JP2000059080A - Electromagnetic wave shielding adhesive film and electromagnetic wave shielding structure using the film, and display - Google Patents
Electromagnetic wave shielding adhesive film and electromagnetic wave shielding structure using the film, and displayInfo
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- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 45
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 claims abstract description 24
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 31
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 25
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 20
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 19
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical group [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 12
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 11
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 6
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 claims description 4
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 9
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 abstract description 6
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 abstract description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 41
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 41
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 8
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 8
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 5
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 5
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N hydroxymethylethylene Natural products OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DABQKEQFLJIRHU-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid, 2-methyl-, 3,3,5-trimethylcyclohexyl ester Chemical compound CC1CC(OC(=O)C(C)=C)CC(C)(C)C1 DABQKEQFLJIRHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(oxiran-2-ylmethoxy)-2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(COCC1OC1)(COCC1OC1)COCC1CO1 PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQZUBYCLWSJCMM-UHFFFAOYSA-N 3-methylidenedec-1-ene Chemical compound CCCCCCCC(=C)C=C DQZUBYCLWSJCMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 2
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 2
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001485 poly(butyl acrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000196 poly(lauryl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003214 poly(methacrylonitrile) Polymers 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920001083 polybutene Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 2
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 2
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- CXOOGGOQFGCERQ-UHFFFAOYSA-N (2-methyl-2-nitropropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)[N+]([O-])=O CXOOGGOQFGCERQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC1=CC=C(C(F)(F)F)C=N1 UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UACBZRBYLSMNGV-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCCOC(=O)C=C UACBZRBYLSMNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAEGWYOHZPBQHS-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpentan-3-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(CC)(CC)OC(=O)C(C)=C NAEGWYOHZPBQHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAXBWZULOIZPKQ-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-3-methylidenepent-1-ene Chemical compound CC(C)(C)C(=C)C=C WAXBWZULOIZPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 1
- 239000004418 Lexan Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1OC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CO1 KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- VYKKDKFTDMVOBU-UHFFFAOYSA-N flusalan Chemical compound OC1=C(Br)C=C(Br)C=C1C(=O)NC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 VYKKDKFTDMVOBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950004696 flusalan Drugs 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000003273 ketjen black Substances 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005298 paramagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M sodium chlorite Chemical compound [Na+].[O-]Cl=O UKLNMMHNWFDKNT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960002218 sodium chlorite Drugs 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006230 thermoplastic polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はCRT、PDP(プ
ラズマ)、液晶、ELなどのディスプレイ前面から発生
する電磁波のシールド性を有する電磁波シールド性接着
フィルム及び該電磁波シールド性接着フィルムを用いた
電磁波遮蔽構成体、ディスプレイに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding adhesive film having a shielding property for electromagnetic waves generated from the front surface of a display such as a CRT, PDP (plasma), liquid crystal, and EL, and an electromagnetic wave shielding using the electromagnetic wave shielding adhesive film. Related to a structure and a display.
【0002】[0002]
【従来の技術】CRT、PDPなどのディスプレイ前面
より発生する電磁波ノイズのシールド方法として、透明
性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層
を形成する方法(特開平1−278800号公報、特開
平5−323101号公報参照)が提案されている。一
方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シール
ド材(特開平5−327274号公報、特開平5−26
9912号公報参照)や金属粉末等を含む導電性樹脂を
透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料(特開昭
62−57297号公報、特開平2−52499号公報
参照)、さらには、ポリカーボネート等の透明基板上に
透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅
のメッシュパターンを形成した電磁波シールド材料(特
開平5−283889号公報参照)が提案されている。2. Description of the Related Art As a method of shielding electromagnetic wave noise generated from the front of a display such as a CRT or PDP, a method of forming a thin film conductive layer by depositing a metal or a metal oxide on a transparent substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 1-278800). JP-A-5-323101). On the other hand, electromagnetic wave shielding materials in which good conductive fibers are embedded in a transparent base material (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 5-327274 and 5-26)
No. 9912) and an electromagnetic wave shielding material (see JP-A-62-57297 and JP-A-2-52499) in which a conductive resin containing metal powder or the like is directly printed on a transparent substrate. An electromagnetic wave shielding material in which a transparent resin layer is formed on a transparent substrate described above and a copper mesh pattern is formed thereon by electroless plating (see JP-A-5-283889) has been proposed.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透
明性を両立させる方法として、特開平1−278800
号公報、特開平5−323101号公報に示されている
透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導
電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚
(数100Å〜2、000Å)にすると導電層の表面抵
抗が大きくなりすぎるため、30MHz〜1GHzで要
求される30dB以上、好ましくは50dB以上のシー
ルド効果に対して20dB以下と不十分であった。良導
電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材(特
開平5−327274号公報、特開平5−269912
号公報)では、30MHz〜1GHzの電磁波シールド
効果は40〜50dBであるが、視認性に問題のない繊
維径が25μmのとき、導電性繊維を規則配置させるた
めに必要なピッチが50μm以下となり、開口率が低下
して透明性が損なわれ、ディスプレイ用途には適したも
のではなかった。また、特開昭62−57297号公
報、特開平2−52499号公報の金属粉末等を含む導
電性樹脂を透明基板上に直接スクリーン印刷法などによ
って印刷した電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷
精度の限界からライン幅は、50〜100μm前後とな
り透明性の低下やラインの視認性が発現するため前面フ
ィルターとして適したものではなかった。さらに特開平
5−283889号公報に記載のポリカーボネート等の
透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっ
き法により銅のメッシュパターンを形成したシールド材
料では、無電解めっきの密着力を確保するために、透明
基板の表面を粗化する工程が必要があることや、基板が
無電解めっき工程でダメージを受けてはならないなどの
制約があった。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイ
に密着させることができないため、そこから電磁波の漏
洩が大きくなる等の問題があった。また仮にこの方法に
より、電磁波シールド性と透明性は達成できたとして
も、製造面においては、電磁波シールドテープのように
シールド材料を巻物にすることができないため嵩高くな
ることや自動化に適していないために製造コストがかさ
むという欠点もあった。As a method for achieving both the electromagnetic wave shielding property and the transparency, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-278800 has been disclosed.
In the method of forming a thin film conductive layer by depositing a metal or metal oxide on a transparent substrate disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. (100 ° to 2,000 °), the surface resistance of the conductive layer becomes too large, and the shielding effect of 30 dB or more, preferably 50 dB or more required at 30 MHz to 1 GHz, is insufficient at 20 dB or less. An electromagnetic wave shielding material in which a good conductive fiber is embedded in a transparent substrate (JP-A-5-327274, JP-A-5-269912)
In the publication, the electromagnetic wave shielding effect of 30 MHz to 1 GHz is 40 to 50 dB, but when the fiber diameter having no problem in visibility is 25 μm, the pitch required for regularly arranging the conductive fibers becomes 50 μm or less, The aperture ratio was reduced and the transparency was impaired, which was not suitable for display applications. Similarly, in the case of an electromagnetic wave shielding material in which a conductive resin containing a metal powder or the like disclosed in JP-A-62-57297 and JP-A-2-52499 is printed directly on a transparent substrate by a screen printing method or the like, the same applies. The line width was about 50 to 100 μm due to the limit of accuracy, and it was not suitable as a front filter because the transparency was reduced and the visibility of lines was exhibited. Further, in a shield material in which a transparent resin layer is formed on a transparent substrate such as polycarbonate described in JP-A-5-283889, and a copper mesh pattern is formed thereon by an electroless plating method, the adhesion of the electroless plating Therefore, there is a limitation that a step of roughening the surface of the transparent substrate is required in order to ensure the above, and that the substrate must not be damaged in the electroless plating step. Further, when the transparent substrate is thick, it cannot be brought into close contact with the display, and there has been a problem that leakage of electromagnetic waves from the transparent substrate increases. In addition, even if electromagnetic wave shielding and transparency could be achieved by this method, on the manufacturing side, the shielding material cannot be made into a scroll like an electromagnetic wave shielding tape, so that it becomes bulky and is not suitable for automation. As a result, there is a disadvantage that the manufacturing cost is increased.
【0004】ディスプレイ前面から発生する電磁波のシ
ールド性については、30MHz〜1GHzにおける3
0dB以上、好ましくは50dB以上の電磁波シールド
機能の他に、良好な可視光透過性、さらに可視光透過率
が大きいだけでなく、シールド材の存在を肉眼で確認す
ることができない特性である非視認性も必要とされる。
電磁波シールド性、透明性、非視認性や被着体への簡易
な接着性を有する接着フィルムとしては、これまで満足
なものは得られていなかった。本発明はかかる点に鑑
み、電磁波シールド性と透明性・非視認性及び被着体へ
の簡易な接着性を有する電磁波シールド性接着フィルム
および該電磁波シールド性接着フィルムを用いた電磁波
遮蔽構成体、ディスプレイを提供ことを課題とする。[0004] With respect to the shielding property of electromagnetic waves generated from the front of the display, it is considered that the shielding property at 30 MHz to 1 GHz is 3
In addition to the electromagnetic wave shielding function of 0 dB or more, preferably 50 dB or more, the non-visual property is not only a good visible light transmittance and a large visible light transmittance but also a property that the presence of the shielding material cannot be confirmed with the naked eye. Sex is also required.
