DE69512743T2 - Composite process for silicon chips for inkjet printing - Google Patents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Verbinden eines Siliciumchips mit dem Stiftkörper eines Tintenstrahldruckers.The present invention relates to a method for connecting a silicon chip to the pen body of an inkjet printer.
Modernes Tintenstrahldrucken hat viele beispiellose Anforderungen an Materialien und Verfahren für ihren Zusammenbau gestellt. Die vorliegende Erfindung betrifft eine Lösung für eine solche Anforderung, nämlich ein Verfahren zum Verbinden des Siliciumchips mit dem Stiftkörper des Tintenstrahldruckers.Modern inkjet printing has placed many unprecedented demands on materials and methods for their assembly. The present invention relates to a solution to one such requirement, namely a method for connecting the silicon chip to the pen body of the inkjet printer.
Die Verbindung zwischen dem Tintenstrahl-Siliciumchip und dem Stiftkörper des Tintenstrahldruckers ist einem sehr heftigen Angriff ausgesetzt, insbesondere weil die Temperatur beim Gebrauch sehr hoch ist und die Verbindung Flüssigtinten auf Wasserbasis ausgesetzt ist, die gewöhnlich organische Verschnittmittel enthalten und auch einen sehr hohen (basischen) pH-Wert aufweisen. Nicht nur muß die Verbindung dazu dienen, den Chip am Stiftkörper anzubringen, sondern sie muß auch eine leckbeständige Verbindung um den Chip bilden, um eine Tintenübertragung zum Benutzer zu verhindern.The bond between the inkjet silicon chip and the inkjet printer pen body is subjected to very severe attack, particularly because the temperature during use is very high and the bond is exposed to water-based liquid inks, which usually contain organic co-solvent and also have a very high (basic) pH. Not only must the bond serve to attach the chip to the pen body, but it must also form a leak-resistant bond around the chip to prevent ink transfer to the user.
Das Bindemittel muß auch so beschaffen sein, daß es die Eigenschaften der im System verwendeten Tinte nicht ändert, und in modernen Farbdruckern werden normalerweise drei verschiedene Tinten verwendet. Zusätzlich muß die Aushärtungstemperatur des Klebstoffs unter der Einfriertemperatur des Kunststoffs liegen, der den Stiftkörper bildet. Um einen Mehrfarben-Tintenstrahlstift zu bauen, müssen die Wege im Chip im allgemeinen durch ein Haftmittel getrennt werden, das als Barriere oder Dichtmaterial um jeden Weg dient, um Tin tenmischen zu verhindern. Weiter muß das Haftmittel als Dichtung um den Chip dienen, um Tintenmischen zu verhindern. Weiter muß das Haftmittel als Dichtung um den Chip dienen, um zu verhindern, daß Tinten zur Außenseite des Körpers lecken. Ein immer engerer Wegabstand, um immer höhere Bildpunkte-pro- Zoll(dpi)-Druckauflösung zu liefern, stellt höchste Anforderungen an ein Haftmittel zur Herstellung einer zuverlässigen Verbindung in einer sehr rauhen Umgebung.The binder must also be such that it does not alter the properties of the ink used in the system, and modern color printers typically use three different inks. In addition, the curing temperature of the adhesive must be below the glass transition temperature of the plastic that forms the pen body. To build a multi-color inkjet pen, the paths in the chip generally need to be separated by an adhesive that acts as a barrier or sealing material around each path to prevent ink from entering the chip. Furthermore, the adhesive must act as a seal around the chip to prevent ink mixing. Furthermore, the adhesive must act as a seal around the chip to prevent ink leaking to the outside of the body. Ever-tightening path spacing to deliver ever-higher dots-per-inch (dpi) print resolution places the highest demands on an adhesive to produce a reliable bond in a very harsh environment.
