JP2000052554A - 素子構造及びインクジェット式記録ヘッド並びにインクジェット式記録装置 - Google Patents
素子構造及びインクジェット式記録ヘッド並びにインクジェット式記録装置Info
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Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板上に設けた素子とこの素子に電力を供給
する配線とを容易に接続でき、且つ小型化が可能な素子
構造及びインクジェット式記録ヘッド並びにインクジェ
ット式記録装置を提供する。 【解決手段】 流路形成基板10の一方面側に設けられ
た圧電素子とこの圧電素子と電気的に接続されるリード
電極110とを具備する素子構造において、流路形成基
板10の圧電素子に対向する領域に設けられ且つ圧電素
子の厚さ方向に所定弾性変形可能な梁部111を具備
し、この梁部111上に圧電素子とリード電極110と
の電気的な接点部112を設けることにより、圧電素子
とリード電極とを容易に接続できる。
する配線とを容易に接続でき、且つ小型化が可能な素子
構造及びインクジェット式記録ヘッド並びにインクジェ
ット式記録装置を提供する。 【解決手段】 流路形成基板10の一方面側に設けられ
た圧電素子とこの圧電素子と電気的に接続されるリード
電極110とを具備する素子構造において、流路形成基
板10の圧電素子に対向する領域に設けられ且つ圧電素
子の厚さ方向に所定弾性変形可能な梁部111を具備
し、この梁部111上に圧電素子とリード電極110と
の電気的な接点部112を設けることにより、圧電素子
とリード電極とを容易に接続できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の一方面に設
けられた素子とこの素子に電気的に接続される配線とを
接続する素子構造に関し、特に、圧力発生室の一部を弾
性膜で構成してこの弾性膜の表面に圧電素子を有し、こ
の素子構造を具備するインクジェット式記録ヘッド並び
にインクジェット式記録装置に関する。
けられた素子とこの素子に電気的に接続される配線とを
接続する素子構造に関し、特に、圧力発生室の一部を弾
性膜で構成してこの弾性膜の表面に圧電素子を有し、こ
の素子構造を具備するインクジェット式記録ヘッド並び
にインクジェット式記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】インク滴を吐出するノズル開口と連通す
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧して
ノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦
振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、た
わみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したものの
2種類が実用化されている。
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧して
ノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦
振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、た
わみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したものの
2種類が実用化されている。
【0003】前者は圧電素子の端面を振動板に当接させ
ることにより圧力発生室の容積を変化させることができ
て、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛
歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた
圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必
要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
ることにより圧力発生室の容積を変化させることができ
て、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛
歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた
圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必
要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
【0004】これに対して後者は、圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作
り付けることができるものの、たわみ振動を利用する関
係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難
であるという問題がある。
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作
り付けることができるものの、たわみ振動を利用する関
係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難
であるという問題がある。
【0005】一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消す
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案さ
れている。
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案さ
れている。
【0006】これによれば圧電素子を振動板に貼付ける
作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、か
つ簡便な手法で圧電素子を作り付けることができるばか
りでなく、圧電素子の厚みを薄くできて高速駆動が可能
になるという利点がある。
作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、か
つ簡便な手法で圧電素子を作り付けることができるばか
りでなく、圧電素子の厚みを薄くできて高速駆動が可能
になるという利点がある。
【0007】また、このようなたわみモードの圧電アク
チュエータを使用した記録ヘッドでは、一般には、各圧
力発生室に対応する圧電素子は絶縁体層で覆われ、この
絶縁体層には各圧電アクチュエータを駆動するための電
圧を供給するリード電極との接続部を形成するための窓
(以下、コンタクトホールという)が各圧力発生室に対
応して設けられており、各圧電素子とリード電極との接
続部がコンタクトホール内に形成される。
チュエータを使用した記録ヘッドでは、一般には、各圧
力発生室に対応する圧電素子は絶縁体層で覆われ、この
絶縁体層には各圧電アクチュエータを駆動するための電
圧を供給するリード電極との接続部を形成するための窓
(以下、コンタクトホールという)が各圧力発生室に対
応して設けられており、各圧電素子とリード電極との接
続部がコンタクトホール内に形成される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たインクジェット式記録ヘッドでは、圧電素子上に形成
された絶縁体層が振動板の変位を抑制してしまい、変位
量が小さくなってしまうという問題がある。また、振動
板を形成した基板上で電力供給のための配線を引き回す
ため、圧電素子のレイアウトに制限がでてしまう。さら
に、基板の面積が大きくなってしまい、コストがかかる
という問題もある。
たインクジェット式記録ヘッドでは、圧電素子上に形成
された絶縁体層が振動板の変位を抑制してしまい、変位
量が小さくなってしまうという問題がある。また、振動
板を形成した基板上で電力供給のための配線を引き回す
ため、圧電素子のレイアウトに制限がでてしまう。さら
に、基板の面積が大きくなってしまい、コストがかかる
という問題もある。
【0009】また、このような問題はインクジェット式
記録ヘッドだけではなく、基板の一方側に素子を具備す
る装置についても同様に存在する。
記録ヘッドだけではなく、基板の一方側に素子を具備す
る装置についても同様に存在する。
【0010】本発明は、このような事情に鑑み、基板上
に設けた素子とこの素子に電力を供給する配線とを容易
に接続でき、且つ小型化が可能な素子構造及びインクジ
ェット式記録ヘッド並びにインクジェット式記録装置を
提供することを課題とする。
に設けた素子とこの素子に電力を供給する配線とを容易
に接続でき、且つ小型化が可能な素子構造及びインクジ
ェット式記録ヘッド並びにインクジェット式記録装置を
提供することを課題とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の態様は、
基板の一方面側に設けられた素子とこの素子と電気的に
接続される配線とを具備する素子構造において、前記基
板の前記素子に対向する領域に設けられ且つ前記素子の
厚さ方向に所定弾性変形可能な梁部を具備し、この梁部
上に前記素子と前記配線との電気的な接点部を設けたこ
とを特徴とする素子構造にある。
基板の一方面側に設けられた素子とこの素子と電気的に
接続される配線とを具備する素子構造において、前記基
板の前記素子に対向する領域に設けられ且つ前記素子の
厚さ方向に所定弾性変形可能な梁部を具備し、この梁部
上に前記素子と前記配線との電気的な接点部を設けたこ
とを特徴とする素子構造にある。
【0012】かかる第1の態様では、基板に設けられた
素子と配線とを容易に且つ確実に接続することができ
る。
素子と配線とを容易に且つ確実に接続することができ
る。
【0013】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記梁部が、前記基板の前記素子側に対向して設け
られた第2の基板から前記素子に向かって突出するよう
に設けられていることを特徴とする素子構造にある。
て、前記梁部が、前記基板の前記素子側に対向して設け
られた第2の基板から前記素子に向かって突出するよう
に設けられていることを特徴とする素子構造にある。
【0014】かかる第2の態様では、素子を具備する基
板と配線を具備する第2の基板とを接合することによ
り、素子と配線とを容易に接続することができ、基板上
に配線領域を確保する必要がない。
板と配線を具備する第2の基板とを接合することによ
り、素子と配線とを容易に接続することができ、基板上
に配線領域を確保する必要がない。
【0015】本発明の第3の態様は、第1又は2の態様
において、前記梁部は、前記素子と前記接点部との接続
前に、予め前記素子側に変形している片持ち梁であるこ
