DE69928937T2

DE69928937T2 - Container for high purity liquid chemicals and its use

Info

Publication number: DE69928937T2
Application number: DE69928937T
Authority: DE
Inventors: Keiji Toyokawa Kawai; Yoshiaki Toyohashi Ito
Original assignee: Aicello Chemical Co Ltd
Current assignee: Aicello Chemical Co Ltd
Priority date: 1999-10-07
Filing date: 1999-10-07
Publication date: 2006-07-06
Anticipated expiration: 2019-10-08
Also published as: DE69928937D1; ATE312767T1

Description

Beschreibungdescription

Die vorliegende Erfindung befasst sich mit einem Behälter zur Verwendung für die Aufbewahrung einer hochreinen flüssigen Chemikalie, welche im Bereich von Halbleitern und Flüssigkristallen Verwendung findet, als auch mit einem Verfahren um die hochreine Chemikalie von dem Behälter zu entleeren. Der Maßstab beim Entwerfen von z.B. integrierten Schaltkreisen verlangt verstärkt ein hohes Maß an Miniaturisierung dieser Halbleitermittel aufgrund der gegenwärtigen schnellen Entwicklung der Elektronikgeräte. Hochreine Chemikalien, wie photoresistente Flüssigkeiten die für solche feinen Mustertechniken verwendet werden, sollten nicht nur herausragende Grundeigenschaften aufweisen, es sollten auch keine Qualitätsverminderungen entstehen während der Lagerung und des Transport derselben. Der Ausdruck „Qualitätsverminderung", der hier verwendet wird, bedeutet zum Beispiel einen Anstieg der Anzahl unreiner feiner Teilchen in einer photoresistenten Flüssigkeit, Degeneration von Komponenten derselben, quantitative Veränderungen in der Zusammensetzung, ein Anstieg in der Anzahl unreiner Metallelemente oder Verschlechterung von lichtsensitiven Komponenten infolge der Bestrahlung mit Lichtstrahlen. Der Anstieg der Menge kleiner Teilchen in solch einer photoresistenten Flüssigkeit und die Verschlechterung ihrer Komponenten werden hauptsächlich durch Ablösung einiger Komponenten, die in dem Behältermaterial vorhanden sind, in die photoresistente Flüssigkeit verursacht. Wenn eine solche photoresistente Flüssigkeit auf einem Substrat angewendet wird, um einen photoresistenten Film zu bilden, bilden sich Nadellöcher auf dem Substrat. Zusätzlich werden die quantitativen Veränderungen der Zusammensetzung der Flüssigkeit durch das Eindringen eines organischen Lösungsmittels, das in der Flüssigkeit vorhanden ist, in das Äußere durch die Wand des Behälters. Dabei erfährt die Flüssigkeit eine Veränderung in der Viskosität und die Dicke des daraus resultierenden photoresistenten Films wird entsprechend verändert.The The present invention relates to a container for use in storage a high purity liquid Chemicals that are in the range of semiconductors and liquid crystals Use, as well as with a process for the high purity Chemical from the container to empty. The scale when designing e.g. integrated circuits requires increased input high level Miniaturization of these semiconductor devices due to the current fast Development of electronic devices. High purity chemicals, such as photoresistant liquids for such fine patterning techniques should not just be outstanding There should also be no quality reductions arise during the storage and transport of the same. The term "quality reduction" used here is, for example, an increase in the number of impure fine Particles in a photoresistant liquid, degeneration of Components thereof, quantitative changes in composition, an increase in the number of impure metal elements or deterioration of light-sensitive components due to irradiation with light rays. The increase in the amount of small particles in such a photoresistant liquid and the deterioration of their components are mainly due to replacement some components that are present in the container material, in the photoresistant liquid caused. When such a photoresistant liquid on a substrate is applied to form a photoresist film pinholes on the substrate. additionally will be the quantitative changes of Composition of the liquid by the penetration of an organic solvent that is in the liquid is present in the exterior the wall of the container. It learns the liquid a change in viscosity and the thickness of the resulting photoresist film becomes changed accordingly.

Die Verschlechterung der Qualität dieser photoresistenten Flüssigkeiten hat ernste nachteilige Effekte auf die entstehenden Halbleiter und Flüssigkristallanzeigen und deren Ausbeute und würde die Lebenszeit der Flüssigkeit an sich verkürzen.The Deterioration of quality of these photoresistant liquids has serious adverse effects on the resulting semiconductors and liquid crystal displays and their yield and would the lifetime of the liquid shorten in itself.

Es ist der Begriff „Reinheit" bekannt als ein Hinweis für das Ausmaß der Qualitätsverschlechterung infolge des Freiwerdens von unreinen kleinen Teilchen von einem Behälter während der Lagerung einer photoresistenten Flüssigkeit über einen langen Zeitraum. Die Reinheit wird ermittelt indem hochreines Wasser oder eine photoresistente Flüssigkeit in einem Behälter, der untersucht werden soll, für eine vorbestimmte Zeitspanne gelagert wird und dann die Anzahl kleiner Teilchen bestimmt wird, mit einer Teilchengröße nicht weniger als 0,2 μm, die in einem ml der Flüssigkeit vorhanden sind, die in dem Behälter gelagert wird. Insbesondere kann die Reinheit durch folgende Gleichung definiert werden: Reinheit (Anzahl/ml) = [c(Anzahl) × a/2 (ml)]/[b(ml) × a(ml)] (1) The term "purity" is known as an indication of the extent of quality degradation due to the release of impure small particles from a container during storage of a photoresistant liquid over a long period of time The purity is determined by using high purity water or a photoresistant liquid in one A container to be examined is stored for a predetermined period of time and then the number of small particles having a particle size of not less than 0.2 μm contained in one ml of the liquid stored in the container is determined the purity can be defined by the following equation: Purity (number / ml) = [c (number) × a / 2 (ml)] / [b (ml) × a (ml)] (1)

In der Gleichung (1), bedeutet a das Volumen des Behälters und b ist die Menge an flüssigem Inhalt aus dem zu untersuchenden Behälter. Zuerst wird eine Probe der Flüssigkeit, um die anfängliche Reinheit zu ermitteln, gemäß folgendem Verfahren aus dem Behälter entnommen: Zu einem Testbehälter, der das Volumen von a (ml) aufweist, wird hochreines Wasser oder eine photoresistente Flüssigkeit hinzugefügt bis zu einer Menge des halben Behältervolumens a/2 (ml), darauf wird er für 15 Sekunden geschüttelt, für 24 Stunden stehen gelassen und dann eine Flüssigkeitsprobe gesammelt. Der Behälter, der verwendet wurde um die anfängliche Reinheit zu bestimmen, wird mit einem Stopfen dicht versiegelt, dann für eine vorbestimmte Zeitspanne stehen gelassen und danach drei Umdrehungen rotiert, ohne dass sich Luftblasen bilden, gefolgt durch das Sammeln einer Flüssigkeitsprobe, die verwendet wird die Reinheit nach der Lagerung von Wasser oder einer photoresistenten Flüssigkeit festzustellen. In der Gleichung bedeutet c die Anzahl kleiner Teilchen, die bestimmt wird mittels eines Teilchenzählers, die in der ganzen Flüssigkeitsprobe vorhanden sind und mit einer Größe nicht unter 0,2 μm. So werden die anfängliche Reinheit und die Reinheit, die nach der Lagerung über eine vorbestimmte Zeitspanne be stimmt wird, auf der Grundlage der Anzahl der kleinen Teilchen bestimmt. Diesbezüglich ist je kleiner der Zahlenwert ist, der die Reinheit angibt, desto höher die Qualität der photoresistenten Flüssigkeit. Ist die Reinheit kleiner als 100 Teilchen/ml so können solche flüssige Chemikalien stabil gelagert werden ohne eine Qualitätsverschlechterung der Halbleiter und der Flüssigkristallanzeigen (LCD) und einen Rückgang in der Ausbeute zu verursachen.In of equation (1), a is the volume of the container and b is the amount of liquid Content from the container to be examined. First, a sample the liquid, around the initial To determine purity, according to the following Procedure from the container taken from: To a test container, which has the volume of a (ml) becomes high purity water or a photoresistant fluid added up to half the volume of the container a / 2 (ml), on top will he be for Shaken for 15 seconds, for 24 Stopped for hours and then collected a liquid sample. Of the Container, that was used around the initial one To determine purity is tightly sealed with a stopper, then for let stand for a predetermined period of time and then three revolutions rotates without bubbles forming, followed by collecting a fluid sample, which is used after the storage of water or the purity a photoresistant liquid determine. In the equation, c means the number of small particles, which is determined by means of a particle counter, in the whole liquid sample are present and not one size less than 0.2 μm. So are the initial ones Purity and purity after storage over a predetermined period of time be true, based on the number of small particles. In this regard, the smaller the numerical value The purity indicates the higher the quality of the photoresist Liquid. If the purity is less than 100 particles / ml then such liquid Chemicals are stored stable without quality deterioration semiconductors and liquid crystal displays (LCD) and a decline to cause in the yield.

Als Behälter zur Aufbewahrung von flüssigen Photoresistlacken und verwandten flüssigen Chemikalien werden im Allgemeinen zum Beispiel Glasbehälter, Metallbehälter und Behälter, die aus einschichtigen Polyethylen(PE) Harzen hergestellt werden, verwendet. Jedoch können Glas und Metallbehälter keine hohe Reinheit des Inhalts sicherstellen, da Natriumionen von dem Glasbehälter abgegeben werden und jeder Metallbehälter Ionen des entsprechenden Metalls, aus dem der Behälter besteht, so wie Eisenionen abgibt.As containers for storing liquid photoresist paints and related liquid chemicals, for example, glass containers, metal containers, and containers made of single-layer polyethylene (PE) resins are generally used. However, glass and metal containers can not be high Ensure purity of contents as sodium ions are released from the glass container and each metal container releases ions of the corresponding metal from which the container is made, such as iron ions.

Darüber hinaus hat ein gewöhnlicher Behälter, der aus einem Polyethylenharz mit Barriere-Zusatz hergestellt ist eine geringe Reinheit. Wenn ein lichtabschirmendes Pigment und ein Pigment-Dispergiermittel zu diesem Polyethylenharz hinzugefügt werden, das eine geringe lichtabweisende Eigenschaft aufweist, würde die Reinheit des resultierenden Behälters weiter beeinträchtigt. Die Behälter zur Aufbewahrung eines flüssigen Photoresistharzes sollte eine gute Reinheit, einen lichtabschirmenden Effekt und lösungsmittelbegrenzende Eigenschaften aufweisen und dementsprechend wird keiner der vorangegangenen Behälter bevorzugt verwendet. Zusätzlich treten andere Probleme auf, zum Beispiel hat der Glasbehälter die Eigenschaft, dass er leicht bricht und Metallbehälter sind schwer und unbequem im Umgang.Furthermore has an ordinary one Container, which is made of a polyethylene resin with barrier additive a low purity. If a light-shielding pigment and a Pigment dispersant can be added to this polyethylene resin, which has a low light-repellent property, would Purity of the resulting container further impaired. The containers for storing a liquid photoresist resin should have a good purity, a light-shielding effect and solvent-limiting properties and accordingly, none of the foregoing containers is preferred used. additionally other problems arise, for example, the glass container has the Feature that it breaks easily and metal containers are heavy and uncomfortable in dealing.