Until now, no satisfactory adhesive film has been obtained which has electromagnetic wave shielding properties, transparency, invisibility, and simple adhesiveness to an adherend. In view of the above, the present invention has an electromagnetic wave shielding adhesive film having electromagnetic wave shielding properties, transparency and invisibility, and a simple adhesive property to an adherend, and an electromagnetic wave shielding structure using the electromagnetic wave shielding adhesive film, It is an object to provide a display.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、プラスチ
ックフィルムに凹版オフセット印刷法により導電性ペー
ストで幾何学図形を描き、さらにその上に接着剤層を設
け、導電性ペーストで描かれた幾何学図形の開口率が5
0%以上となるようにした電磁波シールド性接着フィル
ムとすることにより上記課題を解決できることを見出し
た。本発明の請求項1に記載の発明は、電磁波シールド
性と透明性・非視認性及び被着体への接着性を有する電
磁波シールド性接着フィルムを安価に提供するため、透
明プラスチック支持体の上に導電性ペーストで凹版オフ
セット印刷法により開口率が50%以上となるように幾
何学図形を形成しその上に接着剤層を形成した電磁波シ
ールド性接着フィルムである。本発明の請求項2に記載
の発明は、請求項1に加えて、優れた電磁波シールド性
を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するた
め、導電性ペースト上に金属めっきを施すものである。
本発明の請求項3に記載の発明は、優れたコントラスト
を有する電磁波シールド性接着フィルムを安価に提供す
るため、導電性ペーストを黒色のペーストとするもので
ある。本発明の請求項4に記載の発明は、優れた電磁波
シールド性とコントラストとを有する電磁波シールド性
接着フィルムを提供するため、導電性ペースト上の金属
めっきを黒化処理するものである。Means for Solving the Problems The present inventors have drawn a geometric figure on a plastic film by an intaglio offset printing method using a conductive paste, provided an adhesive layer thereon, and drawn the geometric figure on the plastic film. Geometric figure aperture ratio is 5
It has been found that the above problem can be solved by using an electromagnetic wave shielding adhesive film having a content of 0% or more. The invention according to claim 1 of the present invention is intended to provide an inexpensive electromagnetic wave shielding adhesive film having electromagnetic wave shielding properties, transparency and invisibility, and adhesion to an adherend. An electromagnetic wave shielding adhesive film in which a geometric figure is formed by an intaglio offset printing method using a conductive paste so that the aperture ratio becomes 50% or more, and an adhesive layer is formed thereon. According to a second aspect of the present invention, in addition to the first aspect, in order to provide an electromagnetic shielding adhesive film having excellent electromagnetic shielding properties, metal plating is performed on the conductive paste.
According to the third aspect of the present invention, in order to provide an inexpensive electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent contrast, the conductive paste is a black paste. The invention according to claim 4 of the present invention is to blacken the metal plating on the conductive paste in order to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent electromagnetic wave shielding properties and contrast.
【0006】本発明の請求項5に記載の発明は、電磁波
シールド性と透明性および接着性を有する電磁波シール
ド性接着フィルムを提供するため、接着剤層の軟化温度
を200℃以下とするものである。本発明の請求項6に
記載の発明は、電磁波シールド性と優れた透明性および
接着性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供す
るため、接着剤層の屈折率を1.45〜1.70とする
ものである。本発明の請求項7に記載の発明は、電磁波
シールド性と透明性および優れた接着性を有する電磁波
シールド性接着フィルムを提供するため、接着剤層の厚
さを導電性ペーストまたは導電性ペーストとその上に金
属めっきされた厚さ以上とするものである。本発明の請
求項8に記載の発明は、優れた電磁波シールド性を有す
る電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、紫外
線(UV)または熱で硬化する導電性ペーストを透明プ
ラスチック支持体上に凹版オフセット印刷法で形成した
ものである。本発明の請求項9に記載の発明は、優れた
電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シールド性接
着フィルムを提供するため、導電性ペーストで描かれた
幾何学図形のライン幅が40μm以下、ライン間隔が1
00μm以上、ライン厚さが40μm以下とするもので
ある。According to a fifth aspect of the present invention, a softening temperature of an adhesive layer is set to 200 ° C. or lower in order to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having electromagnetic wave shielding property, transparency and adhesiveness. is there. The invention according to claim 6 of the present invention provides an electromagnetic wave shielding adhesive film having an electromagnetic wave shielding property and excellent transparency and adhesiveness, so that the adhesive layer has a refractive index of 1.45 to 1.70. Is what you do. The invention according to claim 7 of the present invention is to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having an electromagnetic wave shielding property, transparency and excellent adhesiveness, so that the thickness of the adhesive layer is determined by using a conductive paste or a conductive paste. The thickness should be equal to or greater than the thickness of the metal plated thereon. According to an eighth aspect of the present invention, in order to provide an electromagnetic shielding adhesive film having an excellent electromagnetic shielding property, a conductive paste which is cured by ultraviolet light (UV) or heat is intaglio offset on a transparent plastic support. It is formed by a printing method. According to the ninth aspect of the present invention, in order to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent electromagnetic wave shielding properties and transparency, a line width of a geometric figure drawn with a conductive paste is 40 μm or less, 1 interval
The line thickness is not less than 00 μm and the line thickness is not more than 40 μm.
【0007】本発明の請求項10に記載の発明は、優れ
た電磁波シールド性を有する電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供するため、導電性ペーストを形成する導電性
フィラーが銀、銅、ニッケルまたはそれらいずれかを含
む合金とするものである。本発明の請求項11に記載の
発明は、透明プラスチック支持体と接着剤層との接着を
良好なものとするため、または透明プラスチック支持体
と他の部材との接着性を良好とした電磁波シールド性接
着フィルムを提供するため、透明プラスチック支持体を
表面処理された透明プラスチック支持体とするものであ
る。本発明の請求項12に記載の発明は優れた接着性を
有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、
透明プラスチック支持体の表面処理方法が、プライマ処
理、プラズマ処理またはコロナ放電処理のうちの少なく
とも1つ以上の方法を用いるものである。本発明の請求
項13に記載の発明は、加工性に優れ、安価な電磁波シ
ールド性接着フィルムを提供するため、透明プラスチッ
ク支持体をポリエチレンテレフタレートフィルムまたは
ポリカーボネートフィルムとするものである。本発明の
請求項14に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性
を有する電磁波遮蔽構成体を提供するため、前記の電磁
波シールド性接着フィルムと透明板から構成された電磁
波遮蔽構成体とするものである。本発明の請求項15に
記載の発明は、電磁波シールド性と透明性を有する前記
いずれかの電磁波シールド性接着フィルムをディスプレ
イに用いたものである。または、請求項14に記載の電
磁波遮蔽構成体をディスプレイに用いたものである。According to a tenth aspect of the present invention, in order to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent electromagnetic wave shielding properties, the conductive filler forming the conductive paste is made of silver, copper, nickel or any of them. Or an alloy containing According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided an electromagnetic wave shield for improving adhesion between a transparent plastic support and an adhesive layer or improving adhesion between a transparent plastic support and other members. In order to provide a transparent adhesive film, the transparent plastic support is a surface-treated transparent plastic support. The invention according to claim 12 of the present invention provides an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent adhesiveness,
The method for treating the surface of the transparent plastic support uses at least one of a primer treatment, a plasma treatment and a corona discharge treatment. According to the invention of claim 13 of the present invention, the transparent plastic support is made of a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film in order to provide an inexpensive electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent workability. The invention according to claim 14 of the present invention provides an electromagnetic wave shielding structure composed of the above-mentioned electromagnetic wave shielding adhesive film and a transparent plate in order to provide an electromagnetic wave shielding structure having electromagnetic wave shielding properties and transparency. It is. The invention according to claim 15 of the present invention uses any one of the above-mentioned electromagnetic wave shielding adhesive films having electromagnetic wave shielding properties and transparency for a display. Alternatively, the electromagnetic wave shielding structure according to claim 14 is used for a display.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の導電性ペーストの導電性を発現するために使用
する導電性フィラーは、金属、金属酸化物、無定形カー
ボン粉、グラファイト、金属めっきしたフィラーを使用
することができる。金属としては、銅、アルミニウム、
ニッケル、鉄、金、銀、白金、タングステン、クロム、
チタン、スズ、鉛、パラジウムなどが挙げられ、それら
の1種または2種以上を組み合わせて含むステンレス、
半田などの合金も使用することができる。導電性、印刷
性の容易さ、価格の点から銀、銅、ニッケル、またはそ
れらの1種または2種以上を組み合わせて含む合金が適
している。一方導電性ペーストを形成する金属として、
常磁性金属である、鉄、ニッケル、コバルトを使用する
と、電界に加えて、特に磁界の遮蔽性を向上させること
も可能である。これらの金属等の形状は鱗片状、樹脂
状、球状、不定形のいずれでもよく、滑剤などで処理す
ることもできる。好ましい粒径は50μm以下でこれよ
り粒径が大きいと導電性が低下するおそれがある。また
導電性ペースト中の金属の割合は任意に調節することが
可能であるが、良好なシールド性を発現するには30重
量%以上の配合が必要であり、50重量%以上とするこ
とがさらに好ましい。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
As the conductive filler used for expressing the conductivity of the conductive paste of the present invention, metal, metal oxide, amorphous carbon powder, graphite, and metal-plated filler can be used. Metals include copper, aluminum,
Nickel, iron, gold, silver, platinum, tungsten, chromium,
Titanium, tin, lead, palladium and the like, stainless steel containing one or a combination of two or more thereof,
Alloys such as solder can also be used. Silver, copper, nickel, or an alloy containing one or a combination of two or more thereof is suitable from the viewpoints of conductivity, printability, and price. On the other hand, as a metal forming the conductive paste,
When iron, nickel, and cobalt, which are paramagnetic metals, are used, in addition to an electric field, it is possible to improve the shielding property of a magnetic field in particular. The shape of these metals and the like may be any of scaly, resinous, spherical, and irregular shapes, and can be treated with a lubricant or the like. The preferred particle size is 50 μm or less, and if the particle size is larger than this, the conductivity may be reduced. The proportion of the metal in the conductive paste can be arbitrarily adjusted. However, in order to exhibit good shielding properties, it is necessary to mix 30% by weight or more, and more preferably 50% by weight or more. preferable.
【0009】導電性ペーストのバインダポリマーとして
は、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリイソ
プレン、ポリ−1,2−ブタジエン、ポリイソブテン、
ポリブテン、ポリ−2−ヘプチル−1,3−ブタジエ
ン、ポリ−2−t−ブチル−1,3−ブタジエン、ポリ
−1,3−ブタジエンなどの(ジ)エン類、ポリオキシ
エチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエ
ーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチ
ルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテー
ト、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、
ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポ
リアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリス
ルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポ
リブチルアクリレート、ポリ−2−エチルヘキシルアク
リレート、ポリ−t−ブチルアクリレート、ポリ−3−
エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニル
テトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリ
イソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレ
ート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−n−プ
ロピルメタクリレート、ポリ−3,3,5−トリメチル
シクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレ
ート、ポリ−2−ニトロ−2−メチルプロピルメタクリ
レート、ポリ−1,1−ジエチルプロピルメタクリレー
ト、ポリメチルメタクリレートなどのポリ(メタ)アク
リル酸エステルを使用することができる。[0009] Examples of the binder polymer of the conductive paste include the following. Natural rubber, polyisoprene, poly-1,2-butadiene, polyisobutene,
(Di) enes such as polybutene, poly-2-heptyl-1,3-butadiene, poly-2-t-butyl-1,3-butadiene, poly-1,3-butadiene, polyoxyethylene, polyoxypropylene , Polyvinyl ethyl ether, polyvinyl hexyl ether, polyethers such as polyvinyl butyl ether, polyvinyl acetate, polyesters such as polyvinyl propionate,
Polyurethane, ethylcellulose, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polysulfone, polysulfide, polyethyl acrylate, polybutyl acrylate, poly-2-ethylhexyl acrylate, poly-t-butyl acrylate, poly-3-
Ethoxypropyl acrylate, polyoxycarbonyl tetramethacrylate, polymethyl acrylate, polyisopropyl methacrylate, polydodecyl methacrylate, polytetradecyl methacrylate, poly-n-propyl methacrylate, poly-3,3,5-trimethylcyclohexyl methacrylate, polyethyl methacrylate, Poly (meth) acrylates such as poly-2-nitro-2-methylpropyl methacrylate, poly-1,1-diethylpropyl methacrylate, and polymethyl methacrylate can be used.
