DE69503230T2

DE69503230T2 - Säuberung der elektronenkanone von kathodenstrahlröhren mittels kohlendioxidschnee

Info

Publication number: DE69503230T2
Application number: DE69503230T
Authority: DE
Inventors: Richard A. Canton Mi 48188 Bailey; John C. Rochester Ny 14617 Medavaine
Original assignee: Philips Electronics NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1994-12-16
Filing date: 1995-10-20
Publication date: 1999-02-11
Anticipated expiration: 2015-10-21
Also published as: DE69503230D1; US5462468A; EP0755567B1; WO1996019008A1; EP0755567A1; US5605484A; JPH09509529A

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Reinigen des Elektronenstrahlerzeugungssystems von Elektronenstrahlröhren vor oder beim Zusammenbauen von Elektronenstrahlröhrenwiedergabeanordnungen.
Außerdem wird eine Vorrichtung zum Reinigen des Elektronenstrahlerzeugungssystems von Elektronenstrahlröhren beschrieben.
Beim Zusammenbauen von Elektronenstrahlröhrenwiedergabeanordnungen, oder von Wiedergabeanordnungen, die Elektronenstrahlerzeugungssysteme verwenden, ist ein wesentlicher Aspekt, das Elektronenstrahlerzeugungssystem in äußerst reinem Zustand in der Wiedergabeanordnung anzubringen. Teilchen, die an derartigen Elektronenstrahlerzeugungssystemen haften, sowie Öl und Fett, das bei der Fertigung des Elektronenstrahlerzeugungssystems darauf gelangen, sollen entfernt werden, damit eine verbesserte Hochspannungsemission und eine verbesserte Elektronenstrahlröhreleistung erzielt werden. Das Reinigen der Elektronenstrahlerzeugungs- Systeme durch Entfernung derartiger Verunreinigungen ist ein äußerst notwendiger Vorgang, damit die Ausschußqoute derartiger Elektronenstrahlerzeugungssysteme beim Herstellen der Wiedergabeanordnungen sowie nachher bei den Gebrauchern reduziert wird.
Zur Zeit übliche Techniken zum Reinigen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen benutzen feuchte Prozesse. Das bedeutet, daß Elektronenstrahlerzeugungssysteme von Elektronenstrahlröhren in destilliertes Wasser eingetaucht und ins Schwingen versetzt werden, oder sie werden zum Entfernen von Verunreinigungsteilchen mit destilliertem Wasser bespritzt. Es treten aber viele Probleme auf, wenn ein feuchtes Reinigungsverfahren zum Reinigen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren angewandt wird. So ist beispielsweise feuchte Reinigung von Sacklöchern und kleinen Oberflächenbeschädigungen sehr schwer, Weiterhin erfordern feuchte Prozesse eine vorsichtige Behandlung und Prozeßregelung. Auch las sen sich mehrere Rückstände nur schwer entfernen von Metall- und/oder Kunststoffoberflächen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren.
Bisher hat der Gebrauch von destillierten Wasser beim Spülen oder sogar ein Spülvorgang und eine Reinigungstechnik mit Alkohol zu vielen Schwierigkeiten geführt. So kann beispielsweise eine feuchte Reinigung eine wesentliche Raumoberfläche zum Durchführen einer derartigen Reinigung erfordern. Weiterhin ist das Trocknen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren mit einer komplizierten Geometrie schwierig, wenn es Oberflächenbeschädigungen und Sacklöchern gibt. Weiterhin ist die Verträglichkeit des Elektronenstrahlerzeugungssystems einer Elektronenstrahlröhre mit Wasser gering, da Korrosion von Metallen oder Spannungsrissbildung bestimmter Werkstoffe auftreten kann. Zum Schluß ist höchstreines Wasser erforderlich beim Reinigen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren. Höchstreines Wasser kann, je nach Reinheitsgrad und gebrauchter Menge, sehr kostspielig sein.
Es ist nun u. a. eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine Möglichkeit zu schaffen, Elektronenstrahlerzeugungssysteme von Elektronenstrahlröhren in einem arbeitsparenden Prozeß zu reinigen. Das Verfahren zum Reinigen des Elektronenstrahlerzeugungssystems einer Elektronenstrahlröhre nach der vorliegenden Erfindung erfolgt dadurch, daß das Elektronenstrahlerzeugungssystem erhitzt wird und daß dem Elektronenstrahlerzeugungssystem zum Entfernen von Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem in Kombination miteinander CO&sub2;-Teilchen und CO&sub2;-Gas zugeführt werden. Das Reinigen mit Hilfe eines "Cryo-Jet-Sprays" von CO&sub2;-Feststoffteilchen und Gas bietet viele Freiheitsgrade in