とを特徴とする素子構造にある。
において、前記梁部は、前記素子と前記接点部との接続
前に、予め前記素子側に変形している片持ち梁であるこ
とを特徴とする素子構造にある。
【0016】かかる第3の態様では、素子に余分な負荷
を与えることなく、素子と配線とを接続することがで
き、素子の変位を許容することができる。
を与えることなく、素子と配線とを接続することがで
き、素子の変位を許容することができる。
【0017】本発明の第4の態様は、第3の態様におい
て、前記梁部は、当該梁部の厚さ方向の内部応力の違い
によって前記素子側に変形している片持ち梁であること
を特徴とする素子構造にある。
て、前記梁部は、当該梁部の厚さ方向の内部応力の違い
によって前記素子側に変形している片持ち梁であること
を特徴とする素子構造にある。
【0018】かかる第4の態様では、梁部の内部応力の
違いを利用して、梁部の先端を素子側に容易に変形させ
ることができる。
違いを利用して、梁部の先端を素子側に容易に変形させ
ることができる。
【0019】本発明の第5の態様は、第3又は4の態様
において、前記梁部上に設けられた前記接点部が、前記
素子の表面と略平行に形成されていることを特徴とする
素子構造にある。
において、前記梁部上に設けられた前記接点部が、前記
素子の表面と略平行に形成されていることを特徴とする
素子構造にある。
【0020】かかる第5の態様では、接点部の面積を増
加することができ、素子と配線とをより確実に接続でき
る。
加することができ、素子と配線とをより確実に接続でき
る。
【0021】本発明の第6の態様は、第5の態様におい
て、前記梁部の基端部側が、前記素子側とは反対側に凸
に且つ先端側で前記素子側に凸に湾曲していることを特
徴とする素子構造にある。
て、前記梁部の基端部側が、前記素子側とは反対側に凸
に且つ先端側で前記素子側に凸に湾曲していることを特
徴とする素子構造にある。
【0022】かかる第6の態様では、梁部が確実に素子
側に突出し、且つ比較的広い面積で素子と配線とを接続
することができる。
側に突出し、且つ比較的広い面積で素子と配線とを接続
することができる。
【0023】本発明の第7の態様は、第5又は6の態様
において、前記梁部の基端部側は前記素子側が相対的に
引張りが強く、前記接点部は前記素子側が相対的に引張
りが弱くなるように、異なる残留歪みを持つ膜をパター
ニングして前記梁部を形成することを特徴とする素子構
造にある。
において、前記梁部の基端部側は前記素子側が相対的に
引張りが強く、前記接点部は前記素子側が相対的に引張
りが弱くなるように、異なる残留歪みを持つ膜をパター
ニングして前記梁部を形成することを特徴とする素子構
造にある。
【0024】かかる第7の態様では、梁部の内部応力を
利用して、梁部を所定形状に容易に変形させることがで
きる。
利用して、梁部を所定形状に容易に変形させることがで
きる。
【0025】本発明の第8の態様は、第3又は4の態様
において、前記梁部が前記素子側を内側にして巻回され
ていることを特徴とする素子構造にある。
において、前記梁部が前記素子側を内側にして巻回され
ていることを特徴とする素子構造にある。
【0026】かかる第8の態様では、梁部を巻回させる
ことにより、より容易に厚さ方向に弾性変形可能な梁部
を形成することができる。
ことにより、より容易に厚さ方向に弾性変形可能な梁部
を形成することができる。
【0027】本発明の第9の態様は、第1〜7の何れか
の態様において、前記梁部が延性を有する材料で形成さ
れ、且つ塑性変形により前記素子側に変形されているこ
とを特徴とする素子構造にある。
の態様において、前記梁部が延性を有する材料で形成さ
れ、且つ塑性変形により前記素子側に変形されているこ
とを特徴とする素子構造にある。
【0028】かかる第9の態様では、梁部を機械的に塑
性変形させることにより、容易に所定形状の梁部とする
ことができる。
性変形させることにより、容易に所定形状の梁部とする
ことができる。
【0029】本発明の第10の態様は、第2〜9の何れ
かの態様において、前記第2の基板は、前記素子に対向
する領域に貫通孔を有し、前記梁部の少なくとも前記接
点部が前記貫通孔に対向する領域に形成されていること
を特徴とする素子構造にある。
かの態様において、前記第2の基板は、前記素子に対向
する領域に貫通孔を有し、前記梁部の少なくとも前記接
点部が前記貫通孔に対向する領域に形成されていること
を特徴とする素子構造にある。
【0030】かかる第10の態様では、貫通孔から接点
部の状態を容易に認識可能であり、また、調整等を行う
ことができる。
部の状態を容易に認識可能であり、また、調整等を行う
ことができる。
【0031】本発明の第11の態様は、第10の態様に
おいて、前記素子と前記接点部とは、前記素子と前記接
点部とを接着する接着部材を介して接続されていること
を特徴とする素子構造にある。
おいて、前記素子と前記接点部とは、前記素子と前記接
点部とを接着する接着部材を介して接続されていること
を特徴とする素子構造にある。
【0032】かかる第11の態様では、接着部材によっ
て、素子と配線とがより確実に接続される。
て、素子と配線とがより確実に接続される。
【0033】本発明の第12の態様は、第11の態様に
おいて、前記接着部材がはんだであり、前記素子と前記
接点部とは、前記第2の基板の外側から前記貫通孔を介
してはんだを加熱することにより接着されていることを
特徴とする素子構造にある。
おいて、前記接着部材がはんだであり、前記素子と前記
接点部とは、前記第2の基板の外側から前記貫通孔を介
してはんだを加熱することにより接着されていることを
特徴とする素子構造にある。
【0034】かかる第12の態様では、素子と配線とを
はんだによって確実に接続することができる。
はんだによって確実に接続することができる。
【0035】本発明の第13の態様は、第1又は2の態
様において、前記梁部が両持ち梁形状に形成され、前記
梁部の基端部が前記基板の面内方向に変形可能に支持さ
れていることを特徴とする素子構造にある。
様において、前記梁部が両持ち梁形状に形成され、前記
梁部の基端部が前記基板の面内方向に変形可能に支持さ
れていることを特徴とする素子構造にある。
【0036】かかる第13の態様では、梁部の剛性を高
めることができ、耐久性が向上する。
めることができ、耐久性が向上する。
【0037】本発明の第14の態様は、第2〜13の何
れかの態様において、前記接点部は、前記第2の基板の
表面に設けられた配線パターンに接続され、この配線パ
ターンが他の素子と接続されていることを特徴とする素
子構造にある。
れかの態様において、前記接点部は、前記第2の基板の
表面に設けられた配線パターンに接続され、この配線パ
ターンが他の素子と接続されていることを特徴とする素
子構造にある。
【0038】かかる第14の態様では、梁部上に設けら
れた接点部と接続される素子の電極が、第2の基板上に
設けられた配線パターンによって、複数の素子に容易に
接続できる。
れた接点部と接続される素子の電極が、第2の基板上に
設けられた配線パターンによって、複数の素子に容易に
接続できる。
【0039】本発明の第15の態様は、第2〜14の何
れかの態様において、前記第2の基板が、シリコン基板
であることを特徴とする素子構造にある。
れかの態様において、前記第2の基板が、シリコン基板
であることを特徴とする素子構造にある。
【0040】かかる第15の態様では、第2の基板をシ
リコン基板で容易に形成することができる。
リコン基板で容易に形成することができる。
【0041】本発明の第16の態様は、第1〜15の何
れかの態様において、前記素子が振動板上に形成されて
いることを特徴とする素子構造にある。
れかの態様において、前記素子が振動板上に形成されて
いることを特徴とする素子構造にある。
【0042】かかる第16の態様では、振動板を無駄に
変形させることなく、素子と配線とを容易に接続するこ
とができる。
変形させることなく、素子と配線とを容易に接続するこ
とができる。
【0043】本発明の第17の態様は、第16の態様に
おいて、前記梁部のコンプライアンスが前記振動板のコ
ンプライアンスよりも大きいことを特徴とする素子構造
にある。
おいて、前記梁部のコンプライアンスが前記振動板のコ
ンプライアンスよりも大きいことを特徴とする素子構造
にある。
【0044】かかる第17の態様では、振動板よりも梁
部の方が柔らかいため、素子と配線とを接続しても、素
子の変位の際に振動板に無駄な応力を付与することがな
い。
部の方が柔らかいため、素子と配線とを接続しても、素
子の変位の際に振動板に無駄な応力を付与することがな
い。
【0045】本発明の第18の態様は、第16又は17
の態様において、前記素子が圧電素子であることを特徴
とする素子構造にある。
の態様において、前記素子が圧電素子であることを特徴
とする素子構造にある。
【0046】かかる第18の態様では、圧電素子に容易
に配線を接続することができる。
に配線を接続することができる。
【0047】本発明の第19の態様は、第16〜18の
何れかの態様において、前記振動板の前記素子とは反対
側にインク供給口に連通する圧力発生室を有することを
特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
何れかの態様において、前記振動板の前記素子とは反対
側にインク供給口に連通する圧力発生室を有することを
特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0048】かかる第19の態様では、振動板の変形量
を向上し、且つ小型化が可能なインクジェット式記録ヘ
ッドを実現することができる。
を向上し、且つ小型化が可能なインクジェット式記録ヘ
ッドを実現することができる。
【0049】本発明の第20の態様は、第19の態様の
インクジェット式記録ヘッドを具備することを特徴とす
るインクジェット式記録装置にある。
インクジェット式記録ヘッドを具備することを特徴とす
るインクジェット式記録装置にある。
【0050】かかる第20の態様では、ヘッドの特性を
向上したインクジェット式記録装置を実現することがで
きる。
向上したインクジェット式記録装置を実現することがで
きる。
【0051】
【発明の実施の形態】以下に本発明を実施形態に基づい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【0052】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図
であり、図2は、平面図及びその1つの圧力発生室の長
手方向における断面構造を示す図である。
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図
であり、図2は、平面図及びその1つの圧力発生室の長
手方向における断面構造を示す図である。
【0053】図示するように、流路形成基板10は、本
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。