【0010】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合可能なモノマーとしては、エポキシアクリレート、
ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなども使用できる。特に支持体
への密着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシ
アクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れてお
り、エポキシアクリレートとしては、1,6−ヘキサン
ジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジ
ルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ア
ジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジル
エステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、
グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリト
ールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグ
リシジルエーテル等の(メタ)アクリル酸付加物が挙げ
られる。エポキシアクリレートなどのように分子内に反
応後または元々水酸基を有するポリマーは支持体への密
着性向上に有効である。これらのほかにも、フェノール
樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂等が
適用可能で、これらのポリマーは必要に応じて、2種以
上共重合してもよいし、2種類以上をブレンドして使用
することも可能である。[0010] Further, as monomers copolymerizable with acrylic resin and other than acrylic, epoxy acrylate,
Urethane acrylate, polyether acrylate, polyester acrylate and the like can also be used. Particularly, urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyether acrylate are excellent from the viewpoint of adhesion to the support. Examples of epoxy acrylate include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and allyl alcohol diacrylate. Glycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl adipic ester, diglycidyl phthalate, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether,
(Meth) acrylic acid adducts such as glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether and sorbitol tetraglycidyl ether. A polymer, such as epoxy acrylate, having a hydroxyl group after the reaction or in the molecule in the molecule is effective for improving the adhesion to the support. In addition to these, phenol resins, melamine resins, epoxy resins, xylene resins, and the like are applicable. These polymers may be copolymerized as needed, or two or more kinds may be blended. It is also possible to use.
【0011】これらのバインダポリマは通常の汎用溶剤
に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤などと
ともに金属と攪拌・混合して使用することができる。本
発明で使用する組成物には必要に応じて、上記分散剤の
ほかに、チクソトロピー性付与剤、消泡剤、レベリング
剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、
カップリング剤や充填剤などの添加剤を配合してもよ
い。These binder polymers can be used by dissolving them in a general-purpose solvent or by stirring and mixing with a metal together with a metal dispersant or the like without using any solvent. The composition used in the present invention, if necessary, in addition to the dispersant, a thixotropic agent, an antifoaming agent, a leveling agent, a diluent, a plasticizer, an antioxidant, a metal deactivator,
Additives such as coupling agents and fillers may be blended.
【0012】一方、電磁波シールド性接着フィルムを構
成する接着剤層の材料は、200℃以下の加熱により軟
化し、流動性を示す接着剤組成物であることが好まし
い。ここでいう軟化点とは、粘性率が1012P(ポア
ズ)以下になる温度のことで、通常その温度以下では1
〜10秒程度の時間のうちに流動が認められ、DSC
(走査型示差熱量計)などを使ってその温度を検知する
ことができる。主に以下に示す熱可塑性樹脂がその代表
的なものとしてあげられる。例えば天然ゴム(n:屈折
率、n=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ−
1,2−ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=
1.505〜1.51)、ポリブテン(n=1.513)、ポリ−2−
ヘプチル−1,3−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−2
−t−ブチル−1,3−ブタジエン(n=1.506)、ポリ
−1,3−ブタジエン(n=1.515)などの(ジ)エン
類、ポリオキシエチレン(n=1.456)、ポリオキシプロ
ピレン(n=1.450)、ポリビニルエチルエーテル(n=
1.454)、ポリビニルヘキシルエーテル(n=1.459)、
ポリビニルブチルエーテル(n=1.456)などのポリエー
テル類、ポリビニルアセテート(n=1.467)、ポリビニ
ルプロピオネート(n=1.4665)などのポリエステル類
やポリビニルブチラール樹脂(n=1.52)、ポリウレタ
ン(n=1.5〜1.6)やポリエステルポリウレタン(n=1.
5〜1.6)、エチルセルロース(n=1.479)、ポリ塩化ビ
ニル(n=1.54〜1.55)、ポリアクリロニトリル(n=1.
52)、ポリメタクリロニトリル(n=1.52)、ポリスル
ホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.6)、フェノ
キシ樹脂(n=1.5〜1.6)、ポリエチルアクリレート
(n=1.469)、ポリブチルアクリレート(n=1.466)、
ポリ−2−エチルヘキシルアクリレート(n=1.463)、
ポリ−t−ブチルアクリレート(n=1.464)、ポリ−3
−エトキシプロピルアクリレート(n=1.465)、ポリオ
キシカルボニルテトラメタクリレート(n=1.465)、ポ
リメチルアクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソ
プロピルメタクリレート(n=1.473)、ポリドデシルメ
タクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシルメタクリ
レート(n=1.475)、ポリ−n−プロピルメタクリレー
ト(n=1.484)、ポリ−3,3,5−トリメチルシクロ
ヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメタ
クリレート(n=1.485)、ポリ−2−ニトロ−2−メチ
ルプロピルメタクリレート(n=1.487)、ポリ−1,1
−ジエチルプロピルメタクリレート(n=1.489)、ポリ
メチルメタクリレート(n=1.489)などのポリ(メタ)
アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリ
ルポリマーは必要に応じて、2種以上共重合してもよい
し、2種類以上をブレンドして使うことも可能である。On the other hand, the material of the adhesive layer constituting the electromagnetic wave shielding adhesive film is preferably an adhesive composition which is softened by heating at 200 ° C. or lower and exhibits fluidity. The softening point referred to here is a temperature at which the viscosity becomes 10 12 P (poise) or less.
Flow was observed within about 10 seconds, and DSC
(Scanning differential calorimeter) or the like can be used to detect the temperature. The following thermoplastic resins are mainly exemplified. For example, natural rubber (n: refractive index, n = 1.52), polyisoprene (n = 1.521), poly-
1,2-butadiene (n = 1.50), polyisobutene (n =
1.505 to 1.51), polybutene (n = 1.513), poly-2-
Heptyl-1,3-butadiene (n = 1.50), poly-2
(Di) enes such as -t-butyl-1,3-butadiene (n = 1.506), poly-1,3-butadiene (n = 1.515), polyoxyethylene (n = 1.456), polyoxypropylene (n = 1.450), polyvinyl ethyl ether (n =
1.454), polyvinylhexyl ether (n = 1.459),
Polyethers such as polyvinyl butyl ether (n = 1.456), polyesters such as polyvinyl acetate (n = 1.467), polyvinyl propionate (n = 1.4665), polyvinyl butyral resin (n = 1.52), polyurethane (n = 1.5 to 1.6) and polyester polyurethane (n = 1.
5-1.6), ethyl cellulose (n = 1.479), polyvinyl chloride (n = 1.54-1.55), polyacrylonitrile (n = 1.
52), polymethacrylonitrile (n = 1.52), polysulfone (n = 1.633), polysulfide (n = 1.6), phenoxy resin (n = 1.5-1.6), polyethyl acrylate (n = 1.469), polybutyl acrylate ( n = 1.466),
Poly-2-ethylhexyl acrylate (n = 1.463),
Poly-t-butyl acrylate (n = 1.464), poly-3
Ethoxypropyl acrylate (n = 1.465), polyoxycarbonyltetramethacrylate (n = 1.465), polymethyl acrylate (n = 1.472 to 1.480), polyisopropyl methacrylate (n = 1.473), polydodecyl methacrylate (n = 1.474), Polytetradecyl methacrylate (n = 1.475), poly-n-propyl methacrylate (n = 1.484), poly-3,3,5-trimethylcyclohexyl methacrylate (n = 1.484), polyethyl methacrylate (n = 1.485), poly- 2-nitro-2-methylpropyl methacrylate (n = 1.487), poly-1,1
Poly (meth) such as diethylpropyl methacrylate (n = 1.489), polymethyl methacrylate (n = 1.489)
Acrylic esters can be used. If necessary, two or more of these acrylic polymers may be copolymerized, or two or more of them may be used as a blend.
【0013】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共
重合樹脂としてはエポキシアクリレート(n=1.48〜1.6
0)、ウレタンアクリレート(n=1.5〜1.6)、ポリエー
テルアクリレート(n=1.48〜1.49)、ポリエステルア
クリレート(n=1.48〜1.54)なども使用することがで
きる。特に接着性の点から、ウレタンアクリレート、エ
ポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れ
ており、エポキシアクリレートとしては、1,6−ヘキ
サンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリ
コールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリ
シジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテ
ル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリ
シジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジル
エーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリ
スリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテ
トラグリシジルエーテル等の(メタ)アクリル酸付加物
が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように反応
して又は元々分子内に水酸基を有するポリマーは接着性
向上に有効である。これらの共重合樹脂は必要に応じ
て、2種以上を併用することができる。これらの接着剤
となるポリマーの軟化温度は、取扱い性から200℃以
下が好適で、150℃以下がさらに好ましい。一方、ポ
リマーの重量平均分子量は、500以上のものを使用す
ることが好ましい。分子量が500以下では接着剤組成
物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下す
る。Further, epoxy acrylate (n = 1.48 to 1.6) is used as a copolymer resin of acrylic resin and other than acrylic resin.