Ein Verfahren zur Verbesserung des Haftvermögens an der Haftmittel-zu-Silicium-Grenzfläche ist notwendig, um zwei Fehlermöglichkeiten zu verhindern. Wenn ein Haftfehler an dieser Grenzfläche auftritt, dann fließen die Primärfarben ungehindert, wodurch sich Tintenmischen ergibt. Zweitens, wenn die Haftmittel-zu-Chip-Grenzfläche am Umfang Fehler aufweist, leckt die Tinte, und durch Routinehandhabung kann Tinte zum Benutzer übertragen werden. Beide Fehlertypen würde man als Zuverlässigkeitsfehler betrachten.A method of improving adhesion at the adhesive-to-silicon interface is necessary to prevent two failure modes. If an adhesion failure occurs at this interface, then the primaries will flow freely, resulting in ink mixing. Second, if the adhesive-to-chip interface is flawed at the perimeter, then the ink will leak and routine handling can transfer ink to the user. Both types of failures would be considered reliability failures.
Die vorliegende Erfindung, die in den unabhängigen Ansprüchen definiert ist, löst die obenerwähnten Probleme. Gemäß dieser Erfindung wird der Siliciumchip zuerst mit einem dünnen Überzug eines Silan-Kupplungsmittels bedeckt. Dieser Überzug wird auf der Seite des Chips aufgetragen, die die elektronische Schaltungsanordnung nicht enthält. Der Überzug des Silan-Kupplungsmittels wird wiederum mit einer dünnen (etwa 0,5 bis etwa 5,0 um (Mikron)) Schicht eines Epoxidharzes beschichtet, die dann bei einer Temperatur von etwa 175ºC gehärtet wird.The present invention, which is defined in the independent claims, solves the above-mentioned problems. According to this invention, the silicon chip is first covered with a thin coating of a silane coupling agent. This coating is applied to the side of the chip that does not contain the electronic circuitry. The coating of the silane coupling agent is in turn coated with a thin (about 0.5 to about 5.0 µm (microns)) layer of an epoxy resin, which is then cured at a temperature of about 175°C.
In einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung werden die obigen Schritte auf einem Multichip-Siliciumwafer ausgeführt, der dann anschließenden Herstellungsvorgängen unterzogen werden kann. Hunderte von Chips können auf einem einzigen Siliciumwafer behandelt werden.In another embodiment of the present invention, the above steps are performed on a multichip silicon wafer, which can then be subjected to subsequent manufacturing operations. Hundreds of chips can be processed on a single silicon wafer.
Im letzten Schritt des Verfahrens der vorliegenden Erfindung wird der Chip unter Verwendung eines Epoxidharzes am Stiftkörper angebracht, das bei einer Temperatur von 100ºC oder weniger härtet.In the final step of the method of the present invention, the chip is attached to the pen body using an epoxy resin that cures at a temperature of 100°C or less.
Das Verstehen der Erfindung wird mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen erleichtert.The understanding of the invention is facilitated with reference to the attached drawings.
Fig. 1 ist eine nicht maßstabgerechte Querschnittsansicht eines beschichteten Siliciumwafers.Fig. 1 is a cross-sectional view (not to scale) of a coated silicon wafer.
Fig. 2 ist eine nicht maßstabgerechte Querschnittsansicht eines Tintenstrahldruckkopfchips und eines Stiftteils.Fig. 2 is a cross-sectional view, not to scale, of an inkjet printhead chip and pen portion.
In Fig. 1 ist 1 ein Siliciumwafer; 2 ist die Schaltungsanordnung auf einer Seite des Wafers; 3 ist eine Schicht eines Haftverstärkers; und 4 ist eine Schicht eines Epoxidharzes.In Fig. 1, 1 is a silicon wafer; 2 is the circuitry on one side of the wafer; 3 is a layer of an adhesion promoter; and 4 is a layer of an epoxy resin.
