DE936444C - Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von MethylchlorsilanenInfo
- Publication number
- DE936444C DE936444C DED17033A DED0017033A DE936444C DE 936444 C DE936444 C DE 936444C DE D17033 A DED17033 A DE D17033A DE D0017033 A DED0017033 A DE D0017033A DE 936444 C DE936444 C DE 936444C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- residue
- sicl
- hcl
- reaction
- methylchlorosilanes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 3
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 CH 3 SiCl 3 Chemical class 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004939 coking Methods 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-silylsilane Chemical class C[SiH]([SiH3])Cl KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- DBYWIUFNYFZUHJ-UHFFFAOYSA-N methane;silver Chemical class C.[Ag] DBYWIUFNYFZUHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229940024463 silicone emollient and protective product Drugs 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl LXEXBJXDGVGRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/128—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions covered by more than one of the groups C07F7/122 - C07F7/127 and of which the starting material is unknown or insufficiently determined
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
Es ist bekannt, Methylchlorsilane, wie CH3SiCl3,
CH3HSiCl2 und (CHg)2SiCl2, durch Umsetzung von
CH3Cl mit Silicium herzustellen. Dieses Verfahren ist als »Direktverfahren« bekannt und in der Patentliteratur
ausführlich beschrieben. Neben den obigen Methylchlorsilanen erhält man hierbei außerdem
immer ein flüssiges Reaktionsprodukt, dessen Siedepunkt oberhalb dem von (CH3)2SiCl2, d. h. oberhalb
70° liegt. Dieses flüssige, hoch siedende Produkt wird im folgenden als »Rückstand« bezeichnet. Das
gesamte bei der Umsetzung von CH3Cl mit Si anfallende Reaktionsprodukt enthält ungefähr 10%
»Rückstand«·, der eine Mischung aus Verbindungen mit SiSi-, SiCSi- und SiOSi-Gruppen in den Molekülen
darstellt.
Methylchlorsilane, wie sie oben genannt sind, stellen Ausgangsstoffe für wichtige Silikonprodukte
dar. Für den beim Direktverfahren anfallenden Rückstand sind die Verwendungsmöglichkeiten jedoch
sehr gering, und die Verwertung der anfallenden großen Mengen an den Rückständen stellt deshalb
ein schwieriges Problem bei dem Direktverfahren dar.
Es ist bekannt, daß gewisse Verbindungen des Rückstands, nämlich diejenigen, die SiSi-Bindungen
enthalten, wie CH3Cl2SiSiCl2CH3, durch Einwirkung
von Hitze gespalten werden können und dann Methylchlorsilane ergeben. Hierzu müssen aber die SiSi-Verbindungen
vor dem Spalten aus dem Rückstand entfernt werden. Wird die Spaltung auf den gesamten
Rückstand angewendet, so findet eine ausgedehnte
Verkokung statt. So findet beim Durchleiten des Rückstands durch ein heißes Rohr (200 bis 900°)
innerhalb 1 Stunde eine so starke Verkokung statt daß das Rohr für weiteren Gebrauch ungeeignet wird
Es ist also auf diese Weise nicht möglich, eine wirtschaftliche Spaltung des Rückstands durchzuführen.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren, den
bei der Umsetzung von CH8Cl mit Si anfallenden
Rückstand in technisch wertvolle Methylchlorsilane überzuführen.
Erfindungsgemäß wird der bei der Umsetzung von CH3Cl mit Silicium gebildete Rückstand, dessen
Siedepunkt über dem von (CH3)2SiCl2 liegt, zusammen
mit HCl auf eine Temperatur von 200 bis 900° erhitzt. Der Anteil an H Clbeträgt dabei mindestens 4 Gewichtsprozent,
berechnet auf das Gewicht des Rückstands. Dabei erhält man durch Spaltung des Rückstands
Methylchlorsilane.
Die Spaltung beginnt sofort beim Erhitzen der Mischung aus HCl und Rückstand. Eine ausgezeichnete Ausbeute an Methylchlorsilanen erhält man unter beliebigen Druckverhältnissen. Die Umsetzung geht sowohl bei Normaldruck als auch bei Anwendung von einem Druck von über 105 kg/cm2 gleich gut vor sich. Im allgemeinen empfiehlt es sich, bei niedrigerem Druck höhere Temperaturen anzuwenden. Bei einer Normaldruck-Umsetzung ist eine Temperatur von 400 bis 900°, bei Überdruck-Um-Setzung eine solche von 200 bis 5000 besonders zweckmäßig.