【0054】流路形成基板10の一方の面は開口面とな
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ1〜2μmの弾性膜50が形成され
ている。
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ1〜2μmの弾性膜50が形成され
ている。
【0055】一方、流路形成基板10の開口面には、シ
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
ノズル開口11、圧力発生室12が形成されている。
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
ノズル開口11、圧力発生室12が形成されている。
【0056】ここで、異方性エッチングは、シリコン単
結晶基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々
に侵食されて(110)面に垂直な第1の(111)面
と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且
つ上記(110)面と約35度の角度をなす第2の(1
11)面とが出現し、(110)面のエッチングレート
と比較して(111)面のエッチングレートが約1/1
80であるという性質を利用して行われるものである。
かかる異方性エッチングにより、二つの第1の(11
1)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形成され
る平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行う
ことができ、圧力発生室12を高密度に配列することが
できる。
結晶基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々
に侵食されて(110)面に垂直な第1の(111)面
と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且
つ上記(110)面と約35度の角度をなす第2の(1
11)面とが出現し、(110)面のエッチングレート
と比較して(111)面のエッチングレートが約1/1
80であるという性質を利用して行われるものである。
かかる異方性エッチングにより、二つの第1の(11
1)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形成され
る平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行う
ことができ、圧力発生室12を高密度に配列することが
できる。
【0057】本実施形態では、各圧力発生室12の長辺
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。
【0058】一方、各圧力発生室12の一端に連通する
各ノズル開口11は、圧力発生室12より幅狭で且つ浅
く形成されている。すなわち、ノズル開口11は、シリ
コン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング(ハー
フエッチング)することにより形成されている。なお、
ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行わ
れる。
各ノズル開口11は、圧力発生室12より幅狭で且つ浅
く形成されている。すなわち、ノズル開口11は、シリ
コン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング(ハー
フエッチング)することにより形成されている。なお、
ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行わ
れる。
【0059】ここで、インク滴吐出圧力をインクに与え
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口11の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口11は数十μmの溝幅で精度よく形成する必要
がある。
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口11の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口11は数十μmの溝幅で精度よく形成する必要
がある。
【0060】また、各圧力発生室12と後述する共通イ
ンク室31とは、後述する封止板20の各圧力発生室1
2の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク
供給連通口21を介して連通されており、インクはこの
インク供給連通口21を介して共通インク室31から供
給され、各圧力発生室12に分配される。
ンク室31とは、後述する封止板20の各圧力発生室1
2の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク
供給連通口21を介して連通されており、インクはこの
インク供給連通口21を介して共通インク室31から供
給され、各圧力発生室12に分配される。
【0061】封止板20は、前述の各圧力発生室12に
対応したインク供給連通口21が穿設された、厚さが例
えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下
で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラ
スセラミックスからなる。なお、インク供給連通口21
は、図3(a),(b)に示すように、各圧力発生室1
2のインク供給側端部の近傍を横断する一つのスリット
孔21Aでも、あるいは複数のスリット孔21Bであっ
てもよい。封止板20は、一方の面で流路形成基板10
の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外
力から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板2
0は、他面で共通インク室31の一壁面を構成する。
対応したインク供給連通口21が穿設された、厚さが例
えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下
で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラ
スセラミックスからなる。なお、インク供給連通口21
は、図3(a),(b)に示すように、各圧力発生室1
2のインク供給側端部の近傍を横断する一つのスリット
孔21Aでも、あるいは複数のスリット孔21Bであっ
てもよい。封止板20は、一方の面で流路形成基板10
の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外
力から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板2
0は、他面で共通インク室31の一壁面を構成する。
【0062】共通インク室形成基板30は、共通インク
室31の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、イ
ンク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を
打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共
通インク室形成基板30の厚さは、0.2mmとしてい
る。
室31の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、イ
ンク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を
打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共
通インク室形成基板30の厚さは、0.2mmとしてい
る。
【0063】インク室側板40は、ステンレス基板から
なり、一方の面で共通インク室31の一壁面を構成する
ものである。また、インク室側板40には、他方の面の
一部にハーフエッチングにより凹部40aを形成するこ
とにより薄肉壁41が形成され、さらに、外部からのイ
ンク供給を受けるインク導入口42が打抜き形成されて
いる。なお、薄肉壁41は、インク滴吐出の際に発生す
るノズル開口11と反対側へ向かう圧力を吸収するため
のもので、他の圧力発生室12に、共通インク室31を
経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止する。
本実施形態では、インク導入口42と外部のインク供給
手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク室側
板40を0.2mmとし、その一部を厚さ0.02mm
の薄肉壁41としているが、ハーフエッチングによる薄
肉壁41の形成を省略するために、インク室側板40の
厚さを初めから0.02mmとしてもよい。
なり、一方の面で共通インク室31の一壁面を構成する
ものである。また、インク室側板40には、他方の面の
一部にハーフエッチングにより凹部40aを形成するこ
とにより薄肉壁41が形成され、さらに、外部からのイ
ンク供給を受けるインク導入口42が打抜き形成されて
いる。なお、薄肉壁41は、インク滴吐出の際に発生す
るノズル開口11と反対側へ向かう圧力を吸収するため
のもので、他の圧力発生室12に、共通インク室31を
経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止する。
本実施形態では、インク導入口42と外部のインク供給
手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク室側
板40を0.2mmとし、その一部を厚さ0.02mm
の薄肉壁41としているが、ハーフエッチングによる薄
肉壁41の形成を省略するために、インク室側板40の
厚さを初めから0.02mmとしてもよい。
【0064】一方、流路形成基板10の開口面とは反対
側の弾性膜50上には、厚さが例えば、約0.2μmの
下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜7
0と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子30
0を構成している。また、本実施形態では、圧電素子3
00を構成する圧電体層70は、圧力発生室12内にパ
ターニングされている。ここで、圧電素子300は、下
電極膜60、圧電体膜70、及び上電極膜80を含む部
分をいう。一般的には、圧電素子300の何れか一方の