Die vorliegende Erfindung wurde entwickelt, um die vorgenannten Probleme, die mit den gewöhnlichen Behältern zur Aufbewahrung und dem Transport hochreiner flüssiger Chemikalien verbunden sind, zu lösen und demgemäß ist es ein Gegenstand der vorliegenden Erfindung einen Behälter bereitzustellen, welcher die Qualität hochreiner flüssiger Chemikalien wie z.B. Photoresistharze während deren Aufbewahrung und Transport nicht verschlechtert und kaum brechen kann und auch ein geringes Gewicht aufweist. Darüber hinaus ist es ein anderes Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren bereitzustellen, um leicht und sicher eine solche hochreine flüssige Chemikalie aus dem Aufbewahrungsbehälter zu entladen.The The present invention has been developed in order to overcome the aforementioned problems, those with the ordinary ones containers connected to the storage and transport of high purity liquid chemicals are to be solved and accordingly it is an object of the present invention to provide a container which the quality highly pure liquid Chemicals such as e.g. Photoresist resins during storage and transportation not deteriorate and can hardly break and also a small one Has weight. About that In addition, another object of the present invention is a method to provide such a high purity liquid chemical easily and safely from the storage box to unload.

Das Folgende ist die Beschreibung der vorliegenden Erfindung, die entwickelt wurde, um die vorgenannten Ziele zu erreichen. Die Erfindung wird hier unter Bezugnahme der beigefügten Zeichnungen mit Ausführungsformen der Erfindung beschrieben.The The following is the description of the present invention being developed was to achieve the above goals. The invention is here with reference to the attached Drawings with embodiments of the invention.

Wie in 1 gezeigt, ist der Behälter 1 zur Aufbewahrung einer hochreinen flüssigen Chemikalie gemäß der vorliegenden Erfindung einer, der folgendermaßen hergestellt wurde: durch Blasformen einer inneren Schicht aus einem hochreinen Harz, dessen Anteil an Polymeren mit einem Gewichtsdurchschnitt m_w von nicht mehr als 1 × 10³, bestimmt durch Gelpermeationschromatographie, weniger als 5% Massenanteil aufweist und das aus mindestens einem Vertreter aus der Gruppe der Olefin-Polymere von Ethen, Propen, Buten-1, 4-Methyl-Penten-1, Hexen-1 oder Okten-1 und Ethen-Copolymeren und anderen Olefinen als Ethen besteht; einer Zwischenschicht aus einem Lösungsmittelundurchlässigen Harz, bestehend aus mindestens einem Vertreter aus der Gruppe der Polyamide, Polyvinylalkohole, Poly-(Ethen-Co-Vinyl-Alkohole), Polyester und Polyphenylenoxide; aus einer äußeren Schicht mit einer lichtabschirmendes Material enthaltenden Harz-Kombination in der Weise, dass der Behälter die geringste Absorption für alle Schichten im Bereich von nicht mehr als 400 nm Wellenlänge bei Benutzung eines Spektralphotometers von nicht weniger als 2,0 besitzt und dass der Absorptionskoeffizient bei einer Wellenlänge von 400 nm oder dass das Verhältnis für die gesamten Schichten aus Absorption für diese Wellenlänge und der Dicke der Schichten nicht weniger als 1,5 mm^–1 beträgt und dass der Absorptionskoeffizient bei der Wellenlänge von 600 nm nicht mehr als 1,5 mm^–1 beträgt. Der Behälter ist bevorzugt mit einem Griff 2 ausgestattet.As in 1 shown is the container 1 for storing a high purity liquid chemical according to the present invention, one prepared by: blow molding an inner layer of a high purity resin whose proportion of polymers having a weight average m _w of not more than 1 × 10 ^{3 as} determined by gel permeation chromatography; having at least one member selected from the group of olefin polymers of ethene, propene, butene-1, 4-methyl-pentene-1, hexene-1 or octene-1 and ethene copolymers and other olefins as Ethene exists; an intermediate layer of a solvent-impermeable resin consisting of at least one member of the group of polyamides, polyvinyl alcohols, poly (ethene-co-vinyl alcohols), polyesters and polyphenylene oxides; comprising an outer layer having a light-shielding material-containing resin combination such that the container has the least absorption for all layers in the range of not more than 400 nm wavelength using a spectrophotometer of not less than 2.0 and that the absorption coefficient at a wavelength of 400 nm or that the ratio for the entire layers of absorption for this wavelength and the thickness of the layers is not less than 1.5 mm ^-1 and that the absorption coefficient at the wavelength of 600 nm is not more than 1.5 mm ^-1 . The container is preferably with a handle 2 fitted.

Es folgt die Beschreibung eines Verfahrens zur Entladung einer hochreinen flüssigen unter Verwendung des erfindungsgemäßen Behälters 1. Die Erfindung wird beschrieben mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen mit Ausführungsformen der Erfindung.The following is a description of a method for discharging a high-purity liquid using the container according to the invention 1 , The invention will be described with reference to the accompanying drawings with embodiments of the invention.

Wie in 2 gezeigt, umfasst das Verfahren, um eine hochreine flüssige Chemikalie zu entladen, folgende Schritte: In einem schützenden Druckbehälter 12, 13 wird ein innerer Behälter 1 dicht angeordnet, von dem ein Ende eines Flüssigkeitsentladerohrs zum Äußeren des inneren Behälters 1 geführt ist, während das andere Ende des Rohrs in den inneren Behälter, der mit der einer hochreinen flüssigen Chemikalie 15 gefüllt ist, eingeführt ist herunter bis zum Boden desselben und die Entladung der flüssigen Chemikalie 15 durch das Flüssigkeitsentladerohr 10 wird durch die Wirkung des Drucks eines Gases, das von einer Druckquelle 6, die mit dem schützenden Druckbehälter 13 verbunden ist, bereitgestellt. Der schützende Druckbehälter 12, 13 ist nicht aus einem bestimmten Material gefertigt, sofern das Material einen Gasdruck von 0,1 bis 3,0 kg/cm^–1 aushält, da der Behälter nicht in direkten Kontakt mit der flüssigen Chemikalie kommt.As in 2 As shown, the process to discharge a high purity liquid chemical involves the following steps: In a protective pressure vessel 12 . 13 becomes an inner container 1 densely arranged, one end of a Flüssigkeitsentladerohrs to the outside of the inner container 1 while the other end of the tube is in the inner container, that with a high purity liquid chemical 15 filled is introduced down to the bottom of the same and the discharge of the liquid chemical 15 through the liquid discharge tube 10 is caused by the action of the pressure of a gas coming from a pressure source 6 Covered with the protective pressure vessel 13 connected. The protective pressure vessel 12 . 13 is not made of a specific material, as long as the material withstands a gas pressure of 0.1 to 3.0 kg / cm ^-1 , as the container does not come into direct contact with the liquid chemical.

Gemäß einer anderen Ausführungsform umfasst das Verfahren zum Entladen einer hochreinen flüssigen Chemikalie, wie in 3 gezeigt die folgenden Schritte:
In einem Schutzbehälter 22, 23 wird ein innerer Behälter 1 dicht untergebracht, von welchem ein Ende eines Flüssigkeitsentladerohrs 10 zum Äußeren des inneren Behälters 1 geführt ist, während das andere Ende des Rohres in den inneren Behälter, der mit einer hochreinen flüssigen Chemikalie 15 gefüllt ist, herunter bis zu dessen Boden eingeführt ist und das Entladen der flüssigen Chemikalie 15 durch das Flüssigkeitsentladerohr 10 erfolgt durch die Wirkung einer Pumpe 16, die in dem Verlauf des Entladeweges der flüssigen Chemikalie angeordnet ist. Ein Filter 14 ist bevorzugt mit einem offenen Zugang 19 des Behälters 23 verbunden.In another embodiment, the method includes discharging a high purity liquid chemical, as in 3 shown the following steps:
In a protective container 22 . 23 becomes an inner container 1 densely accommodated, of which one end of a Flüssigkeitsentladerohrs 10 to the exterior of the inner container 1 while the other end of the tube is in the inner container containing a high purity liquid chemical 15 is filled down to the bottom of which is introduced and unloading the liquid chemical 15 through the liquid discharge tube 10 done by the action of a pump 16 which is arranged in the course of the discharge path of the liquid chemical. A filter 14 is preferred with an open access 19 of the container 23 connected.

Eine weitere Ausführungsform des Verfahrens zum Entladen einer hochreinen flüssigen Chemikalie umfasst, wie in 4 gezeigt die Schritte: In einem Schutzgefäß 32, 33 wird ein innerer Druckbehälter 1 untergebracht, von welchem ein Ende des Flüssigkeitsentladerohrs 10 an die Außenseite des inneren Behälters 1 geführt ist, während das andere Ende des Rohrs in den inneren, mit einer hochreinen flüssigen Chemikalie 15 gefüllten Druckbehälter herunter bis zu seinem Boden eingeführt ist das Entladen der flüssigen Chemikalie 15 durch das Flüssigkeitsentladerohr 10 erfolgt durch die Wirkung des Drucks eines Gases, das durch eine Druckquelle 6 bereitgestellt wird, die mit dem inneren Behälter 1 verbunden ist.Another embodiment of the method for discharging a high-purity liquid chemical comprises, as in 4 shown the steps: in a protective vessel 32 . 33 becomes an inner pressure vessel 1 housed, of which one end of the Flüssigkeitsentladerohrs 10 to the outside of the inner container 1 while the other end of the tube is in the inner, with a high-purity liquid chemical 15 filled pressure vessel down to its bottom is discharged the liquid chemical 15 through the liquid discharge tube 10 takes place by the action of the pressure of a gas passing through a pressure source 6 is provided with the inner container 1 connected is.

Der innere Behälter 1 zur Unterbringung der hochreinen flüssigen Chemikalie 15 ist, wie in 2, 3 und 4 gezeigt ist, bevorzugt ein Behälter um eine hochreine flüssige Chemikalie aufzubewahren, wie in 1 gezeigt.The inner container 1 for housing the high purity liquid chemical 15 is how in 2 . 3 and 4 It is preferable to have a container for storing a high purity liquid chemical, as shown in FIG 1 shown.

1 ist eine schematische Darstellung, die eine Ausführung des Behälters zum Aufbewahren einer hochreinen flüssigen Chemikalie gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt. 1 Fig. 12 is a schematic diagram showing an embodiment of the container for storing a high-purity liquid chemical according to the present invention.

2 ist eine teilweise Schnittansicht, die den Behälter zum Aufbewahren einer hochreinen flüssigen Chemikalie gemäß der vorliegenden Erfindung im Betrieb zeigt. 2 Fig. 10 is a partial sectional view showing the container for storing a high-purity liquid chemical according to the present invention in operation.

3 ist eine teilweise Schnittansicht, die den Behälter zum Aufbewahren einer hochreinen flüssigen Chemikalie zeigt gemäß der vorliegenden Erfindung, welcher gemäß einer anderen Ausführungsvariante betrieben wird. 3 Fig. 3 is a partial sectional view showing the container for storing a high-purity liquid chemical according to the present invention, which is operated according to another embodiment.

4 ist eine teilweise Schnittansicht, die einen Behälter zeigt zum Aufbewahren einer hochreinen flüssigen Chemikalie gemäß der vorliegenden Erfindung, welche gemäß einer noch weiteren Ausführungsvariante betrieben wird. 4 Fig. 3 is a partial sectional view showing a container for storing a high-purity liquid chemical according to the present invention, which is operated according to yet another embodiment.

Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend im Detail beschrieben in Bezug auf die beigefügten Zeichnungen, die den Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung entsprechen.The The present invention will be described in detail below Reference to the attached Drawings that correspond to the embodiments correspond to the present invention.