In Fig. 2 ist 1 der Stiftkörper der Tintenstrahldruckerdüse; 2 ist der Tintenstrahlsiliciumchip; 3 ist ein Polymerdickfilm auf Acrylatbasis; 4 ist die Düsenplatte; 5 ist eine Schicht Schnell-/Tieftemperaturhärt-Epoxidhaftmittel; 6 sind zwei Dünnschichten, eine eines Haftverstärkers und eine eines Epoxidharzes; und 7 ist der Tintenweg.In Fig. 2, 1 is the pen body of the inkjet printer nozzle; 2 is the inkjet silicon chip; 3 is an acrylate-based polymer thick film; 4 is the nozzle plate; 5 is a layer of fast/low temperature cure epoxy adhesive; 6 are two thin layers, one of an adhesion promoter and one of an epoxy resin; and 7 is the ink path.
Ein bevorzugtes Silan-Kopplungsmittel ist Z6032 von Dow Corning, ein Vinylbezylamin-funktionelles Silan. Das handelsübliche Material wird durch Zugabe von 5 Gew.-% Wasser zur Silanlösung vorhydrolisiert. Es wird dann unter Verwendung von Ethanol zu einer 1%igen Lösung funktionelles Silan verdünnt. Diese Lösung wird auf die Seite des ruhenden Siliciumwafers gesprüht, die keine Schaltungsanordnung trägt, und 20-30 Sekunden sitzen gelassen. Der Wafer wird dann 45 Sekunden mit 2000 U/min gedreht, um den Überschuß zu entfernen und die Waferoberfläche zu trocknen.A preferred silane coupling agent is Dow Corning's Z6032, a vinylbenzylamine functional silane. The commercial material is prehydrolyzed by adding 5 wt% water to the silane solution. It is then diluted to a 1% functional silane solution using ethanol. This solution is sprayed onto the side of the resting silicon wafer that does not carry circuitry and allowed to sit for 20-30 seconds. The wafer is then rotated at 2000 rpm for 45 seconds to remove the excess and to dry the wafer surface.
Ein bevorzugtes, bei hoher Temperatur härtendes Epoxidharz ist eine mit tertiärem Amin gehärtete Verbindung, wie z. B. Ablebond 968, von der Ablestik Co. Dieses Material wird ohne Füller verwendet. Es wird zuerst mit Gamma-Butyrolaceton in einem 1 zu 1 Verhältnis verdünnt. Ungefähr 2 int dieser Lösung werden in der Mitte des Wafers aufgebracht, nachdem das Silan aufgebracht worden ist. Der Wafer wird 45 Sekunden mit 2500 U/min gedreht. Dies ergibt einen gleichmäßigen Epoxidharzfilm mit eine Dicke von ungefähr 0,8 um (Mikron) auf dem Wafer. Der Wafer wird dann 2 Stunden bei 175ºC ausgeheizt, um das Epoxidharz zu härten.A preferred high temperature curing epoxy is a tertiary amine cured compound such as Ablebond 968 from Ablestik Co. This material is used without filler. It is first diluted with gamma-butyrolacetone in a 1 to 1 ratio. Approximately 2 int of this solution is applied to the center of the wafer after the silane is applied. The wafer is rotated at 2500 rpm for 45 seconds. This results in a uniform epoxy film approximately 0.8 µm (microns) thick on the wafer. The wafer is then baked at 175ºC for 2 hours to cure the epoxy.
Schließlich wird der Wafer in einzelne Chips geschnitten, die mittels eines bei niedriger Temperatur härtenden Polybenzimidazol-Epoxidharzes, wie z. B. LA3032-78 von Emerson-Cuming, ein Epoxidharz, das bei etwa 100ºC härtet, am Stiftkörper angebracht werden.Finally, the wafer is cut into individual chips that are attached to the pen body using a low-temperature-curing polybenzimidazole epoxy resin, such as Emerson-Cuming's LA3032-78, an epoxy resin that cures at about 100ºC.