Die Spaltung beginnt sofort beim Erhitzen der Mischung aus HCl und Rückstand. Eine ausgezeichnete Ausbeute an Methylchlorsilanen erhält man unter beliebigen Druckverhältnissen. Die Umsetzung geht sowohl bei Normaldruck als auch bei Anwendung von einem Druck von über 105 kg/cm2 gleich gut vor sich. Im allgemeinen empfiehlt es sich, bei niedrigerem Druck höhere Temperaturen anzuwenden. Bei einer Normaldruck-Umsetzung ist eine Temperatur von 400 bis 900°, bei Überdruck-Um-Setzung eine solche von 200 bis 5000 besonders zweckmäßig.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann kontinuierlich oder diskontinuierlich durchgeführt werden. Man
kann z. B. den Rückstand und HCl in einen Autoklaven geben und die Mischung auf die Reaktionstemperatur erhitzen oder den Rückstand und HCl
kontinuierlich durch ein heißes Rohr leiten. Das letztere Verfahren ist besonders vorteilhaft, da man
den Rückstand und HCl langer als 24 Stunden ununterbrochen
durch ein heißes Rohr leiten kann, ohne daß dabei die Reaktionsgeschwindigkeit herabgesetzt
wird. Die Umsetzungsgeschwindigkeit ist auch nach langer Reaktionszeit dieselbe wie zu Beginn.
Ein weiterer Vorteil dieses Verfahrens ist, daß man nicht umgesetztes HCl und den Rückstand in das
Reaktionsgefäß zurückführen kann.
Bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens in Rohren bei Normaldruck ist es gleichgültig,
ob die Rohre ausgekleidet sind oder nicht. Falls eine Auskleidung verwendet wird, kann sie ein
inertes Material, wie Quarz,, darstellen oder aus katalytisch wirkenden Stoffen, wie aktivierte Tonerde
oder Kieselsäuretonerde, bestehen. In beiden Fallen werden befriedigende Ausbeuten an Methylchlorsilanen
erzielt. In dem Rohr-Verfahren können der Rückstand und HCl getrennt oder schon vermischt
in das Reaktionsgefäß gegeben werden.
Um die Umsetzung besonders vorteilhaft zu gestalten, sollten mindestens 4 Gewichtsprozent der
Mischung, berechnet auf das Gewicht des Rückstands, aus HCl bestehen. Gegebenenfalls können auch
wesentlich größere Mengen an HCl verwendet werden, obwohl kein besonderer Vorteil erzielt wird, wenn man
Mischungen verwendet, die mehr als 50 Gewichtsprozent HCl enthalten. Man kann reines HCl-Gas
oder mit anderen inerten Gasen, wie Stickstoff oder CO2, verdünntes HCl-Gas verwenden. HCl kann aus
dem Spaltprodukt wiedergewonnen und erneut verwendet werden.
Der erfindungsgemäß verwendete Rückstand besteht aus einer Mischung einer großen Anzahl von
Silanen, Disilanen, Disiloxanen, Silmethylenen, SiI-äthylenen und anderen polymeren Verbindungen.
Die Tabelle I führt die Produkte auf, die in einer größeren Menge Rückstand, wie er bei der Umsetzung
von Si mit CH3Cl anfällt, festgestellt wurden.
