[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

DE69403275D1 - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Silizium-Einkristalles - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Silizium-Einkristalles

Info

Publication number
DE69403275D1
DE69403275D1 DE69403275T DE69403275T DE69403275D1 DE 69403275 D1 DE69403275 D1 DE 69403275D1 DE 69403275 T DE69403275 T DE 69403275T DE 69403275 T DE69403275 T DE 69403275T DE 69403275 D1 DE69403275 D1 DE 69403275D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
producing
single crystal
silicon single
silicon
crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69403275T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69403275T2 (de
Inventor
Masanori Kimura
Hirotoshi Yamagishi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Handotai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Handotai Co Ltd filed Critical Shin Etsu Handotai Co Ltd
Publication of DE69403275D1 publication Critical patent/DE69403275D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69403275T2 publication Critical patent/DE69403275T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/26Stirring of the molten zone
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1016Apparatus with means for treating single-crystal [e.g., heat treating]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
DE69403275T 1993-06-18 1994-06-16 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Silizium-Einkristalles Expired - Fee Related DE69403275T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5147231A JP2874722B2 (ja) 1993-06-18 1993-06-18 シリコン単結晶の成長方法及び装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69403275D1 true DE69403275D1 (de) 1997-06-26
DE69403275T2 DE69403275T2 (de) 1997-12-04

Family

ID=15425541

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69403275T Expired - Fee Related DE69403275T2 (de) 1993-06-18 1994-06-16 Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Silizium-Einkristalles

Country Status (4)

Country Link
US (2) US5556461A (de)
EP (1) EP0629719B1 (de)
JP (1) JP2874722B2 (de)
DE (1) DE69403275T2 (de)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6517880B2 (en) * 2000-01-14 2003-02-11 Kx Industries, L.P. Beverage brewing system and method for using same
DE10216609B4 (de) * 2002-04-15 2005-04-07 Siltronic Ag Verfahren zur Herstellung der Halbleiterscheibe
DE10220964B4 (de) * 2002-05-06 2006-11-02 Pv Silicon Forschungs- Und Produktions Ag Anordnung zur Herstellung von Kristallstäben mit definiertem Querschnitt und kolumnarer polykristalliner Struktur mittels tiegelfreier kontinuierlicher Kristallisation
ATE332990T1 (de) * 2003-02-11 2006-08-15 Topsil Semiconductor Materials Vorrichtung und verfahren zur herstellung eines einkristallstabs
DE102005016776B4 (de) 2005-04-06 2009-06-18 Pv Silicon Forschungs Und Produktions Gmbh Verfahren zur Herstellung einer einkristallinen Si-Scheibe mit annähernd polygonalem Querschnitt
JP4483729B2 (ja) * 2005-07-25 2010-06-16 株式会社Sumco シリコン単結晶製造方法
US7780938B2 (en) * 2006-04-13 2010-08-24 Cabot Corporation Production of silicon through a closed-loop process
JP5485136B2 (ja) * 2007-04-13 2014-05-07 トップシル・セミコンダクター・マテリアルズ・アクティーゼルスカブ 単結晶を製造する方法及び装置
JP5157878B2 (ja) * 2007-12-25 2013-03-06 三菱マテリアル株式会社 単結晶シリコン製造装置
JP5606264B2 (ja) 2010-10-22 2014-10-15 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランク
CN102351187B (zh) * 2011-07-01 2013-08-07 乐山乐电天威硅业科技有限责任公司 硅芯拉制工艺及硅芯拉制过程中的原料棒预热方法
DE102012213715A1 (de) * 2012-08-02 2014-02-06 Siltronic Ag Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls durch Kristallisieren des Einkristalls an einer Schmelzenzone
JP5829314B2 (ja) * 2014-06-27 2015-12-09 信越化学工業株式会社 フォトマスクブランクの製造方法
KR101704181B1 (ko) * 2015-04-02 2017-02-07 현대자동차주식회사 차량용 충전기
JP2017039634A (ja) * 2015-08-18 2017-02-23 蒲池 豊 シリコン結晶の製造方法
DE102017202413A1 (de) * 2017-02-15 2018-08-16 Siltronic Ag Verfahren und Anlage zum Ziehen eines Einkristalls nach dem FZ-Verfahren

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3333960A1 (de) * 1983-09-20 1985-04-04 Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen Verfahren zur herstellung von versetzungsfreien einkristallstaeben aus silicium
WO1986004619A1 (en) * 1985-02-11 1986-08-14 Solavolt International Ribbon-to-ribbon conversion system method and apparatus
JPH0666531B2 (ja) * 1987-07-16 1994-08-24 工業技術院長 X線レ−ザ用タ−ゲット支持装置
US4921026A (en) * 1988-06-01 1990-05-01 Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. Polycrystalline silicon capable of yielding long lifetime single crystalline silicon
DE3938937A1 (de) * 1989-11-24 1991-05-29 Wacker Chemitronic Verfahren und vorrichtung zur herstellung von siliciumstaeben mit hohem sauerstoffgehalt durch tiegelfreies zonenziehen, dadurch erhaeltliche siliciumstaebe und daraus hergestellte siliciumscheiben
JP2516823B2 (ja) * 1990-02-28 1996-07-24 信越半導体株式会社 浮遊帯域融解法による単結晶シリコン製造用の棒状多結晶シリコン及びその製造方法
JPH03274865A (ja) * 1990-03-23 1991-12-05 Mitsubishi Electric Corp 映像信号処理回路
JP2538693B2 (ja) * 1990-03-23 1996-09-25 矢崎総業株式会社 コネクタの結合検知装置
US5114528A (en) * 1990-08-07 1992-05-19 Wisconsin Alumni Research Foundation Edge-defined contact heater apparatus and method for floating zone crystal growth
DE69213059T2 (de) * 1991-03-22 1997-04-10 Shinetsu Handotai Kk Verfahren zum Züchten eines einkristallinen Siliziumstabes
JP2623390B2 (ja) * 1991-03-22 1997-06-25 信越半導体株式会社 シリコン単結晶棒の成長方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0629719A1 (de) 1994-12-21
US5688321A (en) 1997-11-18
EP0629719B1 (de) 1997-05-21
JPH076972A (ja) 1995-01-10
US5556461A (en) 1996-09-17
JP2874722B2 (ja) 1999-03-24
DE69403275T2 (de) 1997-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69422273D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Flächenhaftverschlusses
DE69322926D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines lichtempfindlichen Elements
DE69207454D1 (de) Verfahren und Vorrichtung für die Herstellung eines Silizium-Einkristalls
DE69430230D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristallinen dünnen Films
DE69435288D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dünnfilmen
DE69533114D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von einkristallen
DE69623837D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Einkristallzüchtung
DE69433629D1 (de) Verfahren zur Hestellung eines wärmeleitenden Gerätes und ein wärmeleitendes Gerätes
DE69515447D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Flächenhaftverschluss
DE69621744D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Bildanzeigegerätes
DE69420409D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines agglomerierten produktes
DE19580737T1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Verbindungs-Einkristallen
DE69324294D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Kabels
DE59702373D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls
DE69606966D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalles
DE69403275D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Silizium-Einkristalles
DE69222907D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Flüssigkeitsbehälters
DE69840840D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Halbleiterkristalls
DE59505372D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls
DE59607681D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines kontaktstückes
DE69304106D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines zylindrischen Teils
DE59406668D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Folienverbundes
DE69619005D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Züchtung eines Einkristalles
DE69424725D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Halbleiteranordnung
DE69610021D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen durch die Czochralski-Technik

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee