples 2-4 and 6-9 (Examples according to the invention) give (much) better scratch resistance than Comparative Examples 1 and 5. The main features and aspects of the present invention are as follows.
【0124】1.親水性表面を有する平版印刷ベース上
に、水性アルカリ性溶液中に可溶性であるが水中に不溶
性のポリマー及びポリマーに対して5重量%未満の水性
アルカリ性溶液中に可溶性の親水性ポリマーを含む第1
層ならびにIR−感受性であり且つアルカリ性現像液に
関して非浸透性又はそこに不溶性の平版印刷ベースの第
1層と同じ側上の最上層を有し、該第1層及び該最上層
は1つの同じ層であることができる平版印刷版の作製の
ためのヒートモード画像形成要素であって;該最上層が
30mg〜500mg/m2の量のポリマー、トリアリ
ールメタン色素及びフタロシアニン色素から成る群より
選ばれる化合物を含有することを特徴とするヒートモー
ド画像形成要素。[0124] 1. On a lithographic printing base having a hydrophilic surface, a first polymer comprising a polymer soluble in an aqueous alkaline solution but insoluble in water and a hydrophilic polymer soluble in an aqueous alkaline solution of less than 5% by weight relative to the polymer.
And a top layer on the same side as the first layer of the lithographic base, which is impervious or insoluble with respect to the IR-sensitive and alkaline developer, wherein the first layer and the top layer are one and the same. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate, which can be a layer, wherein the top layer is selected from the group consisting of polymers, triarylmethane dyes and phthalocyanine dyes in an amount of 30 mg to 500 mg / m 2. A heat mode imaging element characterized in that it contains a compound to be heated.
【0125】2.IR−感受性層がカーボンブラックを
含有する上記1項に記載の平版印刷版の作製のためのヒ
ートモード画像形成要素。[0125] 2. 2. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 1, wherein the IR-sensitive layer contains carbon black.
【0126】3.IR−感受性層が少なくとも35℃の
ガラス転移温度を有し、高温で乾燥することによりフィ
ルムを形成することができるポリマーを含有する上記1
又は2項に記載の平版印刷版の作製のためのヒートモー
ド画像形成要素。3. The IR-sensitive layer described above, wherein the IR-sensitive layer has a glass transition temperature of at least 35 ° C and contains a polymer capable of forming a film by drying at an elevated temperature
Or a heat mode imaging element for preparing a lithographic printing plate according to item 2.
【0127】4.該ポリマーがポリウレタンである上記
3項に記載の平版印刷版の作製のためのヒートモード画
像形成要素。[0127] 4. 4. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 3 wherein the polymer is a polyurethane.
【0128】5.該ポリウレタンがメラミンを用いて硬
化されている上記4項に記載の平版印刷版の作製のため
のヒートモード画像形成要素。5. 5. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 4, wherein said polyurethane is cured with melamine.
【0129】6.該ポリマーがセルロース又はセルロー
ス誘導体である上記1〜3項のいずれかに記載の平版印
刷版の作製のためのヒートモード画像形成要素。6. 4. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to any one of the above items 1 to 3, wherein the polymer is cellulose or a cellulose derivative.
【0130】7.該最上層がフタロシアニン色素を含有
する上記1又は2項に記載の平版印刷版の作製のための
ヒートモード画像形成要素。7. 3. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 1 or 2, wherein the top layer contains a phthalocyanine dye.
【0131】8.該最上層がトリアリールメタン色素を
含有する上記1又は2項に記載の平版印刷版の作製のた
めのヒートモード画像形成要素。8. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to claim 1 or 2, wherein the top layer contains a triarylmethane dye.
【0132】9.水性アルカリ性溶液中に可溶性のポリ
マーがノボラックポリマー又はポリヒドロキシスチレン
単位を含有するポリマーである上記1〜8項のいずれか
に記載の平版印刷版の作製のためのヒートモード画像形
成要素。9. 9. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate according to any one of the above 1 to 8, wherein the polymer soluble in the aqueous alkaline solution is a novolak polymer or a polymer containing polyhydroxystyrene units.
【0133】10.a)上記1〜9項のいずれかに記載
のヒートモード画像形成要素をIR−線に画像通りに露
出し; b)該画像通りに露出されたヒートモード画像形成要素
を該アルカリ性現像液を用いて現像し、それにより同じ
であり得る第1層及び最上層の露出された領域を溶解
し、第1層の非露出領域を溶解せずに残す段階を含む平
版印刷版の作製方法。10. a) exposing the heat mode imaging element of any of the above items 1 to 9 imagewise to IR-rays; b) using the imagewise exposed heat mode imaging element with the alkaline developer. And dissolving the exposed areas of the first and top layers, which may be the same, and leaving the unexposed areas of the first layer undissolved.