bezug auf den Prozeßentwurd sowie in der Konzentration. Dadurch kann der CO&sub2;-Prozeß zum effektiven Reinigen komplexer Geometrien von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren angewandt werden. Chronische Probleme beim Reinigen mit Wasser und beim Trocknen, die zu Rostbildung und Wasserflecken auf Teilen der Elektronenstrahlerzeugungssysteme führen, lassen sich dadurch vermeiden. Die Prozeßzeit zum Durchführen des Reinigungsvorgangs der Elektronenstrahlerzeugungssysteme von Elektronenstrahlröhren läßt sich dadurch verkürzen, daß die Durchführungsgeschwindigkeit der gereinigten Elektronenstrahlerzeugungssysteme gesteigert wird.
Das Verfahren zum Reinigen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren und die Vorrichtung zum Durchführen dieses Verfahrens nach der vorliegenden Erfindung minimiert die Probleme, die bisher auftraten und verringert die Neuverunreinigung der Elektronenstrahlerzeugungssysteme nach einer Erstreinigung. Mechanische Änderungen des Elektronenstrahlerzeugungssystems lassen sich ebenfalls beim Reinigen nach dem erfindungsgemäßen Verfahren vermeiden.
Bestimmte Entfernung von Verunreinigungen erfolgt nach der Erfindung auch effektiver. Reinigung durch CO&sub2;-Teilchen und -Gas nach der vorliegenden Erfindung ist in der Effektivität vergleichbar mit Lösungsreinigung zum Entfernen dünner Kohlenwasserstoffschichten und schließt auch eine Trockenreinigungstechnik ein, die das Rostpotential eliminiert. Das CO&sub2;-Reinigungsverfahren nach der vorliegenden Erfindung läßt sich relativ einfach durchführen und erfordert weniger Raum, weil Spültanks und Trockenöfen, die bei den bisherigen feuchten Verfahren benutzt wurden, nicht länger erforderlich sind.
Der Gebrauch von CO&sub2; zum Reinigen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren verursacht weniger Probleme in bezug auf Sicherheit des Personals im vergleich zum Gebrauch vieler Lösungsmittel, die bisher verwendet werden mußten. Das CO&sub2;-Verfahren ist weder entflammbar noch explosiv. Weiterhin ist CO&sub2; umweltfreundlich.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird vorzugsweise derart durchgeführt, daß zunächst das zu reinigende Elektronenstrahlerzeugungssystem der Elektronenstrahlröhre auf einer Achse montiert wird und daß danach ein Erhitzungsvorgang durchgeführt wird. Die Erhitzungsstelle kann zum Erhitzen des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre beispielsweise Halogen-IR-Lampen enthalten. Die Erhitzung wird vorzugsweise bei einer Temperatur über 65ºC, aber unter 125ºC durchgeführt. Eine derartige Erhitzung reicht zur Vermeidung von Kondensabildung aug dem Elektronenstrahlerzeugungssystem der Elektronenstrahlröhre beim Reinigen. An der Reinigungsstelle des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre wird das Elektronenstrahlerzeugungssystem vorzugsweise gegenüber Mitteln zum Zuführen einer Kombination aus CO&sub2;-Teilchen und CO&sub2;-Gas zu allen Oberflächen des Elektronenstrahlerzeugungssystems zum Entfernen von Verun reinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem und vorzugsweise wird das Elektronenstrahlerzeugungssystem gegenüber den Mitteln zum Zuführen der Kombination aus Teilchen und Gas zu allen Oberflächen des Elektronenstrahlerzeugungssystems zum Entfernen von Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem in Drehung versetzt. Das Bewegen und/oder Drehen des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre gegenüber den Mitteln, die den CO&sub2;-Schnee erzeugen steigert die Effektivität des Reinigungsverfahrens wesentlich.
An der Reinigungsstelle des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre wird das Elektronenstrahlerzeugungssystem mit einer Geschwindigkeit von maximal 300 Umdrehungen in der Minute in Drehung versetzt. Eine höhere Drehzahl über 300 Umdrehungen in der Minute kann zu einer mechanischen Beschädigung des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre führen, während eine Drehzahl unterhalb 300 Umdrehungen in der Minute zu längeren Reinigungszeiten führen würde.
