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JP2000061667A - Laser beam machining method for glass and glass formed parts - Google Patents

Laser beam machining method for glass and glass formed parts

Info

Publication number
JP2000061667A
JP2000061667A JP10247720A JP24772098A JP2000061667A JP 2000061667 A JP2000061667 A JP 2000061667A JP 10247720 A JP10247720 A JP 10247720A JP 24772098 A JP24772098 A JP 24772098A JP 2000061667 A JP2000061667 A JP 2000061667A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
laser
yag laser
processing method
pulse
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10247720A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Ikeno
順一 池野
Kazunari Umetsu
一成 梅津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP10247720A priority Critical patent/JP2000061667A/en
Publication of JP2000061667A publication Critical patent/JP2000061667A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To directly machine fine deep holes on glass without causing a crack with YAG laser beam. SOLUTION: Pulsed oscillation YAG laser beams are radiated to an object to be machined that is made of glass containing a component high in YAG laser beam absorptivity. The irradiation energy of YAG laser beam is set at a prescribed threshold or higher in accordance with the high YAG laser beam absorptivity component contained in the glass to be used. The focal position of the laser beam is set near the middle between the front and the rear faces of the object to be machined, more suitably in the part lower than such middle position, dispersing the irradiation energy uniformly in the thickness direction rather than concentrating in a specific position, and growing a through hole from both front and rear faces. Thus, simplification of the machining process and operation can be contrived as well as reduction in the machining time and cost.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
ガラスなどの透明材料に微細な穴、特に貫通穴を形成す
ることができるレーザ加工方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing method capable of forming fine holes, particularly through holes, in a transparent material such as glass by using laser light.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ガラスなどの透明材料に微細
な穴あけ加工を行うために、回転砥石、ドリル、超音波
などを用いた加工方法又は砥粒を噴射するマイクロブラ
スト法などの機械的加工方法や、溶液を用いるウェット
エッチングなどの化学的方法が一般に採用されている。
また最近は、電子ビームやイオンビーム、レーザ光を照
射するエネルギビーム加工が行われている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to make fine holes in a transparent material such as glass, a processing method using a rotary grindstone, a drill, ultrasonic waves, or a mechanical processing such as a microblast method for spraying abrasive grains. Methods and chemical methods such as wet etching using a solution are generally adopted.
Further, recently, energy beam processing for irradiating an electron beam, an ion beam or a laser beam has been performed.

【0003】レーザ加工では、一般に紫外光であるエキ
シマレーザやCO2 レーザなどの気体レーザが使用され
ている。更に、ジャイアントパルスと呼ばれる高ピーク
出力のレーザを用いると、可視光や近赤外光による加工
が可能であるとの研究報告がある。他方、比較的安価で
操作性が良く、取扱いも簡単なために幅広い用途に利用
されているYAGレーザは、一般にガラス材料に対する
吸収率が低いので加工できないとされている。
In laser processing, a gas laser such as an excimer laser or a CO 2 laser, which is generally ultraviolet light, is used. Furthermore, there is a research report that processing with visible light or near infrared light is possible by using a laser with a high peak output called a giant pulse. On the other hand, it is said that the YAG laser, which is relatively inexpensive, has good operability, and is easy to handle, is used for a wide range of purposes, and therefore cannot be processed because it generally has a low absorptance with respect to a glass material.

【0004】YAGレーザに関する池野順一らの論文
「溶液を用いた石英ガラスのYAGレーザ加工」(精密
工学会誌 55/2/1989、第93〜98頁)によれば、金属イオ
ン含有溶液を厚さ1.5mmの透明石英ガラス板の表面に
滴下し、又はその裏面に接触させてパルス発振YAGレ
ーザを照射すると、該溶液がレーザ光を吸収して高熱を
発生し、石英ガラスを溶融させて貫通穴を形成できるこ
とが報告されている。また同論文には、不純物を含む一
般ガラスの場合、その表面にマジックインキを塗布する
だけで、上述した溶液なしで同様に貫通穴をレーザ加工
可能なことが記載されている。
According to a paper by Junichi Ikeno et al. On YAG laser, “YAG laser processing of quartz glass using solution” (Precision Engineering Journal 55/2/1989, pp. 93-98), the solution containing metal ion is When it is dropped on the surface of a transparent quartz glass plate of 1.5 mm, or brought into contact with the back surface and irradiated with a pulsed YAG laser, the solution absorbs the laser light and generates high heat, which melts the quartz glass and penetrates it. It has been reported that holes can be formed. Further, in the same paper, in the case of general glass containing impurities, it is described that the through hole can be similarly laser-processed without applying the above-mentioned solution by simply applying a magic ink on the surface thereof.

【0005】ところが、池野らの別の報告(「結晶化ガ
ラスのYAGレーザ加工」、1997年度精密工学会秋季大
会学術講演会論文集、第232頁)によれば、結晶化ガラ
スの表面に焦点を合わせてレーザ光を照射した場合、ガ
ラス内部に溶融部が形成されるため、その出力が閾値を
超えた途端にクラックが発生してガラスが破壊される。
そこで、ガラス表面に顔料を塗布し、これにパルス発振
YAGレーザ光を照射して該表面に溶融部を形成し、外
部に飛散除去することにより、このクラック発生の問題
を解消して、厚さ4mmの結晶化ガラス板に貫通穴を形成
している。
However, according to another report by Ikeno et al. ("YAG laser processing of crystallized glass", 1997 Autumn Meeting of Precision Engineering Society, Annual Meeting, 232), the focus was on the surface of crystallized glass. When the laser light is irradiated together, the molten portion is formed inside the glass, and thus the crack is generated as soon as the output exceeds the threshold value, and the glass is broken.
Therefore, by applying a pigment to the glass surface and irradiating it with pulsed YAG laser light to form a fused portion on the surface and scattering and removing it to the outside, the problem of this cracking is eliminated, and the thickness is increased. Through holes are formed in a 4 mm crystallized glass plate.