Der Behälter 1 zum Aufbewahren (oder Transport) einer hochreinen flüssigen Chemikalie gemäß der vorliegenden Erfindung wird durch das folgende Verfahren hergestellt. Rohmaterialien, die verwendet werden, den Behälter 1 herzustellen, sind hochreine Olefinharze für die innere Schicht 3, ein Harz das Lösungsmittelsperreigenschaften aufweist (im weiteren wird dies als „lösungsmittelundurchlässiges Harz" bezeichnet) für die mittlere Schicht 4 und ein Harz, das eine lichtabschirmende Zusammensetzung enthält, für die äußere Schicht 5. Der Behälter 1 wird durch Blasformen dieser Werkstoffe in einer Struktur hergestellt, die zumindest 5 Schichten enthält, beinhaltend von der Innenseite eine hochreine Olefinharzschicht/Adhäsionsharzschicht/lösungsmittelundurchlässige Harzschicht/Adhäsionsharzschicht/Schicht aus einem eine lichtabschirmende Zusammensetzung enthaltenden Harz. Die Formmaschinen, die zum Blasformen verwendet werden, können jene sein, die gewöhnlich verwendet werden, insofern sie mit 4 Schnecken ausgestattet sind. Jedes Harz wird in einem entsprechenden Extruder geschmolzen und dann in ein zylindrisches Extrudat extrudiert, gefolgt davon, dass diese extrudierten Extrudate in eine Form gelegt werden, ein Druckgas dahinein durch einen Blasdorn eingeblasen wird und dann das blasgeformte Produkt abgekühlt wird, um einen Behälter 1 zu ergeben.The container 1 for storing (or transporting) a high-purity liquid chemical according to the present invention is prepared by the following method. Raw materials that are used, the container 1 are high purity olefin resins for the inner layer 3 , a resin having solvent-barrier properties (hereinafter referred to as a "solvent-impermeable resin") for the middle layer 4 and a resin containing a light-shielding composition for the outer layer 5 , The container 1 is made by blow molding these materials in a structure that, at least 5 Containing layers including from the inside a high-purity olefin resin layer / adhesive resin layer / solvent-impermeable resin layer / adhesive resin layer / layer of a light-shielding composition-containing resin. The molding machines used for blow molding may be those that are commonly used insofar as they are used with 4 Slugs are equipped. Each resin is melted in a corresponding extruder and then extruded into a cylindrical extrudate, followed by placing these extruded extrusions in a mold, blowing a pressurized gas therein through a blow mandrel, and then cooling the blow molded product to a container 1 to surrender.

Die innere Schicht 3 kommt in direkten Kontakt mit der hochreinen flüssigen Chemikalie 15 und deshalb ist es sehr wichtig, diese aus einem Material herzustellen, das niemals kleine Teilchen und/oder Metallionen abgibt. Dem gemäß ist die innere Schicht 3 aus einem hochreinen Harz angefertigt, das mindestens einen Vertreter aus der Gruppe der Olefin-Polymere von Ethen, Propen, Buten-1,4-Methyl-Penten-1, Hexen-1 oder Okten-1 und Ethen-Copolymeren und anderen Olefinen außer Ethen, umfasst. Die Harzzusammensetzung um die innere Schicht 3 auszuformen hat einen Anteil an Polymeren mit einem Gewichtsdurchschnitt von nicht mehr als 1 × 10³, bestimmt durch Gelpermeationschromatographie, von weniger als 5%. Massenanteil. Der Behälter, der aus solch einer Harzzusammensetzung geformt ist, die einen Anteil von solchen Polymeren von nicht weniger als 5% Massenanteil aufweist, ermöglicht eine einfaches Abgeben von kleinen Teilchen in die hochreine flüssige Chemikalie. Deshalb hat solch ein Behälter eine Reinheit von nicht weniger als 100 Partikel/m und kann überhaupt nicht verwendet werden für die Aufbewahrung einer hochreinen flüssigen Chemikalie.The inner layer 3 comes into direct contact with the high purity liquid chemical 15 and therefore it is very important to make these from a material that never releases small particles and / or metal ions. Accordingly, the inner layer is 3 made from a high-purity resin containing at least one member selected from the group of olefin polymers of ethene, propene, butene-1,4-methyl-pentene-1, hexene-1 or octene-1 and ethene copolymers and other olefins other than ethene , includes. The resin composition around the inner layer 3 has a content of polymers with a weight average of not more than 1 × 10 ³ , determined by gel permeation chromatography, of less than 5%. Mass fraction. The container formed of such a resin composition having a proportion of such polymers of not less than 5% by mass enables easy discharge of small particles into the high-purity liquid chemical. Therefore, such a container has a purity of not less than 100 particles / m and can not be used at all for the storage of a high-purity liquid chemical.

Das Molekulargewicht von, zum Beispiel Harzen, wird durch ein Verfahren bestimmt, in welchem Harzpellets in einem Lösungsmittel (o-Dichlorobenzen) gelöst werden, um eine Probenlösung zu erhalten und dann deren Molekulargewicht und Verteilung des Molekulargewichts durch GPC bestimmt wird. Die ge wichtmittleren und zahlenmittleren Molekulargewichte werden gemäß der folgenden Beziehungen berechnet: Gewichtsmittleres Molekulargewicht = Σ (M × w)/Σw (2) Zahlenmittleres Molekulargewicht = Σw/Σ(w/M) (3) The molecular weight of, for example, resins, is determined by a method in which resin pellets are dissolved in a solvent (o-dichlorobenzene) to obtain a sample solution and then its molecular weight and molecular weight distribution are determined by GPC. The weight average and number average molecular weights are calculated according to the following relationships: Weight average molecular weight = Σ (M × w) / Σw (2) Number average molecular weight = Σw / Σ (w / M) (3)

In diesen Beziehungen bedeutet M das Molekulargewicht einer Polymerkomponente und w bedeutet den Gewichtsanteil davon. Die Bedingungen für die GPC Messung sind folgende: Benutzer GPC Apparat: 150 CV (erhältlich bei Waters Company); verwendete Säule: TSK Gel MH-HT (erhältlich bei Tosoh Corporation); verwendetes Lösungsmittel: o-Dichlorobenzen; Temperatur: 138°C; und verwendeter Detektor: Differezialrefraktometer.In In these relationships, M is the molecular weight of a polymer component and w means the weight fraction thereof. The conditions for the GPC Measurement are the following: User GPC Apparatus: 150 CV (available at Waters Company); column used: TSK Gel MH-HT (available Tosoh Corporation); solvent used: o-dichlorobenzene; Temperature: 138 ° C; and the detector used: diffractrefractometer.

In den Fällen, in denen die innere Schicht 3 aus einem Copolymer bebildet ist, ist der Anteil der α-Olefin Einheiten in dem Copolymer nicht größer als 15 Gewichtsanteil und das Copolymer hat bevorzugt eine ataktische, isotaktische oder syndiotaktische Molekularstruktur. Darüber hinaus ist das Polymerisatiosverfahren für das Copolymer ein Niederdruck- oder Mitteldruck-Polymerisationsverfahren.In cases where the inner layer 3 is formed of a copolymer, the proportion of the α-olefin units in the copolymer is not larger than 15 parts by weight, and the copolymer preferably has an atactic, isotactic or syndiotactic molecular structure. In addition, the polymerizate process for the copolymer is a low pressure or medium pressure polymerization process.

Als Zusatz für die innere Schicht 3 kann bei Bedarf ein Katalysator in einer gewünschten Menge für die Polymerisation verwendet werden. Darüber hinaus würden, wenn ein Neutralisator, ein Antioxidant und ein Lichtstabilisator zu der Harzzusammensetzung hinzugefügt wird, diese eine Quelle für unreine kleine Teilchen darstellen, da sie von dem entstehenden Behälter in dessen Inhalt abgegeben werden können. Deshalb ist die Menge dessen, was hinzugefügt wird, ziemlich wichtig.As an additive for the inner layer 3 If necessary, a catalyst in a desired amount can be used for the polymerization. Moreover, when a neutralizer, an antioxidant and a light stabilizer are added to the resin composition, they would be a source of impure small particles since they can be released from the resulting container into its contents. Therefore, the amount of what is added is quite important.

Es ist nicht notwendig einen Neutralisator zu verwenden, wenn die Polymerisation durch ein Verfahren unter mittlerem Druck ausgeführt wird, während der Neutralisator als Chloratom-Scavenger im Fall eines Niederdruckverfahrens verwendet wird. Als solche Neutralisatoren können zum Beispiel aufgezählt werden Stearate von Alkali-Erdmetallen wie Kalzium, Magnesium und Barium, aber die verwendete Menge sollte auf den geringst möglichen Pegel beschränkt werden, indem z.B. die Aktivität des Katalysators, der in dem Polymerisationsschritt verwendet wird, verbessert wird. Wenn der Anteil des Neutrali sators 0,01% Gewichtsanteil auf der Basis der Harzzusammensetzung überschreitet, weist der daraus entstehende Behälter eine Reinheit von mehr als 100 Partikel/ml auf und dies verschlechtert wiederum die Qualität der Halbleiter und LCDs und reduziert die Ausbeute. Aus diesem Grund sollte der Anteil des Neutralisators begrenzt werden auf einen Pegel von nicht mehr als 0,01% Gewichtsanteil basierend auf dem Gewicht der Harzzusammensetzung.It it is not necessary to use a neutralizer when polymerizing is carried out by a process under medium pressure, while the neutralizer as Chlorine scavenger used in the case of a low pressure process becomes. As such neutralizers can be enumerated, for example Stearates of alkali earth metals such as calcium, magnesium and barium, but the amount used should be at the lowest possible Level limited be replaced by e.g. the activity the catalyst used in the polymerization step is improved. When the content of the neutralizer is 0.01% by weight on the basis of the resin composition, it shows resulting containers a purity of more than 100 particles / ml and this deteriorates again the quality of semiconductors and LCDs and reduces the yield. For this reason the proportion of the neutralizer should be limited to a level of not more than 0.01% by weight based on the weight the resin composition.

Beispiele von Antioxidantien, die hier verwendet werden können, sind Phenolantioxidantien wie Buthyl Hydroxytoluene, Pentaerythtyl-Tetrakis [3-(3,5-di-t-Buthyl-4-Hydroxyphenyl)Propionat] und Octadecyl-3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) Propionat. Der Anteil des Antioxidants sollte auf nicht mehr als 0,01% Gewichtsanteil bezogen auf das Gewicht der Harzzusammensetzung begrenzt werden, aus dem selben Grund wie oben im Zusammenhang mit dem Neutralisator beschrieben.Examples Antioxidants that can be used here are phenolic antioxidants such as butyl hydroxytoluene, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] and octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate. The amount of the antioxidant should not exceed 0.01% by weight be limited based on the weight of the resin composition, for the same reason as above in connection with the neutralizer described.