電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体膜70を各
圧力発生室12毎にパターニングして構成する。そし
て、ここではパターニングされた何れか一方の電極及び
圧電体膜70から構成され、両電極への電圧の印加によ
り圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部320という。
本実施形態では、下電極膜60は圧電素子300の共通
電極とし、上電極膜80を圧電素子300の個別電極と
しているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても
支障はない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に
圧電体能動部が形成されていることになる。なお、上述
した例では、弾性膜50及び下電極膜60が振動板とし
て作用するが、下電極膜が弾性膜を兼ねるようにしても
よい。
側の弾性膜50上には、厚さが例えば、約0.2μmの
下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜7
0と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子30
0を構成している。また、本実施形態では、圧電素子3
00を構成する圧電体層70は、圧力発生室12内にパ
ターニングされている。ここで、圧電素子300は、下
電極膜60、圧電体膜70、及び上電極膜80を含む部
分をいう。一般的には、圧電素子300の何れか一方の
電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体膜70を各
圧力発生室12毎にパターニングして構成する。そし
て、ここではパターニングされた何れか一方の電極及び
圧電体膜70から構成され、両電極への電圧の印加によ
り圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部320という。
本実施形態では、下電極膜60は圧電素子300の共通
電極とし、上電極膜80を圧電素子300の個別電極と
しているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても
支障はない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に
圧電体能動部が形成されていることになる。なお、上述
した例では、弾性膜50及び下電極膜60が振動板とし
て作用するが、下電極膜が弾性膜を兼ねるようにしても
よい。
【0065】ここで、シリコン単結晶基板からなる流路
形成基板10上に、圧電素子300を形成するプロセス
を図4及び図5を参照しながら説明する。
形成基板10上に、圧電素子300を形成するプロセス
を図4及び図5を参照しながら説明する。
【0066】図4(a)に示すように、まず、流路形成
基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約110
0℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜50を形成する。
基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約110
0℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜50を形成する。
【0067】次に、図4(b)に示すように、スパッタ
リングで下電極膜60を形成する。下電極膜60の材料
としては、Pt等が好適である。これは、スパッタリン
グ法やゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜70は、
成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜10
00℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるか
らである。すなわち、下電極膜60の材料は、このよう
な高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければなら
ず、殊に、圧電体膜70としてPZTを用いた場合に
は、PbOの拡散による導電性の変化が少ないことが望
ましく、これらの理由からPtが好適である。
リングで下電極膜60を形成する。下電極膜60の材料
としては、Pt等が好適である。これは、スパッタリン
グ法やゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜70は、
成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜10
00℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるか
らである。すなわち、下電極膜60の材料は、このよう
な高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければなら
ず、殊に、圧電体膜70としてPZTを用いた場合に
は、PbOの拡散による導電性の変化が少ないことが望
ましく、これらの理由からPtが好適である。
【0068】次に、図4(c)に示すように、圧電体膜
70を成膜する。本実施形態では、金属有機物を溶媒に
溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥してゲル化し、
さらに高温で焼成することで金属酸化物からなる圧電体
膜70を得る、いわゆるゾル−ゲル法を用いて形成し
た。圧電体膜70の材料としては、チタン酸ジルコン酸
鉛(PZT)系の材料がインクジェット式記録ヘッドに
使用する場合には好適である。なお、この圧電体膜70
の成膜方法は、特に限定されず、例えば、スパッタリン
グ法で形成してもよい。
70を成膜する。本実施形態では、金属有機物を溶媒に
溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥してゲル化し、
さらに高温で焼成することで金属酸化物からなる圧電体
膜70を得る、いわゆるゾル−ゲル法を用いて形成し
た。圧電体膜70の材料としては、チタン酸ジルコン酸
鉛(PZT)系の材料がインクジェット式記録ヘッドに
使用する場合には好適である。なお、この圧電体膜70
の成膜方法は、特に限定されず、例えば、スパッタリン
グ法で形成してもよい。
【0069】さらに、ゾル−ゲル法又はスパッタリング
法等によりPZTの前駆体膜を形成後、アルカリ水溶液
中での高圧処理法にて低温で結晶成長させる方法を用い
てもよい。
法等によりPZTの前駆体膜を形成後、アルカリ水溶液
中での高圧処理法にて低温で結晶成長させる方法を用い
てもよい。
【0070】次に、図4(d)に示すように、上電極膜
80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料で
あればよく、Al、Au、Ni、Pt等の多くの金属
や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、P
tをスパッタリングにより成膜している。
80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料で
あればよく、Al、Au、Ni、Pt等の多くの金属
や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、P
tをスパッタリングにより成膜している。
【0071】次に、図5に示すように、下電極膜60、
圧電体膜70及び上電極膜80をパターニングする。
圧電体膜70及び上電極膜80をパターニングする。
【0072】まず、図5(a)に示すように、下電極膜
60、圧電体膜70及び上電極膜80を一緒にエッチン
グして下電極膜60の全体パターンをパターニングす
る。次いで、図5(b)に示すように、上電極膜80と
圧電体膜70とをエッチングして圧電体能動部320の
パターニングを行う。次いで、図5(c)に示すよう
に、流路形成基板10をエッチングすることにより、各
圧電体能動部320に対向する領域に圧力発生室12を
形成する。
60、圧電体膜70及び上電極膜80を一緒にエッチン
グして下電極膜60の全体パターンをパターニングす
る。次いで、図5(b)に示すように、上電極膜80と
圧電体膜70とをエッチングして圧電体能動部320の
パターニングを行う。次いで、図5(c)に示すよう
に、流路形成基板10をエッチングすることにより、各
圧電体能動部320に対向する領域に圧力発生室12を
形成する。
【0073】その後、本実施形態では、流路形成基板1
0の圧力発生室12の逆側に、幅方向に並設された圧電
体能動部320の両側に設けられたスペーサ90を介し
て第2の基板100が設けられ、この第2の基板100
の圧電体能動部320側の面に設けられたリード電極1
10によって、圧電体能動部320と外部端子とが接続
される。
0の圧力発生室12の逆側に、幅方向に並設された圧電
体能動部320の両側に設けられたスペーサ90を介し
て第2の基板100が設けられ、この第2の基板100
の圧電体能動部320側の面に設けられたリード電極1
10によって、圧電体能動部320と外部端子とが接続
される。
【0074】図6は、このような本実施形態のインクジ
ェット式記録ヘッドの要部を示す断面図である。
ェット式記録ヘッドの要部を示す断面図である。
【0075】図6に示すように、本実施形態では、圧電
体膜70及び上電極膜80からなる圧電体能動部320
は、各圧力発生室12に対向する領域内設けられ、複数
の圧電体能動部320が幅方向に並設されている。
体膜70及び上電極膜80からなる圧電体能動部320
は、各圧力発生室12に対向する領域内設けられ、複数
の圧電体能動部320が幅方向に並設されている。
【0076】一方、流路形成基板10に対向して配置さ
れる第2の基板100の圧電体能動部320に対向する
領域には、圧電体能動部320の幅方向に亘って貫通孔
101が設けられている。この第2の基板100は、電
気的絶縁性を有する材料であり、一定形状に保持できる
程度の強度を有することが好ましく、本実施形態では、
シリコン基板を用いた。なお、本実施形態では、貫通孔
101を圧電体能動部320の幅方向に亘って形成して
いるが、これに限定されず、例えば、各圧電体能動部3
20毎に独立して形成するようにしてもよい。
れる第2の基板100の圧電体能動部320に対向する
領域には、圧電体能動部320の幅方向に亘って貫通孔
101が設けられている。この第2の基板100は、電
気的絶縁性を有する材料であり、一定形状に保持できる
程度の強度を有することが好ましく、本実施形態では、
シリコン基板を用いた。なお、本実施形態では、貫通孔
101を圧電体能動部320の幅方向に亘って形成して