【0006】この加工メカニズムについて、同じく池野
順一の論文「YAGレーザを用いたガラスの3次元穴あ
け加工」(レーザ学会研究会報告、No.RTM-98-4、社
団法人レーザ学会、1998年1月30日発行、第23〜27頁)
によれば、加工穴に加工変質層が観察されることから、
顔料がYAGレーザを吸収してガラスが溶融することに
より加工変質層が形成され、この加工変質層が次のレー
ザ光を吸収して加工が進行すると分析している。
Regarding this processing mechanism, Junichi Ikeno's paper "Three-dimensional drilling of glass using YAG laser" (Laser Society Research Group Report, No. RTM-98-4, Laser Society of Japan, January 1998) (Published 30th, pages 23-27)
According to the above, since the work-affected layer is observed in the work hole,
It is analyzed that the work-affected layer is formed when the pigment absorbs the YAG laser and the glass is melted, and the work-affected layer absorbs the next laser beam to proceed with the working.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の加工方法には次のような問題がある。先ず、マ
イクロブラスト法などの機械的加工方法では、加工穴の
微細化に限度があり、かつ加工穴の開口周辺にチッピン
グ即ち微小な欠けが生じ易いなど、品質上の問題を生じ
る虞がある。また、ウェットエッチングは、被加工物の
材質により使用可能なエッチング液が制限される場合が
あり、また微細な深穴を加工することが困難で、加工速
度が遅いなどの不都合がある。同様に、電子ビームやイ
オンビームなどの加工装置は一般に高額であり、かつ加
工速度が非常に遅い。
However, the above-mentioned conventional processing method has the following problems. First, in a mechanical processing method such as the microblast method, there is a limit to miniaturization of the processed hole, and chipping, that is, a minute chip is likely to occur around the opening of the processed hole, which may cause quality problems. In wet etching, the usable etching solution may be limited depending on the material of the work piece, and it is difficult to form a fine deep hole, resulting in a low processing speed. Similarly, a processing apparatus such as an electron beam or an ion beam is generally expensive and has a very low processing speed.

【0008】レーザ加工の場合、エキシマレーザは装置
が高額でランニングコストが高く、かつ装置のメンテナ
ンス性が悪いなどの問題がある。CO2 レーザは、熱的
加工を行ないかつ出力が大きいために、加工部周辺の広
範囲に亘って熱歪みによるクラックを発生させ易く品質
を損なう虞があり、また波長が長いために集光性が低
く、微細加工には不向きである。ジャイアントパルスレ
ーザも同様に装置が高額で、しかもピーク出力が高過ぎ
るために光学系にダメージを与える虞がある。
In the case of laser processing, the excimer laser has problems that the device is expensive, the running cost is high, and the maintainability of the device is poor. CO2 Since the laser performs thermal processing and has a large output, it is likely to cause cracks due to thermal strain over a wide range around the processed portion, which may impair the quality, and the wavelength is long, so the light-collecting property is low, Not suitable for fine processing. Similarly, the giant pulse laser is expensive and its peak output is too high, which may damage the optical system.

【0009】また、上記池野らの論文に記載されるYA
Gレーザ加工は、被加工物の表面に溶液を接触させた
り、顔料などを塗布する必要があるため、加工工程及び
作業が複雑かつ面倒で時間及び手間を要し、生産性の低
下、コストの上昇を招く虞がある。
The YA described in the above paper by Ikeno et al.
In G laser processing, since it is necessary to bring a solution into contact with the surface of a workpiece or to apply a pigment or the like, the processing steps and work are complicated and troublesome, and time and labor are required, resulting in reduced productivity and cost. There is a risk of rising.

【0010】そこで、本発明の目的は、上述した従来技
術の問題点を解消することにあり、比較的安価で取扱い
が簡単なYAGレーザを使用して、加工工程及び作業の
簡単化、加工時間の短縮及び加工コストの低減化を図る
ことができ、その表面に溶液や顔料などを塗布すること
なく、ガラスに微細で深い穴をクラックフリーで直接加
工できるレーザ加工方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, using a YAG laser which is relatively inexpensive and easy to handle, and simplifies the processing steps and work and the processing time. The present invention provides a laser processing method capable of directly processing fine and deep holes in glass without cracks without coating a solution or a pigment on the surface of the laser.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本願発明者は、ガラスに
パルス発振YAGレーザを照射した場合、その照射エネ
ルギがある閾値を超えると、前記溶液・顔料を使用しな
くても、ガラスに貫通穴を直接形成できることを見い出
した。
Means for Solving the Problems The present inventor has found that when a glass is irradiated with a pulsed YAG laser and the irradiation energy exceeds a certain threshold value, a through hole is formed in the glass without using the solution or pigment. It has been found that can be directly formed.

【0012】そこで、本発明によれば、ガラスからなる
被加工物に向けてパルス発振YAGレーザを照射する過
程からなり、前記ガラスがYAGレーザ吸収率の高い成
分を含有し、かつ前記YAGレーザの照射エネルギを所
定の閾値以上に設定することを特徴とするガラスのレー
ザ加工方法が提供される。
Therefore, according to the present invention, it comprises a process of irradiating a work piece made of glass with a pulsed YAG laser, wherein the glass contains a component having a high YAG laser absorptivity, and Provided is a laser processing method for glass, which is characterized by setting irradiation energy to a predetermined threshold value or more.