Beim Reinigungsverfahren wird einer oder mehreren Reinigungsdüsen flüssiges CO&sub2; mit einem Druck von etwa 835 psi (5,76 Mpa) zugeführt. Die Düsen haben Öffnungen zum Umwandeln flüssigen CO&sub2; zu einer "Cryo-Jet-Spray" fester Eisteilchen bzw. Schnee aus CO&sub2;-Teilchen und CO&sub2;-Gas. Die Öffnungen der Düsen regeln die Größe der trocknen Eisteilchen und können einen Innendurchmesser von typisch 0,016 bis 0,020 Zoll (0,4-0,5 mm) haben.
Während des Reinigungszyklus nach der vorliegenden Erfindung werden die Reinigungsdüsen parallel zu der Oberfläche des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre bewegt. Die Cryo-Jet-Spray aus CO&sub2;-Teilchen reinigt von oben nach unten längs des Körpers des Elektronenstrahlerzeugungssystems. Eine typische Reinigungszeit kann 2 bis 3 Sekunden betragen. Die Cryo-Jet-Spray aus trocknen Eisteilchen oder Schnee löst Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem der Elektronenstrahlröhre und die entfernten Verunreinigungen werden danach von dem CO&sub2;-Gasstrom mitgeführt.
Die beiden Reinigungsdüsen werden von einem Abstand auf das Elektronenstrahlerzeugungssystem der Elektronenstrahlröhre gerichtet und in einem Winkel zu dem Elektronenstrahlerzeugungssystem sowie zu einander, derart, daß die Rei nigung maximal ist. In dieser Hinsicht werden die beiden Reinigungsdüsen in einem Winkel von 90º gegenüber einander um eine Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre angeordnet, so daß sie einander gegenüber liegen. Dies schafft einen gleichmäßigeren Druck auf das Elektronenstrahlerzeugungssystem beim Reinigen, da die beiden CO&sub2;-Cryo-Jet-Spraystahlen auf effektive Weise einander gegenüberliegen. Die beiden Reinigungsdüsen werden ebenfalls in einem Winkel zueinander in einer Richtung längs der Achse des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre positioniert. Dies hilft beim Maximieren der Reinigungswirkung.
Das CO&sub2; wird den Düsen mit einem Druck von 835 psi (5,76 Mpa) zugeführt. Dies geschieht mit Hilfe eines Druckverstärkungssystems zur Steigerung des CO&sub2;-Drucks von 350 psi (2,41 Mpa) in dem Vorratsgefäß auf einen Betriebsdruck von 835 psi (5,76 Mpa). Das CO&sub2; wird durch einen Reiniger hindurchgeführt zum Erzeugen von CO&sub2; höchster Reinheit (99,999% rein). Dies liefert einen Beitrag zu dem Präzisionsreinigungsverfahren.
Um die Verunreinigungsteilchen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem aus der Reinigungszone zu schaffen, wird mittels eines örtlichen Prozeßsteuersystems ein völlig laminarer Hochgeschwindigkeitsfilterluftstrom (High Efficiency Particle-free Air) mit einer Geschwindigkeit von 375 Fuß in der Minute (1,9 m/s) auf das Elektronenstrahlerzeugungssystem gerichtet. Dies entfernt alle Verunreinigungseffekte von Personen-, Verfahrens-, Anordnungs- und/oder anderer Verunreinigung von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem der Elektronenstrahlröhre. Ein derartiger laminarer Luftstrom wird dann die etwaigen Verunreinigungsteilchen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem wegführen und aus der Reinigungszonen entfernen.
Außerdem ist ein Luftioisierungssystem vorgesehen zur Regelung des Aufbaus statischer Elektrizität an dem Elektronenstrahlerzeugungssystem der Elektronenstrahlröhre. Auf diese Weise wird elektrostatische Anziehung von Teilchen zu dem Elektronenstrahlerzeugungssystem nach der Reinigung vermieden.
Es wird ein gefiltertes Abführungssystem benutzt zum Schaffen eines ausgeglichenen negativen Drucks an der Ausgangsseite des Gasstromes. Dies gewähr leistet eine laminare Gasströmung, entfernt Hitze von der Erhitzungsstelle, führt CO&sub2; von der Reinigsstelle ab und fängt Teilchen aus dem Luftstrom auf.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und werden im Folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische schaubildliche Ansicht der Reinigungsstruktur nach einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung,
Fig. 2 einen schematischen Schnitt parallel zu der Achse des gereinigten Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre nach einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung,
Fig. 3 einen Schnitt senkrecht zu der Achse nach einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und
Fig. 4 eine Vorrichtung zum Entfernen von Kondensabildung von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem vor der Durchführung der vorliegenden Erfindung.
Die Zeichnung ist rein schematisch und nicht maßgerecht, wobei entsprechende Teile mit denselben Bezugszeichen angegeben sind.