いるが、これに限定されず、例えば、各圧電体能動部3
20毎に独立して形成するようにしてもよい。
【0077】また、第2の基板100の圧電体能動部3
20側の表面には、圧電体能動部320の上電極膜80
と外部端子とを接続するリード電極110が各圧電体能
動部320毎に形成されており、リード電極110の第
2の基板100の貫通孔101に対向する領域では、こ
の貫通孔101上に張り出した梁部111となってい
る。本実施形態では、第2の基板100の貫通孔101
に対向する領域で切断されて片持ち梁形状に形成され、
梁部111の先端が少なくとも上電極膜80に接触する
ように、圧電体能動部320側に湾曲変形されている。
すなわち、梁部111の先端近傍は、上電極膜80に接
触する接点部112となっている。
20側の表面には、圧電体能動部320の上電極膜80
と外部端子とを接続するリード電極110が各圧電体能
動部320毎に形成されており、リード電極110の第
2の基板100の貫通孔101に対向する領域では、こ
の貫通孔101上に張り出した梁部111となってい
る。本実施形態では、第2の基板100の貫通孔101
に対向する領域で切断されて片持ち梁形状に形成され、
梁部111の先端が少なくとも上電極膜80に接触する
ように、圧電体能動部320側に湾曲変形されている。
すなわち、梁部111の先端近傍は、上電極膜80に接
触する接点部112となっている。
【0078】なお、本実施形態では、梁部111は、詳
細は後述するように、リード電極110自体で構成され
ている。しかしながら、これに限定されず、例えば、他
の部材で梁部を形成し、その上にリード電極110を形
成するようにしてもよいことは言うまでもない。
細は後述するように、リード電極110自体で構成され
ている。しかしながら、これに限定されず、例えば、他
の部材で梁部を形成し、その上にリード電極110を形
成するようにしてもよいことは言うまでもない。
【0079】また、圧電体能動部320と梁部111の
接点部112との電気的な接続は、梁部111を第2の
基板100と上電極膜80との間隔よりも大きく変形さ
せることで、確実に行うことができるが、本実施形態で
は、さらに確実に接続するために、接点部112と上電
極膜80との間をはんだで固着するようにした。この固
着方法としては、特に限定されないが、例えば、第2の
基板100の貫通孔101の外側から加熱することによ
り、はんだを溶融させて両者を容易に固着することがで
きる。
接点部112との電気的な接続は、梁部111を第2の
基板100と上電極膜80との間隔よりも大きく変形さ
せることで、確実に行うことができるが、本実施形態で
は、さらに確実に接続するために、接点部112と上電
極膜80との間をはんだで固着するようにした。この固
着方法としては、特に限定されないが、例えば、第2の
基板100の貫通孔101の外側から加熱することによ
り、はんだを溶融させて両者を容易に固着することがで
きる。
【0080】また、圧電体能動部320側に変形された
梁部111の形状は、例えば、図7に示すように、梁部
111を圧電体能動部320側に湾曲させ、線接触で上
電極膜と接触するようにしても、接点部112と上電極
膜80とを電気的に接続することはできるが、本実施形
態のように、梁部111の先端部近傍の接点部112部
分を上電極膜80の面と略平行になるように湾曲させ、
接点部112と上電極膜80との接触面積を大きくする
ことが好ましい。これにより、電気的により確実な接続
を行うことができる。
梁部111の形状は、例えば、図7に示すように、梁部
111を圧電体能動部320側に湾曲させ、線接触で上
電極膜と接触するようにしても、接点部112と上電極
膜80とを電気的に接続することはできるが、本実施形
態のように、梁部111の先端部近傍の接点部112部
分を上電極膜80の面と略平行になるように湾曲させ、
接点部112と上電極膜80との接触面積を大きくする
ことが好ましい。これにより、電気的により確実な接続
を行うことができる。
【0081】このような第2の基板100及びリード電
極110等の形成方法としては、特に限定されないが、
以下の方法により形成することができる。なお、図8及
び図9は、リード電極110の製造工程を示す図であ
り、図8は、圧力発生室の幅方向における断面図、図9
は、圧力発生室の長手方向における断面図である。
極110等の形成方法としては、特に限定されないが、
以下の方法により形成することができる。なお、図8及
び図9は、リード電極110の製造工程を示す図であ
り、図8は、圧力発生室の幅方向における断面図、図9
は、圧力発生室の長手方向における断面図である。
【0082】例えば、図8(a)に示すように、第2の
基板100の圧電体能動部320に対向する面にリード
電極110を一様に成膜する。このリード電極110
は、高い導電性を有する材料で形成されればよく、例え
ば、Al、Au等が挙げられる。
基板100の圧電体能動部320に対向する面にリード
電極110を一様に成膜する。このリード電極110
は、高い導電性を有する材料で形成されればよく、例え
ば、Al、Au等が挙げられる。
【0083】そして、図8(b)に示すように、各圧電
体能動部320に対向する領域毎に、リード電極110
を、例えば、上電極膜80と略同一幅でパターニング
し、次いで、図8(c)に示すように、第2の基板10
0の圧電体能動部320に対向する領域に圧電体能動部
320の幅方向に亘って、貫通孔101を形成する。な
お、この貫通孔101の形成方法としては、例えば、シ
リコン基板である第2の基板100をエッチング等によ
り除去することにより形成すればよい。
体能動部320に対向する領域毎に、リード電極110
を、例えば、上電極膜80と略同一幅でパターニング
し、次いで、図8(c)に示すように、第2の基板10
0の圧電体能動部320に対向する領域に圧電体能動部
320の幅方向に亘って、貫通孔101を形成する。な
お、この貫通孔101の形成方法としては、例えば、シ
リコン基板である第2の基板100をエッチング等によ
り除去することにより形成すればよい。
【0084】その後、圧電体能動部320に対向する領
域に梁部111を形成するが、この形成方法も、特に限
定されず、例えば、本実施形態では、リード電極110
を機械的に変形させることにより形成した。
域に梁部111を形成するが、この形成方法も、特に限
定されず、例えば、本実施形態では、リード電極110
を機械的に変形させることにより形成した。
【0085】上述のように、リード電極110を形成及
びパターニングして、第2の基板100に貫通孔101
を形成すると、貫通孔101に対向する領域には、図9
(a)に示すように、平坦な複数の梁部111が形成さ
れる。この平坦な複数の梁部111を、図9(b)に示
すように、貫通孔111のリード電極110の形成面と
は逆側から、例えば、先端が球面の工具120等で押し
込む。次いで、図9(c)に示すように、梁部111
を、所定の位置、例えば、本実施形態では、略中央部の
上電極膜80の面方向と同方向に湾曲した位置から切断
除去して、片持ち梁形状の梁部111とする。
びパターニングして、第2の基板100に貫通孔101
を形成すると、貫通孔101に対向する領域には、図9
(a)に示すように、平坦な複数の梁部111が形成さ
れる。この平坦な複数の梁部111を、図9(b)に示
すように、貫通孔111のリード電極110の形成面と
は逆側から、例えば、先端が球面の工具120等で押し
込む。次いで、図9(c)に示すように、梁部111
を、所定の位置、例えば、本実施形態では、略中央部の
上電極膜80の面方向と同方向に湾曲した位置から切断
除去して、片持ち梁形状の梁部111とする。
【0086】このように、本実施形態では、接点部11
2が上電極膜80と略平行な面となるように梁部111
を湾曲させて形成しているため、接点部112と上電極
膜80との接触面積が大きくなり、電気的な接続を確実
に行うことができる。すなわち、リード電極110から
の電力を圧電体能動部320に確実に供給することがで
きる。
2が上電極膜80と略平行な面となるように梁部111
を湾曲させて形成しているため、接点部112と上電極
膜80との接触面積が大きくなり、電気的な接続を確実
に行うことができる。すなわち、リード電極110から
の電力を圧電体能動部320に確実に供給することがで
きる。
【0087】なお、この方法により梁部111を形成す
る場合には、図10に示すように、予め、梁部111を
切断する位置から異なる幅でパターニングしておくこと
が好ましく、これにより、さらに容易に切断して梁部1
11を形成することができる。
る場合には、図10に示すように、予め、梁部111を
切断する位置から異なる幅でパターニングしておくこと
が好ましく、これにより、さらに容易に切断して梁部1
11を形成することができる。
【0088】上述のような本実施形態の構成により、圧
電体能動部320に余分な細工をすることなく、圧電体
能動部320に電力を供給することができる。また、梁
部111を片持ち梁形状として圧電体能動部320の厚
さ方向への変形を可能としているため、圧電体能動部3
20に無駄な負荷を与えることがない。さらに、圧電体
能動部320の表面に絶縁膜を設ける必要がなく、変位
の低下を招くことがない。またさらに、圧電体能動部3
20の配列とは独立して、リード電極を形成することが
できるため、配線の自由度が高く、圧電体能動部320
を形成する流路形成基板10上にリード電極を形成する
必要がないため、基板をコンパクトにすることができ、
コストの削減を図ることができる。
電体能動部320に余分な細工をすることなく、圧電体
能動部320に電力を供給することができる。また、梁
部111を片持ち梁形状として圧電体能動部320の厚
さ方向への変形を可能としているため、圧電体能動部3
20に無駄な負荷を与えることがない。さらに、圧電体
能動部320の表面に絶縁膜を設ける必要がなく、変位
の低下を招くことがない。またさらに、圧電体能動部3
20の配列とは独立して、リード電極を形成することが
できるため、配線の自由度が高く、圧電体能動部320
を形成する流路形成基板10上にリード電極を形成する
必要がないため、基板をコンパクトにすることができ、
コストの削減を図ることができる。
【0089】また、以上説明した一連の膜形成及び異方
性エッチングは、一枚のウェハ上に多数のチップを同時
に形成し、プロセス終了後、図1に示すような一つのチ
ップサイズの流路形成基板10毎に分割する。また、分
割した流路形成基板10を、封止板20、共通インク室
形成基板30、及びインク室側板40と順次接着して一
体化し、さらに第2の基板100を接合してインクジェ
ット式記録ヘッドとする。また、このように構成したイ
ンクジェットヘッドは、図示しない外部インク供給手段
と接続したインク導入口42からインクを取り込み、共
通インク室31からノズル開口11に至るまで内部をイ
ンクで満たした後、図示しない外部の駆動回路からの記
録信号に従い、リード電極110を介して上電極膜80