【0013】被加工物のガラスに含まれるYAGレーザ
吸収率の高い成分が、その閾値を超えた照射エネルギを
吸収して高熱を発生し、周囲の材料を溶融させることに
より、比較的揮発し易い成分が先に蒸発して溶融部分の
組成が変化し、この加工変質層にレーザ光が吸収されて
加工が進行し、貫通穴が形成される。更に、パルス発振
YAGレーザでは、レーザ光照射中に溶融物が除去され
るため熱歪みが残らず、その結果硬質脆性材料であるガ
ラスに対してもクラックを生じ難い。
The component having a high YAG laser absorptivity contained in the glass of the workpiece absorbs the irradiation energy exceeding the threshold value, generates high heat, and melts the surrounding material, so that it is relatively easily volatilized. The components evaporate first and the composition of the melted portion changes, and the work-affected layer absorbs the laser light to proceed with the working and form a through hole. Further, in the pulsed YAG laser, since the melt is removed during the laser light irradiation, thermal strain does not remain, and as a result, cracks are unlikely to occur even in glass, which is a hard brittle material.

【0014】このようなガラスとしては、レーザ照射に
より上述した加工変質層が形成されるガラスを用いるこ
とができ、特に不純物を含むガラスが好適である。具体
的には、一般に市販されているソーダ石灰ガラス、硬質
ガラス(石英ガラスを除く)、クリスタルガラスなどが
含まれる。これらガラス材料に含まれるアルミナなどの
成分はYAGレーザを吸収し易く、レーザ照射により穴
あけ加工に必要な高熱を発生するので、上述した従来技
術のレーザ加工のようにガラス表面に溶液や顔料を用い
る必要がない。
As such a glass, a glass in which the above-mentioned work-affected layer is formed by laser irradiation can be used, and a glass containing impurities is particularly preferable. Specifically, commercially available soda lime glass, hard glass (excluding quartz glass), crystal glass and the like are included. Components such as alumina contained in these glass materials easily absorb the YAG laser and generate high heat necessary for drilling by laser irradiation. Therefore, a solution or pigment is used on the glass surface as in the above-mentioned conventional laser processing. No need.

【0015】パルス発振YAGレーザの照射エネルギの
閾値は、該レーザのパルス出力により決定され、このパ
ルス出力はパルス幅とピーク出力とにより調整すること
ができる。具体的な閾値は、被加工物のガラスの組成、
それに含まれる高YAGレーザ吸収率成分の種類及び量
(割合)によって異なる。
The threshold of the irradiation energy of the pulse oscillation YAG laser is determined by the pulse output of the laser, and the pulse output can be adjusted by the pulse width and the peak output. The specific threshold is the composition of the glass of the workpiece,
It depends on the type and amount (ratio) of the high YAG laser absorptance component contained therein.

【0016】また、YAGレーザの焦点位置は、前記被
加工物の表面と裏面との中間付近に設定すると、照射エ
ネルギが特定の位置に集中することなくその厚さ方向に
分散し、表裏両面から貫通穴が成長するので好ましく、
特に表面・裏面の中間位置より下方に設定すると、照射
エネルギがより均一に分散するので、穴径をより均一に
かつクラックの発生を抑制して良質な穴あけ加工を行う
ことができ、好都合である。
When the focus position of the YAG laser is set near the middle of the surface and the back surface of the workpiece, the irradiation energy is dispersed in the thickness direction without being concentrated at a specific position, and the front and back surfaces are It is preferable because the through holes grow.
Especially, if the position is set lower than the intermediate position between the front surface and the back surface, the irradiation energy is more evenly distributed, which makes it possible to perform hole drilling with a more uniform hole diameter and with less cracks. .

【0017】更に、例えば集光前のビーム径、集光レン
ズの焦点距離などを調整して、被加工物の表面及び裏面
の双方が溶融するように、前記YAGレーザの照射条件
を設定すると、表裏両面から加工穴が成長して、被加工
物をより効率良く、加工部分以外の部分に悪影響を実質
的に与えることなく又は最小限にして、穴あけ加工を行
うことができるので好都合である。
Further, for example, by adjusting the beam diameter before focusing, the focal length of the focusing lens, etc., the irradiation conditions of the YAG laser are set so that both the front surface and the back surface of the workpiece are melted. It is advantageous that the drilled holes grow from both the front and back surfaces, and the drilling can be performed more efficiently, and the drilling can be performed more efficiently and without substantially or adversely affecting the portion other than the worked portion.

【0018】或る実施例によれば、最初に、第1の閾値
以上の照射エネルギで第1のYAGレーザを照射するこ
とにより、ガラスに前記加工変質層を形成し、次に、前
記第1の閾値より大きい第2の閾値以上の照射エネルギ
で第2のYAGレーザを照射することにより、前記加工
変質層を溶融除去する。第1のYAGレーザは、貫通穴
を加工するものではなく、加工変質層を効率よく形成で
きれば良いから、集光性の良し悪しは問題とならない。
これに対し、第2のYAGレーザは、最終的に貫通穴を
加工するものであるから、加工変質層に吸収され易い波
長で集光性の良いレーザ光を用いることが好ましい。
According to one embodiment, the work-affected layer is formed on the glass by first irradiating it with a first YAG laser with an irradiation energy equal to or higher than a first threshold value, and then the first The work-affected layer is melted and removed by irradiating the second YAG laser with an irradiation energy which is higher than the second threshold and which is higher than the second threshold. The first YAG laser does not process the through-holes, and it suffices if the work-affected layer can be efficiently formed. Therefore, the good or bad of the light converging property does not become a problem.
On the other hand, since the second YAG laser is used for finally processing the through hole, it is preferable to use laser light having a good converging property at a wavelength that is easily absorbed by the work-affected layer.