0), urethane acrylate (n = 1.5 to 1.6), polyether acrylate (n = 1.48 to 1.49), polyester acrylate (n = 1.48 to 1.54) and the like can also be used. In particular, urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyether acrylate are excellent from the viewpoint of adhesiveness. Examples of epoxy acrylate include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, allyl alcohol diglycidyl ether, and resorcinol. (Meth) acrylic such as diglycidyl ether, diglycidyl adipate, diglycidyl phthalate, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether Acid adducts. Polymers having a hydroxyl group in the molecule, such as epoxy acrylate, which reacts or is originally in the molecule are effective for improving the adhesiveness. These copolymer resins can be used in combination of two or more as necessary. The softening temperature of the polymer serving as the adhesive is preferably 200 ° C. or less, more preferably 150 ° C. or less, from the viewpoint of handleability. On the other hand, it is preferable to use a polymer having a weight average molecular weight of 500 or more. If the molecular weight is 500 or less, the cohesive force of the adhesive composition is too low, and the adhesion to the adherend is reduced.
【0014】本発明で用いる加熱により流動する接着剤
層の屈折率しては1.45〜1.70のものが使用する
ことが好ましい。これは本発明で使用する透明プラスチ
ック支持体と接着剤層の屈折率が異なると可視光透過率
が低下するためであり、屈折率が1.45〜1.70で
あると可視光透過率の低下が少なく良好で上述したポリ
マーの屈折率はこの範囲内にある。本発明で使用する接
着剤層の組成物には必要に応じて、分散剤、チクソトロ
ピー性付与剤、消泡剤、レベリング剤、希釈剤、可塑化
剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤や充
填剤などの添加剤を配合してもよい。It is preferable to use an adhesive layer having a refractive index of 1.45 to 1.70 used in the present invention. This is because the visible light transmittance is reduced when the refractive index of the transparent plastic support and the adhesive layer used in the present invention are different, and when the refractive index is 1.45 to 1.70, the visible light transmittance is reduced. The refractive index of the above-mentioned polymer is small and good, and falls within this range. The composition of the adhesive layer used in the present invention, if necessary, a dispersant, a thixotropic agent, an antifoaming agent, a leveling agent, a diluent, a plasticizer, an antioxidant, a metal deactivator, Additives such as coupling agents and fillers may be blended.
【0015】導電性ペーストを黒色化する方法として
は、導電性ポリマーのバインダポリマに黒色色素を添加
したり、カーボンブラック等の黒色添加剤を使用する方
法がある。黒色添加剤としてカーボンブラックを使用し
た場合、導電性ペーストの導電率が大きくなり好まし
い。これらの黒色添加剤は通常、バインダポリマ100
重量部に対して、0.001重量部以上の添加でコント
ラストの向上を図ることができるが、0.01重量部以
上の添加がさらに好ましい。本発明で幾何学図形を描く
際に用いられる印刷法としては凹版オフセット印刷法が
適している。これは通常のスクリーン印刷法や平版オフ
セット印刷法に比べて、50μm以下の高精度の印刷性
に優れているためである。凹版オフセット印刷法は、版
の凹部に導電性ペーストを詰め、一旦ブランケットに移
し、これから透明プラスチック支持体に印刷する方法で
ある。As a method of blackening the conductive paste, there is a method of adding a black pigment to a binder polymer of a conductive polymer or using a black additive such as carbon black. When carbon black is used as the black additive, the conductivity of the conductive paste is increased, which is preferable. These black additives are typically binder polymer 100
Contrast can be improved by adding 0.001 part by weight or more to the part by weight, but addition of 0.01 part by weight or more is more preferable. The intaglio offset printing method is suitable as a printing method used when drawing a geometric figure in the present invention. This is because it is excellent in high-precision printability of 50 μm or less as compared with a normal screen printing method or a planographic offset printing method. The intaglio offset printing method is a method in which a conductive paste is filled in a concave portion of a plate, temporarily transferred to a blanket, and then printed on a transparent plastic support.
【0016】本発明の凹版オフセット印刷法による導電
性ペーストで描かれた幾何学図形とは、正三角形、二等
辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、
ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角
形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形な
どの(正)n角形、円、だ円、星型などを組み合わせた
模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは
2種類以上組み合わせで使用することも可能である。電
磁波シールド性の観点からは三角形が最も有効である
が、可視光透過性の点からは同一のライン幅なら(正)
n角形のn数が大きいほど開口率が上がるが、可視光透
過性の点から開口率は50%以上が必要で、60%以上
がさらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フ
ィルムの有効面積に対する有効面積から導電性ペースト
で描かれた幾何学図形の導電性ペーストの面積を引いた
面積の比の百分率である。ディスプレイ画面の面積を電
磁波シールド性接着フィルムの有効面積とした場合、そ
の画面が見える割合となる。The geometric figures drawn with the conductive paste by the intaglio offset printing method of the present invention include triangles such as equilateral triangles, isosceles triangles, right triangles, squares, rectangles, and the like.
Rectangles such as rhombus, parallelogram, trapezoid, etc., (positive) hexagons, (positive) octagons, (positive) dodecagons, (positive) n-gons such as (positive) octagons, circles, ellipses, stars The pattern is a combination of molds and the like, and these units can be used alone or in combination of two or more. A triangle is most effective from the viewpoint of electromagnetic wave shielding, but from the viewpoint of visible light transmission, if the line width is the same (positive)
Although the aperture ratio increases as the number n of the n-sided polygon increases, the aperture ratio is required to be 50% or more, and more preferably 60% or more from the viewpoint of visible light transmission. The aperture ratio is a percentage of the ratio of the area obtained by subtracting the area of the conductive paste of the geometric figure drawn with the conductive paste from the effective area to the effective area of the electromagnetic wave shielding adhesive film. When the area of the display screen is defined as the effective area of the electromagnetic wave shielding adhesive film, the display screen is a visible ratio.
【0017】このような幾何学図形のライン幅は40μ
m以下、ライン間隔は100μm以上、ライン厚みは4
0μm以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形
の非視認性の観点からライン幅は25μm以下、可視光
透過率の点からライン間隔は120μm以上、ライン厚
み18μm以下がさらに好ましい。ライン間隔は、大き
いほど開口率は向上し、可視光透過率は向上するが、電
磁波シールド性が低下するため、ライン幅は1mm以下
とするのが好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形
等の組合せで複雑となる場合、繰り返し単位を基準とし
て、その面積を正方形の面積に換算してその一辺の長さ
をライン間隔とする。The line width of such a geometric figure is 40 μm.
m or less, line spacing is 100 μm or more, line thickness is 4
It is preferable that the thickness be in the range of 0 μm or less. Further, from the viewpoint of invisibility of the geometric figure, the line width is more preferably 25 μm or less, and the line interval is more preferably 120 μm or more and the line thickness is 18 μm or less from the viewpoint of visible light transmittance. The larger the line interval, the higher the aperture ratio and the higher the visible light transmittance, but the lower the electromagnetic wave shielding property. Therefore, the line width is preferably 1 mm or less. When the line interval is complicated by a combination of geometric figures and the like, the area is converted into a square area on the basis of a repeating unit, and the length of one side is set as the line interval.
【0018】本発明中に用いられる導電性ペースト上に
金属めっきを施すことによって、さらに電磁波シールド
性を向上させることができる。金属めっきを施す方法と
して常法による電解めっき、無電解めっきのいずれの方
法でも可能である。めっき金属の種類は金、銀、銅、ニ
ッケル、アルミ等が可能であるが、導電性、価格の点か
ら銅、またはニッケルが最も適している。めっき厚みの
範囲は0.1〜100μmが適当で、0.1μm未満で
は導電性が不十分なため、十分なシールド性が発現しな
いおそれがある。まためっき厚みが100μmを超える
と、視野角が狭くなるため好ましくない。0.5〜50
μmがさらに好ましい。金属めっきの黒化処理は、コン
トラストが高くなり好ましい。また経時的に酸化され退
色されることが防止できる。黒化処理は、金属めっきの
形成後で行えば好ましく、プリント配線板分野で行われ
ている方法を用いて行うことができる。例えば、金属め
っきが銅である場合、亜塩素酸ナトリウム(31g/
l)、水酸化ナトリウム(15g/l)、燐酸三ナトリ
ウム(12g/l)の水溶液中、95℃で2分間処理す
ることにより行うことができる。By applying metal plating on the conductive paste used in the present invention, the electromagnetic wave shielding properties can be further improved. Either electrolytic plating or electroless plating can be used as a method for applying metal plating. The type of plating metal can be gold, silver, copper, nickel, aluminum, etc., but copper or nickel is most suitable in terms of conductivity and price. The range of the plating thickness is preferably from 0.1 to 100 μm, and if it is less than 0.1 μm, the conductivity is insufficient, so that sufficient shielding properties may not be exhibited. If the plating thickness exceeds 100 μm, the viewing angle becomes narrow, which is not preferable. 0.5-50
μm is more preferred. The blackening treatment of metal plating is preferable because the contrast is increased. Further, it is possible to prevent oxidization and fading with time. The blackening treatment is preferably performed after the formation of the metal plating, and can be performed using a method used in the field of printed wiring boards. For example, when the metal plating is copper, sodium chlorite (31 g /
1), an aqueous solution of sodium hydroxide (15 g / l) and trisodium phosphate (12 g / l) at 95 ° C. for 2 minutes.
【0019】導電性ペーストの印刷性を向上させるた
め、透明プラスチック支持体上へ種々の表面処理を施す
ことができる。その方法としては、プライマの塗布によ
る処理、プラズマ処理、コロナ放電処理等が有効であ
る。これらの処理により処理後のプラスチック支持体の
臨界表面張力が35dyn/cm以上になることが必要で、4
0dyn/cm以上がさらに好ましい。臨界表面張力が35dy
n/cm未満だと導電性ペーストの印刷性が低下するため、
40μm以下のライン幅を形成する際にインクのかけや
にじみが発生するおそれがある。In order to improve the printability of the conductive paste, various surface treatments can be applied to the transparent plastic support. As the method, treatment by applying a primer, plasma treatment, corona discharge treatment and the like are effective. It is necessary that the critical surface tension of the plastic support after the treatment is 35 dyn / cm or more by these treatments.
0 dyn / cm or more is more preferable. Critical surface tension is 35dy
If it is less than n / cm, the printability of the conductive paste decreases,
When forming a line width of 40 μm or less, there is a possibility that ink spreading or bleeding may occur.