Tabelle I
Verbindung
Verbindung
C2H6SiCl3
(C2H6)CH3SiCl2
(1C3H7)SiCl3
(1C3H7)CH3SiCl2
(nC8H7)SiCl3
(nC3H7) CH3SiCl2
Cl3SiOSiCl3
CH3Cl2SiOSiCl3
(1C4H9)SiCl3
Cl3SiSiCl3 .:
(CHg)2ClSi-SiCl3
CH3Cl2SiOSiCl2CH3
(CH3)2ClSiCH2SiCl(CH3)2
(CH3J2ClSiCH2SiCl3
Cl3SiCH2SiCl3
Cl3SiCH2SiCl2CH3
CH3Cl2SiCH2SiCl2CH3
C6H6SiCl3
CH3Cl2SiCH2CH2SiCl3 '
Siedepunkt in 0C bei Normaldruck
100 102 118
119 124
125 136 140
I4I.5
146
157 158
178 185
185 189 192
201 206
Der Rückstand besteht also hauptsächlich aus Verbindungen, die Methyl- und/oder höhere Alkykesfe
am Silicium aufweisen. Bei der erfindungsgemäßen Umsetzung von HCl mit diesen Verbindungen bei den
angegebenen Temperaturen spalten sich die SiSi-, SiOSi- und SiCSi-Bindungen und bilden Methylchlorsilane,
die nur 1 Süiciumatom pro Molekül aufweisen. Gleichzeitig werden die höheren Alkylreste am
Silicium durch die Hitze gespalten, und man erhält Methylverbindungen. Die verschiedenen Reaktionen
mit HCl können wie folgt dargestellt werden:
ξ= SiSi =
H2
H2
= SiCSi =
= SiOSi ξ=
= SiOSi ξ=
HQ -*■ =
s Si Cl
HCl -+■ = SiCH3 + =SiCl
HCl -+- =SiCl + =SiOH
Die Anteile der in Tabelle I aufgeführten einzelnen Verbindungen im Rückstand sind nicht genau bekannt,
da eine quantitative Destillation des Rückstands nicht möglich ist. Das ist darauf zurückzuführen,
daß man bei der Destillation des Rückstands iin Destillat mit allmählich ansteigendem Siedepunkt
erhält. Wiederholte Fraktionierungen verschiedener Anteile ergeben zwar schließlich reine Verbindungen,
jedoch konnten die zwischen den Verbindungen siedenden Stoffe nicht identifiziert werden. Auf
Grund der unterschiedlichen Reaktionsbedingungen (Temperatur, Zuführgeschwindigkeit, Katalysatoren)
beim Direkt-Verfahren variieren die Verbindungen des Rückstands etwas hinsichtlich des Verhältnisses
der organischen Gruppen pro Siliciumatom. Der
ίο Rückstand hat im allgemeinen ein Verhältnis von
hydrolysierbarem Chlor zu Si im Bereich von 1,4:1
bis 2,8 : ι und ein Verhältnis von einwertigen Kohlenwasserstoffresten
zu Si-Atomen (R/Si) im Bereich von ι bis 1,5. Diese Schwankung des Chloratom- und
Kohlenwasserstoffgehalts beeinträchtigt die Verwendbarkeit des Rückstands im erfindungsgemäßen Verfahren
jedoch in keiner Weise.
Die durch das erfindungsgemäße Verfahren erhaltenen Silane sind wertvolle Stoffe, die zur Herstellung
von Silikonen oder auch direkt zum Wasserabstoßendmachen von organischen und anorganischen Gegenständen
verwendet werden können.
Der in diesem Beispiel verwendete Rückstand hatte ungefähr die folgende, durch eine Destillationsanalyse festgestellte Zusammensetzung: 18,3 % inerte
Kohlenwasserstoffe, 4,4 °/0 Methylchlorsilane der Formel (CHg)nSiCl4-^, 27% höhere Alkylchlorsilane
der Formel RnSiCl4 _„, 6,1% Disiloxane der Formel
(CHs)nSi2OCl6_„, 4,4 % Hexachlordisilan, 8,8%
Methylchlordisilane der Formel (CH3JnSi2Cle_m, 26,9%
Silcarbane der Formern (C H3) „(Si C H2 Si) Cl6 _n,
(CH3)MSiCH2CH2Si(Cl,_„), (CH3USiCH2SiCH2Si)
Cl8 _ n, 4,1 °/o Undestülierbares, enthaltend höherpolymere
Siloxane, Silane und Silcarbane. In den Formern hat η einen Wert von 1 bis 3.
Das Beispiel zeigt eine Spaltung des Rückstands bei Normaldruck. In allen in Tabelle II aufgeführten
Versuchen wurden der Rückstand und HCl gleichzeitig, aber getrennt in ein 1,22 m langes Rohr aus
nichtrostendem Material mit einem inneren Durchmesser von 2,54 cm eingeführt. Das Rohr wurde auf
die in der Tabelle angegebene Temperatur erhitzt und die ■ Stoffe mit bestimmter Geschwindigkeit
während der aufgeführten Zeit durchgeleitet. Bei jedem Versuch wurde das umgesetzte Material in
einer mit Wasser gekühlten Vorlage und in einer Trockeneisfalle gesammelt; anschließend wurden die
Kondensationsprodukte vereinigt und bis zu einer Höchsttemperatur von 750 fraktioniert destilliert.