と下電極膜60との間に電圧を印加し、弾性膜50、下
電極膜60及び圧電体膜70をたわみ変形させることに
より、圧力発生室12内の圧力が高まりノズル開口11
からインク滴が吐出する。
性エッチングは、一枚のウェハ上に多数のチップを同時
に形成し、プロセス終了後、図1に示すような一つのチ
ップサイズの流路形成基板10毎に分割する。また、分
割した流路形成基板10を、封止板20、共通インク室
形成基板30、及びインク室側板40と順次接着して一
体化し、さらに第2の基板100を接合してインクジェ
ット式記録ヘッドとする。また、このように構成したイ
ンクジェットヘッドは、図示しない外部インク供給手段
と接続したインク導入口42からインクを取り込み、共
通インク室31からノズル開口11に至るまで内部をイ
ンクで満たした後、図示しない外部の駆動回路からの記
録信号に従い、リード電極110を介して上電極膜80
と下電極膜60との間に電圧を印加し、弾性膜50、下
電極膜60及び圧電体膜70をたわみ変形させることに
より、圧力発生室12内の圧力が高まりノズル開口11
からインク滴が吐出する。
【0090】なお、本実施形態では、梁部111を機械
的に変形させることにより所定形状に湾曲させている
が、これに限定されず、何れの方法を用いてもよい。以
下に、他の梁部の形成方法について説明する。
的に変形させることにより所定形状に湾曲させている
が、これに限定されず、何れの方法を用いてもよい。以
下に、他の梁部の形成方法について説明する。
【0091】(実施形態2)図11は、実施形態2にか
かるインクジェット式記録ヘッドの要部断面図である。
かるインクジェット式記録ヘッドの要部断面図である。
【0092】本実施形態は、梁部を複数層で構成し、そ
の内部応力を利用して梁部を変形させた例である。
の内部応力を利用して梁部を変形させた例である。
【0093】詳しくは、図11に示すように、本実施形
態では、リード電極110Aを、例えば、SiO2等の
圧縮応力を有する圧縮層113と、この圧縮層113上
に形成され、例えば、Pt等を熱処理することにより引
張り応力とした引張り層114との二層で構成するよう
にした。これにより、リード電極110Aの各層の内部
応力が開放される力によって、すなわち、下層側には引
張り方向の力、上層側には圧縮方向の力が作用すること
によって、図中点線で示すように、梁部111Aは圧電
体能動部320側に湾曲される。
態では、リード電極110Aを、例えば、SiO2等の
圧縮応力を有する圧縮層113と、この圧縮層113上
に形成され、例えば、Pt等を熱処理することにより引
張り応力とした引張り層114との二層で構成するよう
にした。これにより、リード電極110Aの各層の内部
応力が開放される力によって、すなわち、下層側には引
張り方向の力、上層側には圧縮方向の力が作用すること
によって、図中点線で示すように、梁部111Aは圧電
体能動部320側に湾曲される。
【0094】また、本実施形態では、梁部111Aを以
下の工程で形成した。上述のように第2の基板90の表
面全体にリード電極110Aを形成した後、図12
(a)に示すように、リード電極110Aの一端部が第
2の基板100の貫通孔101に対向する領域に位置す
るようにパターニングし、次いで、図12(b)に示す
ように、第2の基板100のリード電極110Aとは逆
側の面からエッチング等にって貫通孔101を形成す
る。これにより、貫通孔101に対向する領域のリード
電極110A、すなわち梁部111Aの内部応力が開放
されて、図中点線で示すように、圧電体能動部320側
に湾曲した梁部111Aとなる。
下の工程で形成した。上述のように第2の基板90の表
面全体にリード電極110Aを形成した後、図12
(a)に示すように、リード電極110Aの一端部が第
2の基板100の貫通孔101に対向する領域に位置す
るようにパターニングし、次いで、図12(b)に示す
ように、第2の基板100のリード電極110Aとは逆
側の面からエッチング等にって貫通孔101を形成す
る。これにより、貫通孔101に対向する領域のリード
電極110A、すなわち梁部111Aの内部応力が開放
されて、図中点線で示すように、圧電体能動部320側
に湾曲した梁部111Aとなる。
【0095】このように、梁部111Aを所定の応力を
有する複数の層で形成することにより、その内部応力が
開放される力によって、圧電体能動部320側に湾曲し
た梁部111Aを形成することができる。また、勿論、
この実施形態においても、実施形態1と同様の効果を得
ることができる。
有する複数の層で形成することにより、その内部応力が
開放される力によって、圧電体能動部320側に湾曲し
た梁部111Aを形成することができる。また、勿論、
この実施形態においても、実施形態1と同様の効果を得
ることができる。
【0096】なお、本実施形態では、梁部111Aを構
成するリード電極110Aを全て複数層で構成するよう
にしたが、これに限定されず、例えば、梁部111Aと
なる部分のリード電極のみを複数層で構成するようにし
てもよい。
成するリード電極110Aを全て複数層で構成するよう
にしたが、これに限定されず、例えば、梁部111Aと
なる部分のリード電極のみを複数層で構成するようにし
てもよい。
【0097】(実施形態3)図13は、実施形態3に係
るインクジェット式記録ヘッドの要部断面図である。
るインクジェット式記録ヘッドの要部断面図である。
【0098】本実施形態は、図13に示すように、梁部
111Bの接点部112となる部分の引張り層114上
に、例えば、Ir等の強い圧縮応力を有する第2の圧縮
層115を設けた以外、実施形態2と同様である。
111Bの接点部112となる部分の引張り層114上
に、例えば、Ir等の強い圧縮応力を有する第2の圧縮
層115を設けた以外、実施形態2と同様である。
【0099】このような構成により、第2の圧縮層11
5が形成された部分の梁部111Bは、第2の圧縮層1
15の圧縮応力が開放されて引張り方向の力が作用し、
図中点線で示すように、圧電体能動部320側に凸に変
形される。すなわち、上電極膜80の面と同方向に湾曲
して、上電極膜80と略平行面の接点部112とするこ
とができ、上電極膜80と接点部112との接触面積が
大きくなり、電気的により確実に接続することができ
る。
5が形成された部分の梁部111Bは、第2の圧縮層1
15の圧縮応力が開放されて引張り方向の力が作用し、
図中点線で示すように、圧電体能動部320側に凸に変
形される。すなわち、上電極膜80の面と同方向に湾曲
して、上電極膜80と略平行面の接点部112とするこ
とができ、上電極膜80と接点部112との接触面積が
大きくなり、電気的により確実に接続することができ
る。
【0100】なお、本実施形態の梁部も、上述の実施形
態2と同様に形成することができるが、これに限定され
ず、例えば、以下の方法によっても形成することができ
る。
態2と同様に形成することができるが、これに限定され
ず、例えば、以下の方法によっても形成することができ
る。
【0101】まず、図14(a)に示すように、梁部1
11Bを形成する領域の第2の基板100上に、比較的
容易に除去可能な材料、例えば、ポリシリコンからなる
犠牲層130を形成する。次いで、図14(b)に示す
ように、リード電極110Bの各層を順次積層し、図1
4(c)に示すように、所定形状にパターニングする。
そして、図14(d)に示すように、第2の基板100
上に形成されている犠牲層130を除去する。
11Bを形成する領域の第2の基板100上に、比較的
容易に除去可能な材料、例えば、ポリシリコンからなる
犠牲層130を形成する。次いで、図14(b)に示す
ように、リード電極110Bの各層を順次積層し、図1
4(c)に示すように、所定形状にパターニングする。
そして、図14(d)に示すように、第2の基板100
上に形成されている犠牲層130を除去する。
【0102】これにより、犠牲層130上に形成されて
いた圧縮層113、引っ張り層114及び第2の圧縮層
115の内部応力が開放され、圧電体能動部320側に
湾曲された梁部111Bを形成することができる。
いた圧縮層113、引っ張り層114及び第2の圧縮層
115の内部応力が開放され、圧電体能動部320側に
湾曲された梁部111Bを形成することができる。
【0103】このような方法により、第2の基板100
に貫通孔101を形成することなく、梁部を容易に形成
することができる。
に貫通孔101を形成することなく、梁部を容易に形成
することができる。
【0104】また、このような形成方法においては、梁
部111Cの厚さ、すなわち、圧縮層112と引っ張り
層113との全厚さtを、約1μm以下にすると、図1
5に示すように、圧電体能動部320側を内側にして巻
回された梁部111Cとなる。この場合には、下層側の
圧縮層112を、例えば、金属等の導電材料で形成して
おくことにより、上述の実施形態同様、梁部111C上
に接点部を設けることができる。
部111Cの厚さ、すなわち、圧縮層112と引っ張り
層113との全厚さtを、約1μm以下にすると、図1
5に示すように、圧電体能動部320側を内側にして巻
回された梁部111Cとなる。この場合には、下層側の
圧縮層112を、例えば、金属等の導電材料で形成して
おくことにより、上述の実施形態同様、梁部111C上
に接点部を設けることができる。
【0105】(実施形態4)図16は、実施形態4に係
るインクジェット式記録ヘッドのリード電極の平面図と
断面図である。
るインクジェット式記録ヘッドのリード電極の平面図と
断面図である。
【0106】本実施形態は、図16に示すように、第2
の基板100に各圧電体能動部320毎に独立した貫通
孔101Aを設け、この貫通孔101Aに対向する領域
に両持ち梁形状の梁部111Dを設けるようにした。ま
た、この梁部111Dの長手方向両端部には、それぞれ
幅方向に延びる張り出し部116を設けられ、梁部11
1Dは、張り出し部116の第2の基板100に対向す
る部分で固定されている。これにより、貫通孔101A
に対向する領域の張り出し部116は面内方向に変形す
ることができる。したがって、梁部111Dに負荷が加
えられた場合、張り出し部116が変形することによ
り、梁部111Dは、厚さ方向に変形することができ
る。これにより、接点部112と上電極膜80とを接触
させた場合にも、圧電体能動部320に余分な負荷を加
えることなく、確実に接続することができる。
の基板100に各圧電体能動部320毎に独立した貫通
孔101Aを設け、この貫通孔101Aに対向する領域
に両持ち梁形状の梁部111Dを設けるようにした。ま
た、この梁部111Dの長手方向両端部には、それぞれ
幅方向に延びる張り出し部116を設けられ、梁部11
1Dは、張り出し部116の第2の基板100に対向す
る部分で固定されている。これにより、貫通孔101A
に対向する領域の張り出し部116は面内方向に変形す
ることができる。したがって、梁部111Dに負荷が加
えられた場合、張り出し部116が変形することによ