Als lichtabschirmende Stabilisatoren, können zum Beispiel erwähnt werden, zum Beispiel, lichtabweisende Stabilisatoren des Benzotriazoltyps so wie 2-(5-Methyl-2-Hydroxyphenyl) Benzotriazole und 2-(3-t-Buthyl-5-Methyl-2-Hydroxyphenyl)-5-Chlorobenzotriazole; und passivierte lichtabschirmende Stabilisatoren des Amin-typs so wie bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidin) Sebacate und poly[[6-1(1,1,3,3-tetramethylbuthyl) amino-1,3,5-triazin-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)imino]hexamethylene [(2,2,6,6- tetramethyl-4-piperidyl)imino]]. Der Anteil der lichtabschirmenden Stabilisatoren sollte begrenzt werden auf nicht mehr als 0,01% Gewichtsanteil basierend auf dem Gewicht der Harzzusammensetzung, aus dem selben Grund, wie oben im Zusammenhang mit dem Neutralisator beschrieben.When light-shielding stabilizers may, for example, be mentioned for example, light-stabilizing stabilizers of the benzotriazole type such as 2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) Benzotriazoles and 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazoles; and passivated amine-type light-shielding stabilizers so such as bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine) sebacate and poly [[6-1 (1,1,3,3-tetramethylbuthyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl] [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino] hexamethylene [(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino]]. The proportion of light-shielding stabilizers should be limited are based on not more than 0.01% by weight Weight of the resin composition, for the same reason as above described in connection with the neutralizer.

Der Anteil der Zusätze, die in der Harzzusammensetzung vorhanden sind, ist der Wert, der bestimmt wird durch Extrahieren der Harzzusammensetzung mit Tertahydrofuran (THF) mittels eines Soxhlet Extraktionsapparates für 8 Sturtden, Separieren des Extrakts mittels Flüssigchromatographie und dann Quantifizieren der Menge der Zusätze. Die Bedingungen der Bestimmung sind folgende: verwendeter Apparat: GULLIVER (erhältlich bei Nippon Bunko Co., Ltd.); verwendete Säule: Finepak GEL 101 (erhältlich bei durch Nippon Bunko Co., Ltd.); verwendetes Lösungsmittel: THF; Detektor: UV-970 (erhältlich bei Nippon Bunko Co., Ltd.) und 830-RI (erhältlich bei Nippon Bunko Co., Ltd.).The proportion of the additives present in the resin composition is the value determined by extracting the resin composition with tertiary hydrofuran (THF) by means of a Soxhlet extractor for 8th Sturt, separate the extract by liquid chromatography and then quantify the amount of the additives. The conditions of the determination are as follows: apparatus used: GULLIVER (available from Nippon Bunko Co., Ltd.); column used: Finepak GEL 101 (available from Nippon Bunko Co., Ltd.); solvent used: THF; Detector: UV-970 (available from Nippon Bunko Co., Ltd.) and 830-RI (available from Nippon Bunko Co., Ltd.).

Die mittlere Schicht 4 besteht aus einem lösungsmittel-undurchlässigen Harz, bestehend aus mindestens einem Vertreter aus der Gruppe der Polyamide, Polyvinylalkohole, Poly-Ethen-Co-Vinyl-Alkohole), Polyester und Polyphenylenoxide. Beispiele organischer Lösungsmittel, die in den hochreinen flüssigen Chemikalien 15 verwendet werden, sind Ketone so wie Methylamylketone, die in flüssigen Photoresistlacken verwendet werden; Ester so wie Ethyl-Lachtat; Lactone wie γ-Butyrolactone; und Cellosolves wie Ethyl-Cellosolves-Azetat. Das lösungsmittelundurchlässige Harz wird abhängig von dem verwendeten organischen Lösungsmittel ausgewählt.The middle layer 4 consists of a solvent-impermeable resin, consisting of mindes at least one member of the group of polyamides, polyvinyl alcohols, poly-ethene-co-vinyl alcohols), polyesters and polyphenylene oxides. Examples of organic solvents used in the high purity liquid chemicals 15 ketones are such as methyl amyl ketones used in liquid photoresist paints; Esters such as ethyl laughterate; Lactones such as γ-butyrolactones; and cellosolves such as ethyl Cellosolves acetate. The solvent-impermeable resin is selected depending on the organic solvent used.

Die äußere Schicht 5 besteht aus einem eine lichtabschirmende Substanz beinhaltenden Harz (Zusammensetzung). Grundsätzlich kann jedes Harz verwendet werden, in so weit es ein eine lichtabweisende Zusammensetzung aufweisendes thermoplastisches Harz ist, aber olefinische Harze werden bevorzugt verwendet. Die Harzzusammensetzung zur Herstellung der äußeren Schicht 5 umfasst weiter weniger als 5% Gewichtsanteile Pigmentdispergiermittel, das mindestens ein Olefinpolymer aus der Gruppe bestehend aus Polyethenen und Polypropenen mit einem Molekulargewicht von nicht weniger als 2 × 10³ und zwischen 0,01 und 5% Gewichtsanteile zumindest eines lichtabschirmenden Pigmentes aus der Gruppe der anorganischen oder organischen Pigmente enthält.The outer layer 5 It consists of a light-shielding substance-containing resin (composition). In principle, any resin can be used so far as it is a thermoplastic resin having a light-repellent composition, but olefinic resins are preferably used. The resin composition for producing the outer layer 5 further comprises less than 5% by weight of pigment dispersant comprising at least one olefin polymer selected from the group consisting of polyethenes and polypropenes having a molecular weight of not less than 2 x 10 ³ and between 0.01 and 5% by weight of at least one light-shielding pigment from the group of inorganic or organic pigments.

Als Dispergiermittel können zum Beispiel aufgezählt werden, Olefinpolymere wie Polyethene und Polypropene. Das zahlenmittlere Molekulargewicht des Dispergiermittels, das zu der Harzzusammensetzung hinzugefügt wird, um eine höhere Dispergierbarkeit der Pigmente zu erreichen, ist nicht weniger als 2 × 10³, und der Anteil des Dispergiermittels ist bevorzugt weniger als 5% Gewichtsanteil. Dies ist aus dem Grund, da wenn das zahlenmittlere Molekulargewicht des Dispergiermittels kleiner ist als 2 × 10³ und/oder der Anteil davon 5% Gewichtsanteil überschreitet, der daraus entstehende Behälter eine ungenügende Reinheit aufweist und nicht geeignet ist, um hochreine flüssige Chemikalien aufzubewahren.As dispersants, for example, olefin polymers such as polyethenes and polypropenes can be enumerated. The number-average molecular weight of the dispersant added to the resin composition to achieve higher dispersibility of the pigments is not less than 2 × 10 ³ , and the proportion of the dispersant is preferably less than 5% by weight. This is because if the number average molecular weight of the dispersant is less than 2 × 10 ³ and / or the proportion thereof exceeds 5% by weight, the resulting container is of insufficient purity and is not suitable for storing high purity liquid chemicals.

Beispiele für lichtabschirmende Pigmente, die hier verwendet werden können, sind anorganische Pigmente wie Titanoxid, Kohlenstoffschwarz, rotes Eisenoxid und Siliziumdioxid; und organische Pigmente wie organische Pigmente des Phthalocyanin-Typs, Quinacridon-Typs und Azo-Typs. Der Anteil der lichtabschirmenden Pigmente erstreckt sich bevorzugt von 0,01 bis 5% Gewichtsanteile bezogen auf das Gewicht der Harzzusammensetzung. Ist der Anteil des lichtabschirmenden Pigments unter 0,01% Gewichtsanteil bezogen auf das Gewicht der Harzzusammensetzung, so kann kein gewünschter lichtabschirmender Effekt erwartet werden, während wenn er 5% Gewichtsanteile überschreitet weist der daraus entstehende Behälter keine genügende Reinheit auf und ist nicht geeignet für das Aufbewahren hochreiner flüssiger Chemikalien.Examples for light-shielding Pigments which can be used herein are inorganic pigments such as titanium oxide, carbon black, red iron oxide and silicon dioxide; and organic pigments such as phthalocyanine type organic pigments, Quinacridone type and azo type. The proportion of light-shielding Pigments preferably ranges from 0.01 to 5% by weight based on the weight of the resin composition. Is the proportion of the light-shielding pigment less than 0.01% by weight on the weight of the resin composition, so no desired light-shielding effect can be expected while exceeding 5% by weight indicates the resulting container not enough Purity and is not suitable for storing high purity liquid Chemicals.

Die Harzkomposition als Material für die äußere Schicht umfasst weiter bevorzugt ein Ultraviolettabsorbens mit einem Gewichtsanteil von weniger als 2,5%. Beispiele für solche Ultraviolettabsorber sind Ultraviolettabsorber des Salicylsäuretyps wie Phenylsalicylat und p-Octylphenylsalicylat; Ultraviolettabsorber des Benzophenontyps wie 2,4-Hydroxybenzophenon und bis(2-Methoxy-4-Hydroxy-5-Benzoylphenyl) Methan; Ultraviolettabsorber des Benzotriazoltyps wie 2-(5-Methyl-2-Hydroxyphenyl) Benzotriazol und 2-(3-t-Butyl-5-Methyl-2-Hydroxyphenyl)-5-Chlorobenzotriazol; und Ultraviolettabsorbens des Cyanoacrylattyps wie z.B. 2-Ethylhexyl-2-Cyano-3,3-Diphenylacrylat und Ethyl-2-Cyano-3,3-Diphenylacrylat. Wenn der Anteil des Ultraviolettabsorbens in der Harzkomposition 2,5% Gewichtsanteile überschreitet, weist der Behälter eine ungenügende Reinheit auf und kann nicht verwendet werden zum Aufbewahren hochreiner flüssiger Chemikalien.The Resin composition as material for the outer layer more preferably comprises an ultraviolet absorbent having a weight fraction less than 2.5%. Examples of such ultraviolet absorbers are salicylic acid type ultraviolet absorbers such as phenyl salicylate and p-octylphenyl salicylate; Ultraviolet absorber of benzophenone type such as 2,4-hydroxybenzophenone and bis (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenyl) methane; ultraviolet absorbers of the benzotriazole type such as 2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole and 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole; and cyanoacrylate ultraviolet absorbent such as e.g. 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenylacrylate and ethyl 2-cyano-3,3-diphenylacrylate. When the proportion of the ultraviolet absorbent in the resin composition Exceeds 2.5% by weight, points the container an insufficient purity and can not be used to store high purity liquid chemicals.