【0019】また、本発明によれば、上述したガラスの
レーザ加工方法により加工されたガラス成形品が提供さ
れる。
Further, according to the present invention, there is provided a glass molded product processed by the above-described laser processing method for glass.

【0020】[0020]

【実施例】本発明のレーザ加工方法を用いて、硬質ガラ
スの一種で「パイレックス」(商標)の商品名で市販さ
れているホウケイ酸ガラスの薄板(厚さ1mm)に微細穴
あけ加工を行った。先ず、レーザの照射エネルギの変化
に対する加工穴の状態を実験した。
EXAMPLE Using the laser processing method of the present invention, a thin plate (thickness 1 mm) of borosilicate glass, which is a kind of hard glass and marketed under the trade name of "Pyrex" (trademark), was subjected to fine perforation processing. . First, the state of the machined hole with respect to the change of the laser irradiation energy was tested.

【0021】パルス発振YAGレーザを次の加工条件で
使用した。 レーザ波長 : 1064nm 広がり角 : 5mrad エキスパンダ: ×3 集光レンズ : f50mm 最小ビーム径: φ0.25mm 集光角度 : 9.2deg 照射パルス数: 1 レーザ光のパルス幅は500μs、750μs、100
0μsの3段階で、ピーク出力は3.70kW、5.4
4kW、7.70kW、10.08kWの4段階でそれ
ぞれ変更し、これらの組合せで照射エネルギのパワー出
力を次表のように決定した。レーザ光の焦点位置は、前
記ガラス薄板の表面と裏面との中間位置に固定した。
A pulsed YAG laser was used under the following processing conditions. Laser wavelength: 1064 nm Spread angle: 5 mrad Expander: × 3 Condenser lens: f50 mm Minimum beam diameter: φ0.25 mm Focus angle: 9.2 deg Irradiation pulse number: 1 Laser beam pulse width is 500 μs, 750 μs, 100
The peak output is 3.70 kW and 5.4 in 3 steps of 0 μs.
The power output of irradiation energy was determined as shown in the following table by changing the power in four steps of 4 kW, 7.70 kW, and 10.08 kW. The focus position of the laser light was fixed at an intermediate position between the front surface and the back surface of the glass thin plate.

【0022】[0022]

【表1】 [Table 1]

【0023】(パルス幅500μsの場合)この結果、
パルス幅500μsでは、ピーク出力10.08kW
(パルス出力5.04J/パルス)において、図1
(A)に示すように、ガラス薄板1の裏面2から表面3
に向けて円柱状の穴4が板厚の約3分の1程度の深さま
で成長したが、加工穴4の底部から表面に向けて大きな
クラック5が発生し、表面3は全く加工されなかった。
しかし、加工穴4の周囲及びその底部から表面に達しな
い位置まで、加工変質層6の形成が認められた。加工変
質層6は、上述したように、ガラスの揮発し易い成分が
先に蒸発してその組成が変化した部分で、屈折率が変化
しているため、光学顕微鏡で容易に確認することができ
た。
(When the pulse width is 500 μs) As a result,
With a pulse width of 500 μs, the peak output is 10.08 kW
(Pulse output 5.04 J / pulse)
As shown in (A), the back surface 2 to the front surface 3 of the glass thin plate 1 are
The cylindrical hole 4 grew to a depth of about 1/3 of the plate thickness, but a large crack 5 was generated from the bottom of the processed hole 4 toward the surface, and the surface 3 was not processed at all. .
However, the formation of the work-affected layer 6 was recognized around the work hole 4 and from the bottom to the position where it did not reach the surface. As described above, the work-affected layer 6 can be easily confirmed by an optical microscope because the refractive index is changed at the portion where the composition of the glass, which is volatile, is first evaporated and the composition thereof is changed. It was

【0024】ピーク出力7.70kW(パルス出力3.
85J/パルス)では、図1(B)に示すように、ガラ
ス薄板裏面2に僅かな円形穴4が形成され、その底部か
ら表面3側にクラック5が生じただけであった。円形穴
4の周囲及びその底部から表面に向けて加工変質層6が
同様に形成された。これより小さいピーク出力即ち照射
エネルギでは、前記ガラス薄板は表面及び裏面共に加工
されなかった。但し、ピーク出力5.44kW(パルス
出力2.72J/パルス)では、図1(C)に示すよう
に、ガラス薄板裏面2側に小さな加工変質層6の形成が
認められた。
Peak output 7.70 kW (pulse output 3.
At 85 J / pulse, as shown in FIG. 1 (B), a slight circular hole 4 was formed in the back surface 2 of the glass thin plate, and only a crack 5 was formed from the bottom to the surface 3 side. A work-affected layer 6 was similarly formed around the circular hole 4 and from its bottom to the surface. With a peak output or irradiation energy smaller than this, the glass sheet was not processed on both the front surface and the back surface. However, at the peak output of 5.44 kW (pulse output of 2.72 J / pulse), as shown in FIG. 1C, formation of a small work-affected layer 6 was recognized on the back surface 2 side of the glass thin plate.

【0025】(パルス幅750μsの場合)パルス幅7
50μsでは、いずれの場合も貫通穴は加工されなかっ
た。ピーク出力10.08kW(パルス出力7.56J
/パルス)において、図2(A)に示すように、ガラス
薄板1の裏面2から円柱状の穴4が板厚の半分を超える
深さまで成長したが、加工穴4底部から表面3に至る大
きなクラック5が発生し、ガラス薄板裏面の加工穴開口
周辺にもクラックが認められた。加工穴4の周囲及びそ
の底部から表面に達する加工変質層6の形成が認められ
た。
(When pulse width is 750 μs) Pulse width 7
At 50 μs, the through hole was not processed in any case. Peak output 10.08kW (pulse output 7.56J
2 / A), as shown in FIG. 2 (A), the cylindrical hole 4 grew from the back surface 2 of the thin glass plate 1 to a depth exceeding half of the plate thickness, but a large hole from the bottom of the processed hole 4 to the front surface 3 Cracks 5 were generated, and cracks were also found around the opening of the processed hole on the back surface of the glass thin plate. Formation of a work-affected layer 6 reaching the surface from the periphery of the processed hole 4 and its bottom was observed.