Bei jedem Versuch wurde das zwischen 35 und 750 siedende Material mittels Infrarot-Analyse geprüft.
Dabei wurde gefunden, daß es im wesentlichen aus den in der Tabelle aufgeführten Silanen bestand. Die
in der Tabelle angegebenen Gewichtsprozente sind auf das Gesamtgewicht des durch das Rohr geleiteten
Rückstands und HCl berechnet. Die verwendete HCl-Menge betrug bei allen Versuchen ungefähr
ι Mol HCl auf 185 g des Rückstands.
Versuch | Rohr-Auskleidung | Tem peratur |
Rück- stands- zuführ- geschwin- digkeit |
HCl-Zu- führ- geschwin- digkeit |
Dauer des Ver suches |
SiCl4 | CH3HSiCl2 | (CHa)3SiCl2 | CH3SiCl3 |
0C | ccm/Min. | ccm/Min. | in Stdn. | % | % | 7o | % | ||
I | Quarz | 700 | 2,00 | 300 | 4.5 | 4,2 | 2,3 | 13,5 | 20,2 |
2 | Quarz | 750 | 2,12 | 300 | 6,0 | 4,5 | Spuren | I8,I | 25,6 |
3 | Kieselsäure-Tonerde | 500 | 2.77 | 300 | 4,3 | 5,3 | 2,1 | 9,2 | 23,8 |
4 | Kieselsäure-Tonerde | 600 | 2,10 | 300 | 3,5 | 5,4 | 1,8 | 8,2 | 29,5 |
5 | Tonerde | 450 | 2,10 | 300 | 2,25 | 9,6 | Spuren | 5,1 | 21,2 |
6 | Tonerde | 600 | 2,10 | 300 | 4.75 | 13,5 | Spuren | 9,2 | 39.5 |
7 | keine . | 700 | 4.3Ο | 500 | 3.25 | 8,9 | 0,8 | 10,3 | 28,8 |
Bei jedem Versuch wurde das Rohr nach 5 Stunden untersucht. Es konnte dabei nur eine geringfügige
Koksbildung festgestellt werden.
Die Tabelle III zeigt, daß eine ausgezeichnete Ausbeute an Methylchlorsilanen auch bei diskontinuierlichem
Arbeiten und bei Anwendung von Überdruck erzielt werden kann. Die Versuche wurden
wie folgt ausgeführt: Ein 2,41 Stahl-Autoklav wurde mit der angegebenen Menge des in Beispiel 1 ver-
wendeten Rückstands und HCl-Gas gefüllt und auf die angegebene Temperatur erhitzt. Während der
Reaktion wurde der Autoklav ständig gedreht und nach Beendigung der Umsetzung auf Zimmertemperatur
abgekühlt; nach Abblasen von HCl wurde das Reaktionsprodukt fraktioniert destilliert, um alle
unter 75 ° siedenden Produkte zu entfernen. Die Ergebnisse sind aus der Tabelle zu entnehmen. Die
in der Tabelle angegebenen Gewichtsprozente beziehen sich auf das Gesamtgewicht des Reaktions-Produktes.