Die Herstellungsverfahren müssen für Tintenstrahlstiftprodukte, da sie Verbrauchs-(oft Wegwerf-)Produkte sind, kostengünstiges Material enthalten, das bei hohen Durchsätzen verarbeitet werden kann. Stiftkörper sind am häufigsten spritzgegossene thermoplastische Materialien, wie z. B. modifiziertes Polyphenylenoxid (PPO). Die erhöhte Temperaturbeständigkeit eines solchen Materials legt eine maximale Aushärtungstemperatur fest, die für anschließende Verfahren, wie z. B. die Anbringung des Tintenstrahlchips und der Düsenanordnung an den Körper, zulässig ist.Manufacturing processes for inkjet pen products, because they are consumable (often disposable) products, must include low-cost material that can be processed at high throughputs. Pen bodies are most commonly injection-molded thermoplastic materials, such as modified polyphenylene oxide (PPO). The increased temperature resistance of such a material sets a maximum cure temperature that is acceptable for subsequent processes, such as attaching the inkjet chip and nozzle assembly to the body.
Es stehen Materialien zur Verfügung, die im 100ºC- oder darunter liegenden Bereich und in kürzeren Zeiten härten und die gegenüber Tintenformulierungen bei Substrateinwirkung widerstandsfähig sind. Jedoch werden üblicherweise frühzeitige Haftfehler an der Silicium-zu-Plättchenhaftmittel-Grenzfläche beobachtet. Durch Aufbringen der Silan/Epoxidharz- Ultradünnschicht in einem Anfangsstadium der Herstellung (bei der Waferstufe) werden hunderte Chips gleichzeitig beschichtet und geschützt. In diesem Stadium können hochreine, hochstöchiometrische Epoxidharze bei den höheren Temperaturen gründlich vernetzt werden (mindestens 175ºC, was eine viel bessere Anbringung an das Silan/Siliciumplättchen ergibt). Ein Verfahren zur Erhöhung der Produktlebensdauer wird dann erzielt, während man den Durchsatz kostengünstig hält.Materials are available that cure in the 100ºC or lower range and in shorter times and are resistant to ink formulations when exposed to substrates. However, early adhesion failures are usually observed at the silicon-to-wafer adhesive interface. By applying the silane/epoxy resin Ultra-thin film coating and protecting hundreds of chips simultaneously at an early stage of manufacturing (at the wafer stage). At this stage, high purity, high stoichiometric epoxies can be thoroughly crosslinked at the higher temperatures (at least 175ºC, which gives much better attachment to the silane/silicon wafer). A method of increasing product lifetime while keeping throughput cost-effective is then achieved.
Das Verfahren der vorliegenden Erfindung ist durch die Verwendung von zwei verschiedenen Epoxidharzen gekennzeichnet, von denen das erste bei einer Temperatur über der Formbeständigkeitstemperatur des Kunststoffstiftkörpers härtet und von denen das zweite bei einer Temperatur unter der Formbeständigkeitstemperatur des Kunststoffstiftkörpers härtet. Nach Anbringung an den Stiftkörper weisen die Chips einen Tintenweg auf, der sich, begrenzt vom Kopplungsmittel, dem ersten Epoxidharz und dem zweiten Epoxidharz, in die Chips erstreckt.The method of the present invention is characterized by the use of two different epoxies, the first of which cures at a temperature above the heat distortion temperature of the plastic pen body and the second of which cures at a temperature below the heat distortion temperature of the plastic pen body. After attachment to the pen body, the chips have an ink path extending into the chips, bounded by the coupling agent, the first epoxy resin and the second epoxy resin.
Andere Merkmale dieser Erfindung sind die folgenden: Unempfindlichkeit gegen Produktionslinienunterbrechung/-verfahren (wie es ein Silan allein sein würde), und die ultradünne Anwendung liefert eine minimale zusätzliche Wärmebarriere gegen die Wärmeabführung aus dem Plättchen.Other features of this invention are the following: Insensitivity to production line interruption/processing (as a silane alone would be), and the ultra-thin application provides a minimal additional thermal barrier to heat removal from the wafer.
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