【0020】本発明で使用する透明プラスチック支持体
としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポ
リエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、EVAなどの
ポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ンなどのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサ
ルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、
アクリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで無
色あるいは有色を含め全可視光透過率が70%以上で厚
さが1mm以下のものが好ましい。これらは単層で使用
することもできるが、2層以上を組み合わせた多層フィ
ルムとして使用してもよい。このうち透明性、耐熱性、
取り扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレ
ートフィルムまたはポリカーボネートフィルムが好まし
い。プラスチックフィルムの厚さは、5〜500μmが
より好ましい。5μm未満だと取り扱い性が悪くなり、
500μmを超えると可視光の透過率が低下してくる。
10〜200μmがさらに好ましい。プラスチックフィ
ルムの少なくとも片面に、真空蒸着法、スパッタ法、C
VD法、スプレー法、プリント印刷法などの方法で金、
銀、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、コバルト、クロ
ム、スズ、チタンなどやこれらの合金、あるいは酸化イ
ンジウム、酸化スズ、およびその混合物(以下ITO)を
はじめ、酸化チタン、酸化第二スズ、酸化カドミウムや
これらの混合物を用いて、導電性の薄膜層を形成してあ
ってもよい。また、電磁波シールド性接着フィルムの最
外層または透明プラスチック支持体上に、反射防止層を
設けたり、近赤外線遮蔽層を形成したり、内包してもよ
い。また、接着剤層を任意の場所に設けて電磁波シール
ド性接着フィルムを貼り付けたり、他の層と積層するこ
ともできる。Examples of the transparent plastic support used in the present invention include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene and EVA, polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride. Vinyl resin, polysulfone, polyethersulfone, polycarbonate, polyamide, polyimide,
It is preferable that the film is made of a plastic such as an acrylic resin and has a total visible light transmittance of 70% or more including colorless or colored and a thickness of 1 mm or less. These can be used as a single layer, or may be used as a multilayer film in which two or more layers are combined. Of these, transparency, heat resistance,
A polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film is preferred in terms of ease of handling and price. The thickness of the plastic film is more preferably from 5 to 500 μm. If it is less than 5 μm, the handleability becomes poor,
If it exceeds 500 μm, the transmittance of visible light decreases.
10 to 200 μm is more preferred. On at least one side of the plastic film, vacuum evaporation, sputtering, C
Gold, VD method, spray method, print printing method, etc.
Including silver, copper, aluminum, nickel, iron, cobalt, chromium, tin, titanium, and alloys thereof, or indium oxide, tin oxide, and mixtures thereof (hereinafter, ITO), titanium oxide, stannic oxide, and cadmium oxide Or a mixture thereof may be used to form a conductive thin film layer. Further, an antireflection layer, a near-infrared shielding layer may be formed, or included on the outermost layer of the electromagnetic wave shielding adhesive film or the transparent plastic support. Also, an adhesive layer may be provided at an arbitrary position, an electromagnetic wave shielding adhesive film may be attached thereto, or laminated with another layer.
【0021】本発明の電磁波遮蔽構成体で使用する透明
板は、ガラスやプラスチックからなる板であり、具体的
には、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメ
タクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレン樹
脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミド
イミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルエ
ーテルケトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセター
ル樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂・ポリエチレ
ンテレフタレート樹脂などの熱可塑性ポリエステル樹
脂、酢酸セルロース樹脂、フッ素樹脂、ポリスルホン樹
脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹
脂、ポリウレタン樹脂、フタル酸ジアリル樹脂などの熱
可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中で
も透明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポ
リメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリ塩化ビニル樹脂が好適に用いられる。本発明で使用
するガラス板やプラスチック板の厚みは、0.5mm〜
5mmがディスプレイの保護や強度、取扱性から好まし
い。The transparent plate used in the electromagnetic wave shielding structure of the present invention is a plate made of glass or plastic, and specifically, a polystyrene resin, an acrylic resin, a polymethyl methacrylate resin, a polycarbonate resin, a polyvinyl chloride resin, Thermoplastic polyester resins such as polyvinylidene chloride resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyamide resin, polyamide imide resin, polyether imide resin, polyether ether ketone resin, polyarylate resin, polyacetal resin, polybutylene terephthalate resin and polyethylene terephthalate resin Thermoplastic and thermosetting resins such as cellulose acetate resin, fluororesin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polymethylpentene resin, polyurethane resin, diallyl phthalate resin Fat is being cited. Among these, polystyrene resin having excellent transparency, acrylic resin, polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin,
Polyvinyl chloride resin is preferably used. The thickness of the glass plate or the plastic plate used in the present invention is 0.5 mm to
5 mm is preferable from the viewpoint of protection, strength, and handleability of the display.
【0022】[0022]
【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べる
が、本発明はこれに限定されるものではない。 (実施例1)厚さ50μmのポリエチレンテレフタレー
ト(PET)フィルム(東洋紡績株式会社製、商品名A
−4100)を用い、その表面にプライマ(日立化成工
業株式会社製商品名、HP−1、塗布厚 1μm)を塗
布し、凹版オフセット印刷法を用いて銀ペースト(日立
化成工業株式会社製商品名、エピマールEM−450
0)の格子パターン(ライン幅25μm、ライン間隔
(ピッチ)250μm、ペースト厚み2μm)を形成し
た。その後、150℃で3時間、導電性ペースト樹脂を
加熱硬化し、その後ペースト上に接着剤層として、ポリ
ビニルブチラール樹脂(電気化学工業株式会社製商品
名、#6000EP、軟化点72℃、分子量2,400、屈折率n=1.5
2)を乾燥塗布厚が20μmになるように塗布し、電磁
波シールド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開
口率は81%であった。EXAMPLES Next, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. (Example 1) Polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 µm (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name A)
-4100), a primer (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., HP-1, coating thickness: 1 μm) is applied to the surface thereof, and silver paste (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is applied by intaglio offset printing. , Epimar EM-450
0) was formed (line width 25 μm, line interval (pitch) 250 μm, paste thickness 2 μm). Thereafter, the conductive paste resin is heated and cured at 150 ° C. for 3 hours, and then, as an adhesive layer on the paste, a polyvinyl butyral resin (trade name, # 6000EP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., softening point 72 ° C., molecular weight 2,400, Refractive index n = 1.5
2) was applied so as to have a dry coating thickness of 20 μm, thereby producing an electromagnetic wave shielding adhesive film. The opening ratio of this film was 81%.
【0023】(実施例2)厚さ25μmのポリエチレン
テレフタレート(PET)フィルム(東洋紡績株式会社
製、商品名A−4100)を用い、その表面にプライマ
(日立化成工業株式会社製商品名、HP−1、塗布厚
1μm)を塗布し、凹版オフセット印刷法を用いて黒色
色素(日本化薬株式会社製商品名、Kayaset BlackG)を
0.5重量%含有する銀ペースト(日立化成工業株式会
社製商品名、エピマールEM−4500)の格子パター
ン(ライン幅20μm、ライン間隔(ピッチ)286μ
m、ペースト厚み3μm)を形成した。その後、160
℃で2時間ペースト樹脂を加熱硬化した。出来上った銀
ペーストの格子パターンに常法により電解銅めっきによ
って、3μm厚の銅めっき層を形成し、さらにその上に
接着剤層として、ポリビニルブチラール樹脂(積水化学
工業株式会社製商品名、BL-1、軟化点105℃、分子量1.9
万、n=1.52)を乾燥塗布厚が30μmになるように塗布
し、電磁波シールド性接着フィルムを作製した(電解銅
めっき:例えば、プリント回路技術便覧、(社)日本プ
リント回路工業会編、日刊工業新聞社、昭和62年2月
28日発行、470頁)。本フィルムの開口率は86%
であった。Example 2 A polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: A-4100) having a thickness of 25 μm was used, and a primer (trade name: HP-trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd .; 1, coating thickness
1 μm) and a silver paste (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., Epimar EM) containing 0.5% by weight of a black pigment (trade name, Kayaset BlackG, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) using an intaglio offset printing method -4500) grid pattern (line width 20 μm, line interval (pitch) 286 μm)
m, paste thickness 3 μm). Then 160
The paste resin was cured by heating at 2 ° C. for 2 hours. A copper plating layer having a thickness of 3 μm is formed on the resulting grid pattern of the silver paste by electrolytic copper plating in a conventional manner, and a polyvinyl butyral resin (trade name, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., BL-1, softening point 105 ° C, molecular weight 1.9
, N = 1.52) was applied to a dry coating thickness of 30 μm to produce an electromagnetic wave shielding adhesive film (electrolytic copper plating: for example, Handbook of Printed Circuit Technology, edited by Japan Printed Circuit Industry Association, Nikkan) Kogyo Shimbun, February 28, 1987, page 470). The aperture ratio of this film is 86%
Met.
【0024】(実施例3)厚さ25μmのポリカーボネ
ートフィルム(旭硝子株式会社製商品名、レキサン)を
用い、そのコロナ処理面(臨界表面張力54dyn/cm)に
凹版オフセット印刷法を用いて下記の感光性樹脂にニッ
ケル粒子を含有させた導電性ニッケルペーストの格子パ
ターン(ライン幅30μm、ライン間隔(ピッチ)12
7μm、ペースト厚み2.5μm)を形成した。その
後、紫外線ランプを用いて、1J/cm2の紫外線を照射
し、さらに120℃で60分間ペースト樹脂を加熱硬化
し、ペースト樹脂上に接着剤層として、ポリエステルポ
リウレタン樹脂(東洋紡績株式会社製商品名、バイロン
UR-1400、軟化点83℃、平均分子量40,000、n=1.5)を乾
燥塗布厚が25μmになるように塗布し、電磁波シール
ド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開口率は5
8%であった。 (感光性樹脂の組成) 2,2-ビス(4,4'-N-マレイミチシ゛ルフェノキシフェニル)フ゜ロハ゜ン 30重量部エホ゜キシ 当量500のヒ゛スフェノールA型エホ゜キシ樹脂に1当量のテトラヒト゛ロ無水フタル酸を窒素雰囲気 下で150℃で10時間反応させて得た酸変性エホ゜キシ樹脂 45重量部アクリロニトリルフ゛タシ゛エンコ゛ム (PNR-1H、日本合成ゴム株式会社製商品名) 20重量部 1,7-ヒ゛ス(9,9-シ゛アクリシ゛ノ)ヘフ゜タン 5重量部 水酸化アルミニウム 10重量部シクロヘキサノン /メチルエチルケトン(1/1重量比)の45重量%ワニスにニ
ッケル粒子を30体積%になるように分散させた。Example 3 A polycarbonate film (Lexan, trade name, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm was used, and its corona-treated surface (critical surface tension: 54 dyn / cm) was subjected to the following exposure using intaglio offset printing. Grid pattern of conductive nickel paste containing nickel particles in conductive resin (line width 30 μm, line interval (pitch) 12
7 μm, and a paste thickness of 2.5 μm). Thereafter, ultraviolet rays of 1 J / cm 2 are irradiated using an ultraviolet lamp, and the paste resin is further heated and cured at 120 ° C. for 60 minutes. As an adhesive layer on the paste resin, a polyester polyurethane resin (a product of Toyobo Co., Ltd.) Name, Byron
(UR-1400, softening point: 83 ° C., average molecular weight: 40,000, n = 1.5) so as to have a dry coating thickness of 25 μm to prepare an electromagnetic wave shielding adhesive film. The aperture ratio of this film is 5
8%. (Composition of photosensitive resin) 2,2-Bis (4,4'-N-malemiticylphenoxyphenyl) fluorophene 30 parts by weight ethoxy equivalent 500 equivalents of bisphenol A-type epoxy resin and 1 equivalent of tetrahydroquinophthalic anhydride in a nitrogen atmosphere Acid-modified ethoxy resin obtained by reacting at 150 ° C. for 10 hours under the conditions: 45 parts by weight of acrylonitrile phthalocyanine (PNR-1H, trade name of Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) 20 parts by weight of 1,7-bis (9,9-acrylic acid) ) Heptane 5 parts by weight Aluminum hydroxide 10 parts by weight Nickel particles were dispersed in a 45% by weight varnish of cyclohexanone / methyl ethyl ketone (1/1 weight ratio) so as to be 30% by volume.