Gewicht des Rück |
Gewicht fie= TT η |
Temperatur | Tabelle | III | Gewicht | SiCl4 | CH3HSiCl3 | (CHa)3SiCI2 | CH3SiCl3 | |
standes | des Re aktions- |
|||||||||
Versuch | g | S | 0C | Druck | Dauer | produktes | % | 7. | % | 7. |
6oo | 97 | 342 bis 354 | in | ing | 5,5 | 1,8 | ii,3 | 43,4 | ||
6oo | 97 | 390 - 400 | kg/cm2 | Stdn. | 620 | 11,8 | 1,8 | 11,3 | 38,7 | |
X | 6oo | 132 | 295 - 310 | 94,5 bis 97,3 | 16 | 610 | 5,9 | 2,0 | 7,3 | 35,5 |
2 | 6oo | 97 | 395 - 409 | 112,0 - 114,8 | 16 | 550 | 9,5 | 0,9 | 4,2 | 3i>° |
3 | 94,5 - 110,2 | • 16 | 605 | |||||||
4 | 99,7 | 2 | ||||||||
Claims (3)
- Patentansprüche:i. Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen, dadurch gekennzeichnet, daß der bei der Umsetzung von Methylchlorid mit Silicium gebildete, einen Siedepunkt oberhalb dem des Dimethyldichlorsilans aufweisende Rückstand mit HCl in einer Menge von mindestens 4 Gewichtsprozent, berechnet auf das Gewicht des Rückstands, auf 200 bis 900° erhitzt wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Umsetzung bei Normaldruck und einer Temperatur von 400 bis 900° erfolgt.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Umsetzung bei Überdruck und einer Temperatur von 200 bis 5000 erfolgt.1 509 601 12.55
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US338123A US2681355A (en) | 1953-02-20 | 1953-02-20 | Method of preparing organosilanes |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE936444C true DE936444C (de) | 1955-12-15 |
Family
ID=23323500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED17033A Expired DE936444C (de) | 1953-02-20 | 1954-02-14 | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US2681355A (de) |
BE (1) | BE526512A (de) |
DE (1) | DE936444C (de) |
FR (1) | FR1093399A (de) |
GB (1) | GB749799A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2455384A1 (de) | 2010-11-23 | 2012-05-23 | Wacker Chemie AG | Verfahren zum Aufarbeiten von flüssigen Rückständen der Direktsynthese von Organochlorsilanen |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL90972C (de) * | 1954-03-12 | |||
US4393229A (en) * | 1982-04-28 | 1983-07-12 | General Electric Company | Redistribution of polysilanes in high boiling residues |
US4973725A (en) * | 1988-06-28 | 1990-11-27 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. | Direct synthesis process for organohalohydrosilanes |
DE4134422A1 (de) * | 1991-10-17 | 1993-04-22 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von methylchlorsilanen |
US5175329A (en) * | 1992-04-03 | 1992-12-29 | Dow Corning Corporation | Production of organosilanes from polysilanes |
DE4220151A1 (de) * | 1992-06-19 | 1993-12-23 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Gewinnung von Methylchlorsilanen aus hochsiedenden Rückständen der Methylchlorsilansynthese |
US5326896A (en) * | 1993-07-14 | 1994-07-05 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling component to silane monomers in the presence of hydrogen gas |
US5292909A (en) * | 1993-07-14 | 1994-03-08 | Dow Corning Corporation | Catalytic conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of hydrogen chloride and hydrogen |
US5321147A (en) * | 1993-07-16 | 1994-06-14 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of chlorine |
US5292912A (en) * | 1993-07-19 | 1994-03-08 | Dow Corning Corporation | Catalytic conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of hydrogen chloride |
US5430168A (en) | 1994-10-27 | 1995-07-04 | Dow Corning Corporation | Alumimum trichloride catalyzed hydrogenation of high-boiling residue from direct process |
US5616760A (en) | 1996-01-31 | 1997-04-01 | Dow Corning Corporation | Process for reacting organodisilanes with organic halides |
US5627298A (en) * | 1996-06-13 | 1997-05-06 | Dow Corning Corporation | One step process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes |
US5606090A (en) * | 1996-06-13 | 1997-02-25 | Dow Corning Corporation | Conversion of high-boiling residue from direct process to monosilanes |
US5629438A (en) * | 1996-09-11 | 1997-05-13 | Dow Corning Corporation | Hydrochlorination process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes |
DE19711693A1 (de) * | 1997-03-20 | 1998-09-24 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylchlorsilanen aus den Rückständen der Direktsynthese von Alkylchlorsilanen |
US5907050A (en) * | 1998-09-30 | 1999-05-25 | Dow Corning Corporation | Process for converting polymeric silicon containing compounds to monosilanes |
US5922894A (en) * | 1998-10-28 | 1999-07-13 | Dow Corning Corporation | Process for converting polymeric silicon containing compounds to monosilanes |
US6013824A (en) * | 1998-12-01 | 2000-01-11 | Dow Corning Corporation | Redistributing silalkylenes in an alkyl-rich silalkylene-containing residue |
US6013235A (en) * | 1999-07-19 | 2000-01-11 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling residue to monosilanes |