Der Behälter 1 für hochreine flüssige Chemikalien gemäß der vorliegenden Erfindung erlaubt das Aufbewahren flüssiger Photoresistharze und Lösungsmittel zur Verdünnung zur Verwendung in Halbleiterproduktionsprozessen und für Flüssigkristall-Displays, wie auch für andere hochreine flüssige Chemikalien. Beispiele dafür sind Resistharze für ultraviolette Strahlung, Resistharze für fernultraviolette Strahlung, Resistharze für Elektronenstrahlen, Resistharze für Röntgenstrahlen und Farbresistharze für Flüssigkristallanzeigen. Die Photoresistharze für Halbleiterproduktionsprozesse sind positive Photoresistharze, die als essentielle Komponenten ein alkalilösliches Harz wie Cresol-Formaldehyd Novolak Harz oder Poly(vinylphenol) und ein lichtsensitives Mittel des Chinondiazidtyps wie Benzochinondiazidsulfonamid, Naphthochinondiazidsulfonat, Benzochinondiazidsulfonamid und Naphthochinondiazidsulfonamid aufweisen. Als Farbresistharz für Flüssigkristallanzeigen können aufgezählt werden, zum Beispiel solche, die jedes ein Photopolymer umfassen, welches aus einem Akrylatmonomer besteht, einem Photopolymerisationsinitiator des Trihalomethyltriazintyps und einem Akrylsäure/Akrylat Copolymer, und einem organischen Pigment, das darin dispergiert ist. Solch ein Photoresistharz beinhaltet eine Komponente, die sensitiv ist für Lichtstrahlen, die eine Wellenlänge haben zwischen 200 bis 500 nm und deshalb sollte der Behälter zur Aufbewahrung desselben lichtabschirmende Eigenschaften aufweisen. Aus diesem Grund sollte der Behälter 1 die geringste Absorption für alle Schichten 3, 4 und 5 bei einer Wellenlänge von nicht mehr als 400 nm bei Benutzung eines Spektrophotometers von nicht weniger als 2.0 aufweisen; einen Absorptionskoeffizient gemessen bei einer Wellenlänge von 400 nm, das heißt die Absorption, die bei dieser Wellenlänge für die gesamten Schichten 3, 4, 5 des Behälters gemessen wurde, geteilt durch die Dicke der Schichten 3, 4 und 5 von nicht weniger als 1,5 mm^–1.The container 1 for high purity liquid chemicals according to the present invention allows the storage of liquid photoresist resins and solvents for dilution for use in semiconductor production processes and for liquid crystal displays, as well as other high purity liquid chemicals. Examples thereof are ultraviolet ray resist resins, far ultraviolet ray resist resins, electron beam resist resins, X-ray resist resins and liquid crystal display resist resins. The photoresist resins for semiconductor production processes are positive photoresist resins having as essential components an alkali-soluble resin such as cresol-formaldehyde novolak resin or poly (vinylphenol) and a quinone diazide type light-sensitive agent such as benzoquinone diazide sulfonamide, naphthoquinone diazide sulfonate, benzoquinone diazide sulfonamide and naphthoquinone diazide sulfonamide. As the color resist resin for liquid crystal display, there can be enumerated, for example, those each comprising a photopolymer consisting of an acrylate monomer, a trihalomethyltriazine type photopolymerization initiator and an acrylic acid / acrylate copolymer, and an organic pigment dispersed therein. Such a photoresist resin includes a component sensitive to light rays having a wavelength between 200 to 500 nm, and therefore the container should have light-shielding properties for storage. For this reason, the container should 1 the lowest absorption for all layers 3 . 4 and 5 at a wavelength of not more than 400 nm using a spectrophotometer of not less than 2.0; an absorption coefficient measured at a wavelength of 400 nm, that is the Ab absorption at this wavelength for the entire layers 3 . 4 . 5 of the container, divided by the thickness of the layers 3 . 4 and 5 of not less than 1.5 mm ^-1 .

Alternativ sollte der Behälter 1 die geringste Absorption für alle Schichten von nicht weniger als 2,0 aufweisen; einen Absorptionskoeffizient bei einer Wellenlänge von 400 nm von nicht weniger als 1,5 mm^–1 und einen Absorptionskoeffizient bei einer Wellenlänge von 600 nm nicht mehr als 1,5 mm^–1.Alternatively, the container should 1 have the lowest absorption for all layers of not less than 2.0; an absorption coefficient at a wavelength of 400 nm of not less than 1.5 mm ^-1 and an absorption coefficient at a wavelength of 600 nm not more than 1.5 mm ^-1 .

Zusätzlich ist es bevorzugt klebende Harze wie kommerziell verfügbare modifizierte Polyolefinharze von einer geeigneten Dicke zu verwenden, um die mittlere Schicht 4 an die innere Schicht 3 oder die äußere Schicht 5 zu kleben.In addition, it is preferred to use adhesive resins, such as commercially available modified polyolefin resins of a suitable thickness, around the middle layer 4 to the inner layer 3 or the outer layer 5 to stick.

Die vorliegende Erfindung wird hiernach im Detail mit Bezug auf die folgenden Beispiele beschrieben.The The present invention will hereinafter be described in detail with reference to FIGS following examples are described.

(Beispiel 1)(Example 1)

In diesem Beispiel wurde ein Behälter 1 zum Aufbewahren einer hochreinen flüssigen Chemikalie auf einer Versuchsbasis gemacht entsprechend dem folgenden Verfahren.In this example became a container 1 for storing a high-purity liquid chemical on a trial basis according to the following procedure.

Das Rohmaterial, das verwendet worden ist, um die innere Schicht 3 auszuformen, war ein Polyethen, das durch das Polymerisationsverfahren mit mittlerem Druck hergestellt wurde mit einer Dichte von 0,955 g/cm³, einem Schmelzindex von 0,15 g/10 min und frei von Neutralisatoren, Antioxidantien und Lichtstabilisatoren. Das Polyethenpolymer hat einen Anteil an Polymermolekülen, mit einem gewichtsmittleren Molekulargewicht, wie es durch die GPC bestimmt wurde, von nicht mehr als 1 × 10³, bei 1,41% Gewichtsanteil.The raw material that has been used around the inner layer 3 was a polyethene produced by the medium pressure polymerization method having a density of 0.955 g / cm ³ , a melt index of 0.15 g / 10 min and free from neutralizers, antioxidants and light stabilizers. The polyethene polymer has a content of polymer molecules having a weight-average molecular weight as determined by the GPC of not more than 1 × 10 ³ at 1.41% by weight.

Das Rohmaterial, das verwendet wurde, um die mittlere Schicht 4 zu produzieren, war ein Ethen-Vinyl-Alkohol Copolymer Harz mit einer Dichte von 1,19 g/cm³, einem Schmelzindex von 1,3 g/10 min und einer Ethen-Copolymerisaionsrate von 32 mol%.The raw material that was used around the middle layer 4 was an ethene-vinyl alcohol copolymer resin having a density of 1.19 g / cm ³ , a melt index of 1.3 g / 10 min and an ethylene copolymerization rate of 32 mol%.

Das Rohmaterial, das verwendet wurde, um die externe Schicht 5 zu produzieren war ein Produkt, das erhalten wurde durch Trockenblending von 100 Gewichtsteilen Polyethenpellets umfassend 0,30% Gewichtsanteile von einem Polyethen mit einem zahlengemittelten Molekulargewicht von nicht weniger als 2 × 10³ als Pigmentdispergiermittel und mit einer Dichte von 0,956 g/cm³ und einem Schmelzindex von 0,30 g/10 min mit 3 Gewichtsteilen eines Stammlacks, der 5,3% Gewichtsanteil rotes Eisenoxid als lichtabschirmendes Pigment und 0,2% Gewichtsanteil Kohlenstoffschwarz umfasst.The raw material that was used to make the external layer 5 was a product obtained by dry blending 100 parts by weight of polyethene pellets comprising 0.30% by weight of a polyethene having a number average molecular weight of not less than 2 x 10 ³ as a pigment dispersant and having a density of 0.956 g / cm ³ and a Melt index of 0.30 g / 10 min with 3 parts by weight of a master paint comprising 5.3% by weight of red iron oxide as a light-shielding pigment and 0.2% by weight of carbon black.

Das Klebharz war ein klebendes Polyolefinharz (HB500 erhältlich von Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) mit einer Dichte von 0,94 g/cm³ und einem Schmelzindex von 0,2g/10min.The adhesive resin was an adhesive polyolefin resin (HB500 available from Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) having a density of 0.94 g / cm ³ and a melt index of 0.2 g / 10 min.

Das Formen des Behälters 1 wurde mittels einer Mehrschichtblasformmaschine ausgeführt, die mit 4 Schnecken ausgestattet ist (erhältlich von BEKUM Company). Jedes Harz wurde in jedem Extruder bei 200°C geschmolzen und in ein zylindrischen Extrudat extrudiert. Diese extrudierten Extrudate werden in eine Form gelegt, danach wird ein Gas durch einen Blasdorn in die Form bei einem Druck von 6 kg/cm² eingeblasen, und die Form abgekühlt um so einen Behälter 1 zu erzeugen. Der Behälter 1, der auf Versuchsbasis hergestellt wurde, hat eine 4 Komponenten-5-Schichten Struktur, das heißt, innere Schicht/Klebharzschicht/mittlere Schicht/Klebharzschicht/äußere Schicht, welche eine Dicke von 0,680/0,045/0,050/0,045/0,680 mm aufweisen und ein Volumen von 4 Litern haben.Shaping the container 1 was carried out by means of a multi-layer blow molding machine equipped with 4 screws (available from BEKUM Company). Each resin was melted in each extruder at 200 ° C and extruded into a cylindrical extrudate. These extruded extrudates are placed in a mold, then a gas is blown through a mandrel into the mold at a pressure of 6 kg / cm ² , and the mold is cooled around such a container 1 to create. The container 1 , which has been made on an experimental basis, has a 4-component 5-layer structure, that is, inner layer / adhesive resin layer / middle layer / adhesive resin layer / outer layer having a thickness of 0.680 / 0.045 / 0.050 / 0.045 / 0.680 mm and a Have volume of 4 liters.

Dann wurde die Reinheit des Behälters 1, der auf Versuchsbasis gemacht wurde, bestimmt. Dem Behälter wurden 2 Liter ultrareines Wasser hinzugefügt, das hergestellt wurde mittels eines Gerätes zur Herstellung ultra reinen Wassers (erhältlich von Toray Industries unter dem Handelsnamen TORAYPURE LV-10T), dann wurde der Behälter mittels eines Deckels dicht verschlossen, darauf folgend wurde der Behälter für 15 Sekunden geschüttelt, 24 Stunden stehen gelassen, eine 5 ml Probe gesammelt und die Anzahl kleiner Teilchen, die vom Behälter an das Wasser abgegeben wurden und eine Partikelgröße nicht weniger als 0,2 μm aufweisen, mittels eines Teilchenzählers (Typ: KL-22 erhältlich von Lyon K.K.) bestimmt.Then the purity of the container 1 which was made on an experimental basis. To the container was added 2 liters of ultrapure water, which was prepared by an ultra-pure water making apparatus (available from Toray Industries under the trade name TORAYPURE LV-10T), then the container was sealed with a lid, followed by the container for Shaken for 15 seconds, allowed to stand for 24 hours, a 5 ml sample collected and the number of small particles released from the container to the water and having a particle size of not less than 0.2 μm by means of a particle counter (type: KL-22 available from Lyon KK).

Die Anzahl kleiner Teilchen, die sich in dem Wasser befinden, wurde durch folgende Formel (4) berechnet, die ähnlich der Formel (1) ist und das Ergebnis wurde als Reinheit in Bezug auf das ultrareine Wasser definiert. Die Ergebnisse, die erhalten wurden, sind in der folgenden Tabelle 1 gezeigt. Anzahl kleiner Teilchen in Wasser (Anzahl/ml) = [Zählungen (Teilchen) × Menge ultrareinen Wassers (2000 ml)]/[Menge der Probe (5 ml) × Behältervolumen (4000 ml)] (4) The number of small particles that are in the water was calculated by the following formula (4), which is similar to the formula (1), and the result was defined as purity with respect to the ultrapure water. The results obtained are shown in the following Table 1. Number of small particles in water (number / ml) = [counts (particles) × amount of ultrapure water (2000 ml)] / [amount of sample (5 ml) × container volume (4000 ml)] (4)

Zu dem Behälter wurden dann 2 Liter eines positiven Resistharzes (Resistharz 1) gegeben, welches einen festen Anteil umfasst, welcher ein Cresol-Formaldehyd Novolak Harz und ein lichtsensitives Mittel des Naphthochinon-Diazid-Sulfonat Typs und Methylamylketone als Lösungsmittel umfasst, danach wurden die selben Vorgehensweisen, wie sie oben verwendet wurden, wieder holt um so die Reinheit mittels der Formel (5) zu bestimmen. Die Ergebnisse, die so erhalten wurden sind ebenso in der Tabelle 1 gezeigt. Anzahl der kleinen Teilchen im Resistharz (Anzahl/ml) = (Zählungen (Teilchen) × Menge des Resistharzes (2000 ml)]/[ Menge der Probe (5 ml) × Behältervolumen (4000 ml)] (5) To the container was then added 2 liters of a positive resist resin (resist resin 1) comprising a solid portion comprising a cresol-formaldehyde novolak resin and a naphthoquinone-diazide sulfonate type light-sensitive agent and methyl amyl ketones as a solvent, then the same Procedures, as used above, again to determine the purity by the formula (5). The results thus obtained are also shown in Table 1. Number of small particles in resist resin (number / ml) = (counts (particles) × amount of resist resin (2000 ml)] / [amount of sample (5 ml) × container volume (4000 ml)] (5)