Das Reinigen eines erfindungsgemäßen Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 einer Elektronenstrahlröhre, wie in einer im Allgemeinen zylinderförmigen schematischen Form in der Zeichnung dargestellt, erfolgt dadurch, daß vor der Reinigung zunächst des Elektronenstrahlerzeugungssystem erhitzt wird, damit vermieden wird, daß Kondensbildung auf den Oberflächen des Elektronenstrahlerzeugungssystems der Elektronenstrahlröhre entsteht. Vorzugsweise erfolgt dies dadurch, daß das Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 auf einer Spindel 6 angeordnet und das ganze in eine Erhitzungseinrichtung eingeführt wird. So zeigt beispielsweise Fig. 4 die Erhitzung des Elektronenstrahlerzeugungssystems in einer Halogen-IR-Erhitzungsstation 12. Das Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 wird zwischen die IR-Erhitzer 7 aufgestellt und auf der Spindel 6 bei Temperaturen über etwa 65ºC, aber unterhalb 125ºC in Drehung versetzt. Dies geschieht zum Erhitzen des Elektronenstrahlerzeugungssystems und zur Vermeidung von Kondensbildung durch die Reinigungsstation.
Fig. 2 zeigt eine bevorzugte Ausführungsform des Reinigungsprozesses eines Elektronenstrahlerzeugungssystems einer Elektronenstrahlröhre, wobei das Elektronenstrahlerzeugungssystem gegenüber den Reinigungsmitteln gedreht wird, welche die Kombination aus Teilchen und Gas auf alle Oberflächen des Elektronenstrahlerzeugungssystems richten. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung könnte des Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 auch ortsunbeweglich sein, während die Reinigungsmittel ortsumbeweglich oder vorzugsweise beweglich und/oder gegenüber dem Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 in Drehung versetzt werden können. Bevorzugte Bewegungen des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 und/oder der Reinigungsmittel könnten sein wie diejenigen, die in der bevorzugten Ausführungsform nach Fig. 2 dargestellt sind, aber auch Schwingungen oder Kombinationen mehrerer Bewegungen könnten bevorzugte Bewegungsarten sein.
In der Reinigungsstation 13, wie in Fig. 2 dargestellt, wird das Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 der Elektronenstrahlröhre, dargestellt in schematischer Zylinderform, angeordnet auf der Achse 6, mit Hilfe einer Rotationsvorrichtung 11 in Drehung versetzt, in Blockform dargestellt. Das Elektronenstrahlerzeugungssystem der Elektronenstrahlröhre wird um die Achse 4 durch die Rotationsvorrichtung gedreht mit einer Drehzahl von etwa 300 Umdrehungen in der Minute maximal. Eine höhere Drehzahl als 300 Umdrehungen in der Minute kann zu einer mechanischen Beschädigung des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 führen, während eine niedrigere Drehzahl zu einer längeren Reinigungszeit führt.
In der Reinigungsstation 13 sind zwei Reinigungsdüsen 2 und 3 vorgeshen, die CO&sub2;-Gas und feste Eisteilchen oder Schnee aus CO&sub2; hindurchlassen. Dies geschieht durch spezial entworfene Öffnungen für die Düsen, welche die Größe der trocknen Eisteilchen oder der "Schneeteilchen" regeln. Solche Düsenöffnungen können eine Größe haben mit einem Innendurchmesser von beispielsweise 0,016 bis 0,020 Zoll (0,4-0,5 mm).
Die Düsen 2 und 3 sind gegenüber einander und gegenüber dem Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 in einem Winkel angeordnet. In dieser Hinsicht sind die Düsen 2 und 3 in einem Winkel von 30º längs der Achse in bezug aufeinander angeordnet, während die Düsen 2 und 3 in einem Winkel von 90º gegenüber einer Ebene angeordnet sind, welche die Achse 4 des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 schneidet. Typischerweise steht diese Ebene senkrecht auf der Achse 4. Diese Winkellage der Düsen 2 und 3 ist in den Fig. 1, 2 und 3 angegeben, wobei Fig. 1 die Winkel in einer schematischen schaubildlichen Darstellung des Elektronenstrahlerzeugungssystems und dessen Achse gegenüber den beiden Düsen 2 und 3 zeigt.
Diese Düsen 2 und 3 werden danach vorzugsweise längs des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 bewegt in der Richtung 5, wie in Fig. 2 dargestellt. Dadurch kann die Jet Spray mit CO&sub2;-Schneeteilchen und CO&sub2;-Gas über alle Oberflächen des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 streifen. Eine typische Reinigungszeit ist etwa 2-3 Sekunden, wobei in dieser Zeit die Reinigungsdüsen 2 und 3 vom einen Ende zum anderen Ende des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 bewegen.