【0026】ピーク出力7.70kW(パルス出力5.
78J/パルス)では、図2(B)に示すように、上述
した図1(A)のパルス幅500μs、ピーク出力1
0.08kW(パルス出力5.04J/パルス)の場合
と同様に、ガラス薄板裏面2から板厚約3分の1程度の
深さまで円柱状の穴4が形成され、かつ該穴の底部から
表面3に至る大きなクラック5が発生した。この場合に
も、加工穴4の周囲及びその底部から表面に達する加工
変質層6が同様に形成された。
Peak output 7.70 kW (pulse output 5.
78 J / pulse), as shown in FIG. 2 (B), the pulse width is 500 μs and the peak output is 1 as shown in FIG. 1 (A).
Similar to the case of 0.08 kW (pulse output 5.04 J / pulse), a cylindrical hole 4 is formed from the back surface 2 of the glass thin plate to a depth of about 1/3 of the plate thickness, and the bottom surface of the hole 4 A large crack 5 up to 3 was generated. Also in this case, the work-affected layer 6 reaching the surface from the periphery of the processed hole 4 and the bottom thereof was similarly formed.

【0027】ピーク出力5.44kW(パルス出力4.
08J/パルス)では、図2(C)に示すように、上述
した図1(B)のパルス幅500μs、ピーク出力7.
70kW(パルス出力3.85J/パルス)の場合と同
程度に、僅かな円形穴4及びクラック5と、表面3まで
達しない加工変質層6とがガラス薄板裏面2側に形成さ
れた。ピーク出力3.70kW(パルス出力2.78J
/パルス)では、図2(D)に示すように、ガラス薄板
1は表面及び裏面共に加工されなかったが、裏面側に僅
かな加工変質層6の形成が確認された。
Peak output 5.44 kW (pulse output 4.
08J / pulse), as shown in FIG. 2 (C), the pulse width is 500 μs and the peak output is 7.
As with the case of 70 kW (pulse output of 3.85 J / pulse), a small number of circular holes 4 and cracks 5 and a work-affected layer 6 that did not reach the surface 3 were formed on the glass thin plate rear surface 2 side. Peak output 3.70 kW (pulse output 2.78J
/ Pulse), as shown in FIG. 2D, the glass thin plate 1 was not processed on both the front surface and the back surface, but it was confirmed that a slight work-affected layer 6 was formed on the back surface side.

【0028】(パルス幅1000μsの場合)パルス幅
1000μsの場合には、ピーク出力10.08kW
(パルス出力10.08J/パルス)において、図3
(A)に示すように、貫通穴4が形成された。また、貫
通穴4の周囲には加工変質層6が形成されていた。しか
し、それより低いピーク出力では、貫通穴は形成できな
かった。
When the pulse width is 1000 μs, the peak output is 10.08 kW when the pulse width is 1000 μs.
(Pulse output 10.08 J / pulse)
As shown in (A), the through hole 4 was formed. Further, the work-affected layer 6 was formed around the through hole 4. However, at lower peak powers, through holes could not be formed.

【0029】7.70kWにおいて、図3(B)に示す
ように、上述した図2(A)のパルス幅750μs、ピ
ーク出力10.08kW(パルス出力7.56J/パル
ス)の場合と略同程度に、円柱状の加工穴4及びガラス
薄板表面3に至るクラック5が形成された。また、加工
穴4の周囲及びその底部から表面に達する加工変質層6
が同様に形成された。
At 7.70 kW, as shown in FIG. 3 (B), the pulse width is 750 μs and the peak output is 10.08 kW (pulse output 7.56 J / pulse) as shown in FIG. 2 (A). A cylindrical processed hole 4 and a crack 5 reaching the surface 3 of the thin glass plate were formed on the surface. Further, the work-affected layer 6 reaching the surface from the periphery of the processed hole 4 and its bottom.
Were similarly formed.

【0030】ピーク出力5.44kW及び3.70kW
(パルス出力5.44J/パルス及び3.70J/パル
ス)では、それぞれ図3(C)及び(D)に示すよう
に、上述した図1(A)及び(B)のパルス幅500μ
s、ピーク出力10.08kW及び7.70kW(パル
ス出力5.04J/パルス及び3.85J/パルス)の
場合と略同程度の加工穴4、クラック5及び加工変質層
6が形成された。
Peak power 5.44 kW and 3.70 kW
At (pulse output 5.44 J / pulse and 3.70 J / pulse), as shown in FIGS. 3 (C) and 3 (D), respectively, the pulse width of 500 μm in FIGS.
s, peak outputs of 10.08 kW and 7.70 kW (pulse output of 5.04 J / pulse and 3.85 J / pulse), the processed holes 4, cracks 5 and work-affected layer 6 were formed to the same extent.

【0031】上記結果から判断して、単にピーク出力
(又はピーク出力密度)ではなく、これとパルス幅を組
み合わせて得られる照射エネルギの大小により、加工の
可否及び加工穴の成長が異なり、或る閾値(本実施例で
は、パルス出力10.08J/パルス)を超えると貫通
穴を形成できることが確認された。
Judging from the above results, whether or not machining is possible and the growth of machined holes differ depending on the magnitude of the irradiation energy obtained by combining this with the pulse width, not just the peak output (or peak power density). It has been confirmed that the through hole can be formed when the threshold value (in the present embodiment, the pulse output of 10.08 J / pulse) is exceeded.

