DE4419276A1 - Verfahren zur Vorbereitung des Beschichtungsprozesses von aktivierbaren oder reaktivierbaren Elektroden für elektrolytische Zwecke - Google Patents
Verfahren zur Vorbereitung des Beschichtungsprozesses von aktivierbaren oder reaktivierbaren Elektroden für elektrolytische ZweckeInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorbereitung der Beschichtungsprozesse von aktivierba
ren oder reaktivierbaren Elektroden für elektrolytische Zwecke, insbesondere dimensionsstabile
Elektroden auf Ventilmetallbasis, wobei auf der zu beschichtenden Elektrodenoberfläche
Fremdstoffe oder anhaftende Teile einer Beschichtung durch Abrasion mittels eines auf die
Oberfläche treffenden Strahls eines Fluids entfernt werden.
Aus der EP-PS 063 540 sind Verfahren zur Aktivierung und Reaktivierung von Elektroden be
kannt, wozu unter anderem Beizen, Sandstrahlen und mechanische Aufrauhung der Oberfläche
gehören.
Diese Vorbehandlungen dienen:
- a) zur Reinigung und
- b) zur Beschaffung einer geeigneten Oberfläche bezüglich der Haftung der Beschichtung.
Die bekannten Verfahren bringen folgende ökonomische, ökologische oder technische Proble
me mit sich:
Sandstrahlen kann zu einem erheblichen Verziehen der Anodenstruktur mit entsprechendem
Verlust von Ebenheit führen, die anschließend mit mechanischem oder thermischem Richten
wieder eingebracht werden muß.
Beizen oder Strahlen kann zu einem erheblichen Abtrag des Substrates führen. Es fallen nor
malerweise große Mengen von belasteter Altsäure oder Strahlmittel an. Die Rückgewinnung
von Edelmetall aus diesen Altsäurelösungen ist normalerweise nicht wirtschaftlich. Die Aufrau
hung der Oberfläche beim mechanischen Bürsten bringt die Gefahr von Einschließungen des
Bürstenmaterials in die Oberfläche mit sich, die anschließend während des Betriebes die Quali
tät der Anoden stark beeinflussen kann.
Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, eine vergrößerte Oberfläche zu schaffen, eventuell Verun
reinigungen, bzw. Restbeschichtungen sowie Passivschichten zu entfernen und gegebenenfalls
die Oberfläche für den Beschichtungsprozeß aufzurauhen. Dabei soll das Elektrodensubstrat
sowie im Inneren des Substrats aufgebrachte schon vorhandene Strukturen oder Rauhigkeiten
geschont werden.
Die Erfindung wird durch die kennzeichnenden Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.
Ein wesentlicher Vorteil ist darin zu sehen, daß es mittels eines stark fokussiert und mit sehr ho
hem Druck gepumpten Wasserstrahles möglich ist, eventuelle Restbeschichtungen von Anoden
restlos zu entfernen, eine bereits vorher aufgerauhte Oberfläche noch stärker aufzurauhen; mit
der richtigen Einstellung von Druck und Abstand zwischen Düse und Elektrodenstruktur ist es
möglich, die Restbeschichtung restlos zu entfernen bei gleichzeitiger Verschonung der
Oberflächenrauhigkeit.
Ein zusätzlicher Vorteil ist darin zu sehen, daß durch minimale Veränderungen im Druck- und
Düsensystem, die Möglichkeit besteht, bereits beschichtete Anoden zu schneiden ohne Wär
meeintrag, der zu einer Deaktivierung und Verschlechterung der Qualität führen könnte.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens sind in den Ansprüchen 2 bis 4
angegeben.
Die Erfindung wird nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert.
Als Beispiel dient eine Elektrode für Elektrolysezellen, insbesondere für Quecksilber-Chloralkali-
Elektrolysezellen die mit einer Vielzahl von aktivierten Elektrodenteilen aus Flachprofilen verse
hen ist, wie sie beispielsweise aus der DE-PS 29 49 495 oder US-PS 43 64 811 bekannt ist;
der zur Vorbehandlung ausgewählte Bereich der Elektrodenteile wird mittels einer Positionier
vorrichtung so zu der ebenfalls in einer Positioniervorrichtung befindlichen Düse eines
Hochdruck-Wasserstrahlgerätes ausgerichtet, daß der mit einem Druck im Bereich von 2000
bis 4000 bar auftreffende Wasserstrahl die Fläche der zu behandelnden aktivierbaren Elektro
denteile mäanderförmig bzw. zickzackförmig überstreicht; eine solche Positionierung von Hoch
druck-Wasserstrahl-Düsen ist in der DE-OS 40 32 862 beschrieben; der Austritt des Hoch
druck-Wasserstrahls aus der Düse erfolgt in einem Winkel von 10 bis 90° zur Oberfläche der zu
behandelnden Elektrodenteile, wobei übliches aus dem Wasserleitungsnetz zur Verfügung ge
stelltes Wasser im Raumtemperaturbereich ausreichend ist; der Hochdruck-Wasserstrahl wird
dabei solange über die zu behandelnde Fläche der zu aktivierenden Elektrodenelemente ge
führt, bis die Beseitigung der vorherigen Beschichtung bzw. die gewünschte Oberflächenrauhig
keit im Bereich der zu beschichtenden Elektrodenteile erreicht ist.
Claims (4)
1. Verfahren zur Vorbereitung des Beschichtungsprozesses von aktivierbaren oder reakti
vierbaren Elektroden für elektrolytische Zwecke, insbesondere dimensionsstabile Elektro
den auf Ventilmetallbasis, wobei auf der zu beschichtenden Elektrodenoberfläche Fremd
stoffe oder anhaftende Teile einer Beschichtung durch Abrasion mittels eines auf die
Oberfläche treffenden Strahls eines Fluids entfernt werden, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Hochdruck-Wasserstrahl mit einem Druck im Bereich von 2000 bis 4000 bar aus einer
Düse im Winkel von 10 bis 90° auf die zu beschichtende Elektroden-Oberfläche auftrifft.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung ohne Verän
derung der bestehenden Oberflächenstruktur entfernt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zu beschichtende Oberflä
che aufgerauht wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Hochdruck-Wasserstrahl
auf eine Elektroden-Oberfläche mit einer Anfangsrauhigkeit auftrifft.
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