Zusätzlich wurde der Behälter 1 wieder dicht mit einem Deckel verschlossen und dann über 6 Monate bei gewöhnlichern Temperatur stehen gelassen. Nach dem Verstreichen von 6 Monaten wurde der Behälter um 3 Umdrehungen rotiert ohne Luftblasen zu erzeugen, um das Harz 1 in dem Behälter zu schütteln, darauf folgend wurde eine 5 ml Probe gesammelt. Dieselben Vorgehensweisen, die oben verwendet wurden, wurden wiederholt, um die Anzahl (Teilchen/ml) kleiner Teilchen, die in dem Harz vorkommen, zu bestimmen, welches als Reinheit nach 6 Monaten definiert wurde. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 1 zusammengefasst. Tabelle 1

* ultrareines Wasser

In addition, the container became 1 closed again tightly with a lid and then allowed to stand for 6 months at ordinary temperature. After the elapse of 6 months, the container was changed 3 Rotations rotated without creating air bubbles to shake the resin 1 in the container, following which a 5 ml sample was collected. The same procedures used above were repeated to determine the number (particles / ml) of small particles occurring in the resin, which was defined as purity after 6 months. The results are summarized in Table 1. Table 1

* ultrapure water

Wie in Tabelle 1 gezeigt wurde, ist die Anzahl unreiner kleiner Teilchen, die vom Behälter an dessen Inhalt freigegeben wird, sehr klein und insbesondere wurde herausgefunden, dass die Reinheit des Behälter 12 Teilchen/ml bei ultrareinem Wasser und 8 Teilchen/ml für Resistharz 1 und 26 Teilchen/ml für das Resistharz nach der Lagerung von 6 Monaten beträgt.As shown in Table 1, the number of impure small particles, the one from the container whose content is released, became very small and particular found that the purity of the container 12 particles / ml at ultrapure Water and 8 particles / ml for Resist resin 1 and 26 particles / ml for the resist resin after storage of 6 months.

Dann wurde das Verbindungsteil (Größe: 1 × 4 cm) des Behälters aus demselben herausgeschnitten und die Absorption davon wurde über die Wellenlänge, die von 200 nm bis 900 nm reicht, mit einem Spektrophotometer (Typ: Ubest-55 erhältlich von Nippon Bunko Co., Ltd.) bestimmt. Als Ergebnis wurde gefunden, dass der Behälter eine extrem herausragende Lichtabschirmungseigenschaft aufweist, da die geringste Absorption 2,42 bei einer Wellenlänge von nicht mehr als 400 nm war, und die Absorbierung und Absorptionskoeffizient bei der Wellenlänge von 600 nm 1,21 (Transmission: 10^–0,79%) beziehungsweise 0,77 mm^–1 war, und bei einer Wellenlänge von 400 nm 2,42 (Transmission: 10^–0,42%) beziehungsweise 1,54 mm^–1 war. In diesem Fall war die Dicke der Probe 1,57 mm.Then, the connector (size: 1 × 4 cm) of the container was cut out therefrom, and the absorbance thereof was measured over the wavelength ranging from 200 nm to 900 nm with a spectrophotometer (Type: Ubest-55 available from Nippon Bunko Co. Ltd.). As a result, it was found that the container has an extremely excellent light- ^{shielding property} , since the least absorption was 2.42 at a wavelength of not more than 400 nm, and the absorption and absorption coefficient at the wavelength of 600 nm was 1.21 (transmission: 10 ^-0.79 %). ) and 0.77 mm ^-1 , respectively, and at a wavelength of 400 nm was 2.42 (transmittance: 10 ^-0.42 %) and 1.54 mm ^-1 , respectively. In this case, the thickness of the sample was 1.57 mm.

Dann wurden 4 Liter Methylamylketone in den Behälter 1 gefüllt, der letztere wurde mit einem Deckel dicht verschlossen und bei 23°C und 40°C in einer thermostatischen Kammer gelagert, um die Gewichtsveränderung (%) der Methylamylketone mit der Zeit zu bestimmen. Die Ergebnisse, die damit erlangt wurden sind in der vorhergehenden Tabelle 1 aufgelistet. Die Daten, die in der Tabelle 1 aufgelistet sind, ergeben klar, dass der Behälter eine ziemlich geringe Gewichtsveränderung aufweist und insbesondere wurde herausgefunden, dass die Gewichtsveränderung nicht mehr als 0,01% ist, nachdem er bei 23°C für 6 Monate gelagert wurde und nicht mehr als 0,01% nach der Lagerung bei 40°C für 3 Monate.Then 4 liters of methyl amyl ketones were added to the container 1 The latter was sealed with a lid and stored at 23 ° C and 40 ° C in a thermostatic chamber to determine the weight change (%) of the methyl amyl ketones over time. The results obtained therewith are listed in Table 1 above. The data listed in Table 1 clearly indicates that the container has a fairly small weight change, and in particular, it was found that the weight change is not more than 0.01% after being stored at 23 ° C for 6 months and not more than 0.01% after storage at 40 ° C for 3 months.

Darüber hinaus wurden 4 Liter Methylamylketone in den Behälter 1 gefüllt, der letztere mit einem Deckel dicht verschlossen und bei 23°C in einer thermostatischen Kammer gelagert, um die Metallionenkonzentration in den Methylamylketonen nach einer Lagerung von 6 Monaten unter Verwendung von ICP-MS (HP-4500: verfügbar von Yokokawa Analytical Systems Co., Ltd.) zu bestimmen. Die Ergebnisse, die daraus erhalten wurden, sind in der Tabelle 2 zusammengefasst. Wie aus den Daten, die in der Tabelle 2 aufgelistet sind, ersichtlich ist, wurde überhaupt keine Erhöhung der Metallionenkonzentration beobachtetet, sogar nach Lagerung bei 23°C während 6 Monaten.In addition, 4 liters of methyl amyl ketones were added to the container 1 the latter was sealed with a lid and stored at 23 ° C in a thermostatic chamber to determine the metal ion concentration in the methylamyl ketones after 6 months storage using ICP-MS (HP-4500: available from Yokokawa Analytical Systems Co.). , Ltd.). The results obtained therefrom are summarized in Table 2. As can be seen from the data listed in Table 2, no increase in metal ion concentration was observed at all, even after storage at 23 ° C for 6 months.

Tabelle 2

Table 2

Das Resistharz 1, welches bei 23°C für 6 Monate gelagert worden ist, wurde an einen Siliziumwafer mittels eines Spincoaters appliziert und dann wurde der Wafer und der photoresistente Film bezüglich der Dicke und der Deckungseigenschaften (so wie das Auftreten von Nadellöchern und Streifenbildung) inspiziert, um den Einfluss des Eindringens von organischen Lösungsmitteln von dem Resistharz 1 durch den Behälter 1 auf die Beschichtungs- bzw. Deckungseigenschaften des Resistharzes 1 zu untersuchen. Die Ergebnisse, die erhalten wurden, sind in der folgenden Tabelle 3 zusammengefasst.The resist resin 1 which had been stored at 23 ° C for 6 months was applied to a silicon wafer by means of a spin coater, and then the wafer and the photoresistive film were inspected for the thickness and the covering property (such as the occurrence of pinholes and banding) for the influence of the penetration of organic solvents from the resist resin 1 through the container 1 to investigate the coating or covering properties of the Resistharzes 1. The results obtained are summarized in the following Table 3.

Tabelle 3

Table 3

Die Filmdicke bedeutet die Dicke eines photoresistenten Films, der erhalten wird, indem das Resistharz 1 auf einen Siliziumwafer mittels eines Spincoaters (4000 rpm) appliziert wird und dann die Resistschicht bei 90°C für eine Minute vorgebacken wird und dann sollten die erlaubten Variationen in dem Bereich von ±0,5% des anfänglichen Werts liegen. In Tabelle 3 beschreibt der Begriff „gut" in der Säule „Deckungseigenschaften", dass kein Nadelloch ausgeformt wurde und keine Streifenbildung beobachtet worden ist. Zusätzlich beschreibt der Begriff „gut" in der Säule betitelt „Allgemeine Erfassung der Deckungseigenschaften", dass die Variationen in der Dicke des Resistfilms in den Bereich von ± 0,5% des anfänglichen Werts fallen und die Deckungseigenschaften des Resistharzes exzellent sind.The Film thickness means the thickness of a photoresist film obtained is by the resist resin 1 on a silicon wafer by means of a Spin coater (4000 rpm) is applied and then the resist layer at 90 ° C for one minute is pre-baked and then the allowed variations in the Range of ± 0.5% of the initial one Value are. In Table 3, the term "good" in the column "covering properties" describes that no pinhole was formed and no streaking has been observed. Additionally describes the term "good" in the column titled "General Capture the coverage properties "that variations in thickness of the resist film in the range of ± 0.5% of the initial one Drops and the covering properties of the Resistharzes excellent are.

Schließlich wurde das Resistharz auf andere charakteristischen Eigenschaften untersucht. Das Resistharz 1 wurde sofort nach der Herstellung oder nach einer Lagerung von 3 Monaten auf einen Siliziumwafer appliziert, welcher entsprechend dem gewöhnlichen Verfahren gewaschen wurde, unter vorbestimmten Bedingungen mittels eines Spincoaters und dann wurde die so applizierte Resistharzschicht für eine Minute auf einer heißen Platte, die bei 90°C gehalten wurde, gebacken. Dann wurde die Resistharzschicht Licht ausgesetzt mittels eines Steppers für i-Strahlen. Der sich daraus ergebende Wafer wurde auf einer 110°C heißen Platte gebacken. Diese Wafer wurden in einem Alkalientwickler (2,38% wässrige Lösung von Tetramethylammoniumhydroxid) entwi ckelt, um ein positives Muster zu bekommen. Das daraus resultierende positive Muster wurde auf verschiedene Eigenschaften, wie die Auflösung, die effektive Sensitivität, der Anteil des verbleibenden Films, die Anwesenheit von Scum (Entwicklerreste) und dessen Adhäsion auf dem Siliziumwafer untersucht. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle 4 aufgelistet.Finally became the Resistharz examined for other characteristic properties. The Resistharz 1 was immediately after the preparation or after a Storage of 3 months applied to a silicon wafer, which according to the ordinary Procedure was washed under predetermined conditions using of a spincoater and then the thus applied resist resin layer for one Minute on a hot Plate at 90 ° C was kept, baked. Then, the resist resin layer became light exposed by means of a stepper for i-rays. The result resulting wafer was baked on a 110 ° C hot plate. These Wafers were placed in an alkali developer (2.38% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide) developed to get a positive pattern. The resulting positive pattern was based on different properties, such as the resolution effective sensitivity, the proportion of the remaining film, the presence of scum (developer residues) and its adhesion examined on the silicon wafer. The results are in the following Table 4 listed.