【0032】次に、同じくパルス発振YAGレーザを使
用し、パルス幅1000μs、ピーク出力10.08k
Wでパルス出力を10.08J/パルスで一定にして、
レーザ光の焦点位置を変えながら厚さ1mmのパイレック
スガラス薄板に微細穴あけ加工を行った。その他のレー
ザ加工条件は次の通りである。 レーザ波長 : 1064nm 広がり角 : 5mrad エキスパンダ: なし 集光レンズ : f50mm 最小ビーム径: φ0.25mm 集光角度 : 9.2deg
Next, a pulsed YAG laser is also used, pulse width is 1000 μs, and peak output is 10.08 k.
With W, make the pulse output constant at 10.08 J / pulse,
Fine drilling was performed on a 1 mm thick Pyrex glass sheet while changing the focal position of laser light. Other laser processing conditions are as follows. Laser wavelength: 1064nm Spread angle: 5mrad Expander: None Focusing lens: f50mm Minimum beam diameter: φ0.25mm Focusing angle: 9.2deg

【0033】図4(A)及び図4(B)に示すように、
レーザ光7の焦点位置は、集光レンズ8の位置をずらす
ことにより、ガラス薄板1を板厚方向に表面近傍の位置
aから裏面近傍の位置bまで均等に10分割し、表面近
傍位置aを基準位置としてその変位量xを1から10ま
で設定した。その結果、前記基準位置から変位量x=2
までの範囲では、裏面側から円柱状の穴が板厚半分を超
える深さまで成長したが、該穴の底部から表面に至るク
ラックが生じただけで、貫通しなかった。
As shown in FIGS. 4 (A) and 4 (B),
The focal position of the laser light 7 is divided into 10 evenly in the thickness direction of the glass thin plate 1 from the position a near the front surface to the position b near the back surface by shifting the position of the condenser lens 8, and the position a near the surface is set. The displacement amount x was set to 1 to 10 as the reference position. As a result, the displacement amount x = 2 from the reference position.
In the range up to, the cylindrical hole grew from the back surface side to a depth exceeding half the plate thickness, but only a crack from the bottom of the hole to the surface was generated, and the hole did not penetrate.

【0034】変位量x=3〜9までの範囲において、貫
通穴を形成できた。特に、前記ガラス薄板表面と裏面と
の中間位置を超えた変位量x=7及び8の位置では、図
5に示すように、略穴径均一でクラックのない略円柱状
の加工穴4を形成できた。その他の位置では、貫通穴の
穴径が不均一で、ガラス内部や穴の開口周辺にクラック
の発生が認められた。
Through holes could be formed in the range of displacement x = 3 to 9. In particular, at positions of displacement amounts x = 7 and 8 which exceed the intermediate position between the front surface and the back surface of the thin glass plate, as shown in FIG. 5, a substantially cylindrical processed hole 4 having a substantially uniform hole diameter and no cracks is formed. did it. At other positions, the diameters of the through holes were nonuniform, and cracks were found inside the glass and around the openings of the holes.

【0035】変位量x=10の前記ガラス薄板裏面近傍
位置では、表面から円錐状の深穴が裏面近くまで成長し
たが、裏面は丸い凹みが形成されただけで貫通しなかっ
た。また、裏面の前記凹み付近に大きなクラックが発生
した。
At a position near the back surface of the glass thin plate where the displacement amount was x = 10, a conical deep hole grew from the front surface to the vicinity of the back surface, but the back surface formed a round recess and did not penetrate. Moreover, a large crack was generated in the vicinity of the recess on the back surface.

【0036】この結果から判断して、照射されるレーザ
光エネルギがガラス薄板の板厚方向に均一に分散するよ
うに、焦点位置をガラス薄板表面と裏面との中間付近に
設定すると、クラックを発生させるようなガラス板内部
における急激な温度上昇が回避され、加工穴が表面及び
裏面双方から成長して貫通するので好ましい。特に、レ
ーザ光の焦点を前記中間位置より下方に合わせると、ク
ラックフリーで略穴径同一の貫通穴が形成されるので好
都合である。
Judging from this result, when the focal position is set near the middle of the front surface and the back surface of the thin glass plate so that the irradiated laser light energy is uniformly dispersed in the thickness direction of the thin glass plate, a crack is generated. Such a rapid temperature rise inside the glass plate is avoided, and the processed hole grows and penetrates from both the front surface and the back surface, which is preferable. In particular, it is convenient to focus the laser light below the intermediate position because crack-free through holes having substantially the same hole diameter are formed.

【0037】本実施例では、レーザ光のビーム径を6mm
に設定したが、ビーム径を12mmに拡大したところ、同
じ焦点位置でもクラックが発生し、このクラックから溶
融物が噴出した。これは、ガラス表面では、ビームが太
くなっているために、レーザ光のエネルギ密度が低く、
ガラスが軟化し難くなっているのに対して、ガラス内部
の焦点位置では、エネルギ密度が高いので、ガラスが溶
融する。このため、ガラス内部の溶融物が外部にスムー
ズに溶出できず、応力が発生するためと考えられる。
In this embodiment, the beam diameter of the laser light is 6 mm.
However, when the beam diameter was expanded to 12 mm, a crack was generated at the same focal point, and the melt was ejected from this crack. This is because the energy density of the laser light is low due to the thick beam on the glass surface,
While it is difficult for the glass to soften, at the focal position inside the glass, the energy density is high, so the glass melts. It is considered that this is because the melt inside the glass cannot be smoothly eluted to the outside and stress is generated.