【0025】(実施例4)厚さ50μmのPETフィル
ム(東洋紡績株式会社製商品名、A−4100)を用
い、その表面にプライマ(日立化成工業株式会社製商品
名、HP−1、塗布厚 1μm)を塗布し、凹版オフセ
ット印刷法を用いて黒色色素(日本化薬株式会社製商品
名、Kayaset BlackG)を0.5重量%含有するエポキシ
・フェノール樹脂をバインダ(日立化成工業株式会社製
商品名、TBA−HMEと東都化成株式会社製商品名、
YD−8125のブレンド品)にした銅ペーストの格子
パターン(ライン幅20μm、ライン間隔(ピッチ)2
50μm、ペースト厚み2μm)を形成した。その後、
150℃で3時間ペースト樹脂を加熱硬化した。出来上
った銅ペーストの格子パターンに無電解銅めっき(日立
化成工業株式会社製商品名、CUST−201)によっ
て、1μm厚の銅めっき層を形成し、さらにその上に接
着剤層として、アクリル樹脂(帝国化学産業株式会社製
商品名、HTR-811、軟化点-43℃、平均分子量42万、n=1.
52)を乾燥塗布厚が20μmになるように塗布し、電磁
波シールド性接着フィルムを作製した。本フィルムの開
口率は84%であった。Example 4 A 50 μm thick PET film (trade name, A-4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was used, and a primer (trade name, HP-1, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., HP-1) was applied on the surface. 1 μm), and using an intaglio offset printing method, an epoxy phenol resin containing 0.5% by weight of a black pigment (trade name, Kayaset BlackG, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a binder (a product manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) Name, TBA-HME and Toto Kasei Co., Ltd. product name,
Lattice pattern (line width 20 μm, line interval (pitch)) 2 of copper paste formed into a blended product of YD-8125
50 μm, and a paste thickness of 2 μm). afterwards,
The paste resin was cured by heating at 150 ° C. for 3 hours. A 1 μm thick copper plating layer is formed on the grid pattern of the completed copper paste by electroless copper plating (trade name, CUST-201, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), and an acrylic layer is further formed thereon as an adhesive layer. Resin (trade name, manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd., HTR-811, softening point -43 ° C, average molecular weight 420,000, n = 1.
52) was applied so as to have a dry coating thickness of 20 μm to prepare an electromagnetic shielding adhesive film. The opening ratio of this film was 84%.
【0026】(実施例5)厚さ50μmのPETフィル
ム(東洋紡績株式会社製商品名、A−4100)を用
い、その表面にプライマ(日立化成工業株式会社製商品
名、HP−1、塗布厚 1μm)を塗布し、凹版オフセ
ット印刷法を用いてカーボンブラック(ライオン株式会
社製商品名、ケッチェンブラックEC−600:平均粒
径0.03μm)を1重量%含有する銀ペースト(日立
化成工業株式会社製商品名、エピマールEM−450
0)の格子パターン(ライン幅20μm、ライン間隔
(ピッチ)250μm、ペースト厚み2μm)を形成し
た。その後、160℃で2時間ペースト樹脂を加熱硬化
した。出来上った銀ペーストの格子パターンに電解銅め
っきによって、5μm厚の銅めっき層を形成し、さらに
その上に接着剤層として、ポリビニルブチラール樹脂
(電気化学工業株式会社製商品名、#6000EP、軟化点72
℃、分子量2,400、n=1.52)を乾燥塗布厚が20μmに
なるように塗布し、電磁波シールド性接着フィルムを作
製した。本フィルムの開口率は84%であった。Example 5 A 50 μm-thick PET film (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd., A-4100) was used, and a primer (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., HP-1, HP-1) was applied to the surface. 1 μm), and a silver paste containing 1% by weight of carbon black (trade name, manufactured by Lion Corporation, Ketjen Black EC-600: average particle size 0.03 μm) using an intaglio offset printing method (Hitachi Chemical Industry Co., Ltd.) Company name, Epimar EM-450
0) was formed (line width 20 μm, line interval (pitch) 250 μm, paste thickness 2 μm). Thereafter, the paste resin was cured by heating at 160 ° C. for 2 hours. A 5 μm thick copper plating layer is formed by electrolytic copper plating on the lattice pattern of the completed silver paste, and a polyvinyl butyral resin (trade name, # 6000EP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., Softening point 72
C., molecular weight of 2,400, n = 1.52) so as to have a dry coating thickness of 20 μm to produce an electromagnetic shielding adhesive film. The opening ratio of this film was 84%.
【0027】(実施例6)実施例1で得られた電磁波シ
ールド性接着フィルムの接着剤層面を市販のアクリル板
(株式会社クラレ製商品名、コモグラス、厚み3mm)
およびその反対側面を厚さ3mmの市販のソーダライム
ガラスに接着フィルム(積水化学工業株式会社製商品
名、エスレック、厚さ250μm)を介して熱プレス機
を使用し110℃、20Kgf/cm2、15分の条件
で加熱圧着し電磁波遮蔽構成体を得た。Example 6 The adhesive layer surface of the electromagnetic wave shielding adhesive film obtained in Example 1 was coated on a commercially available acrylic plate (commercial glass, Kuraray Co., Ltd., thickness 3 mm).
And the opposite side thereof to a commercially available soda lime glass having a thickness of 3 mm using a hot press through an adhesive film (trade name, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., Esrec, 250 μm in thickness) at 110 ° C., 20 kgf / cm 2 , It was heated and pressed under the conditions of 15 minutes to obtain an electromagnetic wave shielding structure.
【0028】(比較例1)実施例1で使用したPETフ
ィルム、プライマ、導電性ペースト及び接着剤を用い、
凹版オフセット印刷法の代わりに、スクリーン印刷法を
使用して、ライン幅25μm、ライン間隔(ピッチ)2
50μmの格子パターンを形成したが、ラインのにじ
み、かすれ、断線が多数発生した。また平均のペースト
厚みは10μm以上であった。Comparative Example 1 Using the PET film, primer, conductive paste and adhesive used in Example 1,
Instead of the intaglio offset printing method, using a screen printing method, a line width of 25 μm and a line interval (pitch) of 2
Although a grid pattern of 50 μm was formed, many lines were blurred, blurred, and disconnected. The average paste thickness was 10 μm or more.
【0029】(比較例2)実施例1で使用したPETフ
ィルム、プライマ、導電性ペースト及び接着剤を用い、
凹版オフセット印刷法の代わりに、平版オフセット印刷
法を使用して、実施例1と同様の格子パターンを形成し
ようとしたが、にじみが発生するため、25μmのライ
ン幅形成はできなかった。印刷可能な最小ライン幅は5
0μm程度であった。また凸版オフセット印刷法でも同
様に25μmのライン幅の形成はできなかった。Comparative Example 2 Using the PET film, primer, conductive paste and adhesive used in Example 1,
Instead of the intaglio offset printing method, a lithographic offset printing method was used to form the same lattice pattern as in Example 1. However, because of bleeding, a line width of 25 μm could not be formed. Minimum printable line width is 5
It was about 0 μm. Similarly, a 25 μm line width could not be formed by the letterpress offset printing method.
【0030】(比較例3)実施例1で使用したPETフ
ィルム、プライマ、導電性ペースト及び接着剤を用い、
ライン幅45μm、ライン間隔(ピッチ)125μm、
ペースト厚み2μmの格子パターンを形成した。その
後、実施例1と同様にして、150℃で3時間ペースト
樹脂を加熱硬化し、電磁波シールド性接着フィルムを作
製した。本フィルムの開口率は40%であった。Comparative Example 3 Using the PET film, primer, conductive paste and adhesive used in Example 1,
Line width 45 μm, line interval (pitch) 125 μm,
A lattice pattern having a paste thickness of 2 μm was formed. Thereafter, in the same manner as in Example 1, the paste resin was heated and cured at 150 ° C. for 3 hours to produce an electromagnetic wave shielding adhesive film. The opening ratio of this film was 40%.
【0031】(比較例4)実施例2でPETフィルム、
プライマ層を形成し、導電性ペーストを用いて、ライン
幅20μm、ライン間隔(ピッチ)286μm、ペース
ト厚み3μmの格子パターンを形成した。その後、実施
例2と同様にして、160℃で2時間ペースト樹脂を加
熱硬化し、接着剤層を有しない電磁波シールド性接着フ
ィルムを作製した。本フィルムの開口率は86%であっ
た。(Comparative Example 4) The PET film of Example 2
A primer layer was formed, and a grid pattern having a line width of 20 μm, a line interval (pitch) of 286 μm, and a paste thickness of 3 μm was formed using a conductive paste. Thereafter, the paste resin was heated and cured at 160 ° C. for 2 hours in the same manner as in Example 2 to produce an electromagnetic wave shielding adhesive film having no adhesive layer. The opening ratio of this film was 86%.