Tabelle 4

Table 4

Wie in den Tabellen 3 und 4 gezeigt ist, ist das Resistharz nach der Lagerung über eine lange Zeitspanne keiner Qualitätsverschlechterung unterworfen, da keine signifikanten Veränderungen in den Deckungseigenschaften, der Auflösung, der Sensitivität, des Anteils des verbleibenden Films, der Anwesenheit von Scum und der Adhäsion auf den Siliziumwafern beobachtet werden konnte.As In Tables 3 and 4, the resist resin is according to the Storage over a long period of time is not subject to quality deterioration, there are no significant changes in the coverage properties, the resolution, the sensitivity, the proportion of the remaining film, the presence of scum and adhesion the silicon wafers could be observed.

(Beispiel 2)(Example 2)

In dem Beispiel werden die selben Vorgehensweisen, die in Beispiel 1 verwendet wurden, wiederholt außer den folgenden, um einen Behälter zu erhalten:
Das Ausgangsmaterial, das verwendet wurde, um die äußere Schicht herzustellen, war ein Produkt, das erhalten wurde durch Trockenblenden von 100 Gewichtsteilen Polyethenpellets, welche 0,3% Gewichtsanteil Polyethen umfassen mit einem zahlenmittleren Molekulargewicht von nicht weniger als 2 × 10³ als Pigmentdispergiermittel und das eine Dichte von 0,956 g/cm³ und einen Schmelzindex von 0,30 g/10 min hat; und 3 Gewichtsteilen Stammlack, der 5,3% Gewichtsanteil rotes Eisenoxid als lichtabschirmendes Pigment, 0,2% Gewichtsanteil Kohlenstoffschwarz und 0,1% Gewichtsanteil 2-Hydroxy-4- Octoxybenzophenon als Ultraviolettabsorber aufweist. Zusätzlich hat der Behälter eine 4 Komponenten-5 Schicht Struktur, das heißt innere Schicht/Klebharzschicht/mittlere Schicht/Klebharzschicht/äußere Schicht, mit einer Dicke von 0,580/0,040/0,050/0,040/0,590 mm und einem Volumen von 4 Litern.In the example, the same procedures used in Example 1 are repeated except the following to obtain a container:
The starting material used to make the outer layer was a product obtained by dry-blending 100 parts by weight of polyethene pellets comprising 0.3% by weight of polyethene having a number average molecular weight of not less than 2 x 10 ³ as pigment dispersants and having a density of 0.956 g / cm ³ and a melt index of 0.30 g / 10 min; and 3 parts by weight of stock paint having 5.3% by weight of red iron oxide as the light-shielding pigment, 0.2% by weight of carbon black and 0.1% by weight of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone as the ultraviolet absorber. In addition, the container has a 4-component 5-layer structure, that is, inner layer / adhesive resin layer / middle layer / adhesive resin layer / outer layer, with a thickness of 0.580 / 0.040 / 0.050 / 0.040 / 0.590 mm and a volume of 4 liters.

Dann wurden die selben Vorgehensweisen verwendet, wie in Beispiel 1, um die Reinheit, Absorption, Gewichtsänderungen, Metallionenkonzentrationen zu bestimmen, außer dass anstelle des Resistharzes 1, das im Beispiel 1 verwendet wurde, ein positives Photoresistharz verwendet wurde, welches einen festen Anteil umfasst, einschließlich ein alkalilösliches Harz, das hauptsächlich ein Cresol-Formaldehyd Novolak Harz umfasst und Additive wie lichtsensitive Substanzen des Naphthochinon Diazid Sulfonat Typs und ein Lösungsmittel, das aus Ethyl Cellosolve Acetat besteht. Die erhaltenen Ergebnisse sind in den Tabellen 1 und 2 gezeigt.Then the same procedures were used as in Example 1, for purity, absorption, weight changes, metal ion concentrations to determine, except that instead of the Resistharzes 1, which was used in Example 1, a positive photoresist resin was used, which was a solid Share includes, including an alkali-soluble Resin, the main a cresol-formaldehyde novolak resin and includes additives such as light-sensitive Naphthoquinone diazide sulfonate type substances and a solvent, which consists of Ethyl Cellosolve acetate. The results obtained are shown in Tables 1 and 2.

Wie aus den Ergebnissen, die in der Tabelle 1 gezeigt sind, ersichtlich ist, war die Anzahl der kleinen unreinen Teilchen, die von dem Behälter an dessen Inhalt abgegeben wurde (das heißt an das Resistharz 2) sehr klein und insbesondere war die gefundene Reinheit 10 Teilchen/ml für ultrareines Wasser und 11 Teilchen/ml für das Resistharz 2 und 22 Teilchen/ml für das Resistharz 2 nach einer Lagerung über 6 Monate. Darüber hinaus weist der Behälter eine ziemlich kleine Gewichtsveränderung auf und insbesondere waren die gefundenen Gewichtsveränderungen nicht mehr als 0,01% nach der Lagerung für 6 Monate bei 23°C und nicht mehr als 0,01% bei der Lagerung für 3 Monate bei 40°C. Wie aus den in Tabelle 2 aufgeführten Daten ersichtlich ist, wurde kein Anstieg in der Metallionenkonzentration beobachtet sogar nach der Lagerung bei 23°C über 6 Monate.As from the results shown in Table 1 is, was the number of small impure particles coming from the container its contents were discharged (that is, to the Resistharz 2) very small and in particular, the purity found was 10 particles / ml for ultra-pure Water and 11 particles / ml for the resist resin 2 and 22 particles / ml for the resist resin 2 after one Storage over 6 months. About that In addition, the container has a pretty small weight change on and in particular were the weight changes found not more than 0.01% after storage for 6 months at 23 ° C and no more than 0.01% in storage for 3 months at 40 ° C. As shown in Table 2 Data showed no increase in the metal ion concentration observed even after storage at 23 ° C for 6 months.

Zusätzlich wurde herausgefunden, dass der Behälter äußerst exzellente lichtabschirmende Eigenschaften im Bereich der ultravioletten Strahlung aufweist, obwohl er Lichtstrahlen zu einem gewissen Ausmaß im Bereich des sichtbaren Lichts durchlässt. Insbesondere war die geringste Absorption von 3,33 bei einer Wellenlänge nicht größer als 400 nm und die Absorption und der Absorptionskoeffizient bei einer Wellenlänge von 600 nm war 1,62 (Transmission 10^–0,38 %), beziehungsweise 1,25 mm^–1 und bei einer Wellenlänge von 400 nm wurden 3,33 (Transmission: 10^–1,33%) beziehungsweise 2,56 mm^–1 beobachtet. In diesem Fall war die Dicke der Probe 1,30 mm^–1.In addition, it has been found that the container has extremely excellent light-shielding properties in the ultraviolet ray range, though it transmits light rays to a certain extent in the visible light range. In particular, the lowest absorption of 3.33 at a wavelength was not larger than 400 nm, and the absorption and the absorption coefficient at a wavelength of 600 nm was 1.62 (transmittance 10 ^-0.38 %), and 1.25 mm ^-1 , respectively and at a wavelength of 400 nm, 3.33 (transmission: 10 ^-1.33 %) and 2.56 mm ^-1 , respectively, were observed. In this case, the thickness of the sample was 1.30 mm ^-1 .

Dieselben Vorgehensweisen, die in Beispiel 1 angewendet wurden, wurden wiederholt, um die Deckungseigenschaften des Resistharzes 2 zu bestimmen. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der vorangegangenen Tabelle 3 aufgelistet. Darüber hinaus wurden die charakteristischen Eigenschaften des Resistharzes 2 gemäß den selben Verfahren wie in Beispiel 1 angewendet, um so die Eigenschaften des erhaltenen positiven Musters, wie die Auflösung, die effektive Sensitivität, der Anteil des verbleibenden Films, die Anwesenheit von Scum Entwicklerreste) und die Adhäsion an den Siliziumwafer zu ermitteln. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der vorangegangenen Tabelle 1 gezeigt.the same Procedures used in Example 1 were repeated, to determine the covering properties of the Resistharzes 2. The results obtained are listed in the previous Table 3. About that In addition, the characteristic properties of the resist resin became 2 according to the same Method as used in Example 1, so the properties the positive pattern obtained, such as the resolution, the effective sensitivity, the proportion of the remaining film, the presence of scum developer residues) and the adhesion to determine the silicon wafer. The results obtained are shown in the preceding Table 1.

Wie in den Tabellen 3 und 4 gezeigt, erleidet das Resistharz 2 nach einer Lagerung über eine lange Zeitspanne keine Qualitätsverschlechterung, da keine signifikanten Änderungen in den Deckungseigenschaften, der Auflösung, der Sensitivität, dem Anteil des verbleibenden Films, der Anwesenheit von Scum und der Adhäsion an den Siliziumwafer beobachtet wurden.As As shown in Tables 3 and 4, the resist resin 2 suffers a storage over a long period of time no quality deterioration, as no significant changes in the coverage properties, the resolution, the sensitivity, the proportion of the remaining film, the presence of scum and the adhesion the silicon wafer were observed.

Vergleichsbeispiel 1Comparative Example 1

Die selben Vorgänge wie in Beispiel 1 wurden wiederholt, außer dass eine Glasflasche, eine Polyethen-Monolayer-Flasche, und ein Metall (SUS 304) – Behälter verwendet wurde, um so die Reinheit, die Absorption, die Gewichtsänderung und die Metallionenkonzentration zu bestimmen. Die Ergebnisse, die daraus erhalten wurden, sind in den vorangegangenen Tabellen 1 und 2 aufgelistet.The same processes as in Example 1, except that a glass bottle, a polyethene monolayer bottle, and a metal (SUS 304) container used became, so the purity, the absorption, the weight change and to determine the metal ion concentration. The results, the have been obtained in the previous tables 1 and 2 listed.

Wie in Tabelle 1 gezeigt ist, gab die Glasflasche eine große Anzahl unreiner, kleiner Teilchen in ihren flüssigen Inhalt frei und speziell wurde herausgefunden, dass die Reinheit der Glasflasche 2365 Teilchen/ml für Wasser beträgt, 79 Teilchen/ml für das Resistharz 1 und 121 Teilchen/ml für das Resistharz 1 nach einer Lagerung des Resistharzes über 6 Monate. Zusätzlich gab die Glasflasche eine große Menge Natriumionen an ihren flüssigen Inhalt ab.As shown in Table 1, the glass bottle contained a large number of impure, small particles in its liquid content, and specifically, it was found that the purity of the glass bottle is 2365 particles / ml for water, 79 particles / ml for the resist resin 1, and 121 particles / ml for the resist resin 1 after storage of the resist resin for 6 months. In addition, the glass bottle dispensed a large amount of sodium ion to its liquid contents.

Zusätzlich gab auch die PE-Monolayer-Flasche eine große Anzahl unreiner kleiner Teilchen an ihren flüssigen Inhalt ab und insbesondere wurde herausgefunden, dass die Reinheit der PE-Monolayer-Flasche nicht weniger als 10 000 Teilchen/ml für Wasser, nicht weniger als 10 000 Teilchen/ml für das Resistharz 1 und nicht weniger als 10 000 Teilchen/ml für die Lagerung über 6 Monate betrug. Weiter gab die PE-Monolayer-Flasche auch eine große Menge an Kalziumionen an ihren flüssigen Inhalt ab.Additionally gave even the PE monolayer bottle a large number of unclean smaller Particles at their liquid Content and in particular, it was found that the purity the PE monolayer bottle not less than 10,000 particles / ml for water, not less than 10,000 particles / ml for the resist resin 1 and not less than 10,000 particles / ml for the storage over 6 months was. Next, the PE monolayer bottle also gave a large amount of calcium ions in their liquid Content.