【0038】また、変位量x=3〜9で形成された各貫
通穴の開口周辺には、溶融物が飛散して付着したり隆起
した状態が観察された。これは、本実施例においてレー
ザ照射により生じた溶融物の温度が比較的低いことを示
している。この溶融物は、ガラス薄板1両面を適当な研
磨剤で研磨加工することにより、容易に除去することが
できた。
Further, in the vicinity of the openings of the respective through holes formed with the displacement amount x = 3 to 9, it was observed that the molten material was scattered and adhered or raised. This indicates that the temperature of the melt generated by laser irradiation in this example is relatively low. This melt could be easily removed by polishing both surfaces of the glass sheet 1 with an appropriate abrasive.

【0039】図5の加工穴4の開口周辺には溶融部9が
隆起したが、この溶融部の組成を分析したところ、図6
に示すような結果が得られた。即ち、YAGレーザ光を
吸収し易いアルミナを構成するAl成分の組成比が、平
均値で元の母材の約2.3%から約4.4%に2倍近く
増加し、YAGレーザ光を吸収しないSiが、平均値で
約93.1%から約94.7%に増加し、かつAlより
融点が低く蒸発し易いNaが、平均値で元の約4.5%
から約0.8%に大幅に減少している。
A molten portion 9 was raised around the opening of the processed hole 4 shown in FIG. 5, and the composition of this molten portion was analyzed.
The results shown in are obtained. That is, the composition ratio of the Al component that constitutes alumina, which easily absorbs the YAG laser light, has increased from about 2.3% of the original base material to about 4.4% on average, which is nearly double the YAG laser light. Si that does not absorb increases from about 93.1% to about 94.7% on average, and Na, which has a lower melting point and is easier to evaporate than Al, has an average value of about 4.5%.
From about 0.8%.

【0040】これは、前記溶融部において、使用したガ
ラス材料に含まれるアルミナがレーザ光の照射エネルギ
を吸収して高熱を発生し、それにより融点の低いNaが
先に蒸発し、材料自体の組成が変化して加工変質部が形
成されたことを示している。この組成変化により、前記
加工変質部は母材よりアルミナ含有率が増加してレーザ
吸収率が高くなっているので、他の部分より加工速度が
早くなって穴の成長が促進されるという、上述した加工
メカニズムを証明している。
This is because the alumina contained in the glass material used absorbs the irradiation energy of laser light to generate high heat in the melting portion, whereby Na having a low melting point evaporates first, and the composition of the material itself. Indicates that a work-affected portion was formed. Due to this composition change, the work-affected portion has a higher alumina content and a higher laser absorptivity than the base material, so that the working speed is faster than other portions and the hole growth is promoted. It proves the processing mechanism.

【0041】このようにパイレックスガラスを使用した
本実施例では、所定の閾値以上のパルス出力即ちエネル
ギのレーザ光を照射することにより、該ガラス材料に含
まれるアルミナがレーザ光を吸収して高熱を発生し、周
囲の材料を溶融させてNaなどの揮発し易い成分を先に
蒸発させ、組成を変化させて加工変質層を形成し、この
加工変質層がレーザ光を吸収して貫通穴を加工できるこ
とが明らかになった。しかも、パルス発振YAGレーザ
では、レーザ光照射中に溶融物が除去されるため熱歪み
が残らず、その結果硬質脆性材料であるガラスに対して
もクラックフリーで品質の良い穴あけ加工を実現でき
た。
In this embodiment using Pyrex glass as described above, by irradiating a laser beam having a pulse output or energy equal to or higher than a predetermined threshold value, alumina contained in the glass material absorbs the laser beam to generate high heat. Generated and surrounding materials are melted to evaporate easily volatilized components such as Na first, the composition is changed to form a work-affected layer, and this work-affected layer absorbs laser light to process the through hole. It became clear that it could be done. Moreover, in the pulsed YAG laser, since the molten material is removed during the laser light irradiation, thermal strain does not remain, and as a result, crack-free and high-quality drilling can be realized even for glass, which is a hard brittle material. .

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明によれば、上述したようにパルス
発振YAGレーザを使用して、市販の一般ガラスなどで
あっても、その中に含まれる高レーザ光吸収率成分を利
用して高熱を発生させることにより、ガラスにクラック
フリーで微細な穴あけ加工を直接行うことができるの
で、加工工程及び作業が簡単になり、加工時間の短縮及
び加工コストの低減を実現することができる。
According to the present invention, a pulsed YAG laser is used as described above, and even if it is a commercially available general glass or the like, a high laser light absorptivity component contained in it is used to achieve high heat resistance. Since it is possible to directly perform microscopic drilling without cracks in the glass, the processing steps and operations can be simplified, and the processing time and the processing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)〜(C)図は、パルス幅500μsでピ
ーク出力をそれぞれ10.08kW、7.70kW、
5.44kWとしてパルス発振YAGレーザを照射した
場合の加工状態を示す断面図である。
1A to 1C are peak widths of 10.08 kW and 7.70 kW at a pulse width of 500 μs, respectively.
It is sectional drawing which shows the processing state at the time of irradiating a pulse oscillation YAG laser as 5.44 kW.

【図2】(A)〜(D)図は、パルス幅750μsでピ
ーク出力をそれぞれ10.08kW、7.70kW、
5.44kW、3.70kWとしてパルス発振YAGレ
ーザを照射した場合の加工状態を示す断面図である。
2A to 2D show a peak output of 10.08 kW, 7.70 kW, and a pulse width of 750 μs, respectively.
It is sectional drawing which shows the processing state at the time of irradiating a pulse oscillation YAG laser as 5.44 kW and 3.70 kW.