【0032】(参考例1)透明プラスチック支持体とし
て厚さ25μmで、表面をサンドブラスト処理したポリ
イミドフィルム(東レ・デュポン株式会社製商品名、カ
プトン、可視光透過率18%)を用いた以外は実施例1
で使用したプライマ、導電性ペースト及び接着剤を用い
て電磁波シールド性接着フィルムを作製した。Reference Example 1 The procedure was carried out except that a polyimide film (trade name, Kapton, visible light transmittance 18%, manufactured by Du Pont-Toray Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm and having a sandblasted surface was used as a transparent plastic support. Example 1
The electromagnetic wave shielding adhesive film was produced using the primer, the conductive paste and the adhesive used in the above.
【0033】(参考例2)接着剤層として下記組成物を
使用し、乾燥塗布厚を25μmとした以外の条件は実施
例2と同様にして電磁波シールド性接着フィルムを作製
した。 (1)YD−8125(東都化成株式会社製商品名;ビスフェノールA型エポキ シ樹脂、Mw=30万) 100重量部 (2)IPDI(日立化成工業株式会社製;マスクイソホロンジイソシアネート 12.5重量部 (3)2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3重量部 (4)UFP−HX(赤外線吸収剤:住友金属鉱山株式会社製商品名;ITO、 平均粒径0.1μm) 0.4重量部 (5)MEK 330重量部 (6)シクロヘキサノン 15重量部 本組成物の溶媒乾燥後の屈折率は1.57、軟化点は2
00℃以上であった。Reference Example 2 An electromagnetic wave shielding adhesive film was prepared in the same manner as in Example 2 except that the following composition was used as the adhesive layer and the dry coating thickness was 25 μm. (1) 100 parts by weight of YD-8125 (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd .; bisphenol A type epoxy resin, Mw = 300,000) (2) IPDI (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd .; 12.5 parts by weight of mask isophorone diisocyanate) (3) 0.3 parts by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole (4) 0.4 parts by weight of UFP-HX (infrared absorbent: trade name, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd .; ITO, average particle size: 0.1 μm) (5) MEK 330 parts by weight (6) Cyclohexanone 15 parts by weight The refractive index of the composition after solvent drying is 1.57, and the softening point is 2
It was 00 ° C or higher.
【0034】以上のようにして得られた電磁波シールド
性接着フィルム、電磁波遮蔽構成体の導電性ペーストま
たは導電性ペーストと金属めっきで描かれた幾何学図形
の開口率、印刷パターンの異常の有無、電磁波シールド
性(300MHz)、可視光透過率、非視認性、コント
ラスト、ガラス板への密着性を測定した。その測定結果
を表1に示した。The electromagnetic wave shielding adhesive film obtained as described above, the conductive paste of the electromagnetic wave shielding structure or the aperture ratio of the geometrical figure drawn by the conductive paste and the metal plating, the presence or absence of abnormality in the printed pattern, Electromagnetic wave shielding properties (300 MHz), visible light transmittance, invisibility, contrast, and adhesion to a glass plate were measured. Table 1 shows the measurement results.
【0035】導電性ペーストまたは導電性ペーストと金
属めっきで描かれた幾何学図形の開口率は顕微鏡写真を
もとに実測した。電磁波シールド性は、同軸導波管変換
器(日本高周波株式会社製商品名、TWC−S−02
4)のフランジ間に試料を挿入し、スペクトラムアナラ
イザー(YHP製商品名、8510Bベクトルネットワ
ークアナライザー)を用い、周波数300MHzで測定
した。可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光光度計
(株式会社日立製作所製商品名、200−10型)を用
いて、400〜700nmの透過率の平均値を用いた。
印刷パターンの異常の有無、非視認性及びコントラスト
は肉眼観察により判定した。非視認性は、電磁波シール
ド性接着フィルムを0.5m離れた場所から観察し、導
電性材料で形成された幾何学図形を認識できないものを
良好、認識できるものをNGとした。コントラストは、
電磁波シールド性接着フィルムをプラズマディスプレイ
装置の画面に密着させ、コントラストについて観察し、
コントラストに優れているものを良好、そうでないもの
をNGとして評価した。電磁波シールド性接着フィルム
のガラスへの密着性は、フィルムを、ロールラミネータ
を用い、110℃、5Kgf/cm2でガラスと接着させ、接
着力を測定した。The aperture ratio of the conductive paste or a geometric figure drawn by the conductive paste and the metal plating was actually measured based on a micrograph. The electromagnetic wave shielding property is measured using a coaxial waveguide converter (trade name, TWC-S-02, manufactured by Japan High Frequency Corporation).
The sample was inserted between the flanges of 4), and measured at a frequency of 300 MHz using a spectrum analyzer (trade name, manufactured by YHP, 8510B vector network analyzer). The visible light transmittance was measured using a double beam spectrophotometer (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd., Model 200-10), and the average value of the transmittance at 400 to 700 nm was used.
The presence / absence, invisibility and contrast of the printed pattern were determined by visual observation. Regarding the non-visibility, the electromagnetic wave shielding adhesive film was observed from a place 0.5 m away, and those which could not recognize the geometrical figure formed of the conductive material were good, and those which could recognize it were NG. The contrast is
Adhere the electromagnetic shielding adhesive film to the screen of the plasma display device, observe the contrast,
Those with excellent contrast were evaluated as good, and those with poor contrast were evaluated as NG. The adhesion of the electromagnetic wave shielding adhesive film to glass was measured by bonding the film to glass at 110 ° C. and 5 kgf / cm 2 using a roll laminator, and measuring the adhesive force.
【0036】[0036]
【表1】 [Table 1]
【0037】比較例1はスクリーン印刷法を使用してラ
イン幅25μm、ライン間隔(ピッチ)250μmの格
子パターンの形成を試みたものであるが、ラインのにじ
み、かすれ、断線が多数発生した。比較例2は、平版オ
フセット印刷法および、凸版オフセット印刷法を用いて
パターン形成を試みたものであるが、印刷可能な最小ラ
イン幅は50μmであった。比較例3はライン幅を45
μm、ライン間隔(ピッチ)を125μmの格子パター
ンとしたものであるが、開口率は40%に留まった。比
較例4は接着剤層を設けないで、電磁波シールド性接着
フィルムを作製したものであるが、ガラスに対する接着
性はなかった。参考例1は透明プラスチック支持体とし
て厚さ25μmのポリイミドフィルムを使用したもので
あるが、可視光透過率が15%以下となった。参考例2
は接着剤層として、軟化点が200℃以上のものを用い
たものであるが、比較例4と同様、ガラスへの接着性は
実現しなかった。これらの比較例に対して、本発明の実
施例で示した、透明プラスチック支持体、導電性ペース
ト及び接着剤層がこの順に配置された構成体において、
導電性ペーストが凹版オフセット印刷法により描かれた
幾何学図形を有し、その開口率が50%以上の電磁波シ
ールド性接着フィルムはラインのにじみ、かすれ、断線
がなく、印刷可能な最小ライン幅は20μm以下と良好
であった。そして、開口率が高く明るい割に電磁波シー
ルド性が30dB以上で、更に導電ペーストで描かれた
幾何学図形に金属めっきを施すことにより電磁波シール
ド性を50dB以上とすることができる。また、黒化処
理することにより、コントラストが良好になり、くっき
りした画像を鑑賞できる。さらに、ガラスなどの被着体
に対して、良好な接着性を発現する。In Comparative Example 1, an attempt was made to form a grid pattern with a line width of 25 μm and a line interval (pitch) of 250 μm by using a screen printing method, but many lines were blurred, blurred, and disconnected. In Comparative Example 2, pattern formation was attempted using the lithographic offset printing method and the letterpress offset printing method, and the minimum printable line width was 50 μm. Comparative Example 3 has a line width of 45
In this example, a grid pattern having a line spacing (pitch) of 125 μm was used, but the aperture ratio was only 40%. In Comparative Example 4, an electromagnetic wave shielding adhesive film was produced without providing an adhesive layer, but had no adhesiveness to glass. In Reference Example 1, a 25 μm thick polyimide film was used as a transparent plastic support, and the visible light transmittance was 15% or less. Reference example 2
Used an adhesive layer having a softening point of 200 ° C. or higher, but did not realize adhesion to glass as in Comparative Example 4. For these comparative examples, in the structure in which the transparent plastic support, the conductive paste, and the adhesive layer were arranged in this order, as shown in the examples of the present invention,
The conductive paste has a geometric figure drawn by intaglio offset printing, and its electromagnetic wave shielding adhesive film with an aperture ratio of 50% or more is free from line bleeding, blurring, disconnection, and the minimum printable line width is It was as good as 20 μm or less. The electromagnetic wave shielding property is 30 dB or more in spite of the high aperture ratio and high brightness, and the electromagnetic wave shielding property can be made 50 dB or more by applying metal plating to a geometric figure drawn with a conductive paste. In addition, by performing the blackening process, the contrast is improved, and a clear image can be viewed. Furthermore, it exhibits good adhesiveness to an adherend such as glass.
【0038】[0038]
【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールド性接着
フィルムは凹版オフセット印刷法を使用して製造してい
るため、電磁波シールド性、透明性、非視認性及びガラ
スなどへの接着性に優れた電磁波シールド性接着フィル
ムを安価に提供することが可能である。請求項2に記載
の導電性ペースト上に金属めっきを施すことにより、電
磁波シールド性が非常に優れた電磁波シールド性接着フ
ィルムを提供することができる。請求項3に記載の導電
性ペーストを黒色のペーストにすることにより安価でコ
ントラストの優れた電磁波シールド性接着フィルムを提
供することができる。請求項4に記載の導電性ペースト
上の金属めっきを黒化処理することによりコントラスト
の優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供すること
ができる。請求項5に記載の接着剤層の軟化温度を20
0℃以下とすることにより、被着体に対する密着性の優
れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することがで
きる。Since the electromagnetic wave shielding adhesive film obtained in the present invention is manufactured by using an intaglio offset printing method, it is excellent in electromagnetic wave shielding, transparency, invisibility and adhesion to glass and the like. It is possible to provide the electromagnetic wave shielding adhesive film at low cost. By applying metal plating to the conductive paste according to claim 2, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having extremely excellent electromagnetic wave shielding properties. By using the conductive paste according to claim 3 as a black paste, it is possible to provide an inexpensive electromagnetic shielding adhesive film having excellent contrast. By subjecting the metal plating on the conductive paste according to claim 4 to blackening treatment, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent contrast. The softening temperature of the adhesive layer according to claim 5 is 20.