Die Cryo-Jet-Spray mit trocknen (CO&sub2;) Eisteilchen löst Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 der Elektronenstrahlröhre und die gelösten Verunreinigungen werden in dem Gasstrom mit abgeführt. Der Gasstrom befindet sich in einem laminaren Luftstrom 8 von der Seite 14 durch die Kammer 13 um aus der Ausgangsseite 9 diese Kammer zu verlassen. Der Luftstrom befreit das Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 von den Verunreinigungen entfernter Teilchen und anderen Verunreinigungen. Dieser Hochgeschwindigkeitsluftstrom wird auf diese Weise etwaige Verunreinigungsteilchen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem und aus der Reinigungszone abführen.
Weiterhin wird ein Luftionisierungsstab an der Stelle 14 das Aufbauen statischer Elektrizität an dem Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 der Elektronenstrahlröhre regeln. Auf diese Weise wird elektrostatische Anziehung von Teilchen zu dem Elektronenstrahlerzeugungssystem nach der Reinigung vermieden.
Das Abführungssystem schafft einen ausgeglichenen negativen Druck an der Ausgangsseite des Luftstroms von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem 1. Dies gewährleistet eine Luftstromlaminarität, wobei Hitze von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 abgeführt wird, wobei CO&sub2;-Strom von der Reinigungsstelle abgeführt wird und wobei Teilchen, die von der Luft mitgeführt wurden, abgefangen werden.
Die Montage der Düsen 2 und 3 ist derart, daß der Abstand zwischen der Düsenspitze und der Oberfläche des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 etwa 2 Zoll (5 cm) für jede Düse beträgt. Dieser Abstand kann variiert werden, ebenso wie die Form der Öffnungen oder der Innendurchmesser der Düsen.
Die Drehzahl des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 der Elektronenstrahlröhre kann variiert werden, obschon, wie oben bereits erwähnt wurde, eine höhere Drehzahl als 300 Umdrehungen in der Minute zu einer mechanischen Beschädigung führen kann, während eine niedrigere Drehzahl zu einer längeren Reinigungszeit führen würde.
Es können auch andere Verfahren als das in Fig. 4 dargestellte Verfahren mit dem IR-Erhitzer 12 zum Erhitzen des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 der Elektronenstrahlröhre angewandt werden. So kann beispielsweise eine herkömmliche oder Trockenerhitzung vor der CO&sub2;-Reinigung angewandt werden.
Das CO&sub2; kann von einem System 9 in Fig. 2 geliefert werden, das entweder einen Vorratstank oder Gaszylinder mit Reinigern aufweisen kann zum Erzeugen eines CO&sub2;-Stromes höchster Reinheit. Die Reinheit kann 99,999% sein, wodurch eine Präzisionsreinigung möglich wird. Der CO&sub2;-Druck in dem Vorratsgefäß beträgt etwa 350 psi (2,41 Mpa), der danach durch ein Drückverstärkungssystem gesteigert wird bis zu einem Druck von etwa 835 psi (5,76 Mpa) zum Gebrauch nach der vorliegenden Erfindung.
Die Düsen 2 und 3 können mit einer Länge von je etwa 16 Zoll (41 cm) hergestellt werden. Der Strom von CO&sub2;-Gas und -Eisteilchen durch die Öffnungen ist abhängig von der Größe der Öffnungen, die bis zu einem ziemlich geringen Innendurchmesser geregelt werden können.
Es können auch mehr als nur zwei Düsen verwendet werden zum gleichzeitigen Reinigen verschiedener Teile des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1.
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Reinigen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren, wobei CO&sub2;-Schnee benutzt wird zum Entfernen von Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem 1. Der CO&sub2;-Schnee und das CO&sub2;-Gas werden durch kleine Öffnungen in Düsen 2 und 3, die in Winkellagen gegenüber einander und gegenüber dem Elektronenstrahlerzeugungssystem 1 vorgesehen sind, auf das Elektronenstrahlerzeugungssystem gerichtet. Dies ermöglicht eine komplette Reinigung des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 bei Drehung und Bewegung des Elektronenstrahlerzeugungssystems 1 gegenüber den beiden Düsen 2 und 3.