【図3】(A)〜(D)図は、パルス幅1000μsで
ピーク出力をそれぞれ10.08kW、7.70kW、
5.44kW、3.70kWとしてパルス発振YAGレ
ーザを照射した場合の加工状態を示す断面図である。
3A to 3D show a peak output of 10.08 kW and 7.70 kW at a pulse width of 1000 μs.
It is sectional drawing which shows the processing state at the time of irradiating a pulse oscillation YAG laser as 5.44 kW and 3.70 kW.

【図4】(A)、(B)図は、それぞれレーザ光の焦点
位置をガラス薄板の表面近傍の位置、及び裏面近傍の位
置に合わせた様子を示す図である。
FIGS. 4A and 4B are diagrams showing a state in which the focal position of the laser light is adjusted to a position near the front surface and a position near the back surface of the glass thin plate, respectively.

【図5】パルス幅1000μs、ピーク出力10.08
kWでレーザ光の焦点位置を変位量x=8としてパルス
発振YAGレーザを照射した場合の加工穴を示す断面図
である。
FIG. 5: Pulse width 1000 μs, peak output 10.08
It is sectional drawing which shows the processed hole at the time of irradiating a pulse oscillation YAG laser with the amount of displacement x = 8 of the focal position of laser light in kW.

【図6】溶融部の組成変化を示す線図である。FIG. 6 is a diagram showing a change in composition of a fusion zone.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス薄板 2 裏面 3 表面 4 加工穴 5 クラック 6 加工変質層 7 レーザ光 8 集光レンズ 9 溶融部 1 glass sheet 2 back side 3 surface 4 processed holes 5 cracks 6 Processed alteration layer 7 laser light 8 Condensing lens 9 Melting part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01S 3/00 H01S 3/00 B (72)発明者 梅津 一成 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 3C060 AA08 CF16 4E068 AF01 CA02 CA03 CA11 CF01 DB13 5F072 AB01 JJ09 JJ12 RR01 SS06 YY06 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H01S 3/00 H01S 3/00 B (72) Inventor Issei Umezu 3-3-5 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture No. Seiko Epson Corporation F-term (reference) 3C060 AA08 CF16 4E068 AF01 CA02 CA03 CA11 CF01 DB13 5F072 AB01 JJ09 JJ12 RR01 SS06 YY06

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラスからなる被加工物に向けてパルス
発振YAGレーザを照射する過程からなり、前記ガラス
がYAGレーザ吸収率の高い成分を含有し、かつ前記Y
AGレーザの照射エネルギを所定の閾値以上に設定する
ことを特徴とするガラスのレーザ加工方法。
1. A process of irradiating a work piece made of glass with a pulsed YAG laser, wherein the glass contains a component having a high YAG laser absorptance, and
A laser processing method for glass, wherein irradiation energy of an AG laser is set to a predetermined threshold value or more.
【請求項2】 前記ガラスが不純物を含むことを特徴と
する請求項1記載のガラスのレーザ加工方法。
2. The laser processing method for glass according to claim 1, wherein the glass contains impurities.
【請求項3】 前記照射エネルギの閾値を前記YAGレ
ーザのパルス出力により決定することを特徴とする請求
項1又は2に記載のガラスのレーザ加工方法。
3. The laser processing method for glass according to claim 1, wherein the threshold value of the irradiation energy is determined by the pulse output of the YAG laser.
【請求項4】 前記YAGレーザのパルス出力をパルス
幅とピーク出力とにより調整することを特徴とする請求
項3に記載のガラスのレーザ加工方法。
4. The laser processing method for glass according to claim 3, wherein the pulse output of the YAG laser is adjusted by the pulse width and the peak output.
【請求項5】 前記YAGレーザの焦点位置を前記被加
工物の表面と裏面との中間付近に設定することを特徴と
する請求項1乃至4のいずれかに記載のガラスのレーザ
加工方法。
5. The glass laser processing method according to claim 1, wherein the focus position of the YAG laser is set near the middle of the front surface and the back surface of the workpiece.
【請求項6】 前記YAGレーザの焦点位置を前記被加
工物の表面と裏面との中間位置より下方に設定すること
を特徴とする請求項5に記載のガラスのレーザ加工方
法。
6. The laser processing method for glass according to claim 5, wherein the focus position of the YAG laser is set below an intermediate position between the front surface and the back surface of the workpiece.
【請求項7】 前記被加工物の表面及び裏面双方が溶融
するように、前記YAGレーザの照射条件を設定するこ
とを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のガラ
スのレーザ加工方法。
7. The glass laser processing method according to claim 1, wherein irradiation conditions of the YAG laser are set so that both the front surface and the back surface of the workpiece are melted. .
【請求項8】 第1の閾値以上の照射エネルギで前記Y
AGレーザを照射することにより、前記ガラスに加工変
質層を形成した後、前記第1の閾値より大きい第2の閾
値以上の照射エネルギで前記YAGレーザを照射するこ
とにより、前記加工変質層を溶融除去することを特徴と
する請求項1乃至7のいずれかに記載のガラスのレーザ
加工方法。
8. The Y with irradiation energy above a first threshold value.
After the work-affected layer is formed on the glass by irradiating the AG laser, the work-affected layer is melted by irradiating the YAG laser with an irradiation energy which is larger than the first threshold and is equal to or higher than a second threshold. The laser processing method for glass according to claim 1, wherein the laser processing is performed.
【請求項9】 請求項1乃至8のいずれかに記載のガラ
スのレーザ加工方法により加工されたことを特徴とする
ガラス成形品。
9. A glass molded article, which is processed by the laser processing method for glass according to any one of claims 1 to 8.
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