Darüber hinaus gab die Metallflasche eine große Anzahl an unreinen kleinen Teilchen in ihren flüssigen Inhalt ab und genauer wurde herausgefunden, dass die Reinheit der Metallflasche 261 Teilchen/ml für Wasser war, 648 Teilchen/ml für das Resistharz 1 und 759 Teilchen/ml für das Resistharz 1 nach der Lagerung über 6 Monate. Zusätzlich gab die Metallflasche auch eine große Menge an Eisenionen und Nickelionen an ihren flüssigen Inhalt ab.Furthermore the metal bottle gave a big one Number of impure small particles in their liquid content and more accurate The purity of the metal bottle was found to be 261 particles / ml for water was 648 particles / ml for the resist resin 1 and 759 particles / ml for the resist resin 1 after Storage over 6 months. additionally The metal bottle also gave a large amount of iron ions and Nickel ions on their liquid Content.

Wie oben diskutiert wurde, gaben alle drei Arten von Behältern, die in den Vergleichsbeispielen verwendet wurden, eine große Menge an unreinen Teilchen und Metallionen an ihren flüssigen Inhalt ab und entsprechend kontaminiert war das flüssige Photoresistharz als Inhalt eines solchen Behälters.As discussed above, gave all three types of containers, the were used in the comparative examples, a large amount of impure particles and metal ions from their liquid content and accordingly contaminated was the liquid Photoresist resin as the content of such a container.

Das Verfahren, um eine hochreine flüssige Chemikalie 15 gemäß der vorliegenden Erfindung zu entladen, wird nun unten im Detail beschrieben unter Verwendung des Behälter 1, der auf einer Versuchsbasis in dem vorangegangenen Beispiel hergestellt wurde, unter Bezug auf die 2.The process to a high purity liquid chemical 15 according to the present invention will now be described in detail below using the container 1 manufactured on a trial basis in the preceding example, with reference to 2 ,

Eine hochreine flüssige Chemikalie 15 wurde in einen inneren Behälter 1 eingefüllt und der letztere wurde auf eine vorbestimmte Position in einen Druckbehälter 12 positioniert. Ein Ende des Flüssigkeitsentladerohr 10 wurde in den inneren Behälter 1 bis an dessen Boden herab eingeführt, während das andere Ende des Entladerohrs 10 zu dem Äußeren des inneren Behälters 1 geführt wurde. Ein Verbindungsmittel 11 wurde am oberen Deckel 13 befestigt, um eine Druckabgabe zu verhindern und der innere Behälter wurde somit durch den oberen Deckel 13 und den Druckbehälter 12 dicht abgeschlossen. Andererseits wurde unter Druck stehende Luft oder ein anderes inertes Gas wie Stickstoff oder Argon von einer Druckquelle 6 zugeführt. Die Druckquelle 6 ist eine Stickstoffflasche und mit einem Sockel 7 durch einen Druckschlauch verbunden. Der Sockel 7 soll mit einem Stecker 8 verbunden sein, der mit einem Gaseinlass eines Schutzdruckbehälters 13 verbunden ist. Ein Regler der Stickstoffgasflasche wird geöffnet, um Gas in den Druckbehälter zu bringen. So wird der Gasdruck an die flüssige Oberfläche der hochreinen flüssigen Chemikalie 15 angelegt, die der innere Behälter beinhaltet und eine gewünschte Menge an flüssiger Chemikalie wird durch das Flüssigkeitsentladungsrohr 10 entladen.A high purity liquid chemical 15 was in an inner container 1 filled and the latter was to a predetermined position in a pressure vessel 12 positioned. One end of the liquid discharge tube 10 was in the inner container 1 introduced down to the bottom while the other end of the discharge tube 10 to the exterior of the inner container 1 was led. A lanyard 11 was on the top lid 13 attached to prevent a pressure delivery and the inner container was thus through the upper lid 13 and the pressure vessel 12 tightly closed. On the other hand, pressurized air or other inert gas such as nitrogen or argon was from a pressure source 6 fed. The pressure source 6 is a nitrogen bottle and with a pedestal 7 connected by a pressure hose. The base 7 should with a plug 8th connected to a gas inlet of a protective pressure vessel 13 connected is. A regulator of the nitrogen gas bottle is opened to bring gas into the pressure vessel. Thus, the gas pressure on the liquid surface of the high-purity liquid chemical 15 applied, which contains the inner container and a desired amount of liquid chemical is passed through the liquid discharge tube 10 discharged.

Ein anderes Verfahren, um eine hochreine flüssige Chemikalie zu entladen gemäß der vorliegenden Erfindung, ist in 3 gezeigt. Ein Ende des Flüssigkeitsentladungsrohr 10 ist in den inneren Behälter geführt bis zum Boden des Behälters, während das andere Ende des Flüssigkeitsentladerohrs an das Äußre des Behälters 1 geführt ist. Der innere Behälter 1 ist in einem Schutzbehälter 22, 23 beherbergt und so wird die hochreine flüssige Chemikalie 15 durch das Flüssigkeitsentladerohr 10 mittels der Wirkung einer Pumpe 16, die entlang des Verlaufs der Flüssigkeitsentladung angeordnet ist, entladen. Ein Filter 14 ist mit einer Öffnung 19 verbunden, um den Druck in dem Schutzbehälter zu steuern. Die Wirkung der Pumpe 16 entlädt eine gewünschte Menge der hochreinen flüssigen Chemikalie 15.Another method for discharging a high-purity liquid chemical according to the present invention is disclosed in U.S. Pat 3 shown. One end of the liquid discharge tube 10 is guided in the inner container to the bottom of the container, while the other end of the Flüssigkeitsentladerohrs to the Äußre of the container 1 is guided. The inner container 1 is in a protective container 22 . 23 houses and so does the high-purity liquid chemical 15 through the liquid discharge tube 10 by the action of a pump 16 , which is arranged along the course of the liquid discharge discharged. A filter 14 is with an opening 19 connected to control the pressure in the protective container. The effect of the pump 16 discharges a desired amount of the high purity liquid chemical 15 ,

Ein weiteres Verfahren eine hochreine flüssige Chemikalie zu entladen ist in 4 gezeigt. Ein innerer Druckbehälter 1, in welchem ein Ende eines Flüssigkeitsentladerohr bis zum Boden desselben eingeführt ist, während das andere Ende des Rohres zu der Außenseite des Behälters geführt ist und welcher mit einer hochreinen Chemikalie 15 gefüllt ist, ist in einem Schutzbehälter 32, 33 beherbergt und dicht mit einem Verbindungsmittel 31 verschlossen. Stickstoffgas wird an den Schutzbehälter durch den Sockel 7 geliefert, welcher mit einer Druckquelle 6 verbunden ist. Der Sockel 7 ist mit einem Stecker 8 verbunden, welcher mit einem Gaseinlass 29 eines inneren Druckbehälters verbunden ist und so kann Stickstoffgas dem Schutzbehälter zugeführt werden, um so die gewünschte Menge an hochreiner flüssiger Chemikalie 15 durch das Flüssigkeitsentladerohr 10 zu entladen.Another method to discharge a high purity liquid chemical is in 4 shown. An inner pressure vessel 1 in which one end of a liquid discharge tube is inserted to the bottom thereof while the other end of the tube is led to the outside of the container and which is filled with a high-purity chemical 15 is filled in a protective container 32 . 33 harbors and tight with a lanyard 31 locked. Nitrogen gas is supplied to the protective container through the base 7 delivered, which with a pressure source 6 connected is. The base 7 is with a plug 8th connected, which with a gas inlet 29 an internal pressure vessel is connected and so nitrogen gas can be supplied to the protective container, so as to obtain the desired amount of highly purified liquid chemical 15 through the liquid discharge tube 10 to unload.

In einem weiteren Verfahren, um eine hochreine flüssige Chemikalie zu entladen, wird ein Filter 14 (siehe 3) mit einem Gaseinlass verbunden, anstatt der Druckquelle 6 wie in 4 gezeigt ist eine Pumpe 16 (siehe 3) in dem Verlauf des Flüssigkeitsentladerohrs angeordnet und die hochreine Chemikalie 15 wird durch Betätigen der Pumpe 16 entladen. So kann eine gewünschte Menge flüssige Chemikalie 15 in derselben Art wie oben diskutiert entladen werden.Another method of discharging a high purity liquid chemical is to use a filter 14 (please refer 3 ) connected to a gas inlet instead of the pressure source 6 as in 4 shown is a pump 16 (please refer 3 ) in the course of the Flüssigkeitsentladerohr arranged and the high-purity chemical 15 is by pressing the pump 16 discharged. So can a desired amount of liquid chemical 15 discharged in the same way as discussed above.

Wie oben in Einzelheiten diskutiert, gibt der Behälter für hochreine flüssige Chemikalien gemäß der vorliegenden Erfindung niemals kleine Teilchen und Metallionen während der Lagerung und/oder des Transportes ab und kann so die Qualität seiner Inhalte aufrecht erhalten. Darüber hinaus kann der Behälter kaum brechen und ist leichtgewichtig. Jede hochreine flüssige Chemikalie kann einfach und sicher gehandhabt werden, indem das Entladeverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung angewendet wird, welches Gebrauch macht von dem vorbeschriebenen Behälter.As discussed in detail above, gives the container for high purity liquid chemicals according to the present Invention never small particles and metal ions during the Storage and / or transport, and so can the quality of his Content is maintained. About that In addition, the container hardly break and is lightweight. Any high purity liquid chemical can be easily and safely handled by the unloading method according to the present Invention is used which makes use of the above Container.

Claims

Container for high-purity liquid chemicals, characterized in that the container was produced by: blow molding an inner layer of a high-purity resin whose proportion of polymers with a weight average m _w of not more than 1 × 10 ³ , determined by gel permeation chromatography, less than 5% by mass and which consists of at least one member selected from the group of olefin polymers of ethene, propene, butene-1, 4-methyl-pentene-1, hexene-1 or octene-1 and ethene copolymers and olefins exclusively ethene ; an intermediate layer of a solvent-impermeable resin consisting of at least one member of the group of polyamides, polyvinyl alcohols, poly (ethene-co-vinyl alcohols), polyesters and polyphenylene oxides; and an outer layer having a light-shielding material-containing resin combination in such a manner that the container has the least absorption for all layers in the range of not more than 400 nm wavelength using a spectrophotometer of not less than 2.0 and that the absorption coefficient at a wavelength of 400 nm or that the ratio for the entire layers of absorption for this wavelength and the thickness of the layers is not less than 1.5 mm ^-1 and that the absorption coefficient at a wavelength of 600 nm is not more than 1.5 mm ^-1 .

A container for high purity liquid chemicals according to claim 1, characterized in that the resin composition of the outer layer is less than 5% by weight of a pigment dispersant of at least one olefin polymer of the group consisting of polyethene and polypropene having a number average molecular weight of not less than 2 × 10 ³ and from at least one with a weight fraction between 0.01 and 5% light-shielding pigment from the group of inorganic or organic pigments.

container for high purity liquid Chemicals according to claim 1, characterized in that the resin composition the outer layer an ultraviolet absorbent containing less than 2.5% by weight.

container according to at least one of the preceding claims, the high purity liquid chemicals for use in the field of semiconductors or liquid crystals.

container according to at least one of the preceding claims, which contains liquid photoresist varnishes.

Use of a container after at least one the claims 1-3 for storage of high purity liquid Chemicals in the field of semiconductors or liquid crystals.

Use of a container after at least one the claims 1-3 for storage of liquid Photoresists.