When the temperature is 0 ° C. or lower, an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent adhesion to an adherend can be provided.
【0039】請求項6に記載の屈折率が1.45〜1.
70の範囲にある接着剤層とすることにより、透明性に
優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することが
できる。請求項7に記載の接着剤層の厚さを導電性ペー
ストまたは導電性ペーストとその上に金属めっきされた
厚さ以上とすることにより、透明性及び接着性に優れた
電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ
る。請求項8に記載の凹版オフセット印刷法において、
紫外線(UV)または熱で硬化する導電性ペーストにす
ることにより、安価で信頼性に優れた電磁波シールド性
接着フィルムを提供することができる。請求項9に記載
の導電性ペーストで描かれた幾何学図形のライン幅が4
0μm以下、ライン間隔が100μm以上、ライン厚さ
が40μm以下とすることにより、透明性と電磁波シー
ルド性が非常に良好な電磁波シールド性接着フィルムを
提供することができる。請求項10に記載の導電性ペー
ストを形成する導電性フィラーを銀、銅、ニッケルまた
はそれらいずれかを含む合金とすることにより、透明性
と電磁波シールド性に優れた電磁波シールド性接着フィ
ルムを提供することができる。請求項11に記載の透明
プラスチック支持体が表面処理された透明プラスチック
支持体とすることにより、電磁波シールド性及び接着信
頼性の優れた電磁波シールド性接着フィルムを得ること
ができる。請求項12に記載の透明プラスチック支持体
の表面処理方法を、プライマ処理、プラズマ処理、コロ
ナ放電処理のうちの少なくとも1つ以上の方法を使用す
ることにより電磁波シールド性及び接着信頼性の優れた
電磁波シールド性接着フィルムを安価に得ることができ
る。請求項13に記載の透明プラスチック支持体をポリ
エチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネー
トフィルムとすることにより、透明性の優れた電磁波シ
ールド性接着フィルムを安価に提供することができる。
請求項14に記載の電磁波シールド性接着フィルムと透
明板から構成された電磁波遮蔽構成体とすることによ
り、透明性を有する電磁波シールド性基板を提供するこ
とができる。請求項15に記載の電磁波シールド性と透
明性を有する電磁波シールド性接着フィルムまたは前記
電磁波遮蔽構成体をディスプレイに用いることにより、
軽量、コンパクトで透明性に優れ電磁波漏洩が少ないデ
ィスプレイを提供することができる。The refractive index according to claim 6 is 1.45 to 1.
By setting the adhesive layer in the range of 70, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent transparency. By setting the thickness of the adhesive layer according to claim 7 to be equal to or greater than the thickness of the conductive paste or the conductive paste and the thickness of metal plating thereon, an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent transparency and adhesiveness can be obtained. Can be provided. In the intaglio offset printing method according to claim 8,
By using a conductive paste that is cured by ultraviolet light (UV) or heat, an inexpensive and highly reliable electromagnetic wave shielding adhesive film can be provided. 10. The geometric figure drawn with the conductive paste according to claim 9 has a line width of 4.
By setting the line thickness to 0 μm or less, the line interval to 100 μm or more, and the line thickness to 40 μm or less, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent transparency and electromagnetic wave shielding properties. By providing the conductive filler forming the conductive paste according to claim 10 with silver, copper, nickel or an alloy containing any of them, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding adhesive film excellent in transparency and electromagnetic wave shielding properties. be able to. When the transparent plastic support according to the eleventh aspect is a transparent plastic support having a surface treatment, it is possible to obtain an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent electromagnetic wave shielding properties and adhesion reliability. An electromagnetic wave having excellent electromagnetic wave shielding properties and adhesion reliability by using at least one of a primer treatment, a plasma treatment, and a corona discharge treatment as the surface treatment method for a transparent plastic support according to claim 12. The shielding adhesive film can be obtained at low cost. By making the transparent plastic support according to claim 13 a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film, an electromagnetic wave shielding adhesive film having excellent transparency can be provided at low cost.
By providing the electromagnetic wave shielding structure composed of the electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 14 and a transparent plate, it is possible to provide a transparent electromagnetic wave shielding substrate. By using the electromagnetic wave shielding adhesive film having the electromagnetic wave shielding property and transparency according to claim 15 or the electromagnetic wave shielding structure for a display,
It is possible to provide a display that is lightweight, compact, has excellent transparency, and has low electromagnetic wave leakage.
【0040】電磁波シールド性接着フィルムをディスプ
レイに使用した場合、可視光透過率が大きく、非視認性
が良好であるのでディスプレイの輝度を高めることなく
通常の状態とほぼ同様の条件下で鮮明な画像を快適に鑑
賞することができる。しかも本フィルム自体接着性を有
するため、容易に被着体に貼合わせることができる。本
発明の電磁波シールド性接着フィルム及び電磁波遮蔽構
成体は、電磁波シールド性や透明性に優れているため、
ディスプレイの他に電磁波を発生したり、あるいは電磁
波から保護する測定装置、測定機器や製造装置の内部を
のぞく窓や筐体、特に透明性を要求される窓のような部
位に設けて使用することができる。When the electromagnetic wave shielding adhesive film is used for a display, the visible light transmittance is large and the invisibility is good, so that a clear image can be obtained under almost the same conditions as in a normal state without increasing the luminance of the display. Can be comfortably viewed. Moreover, since the film itself has adhesiveness, it can be easily bonded to an adherend. The electromagnetic wave shielding adhesive film and the electromagnetic wave shielding structure of the present invention are excellent in electromagnetic wave shielding properties and transparency,
Measuring equipment that generates or protects against electromagnetic waves in addition to displays, windows and housings that look inside measuring equipment and manufacturing equipment, especially in areas such as windows that require transparency. Can be.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 登坂 実 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 橋塲 綾 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 中祖 昭士 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社筑波開発研究所内 Fターム(参考) 5E321 AA04 AA23 BB23 BB25 BB32 BB44 CC16 GG05 GH01 5G435 AA00 AA14 AA16 AA17 GG16 GG33 HH02 HH12 KK07 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (72) Inventor Minoru Tosaka 1500 Oji Ogawa, Shimodate City, Ibaraki Pref.Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd. Inside the Shimodate Research Laboratory of the Company (72) Inventor Akishi Nakaso 48 Wadai, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd. GG33 HH02 HH12 KK07
Claims (15)
ト、接着剤層がこの順に配置された構成体であり、導電
性ペーストが凹版オフセット印刷法により描かれた幾何
学図形を有し、その開口率が50%以上であることを特
徴とする電磁波シールド性接着フィルム。1. A structure in which a transparent plastic support, a conductive paste, and an adhesive layer are arranged in this order, wherein the conductive paste has a geometrical pattern drawn by intaglio offset printing, and an aperture ratio thereof. Is 50% or more.
ていることを特徴とする請求項1に記載の電磁波シール
ド性接着フィルム。2. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein metal plating is applied on the conductive paste.
請求項1または請求項2に記載の電磁波シールド性接着
フィルム。3. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the conductive paste is a black paste.
理されていることを特徴とする請求項2または請求項3
に記載の電磁波シールド性接着フィルム。4. The method according to claim 2, wherein the metal plating on the conductive paste is blackened.
The electromagnetic wave shielding adhesive film according to 1.
る請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の電磁波シ
ールド性接着フィルム。5. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the adhesive layer has a softening temperature of 200 ° C. or lower.
範囲にある請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の
電磁波シールド性接着フィルム。6. The adhesive film according to claim 1, wherein the adhesive layer has a refractive index in the range of 1.45 to 1.70.
導電性ペーストとその上に金属めっきされた厚さ以上で
あることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれ
かに記載の電磁波シールド性接着フィルム。7. The method according to claim 1, wherein the thickness of the adhesive layer is not less than the thickness of the conductive paste or the conductive paste and the metal plated thereon. Electromagnetic wave shielding adhesive film.
性ペーストを用いたことを特徴とする請求項1ないし請
求項7のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。8. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein a conductive paste that is cured by ultraviolet light (UV) or heat is used.
ライン幅が40μm以下、ライン間隔が100μm以
上、ライン厚さが40μm以下である請求項1ないし請
求項8のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィル
ム。9. The electromagnetic wave according to claim 1, wherein a line width of the geometrical figure drawn by the conductive paste is 40 μm or less, a line interval is 100 μm or more, and a line thickness is 40 μm or less. Shielding adhesive film.
ラーが銀、銅、ニッケル、またはそれらのいずれかを含
む合金である請求項1ないし請求項9のいずれかに記載
の電磁波シールド性接着フィルム。10. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the conductive filler forming the conductive paste is silver, copper, nickel, or an alloy containing any of them.
れたプラスチック支持体である請求項1ないし請求項1
0のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。11. The plastic support according to claim 1, wherein the transparent plastic support is a surface-treated plastic support.
0. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any of 1.
が、プライマ塗布、プラズマ処理またはコロナ放電処理
のうちの少なくとも1つ以上の方法を用いる請求項1な
いし請求項11のいずれかに記載の電磁波シールド性接
着フィルム。12. The electromagnetic wave shielding property according to claim 1, wherein the surface treatment of the transparent plastic support uses at least one of primer coating, plasma treatment and corona discharge treatment. Adhesive film.
ンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィ
ルムである請求項1ないし請求項12のいずれかに記載
の電磁波シールド性接着フィルム。13. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1, wherein the transparent plastic support is a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film.
に記載の電磁波シールド性接着フィルムと透明板から構
成された電磁波遮蔽構成体。14. An electromagnetic wave shielding structure comprising the electromagnetic wave shielding adhesive film according to claim 1 and a transparent plate.
に記載の電磁波シールド性接着フィルムまたは請求項1
4に記載の電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。15. The electromagnetic wave shielding adhesive film according to any one of claims 1 to 13, or claim 1.
A display using the electromagnetic wave shielding component according to 4.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22251198A JP2000059080A (en) | 1998-08-06 | 1998-08-06 | Electromagnetic wave shielding adhesive film and electromagnetic wave shielding structure using the film, and display |
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Publications (1)
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Family
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---|---|---|---|
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