フロントページの続き (72)発明者 マルク・バン・ダメ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 ジヨアン・ベルメールシユ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 グイド・ホキエ ベルギー・ビー2640モルトセル・セプテス トラート27・アグフア−ゲヴエルト・ナー ムローゼ・フエンノートシヤツプ内 (72)発明者 イエルク・ユング ドイツ・デー−65439フレルスハイム・ハ ウプトシユトラーセ9 (72)発明者 ヘルムート・ハベルハウアー ドイツ・デー−65232タウヌススタイン・ ルートビヒシユトラーセ1Continued on the front page (72) Inventor Marc van Dame Belgian Bee 2640 Maltcell Septes Trat 27 Agfa-Gevuert Na Mrose Fennoutjaps (72) Inventor Giyoan Belmercille Belgian Bee 2640 Maltcell Septes Trat 27 Agfa-Gevert Na Murose Fennoutjap (72) Inventor Guido Hokie Belgium 2640 Maltcell Septes Trat 27 Agfa-Gevert Na Mullose Fennjoutjap (72) ) Inventor Jörg Jung Deutsche D-65439 Frelsheim-Hauptschoutlase 9 (72) Inventor Helmut Huberhauser Deutsche D-65232 Taunusstein Ludwigsjüthlase 1
Claims (2)
に、水性アルカリ性溶液中に可溶性であるが水中に不溶
性のポリマー及びポリマーに対して5重量%未満の水性
アルカリ性溶液中に可溶性の親水性ポリマーを含む第1
層ならびにIR−感受性であり且つアルカリ性現像液に
関して非浸透性又はそこに不溶性の、平版印刷ベースの
第1層と同じ側上の最上層を有し、該第1層及び該最上
層は1つの同じ層であることができる平版印刷版の作製
のためのヒートモード画像形成要素であって;該最上層
が30mg〜500mg/m2の量のポリマー、トリア
リールメタン色素及びフタロシアニン色素から成る群よ
り選ばれる化合物を含有することを特徴とするヒートモ
ード画像形成要素。1. A lithographic printing base having a hydrophilic surface, comprising a polymer soluble in an aqueous alkaline solution but insoluble in water and a hydrophilic polymer soluble in an aqueous alkaline solution of less than 5% by weight with respect to the polymer. The first containing
And a top layer on the same side as the first layer of the lithographic base, which is IR-sensitive and impervious or insoluble therewith with respect to the alkaline developer, wherein the first layer and the top layer comprise one layer. A heat mode imaging element for making a lithographic printing plate, which can be the same layer, wherein the top layer is from the group consisting of a polymer, a triarylmethane dye and a phthalocyanine dye in an amount of 30 mg to 500 mg / m 2. A heat mode imaging element comprising the compound of choice.
形成要素をIR−線に画像通りに露出し; b)該画像通りに露出されたヒートモード画像形成要素
を該アルカリ性現像液を用いて現像し、それにより同じ
であり得る第1層及び最上層の露出された領域を溶解
し、第1層の非露出領域を溶解せずに残す段階を含む平
版印刷版の作製方法。2. A) exposing the heat mode imaging element of claim 1 image-wise to IR-rays; b) using the image-wise exposed heat mode imaging element with the alkaline developer. And dissolving the exposed areas of the first and top layers, which may be the same, and leaving the unexposed areas of the first layer undissolved.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP98200709 | 1998-03-06 | ||
EP98200709.8 | 1998-03-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000066379A true JP2000066379A (en) | 2000-03-03 |
Family
ID=8233446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5705599A Pending JP2000066379A (en) | 1998-03-06 | 1999-03-04 | Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000066379A (en) |
DE (1) | DE69901916T2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004503806A (en) * | 2000-06-13 | 2004-02-05 | コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド | Thermal digital lithographic printing plate |
JP5996081B1 (en) * | 2015-12-21 | 2016-09-21 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Resist composition for production of gravure printing roll, and method for producing gravure printing roll using the same |
-
1999
- 1999-02-02 DE DE1999601916 patent/DE69901916T2/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-03-04 JP JP5705599A patent/JP2000066379A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004503806A (en) * | 2000-06-13 | 2004-02-05 | コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド | Thermal digital lithographic printing plate |
JP5996081B1 (en) * | 2015-12-21 | 2016-09-21 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Resist composition for production of gravure printing roll, and method for producing gravure printing roll using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69901916D1 (en) | 2002-08-01 |
DE69901916T2 (en) | 2003-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0940266B1 (en) | A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates. | |
US6004728A (en) | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element | |
US6153353A (en) | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element | |
EP0950518B1 (en) | A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates | |
EP0908307B1 (en) | A method for making positive printing plates from a heat mode sensitive imaging element | |
EP0908305B1 (en) | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element | |
JP2000221669A (en) | Manufacture of positive working printing plate | |
JPH10250255A (en) | Thermal image forming element for manufacturing positive operable printing plate | |
JP2000221668A (en) | Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate | |
US6235451B1 (en) | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element | |
EP0881096B1 (en) | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith | |
EP0943451B1 (en) | A heat mode imaging element and a method for making positive working printing plates from said heat mode imaging element | |
US6342336B2 (en) | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates | |
US6251563B1 (en) | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element | |
US6192799B1 (en) | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates | |
JP2000131829A (en) | Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate | |
JP2000137321A (en) | Heat mode susceptible image forming element for production of positive printing plate | |
EP0950513B1 (en) | A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates | |
JP2000221670A (en) | Manufacture of positive working printing plate | |
EP0908304B1 (en) | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element | |
JPH11240270A (en) | Heat-sensitive, non-ablatable wasteless imaging element for providing lithographic printing plate having difference in coloring matter density between image and non-image regions | |
JP2000066379A (en) | Heat mode sensitive image forming element for manufacture of positive working printing plate | |
JP4109359B2 (en) | Method for making positive working printing plates from heat mode sensitive imaging elements | |
JP2000035662A (en) | Manufacture of positive active printing plate from heat mode sensitive image forming element | |
JP4208339B2 (en) | Heat mode sensitive imaging element for the production of positive working printing plates |