Claims

1. Verfahren zum Reinigen von Elektronenstrahlerzeugungssystemen von Elektronenstrahlröhren, wobei dieses Verfahren die nachfolgenden verfahrensschritte umfaßt:

(a) das Erhitzen eines Elektronenstrahlerzeugungssystems (1)

(b) das Hindurchführen einer Kombination aus CO&sub2;-Teilchen und CO&sub2;- Gas zu dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) zum Entfernen von Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1).

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) gegenüber Mitteln zum Zuführen der Kombination aus CO&sub2;-Teilchen und CO&sub2;-Gas zu allen Oberflächen des Elektronenstrahlerzeugungssystems (1) zum Entfernen von Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1).

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) gegenüber den genannten Mitteln in Drehung versetzt wird zum Zuführen der genannten Kombination aus den Teilchen und dem Gas zu allen Oberflächen des Elektronenstrahlerzeugungssystems (1) zum Entfernen von Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1).

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) mit einer Drehzel von höchstens 300 Umdrehungen in der Minute in Drehung versetzt wird.

5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Entfernung von Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) dadurch erfolgt, daß wenigstens zwei Düsen (2, 3) vorgesehen werden, welche die Kombination aus den genannten Teilchen und dem genannten Gas in einem ersten Winkel zueinander und in einem zweiten Winkel zu dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) zuführen.

6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) auf wenigstens 65ºC erhitzt wird.

7. Vorrichtung zum Entfernen von Verunreinigungen von einem Elektronenstrahlerzeugungssystem einer Elektronenstrahlröhre, wobei diese Vorrichtung die nachfolgenden Elemente aufweist:

(a) ein erstes Mittel zum Haltern und Bewegen eines Elektronenstrahlerzeugungssystems (1),

(b) ein zweites Mittel zum Zuführen der Kombination aus CO&sub2;-Teilchen und CO&sub2;-Gas zu dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) zum Entfernen von Verunreinigungen,

(c) ein drittes Mittel zum Verlagen des genannten zweiten Mittels längs des Elektronenstrahlerzeugungssystems (1), und

(d) ein viertes Mittel zum Abführen der genannten Verunreinigungen von dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1).

8. Vorrichtung nach Anspruch 7, wobei das genannte zweite Mittel wenigstens zwei Düsen (2, 3) aufweist, die in einem ersten Winkel zueinander und in einem zweiten Winkel zu dem Elektronenstrahlerzeugungssystem (1) vorgesehen sind.