US20040038048A1 (en) * | 2000-02-02 | 2004-02-26 | Lg Chemical Ltd. | Semiconductor interlayer dielectric material and a semiconductor device using the same |
DE10039172C1 (de) * | 2000-08-10 | 2001-09-13 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum Aufarbeiten von Rückständen der Direktsynthese von Organochlorsilanen |
DE10354262A1 (de) * | 2003-11-20 | 2005-06-23 | Wacker-Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylchlorsilanen aus den Rückständen der Direktsynthese von Alkylchlorsilanen |
DE102008000410A1 (de) * | 2008-02-26 | 2009-08-27 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkylchlorsilanen aus den Rückständen der Direktsynthese von Alkylchlorsilanen |
US8697901B2 (en) | 2011-12-30 | 2014-04-15 | Momentive Performance Materials Inc. | Synthesis of organohalosilane monomers via enhanced cleavage of direct process residue |
US8637695B2 (en) | 2011-12-30 | 2014-01-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Synthesis of organohalosilane monomers from conventionally uncleavable Direct Process Residue |
US11975976B2 (en) | 2019-08-22 | 2024-05-07 | Dow Silicones Corporation | Process for purifying silicon compounds |
EP4069706A1 (de) | 2019-12-03 | 2022-10-12 | Dow Silicones Corporation | Verzweigte oxydisilan-/siloxanoligomere und verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als wärmeübertragungsflüssigkeiten |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB666512A (en) * | 1949-04-28 | 1952-02-13 | Monsanto Chemicals | Improvements in or relating to processes for preparing polysilicon oxyhalides |
US2598435A (en) * | 1949-08-18 | 1952-05-27 | Gen Electric | Process for treating organoplysilanes |
US2628243A (en) * | 1950-01-09 | 1953-02-10 | Dow Corning | Preparation of organochlorosilanes |
-
0
- FR FR1093399D patent/FR1093399A/fr not_active Expired
- BE BE526512D patent/BE526512A/xx unknown
-
1953
- 1953-02-20 US US338123A patent/US2681355A/en not_active Expired - Lifetime
-
1954
- 1954-01-25 GB GB2224/54A patent/GB749799A/en not_active Expired
- 1954-02-14 DE DED17033A patent/DE936444C/de not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2455384A1 (de) | 2010-11-23 | 2012-05-23 | Wacker Chemie AG | Verfahren zum Aufarbeiten von flüssigen Rückständen der Direktsynthese von Organochlorsilanen |
DE102010061814A1 (de) | 2010-11-23 | 2012-05-24 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zum Aufarbeiten von flüssigen Rückständen der Direktsynthese von Organochlorsilanen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1093399A (de) | 1955-05-03 |
US2681355A (en) | 1954-06-15 |
BE526512A (de) | |
GB749799A (en) | 1956-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE936444C (de) | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen | |
EP0600266B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von SiH-Gruppen aufweisenden Organopolysiloxanen | |
DE960461C (de) | Verfahren zur Herstellung von Organohalogenmonosilanen aus Organohalogenpolysilanen | |
DE824048C (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen | |
EP0155626B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Dimethyldichlorsilan | |
DE829892C (de) | Verfahren zur Herstellung von alkenylsubstituierten, endstaendig ungesaettigten Chlorsilanen | |
DE893198C (de) | Verfahren zur Herstellung von Organohalogensilanen | |
DE1289842B (de) | Verfahren zur Spaltung von Disilanen | |
DE855851C (de) | Verfahren zur Herstellung von Dimethyldichlorsilan | |
DE936445C (de) | Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorsilanen | |
DE60013971T2 (de) | Umsetzung von hochsiedenden Rückständen der Direktsynthese in Monosilane | |
DE870256C (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumhalogeniden bzw. von halogensubstituierten Monosilanen | |
DE1618802B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1,3,5,7-Tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclotetrasiloxan | |
DE3303707C2 (de) | ||
EP4069705B1 (de) | Verfahren zur herstellung von trimethylchlorsilan | |
DE3208829C2 (de) | ||
DE854950C (de) | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilylderivaten von aromatischen Chlorkohlenwasserstoffen | |
DE870555C (de) | Verfahren zur Herstellung von phenylenbrueckenhaltigen chlorierten Polyorganosilanen | |
DE855114C (de) | Verfahren zur Herstellung von Organodichlorsilylderivaten von aromatischen Chlorkohlenwasserstoffen | |
DE2012099A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Aryldimethylchlorsilanen | |
DE1022225B (de) | Verfahren zur Herstellung von substituierten Silanen | |
DE3436381A1 (de) | Verfahren zur herstellung von dimethyldichlorsilan | |
DE870104C (de) | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen | |
DE1159446B (de) | Verfahren zur Umwandlung von Organosilanen | |
DE917248C (de) | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- und Alkylarylchlorsilanen |