り、梁部111Dは、厚さ方向に変形することができ
る。これにより、接点部112と上電極膜80とを接触
させた場合にも、圧電体能動部320に余分な負荷を加
えることなく、確実に接続することができる。
【0107】なお、上述の実施形態で説明したように、
梁部を複数層で構成してそれぞれの層の異なる内部応力
を利用することにより、梁部を圧電体能動部320側に
湾曲させることができるが、例えば、梁部を一層で構成
した場合でも、その材料の厚さ方向の応力分布が異なれ
ば、その内部応力によって圧電体能動部320側に湾曲
させることができる。
梁部を複数層で構成してそれぞれの層の異なる内部応力
を利用することにより、梁部を圧電体能動部320側に
湾曲させることができるが、例えば、梁部を一層で構成
した場合でも、その材料の厚さ方向の応力分布が異なれ
ば、その内部応力によって圧電体能動部320側に湾曲
させることができる。
【0108】(他の実施形態)以上、本発明の実施形態
を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的構
成は上述したものに限定されるものではない。
を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的構
成は上述したものに限定されるものではない。
【0109】例えば、上述の各実施形態では、接点部を
圧電体能動部の長手方向一端部側に設けるようにした
が、これに限定されず、例えば、中央部等何れの場所に
設けてもよい。
圧電体能動部の長手方向一端部側に設けるようにした
が、これに限定されず、例えば、中央部等何れの場所に
設けてもよい。
【0110】また、上述の実施形態では、スペーサ90
を介して流路形成基板10と第2の基板100とを接合
するようにしたが、これに限定されず、例えば、スペー
サと第2の基板とを一体的に形成するようにしてもよ
い。
を介して流路形成基板10と第2の基板100とを接合
するようにしたが、これに限定されず、例えば、スペー
サと第2の基板とを一体的に形成するようにしてもよ
い。
【0111】また、例えば、上述した実施形態では、流
路形成基板10に圧力発生室12と共にリザーバ14を
形成しているが、共通インク室を別部材で形成する流路
ユニットを流路形成基板10に重ねて設けてもよい。
路形成基板10に圧力発生室12と共にリザーバ14を
形成しているが、共通インク室を別部材で形成する流路
ユニットを流路形成基板10に重ねて設けてもよい。
【0112】このように構成した実施形態の分解斜視図
を図17、その流路の断面を図18にぞれぞれ示す。こ
の実施形態では、ノズル開口11が圧電素子とは反対の
ノズル基板120に穿設され、これらノズル開口11と
圧力発生室12とを連通するノズル連通口22が、封止
板20,共通インク室形成板30及び薄肉板41A及び
インク室側板40Aを貫通するように配されている。
を図17、その流路の断面を図18にぞれぞれ示す。こ
の実施形態では、ノズル開口11が圧電素子とは反対の
ノズル基板120に穿設され、これらノズル開口11と
圧力発生室12とを連通するノズル連通口22が、封止
板20,共通インク室形成板30及び薄肉板41A及び
インク室側板40Aを貫通するように配されている。
【0113】なお、本実施形態は、その他、薄肉板41
Aとインク室側板40Aとを別部材とし、インク室側板
40に開口40bを形成した以外は、基本的に上述した
実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付して
重複する説明は省略する。
Aとインク室側板40Aとを別部材とし、インク室側板
40に開口40bを形成した以外は、基本的に上述した
実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付して
重複する説明は省略する。
【0114】また、勿論、共通インク室を流路形成基板
内に形成したタイプのインクジェット式記録ヘッドにも
同様に応用できる。
内に形成したタイプのインクジェット式記録ヘッドにも
同様に応用できる。
【0115】また、以上説明した各実施形態は、成膜及
びリソグラフィプロセスを応用することにより製造でき
る薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、
勿論これに限定されるものではなく、例えば、基板を積
層して圧力発生室を形成するもの、あるいはグリーンシ
ートを貼付もしくはスクリーン印刷等により圧電体膜を
形成するもの、又は結晶成長により圧電体膜を形成する
もの等、各種の構造のインクジェット式記録ヘッドに本
発明を採用することができる。
びリソグラフィプロセスを応用することにより製造でき
る薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、
勿論これに限定されるものではなく、例えば、基板を積
層して圧力発生室を形成するもの、あるいはグリーンシ
ートを貼付もしくはスクリーン印刷等により圧電体膜を
形成するもの、又は結晶成長により圧電体膜を形成する
もの等、各種の構造のインクジェット式記録ヘッドに本
発明を採用することができる。
【0116】このように、本発明は、その趣旨に反しな
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。
【0117】また、これら各実施形態のインクジェット
式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するイン
ク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成し
て、インクジェット式記録装置に搭載される。図19
は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図
である。
式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するイン
ク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成し
て、インクジェット式記録装置に搭載される。図19
は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図
である。
【0118】図19に示すように、インクジェット式記
録ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、
インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが
着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び
1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付け
られたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられてい
る。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、
それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物
を吐出するものとしている。
録ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、
インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが
着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び
1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付け
られたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられてい
る。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、
それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物
を吐出するものとしている。
【0119】そして、駆動モータ6の駆動力が図示しな
い複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリ
ッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及
び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿っ
て移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ軸5に
沿ってプラテン8が設けられており、図示しない給紙ロ
ーラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シ
ートSがプラテン8に巻き掛けられて搬送されるように
なっている。
い複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリ
ッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及
び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿っ
て移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ軸5に
沿ってプラテン8が設けられており、図示しない給紙ロ
ーラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シ
ートSがプラテン8に巻き掛けられて搬送されるように
なっている。
【0120】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
流路形成基板の圧力発生室側に、圧電体能動部側に変形
された梁部を介して圧電体能動部と外部配線とを接続す
るようにしたので、圧電体能動部の表面に絶縁体膜等を
形成する必要がなく、振動板の変形量を向上することが
できる。また、流路形成基板上に配線パターンを設ける
必要がなく、容易且つ省スペースで配線パターンを設け
ることができるという効果を奏する。
流路形成基板の圧力発生室側に、圧電体能動部側に変形
された梁部を介して圧電体能動部と外部配線とを接続す
るようにしたので、圧電体能動部の表面に絶縁体膜等を
形成する必要がなく、振動板の変形量を向上することが
できる。また、流路形成基板上に配線パターンを設ける
必要がなく、容易且つ省スペースで配線パターンを設け
ることができるという効果を奏する。
【図1】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの分解斜視図である。
録ヘッドの分解斜視図である。
【図2】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドを示す図であり、図1の平面図及び断面図であ
る。
録ヘッドを示す図であり、図1の平面図及び断面図であ
る。
【図3】図1の封止板の変形例を示す図である。
【図4】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す図で
ある。
ある。
【図5】本発明の実施形態1の薄膜製造工程を示す図で
ある。
ある。
【図6】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの要部断面図である。
録ヘッドの要部断面図である。
【図7】本発明の実施形態1に係るインクジェット式録
ヘッドの他の例を示す要部断面図である。
ヘッドの他の例を示す要部断面図である。
【図8】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの配線部分の製造工程を示す図である。
録ヘッドの配線部分の製造工程を示す図である。
【図9】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの梁部の製造工程を示す図である。
録ヘッドの梁部の製造工程を示す図である。
【図10】本発明の実施形態1に係るインクジェット式
記録ヘッドの梁部の製造工程を示す図である。
記録ヘッドの梁部の製造工程を示す図である。
【図11】本発明の実施形態2に係るインクジェット式
記録ヘッドを示す要部断面図である。
記録ヘッドを示す要部断面図である。
【図12】本発明の実施形態2に係るインクジェット式
記録ヘッドの梁部の製造工程を示す図である。
記録ヘッドの梁部の製造工程を示す図である。
【図13】本発明の実施形態3に係るインクジェット式
記録ヘッドを示す要部断面図である。
記録ヘッドを示す要部断面図である。
【図14】本発明の実施形態3に係るインクジェット式
記録ヘッドの梁部の製造工程を示す要部断面図である。
記録ヘッドの梁部の製造工程を示す要部断面図である。
【図15】本発明の実施形態3に係るインクジェット式
記録ヘッドの変形例を示す断面図である。
記録ヘッドの変形例を示す断面図である。
【図16】本発明の実施形態4に係るインクジェット式
記録ヘッドの梁部を示す要部平面図及び断面図である。
記録ヘッドの梁部を示す要部平面図及び断面図である。
【図17】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドの分解斜視図である。
式記録ヘッドの分解斜視図である。
【図18】本発明の他の実施形態に係るインクジェット
式記録ヘッドの断面図である。
式記録ヘッドの断面図である。
【図19】本発明の一実施形態に係るインクジェット式
記録装置の概略図である。
記録装置の概略図である。
10 流路形成基板 12 圧力発生室 50 弾性膜 60 下電極膜 70 圧電体膜 80 上電極膜 90 スペーサ 100 第2の基板 110 リード電極 111,111A〜111D 梁部 112 接点部 113 圧縮層 114 引張り層 115 第2の圧縮層 116 張り出し部 300 圧電素子 320 圧電体能動部
Claims (20)
- 【請求項1】 基板の一方面側に設けられた素子とこの
素子と電気的に接続される配線とを具備する素子構造に
おいて、 前記基板の前記素子に対向する領域に設けられ且つ前記
素子の厚さ方向に所定弾性変形可能な梁部を具備し、こ
の梁部上に前記素子と前記配線との電気的な接点部を設
けたことを特徴とする素子構造。 - 【請求項2】 請求項1において、前記梁部が、前記基
板の前記素子側に対向して設けられた第2の基板から前
記素子に向かって突出するように設けられていることを
特徴とする素子構造。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、前記梁部は、
前記素子と前記接点部との接続前に、予め前記素子側に
変形している片持ち梁であることを特徴とする素子構
造。 - 【請求項4】 請求項3において、前記梁部は、当該梁
部の厚さ方向の内部応力の違いによって前記素子側に変
形している片持ち梁であることを特徴とする素子構造。 - 【請求項5】 請求項3又は4において、前記梁部上に
設けられた前記接点部が、前記素子の表面と略平行に形
成されていることを特徴とする素子構造。 - 【請求項6】 請求項5において、前記梁部の基端部側
が、前記素子側とは反対側に凸に且つ先端側で前記素子
側に凸に湾曲していることを特徴とする素子構造。 - 【請求項7】 請求項5又は6において、前記梁部の基
端部側は前記素子側が相対的に引張りが強く、前記接点
部は前記素子側が相対的に引張りが弱くなるように、異
なる残留歪みを持つ膜をパターニングして前記梁部を形
成することを特徴とする素子構造。 - 【請求項8】 請求項3又は4において、前記梁部が前
記素子側を内側にして巻回されていることを特徴とする
素子構造。 - 【請求項9】 請求項1〜7の何れかにおいて、前記梁
部が延性を有する材料で形成され、且つ塑性変形により
前記素子側に変形されていることを特徴とする素子構
造。 - 【請求項10】 請求項2〜9の何れかにおいて、前記
第2の基板は、前記素子に対向する領域に貫通孔を有
し、前記梁部の少なくとも前記接点部が前記貫通孔に対
向する領域に形成されていることを特徴とする素子構
造。 - 【請求項11】 請求項10において、前記素子と前記
接点部とは、前記素子と前記接点部とを接着する接着部
材を介して接続されていることを特徴とする素子構造。 - 【請求項12】 請求項11において、前記接着部材が
はんだであり、前記素子と前記接点部とは、前記第2の
基板の外側から前記貫通孔を介してはんだを加熱するこ
とにより接着されていることを特徴とする素子構造。 - 【請求項13】 請求項1又は2において、前記梁部が
両持ち梁形状に形成され、前記梁部の基端部が前記基板
の面内方向に変形可能に支持されていることを特徴とす
る素子構造。 - 【請求項14】 請求項2〜13の何れかにおいて、前
記接点部は、前記第2の基板の表面に設けられた配線パ
ターンに接続され、この配線パターンが他の素子と接続
されていることを特徴とする素子構造。 - 【請求項15】 請求項2〜14の何れかにおいて、前
記第2の基板が、シリコン基板であることを特徴とする
素子構造。 - 【請求項16】 請求項1〜15の何れかにおいて、前
記素子が振動板上に形成されていることを特徴とする素
子構造。 - 【請求項17】 請求項16において、前記梁部のコン
プライアンスが前記振動板のコンプライアンスよりも大
きいことを特徴とする素子構造。 - 【請求項18】 請求項16又は17において、前記素
子が圧電素子であることを特徴とする素子構造。 - 【請求項19】 請求項16〜18の何れかにおいて、
前記振動板の前記素子とは反対側にインク供給口に連通
する圧力発生室を有することを特徴とするインクジェッ
ト式記録ヘッド。 - 【請求項20】 請求項19のインクジェット式記録ヘ
ッドを具備することを特徴とするインクジェット式記録
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22594298A JP2000052554A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | 素子構造及びインクジェット式記録ヘッド並びにインクジェット式記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22594298A JP2000052554A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | 素子構造及びインクジェット式記録ヘッド並びにインクジェット式記録装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000052554A true JP2000052554A (ja) | 2000-02-22 |
Family
ID=16837319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22594298A Pending JP2000052554A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | 素子構造及びインクジェット式記録ヘッド並びにインクジェット式記録装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000052554A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003533897A (ja) * | 2000-05-17 | 2003-11-11 | ゼロックス・コーポレーション | フォトリソグラフィックパターン形成による立体コイル構造と製造方法 |
JP2008279755A (ja) * | 2008-03-19 | 2008-11-20 | Cluster Technology Co Ltd | 液滴吐出装置及びその製造方法 |
JP2010501114A (ja) * | 2006-08-15 | 2010-01-14 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 磁界生成装置 |
WO2019064770A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 日本電産株式会社 | 液剤塗布装置 |
-
1998
- 1998-08-10 JP JP22594298A patent/JP2000052554A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003533897A (ja) * | 2000-05-17 | 2003-11-11 | ゼロックス・コーポレーション | フォトリソグラフィックパターン形成による立体コイル構造と製造方法 |
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JP2008279755A (ja) * | 2008-03-19 | 2008-11-20 | Cluster Technology Co Ltd | 液滴吐出装置及びその製造方法 |
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WO2019064770A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | 日本電産株式会社 | 液剤塗布装置 |
CN111032360A (zh) * | 2017-09-28 | 2020-04-17 | 日本电产株式会社 | 液剂涂敷装置 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040204 |